JP2002310330A - 吸着搬送用電磁弁 - Google Patents
吸着搬送用電磁弁Info
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- JP2002310330A JP2002310330A JP2001114049A JP2001114049A JP2002310330A JP 2002310330 A JP2002310330 A JP 2002310330A JP 2001114049 A JP2001114049 A JP 2001114049A JP 2001114049 A JP2001114049 A JP 2001114049A JP 2002310330 A JP2002310330 A JP 2002310330A
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- Hooks, Suction Cups, And Attachment By Adhesive Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークを吸着搬送する1つの真空吸着具に対
する真空状態と真空破壊状態との切り換えを1つの電磁
弁によって行い得るようにする。 【解決手段】 電磁弁本体10には出力ポート19a,
19bを真空ポートに連通する位置と真空破壊ポートに
連通する位置とに切り替える主弁軸16が設けられる。
電磁弁本体10には接続ポート51a,51bを有する
流量調整ブロック40が取り付けられ、流量調整ブロッ
ク40には出力ポート19a,19bと接続ポート51
a,51bとをそれぞれ連通する流路面積の大きい主流
路としての中空孔43a,43bと小さいバイパス流路
としての漏れ隙間55a,55bとが形成される。接続
ポート51a,51bに接続されたバキュームパッドに
ワークが接触しないときには、中空孔43a,43bが
閉塞されて漏れ隙間55a、55bのみが開放され、ワ
ークが接触すると中空孔43a,43bが開放される。
する真空状態と真空破壊状態との切り換えを1つの電磁
弁によって行い得るようにする。 【解決手段】 電磁弁本体10には出力ポート19a,
19bを真空ポートに連通する位置と真空破壊ポートに
連通する位置とに切り替える主弁軸16が設けられる。
電磁弁本体10には接続ポート51a,51bを有する
流量調整ブロック40が取り付けられ、流量調整ブロッ
ク40には出力ポート19a,19bと接続ポート51
a,51bとをそれぞれ連通する流路面積の大きい主流
路としての中空孔43a,43bと小さいバイパス流路
としての漏れ隙間55a,55bとが形成される。接続
ポート51a,51bに接続されたバキュームパッドに
ワークが接触しないときには、中空孔43a,43bが
閉塞されて漏れ隙間55a、55bのみが開放され、ワ
ークが接触すると中空孔43a,43bが開放される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子部品を真空吸着
して搬送する吸着搬送具に対する真空の供給を制御する
吸着搬送用電磁弁に関する。
して搬送する吸着搬送具に対する真空の供給を制御する
吸着搬送用電磁弁に関する。
【0002】
【従来の技術】電子部品を実装基板に自動的に組み付け
るために、多数の電子部品を収容した部品供給ステージ
と、実装基板との間にバキュームパッド、つまり真空吸
着具を往復動させるようにした吸着搬送装置が用いられ
ている。バキュームパッドは可撓性のチューブにより形
成される吸着パイプの先端に設けられており、バキュー
ムパッドによりワークである電子部品を部品供給ステー
ジで吸着するときには、吸着パイプを介してバキューム
パッドには真空つまり負圧空気が供給される。一方、吸
着されたワークをバキュームパッドから外す際には、バ
キュームパッドには真空状態を解除するために吸着パイ
プを介して大気圧の空気を供給するようにしたり、大気
圧よりも高い正圧の空気が供給される。
るために、多数の電子部品を収容した部品供給ステージ
と、実装基板との間にバキュームパッド、つまり真空吸
着具を往復動させるようにした吸着搬送装置が用いられ
ている。バキュームパッドは可撓性のチューブにより形
成される吸着パイプの先端に設けられており、バキュー
ムパッドによりワークである電子部品を部品供給ステー
ジで吸着するときには、吸着パイプを介してバキューム
パッドには真空つまり負圧空気が供給される。一方、吸
着されたワークをバキュームパッドから外す際には、バ
キュームパッドには真空状態を解除するために吸着パイ
プを介して大気圧の空気を供給するようにしたり、大気
圧よりも高い正圧の空気が供給される。
【0003】このため、吸着搬送装置にはバキュームパ
ッドに対して真空を供給する状態と真空の供給を停止す
る状態とに流路を切り換える電磁弁と、大気圧ないしこ
れよりも高い圧力の空気を供給する状態と供給を停止さ
せる状態とに流路を切り換える電磁弁との2つの電磁弁
が用いられている。
ッドに対して真空を供給する状態と真空の供給を停止す
る状態とに流路を切り換える電磁弁と、大気圧ないしこ
れよりも高い圧力の空気を供給する状態と供給を停止さ
せる状態とに流路を切り換える電磁弁との2つの電磁弁
が用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】1つの電磁弁によりバ
キュームパッドに対する真空の供給と真空破壊との切り
換えを行うことができれば、真空搬送装置の軽量小型化
が達成される。しかしながら、バキュームパッドに接続
される出力ポートを、真空源に接続された真空ポートと
正圧供給源に接続された真空破壊ポートとに切り換える
ようにした3ポート電磁弁により流路の切り換えを行う
ようにすると、真空ポートと真空破壊ポートのいずれか
は常に出力ポートに連通した状態となる。このため、真
空破壊時以外には常に真空ポートを出力ポートに連通し
た状態とすると、不必要なときにも常にバキュームパッ
ド内は負圧状態となり、空気が流入することになる。
キュームパッドに対する真空の供給と真空破壊との切り
換えを行うことができれば、真空搬送装置の軽量小型化
が達成される。しかしながら、バキュームパッドに接続
される出力ポートを、真空源に接続された真空ポートと
正圧供給源に接続された真空破壊ポートとに切り換える
ようにした3ポート電磁弁により流路の切り換えを行う
ようにすると、真空ポートと真空破壊ポートのいずれか
は常に出力ポートに連通した状態となる。このため、真
空破壊時以外には常に真空ポートを出力ポートに連通し
た状態とすると、不必要なときにも常にバキュームパッ
ド内は負圧状態となり、空気が流入することになる。
【0005】一方、比較的大きいサイズの電子部品を吸
着搬送する場合には、複数のバキュームパッドを同時に
吸着することになる。それぞれのバキュームパッドに対
して共通の真空流路から分岐させて真空を供給する場合
には、複数のバキュームパッドのうち1つでも電子部品
に完全に接触しない状態が発生すると、他のバキューム
パッドも所定の真空度とならなくなるので、電子部品を
確実に吸着搬送することができなくなる。
着搬送する場合には、複数のバキュームパッドを同時に
吸着することになる。それぞれのバキュームパッドに対
して共通の真空流路から分岐させて真空を供給する場合
には、複数のバキュームパッドのうち1つでも電子部品
に完全に接触しない状態が発生すると、他のバキューム
パッドも所定の真空度とならなくなるので、電子部品を
確実に吸着搬送することができなくなる。
【0006】本発明の1つの目的は、ワークを吸着搬送
する1つの真空吸着具に対する真空状態と真空破壊状態
との切り換えを1つの電磁弁によって行い得るようにす
ることにある。
する1つの真空吸着具に対する真空状態と真空破壊状態
との切り換えを1つの電磁弁によって行い得るようにす
ることにある。
【0007】本発明の他の目的は、共通の真空路に連通
する複数の真空吸着具によってワークを吸着搬送する際
に、1つの真空吸着具内に外気が流入しても、他の真空
吸着具を所定の真空度に保持し、確実にワークを搬送し
得るようにすることにある。
する複数の真空吸着具によってワークを吸着搬送する際
に、1つの真空吸着具内に外気が流入しても、他の真空
吸着具を所定の真空度に保持し、確実にワークを搬送し
得るようにすることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の吸着搬送用電磁
弁は、真空供給源に連通される真空ポートと大気圧ない
しそれよりも高い圧力に設定される真空破壊ポートと出
力ポートとが形成される電磁弁本体と、前記電磁弁本体
に移動自在に装着され、前記出力ポートを前記真空ポー
トに連通する位置と前記真空破壊ポートに連通する位置
とに切り換える主弁軸と、接続ポートとを有し、前記接
続ポートと前記出力ポートとをそれぞれ連通する流路面
積の大きい主流路と小さいバイパス流路とが形成されて
前記電磁弁弁体に設けられた流量調整ブロックと、前記
接続ポートに吸着流路を介して接続される真空吸着具
と、前記流量調整ブロック内に設けられ、前記真空吸着
具にワークが接触したときには前記主流路を開放して前
記主流路と前記バイパス流路とを前記接続ポートに連通
させる位置と、前記真空吸着具にワークが接触しないと
きには前記主流路を閉塞して前記バイパス流路と前記接
続ポートとを連通させる位置とに作動する弁体とを有す
ることを特徴とする。
弁は、真空供給源に連通される真空ポートと大気圧ない
しそれよりも高い圧力に設定される真空破壊ポートと出
力ポートとが形成される電磁弁本体と、前記電磁弁本体
に移動自在に装着され、前記出力ポートを前記真空ポー
トに連通する位置と前記真空破壊ポートに連通する位置
とに切り換える主弁軸と、接続ポートとを有し、前記接
続ポートと前記出力ポートとをそれぞれ連通する流路面
積の大きい主流路と小さいバイパス流路とが形成されて
前記電磁弁弁体に設けられた流量調整ブロックと、前記
接続ポートに吸着流路を介して接続される真空吸着具
と、前記流量調整ブロック内に設けられ、前記真空吸着
具にワークが接触したときには前記主流路を開放して前
記主流路と前記バイパス流路とを前記接続ポートに連通
させる位置と、前記真空吸着具にワークが接触しないと
きには前記主流路を閉塞して前記バイパス流路と前記接
続ポートとを連通させる位置とに作動する弁体とを有す
ることを特徴とする。
【0009】本発明の吸着搬送用電磁弁は、前記主流路
を形成して前記弁体が接触すると前記主流路を閉塞する
弁座を有し、前記弁座と前記流量調整ブロックとの間に
形成される漏れ隙間を前記バイパス流路としたことを特
徴とする。また、前記弁体を前記弁座から離す方向にば
ね力を加えるばね部材を前記流量調整ブロックに装着
し、前記弁体が前記弁座から離れたときに前記弁体の開
放位置を規制するストッパを前記流量調整ブロックに設
けたことを特徴とする。
を形成して前記弁体が接触すると前記主流路を閉塞する
弁座を有し、前記弁座と前記流量調整ブロックとの間に
形成される漏れ隙間を前記バイパス流路としたことを特
徴とする。また、前記弁体を前記弁座から離す方向にば
ね力を加えるばね部材を前記流量調整ブロックに装着
し、前記弁体が前記弁座から離れたときに前記弁体の開
放位置を規制するストッパを前記流量調整ブロックに設
けたことを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の一実施の形
態である吸着搬送用電磁弁を示す斜視図であり、図2は
図1におけるA−A線に沿う断面図である。
に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の一実施の形
態である吸着搬送用電磁弁を示す斜視図であり、図2は
図1におけるA−A線に沿う断面図である。
【0011】図1に示す吸着搬送用電磁弁は、厚みが薄
く全体的に直方体形状となった4つの電磁弁本体10を
有し、これらの電磁弁本体10は積層されて電磁弁集合
体が形成されている。電磁弁集合体の両端部にはエンド
ブロック11,12が配置され、ボルト13によってエ
ンドブロック11,12と4つの電磁弁本体10は締結
されている。
く全体的に直方体形状となった4つの電磁弁本体10を
有し、これらの電磁弁本体10は積層されて電磁弁集合
体が形成されている。電磁弁集合体の両端部にはエンド
ブロック11,12が配置され、ボルト13によってエ
ンドブロック11,12と4つの電磁弁本体10は締結
されている。
【0012】それぞれの電磁弁本体10には、図2に示
すように、中央部分に長手方向に弁孔14が形成された
主弁ブロック15を有し、主弁ブロック15には弁孔1
4内に軸方向に往復動自在に主弁軸16が装着されてい
る。弁孔14に連通して主弁ブロック15には、真空供
給孔17と2つの真空破壊孔18a,18bと、2つの
出力ポート19a,19bとが形成されており、4つの
主弁ブロック15を積層すると、真空供給孔17によっ
て真空供給通路が形成され、同様に、それぞれの真空破
壊孔18a,18bによってそれぞれ真空破壊路が形成
される。
すように、中央部分に長手方向に弁孔14が形成された
主弁ブロック15を有し、主弁ブロック15には弁孔1
4内に軸方向に往復動自在に主弁軸16が装着されてい
る。弁孔14に連通して主弁ブロック15には、真空供
給孔17と2つの真空破壊孔18a,18bと、2つの
出力ポート19a,19bとが形成されており、4つの
主弁ブロック15を積層すると、真空供給孔17によっ
て真空供給通路が形成され、同様に、それぞれの真空破
壊孔18a,18bによってそれぞれ真空破壊路が形成
される。
【0013】図1に示すように、電磁弁集合体の両端部
にはそれぞれ給排ブロック21,22が配置され、両方
の給排ブロック21,22にはそれぞれの電磁弁本体1
0の真空供給孔17に連通する真空ポート23a,23
bが形成されており、いずれか一方の真空ポート、たと
えば真空ポート23aに真空ポンプなどの真空供給源を
接続することにより、それぞれの真空供給孔17を真空
供給源に接続させることができる。真空供給源に接続さ
れない他方の真空ポートは閉塞されることになる。給排
ブロック22には真空破壊孔18aに連通する真空破壊
ポート24aが形成され、他方の給排ブロック21には
真空破壊孔18bに連通する真空破壊ポート24bが形
成されている。真空破壊ポート24a,24bは大気に
開放させるようにしても良く、空気圧源に接続して大気
圧以上の正圧空気を供給するようにしても良い。
にはそれぞれ給排ブロック21,22が配置され、両方
の給排ブロック21,22にはそれぞれの電磁弁本体1
0の真空供給孔17に連通する真空ポート23a,23
bが形成されており、いずれか一方の真空ポート、たと
えば真空ポート23aに真空ポンプなどの真空供給源を
接続することにより、それぞれの真空供給孔17を真空
供給源に接続させることができる。真空供給源に接続さ
れない他方の真空ポートは閉塞されることになる。給排
ブロック22には真空破壊孔18aに連通する真空破壊
ポート24aが形成され、他方の給排ブロック21には
真空破壊孔18bに連通する真空破壊ポート24bが形
成されている。真空破壊ポート24a,24bは大気に
開放させるようにしても良く、空気圧源に接続して大気
圧以上の正圧空気を供給するようにしても良い。
【0014】主弁軸16には流路の切り換えを行うスプ
ール弁体16aが設けられ、主弁軸16が図2において
右側に移動すると、真空源に接続された真空ポート23
aと出力ポート19aとが連通状態となり、出力ポート
19bと真空破壊ポート24bとが連通状態となる。こ
れに対して、主弁軸16が左側に移動すると、出力ポー
ト19aと真空破壊ポート24aとが連通状態となり、
出力ポート19bと真空ポート23aとが連通状態とな
る。
ール弁体16aが設けられ、主弁軸16が図2において
右側に移動すると、真空源に接続された真空ポート23
aと出力ポート19aとが連通状態となり、出力ポート
19bと真空破壊ポート24bとが連通状態となる。こ
れに対して、主弁軸16が左側に移動すると、出力ポー
ト19aと真空破壊ポート24aとが連通状態となり、
出力ポート19bと真空ポート23aとが連通状態とな
る。
【0015】図2に示すように、主弁ブロック15の端
面にはアダプタ25が取り付けられ、このアダプタ25
内に形成された大径空気圧室26内には大径ピストン2
6aが軸方向に摺動自在に収容され、この大径ピストン
26aは主弁軸16の一方の端面に接触するようになっ
ている。主弁軸16の他端部は小径ピストン27aとな
っており、この小径ピストン27aは弁孔14の端部に
より形成される小径空気圧室27内を摺動する。
面にはアダプタ25が取り付けられ、このアダプタ25
内に形成された大径空気圧室26内には大径ピストン2
6aが軸方向に摺動自在に収容され、この大径ピストン
26aは主弁軸16の一方の端面に接触するようになっ
ている。主弁軸16の他端部は小径ピストン27aとな
っており、この小径ピストン27aは弁孔14の端部に
より形成される小径空気圧室27内を摺動する。
【0016】アダプタ25にはパイロット弁組立体28
が取り付けられており、このパイロット弁組立体28
は、ソレノイド部を有し、それぞれの空気圧室26,2
7に対するパイロット空気圧の供給を制御する。エンド
ブロック11には、それぞれの電磁弁本体10の空気圧
室26,27に圧縮空気を供給するための給気ポート3
1が設けられ、この給気ポート31は図2に示す給気路
32により小径空気圧室27に連通されるとともに、パ
イロット圧供給路33に接続されている。したがって、
図示する場合には、小径空気圧室27には常時圧縮空気
が供給されており、この小径空気圧室27に加わる空気
圧により主弁軸16には図2において左側に駆動されて
いる。
が取り付けられており、このパイロット弁組立体28
は、ソレノイド部を有し、それぞれの空気圧室26,2
7に対するパイロット空気圧の供給を制御する。エンド
ブロック11には、それぞれの電磁弁本体10の空気圧
室26,27に圧縮空気を供給するための給気ポート3
1が設けられ、この給気ポート31は図2に示す給気路
32により小径空気圧室27に連通されるとともに、パ
イロット圧供給路33に接続されている。したがって、
図示する場合には、小径空気圧室27には常時圧縮空気
が供給されており、この小径空気圧室27に加わる空気
圧により主弁軸16には図2において左側に駆動されて
いる。
【0017】大径空気圧室26にはパイロット圧出力路
34と主弁排気路58とがそれぞれが連通されており、
パイロット圧出力路34のほぼ中央位置には急速排気弁
29が設けられ、主弁排気路58には分岐する形で逆止
弁30を有する主弁排気口59が設けられる。
34と主弁排気路58とがそれぞれが連通されており、
パイロット圧出力路34のほぼ中央位置には急速排気弁
29が設けられ、主弁排気路58には分岐する形で逆止
弁30を有する主弁排気口59が設けられる。
【0018】ソレノイド部への給電によりパイロット圧
供給路33とパイロット圧出力路34とを連通させてパ
イロット排気路35を閉じる状態と、給電を解くとパイ
ロット圧供給路33を閉じてパイロット圧出力路34と
パイロット排気路35とを連通させる状態とに作動する
図示しないパイロット弁がパイロット弁組立体28に組
み込まれている。
供給路33とパイロット圧出力路34とを連通させてパ
イロット排気路35を閉じる状態と、給電を解くとパイ
ロット圧供給路33を閉じてパイロット圧出力路34と
パイロット排気路35とを連通させる状態とに作動する
図示しないパイロット弁がパイロット弁組立体28に組
み込まれている。
【0019】したがって、パイロット弁のソレノイド部
に給電すると、パイロット圧供給路33を介して給気ポ
ート31からの圧縮空気が大径空気圧室26に供給さ
れ、小径空気圧室27の圧縮空気により主弁軸16に加
わる推力に抗して大径空気圧室26に加わる圧力によっ
て主弁軸16は図2において右側に駆動され、大径ピス
トン26aの右側端面により押し出される空気は主弁排
気路58を流れ主弁排気口59より排出される。一方、
ソレノイド部に対する給電を解くと、パイロット圧出力
路34とパイロット排気路35とが連通され大径空気圧
室26の圧力が低下し、小径空気圧室27に加わる圧力
によって主弁軸16は図2において左側に駆動され、大
径ピストン26aの左側端面により押し出される空気は
急速排気弁29により主弁排気路58に案内され主弁排
気口59より排出される。
に給電すると、パイロット圧供給路33を介して給気ポ
ート31からの圧縮空気が大径空気圧室26に供給さ
れ、小径空気圧室27の圧縮空気により主弁軸16に加
わる推力に抗して大径空気圧室26に加わる圧力によっ
て主弁軸16は図2において右側に駆動され、大径ピス
トン26aの右側端面により押し出される空気は主弁排
気路58を流れ主弁排気口59より排出される。一方、
ソレノイド部に対する給電を解くと、パイロット圧出力
路34とパイロット排気路35とが連通され大径空気圧
室26の圧力が低下し、小径空気圧室27に加わる圧力
によって主弁軸16は図2において左側に駆動され、大
径ピストン26aの左側端面により押し出される空気は
急速排気弁29により主弁排気路58に案内され主弁排
気口59より排出される。
【0020】図2に示す場合には、1つのパイロット弁
によって主弁軸16を軸方向に往復動させるようにして
いるが、2つのパイロット弁をパイロット弁組立体28
に組み付けることにより、それぞれの空気圧室26,2
7に対するパイロット空気圧の供給と供給停止とを別々
のパイロット弁により行うようにしても良い。このよう
にして、それぞれの電磁弁本体10はパイロット圧によ
り作動する5ポート2位置電磁弁となっている。
によって主弁軸16を軸方向に往復動させるようにして
いるが、2つのパイロット弁をパイロット弁組立体28
に組み付けることにより、それぞれの空気圧室26,2
7に対するパイロット空気圧の供給と供給停止とを別々
のパイロット弁により行うようにしても良い。このよう
にして、それぞれの電磁弁本体10はパイロット圧によ
り作動する5ポート2位置電磁弁となっている。
【0021】図2に示すように、主弁ブロック15の端
面にはアダプタ36を介して連通ブロック37が取り付
けられ、この連通ブロック37には逆止弁ブロック38
を介してポートブロック39が取り付けられており、こ
れらのブロック37〜39によって流量調整ブロック4
0が形成されている。連通ブロック37に形成された2
つの収容孔41a,41bにはそれぞれ円筒形状の弁座
42a,42bが取り付けられ、弁座42a,42bの
中空孔43a,43bは主流路となっている。それぞれ
の弁座42a,42bに形成された連通孔44a,44
bは連通ブロック37に形成された連通流路45a,4
5bを介して出力ポート19a,19bに連通されると
ともに、それぞれの連通孔44a,44bは中空孔43
a,43bに連通されている。
面にはアダプタ36を介して連通ブロック37が取り付
けられ、この連通ブロック37には逆止弁ブロック38
を介してポートブロック39が取り付けられており、こ
れらのブロック37〜39によって流量調整ブロック4
0が形成されている。連通ブロック37に形成された2
つの収容孔41a,41bにはそれぞれ円筒形状の弁座
42a,42bが取り付けられ、弁座42a,42bの
中空孔43a,43bは主流路となっている。それぞれ
の弁座42a,42bに形成された連通孔44a,44
bは連通ブロック37に形成された連通流路45a,4
5bを介して出力ポート19a,19bに連通されると
ともに、それぞれの連通孔44a,44bは中空孔43
a,43bに連通されている。
【0022】逆止弁ブロック38にはそれぞれ弁座42
a,42bの先端部が入り込む弁体収容孔46a,46
bが形成されており、弁座42a,42bに接触して主
流路としての中空孔43a,43bを閉じる位置と、弁
座42a,42bから離れて中空孔43a,43bを開
く位置とに作動する弁体47a,47bが組み込まれて
いる。それぞれの弁体47a,47bは鋼球、樹脂製ま
たはゴム製の球体からなり、弁座42a,42b内に組
み込まれた圧縮コイルばね48a,48bにより弁体4
7a,47bには中空孔43a,43bを開く方向のば
ね力が加えられている。
a,42bの先端部が入り込む弁体収容孔46a,46
bが形成されており、弁座42a,42bに接触して主
流路としての中空孔43a,43bを閉じる位置と、弁
座42a,42bから離れて中空孔43a,43bを開
く位置とに作動する弁体47a,47bが組み込まれて
いる。それぞれの弁体47a,47bは鋼球、樹脂製ま
たはゴム製の球体からなり、弁座42a,42b内に組
み込まれた圧縮コイルばね48a,48bにより弁体4
7a,47bには中空孔43a,43bを開く方向のば
ね力が加えられている。
【0023】逆止弁ブロック38には弁体47a,47
bの移動を規制するためのストッパ49a,49bが設
けられ、ストッパ49a,49bは内部に流路50a,
50bを有する円筒部となっており、圧縮コイルばね4
8a,48bにより押圧される弁体47a,47bの移
動がストッパ49a,49bにより規制される。ポート
部材39には、それぞれ接続ポート51a,51bが形
成されており、接続ポート51a,51bは連通孔52
a,52bを介して収容孔46a,46bに連通してい
る。
bの移動を規制するためのストッパ49a,49bが設
けられ、ストッパ49a,49bは内部に流路50a,
50bを有する円筒部となっており、圧縮コイルばね4
8a,48bにより押圧される弁体47a,47bの移
動がストッパ49a,49bにより規制される。ポート
部材39には、それぞれ接続ポート51a,51bが形
成されており、接続ポート51a,51bは連通孔52
a,52bを介して収容孔46a,46bに連通してい
る。
【0024】一方の接続ポート51aには、先端に真空
吸着具としてのバキュームパッド53が設けられた吸着
流路54が接続されており、他方の接続ポート51bは
図示しないプラグにより閉塞されている。したがって、
電磁弁本体10は5ポート電磁弁となっているが、2つ
のポートは使用されておらず、3ポート電磁弁として機
能しており、パイロット弁組立体28のソレノイドに給
電すると図2に示されるように真空ポート23aと出力
ポート19aとが連通し、通電を解くと真空破壊ポート
24aと出力ポート19aとが連通することになる。通
電するとバキュームパッド53は真空状態つまり負圧状
態となり、電子部品つまりワークWを真空吸着すること
ができる。一方、通電を解くと大気圧あるいはそれより
高い圧力に設定されている真空破壊ポート24aが出力
ポート19aと連通状態となり、バキュームパッド53
の真空状態が解除されて、吸着されているワークWはバ
キュームパッド53から取り外されることになる。
吸着具としてのバキュームパッド53が設けられた吸着
流路54が接続されており、他方の接続ポート51bは
図示しないプラグにより閉塞されている。したがって、
電磁弁本体10は5ポート電磁弁となっているが、2つ
のポートは使用されておらず、3ポート電磁弁として機
能しており、パイロット弁組立体28のソレノイドに給
電すると図2に示されるように真空ポート23aと出力
ポート19aとが連通し、通電を解くと真空破壊ポート
24aと出力ポート19aとが連通することになる。通
電するとバキュームパッド53は真空状態つまり負圧状
態となり、電子部品つまりワークWを真空吸着すること
ができる。一方、通電を解くと大気圧あるいはそれより
高い圧力に設定されている真空破壊ポート24aが出力
ポート19aと連通状態となり、バキュームパッド53
の真空状態が解除されて、吸着されているワークWはバ
キュームパッド53から取り外されることになる。
【0025】これに対して、他方の接続ポート51bに
吸着流路54を接続し、接続ポート51aを閉塞する場
合、ソレノイドに給電すると出力ポート19bが真空破
壊ポート24bに連通し、給電を解くと出力ポート19
bは真空ポート23aに連通することになる。したがっ
て、通電時にバキュームパッド53を真空状態にする
か、真空を破壊させるかによって、吸着流路54をいず
れか一方の接続ポート51aまたは51bに接続するこ
とになる。
吸着流路54を接続し、接続ポート51aを閉塞する場
合、ソレノイドに給電すると出力ポート19bが真空破
壊ポート24bに連通し、給電を解くと出力ポート19
bは真空ポート23aに連通することになる。したがっ
て、通電時にバキュームパッド53を真空状態にする
か、真空を破壊させるかによって、吸着流路54をいず
れか一方の接続ポート51aまたは51bに接続するこ
とになる。
【0026】弁体収容孔46a,46bの内周面と弁座
42a,42bの外周面との間には漏れ隙間55a,5
5bが形成されている。それぞれの漏れ隙間55a,5
5bは、主流路としての中空孔43a,43bを迂回
し、連通流路45a,45bを介して出力ポート19
a,19bに連通するとともに接続ポート51a,51
bに連通しており、バイパス流路となっている。このバ
イパス流路の流通面積は主流路に比して小さく設定され
ている。
42a,42bの外周面との間には漏れ隙間55a,5
5bが形成されている。それぞれの漏れ隙間55a,5
5bは、主流路としての中空孔43a,43bを迂回
し、連通流路45a,45bを介して出力ポート19
a,19bに連通するとともに接続ポート51a,51
bに連通しており、バイパス流路となっている。このバ
イパス流路の流通面積は主流路に比して小さく設定され
ている。
【0027】したがって、ソレノイドに通電して真空ポ
ート23aを出力ポート19aと連通させた状態のもと
で、バキュームパッド53にワークWが接触していなけ
れば、主流路に流路50aと連通孔52aとから大気圧
が流入し、弁体47aがばね力に抗して弁座42aに接
触する。これにより、主流路としての中空孔43aは閉
じられ、バイパス流路としての漏れ隙間55aを介して
接続ポート51aは僅かに真空となり、少量の空気が出
力ポート19aに向けて流れることになる。
ート23aを出力ポート19aと連通させた状態のもと
で、バキュームパッド53にワークWが接触していなけ
れば、主流路に流路50aと連通孔52aとから大気圧
が流入し、弁体47aがばね力に抗して弁座42aに接
触する。これにより、主流路としての中空孔43aは閉
じられ、バイパス流路としての漏れ隙間55aを介して
接続ポート51aは僅かに真空となり、少量の空気が出
力ポート19aに向けて流れることになる。
【0028】この状態のもとで、ワークWがバキューム
パッド53に接触すると、出力ポート19aに向けて漏
れ隙間55aを流れる空気によってバキュームパッド5
3内は真空状態となり、弁体47aにより閉じられた主
流路としての中空孔43aに接続ポート51aからの吸
入流量が低下し、圧縮コイルばね48aのばね力によっ
て弁体47aは弁座42aから離れて主流路が開放され
る。これにより、主流路とバイパス流路とを介して出力
ポート19aと接続ポート51aが連通状態となる。こ
のように、図示しない部品ステージに載置されたワーク
Wをバキュームパッド53により吸着する際には、予め
出力ポート19aを真空ポートに連通させた状態とし
て、僅かに真空状態としておく。これにより、バキュー
ムパッド53はワークWに接触すると、直ちに弁体47
aが主流路を開いて所定の真空度となり、確実にワーク
Wを吸着することができる。
パッド53に接触すると、出力ポート19aに向けて漏
れ隙間55aを流れる空気によってバキュームパッド5
3内は真空状態となり、弁体47aにより閉じられた主
流路としての中空孔43aに接続ポート51aからの吸
入流量が低下し、圧縮コイルばね48aのばね力によっ
て弁体47aは弁座42aから離れて主流路が開放され
る。これにより、主流路とバイパス流路とを介して出力
ポート19aと接続ポート51aが連通状態となる。こ
のように、図示しない部品ステージに載置されたワーク
Wをバキュームパッド53により吸着する際には、予め
出力ポート19aを真空ポートに連通させた状態とし
て、僅かに真空状態としておく。これにより、バキュー
ムパッド53はワークWに接触すると、直ちに弁体47
aが主流路を開いて所定の真空度となり、確実にワーク
Wを吸着することができる。
【0029】つまり、弁体47aを設けずに、所定の真
空圧状態となったバキュームパッド53をワークWに接
近させると、バキュームパッド53がワークWに接触す
る前に流入する空気によってワークWがずれるおそれが
ある。これに対して、本発明にあっては、接触するまで
は主流路が閉じており、バキュームパッド53の真空度
は低く保持され、接触すると真空度が高くなるので、ワ
ークWのずれ発生が防止される。しかも、主流路が閉じ
られているときにおける空気の流れは僅かであり、真空
ポンプのエネルギー損失は僅かである。
空圧状態となったバキュームパッド53をワークWに接
近させると、バキュームパッド53がワークWに接触す
る前に流入する空気によってワークWがずれるおそれが
ある。これに対して、本発明にあっては、接触するまで
は主流路が閉じており、バキュームパッド53の真空度
は低く保持され、接触すると真空度が高くなるので、ワ
ークWのずれ発生が防止される。しかも、主流路が閉じ
られているときにおける空気の流れは僅かであり、真空
ポンプのエネルギー損失は僅かである。
【0030】ワークWが吸着された後には、バキューム
パッド53は図示しない搬送装置によって部品搭載位置
まで搬送される。所定の搬送位置まで搬送された後に、
ソレノイドに対する通電を解くと、出力ポート19aは
真空破壊ポート18aと連通し、ワークWはバキューム
パッド53から離れることになる。
パッド53は図示しない搬送装置によって部品搭載位置
まで搬送される。所定の搬送位置まで搬送された後に、
ソレノイドに対する通電を解くと、出力ポート19aは
真空破壊ポート18aと連通し、ワークWはバキューム
パッド53から離れることになる。
【0031】図2に示すように、ストッパ49aの流路
50a内にはバキュームパッド53から電磁弁内に流入
する空気中の異物を除去するために、フィルタ56が組
み込まれている。また、バキュームパッド53にワーク
Wが吸着された状態のもとで、手動によりワークWを離
脱させることができるように、流量調整ブロック40に
は手動操作ボタン57が設けられており、この手動操作
ボタン57を押し込むと、接続ポート51aは大気に連
通するようになっている。
50a内にはバキュームパッド53から電磁弁内に流入
する空気中の異物を除去するために、フィルタ56が組
み込まれている。また、バキュームパッド53にワーク
Wが吸着された状態のもとで、手動によりワークWを離
脱させることができるように、流量調整ブロック40に
は手動操作ボタン57が設けられており、この手動操作
ボタン57を押し込むと、接続ポート51aは大気に連
通するようになっている。
【0032】図4は図1に示した電磁弁を用いて複数の
バキュームパッド53によりワークWを吸着搬送してい
る状態を示す斜視図であり、真空ポンプや真空圧力制御
弁などを有する真空供給源61はホースなどからなる流
路62により真空ポート23aに接続されている。一
方、コンプレッサや圧力制御弁などを有する正圧供給源
63は、流路64により給気ポート31に接続されると
ともに、流路65により真空破壊ポート24a,24b
に接続されている。パイロット弁組立体28のソレノイ
ドに対しては、コントロールユニット66から制御信号
がケーブル67を介して送られるようになっている。
バキュームパッド53によりワークWを吸着搬送してい
る状態を示す斜視図であり、真空ポンプや真空圧力制御
弁などを有する真空供給源61はホースなどからなる流
路62により真空ポート23aに接続されている。一
方、コンプレッサや圧力制御弁などを有する正圧供給源
63は、流路64により給気ポート31に接続されると
ともに、流路65により真空破壊ポート24a,24b
に接続されている。パイロット弁組立体28のソレノイ
ドに対しては、コントロールユニット66から制御信号
がケーブル67を介して送られるようになっている。
【0033】図4に示すように、複数のバキュームパッ
ド53により1つのワークWを吸着搬送する場合には、
いずれかのバキュームパッド53がワークWから外れる
と、そのバキュームパッド53には大気が流入すること
になる。しかしながら、大気が流入したバキュームパッ
ド53に対応する電磁弁本体10における弁体47aは
主流路としての中空孔43aを閉塞するので、主流路と
しての中空孔43aには多量の外気が流入することが防
止される。これにより、他のパッドの真空度は所定値に
保たれて、ワークWを確実に保持することができる。
ド53により1つのワークWを吸着搬送する場合には、
いずれかのバキュームパッド53がワークWから外れる
と、そのバキュームパッド53には大気が流入すること
になる。しかしながら、大気が流入したバキュームパッ
ド53に対応する電磁弁本体10における弁体47aは
主流路としての中空孔43aを閉塞するので、主流路と
しての中空孔43aには多量の外気が流入することが防
止される。これにより、他のパッドの真空度は所定値に
保たれて、ワークWを確実に保持することができる。
【0034】図5は弁体47a,47bの変形例を示す
断面図であり、弁座72に接触して主流路としての中空
孔43aを閉じる位置と、弁座72から離れて中空孔4
3aを開く位置とに作動する弁体70が組み込まれてい
る。弁体70はゴム製または樹脂製のシャトル体からな
り、弁座72内に組み込まれた圧縮コイルばね71によ
り弁体70には中空孔43aを開く方向のばね力が加え
られている。
断面図であり、弁座72に接触して主流路としての中空
孔43aを閉じる位置と、弁座72から離れて中空孔4
3aを開く位置とに作動する弁体70が組み込まれてい
る。弁体70はゴム製または樹脂製のシャトル体からな
り、弁座72内に組み込まれた圧縮コイルばね71によ
り弁体70には中空孔43aを開く方向のばね力が加え
られている。
【0035】逆止弁ブロック38には弁体70の移動を
規制するためのストッパ73が設けられ、ストッパ73
は内部に流路50aを有する円筒部となっており、圧縮
コイルばね71により押圧される弁体70の移動がスト
ッパ73により規制される。
規制するためのストッパ73が設けられ、ストッパ73
は内部に流路50aを有する円筒部となっており、圧縮
コイルばね71により押圧される弁体70の移動がスト
ッパ73により規制される。
【0036】本発明は前記実施の形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。たとえば、電磁弁本体を5
ポート電磁弁とすることなく、3ポート電磁弁としても
良い。
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。たとえば、電磁弁本体を5
ポート電磁弁とすることなく、3ポート電磁弁としても
良い。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、ワークを吸着するため
の真空吸着具が接続される接続ポートを真空ポートと真
空破壊ポートに切り換えて連通させる電磁弁に流量調整
ブロックを設け、流量調整ブロック内に流路面積が大き
く弁体により開閉される主流路と、常時連通する流路面
積が小さいバイパス流路とを設け、真空吸着具が真空状
態のもとで、真空吸着具にワークが接触すると主流路が
開き、離れるとバイパス流路のみが真空吸着具に連通す
るようにしたので、ワークが接触しなくとも、負圧空気
の無駄な流れを抑制することができる。
の真空吸着具が接続される接続ポートを真空ポートと真
空破壊ポートに切り換えて連通させる電磁弁に流量調整
ブロックを設け、流量調整ブロック内に流路面積が大き
く弁体により開閉される主流路と、常時連通する流路面
積が小さいバイパス流路とを設け、真空吸着具が真空状
態のもとで、真空吸着具にワークが接触すると主流路が
開き、離れるとバイパス流路のみが真空吸着具に連通す
るようにしたので、ワークが接触しなくとも、負圧空気
の無駄な流れを抑制することができる。
【0038】本発明によれば、真空吸着具を真空状態と
する位置と真空を破壊する位置とに作動する1つの電磁
弁によって真空吸着具によるワークの吸着と取り外しと
の作動を制御することができる。
する位置と真空を破壊する位置とに作動する1つの電磁
弁によって真空吸着具によるワークの吸着と取り外しと
の作動を制御することができる。
【0039】ワークを真空吸着具に接触させる前に僅か
に負圧空気を流すことができるので、ワークが接触する
と、迅速に所定の真空度でワークを吸着することができ
る。
に負圧空気を流すことができるので、ワークが接触する
と、迅速に所定の真空度でワークを吸着することができ
る。
【0040】複数の真空吸着具に対して電磁弁に設けら
れた共通の真空ポートから負圧空気を供給する場合に、
いずれかの真空吸着具がワークから離れても、その真空
吸着具に対応する電磁弁の主流路が閉じられるので、他
の真空吸着具に供給される負圧空気の圧力変動を防止す
ることができる。
れた共通の真空ポートから負圧空気を供給する場合に、
いずれかの真空吸着具がワークから離れても、その真空
吸着具に対応する電磁弁の主流路が閉じられるので、他
の真空吸着具に供給される負圧空気の圧力変動を防止す
ることができる。
【図1】本発明の一実施の形態である吸着搬送用電磁弁
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図2】図1におけるA−A線に沿う断面図である。
【図3】(A)は弁体により主流路が閉じられた状態に
おける流量調整ブロックを示す断面図であり、(B)は
主流路が開かれた状態における流量調整ブロックを示す
断面図である。
おける流量調整ブロックを示す断面図であり、(B)は
主流路が開かれた状態における流量調整ブロックを示す
断面図である。
【図4】図1に示した電磁弁を用いて複数のバキューム
パッドによりワークを吸着搬送している状態を示す斜視
図である。
パッドによりワークを吸着搬送している状態を示す斜視
図である。
【図5】吸着搬送用電磁弁における弁体の変形例を示す
断面図である。
断面図である。
10 電磁弁本体 11,12 エンドブロック 13 ボルト 14 弁孔 15 主弁ブロック 16 主弁軸 16a スプール弁体 17 真空供給孔 18a,18b 真空破壊孔 19a,19b 出力ポート 21,22 給排ブロック 23a,23b 真空ポート 24a,24b 真空破壊ポート 25 アダプタ 26 大径空気圧室 26a 大径ピストン 27 小径空気圧室 27a 小径ピストン 28 パイロット弁組立体 29 急速排気弁 30 逆止弁 31 給気ポート 32 給気路 33 パイロット圧供給路 34 パイロット圧出力路 35 パイロット排気路 36 アダプタ 37 連通ブロック 38 逆止弁ブロック 39 ポートブロック 40 流量調整ブロック 41a,41b 収容孔 42a,42b 弁座 43a,43b 中空孔(主流路) 44a,44b 連通孔 45a,45b 連通流路 46a,46b 弁体収容孔 47a,47b 弁体 48a,48b 圧縮コイルばね 49a,49b ストッパ 50a,50b 流路 51a,51b 接続ポート 52a,52b 連通孔 53 バキュームパッド(真空吸着具) 54 吸着流路 55a,55b 漏れ隙間(バイパス流路) 56 フィルタ 57 手動操作ボタン 58 主弁排気路 59 主弁排気口 61 真空供給源 62 流路 63 正圧供給源 64 流路 65 流路 66 コントロールユニット 67 ケーブル 70 弁体 71 圧縮コイルばね 72 弁座 73 ストッパ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C007 AS00 CY02 CY03 CY13 CY36 HS11 HS24 HT38 3H058 AA04 BB04 BB22 CA13 CC03 CD05 DD18 EE04 3H106 DA08 DA22 DB32 DC09 EE34 GB19 KK04 KK24 3J038 AA02 CA09 CB05
Claims (3)
- 【請求項1】 真空供給源に連通される真空ポートと大
気圧ないしそれよりも高い圧力に設定される真空破壊ポ
ートと出力ポートとが形成される電磁弁本体と、 前記電磁弁本体に移動自在に装着され、前記出力ポート
を前記真空ポートに連通する位置と前記真空破壊ポート
に連通する位置とに切り換える主弁軸と、 接続ポートを有し、前記接続ポートと前記出力ポートと
をそれぞれ連通する流路面積の大きい主流路と小さいバ
イパス流路とが形成されて前記電磁弁本体に設けられた
流量調整ブロックと、 前記接続ポートに吸着流路を介して接続される真空吸着
具と、 前記流量調整ブロック内に設けられ、前記真空吸着具に
ワークが接触したときには前記主流路を開放して前記主
流路と前記バイパス流路とを前記接続ポートに連通させ
る位置と、前記真空吸着具にワークが接触しないときに
は前記主流路を閉塞して前記バイパス流路と前記接続ポ
ートとを連通させる位置とに作動する弁体とを有するこ
とを特徴とする吸着搬送用電磁弁。 - 【請求項2】 請求項1記載の吸着搬送用電磁弁におい
て、前記主流路を形成して前記弁体が接触すると前記主
流路を閉塞する弁座を有し、前記弁座と前記流量調整ブ
ロックとの間に形成される漏れ隙間を前記バイパス流路
としたことを特徴とする吸着搬送用電磁弁。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の吸着搬送用電磁
弁において、前記弁体を前記弁座から離す方向にばね力
を加えるばね部材を前記流量調整ブロックに装着し、前
記弁体が前記弁座から離れたときに前記弁体の開放位置
を規制するストッパを前記流量調整ブロックに設けたこ
とを特徴とする吸着搬送用電磁弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001114049A JP2002310330A (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | 吸着搬送用電磁弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001114049A JP2002310330A (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | 吸着搬送用電磁弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002310330A true JP2002310330A (ja) | 2002-10-23 |
Family
ID=18965189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001114049A Pending JP2002310330A (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | 吸着搬送用電磁弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002310330A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005098485A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Robert Bosch Gmbh | 逆流絞り弁 |
JP2005249153A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Ckd Corp | 電磁弁 |
JP2020161585A (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 株式会社ダイヘン | ワーク搬送用ハンド |
JP2022542731A (ja) * | 2020-06-19 | 2022-10-07 | ブイテク カンパニー,リミテッド | 真空システム用空気弁ユニット |
-
2001
- 2001-04-12 JP JP2001114049A patent/JP2002310330A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005098485A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Robert Bosch Gmbh | 逆流絞り弁 |
JP2005249153A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Ckd Corp | 電磁弁 |
JP2020161585A (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 株式会社ダイヘン | ワーク搬送用ハンド |
JP7293533B2 (ja) | 2019-03-26 | 2023-06-20 | 株式会社ダイヘン | ワーク搬送用ハンド |
JP2022542731A (ja) * | 2020-06-19 | 2022-10-07 | ブイテク カンパニー,リミテッド | 真空システム用空気弁ユニット |
JP7169709B2 (ja) | 2020-06-19 | 2022-11-11 | ブイテク カンパニー,リミテッド | 真空システム用空気弁ユニット |
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