JP2002317214A - ニッケル粉末の製造方法及びニッケル粉末 - Google Patents
ニッケル粉末の製造方法及びニッケル粉末Info
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Abstract
制御が容易な液相法によるニッケル粉末の製造方法を提
供する。 【解決手段】 金属塩溶液からニッケルを除いた溶液に
おける銅の析出電位をA(V)、金属塩溶液から銅を除
いた溶液におけるニッケルの析出電位をB(V)とした
場合に、金属塩溶液からニッケルを除いた溶液における
銅の析出電位A(V)を、式:B<A<(B+0.5
5)で表される範囲となるように、金属塩溶液の状態を
調整し、この金属塩溶液を還元剤溶液と混合して、還元
反応を行わせ、ニッケル粉末を生成させる。また、銅の
析出電位Aの制御を、銅と錯体を形成する錯化剤を添加
して行う。
Description
びその製造方法に関し、さらには、該ニッケル粉末を導
電成分とする導電性ペースト及び該導電性ペーストを用
いて形成した内部導体を備えた積層セラミック電子部品
に関する。
ミックコンデンサのような積層セラミック電子部品は素
子中に内部電極(内部導体)が配設されており、この内
部電極は、通常、金属粉末を導電成分として含有する導
電性ペーストを用いて形成されている。そして、近年、
コストの削減を図るために、卑金属であるニッケル粉末
を導電成分とする導電性ペーストが広く用いられるよう
になっている。
の小型化及び薄層化が進むに伴って、内部導体に含有さ
れる金属粉末、すなわち、導電性ペーストにおいて導電
成分として用いられる金属粉末としては、粒径がより小
さく、均一なものが求められるようになっている。
相法(特開平11−80816) 水又は有機溶媒中で、還元剤により金属塩を還元する
液相法(特開2000−87121) などが知られている。
るものと比較して、粒度分布のバラツキの少ないシャー
プな金属粉末(ニッケル粉末など)を製造することが可
能であることから、生産設備の簡便さとあいまって、微
細な金属粒子の製造方法として、広く用いられるように
なっている。
る微小な金属粉末の製造方法を提案している(特願20
00−160270号(但し、本願の出願時には未公開
で、本願の先行技術となるものではない))。この方法
は、ニッケル塩と、ニッケルよりも貴な金属の塩とを含
む溶液を還元することによりニッケル粉末を製造する方
法に関するものであり、粒径が0.1μm以下の粉末を
得ることが可能になるという特徴を有している。
粉末の粒径は、ニッケルよりも貴な金属の塩の添加量が
わずかに変化しただけでも急激に変化し、反応容器など
に付着した不純物、原材料に含まれる不純物、ニッケル
よりも貴な金属の塩の添加量誤差などによって、製造ロ
ットごとにニッケル粉末の粒径が大きく変動する場合が
あり、任意の粒径のニッケル粉末を安定して製造するこ
とが必ずしも容易ではない場合がある。
の粒径が大きくなると、該ニッケル粉末を導電成分とし
て使用した導電性ペーストを用いて内部電極を形成した
場合、内部電極の表面粗さが粗くなり、内部電極間に介
在するセラミック層を介して内部電極間に短絡が生じて
しまう場合がある。また、目標とする粒径よりもニッケ
ル粉末の粒径が小さくなると、焼成工程における急激な
収縮挙動により、層間剥離(デラミネーション)を引き
起こす場合がある。
粉末の粒径が安定しない場合、該ニッケル粉末を使用し
た導電性ペーストを用いて内部電極を形成した積層セラ
ミック電子部品の特性に大きな影響を与え、歩留まりを
大きく低下させてしまうという問題点がある。また、こ
のような不純物や、ニッケルよりも貴な金属の塩の添加
量誤差による製造ロット間の粒径のばらつきを低減させ
るために、ニッケルよりも貴な金属の塩の添加量を増加
させると、ニッケル粉末の粒径が著しく小さくなり、任
意の粒径のニッケル粉末を得ることができなくなるとい
う問題点がある。
あり、製造ロット間の粒径ばらつきが小さく、粒径制御
が容易な液相法によるニッケル粉末の製造方法及び該製
造方法により製造されるニッケル粉末、さらには、該ニ
ッケル粉末を導電成分とする導電性ペースト及び該導電
性ペーストを用いて形成した内部導体を備えた積層セラ
ミック電子部品を提供することを目的とする。
えばヒドラジン)によって還元することにより、金属の
ニッケル粉末として析出させることが可能であり、この
ようなニッケル粉末は導電性を有していることから、導
電性ペーストの導電成分などとして、電子部品の製造に
広く用いられている。
ドラジン)によって還元する際に、ニッケル塩溶液に銅
塩を添加しておくことにより、銅がニッケルよりも貴な
金属であるために、先に析出して微細な核となる。そし
て、ニッケルはこの銅に続いて析出し、析出したニッケ
ルは、核として機能する微細な銅の上に成長する。その
結果、核生成を伴わずに微細なニッケル粒子を容易に生
成させることが可能になる。
媒としても作用するため、ニッケルの析出が容易とな
り、粒径を小さくすることが可能になる。その結果、粒
径の小さい微細なニッケル粉末を効率よく製造すること
が可能になる。
末の粒径は、銅の析出量のわずかな変化により大幅に変
化するため、反応容器などに付着している銅や、ニッケ
ルなどの原材料に含まれている銅、あるいは銅塩の添加
量誤差などにより、ニッケル粉末の粒径は著しく変動す
る。そのため、任意の粒径の微細なニッケル粉末を安定
して製造することは必ずしも容易ではないという問題点
がある。
による製造ロット間の粒径のばらつきを低減させるため
に、銅の添加量を増加させて、銅の析出量の変動幅を小
さくするようにした場合、得られるニッケル粉末の粒径
は著しく小さくなり、任意の粒径のニッケル粉末を得る
ことは困難になる。
の実験、検討を行い、銅の析出電位を制御して、ニッケ
ルの析出電位に近づけることにより、銅の析出量の変化
などによりニッケル粉末の粒径が小さくなりすぎてしま
うことを抑制できることを見いだし、さらに、実験、検
討を行って、銅の添加量にかかわらずニッケル粉末の粒
径を制御することが可能で、製造ロット間のニッケル粉
末の粒径のばらつきを大幅に低減して、微細で粒径が安
定した高品質のニッケル粉末を得ることが可能な本願発
明を完成するに至った。
ル粉末の製造方法は、少なくともニッケル塩と銅塩を含
む金属塩溶液と、少なくとも還元剤を含む還元剤溶液と
を混合して、ニッケル塩を金属ニッケルに還元すること
によりニッケル粉末を製造する方法であって、前記金属
塩溶液からニッケルを除いた溶液における銅の析出電位
をA(V)、前記金属塩溶液から銅を除いた溶液におけ
るニッケルの析出電位をB(V)とした場合に、前記金
属塩溶液からニッケルを除いた溶液における銅の析出電
位A(V)を、下記の式(1): B<A<(B+0.55) ……(1) で表される範囲となるようにしたことを特徴としてい
る。
ける銅の析出電位をA(V)、金属塩溶液から銅を除い
た溶液におけるニッケルの析出電位をB(V)とした場
合に、金属塩溶液からニッケルを除いた溶液における銅
の析出電位A(V)を、式(1):B<A<(B+0.5
5)で表される範囲となるように、金属塩溶液の状態を
調整するようにした場合、還元剤溶液とを混合して、ニ
ッケル塩を金属ニッケルに還元することによりニッケル
粉末を製造する場合において、製造ロット間の粒径ばら
つきを小さくすることが可能になるとともに、粒径制御
を行うことが可能になり、所望の粒径(例えば0.1μ
m以下)のニッケル粉末を液相法により効率よく製造す
ることが可能になる。すなわち、本願発明において、ニ
ッケルよりも貴な金属である銅は、ニッケル粉末を微小
化するための核、もしくは反応を促進させるための触媒
として機能する。したがって、銅の析出電位を前記式
(1)の範囲として銅の析出状態を制御することにより、
所望の粒径のニッケル粉末を効率よく製造することが可
能になる。
ると、ニッケル粉末を微小化させる効果が不十分にな
り、また、(B+0.55)(V)以上になると、銅の
ニッケル粉末の微小化への影響が大きくなりすぎて、所
望の粒径のニッケル粉末を得ることができなくなる。な
お、本願発明において、析出電位とは、ある金属に対し
て、その金属塩溶液の電位−電流測定を行った際に電流
が0となる電位を意味する概念である。
ニッケル粉末の核、もしくは反応を促進させる触媒とし
て機能するものであるが、金属塩溶液中の銅の割合は、
金属塩溶液中のニッケルの5重量%以下であることが望
ましい。これは、銅の割合がニッケルの5重量%を超え
ると金属の抵抗が上昇し、例えば、内部導体を形成する
ための導電性ペーストに含まれるべき導電成分としては
好ましくなくなることによる。
は、前記銅の析出電位Aを、前記金属塩溶液に錯化剤を
添加することにより、前記式(1)で表される範囲内とな
るようにしたことを特徴としている。
する錯化剤を添加することにより行うことが好ましい。
金属塩溶液に錯化剤を添加することにより、銅の析出電
位Aを容易に、前記式(1)で表される範囲内とすること
が可能になり、本願発明を実効あらしめることができ
る。
は、前記錯化剤が、カルボン酸、アミン、アミノ酸、オ
キシ酸からなる群より選ばれる少なくとも1種であるこ
とを特徴としている。
ることが可能であるが、錯化剤として、カルボン酸、ア
ミン、アミノ酸、オキシ酸からなる群より選ばれる少な
くとも1種を用いることにより、銅の析出電位Aを確実
に、前記式(1)で表される範囲内とすることが可能にな
る。なお、錯化剤としては、ニッケルに対してよりも銅
に対して安定な錯化合物を生成する錯化剤を用いること
が望ましい。
は、前記カルボン酸が、マロン酸、エチルマロン酸、メ
チルマロン酸、シュウ酸からなる群より選ばれる少なく
とも1種であることを特徴としている。
ン酸として、種々のカルボン酸を用いることが可能であ
るが、マロン酸、エチルマロン酸、メチルマロン酸、シ
ュウ酸からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いる
ことにより、銅の析出電位Aを確実に、前記式(1)で表
される範囲内とすることが可能になる。
は、前記アミンが、エチレンジアミン、N,N’−ジメ
チルエチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジア
ミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N−ブチル
エチレンジアミントリ酢酸、N−シクロヘキシルエチレ
ンジアミントリ酢酸、エチレンジアミンジプロピオン
酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸からなる群よ
り選ばれる少なくとも1種であることを特徴としてい
る。
として、種々のアミンを用いることが可能であるが、エ
チレンジアミン、N,N’−ジメチルエチレンジアミ
ン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエ
チルエチレンジアミン、N−ブチルエチレンジアミント
リ酢酸、N−シクロヘキシルエチレンジアミントリ酢
酸、エチレンジアミンジプロピオン酸、エチレンジアミ
ンテトラプロピオン酸からなる群より選ばれる少なくと
も1種を用いることにより、銅の析出電位Aを確実に、
前記式(1)で表される範囲内とすることが可能になる。
は、前記アミノ酸が、アラニン、アスパラギン、グリシ
ン、グリシルグリシン、イミノジ酢酸、イミノジプロピ
オン酸、エチレンジアミン−N,N’−ジ酢酸、エチレ
ンジアミンテトラ酢酸からなる群より選ばれる少なくと
も1種であることを特徴としている。
酸として、種々のアミノ酸を用いることが可能である
が、アラニン、アスパラギン、グリシン、グリシルグリ
シン、イミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、エチレン
ジアミン−N,N’−ジ酢酸、エチレンジアミンテトラ
酢酸からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いるこ
とにより、銅の析出電位Aを確実に、前記式(1)で表さ
れる範囲内とすることが可能になる。
は、前記オキシ酸が、クエン酸、サリチル酸、酒石酸か
らなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴
としている。
酸として、種々のオキシ酸を用いることが可能である
が、クエン酸、サリチル酸、酒石酸からなる群より選ば
れる少なくとも1種を用いることにより、銅の析出電位
Aを確実に、前記式(1)で表される範囲内とすることが
可能になる。
は、前記金属塩溶液と前記還元剤溶液の少なくとも一方
が、水酸化アルカリを含むことを特徴としている。
に、水酸化アルカリを含有させることにより、速やかに
金属イオンを還元できるようになるとともに、水酸化ア
ルカリ濃度によって還元反応速度を調整することが可能
になる。これは、ヒドラジンなどの還元剤が金属イオン
を還元する際には、水酸化物イオンを供給することが必
要になるからであり、この水酸化物イオンの供給が水酸
化アルカリによって行われることになるからである。な
お、水酸化アルカリ濃度が高いほど還元反応速度を高め
ることが可能になるので、水酸化アルカリ濃度によって
還元反応速度を調整することが可能になる。
は、前記水酸化アルカリが、水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化
アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種で
あることを特徴としている。
水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウ
ム、水酸化アンモニウムからなる群より選ばれる少なく
とも1種を用いることにより、本願発明を確実に実施す
ることが可能になる。なお、より好ましくは、水酸化ア
ルカリとして、水酸化ナトリウムが単体で用いられる。
法は、前記還元剤が、ヒドラジン又はヒドラジン水和物
であることを特徴としている。
ることが可能であるが、ヒドラジン又はヒドラジン水和
物を用いることにより、特殊な薬剤を用いることなく、
ニッケル塩を確実に還元して、ニッケル粉末を析出させ
ることができるようになり望ましい。なお、ヒドラジン
は金属イオンを還元する際に、還元された金属中に不純
物がほとんど析出しない特徴を持つ還元剤であり、例え
ば、ホウ素などの不純物が析出した場合に見られるよう
な融点の低下を防止することが可能になる。
法は、前記溶媒が、水又はアルコールと水の混合液であ
ることを特徴としている。
ことが可能であるが、水又はアルコールと水の混合液を
用いることにより、コストを抑えつつ、効率よくニッケ
ル粉末を製造することができるようになる。なお、アル
コールとしては、メタノール、エタノール、プロパノー
ルなどの1価のアルコールの少なくとも1種を用いるこ
とが望ましい。
法は、前記ニッケル塩が、塩化物、硫酸塩、及び硝酸塩
からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特
徴としている。
々のものを用いることが可能であるが、塩化物、硫酸
塩、及び硝酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種
を用いることにより、特殊な原料を必要とすることな
く、効率よくニッケル粉末を製造することができるよう
になる。
法は、前記銅塩が、塩化物、硫酸塩、及び硝酸塩からな
る群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とし
ている。
のを用いることが可能であるが、塩化物、硫酸塩、及び
硝酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いる
ことにより、特殊な原料を必要とすることなく、効率よ
くニッケル粉末を製造することができるようになる。
粉末は、請求項1〜13のいずれかに記載のニッケル粉
末の製造方法によって製造されたものであることを特徴
としている。
は、請求項1〜13のいずれかに記載のニッケル粉末の
製造方法によって製造されたものであり、製造ロット間
の粒径ばらつきが小さく、粒径がそろっており、導電性
ペーストの導電成分などの用途に広く適用することが可
能である。
が0.1μm以下であることを特徴としている。
求項1〜13)のニッケル粉末の製造方法によって製造
されたものであり、製造ロット間の粒径ばらつきが小さ
く、十分な粒径制御が行われているため、粒径のそろっ
たニッケル粉末を提供することが可能で、請求項15の
ニッケル粉末のような、粒径が0.1μm以下の微細な
ニッケル粉末を確実に提供することができる。なお、
0.1μm以下のニッケル微粉末を導電性ペーストの導
電成分として用いることは、積層セラミック電子部品の
内部導体の薄層化のために、極めて有意義である。
ーストは、請求項14又は15記載のニッケル粉末を導
電成分として含有することを特徴としている。
は、請求項14又は15記載の、粒径のばらつきが少な
い、微細なニッケル粉末を導電成分として含有させてい
るので、高品質で、積層セラミック電子部品の薄層化に
対応することが可能な導電性ペーストを提供することが
可能になる。
層セラミック電子部品の内部導体を形成するために用い
られるものであることを特徴としている。
求項14又は15記載の、粒径のばらつきが少ない、微
細なニッケル粉末を導電成分として含有させているた
め、多層化、薄膜が進む積層セラミック電子部品の内部
導体を形成する場合に用いるのに適しており、この導電
性ペーストを用いることにより断線などのない内部導体
を確実に形成することが可能になる。なお、本願発明に
おいて、内部導体とは、内部電極や内部導体配線などを
含む広い概念である。
ミック電子部品は、請求項17に記載の導電性ペースト
を用いて内部導体が形成されていることを特徴としてい
る。
求項17に記載の導電性ペーストを用いて形成するよう
にした場合、緻密で、断線などのない内部導体を確実に
形成することが可能になるため、十分な特性を備えた、
信頼性の高い積層セラミック電子部品を得ることが可能
になる。
ついて説明する。まず、溶媒(アルコールと水の混合溶
液あるいは水)に、ニッケルの塩化物を1.0×10-2
〜4.0モル/リットル、銅の塩化物をニッケルの塩化
物に対して1/20以下の濃度となるように溶解させた
金属塩溶液を用意する。
〜15モル/リットルのモル濃度で溶解させるととも
に、ヒドラジン又はヒドラジン水和物を、金属塩を還元
するために化学量論的に必要な量から当該必要な量の1
5倍までの範囲で溶解させることによって得られる還元
剤溶液を用意する。
を混合して還元反応を行わせる。このときの金属塩溶液
と還元剤溶液の温度は90℃以下であることが好まし
い。液温が90℃以上の場合には、還元反応が激しくな
り、反応液の突沸などが生じる可能性がある。なお、混
合の手順は、攪拌されている還元剤溶液に金属塩溶液を
滴下することが望ましい。なお、上記の還元反応によ
り、ニッケル塩及び銅塩が金属に還元されるが、銅塩は
ニッケルよりも還元されやすいので、先に還元されてニ
ッケルよりも先に析出する。還元された銅は微細な核と
なる。このとき、金属の析出する速度がニッケルより速
いため、銅の添加を行わないでニッケルのみで反応を行
った場合に比べて、核の数が多くなり、かつ微細な核が
生成する。
細な銅(核)の上に成長するため、ニッケル自体の核生
成を伴わずに微細なニッケル粒子が容易に生成する。ま
た、ニッケルが析出する際には、析出した銅が触媒とし
ても作用するために、ニッケルの析出が容易になり、微
細なニッケル粉末が生成することになる。
さらに、銅の析出電位Aをニッケルの析出電位Bに近づ
ける(すなわち、金属塩溶液からニッケルを除いた溶液
における銅の析出電位をA(V)、金属塩溶液から銅を
除いた溶液におけるニッケルの析出電位をB(V)とし
た場合に、金属塩溶液からニッケルを除いた溶液におけ
る銅の析出電位A(V)を、B<A<(B+0.55)
で表される範囲とする)ことにより、銅及びニッケルの
析出する速度を調整することが可能になり、ニッケルが
微小化しすぎることを抑制して、銅の添加量に影響され
ることなく容易にニッケル粉末の粒径を制御することが
可能になるとともに、製造ロット間の粒径のばらつきを
大幅に減少させることができる。
造方法によれば、粒径が0.1μm以下と微細で、しか
も粒径の均一なニッケル粉末を効率よく製造することが
可能になる。なお、ニッケル粉末を洗浄した後に乾燥す
ることにより、微細なニッケルの乾燥粉末を得ることが
できる。
の特徴とするところをさらに具体的に説明する。水酸化
ナトリウム80gと、20%の水を含む抱水ヒドラジン
100gを、エタノール1000mlに溶解して還元剤溶
液を作製する。
0mlに溶解させた後、この溶液にエチレンジアミンをN
iに対して、(a)添加なし、(b)0.05mol%、(c)
0.1mol%、(d)0.5mol%、(e)1mol%、(f)1
0mol%、(g)20mol%、(h)30mol%の割合となる
ように、それぞれ添加する。なお、これらの溶液につい
て、別途銅の析出電位Aを測定した。
塩化ニッケル・6水和物120gを溶解させることによ
り、金属塩溶液を作製した。また、ニッケルの析出電位
Bについては、金属塩溶液組成から銅を除いた溶液をそ
れぞれ別途作製し、この銅を除いた溶液を用いてニッケ
ルの析出電位Bを測定した。
Aとニッケルの析出電位Bの差は、(a)0.59V、
(b)0.57V、(c)0.55V、(d)0.38V、
(e)0.29V、(f)0.17V、(g)0.15V、
(h)0.36Vであった。
同じく70℃に加熱した金属塩溶液(銅塩、ニッケル塩
及びエチレンジアミンを含有する溶液)を投入して、還
元反応を行わせ、ニッケル粉末を生成(析出)させた。
それから、ニッケル粉末を、分離・回収し、純水で洗浄
した後、アセトンで洗浄しオーブン中で乾燥した。な
お、この実施形態では、それぞれの反応条件において、
5回ずつ上記の還元反応を行わせ、生成したニッケル粉
末の製造ロット間の粒径のばらつきを調べた。その結果
を表1に示す。
の析出電位Aをニッケルの析出電位Bに近づけることに
より、銅によるニッケル粉末の過度の微小化を抑制し
て、銅の添加量が同一の場合にも、ニッケル粉末の粒径
を変化させることが可能になることがわかる。
位Bに対して0.55V以上である(a),(b),(c)の
各金属塩溶液については、反応容器に付着したり、原材
料中に含まれる銅、又は、その添加量誤差などの影響を
受けて、製造ロット間の粒径ばらつきが大きくなってい
ることがわかる。
析出電位の制御の有無が、ニッケル粉末を導電成分とす
る導電性ペーストを用いて内部電極を形成した積層セラ
ミックコンデンサに与える影響を調べた。そのために、
まず、表1の(f)と場合と同一粒径である60nmのニッ
ケル粉末を、析出電位の制御を行わずに製造した(表2
の試料(i))。なお、析出電位を制御しない場合には、
銅のニッケル粉末を微小化させる効果が非常に大きいこ
とを考慮し、析出電位を制御した場合に比べて、塩化銅
の添加量を5分の1(0.18g)とした。また、(i)
では、エチレンジアミンは添加しなかった。なお、(i)
の場合も、還元反応は、上記(a)〜(h)の場合と同様
に、5回行い、製造ロット間の粒径ばらつきを調べた。
その結果を表2に示す。なお、表2の(f)の試料は、表
1の(f)の試料と同じである。
た(f)のニッケル粉末と、制御を行っていない(i)のニ
ッケル粉末の粒径は、ほぼ同一の60nmであった。しか
し、析出電位の制御を行った(f)のニッケル粉末の場合
には、製造ロット間CV値の値は5%であったのに対
し、析出電位の制御を行っていない(i)のニッケル粉末
の場合には、製造ロット間CV値の値が23%と著しく
大きな値となった。このように、(i)おいて、製造ロッ
ト間の粒径のばらつきが著しく大きくなったのは、反応
容器に付着する銅や原材料中に含まれる銅、あるいは銅
の添加量の誤差などの影響を受けたためであると考えら
れる。
分とする導電性ペーストを作製した。なお、導電性ペー
ストを作製するにあたっては、(f)と(i)の5つロット
の各ニッケル粉末50重量部に対して、エチルセルロー
ス系バインダ10重量部をテルピネオール90重量部に
溶解した有機ビヒクル50重量部を加えて、3本ロール
ミルにより分散混合処理を行うことにより、ニッケル粉
末を導電成分として含有する導電性ペーストを、それぞ
れのロットのニッケル粉末について作製した。
iO3を主成分とする、耐還元性セラミックを用いたグ
リーンシートに印刷した後、グリーンシートを積層し、
焼成することにより、ニッケルからなる内部電極を備え
た積層セラミックコンデンサを作製した。図1は、得ら
れた積層セラミックコンデンサの概略構成を示す図であ
り、この積層セラミックコンデンサは、複数の内部電極
2がセラミック層1を介して互いに対向するように配設
され、かつ、その一端側が交互に異なる側の端面に引き
出されたセラミック素子3の両端側に、内部電極2と導
通するように一対の外部電極4,4が配設された構造を
有している。なお、この積層セラミックコンデンサにお
いて、焼成後のセラミック層の厚みは3μmであり、内
部電極の積層数は50層である。
ンサ(各試料)について、以下のような要領で、その積
層構造を評価した(サンプル数n=100)。まず、積
層セラミックコンデンサの層間剥離(デラミネーショ
ン)については、試料断面を研磨し、顕微鏡観察するこ
とにより、層間剥離の有無を判定し、全試料に対する層
間剥離の発生した試料の比率(剥離発生率)を求めた。
また、積層セラミックコンデンサの電気抵抗を、IRメ
ータにより測定し、ショート不良率を算出した。その結
果を表3に示す。
発生率のいずれについても、析出電位の制御を行った
(f)のニッケル粉末を用いた場合の方が、析出電位の制
御を行わなかった(i)のニッケル粉末を用いた場合より
も著しく小さな値となっており、析出電位の制御を行っ
た(f)のニッケル粉末を用いた場合の方が、はるかに特
性の良好な積層セラミックコンデンサが得られることが
わかる。
場合において、特性の良好な積層セラミックコンデンサ
が得られないのは、析出電位の制御を行わなかったこと
から、製造ロット間の粒径のばらつきが23%と大きく
なることによるものと考えられる。すなわち、(i)のニ
ッケル粉末を用いた場合にショート不良率が高くなるの
は、目標とする粒径よりも粒径の大きなニッケル粉末が
含まれていることによるものであり、また、剥離発生率
が大きくなるのは、粒径の小さなニッケル粉末が含まれ
ていることによるものと推測される。
例に限定されるものではなく、金属塩溶液及び還元剤溶
液の具体的な組成、両者の混合条件、銅の析出電位A
(V)及びニッケルの析出電位B(V)、錯化剤の種
類、水酸化アルカリの種類、溶媒の種類、ニッケル塩及
び銅塩の種類、本願発明のニッケル粉末を用いた導電性
ペーストの具体的な組成、導電性ペーストを用いて内部
導体が形成される積層セラミック電子部品の種類などに
関し、発明の要旨の範囲内において、種々の応用、変形
を加えることが可能である。
ニッケル粉末の製造方法は、金属塩溶液からニッケルを
除いた溶液における銅の析出電位をA(V)、金属塩溶
液から銅を除いた溶液におけるニッケルの析出電位をB
(V)とした場合に、金属塩溶液からニッケルを除いた
溶液における銅の析出電位A(V)を、式:B<A<
(B+0.55)で表される範囲となるように、金属塩
溶液の状態を調整するようにしているので、還元剤溶液
とを混合して、ニッケル塩を金属ニッケルに還元するこ
とによりニッケル粉末を製造する場合において、製造ロ
ット間の粒径ばらつきを小さくすることが可能になると
ともに、粒径制御を行うことが可能になり、所望の粒径
(例えば0.1μm以下)のニッケル粉末を液相法によ
り効率よく製造することが可能になる。
のように、銅の析出電位Aの制御を、銅と錯体を形成す
る錯化剤を添加して行うことにより、銅の析出電位Aを
確実に制御して、所望の範囲内の値とすることが可能に
なり、本願発明を実効あらしめることができる。
を用いることが可能であるが、請求項3のように、錯化
剤として、カルボン酸、アミン、アミノ酸、オキシ酸か
らなる群より選ばれる少なくとも1種を用いることによ
り、銅の析出電位Aを確実に所望の範囲内の値とするこ
とができる。
カルボン酸として、種々のカルボン酸を用いることが可
能であるが、請求項4のように、マロン酸、エチルマロ
ン酸、メチルマロン酸、シュウ酸からなる群より選ばれ
る少なくとも1種を用いることにより、銅の析出電位A
を確実に、所望の範囲内の値とすることができる。
アミンとして、種々のアミンを用いることが可能である
が、請求項5のように、エチレンジアミン、N,N’−
ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレン
ジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N−ブ
チルエチレンジアミントリ酢酸、N−シクロヘキシルエ
チレンジアミントリ酢酸、エチレンジアミンジプロピオ
ン酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸からなる群
より選ばれる少なくとも1種を用いることにより、銅の
析出電位Aを確実に、所望の範囲内の値とすることがで
きる。
アミノ酸として、種々のアミノ酸を用いることが可能で
あるが、請求項6のように、アラニン、アスパラギン、
グリシン、グリシルグリシン、イミノジ酢酸、イミノジ
プロピオン酸、エチレンジアミン−N,N’−ジ酢酸、
エチレンジアミンテトラ酢酸からなる群より選ばれる少
なくとも1種を用いることにより、銅の析出電位Aを確
実に、所望の範囲内の値とすることができる。
オキシ酸として、種々のオキシ酸を用いることが可能で
あるが、請求項7のように、クエン酸、サリチル酸、酒
石酸からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いるこ
とにより、銅の析出電位Aを確実に、所望の範囲内の値
とすることが可能になる。
のように、金属塩溶液と還元剤溶液の少なくとも一方
に、水酸化アルカリを含有させることにより、速やかに
金属イオンを還元できるようになるとともに、水酸化ア
ルカリ濃度によって還元反応速度を調整することが可能
になる。これは、ヒドラジンなどの還元剤が金属イオン
を還元する際には、水酸化物イオンを供給することが必
要になるからであり、この水酸化物イオンの供給が水酸
化アルカリによって行われることになるからである。な
お、水酸化アルカリ濃度が高いほど還元反応速度を高め
ることが可能になるので、水酸化アルカリ濃度によって
還元反応速度を調整することが可能になる。
のように、水酸化アルカリとして、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、
水酸化アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも
1種を用いることにより、本願発明を確実に実施するこ
とが可能になる。
を用いることが可能であるが、請求項10のように、ヒ
ドラジン又はヒドラジン水和物を用いることにより、特
殊な薬剤を用いることなく、ニッケル塩を確実に還元し
て、ニッケル粉末を析出させることができるようになり
望ましい。なお、ヒドラジンは金属イオンを還元する際
に、還元された金属中に不純物がほとんど析出しない特
徴を持つ還元剤であり、例えば、ホウ素などの不純物が
析出した場合に見られるような融点の低下を防止するこ
とが可能になる。
用いることが可能であるが、請求項11のように、水又
はアルコールと水の混合液を用いることにより、コスト
を抑えつつ、効率よくニッケル粉末を製造することがで
きる。
して種々のものを用いることが可能であるが、請求項1
2のように、塩化物、硫酸塩、及び硝酸塩からなる群よ
り選ばれる少なくとも1種を用いることにより、特殊な
原料を必要とすることなく、効率よくニッケル粉末を製
造することができる。
々のものを用いることが可能であるが、請求項13のよ
うに、塩化物、硫酸塩、及び硝酸塩からなる群より選ば
れる少なくとも1種を用いることにより、特殊な原料を
必要とすることなく、効率よくニッケル粉末を製造する
ことができる。
粉末は、本願発明(請求項1〜13)のニッケル粉末の
製造方法によって製造されたものであり、製造ロット間
の粒径ばらつきが小さく、粒径がそろっており、導電性
ペーストの導電成分などの用途に広く適用することがで
きる。
明(請求項1〜13)のニッケル粉末の製造方法によっ
て製造されたものであり、製造ロット間の粒径ばらつき
が小さく、十分な粒径制御が行われているため、粒径の
そろったニッケル粉末を提供することが可能であり、請
求項15のように、粒径が0.1μm以下の微細なニッ
ケル粉末を確実に提供することが可能である。
ーストは、請求項14又は15記載の、粒径のばらつき
が少ない、微細なニッケル粉末を導電成分として含有さ
せているので、高品質で、積層セラミック電子部品の薄
層化に対応することが可能な導電性ペーストを提供する
ことができる。
求項14又は15記載の、粒径のばらつきが少ない、微
細なニッケル粉末を導電成分として含有させているた
め、多層化、薄膜が進む積層セラミック電子部品の内部
導体を形成する場合に用いるのに適しており、この導電
性ペーストを用いることにより断線などのない内部導体
を確実に形成することができる。
ミック電子部品は、内部導体を、請求項17に記載の導
電性ペーストを用いて形成するようにしているので、緻
密で、断線などのない内部導体を確実に形成することが
可能になり、十分な特性を備えた、信頼性の高い積層セ
ラミック電子部品を提供することが可能になる。
コンデンサの概略構成を示す断面図である。
Claims (18)
- 【請求項1】少なくともニッケル塩と銅塩を含む金属塩
溶液と、少なくとも還元剤を含む還元剤溶液とを混合し
て、ニッケル塩を金属ニッケルに還元することによりニ
ッケル粉末を製造する方法であって、 前記金属塩溶液からニッケルを除いた溶液における銅の
析出電位をA(V)、前記金属塩溶液から銅を除いた溶
液におけるニッケルの析出電位をB(V)とした場合
に、前記金属塩溶液からニッケルを除いた溶液における
銅の析出電位A(V)を、下記の式(1): B<A<(B+0.55) ……(1) で表される範囲となるようにしたことを特徴とするニッ
ケル粉末の製造方法。 - 【請求項2】前記銅の析出電位Aを、前記金属塩溶液に
錯化剤を添加することにより、前記式(1)で表される範
囲内となるようにしたことを特徴とする請求項1記載の
ニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項3】前記錯化剤が、カルボン酸、アミン、アミ
ノ酸、オキシ酸からなる群より選ばれる少なくとも1種
であることを特徴とする請求項2記載のニッケル粉末の
製造方法。 - 【請求項4】前記カルボン酸が、マロン酸、エチルマロ
ン酸、メチルマロン酸、シュウ酸からなる群より選ばれ
る少なくとも1種であることを特徴とする請求項3記載
のニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項5】前記アミンが、エチレンジアミン、N,
N’−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルエ
チレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、
N−ブチルエチレンジアミントリ酢酸、N−シクロヘキ
シルエチレンジアミントリ酢酸、エチレンジアミンジプ
ロピオン酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸から
なる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴と
する請求項3記載のニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項6】前記アミノ酸が、アラニン、アスパラギ
ン、グリシン、グリシルグリシン、イミノジ酢酸、イミ
ノジプロピオン酸、エチレンジアミン−N,N’−ジ酢
酸、エチレンジアミンテトラ酢酸からなる群より選ばれ
る少なくとも1種であることを特徴とする請求項3記載
のニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項7】前記オキシ酸が、クエン酸、サリチル酸、
酒石酸からなる群より選ばれる少なくとも1種であるこ
とを特徴とする請求項3記載のニッケル粉末の製造方
法。 - 【請求項8】前記金属塩溶液と前記還元剤溶液の少なく
とも一方が、水酸化アルカリを含むことを特徴とする請
求項1〜7のいずれかに記載のニッケル粉末の製造方
法。 - 【請求項9】前記水酸化アルカリが、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウ
ム、水酸化アンモニウムからなる群より選ばれる少なく
とも1種であることを特徴とする請求項8記載のニッケ
ル粉末の製造方法。 - 【請求項10】前記還元剤が、ヒドラジン又はヒドラジ
ン水和物であることを特徴とする請求項1〜9のいずれ
かに記載のニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項11】前記溶媒が、水又はアルコールと水の混
合液であることを特徴とする請求項1〜請求項10のい
ずれかに記載のニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項12】 前記ニッケル塩が、塩化物、硫酸塩、
及び硝酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種であ
ることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の
ニッケル粉末の製造方法。 - 【請求項13】前記銅塩が、塩化物、硫酸塩、及び硝酸
塩からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを
特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載のニッケル
粉末の製造方法。 - 【請求項14】請求項1〜13のいずれかに記載のニッ
ケル粉末の製造方法によって製造されたものであること
を特徴とするニッケル粉末。 - 【請求項15】粒径が0.1μm以下であることを特徴
とする請求項14記載のニッケル粉末。 - 【請求項16】請求項14又は15記載のニッケル粉末
を導電成分として含有することを特徴とする導電性ペー
スト。 - 【請求項17】積層セラミック電子部品の内部導体を形
成するために用いられるものであることを特徴とする請
求項16記載の導電性ペースト。 - 【請求項18】請求項17に記載の導電性ペーストを用
いて内部導体が形成されていることを特徴とする積層セ
ラミック電子部品。
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- 2001-09-07 JP JP2001271849A patent/JP2002317214A/ja active Pending
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