JP2002296728A - 熱現像感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、カブリ
が低い写真製版用途に最適な画像を得ることが可能な熱
現像感光材料を提供すること。 【解決手段】 支持体の同一面上に少なくとも感光性ハ
ロゲン化銀、還元可能な銀塩、下記式（１）で表される
還元剤、バインダー、および下記式（２）で表される化
合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化１】 （Ｖ¹〜Ｖ⁸は水素原子または置換基、Ｌは−ＣＨ
（Ｖ⁹）−または−Ｓ−、Ｖ⁹は水素原子または置換基を
表す。） 【化２】 （Ｘ¹は置換基、Ｘ²〜Ｘ⁴は水素原子または置換基、Ｒ¹
は水素原子、アルキル基、アリール基，ヘテロ環基、ア
ミノ基、アルコキシ基を表わす。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものであり、特に写真製版用に適したスキャナー、
イメージセッター用の熱現像感光材料に関し、さらに詳
しくは、感度、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、カブリが
低い写真製版用途に最適な画像を得ることが可能な写真
製版用の熱現像感光材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】支持体上に感光層を有し、画像露光する
ことで画像形成を行う感光材料が、数多く知られてい
る。その中には、環境保全に寄与し画像形成手段を簡易
化できるシステムとして、熱現像により画像を形成する
技術がある。近年、写真製版分野においては環境保全や
省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれるよ
うになっている。そこで、レーザー・スキャナーまたは
レーザー・イメージセッターにより効率的に露光させる
ことができ、かつ高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な
黒色画像を形成することができる写真製版用途の熱現像
感光材料に関する技術開発が必要とされている。このよ
うな熱現像感光材料によれば、溶液系処理化学薬品を必
要としない、より簡単で環境を損なわない熱現像処理シ
ステムを顧客に対して供給することが可能になる。

【０００３】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第３，１５２，９０４号明細書、同第３，４
５７，０７５号明細書、およびＤ．モーガン（Morgan）
とＢ．シェリー（Shely）による「熱によって処理され
る銀システム（Thermally Processed Silver Systems)
A」（イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリ
アルズ（Imaging Processes and Materials)Neblette
第８版、スタージ（Sturge）、Ｖ．ウォールワーズ（Wa
lworth）、Ａ．シェップ（Shepp）編集、第２頁、１９
６９年）に記載されている。このような熱現像感光材料
は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀塩）、触
媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、および銀の
還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に分散した
状態で含有する。感光材料は常温で安定であるが、露光
後に高温（例えば、８０℃以上）に加熱したときに、還
元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元剤との間
の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反
応は露光により形成された潜像の触媒作用によって促進
される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって生
成した銀は黒色になり、非露光領域と対照をなすことか
ら画像の形成がなされる。

【０００４】欧州特許公開ＥＰ７６２，１９６号公報、
特開平９−９０５５０号公報等には、熱現像感光材料に
用いる感光性ハロゲン化銀粒子に第ＶＩＩ族またはＶＩ
ＩＩ族の金属イオンまたは金属錯体イオンを含有させる
こと、および感光材料中にヒドラジン誘導体を含有せし
めて高コントラストな写真特性を得ることができること
が開示されている。また、米国特許５，５４５，５１５
号明細書には、ヒンダードフェノールを還元剤として用
いて、アクリロニトリル化合物を造核剤（超硬調化剤）
として用いることが記載されている。

【０００５】また、還元剤として電子吸引性基で置換さ
れたアミノ基を置換基として持つフェノール化合物（例
えば、スルホンアミドフェノール化合物）を用いる例に
ついても、すでに報告されている。例えば、特開昭４９
−８０３８６号公報、特開平５−２５７２２７号公報お
よび特開平１０−２２１８０６号公報に報告されている
ように、２，６−ジクロロ−４−ベンゼンスルホンアミ
ドフェノールおよびｐ−ベンゼンスルホンアミドフェノ
ールなどを還元剤として単独で用いる方法が知られてい
る。しかし、これらの化合物を用いても、感度を向上さ
せたり、感光材料の保存時の写真性能の変化の問題（特
にカブリ）を解決することはできなかった。一方、特開
２０００−２６７２２２号公報に報告されているよう
に、アミノフェノール誘導体を還元剤と併用する方法も
知られているが、高Ｄｍａｘ（最高濃度）、低カブリ、
高コントラストの要求を満足するものではなかった。こ
のため、感度、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、カブリが
低く、コントラストの高い写真製版用途に最適な画像を
得ることが可能な写真製版用の熱現像感光材料を提供す
ることが望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
技術の問題点を解消することを解決すべき問題点とし
た。すなわち、本発明が解決しようとする第一の課題
は、特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッタ
ー用として、感度、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、カブ
リが低い写真製版用途に最適な画像を得ることが可能な
熱現像感光材料を提供することにある。さらに、本発明
が解決しようとする第二の課題は環境面・コスト面で有
利な水系塗布可能な熱現像感光材料を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明者らは鋭意検討した結果、画像形成層に特定の
ビスフェノール化合物および特定のフェノール化合物を
組み合わせて含有させることによって、所望の効果を有
する優れた熱現像感光材料を提供しうることを見出し、
本発明を完成するに至った。すなわち、本発明によれ
ば、支持体の同一面上に少なくとも（ａ）感光性ハロゲ
ン化銀、（ｂ）還元可能な銀塩、（ｃ）下記式（１）で
表される還元剤、（ｄ）バインダー、および（ｅ）下記
式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする
熱現像感光材料が提供される。

【化３】 （式（１）において、Ｖ¹〜Ｖ⁸はそれぞれ独立に水素原
子または置換基を表し、Ｌは−ＣＨ（Ｖ⁹）−または−
Ｓ−なる連結基を表し、Ｖ⁹は水素原子または置換基を
表す。）

【化４】 （式（２）において、Ｘ¹は置換基を表し，Ｘ²〜Ｘ⁴は
それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただしＸ
¹〜Ｘ⁴はヒドロキシ基であることはなく、Ｘ³はスルホ
ンアミド基であることはない。Ｘ¹〜Ｘ⁴で表わされる置
換基は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ¹は水素
原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基
またはアルコキシ基を表わす。）

【０００８】好ましくは、式（２）において、Ｒ¹は水
素原子、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキ
シ基または炭素数１〜７のアルキル基である。より好ま
しくは、式（２）において、Ｘ¹、Ｘ³のうち少なくとも
１つは電子求引性基であり、Ｒ¹はアリール基または炭
素数１〜７のアルキル基である。さらに好ましくは、式
（２）において、Ｘ¹、Ｘ³はともにハロゲン原子であ
り、Ｒ¹がアリール基または炭素数１〜７のアルキル基
である。最も好ましくは、式（２）において、Ｘ ¹、Ｘ³
はともに塩素原子または臭素原子であり、Ｘ²、Ｘ⁴は水
素原子またはアルキル基を表わし、Ｒ¹はアリール基で
ある。好ましくは本発明の熱現像感光材料は、さらに造
核剤（超硬調化剤）を含有する。また、支持体と感光性
層の間にゼラチンを含有する下塗り層を有することが好
ましい。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下において、本発明の熱現像感
光材料について詳細に説明する。なお、本明細書におい
て、「〜」はその前後に記載される数値を最小値および
最大値として含む範囲である。本発明の熱現像感光材料
は、支持体の同一面上に、少なくとも（ａ）感光性ハロ
ゲン化銀、（ｂ）還元可能な銀塩、（ｄ）バインダーを
有する。本発明の熱現像感光材料は、還元可能な銀塩
（有機銀塩）およびバインダーを含有する画像形成層
と、感光性ハロゲン化銀を含有する感光性ハロゲン化銀
乳剤層（感光層）を別個の層として有するものであって
もよいし、還元可能な銀塩（有機銀塩）、感光性ハロゲ
ン化銀およびバインダーを一緒に含む感光性の画像形成
層を有するものであってもよい。好ましいのは後者であ
る。本発明の熱現像感光材料は、上記３成分の他にさら
に、（ｃ）上記式（１）で表される還元剤と、（ｅ）上
記式（２）で表される化合物をともに含有することを特
徴とする。これによって、感度、Ｄｍａｘ（最高濃度）
が高く、カブリが低い写真製版用途に最適な画像を得る
ことが可能な写真製版用の熱現像感光材料を得ることが
できる。

【００１０】本発明の熱現像感光材料は、支持体上、上
記の感光性ハロゲン化銀および還元可能な銀塩が存在す
る面と同一の面に、上記式（１）で表されるビスフェノ
ール化合物を有する。式（１）において、Ｖ¹〜Ｖ⁸はそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｖ¹〜Ｖ⁸で
表される置換基は同一でも異なっていてもよく、好まし
い例として、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子）、直鎖、分岐または環状
のアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好まし
くは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１３
であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−アミル基、ｔｅｒ
ｔ−アミル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、シ
クロヘキシル基等）、アルケニル基（好ましくは炭素数
２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ま
しくは炭素数２〜１２であり、例えば、ビニル基、アリ
ル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基等）、アリー
ル基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素
数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２であり、
例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル
基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、よ
り好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数
１〜１２であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（好ま
しくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２
０、さらに好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、
フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基等）、アシル
オキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは
炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であ
り、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、
アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは
炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ
ブチルアミノ基、アニリノ基等）、アシルアミノ基（好
ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１
６、特に好ましくは炭素数２〜１３であり、例えば、ア
セチルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、ベンゾイル
アミノ基等）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数
１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ま
しくは炭素数１〜１２であり、例えば、メタンスルホニ
ルアミノ基、ブタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスル
ホニルアミノ基等）、ウレイド基（好ましくは炭素数１
〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好まし
くは炭素数１〜１２であり、例えば、ウレイド基、メチ
ルウレイド基、フェニルウレイド基等）、カルバメート
基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数
２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、例
えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェニルオキシカ
ルボニルアミノ基等）、カルボキシル基、カルバモイル
基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数
１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２であり、例
えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル
基、Ｎ−ドデシルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイル基等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭
素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに
好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭
素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに
好ましくは炭素数６〜１２）、アシル基（好ましくは炭
素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに
好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、アセチル
基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、ス
ルホ基、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、よ
り好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数
１〜１２であり、例えば、メシル基、トシル基等）、ス
ルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ま
しくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１
２であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファ
モイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基等）、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ま
しくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１
２であり、例えば、メチルチオ、ブチルチオ等）、ヘテ
ロ環基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭
素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であ
り、例えば、ピリジル基、イミダゾイル基、ピロリジル
基等）などが挙げられる。これらの置換基はさらに他の
置換基で置換されていてもよい。

【００１１】Ｖ¹〜Ｖ⁸で表される置換基として特に好ま
しいものは、アルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−
アミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−
トリデシル基、シクロヘキシル基等）である。

【００１２】式（１）において、Ｌは−ＣＨ（Ｖ⁹）−
または−Ｓ−なる連結基を表し、Ｖ⁹は水素原子または
置換基を表す。Ｖ⁹で表される置換基の好ましい例とし
て、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子）、直鎖、分岐または環状のアルキ
ル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素
数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１３であり、
例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−オクチル基、ｎ−アミル基、ｔｅｒｔ−アミル
基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、シクロヘキシ
ル基、２，４，４−トリメチルペンチル基等）、アルケ
ニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭
素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であ
り、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３
−ペンテニル基等）、アリール基（好ましくは炭素数６
〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好まし
くは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニル基、ｐ−
メチルフェニル基、ナフチル基等）、アルコキシ基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
６、さらに好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０、
より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素
数６〜１２であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素
数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好
ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、アセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基等）、アミノ基（好ましくは炭
素数０〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、アニリ
ノ基等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２
０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭
素数２〜１３であり、例えば、アセチルアミノ基、トリ
デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、スルホ
ニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好まし
くは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２
であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ブタンス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましく
は炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２で
あり、例えば、ウレイド基、メチルウレイド基、フェニ
ルウレイド基等）、カルバメート基（好ましくは炭素数
２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ま
しくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボ
ニルアミノ基、フェニルオキシカルボニルアミノ基
等）、カルボキシル基、カルバモイル基（好ましくは炭
素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、カルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−ドデシル
カルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基等）、ア
ルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、よ
り好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数
２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アシル
基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数
２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、例
えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロ
イル基等）、スルホ基、スルホニル基（好ましくは炭素
数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メシル基、ト
シル基等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜
２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましく
は炭素数０〜１２であり、例えば、スルファモイル基、
メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、
フェニルスルファモイル基等）、シアノ基、ニトロ基、
ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基（好ま
しくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
６、さらに好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、
メチルチオ基、ブチルチオ基等）、ヘテロ環基（好まし
くは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、
さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、ピリ
ジル基、イミダゾイル基、ピロリジル基等）などが挙げ
られる。これらの置換基はさらに他の置換基で置換され
ていてもよい。

【００１３】Ｖ⁹で表される置換基の特に好ましい例と
しては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−アミル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ドデシ
ル基、ｎ−トリデシル基、シクロヘキシル基、２，４，
４−トリメチルペンチル基等）、アルケニル基（例え
ば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテ
ニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−メ
チルフェニル基、ナフチル基等）、ヒドロキシル基、メ
ルカプト基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、
ブチルチオ基等）などが挙げられる。以下に式（１）で
表されるビスフェノール化合物の具体例を挙げるが、本
発明に用いるビスフェノール化合物はこれらに限定され
るものではない。

【００１４】

【化５】

【００１５】

【化６】

【００１６】

【化７】

【００１７】

【化８】

【００１８】

【化９】

【００１９】

【化１０】

【００２０】式（１）で表される化合物は、アルデヒド
類とフェノール類（Ｉ−２５およびＩ−２６は二塩化硫
黄）を縮合する一般的な方法で容易に合成することがで
きる。本発明に用いる式（１）で表されるビスフェノー
ル化合物の使用量は、熱現像感光材料１ｍ²当たり０．
０１〜４．０ｇであることが好ましく、０．２〜２．０
ｇであることがより好ましく、０．５〜２．０ｇである
ことがさらに好ましい。また、画像形成層を有する面の
銀１ｍｏｌに対しては２〜４０ｍｏｌ％含まれることが
好ましく、５〜３０ｍｏｌ％含まれることがさらに好ま
しい。本発明に用いるビスフェノール化合物は、溶液、
粉末、固体微粒子分散物などいかなる方法で添加しても
よい。固体微粒子分散は公知の微細化手段（例えば、ボ
ールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミ
ル、ジェットミル、ローラーミルなど）で行われる。ま
た、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。
本発明に用いるビスフェノール化合物は、支持体上、上
記の感光性ハロゲン化銀および還元可能な銀塩と同一の
面であればいずれの層に添加してもよいが、ハロゲン化
銀を含む層またはそれに隣接する層に添加することが好
ましい。

【００２１】本発明の熱現像感光材料は、支持体上、上
記の感光性ハロゲン化銀および還元可能な銀塩と同一の
面に、上記式（２）で表されるフェノール化合物を有す
る。

【００２２】式（２）において、Ｘ¹はベンゼン環上に
置換可能な置換基を表す（水素原子であることはな
い）。ただし、Ｘ¹はヒドロキシル基であることはな
い。置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルキル
基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、
アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニ
ル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環
基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオ
キシ、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニ
ルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよび
アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモ
イル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニ
ル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル
基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ
基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフ
ィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例
として挙げられる。

【００２３】さらに詳しくは、ハロゲン原子（フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基
〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基
を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜
３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−
オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−
シアノエチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアル
キル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置
換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シ
クロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル
基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３
０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つま
り、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を
一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ
［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，
２，２］オクタン−３−イル基）、さらに環構造が多い
トリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明
する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基の
アルキル基）もこのような概念のアルキル基を表
す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしく
は無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル
基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のア
ルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル
基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基
（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換の
シクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロ
アルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。
例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロ
ヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換
もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、
炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケ
ニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの
水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビ
シクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、
ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル
基）を包含するものである。］、アルキニル基（好まし
くは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル
基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチル
シリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６〜
３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニ
ル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル
基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基）、ヘテロ
環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換
の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個
の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好まし
くは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテ
ロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル
基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、
シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基
（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の
アルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソ
プロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオ
キシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基
（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換の
アリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチル
フェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３
−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフ
ェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３
〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオ
キシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換
もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテト
ラゾールー５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオ
キシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ
基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカ
ルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置
換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオ
キシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステ
アロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシ
フェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基
（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の
カルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキ
シ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ
−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチ
ルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキ
シ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置
換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカル
ボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボ
ニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基
（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換の
アリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキ
シカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボ
ニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシ
カルボニルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは、
ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置
換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置
換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例え
ば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイル
アミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、
３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボ
ニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましく
は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカル
ボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニル
アミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましく
は炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカル
ボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニ
ルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ
基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましく
は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオ
キシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニ
ルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ
基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミ
ノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数
０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ
基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノ
スルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホ
ニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしく
は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３
０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ
基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホ
ニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，
５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アル
キルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしく
は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチ
ルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基
（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のア
リールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフ
ェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ
環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置
換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチ
オ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換も
しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチル
スルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピ
ル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイル
スルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイ
ル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびア
リールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の
置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０
の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例え
ば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フ
ェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニ
ル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好まし
くは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルス
ルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールス
ルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスル
ホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニル
スルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭
素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル
基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカ
ルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭
素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニ
ル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロ
アセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−
オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカ
ルボニル基、２−フリルカルボニル基）、アリールオキ
シカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換も
しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、
フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボ
ニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカ
ルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしく
は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル
基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の
置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバ
モイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモ
イル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜
３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３
〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例え
ば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−
エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルア
ゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド
基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましく
は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ
基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフ
ィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニ
ル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置
換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオク
チルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル
基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜
３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例
えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチル
オキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基
（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換の
ホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニ
ルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、
シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは
無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリ
ル基）が挙げられる。Ｘ¹で表される置換基として好ま
しいものは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子、好ましくは塩素原子、臭素原
子）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、よ
り好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１
〜８、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、
ベンゾイルアミノ基など）、アルキル基（好ましくは炭
素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好
ましくは炭素数１〜８、例えば、メチル基、エチル基、
イソプロピル基、シクロヘキシル基など）、アリール基
（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６
〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェニル
基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニル基など）、アルコ
キシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭
素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメ
トキシ基、エトキシ基など）、アリールオキシ基（好ま
しくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１
４、特に好ましくは炭素数６〜８、たとえばフェノキシ
基、２−ナフチルオキシ基など）、アシルオキシ基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、アセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基など）、スルホニルアミノ基
（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１
〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメタンス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ま
しくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、
例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
基、Ｎ−フェニルカルバモイル基など）、アシル基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミル基、
アセチル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニ
ル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素
数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、
例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボ
ニル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭
素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２、例え
ば、フェノキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカル
ボニル基等）、シアノ基、ニトロ基であり、より好まし
くは、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アルキル基であ
り、特に好ましくは塩素原子、臭素原子である。

【００２４】式（２）において、Ｘ³は水素原子または
置換基を表わす。ただし、Ｘ³はヒドロキシル基、スル
ホンアミド基であることはない。置換基の具体例として
は、式（２）のＸ¹の例として挙げた置換基が挙げられ
る（スルホンアミド基を除く）。Ｘ³として好ましいも
のは、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは塩素原子、臭素
原子）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、
より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数
１〜８、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基など）、アルキル基（好ましく
は炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特
に好ましくは炭素数１〜８、例えば、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、シクロヘキシル基など）、アリー
ル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素
数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェ
ニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニル基など）、ア
ルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましく
は炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例え
ばメトキシ基、エトキシ基など）、アリールオキシ基
（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６
〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、たとえばフェノ
キシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシルオキシ基
（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１
〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、アセト
キシ基、ベンゾイルオキシ基など）、カルバモイル基
（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１
〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばカルバモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイル基など）、アシル基（好ましくは炭素数
１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好まし
くは炭素数１〜８、例えばホルミル基、アセチル基、ベ
ンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましく
は炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さ
らに好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましく
は炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さ
らに好ましくは炭素数６〜１２、例えば、フェノキシカ
ルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基等）、シ
アノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、ハロゲン原
子、アシルアミノ基、アルキル基であり、特に好ましく
は塩素原子または臭素原子である。

【００２５】Ｘ¹、Ｘ³で表される置換基は少なくとも一
方が電子求引性基であることが好ましい。電子求引性基
とは、ハメットの置換基定数σ_p値が正である置換基で
あり、具体例としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換されたイミノ基、チオ
カルボニル基、パーフルオロアルキル基、スルホンアミ
ド基、ホルミル基、ホスホリル基、カルボキシル基、、
カルバモイル基、アシル基、スルホ基（またはその
塩）、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
スルファモイル基、アシルオキシ 基、アシルチオ基、
スルホニルオキシ基、ヘテロ環基、またはこれらの電子
求引性基で置換されたアリール基などが挙げられる。Ｘ
¹、Ｘ³はより好ましくはともに電子吸引性基であり、さ
らに好ましくはともにハロゲン原子であり、特に好まし
くはともに塩素原子または臭素原子である。

【００２６】式（２）において、Ｘ²、Ｘ⁴は水素原子ま
たは置換基を表わす。ただし、Ｘ²、Ｘ⁴はヒドロキシル
基であることはない。置換基の具体例としては、式
（２）のＸ¹の例として挙げた置換基が挙げられる。
Ｘ²、Ｘ⁴として好ましいものは、水素原子、ハロゲン原
子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好
ましくは、塩素原子、臭素原子）、アシルアミノ基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミルアミ
ノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましく
は炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例え
ば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキ
シル基等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０、
より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数
６〜８、例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフ
ェニル基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２
０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭
素数１〜８、例えばメトキシ基、エトキシ基等）、アリ
ールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好まし
くは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例
えばフェノキシ基、２−ナフチルオキシ基等）、アシル
オキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは
炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば
アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホニルア
ミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭
素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメ
タンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基
等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、よ
り好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１
〜８、例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基など）、アシル
基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数
１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミ
ル基、アセチル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカ
ルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましく
は炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２で
あり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカ
ルボニル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましく
は炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２、
例えば、フェノキシカルボニル基、２−ナフチルオキシ
カルボニル基等）、シアノ基、ニトロ基である。より好
ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲ
ン原子、アシルアミノ基であり、特に好ましくは水素原
子、メチル基、エチル基である。Ｘ¹〜Ｘ⁴はさらに置換
されていてもよく、置換基の具体例としては式（２）の
Ｘ¹の例として挙げた置換基が挙げられる。また、Ｘ¹〜
Ｘ⁴は互いに結合して環を形成していてもよい。

【００２７】式（２）において、Ｒ¹は水素原子、アル
キル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭
素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜７、例えば、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキシル
基等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０、より
好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜
８、例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニ
ル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、イミダゾ
リル基、ピロリジル基），アミノ基（好ましくは炭素数
０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１４、特に好まし
くは炭素数０〜８、例えばアミノ基、メチルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基
等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より
好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜
８、例えばメトキシ基、エトキシ基等）を表わす。好ま
しくは、水素原子、アリール基、ヘテロ環基、アミノ
基、アルコキシ基、炭素数１〜７のアルキル基であり、
さらに好ましくはアリール基または炭素数１〜７のアル
キル基であり、特に好ましくはアリール基である。Ｒ¹
はさらに置換されていてもよく、置換基の具体例として
は式（２）のＸ¹の例として挙げた置換基が挙げられ
る。

【００２８】Ｘ¹〜Ｘ⁴、Ｒ¹の組み合わせとして好まし
くは、Ｘ¹、Ｘ³の少なくとも１つがハロゲン原子であ
り、Ｘ²、Ｘ⁴は水素原子またはアルキル基であり、Ｒ¹
はアリール基または炭素数１〜７のアルキル基である。
さらに好ましい組み合わせは、Ｘ¹、Ｘ³はともに塩素原
子または臭素原子であり、Ｘ²は水素原子またはアルキ
ル基であり、Ｘ⁴は水素原子であり、Ｒ¹はアリール基で
ある。

【００２９】式（２）で表される化合物の総分子量の好
ましい範囲は１７０〜８００であり、より好ましくは２
２０〜６５０であり、特に好ましくは２２０〜５００で
ある。

【００３０】以下に式（２）で表される化合物の具体例
を挙げるが、本発明で用いることができる式（２）の化
合物はこれらの具体例に限定されるものではない。

【化１１】

【００３１】

【化１２】

【００３２】

【化１３】

【００３３】

【化１４】

【００３４】

【化１５】

【００３５】

【化１６】

【００３６】

【化１７】

【００３７】

【化１８】

【００３８】本発明で用いる式（２）で表される化合物
は、写真業界で公知のフェノールカプラーの合成方法、
例えばオルトアミノフェノール類と、酸ハライド類の反
応により容易に合成することができる。本発明に用いる
式（２）で表される化合物の使用量は、熱現像感光材料
１ｍ²当たり０．００１〜４．０ｇであることが好まし
く、０．０１〜２．０ｇであることがより好ましく、
０．１〜２．０ｇであることがさらに好ましい。また、
本発明に用いる式（２）で表される化合物の使用量は、
式（１）で表される化合物に対して０．１〜１０００ｍ
ｏｌ％であることが好ましく、１〜１００％であること
がさらに好ましく、５〜５０％であることが特に好まし
い。式（２）で表される化合物は１種のみを用いても２
種以上を併用してもよい。本発明に用いる式（２）で表
される化合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアル
コール類（メタノール、エタノール、プロパノール、フ
ッ素化アルコール等）、ケトン類（アセトン、メチルエ
チルケトン等）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、メチルセロソルブなどに溶解して用いること
ができる。あるいは、既によく知られている乳化分散法
に従って、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフ
ェート、グリセリルトリアセテート、ジエチルフタレー
トなどのオイル、酢酸エチル、シクロヘキサノンなどの
補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製し
て用いることができる。または、よく知られている固体
分散法に従って、ボールミル、コロイドミル、サンドグ
ラインダーミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダ
イザーまたは超音波によって式（２）で表される化合物
の粉末を水の中に分散し、用いることができる。

【００３９】本発明に用いる式（２）で表される化合物
は、支持体上、上記の感光性ハロゲン化銀および還元可
能な銀塩が存在する面と同一の面であればいずれの層に
添加してもよいが、ハロゲン化銀を含む層またはそれに
隣接する層に添加することが好ましい。

【００４０】本発明の熱現像感光材料においては、「色
調剤」と呼ばれる化合物が、銀画像の像密度（画像濃
度）、銀の色調および熱現像性を改良する目的で熱現像
感光材料中に必要により添加される。

【００４１】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の色調剤が特開昭４６−６０７７号公報、同
４７−１０２８２号公報、同４９−５０１９号公報、同
４９−５０２０号公報、同４９−９１２１５号公報、同
４９−９１２１５号公報、同５０−２５２４号公報、同
５０−３２９２７号公報、同５０−６７１３２号公報、
同５０−６７６４１号公報、同５０−１１４２１７号公
報、同５１−３２２３号公報、同５１−２７９２３号公
報、同５２−１４７８８号公報、同５２−９９８１３号
公報、同５３−１０２０号公報、同５３−７６０２０号
公報、同５４−１５６５２４号公報、同５４−１５６５
２５号公報、同６１−１８３６４２号公報、特開平４−
５６８４８号公報、特公昭４９−１０７２７号公報、同
５４−２０３３３号公報、米国特許３，０８０，２５４
号明細書、同３，４４６，６４８号明細書、同３，７８
２，９４１号明細書、同４，１２３，２８２号明細書、
同４，５１０，２３６号明細書、英国特許１３８０７９
５号明細書、ベルギー特許８４１９１０号明細書、特公
平１−２５０５０号公報などに開示されている。色調剤
の例は、フタルイミドおよびＮ−ヒドロキシフタルイミ
ド；スクシンイミド、ピラゾリン−５−オン、ならびに
キナゾリノン、３−フェニル−２−ピラゾリン−５−オ
ン、１−フェニルウラゾール、キナゾリンおよび２，４
−チアゾリジンジオンのような環状イミド；ナフタルイ
ミド（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミ
ド）；コバルト錯体（例えば、コバルトヘキサミントリ
フルオロアセテート）；３−メルカプト−１，２，４−
トリアゾール、２，４−ジメルカプトピリミジン、３−
メルカプト−４，５−ジフェニル−１，２，４−トリア
ゾールおよび２，５−ジメルカプト−１，３，４−チア
ジアゾールに例示されるメルカプタン；Ｎ−（アミノメ
チル）アリールジカルボキシイミド、（例えば、（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノメチル）フタルイミドおよびＮ，Ｎ
−（ジメチルアミノメチル）ナフタレン−２，３−ジカ
ルボキシイミド）；ならびにブロック化ピラゾール、イ
ソチウロニウム誘導体およびある種の光退色剤（例え
ば、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（１−カルバモイル−
３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−（３，６−ジ
アザオクタン）ビス（イソチウロニウムトリフルオロア
セテート）および２−（トリブロモメチルスルホニル）
−ベンゾチアゾール）；ならびに３−エチル−５［（３
−エチル−２−ベンゾチアゾリニリデン）−１−メチル
エチリデン］−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオ
ン；フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属
塩、または４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−ク
ロロフタラジノン、５，７−ジメトキシフタラジノンお
よび２，３−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオンなど
の誘導体；フタラジノンとフタル酸誘導体（例えば、フ
タル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸およ
びテトラクロロ無水フタル酸、ホモフタル酸など）との
組合せ；フタラジン、フタラジン誘導体（例えば、４−
（１−ナフチル）フタラジン、６−クロロフタラジン、
５，７−ジメトキシフタラジン、６−イソプロピルフタ
ラジン、６−イソブチルフタラジン、６−ｔｅｒｔ−ブ
チルフタラジン、５，７−ジメチルフタラジン、および
２，３−ジヒドロフタラジンなどの誘導体）もしくは金
属塩、；フタラジンおよびその誘導体とフタル酸誘導体
（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロ
フタル酸およびテトラクロロ無水フタル酸、ホモフタル
酸など）との組合せ；キナゾリンジオン、ベンゾオキサ
ジンまたはナフトオキサジン誘導体；色調調節剤として
だけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハライド
イオンの源としても機能するロジウム錯体、例えばヘキ
サクロロロジウム（ＩＩＩ）酸アンモニウム、臭化ロジ
ウム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム（ＩＩ
Ｉ）酸カリウムなど；無機過酸化物および過硫酸塩、例
えば、過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素；
１，３−ベンゾオキサジン−２，４−ジオン、８−メチ
ル−１，３−ベンゾオキサジン−２，４−ジオンおよび
６−ニトロ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４−ジオ
ンなどのベンゾオキサジン−２，４−ジオン；ピリミジ
ンおよび不斉トリアジン（例えば、２，４−ジヒドロキ
シピリミジン、２−ヒドロキシ−４−アミノピリミジン
など）、アザウラシル、およびテトラアザペンタレン誘
導体（例えば、３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェ
ニル−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペ
ンタレン、および１，４−ジ（ｏ−クロロフェニル）−
３，６−ジメルカプト−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６
ａ−テトラアザペンタレン）などがある。

【００４２】これらの色調剤は色調剤に求められる性能
（像密度、銀色調、熱現像改良）ならびに感光材料外へ
の揮発、昇華などの特性、被り防止剤などの他の添加剤
と組み合わせたときの感光材料特性などの観点から探索
が進められ、なかでも本発明の式（３）で表されるフタ
ラジン類とフタル酸誘導体との組み合わせが優れている
ことが知られている。

【００４３】本発明は下記式（３）で表される、フタラ
ジン化合物を含有することが好ましい。

【化１９】 （式（３）において、Ｙは水素原子または一価の置換基
を表し、ｍは１〜６の整数を表す。（Ｙ）ｍはフタラジ
ン環上に１〜６個のＹがそれぞれ独立に存在することを
示し、ｍが２以上の場合、隣接する２つのＹが脂肪族あ
るいは芳香族の環を形成してもよい。）

【００４４】Ｙで表される置換基としては、例えばアル
キル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭
素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル
基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましく
は炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特
に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、ア
リル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げ
られる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２
０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８で
あり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基等が挙
げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３
０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭
素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフ
ェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アラルキ
ル基（好ましくは炭素数７〜３０、好ましくは炭素数７
〜２０、より好ましくは炭素数７〜１２、さらに好まし
くは炭素数１〜８のアラルキル基であり、例えば、ベン
ジル基、α−メチルベンジル基、２−フェニルエチル
基、ナフチルメチル基、（４−メチルフェニル）メチル
基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数
０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好まし
くは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミ
ノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジ
ルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ま
しくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、
アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好
ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１
２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキ
シ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素
数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ま
しくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベン
ゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等が挙げられ
る。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２
〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましく
は炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリ
ールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、
より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数
７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基な
どが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素
数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ま
しくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ
基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数
２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例え
ばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げら
れる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは
炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に
好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカル
ボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシ
カルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より
好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜
１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基
などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましく
は炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特
に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスル
ホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙
げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０
〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましく
は炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メ
チルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フ
ェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバ
モイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは
炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジ
エチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが
挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１
〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましく
は炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチル
チオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好まし
くは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、
特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル
チオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましく
は炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特
に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、
トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ま
しくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタ
ンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げ
られる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、
より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数
１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド
基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸
アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは
炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸ア
ミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキ
シル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、
ヒドラジノ基、ヘテロ環基（例えばイミダゾリル基、ピ
リジル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基など
が挙げられる。）などが挙げられる。これらの置換基は
さらに置換されていてもよい。

【００４５】Ｙとして好ましくは、水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラル
キル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカ
ルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイ
ル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基であり、よ
り好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、アシル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、
シアノ基であり、さらに好ましくは、水素原子、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子であ
り、特に好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基である。

【００４６】ｍは１〜６の整数を表す。ｍとしてより好
ましくは３以下であり、さらに好ましくは２以下であ
る。ｍが２以上の場合、隣接する２つのＹが脂肪族（好
ましくは３〜８員、より好ましくは５〜６員）、あるい
は芳香族（好ましくはベンゼンあるいはナフタレン）の
環、またはヘテロ環（好ましくは５〜６員環）を形成し
てもよい。

【００４７】式（３）で表されるフタラジン化合物の製
造方法としては、例えば、R.G.ElderField,''etrocycli
c Compounds''ohn Wiley and Sons,Vol.1〜9,1950-1967
やA.R.Katritzky,''mprehensive Heterocyclic Chemis
try''ergamon Press,1984などに記載されている様に対
応するフタル酸誘導体（フタルアルデヒド、フタル酸無
水物、フタル酸エステルなど）をヒドラジンと縮合して
フタラジン骨格を形成する方法、α，α，α’，α’−
テトラクロロ−ｏ−キシレンをヒドラジンと縮合してフ
タラジンを合成する方法やTetrahedron Letters ,22巻,
345頁(1981年)に記載されている様にアリールアルダジ
ン誘導体を塩化アルミニウムと臭化アルミニウムの混合
物と共に溶融条件下に反応させ環化生成させる方法、特
開平１１−１８０９６１号公報記載のアルダジン化合物
を有機溶媒中で塩化アルミニウム触媒により環化させて
合成する方法などをあげることができる。

【００４８】以下に本発明の式（３）で表される化合物
の好ましい例を挙げるが、本発明で用いることができる
式（３）の化合物はこれらの具体例に限定されるもので
はない。

【００４９】

【化２０】

【００５０】

【化２１】

【００５１】

【化２２】

【００５２】

【化２３】

【００５３】

【化２４】

【００５４】

【化２５】

【００５５】

【化２６】

【００５６】

【化２７】

【００５７】本発明に用いることができる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒（感
光性ハロゲン化銀の潜像など）および還元剤の存在下
で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を
形成する銀塩である。有機銀塩は、還元可能な銀イオン
源を含む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀塩、
特に（炭素数が１０〜３０、好ましくは１５〜２８の）
長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子が４．０
〜１０．０の範囲の錯体安定度定数を有する有機または
無機銀塩の錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましくは
画像形成層の約５〜７０重量％を構成することができ
る。好ましい有機銀塩として、カルボキシル基を有する
有機化合物の銀塩を挙げることができる。具体的には、
脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン酸の銀塩
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例としては、
ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイ
ン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸
銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石
酸銀、リノール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、これらの
混合物などを挙げることができる。

【００５８】本発明においては、上記の有機酸銀ないし
は有機酸銀の混合物の中でも、ベヘン酸銀含有率７５ｍ
ｏｌ％以上の有機酸銀を用いることが好ましく、ベヘン
酸銀含有率８５ｍｏｌ％以上の有機酸銀を用いることが
さらに好ましい。ここでベヘン酸銀含有率とは、使用す
る有機酸銀に対するベヘン酸銀のモル分率を示す。本発
明に用いる有機酸銀中に含まれるベヘン酸銀以外の有機
酸銀としては、上記の例示有機酸銀を好ましく用いるこ
とができる。

【００５９】本発明に好ましく用いられる有機酸銀は、
上記の有機酸のアルカリ金属塩（Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｌｉ塩
等が挙げられる）溶液または懸濁液と硝酸銀を反応させ
ることにより調製される。これらの調製方法について
は、特開２０００−２９２８８２号公報の段落番号００
１９〜００２１に記載の方法を用いることができる。

【００６０】本発明においては、液体を混合するための
密閉手段の中に硝酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属
塩溶液を添加することにより有機酸銀を調製する方法を
好ましく用いることができる。具体的には、特開２００
０−３３９０７号公報に記載されている方法を用いるこ
とができる。本発明においては有機酸銀の調製時に、硝
酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属塩溶液、あるいは
反応液には水に可溶な分散剤を添加することができる。
ここで用いる分散剤の種類および使用量については、特
開２０００−３０５２１４号公報の段落番号００５２に
具体例が記載されている。

【００６１】本発明に用いる有機酸銀は第３アルコール
の存在下で調製することが好ましい。第３アルコールと
しては、好ましくは総炭素数１５以下の化合物が好まし
く、１０以下の化合物が特に好ましい。好ましい第３ア
ルコールの例としては、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げ
られるが、本発明で使用することができる第３アルコー
ルはこれに限定されない。本発明に用いる第３アルコー
ルの添加時期は有機酸銀調製時のいずれのタイミングで
もよいが、有機酸アルカリ金属塩の調製時に添加して、
有機酸アルカリ金属塩を溶解して用いることが好まし
い。また、本発明で用いる第３アルコールは、有機酸銀
調製時の溶媒としての水に対して重量比で０．０１〜１
０の範囲で使用することができるが、０．０３〜１の範
囲で使用することが好ましい。

【００６２】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状やサイズは特に制限されないが、特開２０００−２９
２８８２号公報の段落番号００２４に記載のものを用い
ることが好ましい。有機銀塩の形状は、有機銀塩分散物
の透過型電子顕微鏡像から求めることができる。単分散
性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均
直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径
で割った値の百分率（変動係数）は好ましくは８０％以
下、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０
％以下である。測定方法としては、例えば液中に分散し
た有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎ
の時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得
られた粒子サイズ（体積加重平均直径）から求めること
ができる。この測定法での平均粒子サイズとしては０．
０５μｍ〜１０．０μｍの固体微粒子分散物が好まし
い。より好ましい平均粒子サイズは０．１μｍ〜５．０
μｍ、さらに好ましい平均粒子サイズは０．１μｍ〜
２．０μｍである。

【００６３】本発明に用いる有機銀塩は、脱塩したもの
であることが好ましい。脱塩法は特に制限されず、公知
の方法を用いることができるが、遠心濾過、吸引濾過、
限外濾過、凝集法によるフロック形成水洗等の公知の濾
過方法を好ましく用いることができる。限外濾過の方法
については、特開２０００−３０５２１４号公報に記載
の方法を用いることができる。

【００６４】本発明では、高Ｓ／Ｎで、粒子サイズが小
さく、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画
像形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実
質的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降
下させる分散法を用いることが好ましい。これらの分散
方法については特開２０００−２９２８８２号公報の段
落番号００２７〜００３８に記載の方法を用いることが
できる。

【００６５】本発明で用いる有機銀塩固体微粒子分散物
の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。具体
的には、体積荷重平均直径の標準偏差を体積荷重平均直
径で割った値の百分率（変動係数）が８０％以下、より
好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０％以下で
ある。

【００６６】本発明に用いる有機銀塩固体微粒子分散物
は、少なくとも有機銀塩と水からなるものである。有機
銀塩と水との割合は特に限定されるものではないが、有
機銀塩の全体に占める割合は５〜５０重量％であること
が好ましく、特に１０〜３０重量％の範囲が好ましい。
前述の分散助剤を用いることは好ましいが、粒子サイズ
を最小にするのに適した範囲で最少量使用するのが好ま
しく、有機銀塩に対して０．５〜３０重量％、特に１〜
１５重量％の範囲が好ましい。

【００６７】本発明で用いる有機銀塩は所望の量で使用
できるが、銀量として０．１〜５ｇ／ｍ²が好ましく、
さらに好ましくは１〜３ｇ／ｍ²である。

【００６８】本発明にはＣａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＡｇか
ら選ばれる金属イオンを非感光性有機銀塩へ添加するこ
とが好ましい。Ｃａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＡｇから選ばれ
る金属イオンの非感光性有機銀塩への添加については、
ハロゲン化物でない、水溶性の金属塩の形で添加するこ
とが好ましく、具体的には硝酸塩や硫酸塩などの形で添
加することが好ましい。ハロゲン化物での添加は処理後
の感光材料の光（室内光や太陽光など）による画像保存
性、いわゆるプリントアウト性を悪化させるので好まし
くない。このため、本発明ではハロゲン化物でない、水
溶性の金属塩の形で添加することが好ましい。

【００６９】本発明に好ましく用いるＣａ、Ｍｇ、Ｚｎ
およびＡｇから選ばれる金属イオンの添加時期として
は、該非感光性有機銀塩の粒子形成後であって、粒子形
成直後、分散前、分散後および塗布液調製前後など塗布
直前までであればいずれの時期でもよく、好ましくは分
散後、塗布液調製前後である。

【００７０】本発明におけるＣａ、Ｍｇ、ＺｎおよびＡ
ｇから選ばれる金属イオンの添加量としては、非感光性
有機銀１ｍｏｌあたり１０^-3〜１０^-1ｍｏｌが好まし
く、特に５×１０^-3〜５×１０^-2ｍｏｌが好ましい。

【００７１】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀は、ハ
ロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、
臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀を用いることができ
る。感光性ハロゲン化銀乳剤の粒子形成については、特
開平１１−１１９３７４号公報の段落番号０２１７〜０
２２４に記載されている方法で粒子形成することができ
るが、特にこの方法に限定されるものではない。ハロゲ
ン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、十四面体、
平板状、球状、棒状、ジャガイモ状等を挙げることがで
きるが、本発明においては特に立方体状粒子あるいは平
板状粒子が好ましい。粒子のアスペクト比、面指数など
粒子形状の特徴については、特開平１１−１１９３７４
号公報の段落番号０２２５に記載されているものと同じ
である。また、ハロゲン組成の分布はハロゲン化銀粒子
の内部と表面において均一であってもよく、ハロゲン組
成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的
に変化したものでもよい。また、コア／シェル構造を有
するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。
構造としては好ましくは２〜５重構造、より好ましくは
２〜４重構造のコア／シェル粒子を用いることができ
る。また塩化銀または塩臭化銀粒子の表面に臭化銀を局
在させる技術も好ましく用いることができる。

【００７２】本発明で用いるハロゲン化銀粒子の粒径分
布は、単分散度の値が３０％以下であり、好ましくは１
〜２０％であり、さらに５〜１５％である。ここで単分
散度は、粒径の標準偏差を平均粒径で割った値の百分率
（％）（変動係数）として定義されるものである。なお
ハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜上、立方体粒子の場合
は稜長で表し、その他の粒子（八面体、十四面体、平板
状など）は投影面積円相当直径で算出する。

【００７３】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀粒子
は、周期律表の第ＶＩＩ族あるいは第ＶＩＩＩ族の金属
または金属錯体を含有する。周期律表の第ＶＩＩ族ある
いは第ＶＩＩＩ族の金属または金属錯体の中心金属とし
て好ましくはロジウム、レニウム、ルテニウム、オスニ
ウム、イリジウムである。特に好ましい金属錯体は、
（ＮＨ₄）₃Ｒｈ（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₅、Ｋ₂Ｒｕ（ＮＯ）Ｃ
ｌ₅、Ｋ₃ＩｒＣｌ₆、Ｋ₄Ｆｅ（ＣＮ）₆である。これら
金属錯体は１種類でもよいし、同種金属および異種金属
の錯体を２種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀
１ｍｏｌに対し１×１０^-9ｍｏｌ〜１×１０^-3ｍｏｌの
範囲が好ましく、１×１０^-8ｍｏｌ〜１×１０ ^-4ｍｏｌ
の範囲がより好ましい。具体的な金属錯体の構造として
は特開平７−２２５４４９号公報等に記載された構造の
金属錯体を用いることができる。これら重金属の種類、
添加方法に関しては、特開平１１−１１９３７４号公報
の段落番号０２２７〜０２４０に記載されている。

【００７４】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている水洗法に
より脱塩することができるが、本発明においては脱塩し
てもしなくてもよい。本発明で用いる感光性ハロゲン化
銀乳剤は化学増感することが好ましい。化学増感につい
ては、特開平１１−１１９３７４号公報の段落番号０２
４２〜０２５０に記載されている方法を用いることが好
ましい。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特
許公開第２９３，９１７号公報に示される方法により、
チオスルホン酸化合物を添加してもよい。

【００７５】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀に含有
するゼラチンとしては、感光性ハロゲン化銀乳剤の有機
銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持するため
に、低分子量ゼラチンを使用することが好ましい。低分
子量ゼラチンの分子量は、５００〜６０，０００であ
り、好ましくは分子量１，０００〜４０，０００であ
る。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成時あるいは脱
塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱塩処理後の分
散時に使用することが好ましい。また、粒子形成時は通
常のゼラチン（分子量１００，０００程度）を使用し、
脱塩処理後の分散時に低分子量ゼラチンを使用してもよ
い。

【００７６】分散媒の濃度は０．０５〜２０重量％にす
ることができるが、取り扱い上５〜１５重量％の濃度域
が好ましい。ゼラチンの種類としては、通常アルカリ処
理ゼラチンが用いられるが、その他に酸処理ゼラチン、
フタル化ゼラチンの如き修飾ゼラチンも用いることがで
きる。

【００７７】本発明に用いる感光材料中のハロゲン化銀
乳剤は、１種だけを用いてもよいし、２種以上（例え
ば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異な
るもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるも
の）を併用してもよい。

【００７８】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀の使用
量としては有機銀塩１ｍｏｌに対して感光性ハロゲン化
銀０．０１ｍｏｌ〜０．５ｍｏｌが好ましく、０．０２
ｍｏｌ〜０．３ｍｏｌがより好ましく、０．０３ｍｏｌ
〜０．２５ｍｏｌが特に好ましい。別々に調製した感光
性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法および混合条件に
ついては、それぞれ調製を終了したハロゲン化銀粒子と
有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロ
イドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法
や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミング
で調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩
を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に得ら
れる限り特に制限はない。また、混合する際に２種以上
の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を
混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法
である。

【００７９】本発明に用いることができる増感色素とし
ては、ハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域
でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源
の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に
選択することができる。例えば、５５０ｎｍ〜７５０ｎ
ｍの波長領域を分光増感する色素としては、特開平１０
−１８６５７２号公報の一般式（ＩＩ）で表される色素
が挙げられ、具体的にはＩＩ−６、ＩＩ−７、ＩＩ−１
４、ＩＩ−１５、ＩＩ−１８、ＩＩ−２３、ＩＩ−２５
の色素を好ましい色素として例示することができる。ま
た、７５０〜１４００ｎｍの波長領域を分光増感する色
素としては、特開平１１−１１９３７４号公報の一般式
（Ｉ）で表される色素が挙げられ、具体的には（２
５）、（２６）、（３０）、（３２）、（３６）、（３
７）、（４１）、（４９）、（５４）の色素を好ましい
色素として例示することができる。さらに、Ｊ−ｂａｎ
ｄを形成する色素として、米国特許第５，５１０，２３
６号明細書、同第３，８７１，８８７号明細書の実施例
５に記載の色素、特開平２−９６１３１号公報、特開昭
５９−４８７５３号公報に開示されている色素を好まし
い色素として例示することができる。これらの増感色素
は単独で用いてもよく、２種以上組合せて用いてもよ
い。

【００８０】これら増感色素の添加については、特開平
１１−１１９３７４号公報の段落番号０１０６に記載さ
れている方法で添加することができるが、特に、この方
法に限定されるものではない。本発明における増感色素
の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量に
することができるが、感光層のハロゲン化銀１ｍｏｌ当
たり１０^-6〜１ｍｏｌが好ましく、さらに好ましくは１
０^-4〜１０^-1ｍｏｌである。

【００８１】本発明は分光増感効率を向上させるため、
強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色
増感剤としては、欧州特許公開第５８７，３３８号公
報、米国特許第３，８７７，９４３号明細書、同第４，
８７３，１８４号明細書に開示されている化合物、複素
芳香族あるいは脂肪族メルカプト化合物、複素芳香族ジ
スルフィド化合物、スチルベン、ヒドラジン、トリアジ
ンから選択される化合物などが挙げられる。特に好まし
い強色増感剤は、特開平５−３４１４３２号公報に開示
されている複素芳香族メルカプト化合物、複素芳香族ジ
スルフィド化合物、特開平４−１８２６３９号公報の一
般式（Ｉ）あるいは（ＩＩ）で表される化合物、特開平
１０−１１１５４３号公報の一般式（Ｉ）で表されるス
チルベン化合物、特開平１１−１０９５４７号公報の一
般式（Ｉ）で表わされる化合物である。具体的には特開
平５−３４１４３２号公報のＭ−１〜Ｍ−２４の化合
物、特開平４−１８２６３９号公報のｄ−１）〜ｄ−１
４）の化合物、特開平１０−１１１５４３号公報のＳＳ
−０１〜ＳＳ−０７の化合物、特開平１１−１０９５４
７号公報の３１、３２、３７、３８、４１〜４５、５１
〜５３の化合物である。これらの強色増感剤の添加量
は、乳剤層中にハロゲン化銀１ｍｏｌ当たり１０ ^-4〜１
ｍｏｌの範囲が好ましく、ハロゲン化銀１ｍｏｌ当たり
０．００１〜０．３ｍｏｌの範囲がより好ましい。

【００８２】次に本発明に用いる造核剤について説明す
る。本発明で用いる造核剤の種類は特に限定されない
が、好ましい造核剤として、特開２０００−２８４３９
９号公報に記載の式（Ｈ）で表されるヒドラジン誘導体
（具体的には同公報の表１〜表４に記載のヒドラジン誘
導体）、特開平１０−１０６７２号公報、特開平１０−
１６１２７０号公報、特開平１０−６２８９８号公報、
特開平９−３０４８７０号公報、特開平９−３０４８７
２号公報、特開平９−３０４８７１号公報、特開平１０
−３１２８２号公報、米国特許第５，４９６，６９５号
明細書、欧州特許公開第７４１，３２０号公報に記載の
すべてのヒドラジン誘導体を挙げることができる。ま
た、特開２０００−２８４３９９号公報に記載の式
（１）〜（３）で表される置換アルケン誘導体、置換イ
ソオキサゾール誘導体および特定のアセタール化合物、
さらに好ましくは同公報に記載の式（Ａ）または式
（Ｂ）で表される環状化合物、具体的には同公報の化８
〜化１２に記載の化合物１〜７２も用いることができ
る。また、特開平１１−１１９３７２号公報、特開平１
０−３３９９３２号公報、特開平１１−８４５７５号公
報、特開平１１−８４５７６号公報、特開平１１−９５
３６５号公報、特開平１１−９５３６６号公報、特開平
１１−１０２０４７号公報、特開平１１−１０９５４６
号公報、特開平１１−１１９３７３号公報、特開平１１
−１３３５４５号公報、特開平１１−１３３５４６号公
報、特開平１１−１４９１３６号公報、特開平１１−２
３１４５９号公報、特開２０００−１６２７３３号公
報、ＵＳ−５，５４５，５１５号明細書、ＵＳ−５，６
３５，３３９号明細書、ＵＳ−５，６５４，１３０号明
細書、ＵＳ−５，６８６，２２８号明細書、ＵＳ−５，
７０５，３２４号明細書に記載の化合物も用いることが
できる。さらに、これら造核剤を複数併用してもよい。

【００８３】上記造核剤は、水または適当な有機溶媒、
例えばアルコ−ル類（メタノ−ル、エタノ−ル、プロパ
ノ−ル、フッ素化アルコ−ル）、ケトン類（アセトン、
メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。また、既によく知られている乳化分散
法によって、ジブチルフタレ−ト、トリクレジルフォス
フェ−ト、グリセリルトリアセテ−トあるいはジエチル
フタレ−トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノ
ンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物
を作製して用いることができる。あるいは固体分散法と
して知られている方法によって、造核剤の粉末を水等の
適当な溶媒中にボ−ルミル、コロイドミル、あるいは超
音波によって分散して用いることもできる。造核剤は、
支持体に対して画像形成層側のいずれの層に添加しても
よいが、該画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加
することが好ましい。造核剤の添加量は銀１ｍｏｌに対
し１×１０^-6〜１ｍｏｌが好ましく、１×１０^-5〜５×
１０^-1ｍｏｌがより好ましく、２×１０^-5〜２×１０^-1
ｍｏｌが最も好ましい。

【００８４】また上記の化合物の他に、米国特許第５，
５４５，５１５号明細書、同第５，６３５，３３９号明
細書、同第５，６５４，１３０号明細書、国際公開ＷＯ
９７／３４１９６号公報、米国特許第５，６８６，２２
８号明細書に記載の化合物、或いはまた特開平１１−１
１９３７２号公報、特開平１１−１３３５４６号公報、
特開平１１−１１９３７３号公報、特開平１１−１０９
５４６号公報、特開平１１−９５３６５号公報、特開平
１１−９５３６６号公報、特開平１１−１４９１３６号
公報に記載の化合物を用いてもよい。

【００８５】本発明では超硬調画像形成のために、前記
の造核剤とともに硬調化促進剤を併用することができ
る。例えば、米国特許第５，５４５，５０５号明細書に
記載のアミン化合物、具体的にはＡＭ−１〜ＡＭ−５、
米国特許第５，５４５，５０７号明細書に記載のヒドロ
キサム酸類、具体的にはＨＡ−１〜ＨＡ−１１、米国特
許第５，５４５，５０７号明細書に記載のアクリロニト
リル類、具体的にはＣＮ−１〜ＣＮ−１３、米国特許第
５，５５８，９８３号明細書に記載のヒドラジン化合
物、具体的にはＣＡ−１〜ＣＡ−６、特開平９−２９７
３６８号公報に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはＡ−
１〜Ａ−４２、Ｂ−１〜Ｂ−２７、Ｃ−１〜Ｃ−１４な
どを用いることができる。

【００８６】非感光性銀塩、感光性ハロゲン化銀および
バインダーを有する熱現像感光材料において、蟻酸ある
いは蟻酸塩は強いかぶらせ物質となる。本発明では、熱
現像感光材料の感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成
層を有する側の蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量が銀１ｍｏ
ｌ当たり５ｍｍｏｌ以下、さらには１ｍｍｏｌ以下であ
ることが好ましい。

【００８７】本発明の熱現像感光材料には五酸化二リン
が水和してできる酸またはその塩を造核剤と併用して用
いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸
またはその塩としては、メタリン酸（塩）、ピロリン酸
（塩）、オルトリン酸（塩）、三リン酸（塩）、四リン
酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）などを挙げることが
できる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和し
てできる酸またはその塩としては、オルトリン酸
（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）を挙げることができ
る。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オル
トリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウ
ム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。本発明
において好ましく用いることができる五酸化二リンが水
和してできる酸またはその塩は、少量で所望の効果を発
現するという点から画像形成層あるいはそれに隣接する
バインダー層に添加する。五酸化二リンが水和してでき
る酸またはその塩の使用量（感光材料１ｍ²あたりの塗
布量）は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量で
よいが、０．１〜５００ｍｇ／ｍ²が好ましく、０．５
〜１００ｍｇ／ｍ²がより好ましい。

【００８８】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理前の
膜面ｐＨは６．０以下であることが好ましく、さらに好
ましくは５．５以下である。その下限には特に制限はな
いが、３程度である。膜面ｐＨの調節はフタル酸誘導体
などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアな
どの揮発性の塩基を用いることが、膜面ｐＨを低減させ
るという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しや
すく、塗布する工程や熱現像される前に除去できること
から低膜面ｐＨを達成する上で好ましい。なお、膜面ｐ
Ｈの測定方法は、特開２０００−２８４３９９号公報の
段落番号０１２３に記載されている。

【００８９】本発明の熱現像感光材料において、ハロゲ
ン化銀乳剤および／または有機銀塩は、カブリ防止剤、
安定剤および安定剤前駆体によって、付加的なカブリの
生成に対してさらに保護され、在庫貯蔵中における感度
の低下に対して安定化することができる。単独または組
合せて使用することができる適当なカブリ防止剤、安定
剤および安定剤前駆体は、米国特許第２，１３１，０３
８号明細書および同第２，６９４，７１６号明細書に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第２，８８６，４３７号
明細書および同第２，４４４，６０５号明細書に記載の
アザインデン、米国特許第２，７２８，６６３号明細書
に記載の水銀塩、米国特許第３，２８７，１３５号明細
書に記載のウラゾール、米国特許第３，２３５，６５２
号明細書に記載のスルホカテコール、英国特許第６２
３，４４８号明細書に記載のオキシム、ニトロン、ニト
ロインダゾール、米国特許第２，８３９，４０５号明細
書に記載の多価金属塩、米国特許第３，２２０，８３９
号明細書に記載のチウロニウム塩、ならびに米国特許第
２，５６６，２６３号明細書および同第２，５９７，９
１５号明細書に記載のパラジウム、白金および金塩、米
国特許第４，１０８，６６５号明細書および同第４，４
４２，２０２号明細書に記載のハロゲン置換有機化合
物、米国特許第４，１２８，５５７号明細書および同第
４，１３７，０７９号明細書、同第４，１３８，３６５
号明細書および同第４，４５９，３５０号明細書に記載
のトリアジンならびに米国特許第４，４１１，９８５号
明細書に記載のリン化合物などがある。

【００９０】本発明の熱現像感光材料は、高感度化やカ
ブリ防止を目的として安息香酸類を含有してもよい。本
発明で用いる安息香酸類はいかなる安息香酸誘導体でも
よいが、好ましい例としては、米国特許第４，７８４，
９３９号明細書、同第４，１５２，１６０号明細書、特
開平９−３２９８６３号公報、同９−３２９８６４号公
報、同９−２８１６３７号公報などに記載の化合物が挙
げられる。安息香酸類は熱現像感光材料のいかなる層に
添加してもよいが、支持体に対して画像形成層側の層に
添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加するこ
とがさらに好ましい。安息香酸類の添加は塗布液調製の
いかなる工程で行ってもよく、有機銀塩含有層に添加す
る場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工
程でもよいが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。
安息香酸類の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物
などいかなる方法で行ってもよい。また、増感色素、還
元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加
してもよい。安息香酸類の添加量としてはいかなる量で
もよいが、銀１ｍｏｌ当たり１×１０^-6ｍｏｌ〜２ｍｏ
ｌが好ましく、１×１０^-3ｍｏｌ〜０．５ｍｏｌがさら
に好ましい。

【００９１】本発明を実施するために必須ではないが、
画像形成層にカブリ防止剤として水銀（ＩＩ）塩を加え
ることが有利なことがある。この目的のために好ましい
水銀（ＩＩ）塩は、酢酸水銀および臭化水銀である。本
発明に使用する水銀の添加量としては、塗布された銀１
ｍｏｌ当たり好ましくは１×１０^-9ｍｏｌ〜１×１０ ^-3
ｍｏｌ、さらに好ましくは１×１０^-8ｍｏｌ〜１×１０
^-4ｍｏｌの範囲である。

【００９２】本発明で特に好ましく用いられるカブリ防
止剤は有機ハロゲン化物であり、例えば、特開昭５０−
８９０２０号公報、同５０−１１９６２４号公報、同５
０−１２０３２８号公報、同５０−１３７１２６号公
報、同５１−１２１３３２号公報、同５４−５８０２２
号公報、同５６−７０５４３号公報、同５６−９９３３
５号公報、同５９−５７２３４号公報、同５９−９０８
４２号公報、同６１−１２９６４２号公報、同６２−１
２９８４５号公報、特開平６−２０８１９１号公報、同
７−５６２１号公報、同７−２７８１号公報、同８−１
５８０９号公報、同９−１６０１６４号公報、同９−１
６０１６７号公報、同９−２４４１７７号公報、同９−
２４４１７８号公報、同９−２５８３６７号公報、同９
−２６５１５０号公報、同９−３１９０２２号公報、同
１０−１９７９８８号公報、同１１−２４２３０４号公
報、特開２０００−００２９６３号公報、特開２０００
−１１２０７０号公報、特開２０００−２８４４１２号
公報、特開２０００−２８４４１０号公報、同１１−２
０５３３０号明細書、米国特許第３，８７４，９４６号
明細書、同第４，７５６，９９９号明細書、同第５，３
４０，７１２号明細書、同第５，３６９，０００号明細
書、同第５，４６４，７３７号明細書に開示されている
ような化合物が挙げられる。特開２０００−２８４３９
９号公報に記載の式（Ｐ）で表される親水性有機ハロゲ
ン化物がカブリ防止剤として好ましく用いられる。具体
的には、同公報に記載の（Ｐ−１）〜（Ｐ−１１８）が
好ましく用いられる。有機ハロゲン化物の添加量は、Ａ
ｇ１ｍｏｌに対するｍｏｌ量（ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ）で
示して、好ましくは１×１０^-5〜２ｍｏｌ／ｍｏｌＡ
ｇ、より好ましくは５×１０^-5〜１ｍｏｌ／ｍｏｌＡ
ｇ、さらに好ましくは１×１０^-4〜５×１０^-1ｍｏｌ／
ｍｏｌＡｇである。これらは１種のみを用いても２種以
上を併用してもよい。

【００９３】また、特開２０００−２８４３９９号公報
に記載の式（Ｚ）で表されるサリチル酸誘導体がカブリ
防止剤として好ましく用いられる。具体的には、同公報
に記載の（Ａ−１）〜（Ａ−６０）が好ましく用いられ
る。式（Ｚ）で表されるサリチル酸誘導体の添加量は、
Ａｇ１ｍｏｌに対するｍｏｌ量（ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ）
で示して、好ましくは１×１０^-5〜５×１０^-1ｍｏｌ／
ｍｏｌＡｇ、より好ましくは５×１０^-5〜１×１０^-1ｍ
ｏｌ／ｍｏｌＡｇ、さらに好ましくは１×１０ ^-4〜５×
１０^-2ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇである。これらは１種のみを
用いても２種以上を併用してもよい。

【００９４】本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤
として、ホルマリンスカベンジャーが有効であり、例え
ば、特開２０００−２２１６３４号公報に記載の式
（Ｓ）で表される化合物およびその例示化合物（Ｓ−
１）〜（Ｓ−２４）が挙げられる。

【００９５】本発明に用いるカブリ防止剤は、水あるい
は適当な有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、
エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケ
トン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ
などに溶解して用いることができる。また、既によく知
られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、
トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテー
トあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチ
ルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、
機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あ
るいは固体分散法として知られている方法によって、粉
末を水の中にボールミル、コロイドミル、サンドグライ
ンダーミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザ
ーあるいは超音波によって分散し用いることもできる。

【００９６】本発明に用いるカブリ防止剤は、支持体に
対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの
層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層ある
いはそれに隣接する層に添加することが好ましい。画像
形成層は還元可能な銀塩（有機銀塩）を含有する層であ
り、好ましくはさらに感光性ハロゲン化銀を含有する画
像形成層であることが好ましい。

【００９７】本発明の熱現像感光材料には現像を抑制あ
るいは促進させ現像を制御することや、現像前後の保存
性を向上させることなどを目的としてメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでもよいが、Ａｒ−ＳＭ、Ａｒ
−Ｓ−Ｓ−Ａｒで表されるものが好ましい。式中、Ｍは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン（例え
ば、ＢｒおよびＣｌ）、ヒドロキシ、アミノ、カルボキ
シ、アルキル（例えば、１個以上の炭素原子、好ましく
は１〜４個の炭素原子を有するもの）、アルコキシ（例
えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素
原子を有するもの）およびアリール（置換基を有してい
てもよい）からなる置換基群から選択されるものを有し
てもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物をとして
は、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾール、
６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾール、２，
２’−ジチオビス−（ベンゾチアゾール）、３−メルカ
プト−１，２，４−トリアゾール、４，５−ジフェニル
−２−イミダゾールチオール、２−メルカプトイミダゾ
ール、１−エチル−２−メルカプトベンズイミダゾー
ル、２−メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、
２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリノン、７−トリ
フルオロメチル−４−キノリンチオール、２，３，５，
６−テトラクロロ−４−ピリジンチオール、４−アミノ
−６−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジンモノヒド
レート、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チ
アジアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール、４−ヒドキロシ−２−メルカプトピ
リミジン、２−メルカプトピリミジン、４，６−ジアミ
ノ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−
メチルピリミジンヒドロクロリド、３−メルカプト−５
−フェニル−１，２，４−トリアゾール、１−フェニル
−５−メルカプトテトラゾール、３−（５−メルカプト
テトラゾール）−ベンゼンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−
メチル−Ｎ’−｛３−（５−メルカプトテトラゾリル）
フェニル｝ウレア、２−メルカプト−４−フェニルオキ
サゾールなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定さ
れない。これらのメルカプト化合物の添加量としては画
像形成層中に銀１ｍｏｌ当たり０．０００１〜１．０ｍ
ｏｌの範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の１ｍｏ
ｌ当たり０．００１〜０．３ｍｏｌの量である。

【００９８】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に、
有機銀塩、還元剤および感光性ハロゲン化銀を含む画像
形成層を有し、画像形成層上には少なくとも１層の保護
層が設けられていることが好ましい。また、本発明の熱
現像感光材料は支持体に対して画像形成層と反対側（バ
ック面）に少なくとも１層のバック層を有することが好
ましく、画像形成層、保護層、そしてバック層のバイン
ダーとしてポリマーラテックスが用いられる。これらの
層にポリマーラテックスを用いることによって、水を主
成分とする溶媒（分散媒）を用いた水系塗布が可能にな
り、環境面、コスト面で有利になるとともに、熱現像時
にシワの発生がない熱現像感光材料が得られるようにな
る。また、所定の熱処理をした支持体を使用することに
より、熱現像の前後で寸法変化の少ない熱現像感光材料
が得られる。

【００９９】本発明で用いるバインダーとして以下に述
べるポリマーラテックスを用いることが好ましい。本発
明の熱現像感光材料の感光性ハロゲン化銀を含有する画
像形成層のうち少なくとも１層は以下に述べるポリマー
ラテックスを全バインダーの５０重量％以上用いた画像
形成層であることが好ましい。また、ポリマーラテック
スは画像形成層だけではなく、保護層やバック層に用い
てもよく、特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明
の熱現像感光材料を用いる場合には、保護層やバック層
にもポリマーラテックスを用いることが好ましい。ただ
しここで言う「ポリマーラテックス」とは水不溶な疎水
性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散
されたものである。分散状態としてはポリマーが分散媒
中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル
分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親
水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散されたものな
どいずれでもよい。なお本発明で用いるポリマーラテッ
クスについては「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣
寛編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラ
テックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原
啓司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成
ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１
９７０））」などに記載されている。分散粒子の平均粒
径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００
ｎｍ程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関し
ては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分
散の粒径分布を持つものでもよい。

【０１００】本発明で用いるポリマーラテックスとして
は、通常の均一構造のポリマーラテックス以外の、いわ
ゆるコア／シェル型のラテックスでもよい。この場合コ
アとシェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合が
ある。

【０１０１】本発明で用いるバインダーに好ましく用い
るポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は保護
層、バック層と画像形成層とでは好ましい範囲が異な
る。画像形成層にあっては熱現像時に写真有用素材の拡
散を促すため、−３０〜４０℃であることが好ましい。
保護層やバック層に用いる場合には種々の機器と接触す
るために２５〜７０℃のガラス転移温度が好ましい。

【０１０２】本発明で用いるポリマーラテックスの最低
造膜温度（ＭＦＴ）は−３０℃〜９０℃、より好ましく
は０℃〜７０℃程度が好ましい。最低造膜温度をコント
ロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤
は可塑剤ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度
を低下させる有機化合物（通常有機溶剤）で、例えば前
述の「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行
会発行（１９７０））」に記載されている。

【０１０３】本発明で用いるポリマーラテックスに用い
られるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、またはこれらの共重合体などが挙げられる。
ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリ
マーでも、また架橋されたポリマーでもよい。またポリ
マーとしては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポ
リマーでもよいし、２種以上のモノマーが重合したコポ
リマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマ
ーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量
は数平均分子量で５，０００〜１，０００，０００、好
ましくは１０，０００〜１００，０００程度が好まし
い。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強度が
不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く、好まし
くない。

【０１０４】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては、メチルメタクリレート／エチルアクリレート
／メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート／ブタジエン／イタコン酸コポリマーのラテッ
クス、エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマー
のラテックス、メチルメタクリレート／２−エチルヘキ
シルアクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリ
マーのラテックス、スチレン／ブタジエン／ジビニルベ
ンゼン／メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチル
メタクリレート／塩化ビニル／アクリル酸コポリマーの
ラテックス、塩化ビニリデン／エチルアクリレート／ア
クリロニトリル／メタクリル酸コポリマーのラテックス
などが挙げられる。さらに具体的には、メチルメタクリ
レート／エチルアクリレート／メタクリル酸＝３３．５
／５０／１６．５（重量％）のコポリマーラテックス、
メチルメタクリレート／ブタジエン／イタコン酸＝４
７．５／４７．５／５（重量％）のコポリマーラテック
ス、エチルアクリレート／メタクリル酸＝９５／５（重
量％）のコポリマーラテックスなどが挙げられる。ま
た、このようなポリマーは市販もされていて、例えばア
クリル樹脂の例として、セビアンＡ−４６３５，４６５
８３、４６０１（以上ダイセル化学工業（株）製）、Ｎ
ｉｐｏｌ ＬＸ８１１、８１４、８２１、８２０、８５
７（以上日本ゼオン（株）製）、ＶＯＮＣＯＲＴ−Ｒ３
３４０、Ｒ３３６０、Ｒ３３７０、４２８０（以上大日
本インキ化学（株）製）など、ポリエステル樹脂として
は、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８
５０（以上大日本インキ化学（株）製）、ＷＤ−ｓｉｚ
ｅ、ＷＭＳ（以上イーストマンケミカル製）など、ポリ
ウレタン樹脂としてはＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、２０、
３０、４０（以上大日本インキ化学（株）製）など、ゴ
ム系樹脂としてはＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０
７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上大日本インキ化学
（株）製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１０、４３０，４３
５、４３８Ｃ（以上日本ゼオン（株）製）など、塩化ビ
ニル樹脂としてはＧ３５１、Ｇ５７６（以上日本ゼオン
（株）製）など、塩化ビニリデン樹脂としてはＬ５０
２、Ｌ５１３（以上旭化成工業（株）製）、アロンＤ７
０２０、Ｄ５０４、Ｄ５０７１（以上三井東圧（株）
製）など、オレフィン樹脂としてはケミパールＳ１２
０、ＳＡ１００（以上三井石油化学（株）製）などを挙
げることができる。これらのポリマーは単独で用いても
よいし、必要に応じて２種以上ブレンドして用いてもよ
い。

【０１０５】画像形成層には全バインダーの５０重量％
以上として上記ポリマーラテックスが好ましく用いられ
るが、７０重量％以上として上記ポリマーラテックスが
用いられることがさらに好ましい。

【０１０６】画像形成層には必要に応じて全バインダー
の５０重量％以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコ
ール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピル
メチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよ
い。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成層の全
バインダーの３０重量％以下、さらには１５重量％以下
が好ましい。

【０１０７】画像形成層は水系の塗布液を塗布後乾燥し
て調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水
系」とは塗布液の溶媒（分散媒）の６０重量％以上が水
であることをいう。塗布液の水以外の成分はメチルアル
コール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホルム
アミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いる
ことができる。具体的な溶媒組成の例としては以下のよ
うなものがある。水／メタノール＝９０／１０、水／メ
タノール＝７０／３０、水／エタノール＝９０／１０、
水／イソプロパノール＝９０／１０、水／ジメチルホル
ムアミド＝９５／５、水／メタノール／ジメチルホルム
アミド＝８０／１５／５、水／メタノール／ジメチルホ
ルムアミド＝９０／５／５。（ただし数字は重量％を表
す。）

【０１０８】画像形成層の全バインダー量は０．２〜３
０ｇ／ｍ²、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ²の範囲が好
ましい。画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改
良のための界面活性剤などを添加してもよい。

【０１０９】さらに、保護層用のバインダーとして、特
開２０００−２６７２２６号公報の段落番号００２５〜
００２９に記載の有機概念図に基づく無機性値を有機性
値で割ったＩ／Ｏ値の異なるポリマーラテックスの組み
合わせを好ましく用いることができる。

【０１１０】本発明においては必要に応じて、特開２０
００−２６７２２６号公報の段落番号００２１〜００２
５に記載の可塑剤（例、ベンジルアルコール、２，２，
４−トリメチルペンタンジオール−１，３−モノイソブ
チレートなど）を添加して、造膜温度をコントロールす
ることができる。また、特開２０００−２６７２２６号
公報の段落番号００２７〜００２８に記載の如くポリマ
ーバインダー中に親水性ポリマーを、塗布液中に水混和
性の有機溶媒を添加してもよい。

【０１１１】それぞれの層には、特開２０００−１９６
７８号公報の段落番号００２３〜００４１に記載の官能
基を導入した第一のポリマーラテックスとこの第一のポ
リマーラテックスと反応しうる官能基を有する架橋剤お
よび／または第二のポリマーラテックスを用いることも
できる。上記の官能基は、カルボキシル基、ヒドロキシ
ル基、イソシアネート基、エポキシ基、Ｎ−メチロール
基、オキサゾリニル基など、架橋剤としては、エポキシ
化合物、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネー
ト化合物、メチロ−ル化合物、ヒドロキシ化合物、カル
ボキシル化合物、アミノ化合物、エチレンイミン化合
物、アルデヒド化合物、ハロゲン化合物などから選ばれ
る。架橋剤の具体例として、イソシアネート化合物とし
てヘキサメチレンイソシアネート、デュラネートＷＢ４
０−８０Ｄ、ＷＸ−１７４１（旭化成工業（株）製）、
バイヒジュール３１００（住友バイエルウレタン（株）
製）、タケネートＷＤ７２５（武田薬品工業（株）
製）、アクアネート１００、２００（日本ポリウレタン
（株）製）、特開平９−１６０１７２号公報記載の水分
散型ポリイソシアネート；アミノ化合物としてスミテッ
クスレジンＭ−３（住友化学工業（株）製）；エポキシ
化合物としてデナコールＥＸ−６１４Ｂ（ナガセ化成工
業（株）製）；ハロゲン化合物として２，４ジクロロ−
６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウムな
どが挙げられる。

【０１１２】画像形成層用の全バインダー量は０．２〜
３０ｇ／ｍ²、より好ましくは１．０〜１５ｇ／ｍ²の範
囲が好ましい。保護層用の全バインダー量は０．２〜１
０．０ｇ／ｍ²、より好ましくは０．５〜６．０ｇ／ｍ²
の範囲が好ましい。バック層用の全バインダー量は０．
０１〜１０．０ｇ／ｍ²、より好ましくは０．０５〜
５．０ｇ／ｍ²の範囲が好ましい。

【０１１３】これらの各層は、２層以上設けられる場合
がある。画像形成層が２層以上である場合は、すべての
層のバインダーとしてポリマーラテックスを用いること
が好ましい。また、保護層は画像形成層上に設けられる
層であり２層以上存在する場合もあるが、少なくとも１
層、特に最外層の保護層にポリマーラテックスが用いら
れることが好ましい。また、バック層は支持体バック面
の下塗り層の上部に設けられる層であり２層以上存在す
る場合もあるが、少なくとも１層、特に最外層のバック
層にポリマーラテックスを用いることが好ましい。

【０１１４】本明細書における滑り剤とは、物体表面に
存在させた時に、存在させない場合に比べて物体表面の
摩擦係数を減少させる化合物を意味する。その種類は特
に制限されない。

【０１１５】本発明に用いる滑り剤としては、特開平１
１−８４５７３号公報の段落番号００６１〜００６４、
特願２０００−４７０８３号明細書の段落番号００４９
〜００６２に記載の化合物を挙げることができる。好ま
しい滑り剤の具体例としては、セロゾール５２４（主成
分カルナバワックス）、ポリロンＡ，３９３，Ｈ−４８
１（主成分ポリエチレンワックス）、ハイミクロンＧ−
１１０（主成分エチレンビスステアリン酸アマイド）、
ハイミクロンＧ−２７０（主成分ステアリン酸アマイ
ド）（以上、中京油脂（株）製）、 Ｗ−１ Ｃ₁₆Ｈ₃₃−Ｏ−ＳＯ₃Ｎａ Ｗ−２ Ｃ₁₈Ｈ₃₇−Ｏ−ＳＯ₃Ｎａ などが挙げられる。滑り剤の使用量は添加層のバインダ
ー量の０．１〜５０重量％であり、好ましくは０．５〜
３０重量％である。

【０１１６】本発明において、特開２０００−１７１９
３５号公報、特願２０００−４７０８３号明細書に記載
のように予備加熱部を対向ローラーで搬送し、熱現像処
理部は画像形成層を有する側をローラーの駆動により、
その反対側のバック面を平滑面に滑らせて搬送する熱現
像処理装置を用いる場合、現像処理温度における熱現像
感光材料の画像形成層を有する側の最表面層とバック面
の最表面層との摩擦係数の比は、１．５以上であり、そ
の上限に特に制限はないが３０程度である。また、μｂ
は１．０以下、好ましくは０．０５〜０．８である。こ
の値は、下記の式によって求められる。 摩擦係数の比＝熱現像機のローラー部材と画像形成層を
有する面との動摩擦係数（μｅ）／熱現像機の平滑面部
材とバック面との動摩擦係数（μｂ） 本発明において熱現像処理温度での熱現像処理機部材と
画像形成層を有する面および／またはその反対面の最表
面層の滑り性は、最表面層に滑り剤を含有させ、その添
加量を変えることにより調整することができる。

【０１１７】支持体の両面には、特開昭６４−２０５４
４号公報、特開平１−１８０５３７号公報、特開平１−
２０９４４３号公報、特開平１−２８５９３９号公報、
特開平１−２９６２４３号公報、特開平２−２４６４９
号公報、特開平２−２４６４８号公報、特開平２−１８
４８４４号公報、特開平３−１０９５４５号公報、特開
平３−１３７６３７号公報、特開平３−１４１３４６号
公報、特開平３−１４１３４７号公報、特開平４−９６
０５５号公報、米国特許第４，６４５，７３１号明細
書、特開平４−６８３４４号公報、特許第２，５５７，
６４１号公報の２頁右欄２０行目〜３頁右欄３０行目、
特開２０００−３９６８４号公報の段落番号００２０〜
００３７、特願２０００−４７０８３号明細書の段落番
号００６３〜００８０に記載の塩化ビニリデン単量体の
繰り返し単位を７０重量％以上含有する塩化ビニリデン
共重合体を含む下塗り層を設けることが好ましい。

【０１１８】塩化ビニリデン単量体が７０重量％未満の
場合は、十分な防湿性が得られず、熱現像後の時間経過
における寸法変化が大きくなってしまう。また、塩化ビ
ニリデン共重合体は、塩化ビニリデン単量体のほかの構
成繰り返し単位としてカルボキシル基含有ビニル単量体
の繰り返し単位を含むことが好ましい。このような繰り
返し単位を含ませるのは、塩化ビニル単量体のみでは、
重合体（ポリマー）が結晶化してしまい、防湿層を塗設
する際に均一な膜を作り難くなり、また重合体（ポリマ
ー）の安定化のためにはカルボキシル基含有ビニル単量
体が不可欠であるからである。本発明で用いる塩化ビニ
リデン共重合体の分子量は、重量平均分子量で４５，０
００以下、さらには１０，０００〜４５，０００が好ま
しい。分子量が大きくなると塩化ビニリデン共重合体層
とポリエステル等の支持体層との接着性が悪化してしま
う傾向がある。

【０１１９】本発明で用いる塩化ビニリデン共重合体の
含有量は、塩化ビニリデン共重合体を含有する下塗り層
の片面当たりの合計膜厚として０．３μｍ以上であり、
好ましくは０．３μｍ〜４μｍの範囲である。

【０１２０】なお、下塗り層としての塩化ビニリデン共
重合体層は、支持体に直接設層される下塗り層第１層と
して設けることが好ましく、通常は片面ごとに１層ずつ
設けられるが、場合によっては２層以上設けてもよい。
このような層には塩化ビニリデン共重合体のほか、架橋
剤やマット剤などを含有させてもよい。

【０１２１】支持体は必要に応じて塩化ビニリデン共重
合体層のほか、ＳＢＲ、ポリエステル、ゼラチン等をバ
インダーとする下塗り層を塗布してもよいが、本発明で
は下塗り層としてゼラチン層を付与することが好まし
い。これらの下塗り層は多層構成としてもよく、また支
持体に対して片面または両面に設けてもよい。下塗り層
の厚み（１層当たり）は一般に０．０１〜５μｍ、より
好ましくは０．０５〜１μｍである。

【０１２２】本発明の熱現像感光材料には、種々の支持
体を用いることができる。典型的な支持体としては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
などのポリエステル、硝酸セルロース、セルロースエス
テル、ポリビニルアセタール、シンジオタクチックポリ
スチレン、ポリカーボネート、両面がポリエチレンで被
覆された紙支持体などが挙げられる。このうち二軸延伸
したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）が強度、寸法安定性、耐薬品性などの点から
好ましい。支持体の厚みは下塗り層を除いたベース厚み
で９０〜１８０μｍであることが好ましい。

【０１２３】本発明の熱現像感光材料に用いる支持体と
しては、特開平１０−４８７７２号公報、特開平１０−
１０６７６号公報、特開平１０−１０６７７号公報、特
開平１１−６５０２５号公報、特開平１１−１３８６４
８号公報に記載の二軸延伸時にフィルム中に残存する内
部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪み
をなくすために、１３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理
を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレー
トが好ましく用いられる。

【０１２４】このような熱処理後における支持体の１２
０℃、３０秒加熱による寸法変化率は縦方向（ＭＤ）が
−０．０３％〜＋０．０１％、横方向（ＴＤ）が０〜
０．０４％であることが好ましい。

【０１２５】本発明の熱現像感光材料には、ゴミ付着の
減少、スタチックマーク発生防止、自動搬送工程での搬
送不良防止などの目的で、特開平１１−８４５７３号公
報の段落番号００４０〜００５１に記載の導電性金属酸
化物および／またはフッ素系界面活性剤を用いて帯電防
止することができる。導電性金属酸化物としては、米国
特許第５，５７５，９５７号明細書、特開平１１−１３
３５４６号公報の段落番号００１２〜００２０に記載の
アンチモンでドーピングされた針状導電性酸化錫、特開
平４−２９１３４号公報に記載のアンチモンでドーピン
グされた繊維状酸化錫が好ましく用いられる。

【０１２６】金属酸化物含有層の表面比抵抗（表面抵抗
率）は２５℃、相対湿度２０％の雰囲気下で１０¹²Ω以
下、好ましくは１０¹¹Ω以下がよい。これにより良好な
帯電防止性が得られる。このときの表面抵抗率の下限は
特に制限されないが、通常１０⁷Ω程度である。

【０１２７】本発明の熱現像感光材料の画像形成層を有
する面およびその反対面の最外層表面の少なくとも一
方、好ましくは両方のベック平滑度は、２０００秒以下
であり、より好ましくは１０秒〜２０００秒である。本
発明におけるベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）
Ｐ８１１９「紙および板紙のベック試験器による平滑度
試験方法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易
に求めることができる。熱現像感光材料の画像形成層を
有する面の最外層およびその反対面の最外層のベック平
滑度は、特開平１１−８４５７３号公報の段落番号００
５２〜００５９に記載の如く、前記両面の層に含有させ
るマット剤の粒径および添加量を適宜変化させることに
よってコントロールすることができる。

【０１２８】本発明では水溶性ポリマーが塗布性付与の
ための増粘剤として好ましく利用され、天然物でも合成
ポリマーでもよく、その種類は特に限定されない。具体
的には、天然物としてはデンプン類（コーンスターチ、
デンプンなど）、海藻（寒天、アルギン酸ナトリウムな
ど）、植物性粘着物（アラビアゴムなど）、動物性タン
パク（にかわ、カゼイン、ゼラチン、卵白など）、発酵
粘着物（プルラン、デキストリンなど）などであり、半
合成ポリマーであるデンプン質（可溶性デンプン、カル
ボキシルデンプン、デキストランなど）、セルロース類
（ビスコース、メチルセルロース、エチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースなど）も挙げられ、さらに合成ポ
リマー（ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、
ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリビニルエーテル、ポリエチ
レンイミン、ポリスチレンスルホン酸またはその共重合
体、ポリビニルスルフィン酸またはその共重合体、ポリ
アクリル酸またはその共重合体、アクリル酸またはその
共重合体等、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエス
テル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン酸
またはその共重合体など）などである。

【０１２９】これらの中でも好ましく用いられる水溶性
ポリマーは、アルギン酸ナトリウム、ゼラチン、デキス
トラン、デキストリン、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリスチレ
ンスルホン酸またはその共重合体、ポリアクリル酸また
はその共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、ア
クリロイルメチルプロパンスルホン酸またはその共重合
体などであり、特に増粘剤として好ましく利用される。

【０１３０】これらでも特に好ましい増粘剤としては、
ゼラチン、デキストラン、メチルセルロース、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリビニル
ピロリドン、ポリスチレンスルホン酸またはその共重合
体、ポリアクリル酸またはその共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体などである。これらの化合物は、
「新・水溶性ポリマーの応用と市場」（株式会社シーエ
ムシー発行、長友新治編集、１９８８年１１月４日発
行）に詳細に記載されている。

【０１３１】増粘剤としての水溶性ポリマーの使用量
は、塗布液に添加した時に粘度が上昇すれば特に限定さ
れない。一般に液中の濃度は０．０１〜３０重量％、よ
り好ましくは０．０５〜２０重量％、特に好ましくは
０．１〜１０重量％である。これらによって得られる粘
度は、初期の粘度からの上昇分として１〜２００ｍＰａ
・ｓが好ましく、より好ましくは５〜１００ｍＰａ・ｓ
である。なお、粘度はＢ型回転粘度計で２５℃で測定し
た値を示す。塗布液などへの添加に当たっては、一般に
増粘剤はできるだけ希薄溶液で添加することが望まし
い。また添加時は十分な攪拌を行なうことが好ましい。

【０１３２】本発明で用いる界面活性剤について以下に
述べる。本発明で用いる界面活性剤はその使用目的によ
って、分散剤、塗布剤、濡れ剤、帯電防止剤、写真性コ
ントロール剤などに分類されるが、以下に述べる界面活
性剤を適宜選択して使用することによってそれらの目的
は達成することができる。本発明で用いる界面活性剤
は、ノニオン性、イオン性（アニオン、カチオン、ベタ
イン）のいずれも使用できる。さらにフッ素系界面活性
剤も好ましく用いられる。

【０１３３】好ましいノニオン系界面活性剤としては、
ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性
親水性基とする界面活性剤を挙げることができ、具体的
には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエ
チレン−ポリオキシプロピレングリコール、多価アルコ
ール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アル
コール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエ
タノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エス
テルを挙げることができる。

【０１３４】アニオン系界面活性剤としては、カルボン
酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸エステル塩を挙げ
ることができ、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン
酸塩、アルキルスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン
酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、α−スルホン化脂
肪酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン、石油スル
ホン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレン
スチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナ
フタレンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物などを挙
げることができる。

【０１３５】カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、
４級アンモニウム塩、ピリジウム塩などを挙げることが
でき、第１〜第３脂肪アミン塩、第４級アンモニウム塩
（テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジ
ルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイ
ミダゾリウム塩など）を挙げることができる。

【０１３６】ベタイン系界面活性剤としてはカルボキシ
ベタイン、スルホベタインなどを挙げることができ、Ｎ
−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベ
タイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スルホアルキレンアン
モニウムベタインなどを挙げることができる。

【０１３７】これらの界面活性剤は、「界面活性剤の応
用」（幸書房、刈米孝夫著、昭和５５年９月１日発行）
に記載されている。本発明においては、好ましい界面活
性剤はその使用量において特に限定されず、目的とする
界面活性特性が得られる量であればよい。なお、フッ素
含有界面活性剤の塗布量は、１ｍ²当り０．０１ｍｇ〜
２５０ｍｇが好ましい。

【０１３８】以下に界面活性剤の具体例を記すが、これ
に限定されるものではない（ここで、−Ｃ₆Ｈ₄−はフェ
ニレン基を表わす）。 WA-1 :C₁₆H₃₃(OCH₂CH₂)₁₀OH WA-2 :C₉H₁₉-C₆H₄-(OCH₂CH₂)₁₂OH WA-3 :ト゛テ゛シルヘ゛ンセ゛ンスルホン酸ナトリウム WA-4 :トリ(イソフ゜ロヒ゜ル)ナフタレンスルホン酸ナトリウム WA-5 :トリ(イソフ゛チル)ナフタレンスルホン酸ナトリウム WA-6 :ト゛テ゛シル硫酸ナトリウム WA-7 :α-スルファコハク酸シ゛(2-エチルヘキシル)エステル ナトリウム塩 WA-8 :C₈H₁₇-C₆H₄-(CH₂CH₂O)₃(CH₂)₂SO₃K WA-10 :セチルトリメチルアンモニウム クロライト゛ WA-11 :C₁₁H₂₃CONHCH₂CH₂N⁽⁺⁾(CH₃)₂-CH₂COO^(-) WA-12 :C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂CH₂O)₁₆H WA-13 :C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)CH₂COOK WA-14 :C₈F₁₇SO₃K WA-15 :C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂CH₂O)₄(CH₂)₄SO₃Na WA-16 :C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂)₃OCH₂CH₂N⁽⁺⁾(CH₃)₃-CH₃・
C₆H₄-SO₃ ^(-) WA-17 :C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)CH₂CH₂CH₂N⁽⁺⁾(CH₃)₂-CH₂COO
^(-)

【０１３９】本発明の好ましい態様においては、画像形
成層および保護層に加えて、必要に応じて中間層を設け
てもよい。生産性の向上などを目的として、これらの複
数の層は水系において同時重層塗布することが好まし
い。塗布方式はエクストルージョン塗布、スライドビー
ド塗布、カーテン塗布などがあるが、特開２０００−２
９６４号公報の図１に示されるスライドビード塗布方式
が特に好ましい。

【０１４０】ゼラチンを主バインダーとして用いるハロ
ゲン化銀写真感光材料の場合は、コーティングダイの下
流に設けられている第一乾燥ゾーンで急冷され、その結
果、ゼラチンのゲル化が起こり、塗布膜は冷却固化され
る。冷却固化されて流動の止まった塗布膜は続く第二乾
燥ゾーンに導かれ、これ以降の乾燥ゾーンで塗布液中の
溶媒が揮発され、成膜される。第二乾燥ゾーン以降の乾
燥方式としては、Ｕ字型のダクトからローラー支持され
た支持体に噴流を吹き付けるエアーループ方式や円筒状
のダクトに支持体をつるまき状に巻き付けて搬送乾燥す
る、つるまき方式（エアーフローティング方式）などが
挙げられる。

【０１４１】バインダーの主成分がポリマーラテックス
である塗布液を用いて層形成を行うときには、急冷では
塗布液の流動を停止させることができないため、第一乾
燥ゾーンのみでは予備乾燥が不十分である場合もある。
この場合は、ハロゲン化銀写真感光材料で用いられてい
る様な乾燥方式では流れムラや乾燥ムラが生じ、塗布面
状に重大な欠陥を生じやすい。

【０１４２】本発明における好ましい乾燥方式は、特開
２０００−２９６４号公報に記載されているような第一
乾燥ゾーン、第二乾燥ゾーンを問わず、少なくとも恒率
乾燥が終了するまでの間は水平乾燥ゾーンで乾燥させる
方式である。塗布直後から水平乾燥ゾーンに導かれるま
での支持体の搬送は、水平搬送であってもなくてもどち
らでもよく、塗布機の水平方向に対する立ち上がり角度
は０〜７０°の間にあればよい。また、本発明における
水平乾燥ゾーンとは、支持体が塗布機の水平方向に対し
て上下に±１５°以内に搬送されればよく、水平搬送を
意味するものではない。

【０１４３】本発明における恒率乾燥とは、液膜温度が
一定で流入する熱量全てが溶媒の蒸発に使用される乾燥
過程を意味する。減率乾燥とは、乾燥末期になると種々
の要因（水分移動の材料内部拡散が律速になる、蒸発表
面の後退など）により乾燥速度が低下し、与えられた熱
が液膜温度上昇にも使用される乾燥過程を意味する。恒
率過程から減率過程に移行する限界含水率は２００〜３
００％である。恒率乾燥が終了する時には、流動が停止
するまで十分乾燥が進むため、ハロゲン化銀写真感光材
料の様な乾燥方式も採用することができるが、本発明に
おいては恒率乾燥後も最終的な乾燥点まで水平乾燥ゾー
ンで乾燥させることが好ましい。

【０１４４】画像形成層および／または保護層を形成す
る時の乾燥条件は、恒率乾燥時の液膜表面温度がポリマ
ーラテックスの最低造膜温度（ＭＴＦ；通常ポリマーの
ガラス転移温度Ｔｇより３〜５℃高い）以上にすること
が好ましい。通常は製造設備の制限より２５℃〜４０℃
にすることが多い。また、減率乾燥時の乾球温度は支持
体のＴｇ未満の温度（ＰＥＴの場合通常８０℃以下）が
好ましい。本明細書における液膜表面温度とは、支持体
に塗布された塗布液膜の溶媒液膜表面温度を言い、乾球
温度とは乾燥ゾーンの乾燥風の温度を意味する。

【０１４５】恒率乾燥時の液膜表面温度が低くなる条件
で乾燥した場合、乾燥が不十分になりやすい。このため
特に保護層の造膜性が著しく低下し、膜表面に亀裂が生
じやすくなる。また、膜強度も弱くなり、露光機や熱現
像機での搬送中に傷がつきやすくなるなどの重大な問題
が生じやすくなる。

【０１４６】一方、液膜表面温度が高くなる条件で乾燥
した場合は、主としてポリマーラテックスから構成され
る保護層は速やかに皮膜を形成するが、その一方で画像
形成層などの下層は流動性が停止していないので、表面
に凹凸が発生しやすくなる。また、支持体（ベース）に
Ｔｇよりも高い過剰の熱がかかると、感光材料の寸度安
定性、耐巻き癖性も悪くなる傾向にある。

【０１４７】下層を塗布乾燥してから上層を塗布する逐
次塗布においても同様であるが、特に、下層の乾燥前に
上層を塗布して、両層を同時に乾燥する同時重層塗布を
行うための塗布液物性としては、画像形成層の塗布液と
保護層の塗布液とのｐＨ差が２．５以下であることが好
ましく、このｐＨ差は小さい程好ましい。塗布液のｐＨ
差が大きくなると塗布液界面でミクロな凝集が生じやす
くなり、長尺連続塗布時に塗布筋などの重大な面状故障
が発生しやすくなる。

【０１４８】画像形成層の塗布液粘度は２５℃で１５〜
１００ｍＰａ・ｓが好ましく、さらに好ましくは３０〜
７０ｍＰａ・ｓである。一方、保護層の塗布液粘度は２
５℃で５〜７５ｍＰａ・ｓが好ましく、さらに好ましく
は２０〜５０ｍＰａ・ｓである。これらの粘度はＢ型粘
度計によって測定される。

【０１４９】乾燥後の巻取りは温度２０〜３０℃、相対
湿度４５±２０％の条件下で行うことが好ましく、巻き
姿はその後の加工形態に合わせ画像形成層側の面を外側
にしてもよいし、内側にしてもよい。また、加工形態が
ロール品の場合は巻き姿で発生したカールを除去するた
めに加工時に巻き姿とは反対側に巻いたロール形態にす
ることも好ましい。なお、感光材料の相対湿度は２０〜
５５％（２５℃測定）の範囲で制御されることが好まし
い。

【０１５０】ハロゲン化銀を含みゼラチンを基体とする
粘性液である従来の写真乳剤塗布液は、通常加圧送液す
るだけで気泡が液中に溶解、消滅してしまい、塗布時に
大気圧下に戻されても気泡が析出するようなことはほと
んどない。ところが、本発明で好ましく用いられる有機
銀塩分散物とポリマーラテックスなどを含む画像形成層
塗布液の場合は、加圧送液だけでは脱泡が不十分になり
やすいため、気液界面が生じないようにして送液しなが
ら超音波振動を与え脱泡することが好ましい。

【０１５１】本発明において塗布液の脱泡は、塗布液を
塗布される前に減圧脱気し、さらに１．５ｋｇ／ｃｍ²
以上の加圧状態に保ち、かつ気液界面が生じないように
して連続的に送液しながら超音波振動を与える方式が好
ましい。具体的には、特公昭５５−６４０５号公報（４
頁２０行から７頁１１行）に記載されている方式が好ま
しい。このような脱泡を行う装置として、特開２０００
−９８５３４号公報の実施例と図３に示される装置を好
ましく用いることができる。

【０１５２】加圧条件としては、１．５ｋｇ／ｃｍ²以
上が好ましく、１．８ｋｇ／ｃｍ²以上がより好まし
い。その上限に特に制限はないが、通常５ｋｇ／ｃｍ²
程度である。与えられる超音波の音圧は０．２Ｖ以上、
好ましくは０．５Ｖ〜３．０Ｖであり、一般的に音圧は
高い方が好ましいが、音圧が高すぎるとキャピテーショ
ンにより部分的に高温状態になりカブリの発生原因とな
る。周波数は特に制約はないが、通常１０ｋＨｚ以上、
好ましくは２０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚである。なお、減
圧脱気は、タンク内（通常、調液タンクもしくは貯蔵タ
ンク）を密閉減圧し、塗布液中の気泡径を増大させ、浮
力をかせぎ脱気させることを指し、減圧脱気の際の減圧
条件は−２００ｍｍＨｇないしそれより低い圧力条件、
好ましくは−２５０ｍｍＨｇないしそれより低い圧力条
件とし、その最も低い圧力条件は特に制限はないが通常
−８００ｍｍＨｇ程度である。減圧時間は３０分以上、
好ましくは４５分以上であり、その上限は特に制限され
ない。

【０１５３】本発明において、画像形成層、画像形成層
の保護層、下塗層およびバック層には特開平１１−８４
５７３号公報の段落番号０２０４〜０２０８、特願２０
００−４７０８３号明細書の段落番号０２４０〜０２４
１に記載の如くハレーション防止などの目的で、染料を
含有させることができる。

【０１５４】画像形成層には色調改良、イラジエーショ
ン防止の観点から各種染料や顔料を用いることができ
る。画像形成層に用いる染料および顔料はいかなるもの
でもよいが、例えば特開平１１−１１９３７４号公報の
段落番号０２９７に記載されている化合物を用いること
ができる。これらの染料の添加法としては、溶液、乳化
物、固体微粒子分散物、高分子媒染剤に媒染された状態
などいかなる方法でもよい。これらの化合物の使用量は
目的の吸収量によって決められるが、一般的に１ｍ²当
たり１×１０^-6ｇ〜１ｇの範囲で用いることが好まし
い。

【０１５５】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、該染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、処理後
に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層の好ま
しい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合
物でもよい。例えば特開平１１−１１９３７４号公報の
段落番号０３００に記載されている化合物を用いること
ができる。また、ベルギー特許第７３３，７０６号明細
書に記載されるように染料による濃度を加熱による消色
で低下させる方法、特開昭５４−１７８３３号公報に記
載されるように光照射による消色で濃度を低下させる方
法等を用いることもできる。

【０１５６】本発明の熱現像感光材料が熱現像後におい
て、ＰＳ版により刷版を作製する際にマスクとして用い
られる場合、熱現像後の熱現像感光材料は、製版機にお
いてＰＳ版に対する露光条件を設定するための情報や、
マスク原稿およびＰＳ版の搬送条件等の製版条件を設定
するための情報を画像情報として担持している。従っ
て、前記のイラジエーション染料、ハレーション染料、
フィルター染料の濃度（使用量）は、これらを読み取る
ために制限される。これら情報はＬＥＤあるいはレーザ
ーによって読み取られるため、センサーの波長域のＤｍ
ｉｎ（最低濃度）が低い必要があり吸光度が０．３以下
である必要がある。例えば、富士写真フイルム（株）社
製、製版機Ｓ−ＦＮＲＩＩＩはトンボ検出のための検出
器およびバーコードリーダーとして６７０ｎｍの波長の
光源を使用している。また、清水製作社製、製版機ＡＰ
ＭＬシリーズのバーコードリーダーとして６７０ｎｍの
光源を使用している。すなわち６７０ｎｍ付近のＤｍｉ
ｎ（最低濃度）が高い場合にはフィルム上の情報が正確
に検出できず搬送不良、露光不良など製版機で作業エラ
ーが発生する。従って、６７０ｎｍの光源で情報を読み
取るためには６７０ｎｍ付近のＤｍｉｎが低い必要があ
り、熱現像後の６６０〜６８０ｎｍの吸光度が０．３以
下である必要がある。より好ましくは０．２５以下であ
る。その下限に特に制限はないが、通常は０．１０程度
である。

【０１５７】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が１０^-7秒未満の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはレーザダイオード
（ＬＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）を光源に使用した
露光装置が好ましく用いられる。特に、ＬＤは高出力、
高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的波長
範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができるも
のであればいずれでもよい。例えばＬＤであれば、色素
レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レーザ
ーなどを用いることができる。

【０１５８】本発明における露光は光源の光ビームをオ
ーバーラップさせて露光する。オーバーラップとは副走
査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバー
ラップは、例えばビーム径をビーム強度の半値幅（ＦＷ
ＨＭ）で表わしたとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ幅（オ
ーバーラップ係数）で定量的に表現することができる。
本発明ではこのオーバーラップ係数が０．２以上である
ことが好ましい。

【０１５９】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネル
が好ましく用いられる。

【０１６０】本発明の熱現像感光材料は露光時のヘイズ
が低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞
の発生防止技術としては、特開平５−１１３５４８号公
報などに開示されているレーザー光を感光材料に対して
斜めに入光させる技術や、国際公開ＷＯ９５／３１７５
４号公報などに開示されているマルチモードレーザーを
利用する方法が知られており、これらの技術を用いるこ
とが好ましい。

【０１６１】本発明に用いる画像形成方法の加熱現像工
程はいかなる方法であってもよいが、通常イメージワイ
ズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。用
いられる熱現像機の好ましい態様としては、熱現像感光
材料をヒートローラーやヒートドラムなどの熱源に接触
させるタイプとして特公平５−５６４９９号公報、特開
平９−２９２６９５号公報、特開平９−２９７３８５号
公報および国際公開ＷＯ９５／３０９３４号公報に記載
の熱現像機、非接触型のタイプとして特開平７−１３２
９４号公報、国際公開ＷＯ９７／２８４８９号公報、同
９７／２８４８８号公報および同９７／２８４８７号公
報に記載の熱現像機がある。特に好ましい態様としては
非接触型の熱現像機である。好ましい現像温度としては
８０〜２５０℃であり、さらに好ましくは１００〜１４
０℃である。現像時間としては１〜１８０秒が好まし
く、１０〜９０秒がさらに好ましい。

【０１６２】熱現像時における熱現像感光材料の寸法変
化による処理ムラを防止する方法として、８０℃以上１
１５℃未満の温度で画像が出ないようにして、５秒以上
加熱した後、１１０℃〜１４０℃で熱現像して画像形成
させる方法（いわゆる多段階加熱方法）を採用すること
が有効である。

【０１６３】本発明の熱現像感光材料を熱現像処理する
とき、１１０℃以上の高温にさらされるため、該材料中
に含まれている成分の一部、あるいは熱現像による分解
成分の一部が揮発してくる。これらの揮発成分は現像ム
ラの原因になったり、熱現像機の構成部材を腐食させた
り、温度の低い場所で析出し異物として画面の変形を引
起こしたり、画面に付着して汚れとなる種々の悪い影響
があることが知られている。これらの影響を除くための
方法として、熱現像機にフィルターを設置し、また熱現
像機内の空気の流れを最適に調整することが知られてい
る。これらの方法は有効に組み合わせて利用することが
できる。国際公開ＷＯ９５／３０９３３号公報、同９７
／２１１５０号公報、特表平１０−５００４９６号公報
には、結合吸収粒子を有し揮発分を導入する第一の開口
部と排出する第二の開口部とを有するフィルターカート
リッジを、フィルムと接触して加熱する加熱装置に用い
ることが記載されている。また、国際公開ＷＯ９６／１
２２１３号公報、特表平１０−５０７４０３号公報に
は、熱伝導性の凝縮捕集器とガス吸収性微粒子フィルタ
ーを組み合わせたフィルターを用いることが記載されて
いる。本発明ではこれらを好ましく用いることができ
る。また、米国特許第４，５１８，８４５号明細書、特
公平３−５４３３１号公報には、フィルムからの蒸気を
除去する装置とフィルムを伝熱部材へ押圧する加圧装置
と伝熱部材を加熱する装置とを有する構成が記載されて
いる。また、国際公開ＷＯ９８／２７４５８号公報に
は、フィルムから揮発するカブリを増加させる成分をフ
ィルム表面から取り除くことが記載されている。これら
についても本発明では好ましく用いることができる。

【０１６４】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図１に示す。図１は熱現
像機の側面図を示したものである。図１の熱現像機は熱
現像感光材料１０を平面状に矯正および予備加熱しなが
ら加熱部に搬入する搬入ローラー対１１（上部ローラー
はシリコンゴムローラーで、下部ローラーがアルミ製の
ヒートローラー）と熱現像後の熱現像感光材料１０を平
面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬出ローラー対
１２を有する。熱現像感光材料１０は搬入ローラー対１
１から搬出ローラー対１２へと搬送される間に熱現像さ
れる。この熱現像中の熱現像感光材料１０を搬送する搬
送手段は画像形成層を有する面が接触する側に複数のロ
ーラー１３が設置され、その反対側のバック面が接触す
る側には不織布（例えば芳香族ポリアミドやテフロン
（登録商標）から成る）等が貼り合わされた平滑面１４
が設置される。熱現像感光材料１０は画像形成層を有す
る面に接触する複数のローラー１３の駆動により、バッ
ク面を平滑面１４の上に滑らせながら搬送される。ロー
ラー１３の上部および平滑面１４の下部には、熱現像感
光材料１０の両面から加熱されるように加熱ヒーター１
５が設置される。この場合の加熱手段としては板状ヒー
ター等が挙げられる。ローラー１３と平滑面１４とのク
リアランスは平滑面の部材により異なるが、熱現像感光
材料１０が搬送できるクリアランスに適宜調整される。
好ましくは０〜１ｍｍである。

【０１６５】ローラー１３の表面の材質および平滑面１
４の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料１０の
搬送に支障がなければ何でもよいが、ローラー表面の材
質はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドま
たはテフロン（ＰＴＦＥ）製の不織布が好ましい。加熱
手段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度
を自由に設定することが好ましい。

【０１６６】なお、加熱部は、搬入ローラー対１１を有
する予備加熱部Ａと、加熱ヒーター１５を備えた熱現像
加熱部Ｂとで構成されるが、熱現像処理部Ｂの上流の予
備加熱部Ａは、熱現像温度よりも低く（例えば１０〜３
０℃程度低く）、熱現像感光材料１０中の水分量を蒸発
させるのに十分な温度および時間に設定することが望ま
しく、熱現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度
（Ｔｇ）よりも高い温度で、現像ムラが出ないように設
定することが好ましい。予備加熱部と熱現像処理部の温
度分布としては±１℃以下が好ましく、さらには±０．
５℃以下が好ましい。また、熱現像処理部Ｂの下流には
ガイド板１６が設置され、搬出ローラー対１２とガイド
板１６とを有する徐冷部Ｃが設置される。ガイド板１６
は熱伝導率の低い素材が好ましく、熱現像感光材料１０
に変形が起こらないようにするために冷却は徐々に行う
のが好ましく、冷却速度としては、０．５〜１０℃／秒
が好ましい。

【０１６７】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平７−１３２９４号公報に記載のも
のなど、本発明に用いる熱現像機は種々の構成のもので
あってもよい。また、本発明において好ましく用いられ
る多段加熱方法の場合は、上述のような装置において、
加熱温度の異なる熱源を２個以上設置し、連続的に異な
る温度で加熱するようにすればよい。

【０１６８】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限
り適宜変更することができる。したがって、本発明の範
囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきも
のではない。

【０１６９】＜実施例１＞ 《ハロゲン化銀乳剤Ａの調製》水７００ｍｌにアルカリ
処理ゼラチン（カルシウム含有量として２７００ｐｐｍ
以下）１１ｇ、臭化カリウム３０ｍｇ、および４−メチ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム１．３ｇを溶解して、
４５℃にてｐＨを６．５に調整した。その後、硝酸銀１
８．６ｇを含む水溶液１５９ｍｌと臭化カリウムを１ｍ
ｏｌ／Ｌ、（ＮＨ₄）₂ＲｈＣｌ₅（Ｈ₂Ｏ）を５×１０^-6
ｍｏｌ／ＬおよびＫ₃ＩｒＣｌ₆を２×１０^-5ｍｏｌ／Ｌ
で含む水溶液を、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロー
ルダブルジェット法で６分３０秒間かけて添加した。つ
いで、硝酸銀５５．５ｇを含む水溶液４７６ｍｌと臭化
カリウムを１ｍｏｌ／ＬおよびＫ₃ＩｒＣｌ₆を２×１０
^-5ｍｏｌ／Ｌで含むハロゲン塩水溶液を、ｐＡｇ７．７
に保ちながらコントロールダブルジェット法で２８分３
０秒間かけて添加した。その後ｐＨを下げて凝集沈降さ
せて脱塩処理をし、平均分子量１５，０００の低分子量
ゼラチン（カルシウム含有量として２０ｐｐｍ以下）５
１．１ｇ加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ８．０に調整した。
得られた粒子は平均粒子サイズ０．１１μｍ、投影面積
変動係数９％、（１００）面比率９０％の立方体粒子で
あった。得られたハロゲン化銀粒子を６０℃に昇温して
銀１ｍｏｌ当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム７
６μｍｏｌを添加し、３分後にトリエチルチオ尿素７１
μｍｏｌを添加した後、１００分間熟成し、４−ヒドロ
キシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデ
ンを５×１０^-4ｍｏｌ、化合物Ａを０．１７ｇ加えた
後、４０℃に降温させた。その後、４０℃に温度を保
ち、ハロゲン化銀１ｍｏｌに対して４．７×１０^-2ｍｏ
ｌの臭化カリウム（水溶液として添加）、１２．８×１
０^-4ｍｏｌの下記増感色素Ａ（エタノール溶液として添
加）、６．４×１０^-3ｍｏｌの化合物Ｂ（メタノール溶
液として添加）を攪拌しながら添加し、２０分後に３０
℃に急冷してハロゲン化銀乳剤Ａの調製を終了した。

【０１７０】

【化２８】

【０１７１】《ベヘン酸銀分散物Ａの調製》ベヘン酸
（ヘンケル社製、ＥｄｅｎｏｒＣ２２−８５Ｒ）８７．
６ｋｇ、蒸留水４２３Ｌ、５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶
液４９．２Ｌ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール１２０Ｌを
混合し、７５℃にて１時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナ
トリウム溶液を得た。これとは別に、硝酸銀４０．４ｋ
ｇの水溶液２０６．２Ｌを用意し、１０℃にて保温し
た。６３５Ｌの蒸留水と３０Ｌのｔｅｒｔ−ブチルアル
コールを入れた反応容器を３０℃に保温し、攪拌しなが
ら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の
全量を流量一定でそれぞれ６２分１０秒と６０分かけて
添加した。この時、硝酸銀水溶液添加開始後７分２０秒
間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあと
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液添
加終了後９分３０秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが
添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は
３０℃とし、液温度が上がらないようにコントロールし
た。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、
スチームトレースにより保温し、添加ノズル先端の出口
の液温度が７５℃になるようにスチーム量をコントロー
ルした。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管
の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン
酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置
は攪拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に
接触しないような高さに調節した。ベヘン酸ナトリウム
溶液を添加終了後、そのままの温度で２０分間攪拌放置
し、２５℃に降温した。その後、遠心ろ過で固形分を濾
別し、固形分を濾水の伝導度が３０μＳ／ｃｍになるま
で水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させない
でウエットケーキとして保管した。得られたベヘン酸銀
の粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、
平均投影面積径０．５２μｍ、平均粒子厚み０．１４μ
ｍ、平均球相当径の変動係数１５％の鱗片状の結晶であ
った。

【０１７２】次に、以下の方法でベヘン酸銀の分散物を
作製した。乾燥固形分１００ｇ相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ
−２１７、平均重合度：約１７００）７．４ｇおよび水
を添加し、全体量を３８５ｇとしてからホモミキサーに
て予備分散した。次に予備分散済みの原液を分散機（マ
イクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレ
ーション製、マイクロフルイダイザーＭ−１１０Ｓ−Ｅ
Ｈ、Ｇ１０Ｚインタラクションチャンバー使用）の圧力
を１７５０ｋｇ／ｃｍ²に調節して、３回処理し、ベヘ
ン酸銀分散物Ａを得た。このとき、蛇管式熱交換器をイ
ンタラクションチャンバーの前後に各々装着して冷媒の
温度を調節することにより、所望の分散温度に設定し
た。得られたベヘン酸銀分散物Ａに含まれるベヘン酸銀
粒子は、体積加重平均直径０．５２μｍ、変動係数１５
％の粒子であった。粒子サイズの測定は、MalvernInstr
uments Ltd.製MasterSizerXにて行った。また電子顕微
鏡撮影により評価したところ、長辺と短辺の比は１．
５、粒子厚みは０．１４μｍ、平均アスペクト比（粒子
の投影面積の円相当径と粒子厚みの比）が５．１であっ
た。得られたベヘン酸銀分散物Ａは、下記の塗布液の調
製に用いた。

【０１７３】《還元剤の固体微粒子分散物の調製》還元
剤［１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサン］（Ｉ−
１）１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ
（株）製、ポバールＭＰ２０３）の２０質量％水溶液１
０ｋｇに、サーフィノール１０４Ｅ（日信化学（株）
製）４００ｇ、メタノール６４０ｇ、および水１６ｋｇ
を添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリ
ーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍ
のジルコニアビーズを充填した横型ビーズミル（アイメ
ックス（株）製、ＵＶＭ−２）にて３時間３０分分散し
たのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩４ｇと水
を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調整
し、還元剤の固体微粒子分散物を得た。こうして得られ
た分散物に含まれる還元剤粒子は、メジアン径が０．４
４μｍ、最大粒子径が２．０μｍ以下、平均粒子径の変
動係数が１９％であった。得られた分散物は、孔径３．
０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行いゴ
ミ等の異物を除去したうえで、下記の塗布液の調製に用
いた。

【０１７４】《フェノール化合物の固体微粒子分散物の
調製》表１および表２に記載されるフェノール化合物１
ｋｇ、変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポ
バールＭＰ２０３）の２０質量％水溶液１ｋｇ、および
水２ｋｇを添加して、よく混合してスラリーとした。こ
のスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径
０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型ビーズミ
ル（アイメックス（株）製、ＵＶＭ−２）にて５時間分
散したのち水を加えて現像促進剤Ｗの濃度が２０質量％
になるように調整し、フェノール化合物の固体微粒子分
散物を得た。得られた分散物に含まれる有機ポリハロゲ
ン化合物粒子は、メジアン径が０．５μｍ、最大粒子径
が２．０μｍ以下、平均粒子径の変動係数が１８％であ
った。得られた分散物は、孔径３．０μｍのポリプロピ
レン製フィルターにてろ過を行いゴミ等の異物を除去し
たうえで、下記の塗布液の調製に用いた。表１および表
２に記載されるフェノール化合物のうち、Ｙ−１、Ｙ−
２、Ｙ−３の構造は以下に示す通りである。これらの化
合物は、特開２０００−２６７２２２号公報化２３に記
載の化合物である。

【０１７５】

【化２９】

【０１７６】《有機ポリハロゲン化合物Ａの固体微粒子
分散物の調製》有機ポリハロゲン化合物Ａ［トリブロモ
メチル（４−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホ
ニル）フェニル）スルホン］１０ｋｇと、変性ポリビニ
ルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）
の２０質量％水溶液１０ｋｇと、トリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液６３９
ｇ、サーフィノール１０４Ｅ（日信化学（株）製）４０
０ｇ、メタノール６４０ｇ、および水１６ｋｇを添加し
て、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイ
アフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコ
ニアビーズを充填した横型ビーズミル（アイメックス
（株）製、ＵＶＭ−２）にて５時間分散したのち水を加
えて有機ポリハロゲン化合物Ａの濃度が２５質量％にな
るように調製し、有機ポリハロゲン化合物Ａの固体微粒
子分散物を得た。こうして得られた分散物に含まれる有
機ポリハロゲン化合物粒子は、メジアン径が０．３６μ
ｍ、最大粒子径が２．０μｍ以下、平均粒子径の変動係
数が１８％であった。得られた分散物は、孔径３．０μ
ｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行いゴミ等
の異物を除去したうえで、下記の塗布液の調製に用い
た。

【０１７７】《有機ポリハロゲン化合物Ｂの固体微粒子
分散物の調製》有機ポリハロゲン化合物Ｂ［トリブロモ
メチルナフチルスルホン］５ｋｇと変性ポリビニルアル
コール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の２０
質量％水溶液２．５ｋｇ、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液２１３ｇ、お
よび水１０ｋｇを添加して、よく混合してスラリーとし
た。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均
直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型ビー
ズミル（アイメックス（株）製、ＵＶＭ−２）にて５時
間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩
２．５ｇと水を加えての有機ポリハロゲン化合物Ｂの濃
度が２３．５質量％になるように調製し、有機ポリハロ
ゲン化合物Ｂの固体微粒子分散物を得た。得られた分散
物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子は、メジアン
径が０．３８μｍ、最大粒子径が２．０μｍ以下、平均
粒子径の変動係数が２０％であった。得られた分散物は
孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過
を行いゴミ等の異物を除去したうえで、下記の塗布液の
調製に用いた。

【０１７８】《有機ポリハロゲン化合物Ｃ水溶液の調
製》室温で攪拌しながら、水７５．０ｍｌ、トリプロピ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム（２０％水溶液）
８．６ｍｌ、オルトリン酸二水素ナトリウム・２水和物
（５％水溶液）６．８ｍｌ、および水酸化カリウムの１
ｍｏｌ／Ｌ水溶液９．５ｍｌを順次添加し、添加終了後
５分間攪拌混合した。さらに、攪拌しながら有機ポリハ
ロゲン化合物Ｃ（３−トリブロモメタンスルホニルベン
ゾイルアミノ酢酸）４．０ｇの粉末を添加し、溶液が透
明になるまで均一に溶解して水溶液１００ｍｌを得た。
得られた水溶液は、２００メッシュのポリエステル製ス
クリーンにてろ過を行いゴミ等の異物を除去したうえ
で、下記の塗布液の調製に用いた。

【０１７９】《化合物Ｚの乳化分散物の調製》化合物Ｚ
を８５質量％含有する三光（株）製Ｒ−０５４を１０ｋ
ｇとＭＩＢＫ１１．６６ｋｇを混合した後、窒素置換し
て８０℃１時間溶解した。この液に水２５．５２ｋｇと
クラレ（株）製ＭＰポリマー（クラレ（株）製、ＭＰ−
２０３）の２０質量％水溶液１２．７６ｋｇとトリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％
水溶液０．４４ｋｇを添加して、２０〜４０℃、３６０
０ｒｐｍで６０分間乳化分散した。さらに、この液にサ
ーフィノール１０４Ｅ（日信化学（株）製）０．０８ｋ
ｇと水４７．９４ｋｇを添加して減圧蒸留しＭＩＢＫを
除去したのち、化合物Ｚの濃度が１０質量％になるよう
に調製した。こうして得た分散物に含まれる化合物Ｚの
粒子はメジアン径０．１９μｍ、最大粒子径１．５μｍ
以下、粒子径の変動係数１７％であった。得られた分散
物は、孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターに
てろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。

【０１８０】《６−イソプロピルフタラジン化合物の分
散液の調製》室温で水６２．３５ｇを攪拌しながら変性
ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ
２０３）２．０ｇが塊状にならない様に添加し１０分間
攪拌混合した。その後加熱し、内温が５０℃になるまで
昇温した後、内温５０〜６０℃の範囲で９０分間攪拌し
均一に溶解させた。内温を４０℃以下に降温し、ポリビ
ニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−２１７、１
０質量％水溶液）２５．５ｇ、トリプロピルナフタレン
スルホン酸ナトリウム（２０質量％水溶液）３．０ｇ、
および６−イソプロピルフタラジン（７０質量％水溶
液）７．１５ｇを添加し、３０分攪拌し透明分散液１０
０ｇを得た。得られた分散物は、孔径３．０μｍのポリ
プロピレン製フィルターにてろ過を行いゴミ等の異物を
除去したうえで、下記の塗布液の調製に用いた。

【０１８１】《造核剤の固体微粒子分散物の調製》下記
造核剤（造核剤ＡＡ−１〜ＡＡ−３）１ｋｇに対して、
ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＰＶ
Ａ−２１７）０．２５ｋｇと水９ｋｇを添加し、よく混
合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポ
ンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ
を充填した横型ビーズミル（アイメックス（株）製、Ｕ
ＶＭ−２）にて１２時間分散したのち、ベンゾイソチア
ゾリノンナトリウム塩１ｇと水を加えて造核剤の濃度が
１０質量％になるように調整し、造核剤の固体微粒子分
散物を得た。得られた分散物に含まれる造核剤の粒子
は、メジアン径が０．３４μｍ、最大粒子径が３．０μ
ｍ以下、粒子径の変動係数が１９％であった。得られた
分散物は、孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーにてろ過を行いゴミ等の異物を除去したうえで、下記
の塗布液の調製に用いた。

【０１８２】

【化３０】

【０１８３】《画像形成層塗布液の調製》上記で作製し
た有機酸銀塩の銀１ｍｏｌに対して、以下のバインダ
ー、素材、およびハロゲン化銀乳剤を添加して、水を加
えて、画像形成層塗布液とした。調製後、圧力０．５４
ａｔｍで減圧脱気を４５分間行った。塗布液のｐＨは
７．７、粘度は２５℃で５０ｍＰａ・ｓであった。有機
酸銀塩は表１５に示す通り添加した。 バインダー；ＳＢＲラテックス （Ｓｔ／Ｂｕ／ＡＡ＝６８／２９／３（重量％）、 重合開始剤としてＮａ₂Ｓ₂Ｏ₈を使用） 固形分として ３９７ｇ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５− ジメチルフェニル−３，５，５−トリメチルヘキサン （還元剤Ｉ−１） 固形分として ８９．７ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｂ 固形分として ３６．３ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｃ 固形分として ２．３４ｇ エチルチオスルホン酸ナトリウム ０．４７ｇ ベンゾトリアゾール １．０２ｇ ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−２３５） １０．８ｇ ６−イソプロピルフタラジン ５．０ｇ 化合物Ｚ 固形分として ９．０ｇ 造核剤（表１に記載される種類） ０．０２ｍｏｌ 染料Ａ（平均分子量１５，０００の 低分子量ゼラチンとの混合液として添加） ７８３ｎｍの光学濃度が０．３になる塗布量 （目安として固形分０．４０ｇ） ハロゲン化銀乳剤Ａ Ａｇ量として０．０６ｍｏｌ 防腐剤として化合物Ａ 塗布液中に４０ｐｐｍ （塗布量として２．５ｍｇ／ｍ²） メタノールの塗布液中総溶媒量として １質量％ エタノールの塗布液中総溶媒量として ２質量％ （なお、塗布膜のガラス転移温度は１７℃であった。）

【０１８４】

【化３１】

【０１８５】《保護層塗布液の調製》メチルメタクリレ
ート／スチレン／２−エチルヘキシルアクリレート／２
−ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸＝５
８．９／８．６／２５．４／５．１／２（質量％）のポ
リマーラテックス溶液（共重合体のガラス転移温度４６
℃（計算値）、固形分濃度２１．５質量％、化合物Ａを
１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤として化合物Ｄ
をラテックスの固形分に対して１５質量％含有させ塗布
液のガラス転移温度を２４℃として溶液とした；平均粒
子径１１６ｎｍ）９４３ｇに水を加え、有機ポリハロゲ
ン化合物Ｃ水溶液を１１４．８ｇ、有機ポリハロゲン化
合物Ａを固形分として１７．０ｇ、オルトリン酸二水素
ナトリウム・二水和物を固形分として０．６９ｇ、フェ
ノール化合物（表１および表２に記載の種類）を上記の
画像形成層塗布液の調整に用いた還元剤（Ｉ−１）に対
して２．５ｍｏｌ％、マット剤（ポリスチレン粒子、平
均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８％）１．５８ｇお
よびポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−
２３５）２９．３ｇ、化合物Ｅを１．６２ｇ加え、さら
に水を加えて塗布液（メタノール溶媒を０．８質量％含
有）を調製した。調製後、圧力０．４７ａｔｍで減圧脱
気を６０分間行った。得られた保護層塗布液のｐＨは
５．５、粘度は２５℃で４５ｍＰａ・ｓであった。

【０１８６】《下層オーバーコート層塗布液の調製》メ
チルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルア
クリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸＝５８．９／８．６／２５．４／５．１／２
（質量％）のポリマーラテックス溶液（共重合体のガラ
ス転移温度４６℃（計算値）、固形分濃度２１．５質量
％、化合物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤
として化合物Ｄをラテックスの固形分に対して１５質量
％含有させ、塗布液のガラス転移温度を２４℃として容
器とした；平均粒子径７４ｎｍ）６２５ｇに水を加え、
化合物Ｃを０．２３ｇ、化合物Ｅを０．１３ｇ、化合物
Ｆを１１．７ｇ、化合物Ｈを２．７ｇおよびポリビニル
アルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−２３５）１１．
５ｇを加え、さらに水を加えて塗布液（メタノール溶媒
を０．１質量％含有）を調製した。調製後、圧力０．４
７ａｔｍで減圧脱気を６０分間行った。塗布液のｐＨは
２．６、粘度は２５℃で３０ｍＰａ・ｓであった。

【０１８７】《上層オーバーコート層塗布液の調製》メ
チルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルア
クリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸＝５８．９／８．６／２５．４／５．１／２
（質量％）のポリマーラテックス溶液（共重合体のガラ
ス転移温度４６℃（計算値）、固形分濃度２１．５質量
％、化合物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤
として化合物Ｄをラテックスの固形分に対して１５質量
％含有させ、塗布液のガラス転移温度を２４℃として溶
液とした；平均粒子径１１６ｎｍ）６４９ｇに水を加
え、カルナヴァワックス（中京油脂（株）製、セロゾー
ル５２４、シリコーン含有量５ｐｐｍ未満）の３０質量
％溶液１８．４ｇ、化合物Ｃを０．２３ｇ、化合物Ｅを
１．８５ｇ、化合物Ｇを１．０ｇ、マット剤（ポリスチ
レン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８％）
３．４５ｇおよびポリビニルアルコール（クラレ（株）
製、ＰＶＡ−２３５）を２６．５ｇ加え、さらに水を加
えて塗布液（メタノール溶媒を１．１質量％含有）を調
製した。調製後、圧力０．４７ａｔｍで減圧脱気を６０
分間行った。塗布液のｐＨは５．３、粘度は２５℃で２
５ｍＰａ・ｓであった。

【０１８８】

【化３２】

【０１８９】《バック／下塗り層のついたポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）支持体の作製》 （１）ＰＥＴ支持体の作製 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノール／テトラクロ
ロエタン＝６／４（質量比）中２５℃で測定）のＰＥＴ
を得た。これをペレット化して、１３０℃で４時間乾燥
した後、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出した。そ
の後急冷し、熱固定後の膜厚が１２０μｍになるような
厚みの未延伸フィルムを作製した。これを周速の異なる
ロールを用い、１１０℃で３．３倍に縦延伸し、ついで
テンターを用いて１３０℃で４．５倍に横延伸した。こ
の後、２４０℃で２０秒間熱固定した後、同じ温度で横
方向に４％緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、４．８ｋｇ
／ｃｍ²で巻きとった。このようにして、幅２．４ｍ、
長さ３５００ｍ、厚み１２０μｍのロール状のＰＥＴ支
持体を得た。

【０１９０】（２）下塗り層およびバック層の作製 下塗り第一層 上記ＰＥＴ支持体に０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²のコ
ロナ放電処理を施した後、以下に示す組成の塗布液を
６．２ｍｌ／ｍ²となる様に支持体上に塗布し、１２５
℃で３０秒、次いで１５０℃で３０秒、さらに１８５℃
で３０秒乾燥した。 ラテックス−Ａ ２８０ｇ ＫＯＨ ０．５ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径２μｍ、 平均粒径の変動係数７％） ０．０３ｇ ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン １．８ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．０９７ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０１９１】下塗り第二層 以下に示す組成の塗布液を５．５ｍｌ／ｍ²となる様に
下塗り第一層の上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１７０℃で３０秒乾燥した。

【０１９２】 脱イオン処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ、 ゼリー強度２３０ｇ） １０ｇ 酢酸（２０質量％水溶液） １０ｇ 化合物−Ｂｃ−Ａ ０．０４ｇ メチルセルロース（２質量％水溶液） ２５ｇ ポリエチレンオキシ化合物 ０．３ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０１９３】バック第一層 前記下塗り層塗布面とは反対側の面に０．３７５ｋＶ・
Ａ・分／ｍ²のコロナ放電処理を施し、その面に以下に
示す組成の塗布液を１３．８ｍｌ／ｍ²となる様に塗布
し、１２５℃で３０秒、次いで１５０℃で３０秒、さら
に１８５℃で３０秒乾燥した。

【０１９４】 ジュリマーＥＴ４１０（３０質量％水分散物、 日本純薬（株）製） ２３ｇ アルカリ処理ゼラチン（分子量約１００００、 Ｃａ²⁺含量３０ｐｐｍ） ４．４４ｇ 脱イオン処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ） ０．８４ｇ 化合物−Ｂｃ−Ａ ０．０２ｇ 染料−Ｂｃ−Ａ （７８３ｎｍの光学濃度として１．３〜１．４になるように調整） 目安として０．８８ｇ ポリオキシエチレンフェニルエーテル １．７ｇ 水溶性メラミン化合物（住友化学工業（株）製、 スミテックスレジンＭ−３、８質量％水溶液） １５ｇ ＳｂドープＳｎＯ₂の針状粒子の水分散物 （石原産業（株）製、ＦＳ−１０Ｄ） ２４ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径２μｍ、平均粒径の変動係数７％） ０．０３ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０１９５】バック第二層 以下に示す組成の塗布液を５．５ｍｌ／ｍ²となる様に
バック第一層上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで１
５０℃で３０秒、さらに１７０℃で３０秒乾燥した。

【０１９６】 ジュリマーＥＴ４１０（３０質量％水分散物、 日本純薬（株）製） ５７．５ｇ ポリオキシエチレンフェニルエーテル １．７ｇ 水溶性メラミン化合物（住友化学工業（株）製、 スミテックスレジンＭ−３、８質量％水溶液） １５ｇ セロゾール５２４（３０質量％水溶液、中京油脂（株）製） ６．６ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０１９７】バック第三層 下塗り第一層と同じ塗布液を６．２ｍｌ／ｍ²となる様
にバック第二層上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１８５℃で３０秒乾燥した。

【０１９８】バック第四層 以下に示す組成の塗布液を１３．８ｍｌ／ｍ²となる様
にバック第三層上に塗布し、１２５℃で３０秒、次いで
１５０℃で３０秒、さらに１７０℃で３０秒乾燥した。

【０１９９】 ラテックス−Ｂ ２８６ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｂ ２．７ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．６ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｄ ０．５ｇ ２，４ジクロロ−６−ヒドロキシーｓ−トリアジン ２．５ｇ ポリメチルメタクリレート（１０質量％水分散物、 平均粒子径５μｍ、平均粒子の変動係数７％） ７．７ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０２００】

【化３３】

【０２０１】ラテックス−Ａ： コア部９０質量％、シェル部１０質量％のコアシェルタ
イプのラテックス コア部 塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチル
メタクリレート／アクリロニトリル／アクリル酸＝９３
／３／３／０．９／０．１（質量％） シェル部 塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチ
ルメタクリレート／アクリロニトリル／アクリル酸＝８
８／３／３／３／３（質量％） 質量平均分子量３８，０００ ラテックス−Ｂ： メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシル
アクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
アクリル酸＝５９／９／２６／５／１（質量％）の共重
合体

【０２０２】（３）搬送熱処理 （３−１）熱処理 このようにして作製したバック／下塗り層のついたＰＥ
Ｔ支持体を、１６０℃に設定した全長２００ｍ熱処理ゾ
ーンに入れ、張力２ｋｇ／ｃｍ²、搬送速度２０ｍ／分
で搬送した。 （３−２）後熱処理 上記熱処理に引き続き、４０℃のゾーンに１５秒間通し
て後熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力
は１０ｋｇ／ｃｍ²であった。

【０２０３】《熱現像感光材料の作製》ＰＥＴ支持体の
下塗り第二層の上に、特開２０００−２９６４号公報の
図１に示されているスライドビート塗布方式を用いて、
前記の画像形成層塗布液を、塗布銀量１．５ｇ／ｍ²に
なるように塗布した。さらにその上に、前記保護層塗布
液をポリマーラテックスの固形分塗布量が１．２９ｇ／
ｍ²になるように画像形成層塗布液と共に同時重層塗布
した。その後、保護層の上に前記下層オーバーコート層
塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布量が１．９７
ｇ／ｍ²および前記上層オーバーコート層塗布液をポリ
マーラテックスの固形分塗布量が１．０７ｇ／ｍ²にな
るように下層オーバーコート塗布液と共に同時重層塗布
し、熱現像感光材料を作製した。塗布時の乾燥は、恒率
過程、減率過程とも乾球温度７０〜７５℃、露点８〜２
５℃、液膜表面温度３５〜６０℃の範囲で、塗布液の流
動がほぼなくなる乾燥点近傍までは水平乾燥ゾーン（塗
布機の水平方向に対し支持体が１．５°〜３°の角度）
で行った。乾燥後の巻取りは温度２５±５℃、相対湿度
４５±５％の条件下で行い、巻き姿はその後の加工形態
（画像形成層面側外巻）に合わせ、画像形成層面側を外
にした。なお、熱現像感光材料の包袋相対湿度は２０〜
４０％（２５℃測定）で、得られた熱現像感光材料の画
像形成側の膜面ｐＨは５．０、ベック平滑度は７５０秒
であり、反対側の膜面ｐＨは５．９、ベック平滑度は６
００秒であった。

【０２０４】《写真性能の評価》 （露光処理）得られた熱現像感光材料を、ビーム径（ビ
ーム強度の１／２のＦＷＨＭ）１２．５６μｍ、レーザ
ー出力５０ｍＷ、出力波長７８３ｎｍの半導体レーザー
を搭載した単チャンネル円筒内面方式のレーザー露光装
置を使用し、ミラー回転数６００００ｒｐｍ、露光時間
１．２×１０^-8秒の露光を実施した。この時のオーバー
ラップ係数は０．４４９にし、熱現像感光材料面上のレ
ーザーエネルギー密度は７５μＪ／ｃｍ²とした。 （熱現像処理）露光済みの熱現像感光材料に対して、図
２に示した熱現像機を用いて熱現像処理を行った。熱現
像処理部のローラー表面材質はシリコンゴム、平滑面は
テフロン不織布とし、搬送のラインスピードは１５０ｃ
ｍ／ｍｉｎに設定した。熱現像処理は、予備加熱部で１
２．２秒（予備加熱部と熱現像処理部の駆動系は独立し
ており、熱現像部との速度差は−０．５％〜−１％に設
定、各予熱部の金属ローラーの温度設定、時間は第１ロ
ーラー温度６７℃、２．０秒、第２ローラー温度８２
℃、２．０秒、第３ローラー温度９８℃、２．０秒、第
４ローラー温度温度１０７℃、２．０秒、第５ローラー
温度１１５℃、２．０秒、第６ローラー温度１２０℃、
２．０秒にした）、熱現像処理部（熱現像感光材料面温
度１２０℃）で１７．２秒、徐冷部で１３．６秒行っ
た。なお、幅方向の温度精度は±０．５℃であった。各
ローラー温度の設定は熱現像感光材料の幅（例えば幅６
１ｃｍ）よりも両側それぞれ５ｃｍ長くして、その部分
にも温度をかけて、温度精度が出るようにした。なお、
各ローラーの両端部分は温度低下が激しいので、熱現像
感光材料の幅よりも５ｃｍ長くした部分はローラー中央
部よりも１〜３℃温度が高くなるように設定し、熱現像
感光材料（例えば幅６１ｃｍの中で）の画像濃度が均質
な仕上がりになるように留意した。

【０２０５】（評価方法）得られた画像の評価をマクベ
スＴＤ９０４濃度計（可視濃度）により行った。測定の
結果は、カブリ、Ｄｍａｘ（最高濃度）、コントラスト
で評価した。コントラストは露光量の対数を横軸とし
て、Ｄｍｉｎ部分を差し引いた濃度０．１と３．０の点
を結ぶ直線の傾きで表した。実用的には、カブリは０．
１５以下、Ｄｍａｘは３．５以上、コントラストは１２
以上であることが好ましく、さらにはカブリは０．１３
以下、Ｄｍａｘは４．０以上、コントラストは１６以上
であることが最も好ましい。

【０２０６】各熱現像感光材料について上記評価を実施
した結果を表１に示す。

【０２０７】

【表１】

【０２０８】式（２）で表されるフェノール化合物を用
いた熱現像感光材料は、超硬調、低カブリ、高Ｄｍａｘ
であり、写真製版用途に適切な写真性能を備えている。

【０２０９】＜実施例２＞ 《画像形成層塗布液の調製》実施例１で作製した有機酸
銀塩の銀１ｍｏｌに対して、以下のバインダー、素材、
およびハロゲン化銀乳剤を添加して、水を加えて、画像
形成層塗布液とした。完成後、減圧脱気を圧力０．５４
ａｔｍで４５分間行った。塗布液のｐＨは７．３〜７．
７、粘度は２５℃で４０〜５０ｍＰａ・ｓであった。

【０２１０】 バインダー；ＳＢＲラテックス （Ｓｔ／Ｂｕ／ＡＡ＝６８／２９／３（重量％）、 重合開始剤としてＮａ₂Ｓ₂Ｏ₈を使用） 固形分として ３９７．０ｇ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５− ジメチルフェニル−３，５，５−トリメチルヘキサン （還元剤Ｉ−１） 固形分として ８８．８ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ａ 固形分として ４０．０ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｂ 固形分として １２．０ｇ 有機ポリハロゲン化合物Ｃ 固形分として ２．０ｇ フェノール化合物（表１に記載される種類） 還元剤に対して ２．５ｍｏｌ％ エチルチオスルホン酸ナトリウム ０．３ｇ ベンゾトリアゾール １．２ｇ ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、 ＰＶＡ−２３５） １０．８ｇ ６−イソプロピルフタラジン １３．０ｇ 化合物Ｚ 固形分として ９．６ｇ 化合物Ｃ ０．２ｇ 造核剤 ０．０２ｍｏｌ 染料Ａ（平均分子量１５，０００の低分子量ゼラチンとの混合液として添加） ７８３ｎｍの光学濃度が０．３になる塗布量 （目安として固形分０．４０ｇ） ハロゲン化銀乳剤 Ａｇ量として０．０６ｍｏｌ 防腐剤として化合物Ａ 塗布液中に４０ｐｐｍ （塗布量として２．５ｍｇ／ｍ²） メタノールの塗布液中総溶媒量として １質量％ エタノールの塗布液中総溶媒量として ２質量％ ｐＨ調整剤としては、ＮａＯＨを用いた。 （なお、塗布膜のガラス転移温度は１７℃であった。）

【０２１１】《下層保護層塗布液の調製》メチルアクリ
レート／メチルメタアクリレート＝７０／３０（質量
比、平均粒径１１０ｎｍ、質量平均分子量８００，００
０）のポリマーラテックス溶液（共重合体のガラス転移
温度３０℃、固形分濃度２８．０％、化合物Ａを１００
ｐｐｍ含有）９００ｇに水を加え、化合物Ｅを０．２
ｇ、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−
２３５）を３５．０ｇ加え、さらに水を加えて塗布液
（メタノール溶媒を０．５質量％含有）を調製した。調
製後、圧力０．４７ａｔｍで減圧脱気を６０分間行っ
た。塗布液のｐＨは５．２、粘度は２５℃で３５ｍＰａ
・ｓであった。

【０２１２】《上層保護層塗布液の調製》メチルアクリ
レート／メチルメタアクリレート＝７０／３０（質量
比、平均粒径１１０ｎｍ、質量平均分子量８００，００
０）のポリマーラテックス溶液（共重合体でガラス転移
温度３０℃、固形分濃度として２８．０％、化合物Ａを
１００ｐｐｍ含有）９００ｇに、カルナヴァワックス
（中京油脂（株）製、セロゾール５２４、シリコーン含
有量として５ｐｐｍ未満）３０質量％溶液を１０．０
ｇ、化合物Ｃを０．３ｇ、化合物Ｅを１．２ｇ、化合物
Ｆを２５．０ｇ、化合物Ｈを６．０ｇ、マット剤（ポリ
スチレン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８
％）５．０ｇおよびポリビニルアルコール（クラレ
（株）製、ＰＶＡ−２３５）４０．０ｇを加え、さらに
水を加えて塗布液（メタノール溶媒を１．５質量％含
有）を調製した。調製後、圧力０．４７ａｔｍで６０分
間行った。塗布液のｐＨは２．４、粘度は２５℃で３５
ｍＰａ・ｓであった。

【０２１３】《熱現像感光材料の作製》実施例１に記載
したように下塗り層を塗布したＰＥＴ支持体の下塗り層
の上に、特開２０００−２９６４号公報の図１に示され
ているスライドビ−ド塗布方式を用いて、前記の画像形
成層塗布液を塗布銀量１．５ｇ／ｍ²になる様に、その
上に、前記の保護層下層塗布液をポリマーラテックスの
固形分塗布量が１．０ｇ／ｍ²になる様に、さらにその
上に前記の保護層上層塗布液をポリマーラテックスの固
形分塗布量が１．３ｇ／ｍ²になる様に、画像形成層と
保護層下層および上層の３層を同時に重層塗布した。塗
布時の乾燥条件は、第一乾燥ゾーン（低速風乾燥域）が
乾球温度７０〜７５℃、露点９〜２３℃、支持体面上で
の風速８〜１０ｍ／ｓ、液膜表面温度３５〜４０℃の範
囲で乾燥し、第二乾燥ゾーン（高速風乾燥域）が、乾球
温度６５〜７０℃、露点２０〜２３℃、そして支持体面
上での風速２０〜２５ｍ／ｓで乾燥した。第一乾燥ゾー
ンの滞在時間は、このゾーンでの恒率乾燥期の２／３の
時間で、第二乾燥ゾーンに移行させ、乾燥した。第一乾
燥ゾーンは、水平乾燥ゾーン（塗布機の水平方向に対し
支持体が１．５°〜３°の角度）である。塗布速度は、
６０ｍ／ｍｉｎで行った。乾燥後の巻取りは温度２５±
５℃、相対湿度４５±１０％の条件下で行った。巻き姿
はその後の加工形態（画像形成層面側外巻）に合わせ、
画像形成層面側を外にした。なお、感光材料の包袋湿度
は相対湿度２０〜４０％（２５℃測定）で、得られた熱
現像感光材料の画像形成側の膜面ｐＨは５．１、ベック
平滑度は５０００秒であり、反対側の膜面ｐＨは５．
９、ベック平滑度は５００秒であった。

【０２１４】塗布方法を変更したこと以外は、実施例１
と同様に試料を作製し評価を実施したところ、実施例１
同様に本発明の条件を満たす熱現像感光材料が良好な性
能を示した。

【０２１５】＜実施例３＞実施例２と同様に、下層保護
層塗布液を調製した。上層保護層塗布液は、マット剤と
して平均粒径１１μｍのポリスチレン粒子（平均粒径の
変動係数８％）５．０ｇを使用する以外は実施例２とま
ったく同様の方法で調製した。そして、実施例１に記載
したように下塗り層を塗布したＰＥＴ支持体の下塗り層
の上に、特開２０００−２９６４号公報の図１に示され
ているスライドビード塗布方式を用いて、前記の画像形
成層塗布液を塗布銀量１．５ｇ／ｍ²になる様に、その
上に、前記の保護層下層塗布液をポリマーラテックスの
固形分塗布量が１．２ｇ／ｍ²になる様に、さらにその
上に前記の保護層上層塗布液をポリマーラテックスの固
形分塗布量が１．４ｇ／ｍ²になる様に、画像形成層と
保護層下層および上層の３層を同時に重層塗布した。

【０２１６】塗布時の乾燥条件、巻き姿は実施例２と同
様とし、その後の加工形態（画像形成層面側外巻）に合
わせ、画像形成層面側を外にした。なお、熱現像感光材
料の包袋湿度は相対湿度２０〜４０％（２５℃測定）
で、得られた熱現像感光材料の画像形成側の膜面ｐＨは
５．１、ベック平滑度は１３００秒であり、反対側の膜
面ｐＨは５．９、ベック平滑度は５００秒であった。こ
うして得られた試料について、実施例１と同様の方法で
評価を行ったところ、実施例１と同様に本発明の条件を
満たす熱現像感光材料が良好な性能を示した。

【０２１７】＜実施例４＞実施例１、２および３で作製
した熱現像感光材料を、DRY SYSTEM PROCESSOR FDS-610
0X（富士写真フイルム社製）にて熱現像処理を行ったと
ころ、実施例１、２および３と同様に本発明の条件を満
たす熱現像感光材料が良好な性能を示した。

【０２１８】＜実施例５＞実施例１に記載の熱現像感光
材料について、造核剤を含まない熱現像感光材料を作製
し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に記載し
た。実施例５についても、本発明の条件を満たす熱現像
感光材料は、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、カブリが低
い、良好な写真特性を備えている。

【０２１９】

【表２】

【０２２０】

【発明の効果】本発明の熱現像感光材料は、造核剤の存
在下、高Ｄｍａｘ（最高濃度）、高コントラストを与
え、カブリが低く、写真製版用途に最適な写真特性を備
えている。また、造核剤を含まない場合においても高Ｄ
ｍａｘ、低カブリの良好な写真特性を与える。

【０２２１】

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用い
られる熱現像機の一構成例を示す側面図である。

【符号の説明】

１０ 熱現像感光材料 １１ 搬入ローラー対 １２ 搬出ローラー対 １３ ローラー １４ 平滑面 １５ 加熱ヒーター １６ ガイド板 Ａ 予備加熱部 Ｂ 熱現像処理部 Ｃ 徐冷部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 稔 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 大屋 豊尚 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H123 AB00 AB28 BA00 BA45 BB00 BB02 BB24 BB27 BB31 BB39 CA00 CA22 CB03

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の同一面上に少なくとも（ａ）感
   光性ハロゲン化銀、（ｂ）還元可能な銀塩、（ｃ）下記
   式（１）で表される還元剤、（ｄ）バインダー、および
   （ｅ）下記式（２）で表される化合物を含有することを
   特徴とする熱現像感光材料。 【化１】 （式（１）において、Ｖ¹〜Ｖ⁸はそれぞれ独立に水素原
   子または置換基を表し、Ｌは−ＣＨ（Ｖ⁹）−または−
   Ｓ−なる連結基を表し、Ｖ⁹は水素原子または置換基を
   表す。） 【化２】 （式（２）において、Ｘ¹は置換基を表し，Ｘ²〜Ｘ⁴は
   それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただしＸ
   ¹〜Ｘ⁴はヒドロキシ基であることはなく、Ｘ³はスルホ
   ンアミド基であることはない。Ｘ¹〜Ｘ⁴で表わされる置
   換基は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ¹は水素
   原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基
   またはアルコキシ基を表わす。）
2. 【請求項２】 前記式（２）において、Ｒ¹が水素原
   子、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基
   または炭素数１〜７のアルキル基を表わすことを特徴と
   する、請求項１に記載の熱現像感光材料。
3. 【請求項３】 前記式（２）において、Ｘ¹、Ｘ³のうち
   少なくとも１つが電子求引性基を表わし、Ｒ¹がアリー
   ル基または炭素数１〜７のアルキル基を表わすことを特
   徴とする、請求項１に記載の熱現像感光材料。
4. 【請求項４】 前記式（２）において、Ｘ¹、Ｘ³がとも
   にハロゲン原子を表わし、Ｒ¹がアリール基または炭素
   数１〜７のアルキル基を表わすことを特徴とする、請求
   項１に記載の熱現像感光材料。
5. 【請求項５】 前記式（２）において、Ｘ¹、Ｘ³がとも
   に塩素原子または臭素原子を表わし、Ｘ²、Ｘ⁴が水素原
   子またはアルキル基を表わし、Ｒ¹がアリール基を表わ
   すことを特徴とする、請求項１に記載の熱現像感光材
   料。
6. 【請求項６】 さらに造核剤（超硬調化剤）を含有する
   ことを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の熱
   現像感光材料。
7. 【請求項７】 支持体と感光性層の間にゼラチンを含有
   する下塗り層を有することを特徴とする請求項１〜６の
   いずれかに記載の熱現像感光材料。