JP2002314222A - Printed circuit board and its manufacturing method - Google Patents

Printed circuit board and its manufacturing method

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JP2002314222A
JP2002314222A JP2001111608A JP2001111608A JP2002314222A JP 2002314222 A JP2002314222 A JP 2002314222A JP 2001111608 A JP2001111608 A JP 2001111608A JP 2001111608 A JP2001111608 A JP 2001111608A JP 2002314222 A JP2002314222 A JP 2002314222A
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JP
Japan
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wiring board
printed wiring
resin layer
base material
conductor
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Application number
JP2001111608A
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Japanese (ja)
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Shozo Ochi
正三 越智
Fumio Echigo
文雄 越後
Yoji Ueda
洋二 上田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board capable of obtaining high reliability when resin layers are electrically connected by using a conductor by forming the layers between glass clothes and to provide a method for manufacturing the same. SOLUTION: The method for manufacturing the printed circuit board comprises the steps of laminating the glass clothes 101 on an electric insulating base 100 before heating and pressurizing, forming the resin layers 102a and 102b on both surface of the laminated clothes between the adjacent clothes 101, and impregnating the clothes 101 with the resin of the layers 102a and 102b by heating and pressurizing. The method further comprises the steps of assuring a compression amount at the time of heating and pressurizing according to the thickness of the layer 102a between the clothes 101, densifying the conductor component of the conductor 105, assuring the adhesive properties between the conductor 105 and a wiring layer 107 by the resin layers 102b of both sides of the laminated clothes, and via hole connecting with high reliability.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はガラスクロス(ガラ
ス繊維)間に樹脂層を形成することによって、導電ペー
スト等の導電体により層間の電気的な接続を行う際、高
い信頼性を得ることができるプリント配線基板及びその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is to provide a resin layer between glass cloths (glass fibers) so that high reliability can be obtained when electrical connection between layers is made by a conductor such as a conductive paste. The present invention relates to a printed wiring board that can be made and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、薄型化、軽量
化、高機能化が進展する中で電子機器を構成する各種電
子部品とともに、これら電子部品が実装されるプリント
配線基板においても高密度実装を可能とする様々な技術
開発が盛んになっている。特に最近は、急速な実装技術
の進展にともなって、LSI等の半導体チップを高密度
に実装できると同時に高速回路にも対応できる多層配線
基板が安価に供給されることが強く要望されてきてい
る。このようなプリント配線基板では微細な配線ピッチ
で形成された複数層の配線パターン間の高い電気的接続
信頼性や優れた高周波特性を備えていることが重要であ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller, thinner, lighter, and more sophisticated, not only are various electronic components constituting the electronic devices, but also printed wiring boards on which these electronic components are mounted. Various technological developments that enable density mounting are active. In particular, recently, with the rapid development of mounting technology, it has been strongly demanded that a multilayer wiring board capable of mounting a semiconductor chip such as an LSI at a high density and corresponding to a high-speed circuit be supplied at a low cost. . It is important for such a printed wiring board to have high electrical connection reliability and excellent high-frequency characteristics between a plurality of wiring patterns formed at a fine wiring pitch.

【0003】これに対して最近、導電ペーストを用いて
層間の電気的接続を行うプリント配線基板が提案されて
いる(特許第2601128号公報)。図8に、前記の
プリント配線基板の製造方法を示す。まず、図8(a)
に示したように、アラミド不織布に熱硬化性エポキシ樹
脂を含浸させたアラミドエポキシプリプレグである多孔
質基材602の両面にポリエステル等の離形フィルム6
01をラミネートする。
On the other hand, recently, there has been proposed a printed wiring board for electrically connecting between layers using a conductive paste (Japanese Patent No. 26001128). FIG. 8 shows a method for manufacturing the printed wiring board. First, FIG.
As shown in FIG. 7, a release film 6 made of polyester or the like is formed on both sides of a porous substrate 602 which is an aramid epoxy prepreg obtained by impregnating a thermosetting epoxy resin into an aramid nonwoven fabric.
01 is laminated.

【0004】次に、図8(b)に示したように、多孔質
基材602の所定箇所にレーザー加工法により貫通孔6
03を形成する。次に図8(c)に示したように、貫通
孔603に導電ペースト604を充填する。充填する方
法としては、貫通孔603を有する多孔質基材602を
スクリーン印刷機のテーブル上に設置し、直接導電ペー
スト604を離形フィルム601の上から印刷する。こ
の際、印刷面の離形フィルム601は印刷マスクの役割
と多孔質基材602表面の汚染防止の役割を果たしてい
る。次に多孔質基材602の両面から離形フィルム60
1を剥離する。
[0004] Next, as shown in FIG. 8 (b), through holes 6 are formed at predetermined positions of a porous substrate 602 by a laser processing method.
03 is formed. Next, as shown in FIG. 8C, the conductive paste 604 is filled in the through holes 603. As a filling method, a porous base material 602 having a through hole 603 is placed on a table of a screen printing machine, and a conductive paste 604 is directly printed on the release film 601. At this time, the release film 601 on the printing surface plays a role of a printing mask and a role of preventing contamination of the surface of the porous substrate 602. Next, the release film 60 is applied from both sides of the porous substrate 602.
1 is peeled off.

【0005】次に、多孔質基材602の両面に銅箔等の
金属箔605を貼り付ける。この状態で加熱加圧するこ
とにより、図8(d)に示すように、多孔質基材602
は圧縮され、その厚さは薄くなる。その際、貫通孔60
3内の導電ペースト604も圧縮されるが、その時に導
電ペースト内のバインダ成分が押し出され、導電成分同
士および導電成分と金属箔605間の結合が強固にな
り、導電ペースト604中の導電物質が緻密化され、層
間の電気的接続が得られる。
[0005] Next, a metal foil 605 such as a copper foil is attached to both surfaces of the porous substrate 602. By heating and pressing in this state, as shown in FIG.
Is compressed and its thickness is reduced. At this time, the through hole 60
3, the binder component in the conductive paste is extruded at that time, and the bonding between the conductive components and between the conductive component and the metal foil 605 is strengthened. Densified and electrical connection between layers is obtained.

【0006】その後、多孔質基材602の構成成分であ
る熱硬化性樹脂および導電ペースト604が硬化する。
そして図9(e)に示すように、金属箔605を所定の
パターンに選択エッチングして両面配線基板が完成す
る。さらに、図9(f)に示すように、両面配線基板の
両側に、導電性ペースト608が印刷により充填された
多孔質基材606、及び金属箔607を貼り付けて、加
熱加圧した後、図9(g)に示すように、金属箔607
を所定のパターンに選択エッチングすることによって多
層配線基板が完成する。
After that, the thermosetting resin and the conductive paste 604 which are the components of the porous substrate 602 are cured.
Then, as shown in FIG. 9E, the metal foil 605 is selectively etched into a predetermined pattern to complete a double-sided wiring board. Further, as shown in FIG. 9 (f), a porous substrate 606 filled with a conductive paste 608 by printing and a metal foil 607 are attached to both sides of the double-sided wiring board, and heated and pressed. As shown in FIG.
Is selectively etched into a predetermined pattern to complete a multilayer wiring board.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ようなアラミドエポキシプリプレグを用いたプリント配
線基板の場合、基板材料と銅箔等の金属箔との密着力が
弱いという問題や、吸水率が高いという問題があった。
これら問題を解決するために、電気絶縁性基材として、
ガラスクロスに熱硬化性エポキシ樹脂を含浸させたガラ
スエポキシプリプレグを使用することも考えられる。
However, in the case of a printed wiring board using the aramid epoxy prepreg as described above, the problem of weak adhesion between the board material and a metal foil such as a copper foil or a high water absorption rate. There was a problem.
In order to solve these problems, as an electrically insulating substrate,
It is also conceivable to use a glass epoxy prepreg in which a glass cloth is impregnated with a thermosetting epoxy resin.

【0008】しかしながら、ガラスエポキシプリプレグ
を用いた場合、ガラスクロスの両側に樹脂層が形成され
ており、この両側にそれぞれ銅箔を積層する際に、樹脂
層が厚過ぎると、銅箔側で樹脂流れを生じ、導電ペース
トと銅箔側との間に樹脂が流入し、接続信頼性が得られ
なくなるという問題があった。この場合、逆に樹脂層を
薄くすると、電気絶縁性基材と金属箔との密着性が悪く
なったり、導電体に充分な圧縮力が加わらなくなり、接
続信頼性が得られなくなるという別の問題があった。
However, when a glass epoxy prepreg is used, resin layers are formed on both sides of the glass cloth. When laminating copper foil on each side, if the resin layer is too thick, the resin layer is formed on the copper foil side. There is a problem that a flow occurs, and a resin flows between the conductive paste and the copper foil side, so that connection reliability cannot be obtained. In this case, if the resin layer is made thinner, on the other hand, the adhesion between the electrically insulating base material and the metal foil is deteriorated, or a sufficient compressive force is not applied to the conductor, so that connection reliability cannot be obtained. was there.

【0009】この問題の解決策として、電気絶縁性基材
の片側に所定パターンが形成された基板を積層すること
によって導電体を圧縮し、かつ電気絶縁性基材とパター
ンとの密着性も得ることができた。しかしながら、多層
配線基板を作製する場合において、多層に積層する前の
単体に基板、すなわちコア層である両面配線基板を作製
する場合にはこの製法を利用することはできない。
As a solution to this problem, a conductor on which a predetermined pattern is formed is laminated on one side of the electrically insulating base material, thereby compressing the conductor and obtaining the adhesion between the electrically insulating base material and the pattern. I was able to. However, this method cannot be used when manufacturing a multilayer wiring board, ie, when manufacturing a single-layer board before being laminated in multiple layers, that is, a double-sided wiring board which is a core layer.

【0010】本発明は前記のような従来の問題を解決す
るものであり、ガラスクロス間に樹脂層を形成すること
によって、導電ペースト等の導電体を用いて層間の電気
的接続を行なった場合、高い信頼性が得られるプリント
配線基板及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
[0010] The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, in which a resin layer is formed between glass cloths to perform electrical connection between layers using a conductor such as a conductive paste. It is an object of the present invention to provide a printed wiring board with high reliability and a method for manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のプリント配線基板は、電気絶縁性基材と、
前記電気絶縁性基材の厚さ方向に貫通した貫通孔に充填
された導電体と、前記電気絶縁性基材の両面に形成され
た配線層とを備え、前記電気絶縁性基材の加熱加圧によ
り、前記両面の配線層が前記導電体を介して電気的に接
続されているプリント配線基板であって、前記加熱加圧
前における前記電気絶縁性基材は、少なくとも2枚のガ
ラスクロスが積層され、隣接する前記ガラスクロスの間
と、前記積層されたガラスクロスの両面とに樹脂層が形
成されており、前記加熱加圧により、前記各樹脂層の樹
脂が前記ガラスクロスに含侵していることを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, a printed wiring board according to the present invention comprises: an electrically insulating substrate;
A conductor filled in a through-hole penetrating in the thickness direction of the electrically insulating substrate; and wiring layers formed on both surfaces of the electrically insulating substrate. By pressure, the wiring layer on both sides of the printed wiring board is electrically connected via the conductor, the electrical insulating substrate before the heating and pressing, at least two glass cloths Laminated, between the adjacent glass cloth, and a resin layer is formed on both sides of the laminated glass cloth, by the heating and pressing, the resin of each resin layer impregnated into the glass cloth. It is characterized by being.

【0012】前記のようなプリント配線基板によれば、
ガラスクロス間の中間部分の樹脂層の厚さによって、加
熱加圧時の圧縮量を確保し導電体の導体成分を緻密化す
るとともに、積層されたガラスクロスの両側の樹脂層に
より、導電体と配線層との間の密着性も確保でき、高信
頼性を有するビアホール接続が可能となる。
According to the above printed wiring board,
The thickness of the resin layer in the middle part between the glass cloths ensures the amount of compression at the time of heating and pressurization and densifies the conductor component of the conductor. Adhesion with the wiring layer can also be ensured, and highly reliable via-hole connection can be achieved.

【0013】前記プリント配線基板においては、前記隣
接するガラスクロスの間に形成された樹脂層の厚さは、
前記積層されたガラスクロスの両面に形成された樹脂層
の厚さより大きいことが好ましい。前記のようなプリン
ト配線基板によれば、加熱加圧時における導電体に印加
した圧縮力が横方向に分散するのを最小限に抑えること
ができ、また導電体と配線層との間への樹脂の流入も抑
えることができるので、導電体と配線層との間の密着性
をより高めることができる。
In the printed circuit board, the thickness of the resin layer formed between the adjacent glass cloths is
It is preferable that the thickness is larger than the thickness of the resin layers formed on both sides of the laminated glass cloth. According to the printed wiring board as described above, the compressive force applied to the conductor at the time of heating and pressing can be minimized from being dispersed in the lateral direction. Since the inflow of resin can also be suppressed, the adhesion between the conductor and the wiring layer can be further improved.

【0014】また、前記隣接するガラスクロスの間の樹
脂層の厚さは、5〜10μmの範囲内であることが好ま
しい。前記のようなプリント配線基板によれば、加熱加
圧時において導電体に十分な圧縮力を印加することがで
きる。
The thickness of the resin layer between the adjacent glass cloths is preferably in the range of 5 to 10 μm. According to the printed wiring board as described above, a sufficient compressive force can be applied to the conductor during heating and pressing.

【0015】また、前記各プリント配線基板を複数枚積
層し、配線を多層に形成することにより、高信頼性を有
するビアホール接続を実現した多層プリント配線基板を
提供することができる。
Further, by laminating a plurality of the printed wiring boards and forming the wiring in multiple layers, it is possible to provide a multilayer printed wiring board which realizes highly reliable via hole connection.

【0016】次に、本発明のプリント配線基板の製造方
法は、少なくとも2枚のガラスクロスが積層され、隣接
する前記ガラスクロスの間と、前記積層されたガラスク
ロスの両面とに樹脂層が形成された電気絶縁性基材に貫
通孔を設ける工程と、前記貫通孔に導電体を充填する工
程と、前記電気絶縁性基材の両面に金属箔を重ねる工程
と、前記電気絶縁性基材を加熱加圧して、前記隣接する
ガラスクロスの間の樹脂層を薄くして前記導電体を圧縮
する工程と、前記金属箔を所定パターンに形成して配線
層を形成する工程とを備えたことを特徴とする。
Next, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, at least two glass cloths are laminated, and a resin layer is formed between adjacent glass cloths and on both surfaces of the laminated glass cloths. Providing a through hole in the electrically insulated base material, filling the through hole with a conductor, stacking metal foil on both surfaces of the electrically insulative base material, Heating and pressurizing to reduce the thickness of the resin layer between the adjacent glass cloths and compress the conductor; and forming a wiring layer by forming the metal foil in a predetermined pattern. Features.

【0017】前記のようなプリント配線基板の製造方法
によれば、ガラスクロス間の中間部分の樹脂層の厚さに
よって、加熱加圧時の圧縮量を確保し導電体の導体成分
を緻密化するとともに、積層されたガラスクロスの両側
の樹脂層により、導電体と配線層との間の密着性も確保
でき、高信頼性を有するビアホール接続が可能となる。
According to the method of manufacturing a printed wiring board as described above, the amount of compression during heating and pressing is ensured and the conductor component of the conductor is densified by the thickness of the resin layer in the intermediate portion between the glass cloths. In addition, due to the resin layers on both sides of the laminated glass cloth, adhesion between the conductor and the wiring layer can be secured, and highly reliable via hole connection can be achieved.

【0018】前記プリント配線基板の製造方法において
は、前記隣接するガラスクロスの間に形成された樹脂層
の厚さは、前記積層されたガラスクロスの両面に形成さ
れた樹脂層の厚さより大きいことが好ましい。前記のよ
うなプリント配線基板によれば、加熱加圧時における導
電体に印加した圧縮力が横方向に分散するのを最小限に
抑えることができ、また導電体と配線層との間への樹脂
の流入も抑えることができるので、導電体と配線層との
間の密着性をより高めることができる。
In the method for manufacturing a printed wiring board, the thickness of the resin layer formed between the adjacent glass cloths is larger than the thickness of the resin layers formed on both sides of the laminated glass cloth. Is preferred. According to the printed wiring board as described above, the compressive force applied to the conductor at the time of heating and pressing can be minimized from being dispersed in the lateral direction. Since the inflow of resin can also be suppressed, the adhesion between the conductor and the wiring layer can be further improved.

【0019】また、前記電気絶縁性基材の厚さは、50
〜150μmの範囲内であることが好ましい。前記のよ
うなプリント配線基板の製造方法によれば、剛性を保ち
つつ、薄型で形容なプリント配線基板を提供できる。
Further, the thickness of the electrically insulating substrate is 50
It is preferable that it is within the range of 150 μm. According to the method of manufacturing a printed wiring board as described above, a thin and shaped printed wiring board can be provided while maintaining rigidity.

【0020】また、前記隣接するガラスクロスの間の樹
脂層の厚さは、5〜10μmの範囲内であることが好ま
しい。前記のようなプリント配線基板の製造方法によれ
ば、前記のようなプリント配線基板によれば、加熱加圧
時において導電体に十分な圧縮力を印加することができ
る。
The thickness of the resin layer between the adjacent glass cloths is preferably in the range of 5 to 10 μm. According to the method for manufacturing a printed wiring board as described above, according to the printed wiring board as described above, a sufficient compressive force can be applied to the conductor during heating and pressing.

【0021】また、前記導電体は、導電ペーストである
ことが好ましい。前記のようなプリント配線基板の製造
方法によれば、貫通孔内の導電ペーストに圧縮力が印加
された際、導電ペースト中の樹脂成分が貫通孔内より排
出され、導電ペースト中の導体成分が緻密化され、高信
頼性を有するビアホール接続が可能になる。
Preferably, the conductor is a conductive paste. According to the method for manufacturing a printed wiring board as described above, when a compressive force is applied to the conductive paste in the through-hole, the resin component in the conductive paste is discharged from the through-hole, and the conductive component in the conductive paste is removed. Dense and highly reliable via hole connection becomes possible.

【0022】また、前記貫通孔を、レーザー加工機によ
って形成することが好ましい。前記のようなプリント配
線基板の製造方法によれば、配線パターンの微細化に応
じた微細な直径を有する貫通孔の形成が容易、かつ高速
で行う事ができる。
Preferably, the through holes are formed by a laser beam machine. According to the method for manufacturing a printed wiring board as described above, it is possible to easily and quickly form a through hole having a fine diameter according to the miniaturization of a wiring pattern.

【0023】また、前記各プリント配線基板の製造方法
を用いて製造されたプリント配線基板の両側に、少なく
とも2枚のガラスクロスが積層され、隣接する前記ガラ
スクロスの間と、前記積層されたガラスクロスの両面と
に樹脂層が形成され、厚さ方向に形成された貫通孔に導
電体が充填されている第2の電気絶縁性基材を重ね合わ
せ、前記第2の電気絶縁性基材の表面に金属箔を貼り付
けて積層体を形成する工程と、前記積層体を加熱加圧し
て、前記第2の電気絶縁性基材の前記隣接するガラスク
ロスの間に形成された樹脂層を薄くして前記第2の電気
絶縁性基材の導電体を圧縮する工程と、前記金属箔を所
定のパターンに形成して配線層を形成する工程とを有
し、配線を多層に形成することが好ましい。
Further, at least two glass cloths are laminated on both sides of the printed wiring board manufactured by using each of the above printed wiring board manufacturing methods, and between the adjacent glass cloths and the laminated glass A resin layer is formed on both sides of the cloth, and a second electric insulating base material filled with a conductor is overlapped with a through hole formed in the thickness direction, and the second electric insulating base material Bonding a metal foil to the surface to form a laminate, and heating and pressing the laminate to thin the resin layer formed between the adjacent glass cloths of the second electrically insulating substrate. And compressing the conductor of the second electrically insulating base material, and forming a wiring layer by forming the metal foil in a predetermined pattern. preferable.

【0024】前記のようなプリント配線基板の製造方法
によれば、第2の第2の電気絶縁性基材においても、ガ
ラスクロス間の中間部分の樹脂層の厚さによって、加熱
加圧時の圧縮量を確保し導電体の導体成分を緻密化する
とともに、積層されたガラスクロスの両側の樹脂層によ
り、導電体と配線層との間の密着性も確保でき、配線層
を多層にした場合においても高信頼性を有するビアホー
ル接続が可能となる。
According to the method of manufacturing a printed wiring board as described above, even in the second and second electrically insulating base materials, the thickness of the resin layer in the intermediate portion between the glass cloths can be reduced during heating and pressing. In addition to securing the amount of compression and densifying the conductor component of the conductor, the resin layers on both sides of the laminated glass cloth can also ensure the adhesion between the conductor and the wiring layer, and when the wiring layer is multilayered In this case, a highly reliable via hole connection can be realized.

【0025】また、前記各プリント配線基板の製造方法
を用いて製造されたプリント配線基板の両側に、ガラス
クロスの両側に樹脂層が形成され、厚さ方向に形成され
た貫通孔に導電体が充填されている第2の電気絶縁性基
材を重ね合わせ、前記第2の電気絶縁性基材の表面に金
属箔を貼り付けて積層体を形成する工程と、前記積層体
を加熱加圧して前記第2の電気絶縁性基材の導電体を圧
縮する工程と、前記金属箔を所定のパターンに形成して
配線層を形成する工程とを有し、配線を多層に形成する
ことが好ましい。
In addition, a resin layer is formed on both sides of a glass cloth on both sides of a printed wiring board manufactured by using the above-described method for manufacturing a printed wiring board, and a conductor is formed in a through hole formed in the thickness direction. Laminating the filled second electrically insulating substrate, attaching a metal foil to the surface of the second electrically insulating substrate to form a laminate, and heating and pressing the laminate The method includes a step of compressing the conductor of the second electrically insulating base material and a step of forming the metal foil in a predetermined pattern to form a wiring layer, and it is preferable that the wiring is formed in a multilayer.

【0026】前記のようなプリント配線基板の製造方法
によれば、第2の電気絶縁性基材で挟まれたれたプリン
ト配線基板の配線層の厚さによって、加熱加圧時の圧縮
量を確保でき、第2の電気絶縁性基材の樹脂層により導
電体と配線層との間の密着性も確保できるので、配線層
を多層にした場合においても、高信頼性を有するビアホ
ール接続が可能となる。この構成では、ガラスクロス間
に樹脂層を形成した構成と比べると、圧縮量は小さくな
るが、中間層を設けていない分、製造が簡略化でき、製
造コストも低減させることができる。
According to the method of manufacturing a printed wiring board as described above, the amount of compression during heating and pressing is ensured by the thickness of the wiring layer of the printed wiring board sandwiched between the second electrically insulating substrates. Since the adhesiveness between the conductor and the wiring layer can be ensured by the resin layer of the second electrically insulating base material, highly reliable via hole connection is possible even when the wiring layers are multilayered. Become. In this configuration, the amount of compression is smaller than the configuration in which the resin layer is formed between the glass cloths. However, since the intermediate layer is not provided, the manufacturing can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

【0027】また、前記各プリント配線基板の製造方法
によって形成された少なくとも2枚のプリント配線基板
の間に、ガラスクロスの両側に樹脂層が形成され、厚さ
方向に形成された貫通孔に導電体が充填されている第2
の電気絶縁性基材を配置して積層体を形成する工程と、
前記積層体を加熱加圧して前記第2の電気絶縁性基材の
導電体を圧縮する工程とを有し、配線を多層に形成する
ことが好ましい。前記のようなプリント配線基板の製造
方法によれば、プリント配線基板で挟まれたれたプリン
ト配線基板の配線層の厚さによって、加熱加圧時の圧縮
量を確保でき、第2の電気絶縁性基材の樹脂層により導
電体と配線層との間の密着性も確保できるので、配線層
を多層にした場合においても、高信頼性を有するビアホ
ール接続が可能となる。この構成では、ガラスクロス間
に樹脂層を形成した構成と比べると、圧縮量は小さくな
るが、中間層を設けていない分、製造が簡略化でき、製
造コストも低減させることができる。
A resin layer is formed on at least two sides of the glass cloth between at least two printed wiring boards formed by the above-described method of manufacturing each printed wiring board, and conductive layers are formed in through holes formed in the thickness direction. 2nd body filled
Forming a laminate by arranging an electrically insulating base material,
Heating and pressurizing the laminate to compress the conductor of the second electrically insulating base material, and it is preferable that the wiring be formed in multiple layers. According to the method for manufacturing a printed wiring board as described above, the amount of compression at the time of heating and pressing can be secured by the thickness of the wiring layer of the printed wiring board sandwiched between the printed wiring boards, and the second electric insulating property Since the adhesiveness between the conductor and the wiring layer can be ensured by the resin layer of the base material, highly reliable via hole connection is possible even when the wiring layers are multilayered. In this configuration, the amount of compression is smaller than the configuration in which the resin layer is formed between the glass cloths. However, since the intermediate layer is not provided, the manufacturing can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0029】(実施の形態1)図1、2は、本発明の実
施形態1に係る両面配線基板の製造方法を示す工程断面
図である。まず、図1(a)に示したような電気絶縁性
基材(以下、「基材」という。)100を準備した。基
材100は、2枚のガラスクロス101が積層されてお
り、隣接する2枚のガラスクロス101の間には樹脂層
102aが挟まれており、積層されたガラスクロス10
1の両面にそれぞれ樹脂層102bが形成されている。
(Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 are process sectional views showing a method for manufacturing a double-sided wiring board according to Embodiment 1 of the present invention. First, an electrically insulating substrate (hereinafter, referred to as “substrate”) 100 as shown in FIG. 1A was prepared. The base material 100 has two glass cloths 101 laminated thereon, and a resin layer 102a is interposed between two adjacent glass cloths 101.
A resin layer 102b is formed on each of both surfaces of the substrate.

【0030】樹脂層102a、102bは、熱硬化性のエ
ポキシ樹脂である。樹脂層102aと樹脂層102bの厚
さはそれぞれ異なっており、本実施形態では、樹脂層1
02aの厚さを10μm、樹脂層102bの厚さを5μm
とした。また、圧縮力を加えることにより、基材100
の厚さを薄くできるように、各樹脂層は半硬化状態にし
ておいた。
The resin layers 102a and 102b are a thermosetting epoxy resin. The thickness of the resin layer 102a and the thickness of the resin layer 102b are different from each other.
02a has a thickness of 10 μm, and the resin layer 102b has a thickness of 5 μm.
And Further, by applying a compressive force, the base material 100
Each resin layer was in a semi-cured state so that the thickness of the resin layer could be reduced.

【0031】次に、図1(b)に示したように、各樹脂
層102bの表面に、ポリエステル等の離形フィルム1
03をラミネートした。このラミネートは120℃程度
の温度で行った。これにより、樹脂層102bの表面が
わずかに溶融して離形フィルム103を貼り付けること
ができた。本実施形態では、離形フィルムとして16μ
m厚のポリエチレンテレフタレート(PET)を用い
た。
Next, as shown in FIG. 1B, a release film 1 made of polyester or the like is provided on the surface of each resin layer 102b.
03 was laminated. This lamination was performed at a temperature of about 120 ° C. As a result, the surface of the resin layer 102b was slightly melted, and the release film 103 could be attached. In this embodiment, the release film is 16 μm.
An m-thick polyethylene terephthalate (PET) was used.

【0032】次に、図1(c)に示したように、離形フ
ィルム103を設けた基材101にレーザー加工機によ
り貫通孔104を形成した。この貫通孔は、孔径が約1
00μmとなった。
Next, as shown in FIG. 1C, through holes 104 were formed in the substrate 101 on which the release film 103 was provided by a laser beam machine. This through hole has a hole diameter of about 1
It became 00 μm.

【0033】次に、図1(d)に示したように、貫通孔
104に導電体である導電ペースト105を充填した。
充填方法は、スクリーン印刷機により、導電ペースト1
05を直接離形フィルム103上から印刷する方法とし
た。この際、印刷面と反対側より和紙等の多孔質シート
を介して真空吸着を行なった。
Next, as shown in FIG. 1D, the through-hole 104 was filled with a conductive paste 105 as a conductive material.
The filling method is as follows.
05 was directly printed on the release film 103. At this time, vacuum suction was performed from the side opposite to the printing surface via a porous sheet such as Japanese paper.

【0034】このことにより、貫通孔104内の導電ペ
ースト105中の樹脂成分を吸い取ることができ、導電
ペースト中の導体成分の割合が増加し、導体成分を更に
緻密に充填することができた。なお、離形フィルム10
3は、印刷マスクの役割と、樹脂層102b表面の汚染
防止の役割とを果たしている。
As a result, the resin component in the conductive paste 105 in the through-hole 104 could be sucked, the ratio of the conductive component in the conductive paste increased, and the conductive component could be more densely filled. The release film 10
Reference numeral 3 plays a role of a print mask and a role of preventing contamination of the surface of the resin layer 102b.

【0035】次に、図2(e)に示したように、両面の
離形フィルム103を剥離した。この場合、貫通孔10
4の孔径が微細であるため、離形フィルム103の貫通
孔の内周部と、導電ペースト105の外周部との密着状
態の影響が無視できない。すなわち、離形フィルム10
3の剥離により、離形フィルム103の貫通孔内の導電
ペースト105が、離形フィルム103とともにその一
部又は全部が基材100から剥ぎ取られてしまう場合が
ある。
Next, as shown in FIG. 2E, the release films 103 on both sides were peeled off. In this case, the through hole 10
Since the hole diameter of No. 4 is fine, the influence of the state of adhesion between the inner peripheral portion of the through hole of the release film 103 and the outer peripheral portion of the conductive paste 105 cannot be ignored. That is, the release film 10
Due to the peeling of 3, the conductive paste 105 in the through-hole of the release film 103 may be partially or entirely peeled off from the substrate 100 together with the release film 103.

【0036】導電ペースト105の基材100への残り
方は様々であるが、樹脂層102bの表面より下にえぐ
られることはない。最悪の場合でも樹脂層102bの擦
り切れ状態となる。このような離形フィルム103によ
り導電ペーストが剥ぎ取られる現象は、孔径が100μ
mより小さくなると顕著になる。このため、貫通孔の孔
径は、本実施形態のように、100μm以上とすること
が好ましい。
The conductive paste 105 remains on the base material 100 in various ways, but is not caught below the surface of the resin layer 102b. In the worst case, the resin layer 102b is in a worn state. The phenomenon in which the conductive paste is peeled off by the release film 103 is caused by a hole diameter of 100 μm.
It becomes remarkable when it is smaller than m. For this reason, the diameter of the through-hole is preferably 100 μm or more as in the present embodiment.

【0037】次に、図2(f)に示したように、基材1
00の両側に金属箔106を重ね合わせ、加熱加圧し
た。加熱加圧は真空プレスにより行った。この加熱加圧
により、図2(g)に示したように、樹脂層102a、
102bは、ガラスクロス101内へ流動し、基材10
0の厚さが薄くなった。
Next, as shown in FIG.
00, the metal foil 106 was placed on both sides and heated and pressed. The heating and pressurization was performed by a vacuum press. By this heating and pressing, as shown in FIG. 2 (g), the resin layer 102a,
102b flows into the glass cloth 101 and the substrate 10
0 became thinner.

【0038】ここで、前記のように、基材100の中間
部分の樹脂層102aは10μmの厚さを有しているの
で、この厚さ分によって、加熱加圧時の圧縮量が確保さ
れている。すなわち、この加熱加圧により、貫通孔10
4内の導電ペースト105は、少なくとも樹脂層102
aの厚さ分だけ圧縮されることになるので、導電ペース
ト105内の樹脂成分が樹脂層102a、102bに流れ
出し、導電ペースト105内の導体成分が緻密化される
ことになる。
Here, as described above, since the resin layer 102a in the intermediate portion of the base material 100 has a thickness of 10 μm, the amount of compression at the time of heating and pressurizing is ensured by this thickness. I have. That is, the heating and pressurization causes the through holes 10
The conductive paste 105 in FIG.
As a result, the resin component in the conductive paste 105 flows into the resin layers 102a and 102b, and the conductive component in the conductive paste 105 is densified.

【0039】また、基材100の両側の樹脂層102b
の厚さを大きくするにつれて、加熱加圧時において、導
電ペースト105のうち、基材100からはみ出した部
分において、圧縮力が横方向(図の左右方向)に分散す
る程度が大きくなる。本実施形態では、樹脂層102b
の厚さは5μmと薄いので、このような圧縮力の分散を
最小限に抑えることができ、また導電ペースト105と
銅箔106との間への樹脂の流入も抑えることができ、
導電ペースト105と銅箔106との間の密着性を確保
できる。
The resin layers 102b on both sides of the substrate 100
As the thickness of the conductive paste 105 increases, the extent to which the compressive force is dispersed in the lateral direction (the left-right direction in the drawing) in the portion of the conductive paste 105 protruding from the base material 100 during heating and pressing increases. In the present embodiment, the resin layer 102b
Is as thin as 5 μm, the dispersion of the compressive force can be minimized, and the inflow of resin between the conductive paste 105 and the copper foil 106 can be suppressed.
Adhesion between conductive paste 105 and copper foil 106 can be ensured.

【0040】このように、本実施形態では、基材100
の中間部分の樹脂層102aの厚さによって、加熱加圧
時の圧縮量を確保し導電ペースト105の導体成分を緻
密化するとともに、基材100の両側の樹脂層102b
の厚さを樹脂層102aに比べ薄くすることにより、導
電ペースト105と銅箔106との間の密着性を確保し
ているので、高信頼性を有するビアホール接続が可能と
なる。
As described above, in the present embodiment, the base material 100
The thickness of the resin layer 102a in the middle portion of the substrate 100 ensures the amount of compression during heating and pressurization, densifies the conductive component of the conductive paste 105, and reduces the thickness of the resin layer 102b on both sides of the substrate 100
Is thinner than that of the resin layer 102a, the adhesion between the conductive paste 105 and the copper foil 106 is ensured, so that highly reliable via hole connection can be achieved.

【0041】前記のような加熱加圧工程を経て、基材1
00と導電ペースト105とが硬化することになる。こ
の場合、ガラスクロス101内には、樹脂層102a、
102bのエポキシ樹脂が含浸しているので、基材10
0は、剛性に優れ、かつ低吸水性、高密着性が得られ、
プリント配線基板材料として高い信頼性を有することに
なる。
After the heating and pressurizing step as described above, the substrate 1
00 and the conductive paste 105 are cured. In this case, the resin layer 102a,
Since the epoxy resin of 102b is impregnated, the substrate 10
0 is excellent in rigidity, and low water absorption and high adhesion are obtained;
It has high reliability as a printed wiring board material.

【0042】最後に、図2(h)に示したように、金属
箔106を所定のパターンに選択エッチングして配線層
107を形成し、両面配線基板を完成させた。この場
合、基材100表裏の配線層107は、導電ペースト1
05を介して電気的に接続されていることになる。
Finally, as shown in FIG. 2H, the metal foil 106 was selectively etched into a predetermined pattern to form a wiring layer 107, thereby completing a double-sided wiring board. In this case, the wiring layers 107 on the front and back of the base material 100 are made of the conductive paste 1
05 are electrically connected.

【0043】なお、樹脂層102a、102bの厚さを
それぞれ、10μm、5μmの例で説明したが、樹脂層
102aの厚さは、圧縮量確保のため、5〜10μmの
範囲が好ましく、樹脂層102bの厚さは、導電ペース
ト105と銅箔106との間の密着性の確保のため、5
μm以下であることが好ましい。
Although the thicknesses of the resin layers 102a and 102b have been described as being 10 μm and 5 μm, respectively, the thickness of the resin layer 102a is preferably in the range of 5 to 10 μm in order to secure the compression amount. The thickness of 102b is 5 to ensure the adhesion between the conductive paste 105 and the copper foil 106.
It is preferably not more than μm.

【0044】また、本実施形態では、基材100の厚さ
は100μmとし、配線層107として厚さ12μmの銅
箔を用いた。
In this embodiment, the thickness of the substrate 100 is 100 μm, and the wiring layer 107 is a 12 μm-thick copper foil.

【0045】(実施の形態2)次に、本発明の実施形態
2に係る多層配線基板の製造方法について、図3、4を
参照しながら説明する。まず、図3(a)に示したよう
に、基材200を準備した。基材200は、3枚のガラ
スクロス201が積層されており、隣接する2枚のガラ
スクロス201の間には樹脂層202が挟まれており、
積層されたガラスクロス101の両面にもそれぞれ樹脂
層202が形成されている。樹脂層202は、熱硬化性
のエポキシ樹脂である。各樹脂層202の厚さはそれぞ
れ5μmとした。したがって、基材200の中間部分の
2つの樹脂層202(ガラスクロス201で挟まれた2
つの樹脂層202)の厚さの合計は10μmとなる。ま
た、各樹脂層202は、基材200を圧縮して薄くでき
るように半硬化状態にしておいた。
(Embodiment 2) Next, a method for manufacturing a multilayer wiring board according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 3A, a substrate 200 was prepared. The base material 200 has three glass cloths 201 laminated, and a resin layer 202 is sandwiched between two adjacent glass cloths 201.
Resin layers 202 are formed on both sides of the laminated glass cloth 101, respectively. The resin layer 202 is a thermosetting epoxy resin. The thickness of each resin layer 202 was 5 μm. Therefore, the two resin layers 202 in the middle part of the base material 200 (the two resin layers 202 sandwiched between the glass cloths 201)
The total thickness of the two resin layers 202) is 10 μm. Further, each resin layer 202 was kept in a semi-cured state so that the base material 200 could be compressed and thinned.

【0046】次に、図3(b)に示したように、基材2
00の両面にポリエステル等の離形フィルム203をラ
ミネートした。このラミネートは120℃程度の温度で
行った。これにより、両面の樹脂層202の表面がわず
かに溶融して離形フィルム203を貼り付けることがで
きた。本実施形態では離形フィルムとして16μm厚の
ポリエチレンテレフタレートを用いた。
Next, as shown in FIG.
A release film 203 made of polyester or the like was laminated on both sides of No. 00. This lamination was performed at a temperature of about 120 ° C. As a result, the surfaces of the resin layers 202 on both sides were slightly melted, and the release film 203 could be attached. In this embodiment, a 16 μm thick polyethylene terephthalate is used as the release film.

【0047】次に、図3(c)に示したように、離形フ
ィルム203を設けた基材200にレーザー加工機によ
り貫通孔204を形成した。この貫通孔は、孔径が約1
00μmとなった。
Next, as shown in FIG. 3C, through holes 204 were formed in the substrate 200 provided with the release film 203 by using a laser beam machine. This through hole has a hole diameter of about 1
It became 00 μm.

【0048】次に、図3(d)に示したように、貫通孔
204に導電体である導電ペースト205を充填した。
充填方法は、スクリーン印刷機により、導電ペースト2
05を直接離形フィルム203上から印刷する方法とし
た。この際、印刷面と反対側より和紙等の多孔質シート
を介して真空吸着を行なった。
Next, as shown in FIG. 3D, the through-hole 204 was filled with a conductive paste 205 as a conductor.
The filling method is as follows.
05 was directly printed from the release film 203. At this time, vacuum suction was performed from the side opposite to the printing surface via a porous sheet such as Japanese paper.

【0049】このことにより、貫通孔204内の導電ペ
ースト205中の樹脂成分を吸い取ることができ、導電
ペースト205中の導体成分の割合が増加し、導体成分
を更に緻密に充填することができた。なお、離形フィル
ム203は印刷マスクの役割と樹脂層202表面の汚染
防止の役割を果たしている。
As a result, the resin component in the conductive paste 205 in the through-hole 204 can be sucked, the ratio of the conductive component in the conductive paste 205 increases, and the conductive component can be more densely filled. . Note that the release film 203 plays a role of a print mask and a role of preventing contamination of the surface of the resin layer 202.

【0050】次に、図4(e)に示したように、両面の
離形フィルム203を剥離した。この場合、貫通孔20
4の孔径が微細であるため、離形フィルム203の貫通
孔の内周部と、導電ペースト205の外周部との密着状
態の影響が無視できない。すなわち、離形フィルム20
3の剥離により、離形フィルム203の貫通孔内の導電
ペースト205が、離形フィルム203とともにその一
部又は全部が基材200から剥ぎ取られてしまう場合が
ある。
Next, as shown in FIG. 4E, the release films 203 on both sides were peeled off. In this case, the through hole 20
Since the hole diameter of No. 4 is fine, the influence of the state of adhesion between the inner peripheral portion of the through hole of the release film 203 and the outer peripheral portion of the conductive paste 205 cannot be ignored. That is, the release film 20
Due to the peeling of 3, the conductive paste 205 in the through hole of the release film 203 may be partially or entirely peeled off from the substrate 200 together with the release film 203.

【0051】導電ペースト205の基材200への残り
方は様々であるが、基材200両側の樹脂層202の表
面より下にえぐられることはない。最悪の場合でも樹脂
層202の擦り切れ状態となる。このような離形フィル
ム203により導電ペーストが剥ぎ取られる現象は、孔
径が100μmより小さくなると顕著になる。このた
め、貫通孔の孔径は、本実施形態のように、100μm
以上とすることが好ましい。
The conductive paste 205 may remain on the substrate 200 in various ways, but is not caught below the surface of the resin layer 202 on both sides of the substrate 200. In the worst case, the resin layer 202 is in a worn state. Such a phenomenon that the conductive paste is peeled off by the release film 203 becomes remarkable when the hole diameter is smaller than 100 μm. For this reason, the diameter of the through hole is 100 μm as in the present embodiment.
It is preferable to make the above.

【0052】次に、図4(f)に示したように、基材2
00の両側に金属箔206を重ね合わせ、加熱加圧し
た。加熱加圧は真空プレスにより行った。この加熱加圧
により、図4(g)に示したように、樹脂層202は、
ガラスクロス201内へ流動し、基材200の厚さが薄
くなった。
Next, as shown in FIG.
The metal foil 206 was overlaid on both sides of the sheet No. 00 and heated and pressed. The heating and pressurization was performed by a vacuum press. By this heating and pressing, as shown in FIG. 4 (g), the resin layer 202
It flowed into the glass cloth 201, and the thickness of the substrate 200 became thin.

【0053】ここで、前記のように、基材200の中間
部の2つの樹脂層202の厚さの合計は10μmである
ので、この厚さ分によって、加熱加圧時の圧縮量が確保
されている。すなわち、この加熱加圧により、貫通孔2
04内の導電ペースト205は、少なくとも基材200
の中間部の樹脂層の厚さ分だけ圧縮されることになるの
で、導電ペースト205内の樹脂成分が樹脂層202に
流れ出し、導電ペースト205の導体成分が緻密化され
ることになる。
Here, as described above, since the total thickness of the two resin layers 202 at the intermediate portion of the base material 200 is 10 μm, the amount of compression at the time of heating and pressing is ensured by this thickness. ing. That is, by this heating and pressurizing, the through holes 2
04, at least the base material 200
Therefore, the resin component in the conductive paste 205 flows out into the resin layer 202, and the conductive component of the conductive paste 205 is densified.

【0054】また、基材200の両側の樹脂層202の
厚さを大きくするにつれて、加熱加圧時において、導電
ペースト205のうち、基材200からはみ出した部分
において、圧縮力が横方向(図の左右方向)に分散する
程度が大きくなる。本実施形態では、基材200の両側
の樹脂層202の厚さはそれぞれ5μmと薄いので、こ
のような圧縮力の分散を最小限に抑えることができ、ま
た導電ペースト205と銅箔206との間への樹脂の流
入も抑えることができ、導電ペースト205と銅箔20
6との間の密着性を確保できる。
As the thickness of the resin layers 202 on both sides of the base material 200 is increased, the compressive force in the portion of the conductive paste 205 protruding from the base material 200 during heating and pressurization is increased in the horizontal direction (see FIG. To the left and right directions). In the present embodiment, since the thickness of the resin layers 202 on both sides of the base material 200 is as thin as 5 μm, the dispersion of the compressive force can be minimized, and the conductive paste 205 and the copper foil 206 The flow of resin into the space can be suppressed, and the conductive paste 205 and the copper foil 20 can be prevented from flowing.
6 can be secured.

【0055】このように、本実施形態では、基材200
の中間部の樹脂層202の厚さによって、加熱加圧時の
圧縮量を確保し導電ペースト205の導体成分を緻密化
するとともに、基材200の両側の樹脂層200の厚さ
を基材200の中間部の樹脂層202の合計に比べ薄く
することにより、導電ペースト205と銅箔206との
間の密着性を確保しているので、高信頼性を有するビア
ホール接続が可能となる。
As described above, in the present embodiment, the substrate 200
The thickness of the resin layer 202 at the intermediate portion of the substrate 200 ensures the amount of compression during heating and pressurization, densifies the conductive component of the conductive paste 205, and reduces the thickness of the resin layer 200 on both sides of the substrate 200. Since the adhesiveness between the conductive paste 205 and the copper foil 206 is ensured by making the resin layer 202 thinner than the total of the intermediate resin layer 202, highly reliable via-hole connection is possible.

【0056】前記のような加熱加圧工程を経て、基材2
00と導電ペースト205とが硬化することになる。こ
の場合、ガラスクロス201内には、樹脂層202のエ
ポキシ樹脂が含浸しているので、基材200は、剛性に
優れ、かつ低吸水性、高密着性が得られ、プリント配線
基板材料として高い信頼性を有することになる。
After the heating and pressurizing step as described above, the substrate 2
00 and the conductive paste 205 are cured. In this case, since the epoxy resin of the resin layer 202 is impregnated in the glass cloth 201, the base material 200 has excellent rigidity, low water absorption, and high adhesion, and is high as a printed wiring board material. It will have reliability.

【0057】最後に、図4(h)に示したように、金属
箔206を所定のパターンに選択エッチングして配線層
207を形成し、両面配線基板を完成させた。この場
合、基材200表裏の配線層207は、導電ペースト2
05を介して電気的に接続されていることになる。
Finally, as shown in FIG. 4H, the metal foil 206 was selectively etched into a predetermined pattern to form a wiring layer 207, thereby completing a double-sided wiring board. In this case, the wiring layers 207 on the front and back sides of the base material 200 are made of the conductive paste 2
05 are electrically connected.

【0058】なお、樹脂層202の厚さをそれぞれ5μ
mの例で説明したが、基材200の中間部の樹脂層20
2の厚さの合計は、圧縮量確保のため5〜10μmの範
囲が好ましく、基材200の両側の樹脂層202の厚さ
は、導電ペースト205と銅箔206との間の密着性の
確保のため、それぞれ5μm以下であることが好まし
い。
The thickness of the resin layer 202 is 5 μm each.
m, the resin layer 20 in the middle part of the substrate 200
2 is preferably in the range of 5 to 10 μm in order to secure the amount of compression, and the thickness of the resin layer 202 on both sides of the base material 200 is to ensure the adhesion between the conductive paste 205 and the copper foil 206. Therefore, it is preferable that each is 5 μm or less.

【0059】また、本実施形態では、基材200の厚さ
は150μmとし、配線層207として厚さ12μmの銅
箔を用いた。
In this embodiment, the thickness of the substrate 200 is 150 μm, and the wiring layer 207 is a copper foil having a thickness of 12 μm.

【0060】(実施の形態3)次に本発明の実施形態3
に係る多層配線基板の製造方法について、図5を参照し
ながら説明する。
(Embodiment 3) Next, Embodiment 3 of the present invention.
Will be described with reference to FIG.

【0061】まず、図5(a)に示したように、基材3
00を2枚準備し、コア基板301の両側に基材300
を重ね合わせ、さらにその両側に金属箔303を重ね合
わせ、加熱加圧した。加熱加圧は真空プレスにより行っ
た。
First, as shown in FIG.
And two substrates 300 on both sides of the core substrate 301.
Were overlapped, and a metal foil 303 was further overlapped on both sides thereof, and heated and pressed. The heating and pressurization was performed by a vacuum press.

【0062】基材300は、実施形態1の図2(e)で
示した基材に相当し、基材300は、2枚のガラスクロ
ス302が積層されており、2枚のガラスクロス302
の間には樹脂層304aが挟まれており、積層されたガ
ラスクロス302の両面には、それぞれ樹脂層304b
が形成されており、貫通孔内には導電体である導電ペー
スト305が形成されている。また、コア基板301
は、実施形態1の図2(h)で示した基板に相当し、導
電ペースト305aと配線層306aとが密着してい
る。
The base material 300 corresponds to the base material shown in FIG. 2E of the first embodiment. The base material 300 has two glass cloths 302 laminated on each other.
A resin layer 304a is sandwiched between the glass cloths 302.
Is formed, and a conductive paste 305 which is a conductor is formed in the through-hole. Also, the core substrate 301
Corresponds to the substrate shown in FIG. 2H of the first embodiment, and the conductive paste 305a and the wiring layer 306a are in close contact with each other.

【0063】加熱加圧により、図5(b)に示したよう
に、樹脂層304a、304bは、ガラスクロス302内
に流動し、基材300がそれぞれ薄くなった。さらに、
配線層306aは樹脂層304a内に埋め込まれた。実施
形態1と同様に、本実施形態においても、基材300の
中間部分の樹脂層304aの厚さによって、加熱加圧時
の圧縮量を確保し導電ペースト305の導体成分を緻密
化することができる。
As shown in FIG. 5B, the resin layers 304a and 304b flowed into the glass cloth 302 by heating and pressing, and the base material 300 was thinned. further,
The wiring layer 306a is embedded in the resin layer 304a. As in the first embodiment, also in the present embodiment, depending on the thickness of the resin layer 304a in the intermediate portion of the base material 300, the amount of compression during heating and pressing can be ensured, and the conductive component of the conductive paste 305 can be dense. it can.

【0064】また、基材300の両側の樹脂層304b
の厚さを樹脂層304aに比べ薄くしているので、導電
ペースト305と、銅箔303及び配線層306aとの
間の密着性を確保できる。
The resin layers 304b on both sides of the substrate 300
Is thinner than the resin layer 304a, the adhesion between the conductive paste 305, the copper foil 303 and the wiring layer 306a can be secured.

【0065】前記のような加熱加圧工程を経て、基材3
00と導電ペースト305が硬化することになる。この
場合、ガラスクロス302内には、樹脂層302a、3
02bのエポキシ樹脂が含浸しているので、基材300
は、剛性に優れ、かつ低吸水性、高密着性が得られ、プ
リント配線基板材料として高い信頼性を有することにな
る。
After the heating and pressurizing step as described above, the substrate 3
00 and the conductive paste 305 are cured. In this case, the resin layers 302a, 3
02b is impregnated with the epoxy resin.
Has excellent rigidity, low water absorption and high adhesion, and has high reliability as a printed wiring board material.

【0066】最後に、図5(c)に示したように、金属
箔303を所定のパターンに選択エッチングして配線層
306bを形成し、4面配線基板を完成させた。この場
合、基材200表裏の配線層306bは、導電ペースト
305、及び配線層306aを介して電気的に接続され
ていることになる。
Finally, as shown in FIG. 5C, the metal foil 303 was selectively etched into a predetermined pattern to form a wiring layer 306b, thereby completing a four-sided wiring board. In this case, the wiring layers 306b on the front and back of the base material 200 are electrically connected via the conductive paste 305 and the wiring layer 306a.

【0067】なお、樹脂層304a、304bの厚さを
それぞれ、10μm、5μmの例で説明したが、樹脂層
304aの厚さは、圧縮量確保のため5〜10μmの範
囲が好ましく、樹脂層304bの厚さは、導電ペースト
305と銅箔303との間の密着性の確保のため、5μ
m以下であることが好ましい。
Although the thicknesses of the resin layers 304a and 304b have been described as being 10 μm and 5 μm, respectively, the thickness of the resin layer 304a is preferably in the range of 5 to 10 μm in order to secure the compression amount. Has a thickness of 5 μm to secure adhesion between the conductive paste 305 and the copper foil 303.
m or less.

【0068】また、本実施形態では、基材300の厚さ
は100μmとし、配線層306a、306bとして厚
さ12μmの銅箔を用いた。
In this embodiment, the thickness of the base material 300 is 100 μm, and the wiring layers 306 a and 306 b are copper foil having a thickness of 12 μm.

【0069】(実施の形態4)次に、本発明の実施形態
4に係る多層配線基板の製造方法について、図6を参照
しながら説明する。
(Embodiment 4) Next, a method for manufacturing a multilayer wiring board according to Embodiment 4 of the present invention will be described with reference to FIG.

【0070】まず、図6(a)に示したように、実施形
態1と同様にして作製された図2(h)の基板に相当す
るコア基板401を1枚、1枚のガラスクロス402の
両側に樹脂層404が形成され、貫通孔内に導電体であ
る導電ペースト405が充填された基材400を2枚準
備した。さらに、その両側に金属箔403を重ね合わせ
て積層体を形成し、加熱加圧した。加熱加圧は真空プレ
スにより行った。
First, as shown in FIG. 6A, one core substrate 401 corresponding to the substrate shown in FIG. Two substrates 400 were prepared in which resin layers 404 were formed on both sides and conductive paste 405 as a conductor was filled in the through holes. Further, a metal foil 403 was overlapped on both sides thereof to form a laminate, which was heated and pressed. The heating and pressurization was performed by a vacuum press.

【0071】この加熱加圧により、導電ペースト405
が圧縮され、導電ペースト405内の樹脂成分が樹脂層
404に流れ出し、導電ペースト405中の導体成分が
緻密化することになる。また、図6(b)に示したよう
に、配線層406aと基材400との間の樹脂層404
はガラスクロス402内に流動し、配線層406aは樹
脂層404内に埋め込まれた。
The conductive paste 405 is heated and pressed.
Is compressed, the resin component in the conductive paste 405 flows out to the resin layer 404, and the conductive component in the conductive paste 405 is densified. Further, as shown in FIG. 6B, the resin layer 404 between the wiring layer 406a and the base 400 is formed.
Flowed into the glass cloth 402, and the wiring layer 406a was embedded in the resin layer 404.

【0072】さらに、本実施形態では、配線層406a
の表面の位置は、コア基板401の表面に対して、配線
層406aの厚さ分だけ、高くなっている。したがっ
て、前記のように配線層406aと基材400との間の
樹脂層404がガラスクロス402内に流動した後も、
コア基板401の表面上の樹脂層404を圧縮すること
ができる。このため、本実施形態では、樹脂層404の
厚さ分以上の圧縮量を確保できる。
Further, in this embodiment, the wiring layer 406a
Is higher than the surface of the core substrate 401 by the thickness of the wiring layer 406a. Therefore, even after the resin layer 404 between the wiring layer 406a and the substrate 400 flows into the glass cloth 402 as described above,
The resin layer 404 on the surface of the core substrate 401 can be compressed. Therefore, in the present embodiment, a compression amount equal to or more than the thickness of the resin layer 404 can be secured.

【0073】圧縮量の確保については、前記実施形態3
のように、ガラスクロス間に中間樹脂層を設けた構成が
優れているが、本実施形態では、中間樹脂層を設けてい
ない分、製造が簡略化でき、製造コストも低減させるこ
とができる。
The securing of the compression amount is described in the third embodiment.
As described above, the configuration in which the intermediate resin layer is provided between the glass cloths is excellent. However, in the present embodiment, since the intermediate resin layer is not provided, the manufacturing can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

【0074】さらに、樹脂層404の厚さはそれぞれ5
μmと薄いので、実施形態1と同様に、圧縮力の分散を
最小限に抑えることができ、また導電ペースト405と
銅箔403との間への樹脂の流入も抑えることができ、
導電ペースト405と、銅箔403、配線層406aと
の間の密着性を確保できる。
Further, the thickness of the resin layer 404 is 5
Since the thickness is as thin as μm, the dispersion of the compressive force can be minimized similarly to the first embodiment, and the inflow of resin between the conductive paste 405 and the copper foil 403 can be suppressed.
Adhesion between the conductive paste 405, the copper foil 403, and the wiring layer 406a can be secured.

【0075】前記のような加熱加圧工程を経て、基材4
00と導電ペースト405が硬化することになる。この
場合、ガラスクロス402内には、樹脂層404のエポ
キシ樹脂が含浸しているので、基材400は、コア基板
401と同様に、剛性に優れ、かつ低吸水性、高密着性
が得られ、プリント配線基板材料として高い信頼性を有
することになる。
After the heating and pressurizing step as described above, the substrate 4
00 and the conductive paste 405 are cured. In this case, since the epoxy resin of the resin layer 404 is impregnated in the glass cloth 402, the base material 400 has excellent rigidity, low water absorption, and high adhesion as in the core substrate 401. As a result, the printed wiring board has high reliability.

【0076】最後に、図6(c)に示したように、金属
箔403を所定のパターンに選択エッチングして配線層
406bを形成し、4層配線基板を完成させた。この場
合、基板の表裏の配線層406bは、導電ペースト40
5、及び配線層406aを介して電気的に接続されてい
ることになる。
Finally, as shown in FIG. 6C, the metal foil 403 was selectively etched in a predetermined pattern to form a wiring layer 406b, thereby completing a four-layer wiring board. In this case, the wiring layers 406b on the front and back of the substrate are
5 and the wiring layer 406a.

【0077】本実施形態では、基材400の厚さは60
μmとし、配線層406a、406bとして厚さ5μmの銅
箔を用いた。
In this embodiment, the thickness of the substrate 400 is 60
μm, and 5 μm thick copper foil was used as the wiring layers 406a and 406b.

【0078】(実施の形態5)次に、本発明の実施形態
5に係る多層配線基板の製造方法について、図7を参照
しながら説明する。
(Embodiment 5) Next, a method for manufacturing a multilayer wiring board according to Embodiment 5 of the present invention will be described with reference to FIG.

【0079】まず、図7(a)に示したように、実施形
態1と同様にして作製された図1(h)に相当するのコ
ア基板501を3枚、1枚のガラスクロス502の両側
に樹脂層504が形成され、貫通孔内に導電体である導
電ぺースト505が充填された基材500を2枚準備し
た。さらに、コア基板501の間に基材500をそれぞ
れ挟み込み、加熱加圧した。加熱加圧は真空プレスによ
り行った。
First, as shown in FIG. 7 (a), three core substrates 501 corresponding to FIG. 1 (h) manufactured in the same manner as in the first embodiment were placed on both sides of one glass cloth 502. A resin layer 504 was formed on the substrate, and two base materials 500 in which a conductive paste 505 as a conductor was filled in the through-hole were prepared. Further, the substrates 500 were sandwiched between the core substrates 501, respectively, and heated and pressed. The heating and pressurization was performed by a vacuum press.

【0080】この加熱加圧により、導電ペースト505
が圧縮され、導電ペースト505内の樹脂成分が樹脂層
504に流れ出し、導電ペースト505中の導体成分が
緻密化することになる。また、図7(b)に示したよう
に、配線層506と基材500との間の樹脂層504は
ガラスクロス502内に流動し、配線層506は樹脂層
504内に埋め込まれた。
The heating and pressurization causes the conductive paste 505
Is compressed, the resin component in the conductive paste 505 flows out to the resin layer 504, and the conductive component in the conductive paste 505 is densified. Also, as shown in FIG. 7B, the resin layer 504 between the wiring layer 506 and the base material 500 flowed into the glass cloth 502, and the wiring layer 506 was embedded in the resin layer 504.

【0081】さらに、本実施形態では、配線層506の
表面の位置は、コア基板501の表面に対して、配線層
506の厚さ分だけ、高くなっている。したがって、前
記のように配線層506と基材501との間の樹脂層5
04がガラスクロス502内に流動した後も、コア基板
501の表面上の樹脂層504を圧縮することができ
る。このため、本実施形態では、前記実施形態4と同様
に、樹脂層504の厚さ分以上の圧縮量を確保できる。
Further, in the present embodiment, the position of the surface of the wiring layer 506 is higher than the surface of the core substrate 501 by the thickness of the wiring layer 506. Therefore, as described above, the resin layer 5 between the wiring layer 506 and the substrate 501
Even after 04 flows into the glass cloth 502, the resin layer 504 on the surface of the core substrate 501 can be compressed. For this reason, in the present embodiment, a compression amount equal to or greater than the thickness of the resin layer 504 can be secured, as in the fourth embodiment.

【0082】また、前記実施形態4と同様に、基材50
0に中間層を設けていない分、製造が簡略化でき、製造
コストも低減させることができる。
Further, similarly to the fourth embodiment, the base material 50
Since the intermediate layer is not provided in 0, the production can be simplified and the production cost can be reduced.

【0083】前記のような加熱加圧工程を経て、基材5
00と導電ペースト505が硬化し、配線層506間の
電気的接続が得られ、6層配線基板が完成した。この場
合、ガラスクロス502内には、樹脂層504のエポキ
シ樹脂が含浸しているので、基材500は、コア基板5
01と同様に、剛性に優れ、かつ低吸水性、高密着性が
得られ、プリント配線基板材料として高い信頼性を有す
ることになる。
After the heating and pressurizing step as described above, the substrate 5
00 and the conductive paste 505 were cured, and electrical connection between the wiring layers 506 was obtained, thus completing a six-layer wiring board. In this case, since the glass cloth 502 is impregnated with the epoxy resin of the resin layer 504, the base material 500 is
As in the case of No. 01, excellent rigidity, low water absorption and high adhesion are obtained, and the printed wiring board has high reliability.

【0084】本実施形態では、基材500の厚さは60
μmとし、配線層500として厚さ12μmの銅箔を用い
た。なお、前記実施形態3、及び本実施形態5では、配
線層の厚さが12μmであり、樹脂層の厚さより大きく
なっているが、配線層の形成部分は、基板の平面方向に
ついて見れば部分的な領域に限られるので、このことは
基材と基板との間の密着性には、特別影響を与えない。
In this embodiment, the thickness of the substrate 500 is 60
μm, and a copper foil having a thickness of 12 μm was used as the wiring layer 500. In the third embodiment and the fifth embodiment, the thickness of the wiring layer is 12 μm, which is larger than the thickness of the resin layer. This has no special effect on the adhesion between the substrate and the substrate, since it is limited to a typical area.

【0085】また、前記各実施形態において、基材の厚
さは、各実施形態において示した数値に限るものではな
く、50〜150μmの範囲内であることが好ましい。
このような範囲内であれば、剛性を保ちつつ、薄型で形
容なプリント配線基板を提供できる。
In each of the above embodiments, the thickness of the substrate is not limited to the numerical value shown in each of the embodiments, but is preferably in the range of 50 to 150 μm.
Within such a range, a thin and contoured printed wiring board can be provided while maintaining rigidity.

【0086】また、実施形態3〜5において、多層配線
基板の実施形態について説明したが、基材、及びプリン
ト基板の枚数を増加させれば、さらに多層の配線基板が
得られる。
Further, in the third to fifth embodiments, the embodiments of the multilayer wiring board have been described. However, if the number of bases and printed boards is increased, a multilayer wiring board can be obtained.

【0087】[0087]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ガラス
クロス間の中間部分の樹脂層の厚さによって、加熱加圧
時の圧縮量を確保し導電体の導体成分を緻密化するとと
もに、積層されたガラスクロスの両側の樹脂層により、
導電体と配線層との間の密着性も確保でき、高信頼性を
有するビアホール接続が可能となる。
As described above, according to the present invention, the amount of compression at the time of heating and pressurizing can be ensured and the conductor component of the conductor can be densified by the thickness of the resin layer in the intermediate portion between the glass cloths. By the resin layer on both sides of the laminated glass cloth,
Adhesion between the conductor and the wiring layer can also be ensured, and highly reliable via hole connection can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係る両面配線基板の基材
準備から導電ぺースト充填までの工程断面図
FIG. 1 is a process cross-sectional view from preparation of a base material to filling of a conductive paste of a double-sided wiring board according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1に係るプリント配線基板の
離型フィルム剥離からプリント配線基板完成までの工程
断面図
FIG. 2 is a process cross-sectional view from peeling of a release film of the printed wiring board to completion of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態2に係るプリント配線基板の
基材準備から導電ぺースト充填までの工程断面図
FIG. 3 is a process cross-sectional view from preparation of a base material of a printed wiring board to filling of a conductive paste according to the second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態2に係るプリント配線基板の
離型フィルム剥離からプリント配線基板完成までの工程
断面図
FIG. 4 is a process cross-sectional view from peeling of a release film of the printed wiring board to completion of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態3に係る多層配線基板の基材
準備から多層配線基板完成までまでの工程断面図
FIG. 5 is a process sectional view from preparation of a base material of the multilayer wiring board to completion of the multilayer wiring board according to Embodiment 3 of the present invention.

【図6】本発明の実施形態4に係る多層配線基板の基材
準備から多層配線基板完成までまでの工程断面図
FIG. 6 is a process cross-sectional view from preparation of a base material of the multilayer wiring board to completion of the multilayer wiring board according to Embodiment 4 of the present invention.

【図7】本発明の実施形態5に係る多層配線基板の基材
準備から多層配線基板完成までの工程断面図
FIG. 7 is a process sectional view from preparation of a base material of a multilayer wiring board to completion of the multilayer wiring board according to Embodiment 5 of the present invention.

【図8】従来のプリント配線基板に係る離型フィルムの
ラミネートから基材圧縮工程までの一例の工程断面図
FIG. 8 is a process cross-sectional view showing an example of a conventional process from laminating a release film to a printed wiring board to compressing a base material.

【図9】従来のプリント配線基板に係る金属箔エッチン
グ工程からプリント配線基板完成までの一例の工程断面
FIG. 9 is a process cross-sectional view of an example from a conventional metal foil etching process for a printed wiring board to completion of the printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,200,300,400,500 電気絶縁性
基材 101,201,302,402,502 ガラスクロ
ス 102a,102b,202,304a,304b,4
04 樹脂層 103,203, 離形フィルム 104,204 貫通孔 105,205,305,405,505 導電ペース
ト 106,206,303,403 金属箔 107,207,306a,306b,406a,40
6b,506 配線層 401,501 コア基板
100, 200, 300, 400, 500 Electrically insulating substrate 101, 201, 302, 402, 502 Glass cloth 102a, 102b, 202, 304a, 304b, 4
04 Resin layers 103, 203, release films 104, 204 Through holes 105, 205, 305, 405, 505 Conductive pastes 106, 206, 303, 403 Metal foils 107, 207, 306a, 306b, 406a, 40
6b, 506 Wiring layer 401, 501 Core substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上田 洋二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB02 BB12 CD25 CD32 GG03 GG11 5E346 CC04 CC05 CC09 CC32 CC55 DD12 EE09 FF18 GG15 HH07 HH11  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yoji Ueda 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture F-term (reference) in Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 5E317 AA24 BB02 BB12 CD25 CD32 GG03 GG11 5E346 CC04 CC05 CC09 CC32 CC55 DD12 EE09 FF18 GG15 HH07 HH11

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気絶縁性基材と、前記電気絶縁性基材
の厚さ方向に貫通した貫通孔に充填された導電体と、前
記電気絶縁性基材の両面に形成された配線層とを備え、
前記電気絶縁性基材の加熱加圧により、前記両面の配線
層が前記導電体を介して電気的に接続されているプリン
ト配線基板であって、 前記加熱加圧前における前記電気絶縁性基材は、少なく
とも2枚のガラスクロスが積層され、隣接する前記ガラ
スクロスの間と、前記積層されたガラスクロスの両面と
に樹脂層が形成されており、前記加熱加圧により、前記
各樹脂層の樹脂が前記ガラスクロスに含侵していること
を特徴とするプリント配線基板。
An electric insulating base material, a conductor filled in a through hole penetrating in a thickness direction of the electric insulating base material, and wiring layers formed on both surfaces of the electric insulating base material. With
A printed wiring board in which the wiring layers on both surfaces are electrically connected via the conductor by heating and pressurizing the electrically insulating base material, wherein the electrically insulating base material before the heating and pressing is applied. A resin layer is formed between at least two glass cloths, between adjacent glass cloths, and on both surfaces of the laminated glass cloths, A printed wiring board, wherein a resin impregnates the glass cloth.
【請求項2】 前記隣接するガラスクロスの間に形成さ
れた樹脂層の厚さは、前記積層されたガラスクロスの両
面に形成された樹脂層の厚さより大きい請求項1に記載
のプリント配線基板。
2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the thickness of the resin layer formed between the adjacent glass cloths is larger than the thickness of the resin layers formed on both sides of the laminated glass cloth. .
【請求項3】 前記隣接するガラスクロスの間の樹脂層
の厚さは、5〜10μmの範囲内である請求項1又は2
に記載のプリント配線基板。
3. The thickness of the resin layer between the adjacent glass cloths is in the range of 5 to 10 μm.
A printed wiring board according to claim 1.
【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載のプリ
ント配線基板を複数枚積層し、配線が多層に形成された
プリント配線基板。
4. A printed wiring board in which a plurality of printed wiring boards according to claim 1 are stacked and wiring is formed in multiple layers.
【請求項5】 少なくとも2枚のガラスクロスが積層さ
れ、隣接する前記ガラスクロスの間と、前記積層された
ガラスクロスの両面とに樹脂層が形成された電気絶縁性
基材に貫通孔を設ける工程と、 前記貫通孔に導電体を充填する工程と、前記電気絶縁性
基材の両面に金属箔を重ねる工程と、前記電気絶縁性基
材を加熱加圧して、前記隣接するガラスクロスの間の樹
脂層を薄くして前記導電体を圧縮する工程と、前記金属
箔を所定パターンに形成して配線層を形成する工程とを
備えたことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。
5. At least two glass cloths are laminated, and a through-hole is provided in an electrically insulating base material having a resin layer formed between adjacent glass cloths and on both surfaces of the laminated glass cloths. A step of filling the through hole with a conductor, a step of laminating a metal foil on both surfaces of the electrically insulating substrate, and heating and pressing the electrically insulating substrate to form a gap between the adjacent glass cloths. A method of forming a wiring layer by forming the metal foil into a predetermined pattern by thinning the resin layer and compressing the conductor.
【請求項6】 前記隣接するガラスクロスの間に形成さ
れた樹脂層の厚さは、前記積層されたガラスクロスの両
面に形成された樹脂層の厚さより大きい請求項5に記載
のプリント配線基板の製造方法。
6. The printed wiring board according to claim 5, wherein the thickness of the resin layer formed between the adjacent glass cloths is larger than the thickness of the resin layers formed on both sides of the laminated glass cloth. Manufacturing method.
【請求項7】 前記電気絶縁性基材の厚さは、50〜1
50μmの範囲内である請求項5又は6に記載のプリン
ト配線基板の製造方法。
7. The thickness of the electrically insulating substrate is 50 to 1
The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, wherein the thickness is within a range of 50 μm.
【請求項8】 前記隣接するガラスクロスの間の樹脂層
の厚さは、5〜10μmの範囲内である請求項5から7
のいずれかに記載のプリント配線基板の製造方法。
8. The resin layer between the adjacent glass cloths has a thickness of 5 to 10 μm.
The method for manufacturing a printed wiring board according to any one of the above.
【請求項9】 前記導電体は、導電ペーストである請求
項5から8のいずれかに記載のプリント配線基板の製造
方法。
9. The method according to claim 5, wherein the conductor is a conductive paste.
【請求項10】 前記貫通孔を、レーザー加工機によっ
て形成する請求項5から9のいずれかに記載のプリント
配線基板の製造方法。
10. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, wherein said through hole is formed by a laser beam machine.
【請求項11】 請求項5から10のいずれかに記載の
プリント配線基板の製造方法を用いて製造されたプリン
ト配線基板の両側に、少なくとも2枚のガラスクロスが
積層され、隣接する前記ガラスクロスの間と、前記積層
されたガラスクロスの両面とに樹脂層が形成され、厚さ
方向に形成された貫通孔に導電体が充填されている第2
の電気絶縁性基材を重ね合わせ、前記第2の電気絶縁性
基材の表面に金属箔を貼り付けて積層体を形成する工程
と、 前記積層体を加熱加圧して、前記第2の電気絶縁性基材
の前記隣接するガラスクロスの間に形成された樹脂層を
薄くして前記第2の電気絶縁性基材の導電体を圧縮する
工程と、 前記金属箔を所定のパターンに形成して配線層を形成す
る工程とを有する配線が多層に形成されたプリント配線
基板の製造方法。
11. A printed wiring board manufactured by using the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, wherein at least two glass cloths are laminated on both sides of the printed wiring board, and the adjacent glass cloths are stacked. And a resin layer is formed on both sides of the laminated glass cloth, and a through hole formed in the thickness direction is filled with a conductor.
Forming a laminate by laminating the electrically insulative base materials and bonding a metal foil to the surface of the second electrically insulative base material; A step of thinning a resin layer formed between the adjacent glass cloths of the insulating base material to compress the conductor of the second electrically insulating base material; and forming the metal foil in a predetermined pattern. Forming a wiring layer by forming a wiring layer.
【請求項12】 請求項5から10のいずれかに記載の
プリント配線基板の製造方法を用いて製造されたプリン
ト配線基板の両側に、ガラスクロスの両側に樹脂層が形
成され、厚さ方向に形成された貫通孔に導電体が充填さ
れている第2の電気絶縁性基材を重ね合わせ、前記第2
の電気絶縁性基材の表面に金属箔を貼り付けて積層体を
形成する工程と、 前記積層体を加熱加圧して前記第2の電気絶縁性基材の
導電体を圧縮する工程と、前記金属箔を所定のパターン
に形成して配線層を形成する工程とを有する配線が多層
に形成されたプリント配線基板の製造方法。
12. A resin layer is formed on both sides of a glass cloth on both sides of a printed wiring board manufactured by using the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, and is formed in a thickness direction. A second electrically insulating substrate filled with a conductor is overlapped on the formed through hole, and the second
Attaching a metal foil to the surface of the electrically insulating base material to form a laminate; and heating and pressing the laminate to compress the conductor of the second electrically insulating base material, Forming a wiring pattern by forming a metal foil in a predetermined pattern to form a wiring layer.
【請求項13】 請求項5から10のいずれかに記載の
プリント配線基板の製造方法によって形成された少なく
とも2枚のプリント配線基板の間に、ガラスクロスの両
側に樹脂層が形成され、厚さ方向に形成された貫通孔に
導電体が充填されている第2の電気絶縁性基材を配置し
て積層体を形成する工程と、前記積層体を加熱加圧して
前記第2の電気絶縁性基材の導電体を圧縮する工程とを
有する配線が多層に形成されたプリント配線基板の製造
方法。
13. A resin layer is formed on at least two sides of a glass cloth between at least two printed wiring boards formed by the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, and has a thickness. Disposing a second electrically insulating base material filled with a conductor in a through hole formed in a direction to form a laminate, and heating and pressurizing the laminate to produce a second electrically insulating material. A method of manufacturing a printed wiring board in which wiring is formed in multiple layers, the method including a step of compressing a conductor of a base material.
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WO2004043120A1 (en) * 2002-11-06 2004-05-21 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method for manufacturing resin substrate, method for manufacturing multilayer resin substrate, and resin substrate
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JP2008060119A (en) * 2006-08-29 2008-03-13 Victor Co Of Japan Ltd Printed wiring board

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