JP2002296725A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 物理的な変形を生じさせることなく、濃度ム
ラの発生が少なく硬調で且つ最高濃度が高い画像を形成
することができる熱現像感光材料を用いた画像形成方法
を提供する。 【解決手段】 画像形成層とバック層とを有する熱現像
感光材料１０を、７００〜８５０ｎｍの波長の光で露光
し、予備加熱部Ａ、熱現像部Ｂおよび徐冷部Ｃを備えた
熱現像機で処理する画像形成方法において、前記熱現像
感光材料１０は、有機溶媒を２０質量％以上含有する塗
布液を塗布してなる塗布層を少なくとも１層有し、且つ
前記熱現像部Ｂは、搬送される熱現像感光材料１０に対
して画像形成層側１０ａおよびバック層側１０ｂに加熱
部材１５を備えるとともに、画像形成層側１０ａのみに
搬送ローラを備えることを特徴とする画像形成方法であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料の画
像形成方法に関するものであり、特に、写真製版用に適
したスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料の
画像形成方法に関し、さらに詳細には、物理的な変形お
よび濃度ムラがなく硬調で最高濃度の高い性能が得られ
る熱現像感光材料の画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】支持体上に感光性の画像形成層を有する
感光材料を、画像露光することで画像形成を行う画像形
成方法については、種々知られている。中でも、感光材
料を熱現像処理することによって画像を形成する方法
は、環境面保全に寄与し、さらに画像形成システムを簡
易化できる方法として知られている。近年、写真製版分
野においては環境保全や省スペースの観点から処理廃液
の減量が強く望まれるようになっている。そこで、レー
ザー・スキャナーまたはレーザー・イメージセッターに
より効率的に露光させることができ、かつ高解像度およ
び鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することができ
る写真製版用途の熱現像感光材料に関する技術開発が必
要とされている。このような熱現像感光材料によれば、
溶液系処理化学薬品を必要としない、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことが可能になる。

【０００３】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第３，１５２，９０４号明細書、同第３，４
５７，０７５号明細書、およびＤ．クロスタボーア（Kl
osterboer）による「熱によって処理される銀システム
（Thermally Processed Silver Systems）Ａ」（イメー
ジング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ（Imag
ing Processes and Materials）Neblette 第８版、
Ｊ．スタージ（Sturge）、Ｖ．ウォールワーズ（Walwor
th）、Ａ．シェップ（Shepp）編集、第９章第２７９
頁、１９８９年）に記載されている。このような熱現像
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀
塩）、触媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、お
よび銀の還元剤を、通常、有機バインダーマトリックス
中に分散した状態で含有する。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後に高温（例えば、８０℃以上）に加熱し
たときに、還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と
還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。こ
の酸化還元反応は露光により形成された潜像の触媒作用
によって促進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反
応によって生成した銀は黒色になり、非露光領域と対照
をなすことから画像の形成がなされる。

【０００４】この様な熱現像感光材料は、種々の材料を
溶媒に溶解することによって調製された塗布液を、支持
体上に塗布し、画像形成層を含む多層を形成することに
より、作製される。塗布液の溶媒としては、メチルエチ
ルケトンやアセトンなどの有機溶媒が用いられることが
ある。塗布液の溶媒として有機溶媒を用いた感光材料
は、現像温度変動や経時による濃度変動が生じることが
あるが、特開平６−３０１１４０号公報等に記載されて
いるように塗布後の残存溶媒量を一定にすることで、そ
の様な現象が発生するのを抑制することができる。

【０００５】ところで、熱現像による画像形成方法は、
イメージワイズに露光した熱現像感光材料を、昇温して
現像する、加熱現像工程を有する。熱現像機の態様とし
ては、熱現像感光材料をヒートローラやヒートドラムな
どの熱源に接触させるタイプとして特公平５−５６４９
９号公報、特開平９−２９２６９５号公報、特開平９−
２９７３８５号公報および国際公開ＷＯ９５／３０９３
４号公報に記載の熱現像機、非接触型のタイプとして特
開平７−１３２９４号公報、国際公開ＷＯ９７／２８４
８９号公報、同９７／２８４８８号公報および同９７／
２８４８７号公報に記載の熱現像機がある。

【０００６】一方、印刷製版用としては硬調な画像を得
られる感光材料が必要であり、その硬調化技術として米
国特許第５，４５，５０５号および同５，４６４，７３
８号の各明細書に記載されているようにヒドラジン誘導
体を使用することが知られているが、これらの硬調化技
術を採用すると、熱現像で濃度ムラが発生してしまうこ
とがある。また、印刷製版用フィルムはサイズが大き
く、より濃度ムラを起こしやすいという問題がある。更
には、熱現像時に不均一な外力が加わることにより、物
理的な変形が起こり濃度ムラが発生するという問題もあ
る。熱現像機の方式として接触型は均一に熱現像するこ
と、非接触型は搬送時の拘束力がなく物理的変形が発生
しにくいことが特徴であるが、印刷用途でのフィルムサ
イズは大きく、濃度ムラおよび物理的な変形の問題がよ
り発生し易い。このため、物理的な変形および濃度ムラ
がなく硬調で最高濃度の高い性能が得られる画像形成方
法が望まれていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記諸問題に
鑑みなされたものであって、特に、写真製版用、中でも
スキャナーまたはイメージセッター用熱現像感光材料
を、物理的な変形を生じさせることなく、濃度ムラの発
生が少なく硬調で且つ最高濃度が高い画像を形成可能な
画像形成方法を提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の画像形成方法は、少なくとも画像形成層と
バック層とを有する熱現像感光材料を、７００〜８５０
ｎｍの波長の光で露光し、予備加熱部、熱現像部および
徐冷部を備えた熱現像機で処理する画像形成方法におい
て、前記熱現像感光材料は、有機溶媒を２０質量％以上
含有する塗布液を塗布してなる塗布層を少なくとも１層
有し、且つ前記熱現像部は、搬送される熱現像感光材料
に対して画像形成層側およびバック層側に加熱部材を備
えるとともに、画像形成層側のみに搬送ローラを備える
ことを特徴とする。

【０００９】本発明の画像形成方法においては、前記熱
現像感光材料が、幅５５０〜６５０ｍｍおよび長さ１〜
６５ｍのシート状であるとともに、その一部または全部
が円筒形状のコア部材に画像形成層を外側として巻き取
られた形態であるのが好ましい。また、前記熱現像感光
材料の熱現像時の処理速度が２０ｍｍ/秒〜２００ｍｍ
／秒であるのが好ましい。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の画像形成方法につ
いて詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」は
その前後に記載される数値をそれぞれ最小値および最大
値として含む範囲を示す。本発明は、熱現像感光材料を
用いた画像形成方法に関する。本発明の画像形成方法に
おいて、前記熱現像感光材料は、まず、７００〜８５０
ｎｍの波長の光で露光される。露光に用いられる露光装
置は露光時間が１０^-7秒以下の露光が可能な装置であれ
ばいずれでもよいが、一般的にはレーザーダイオード
（ＬＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）を光源に使用した
露光装置が好ましく用いられる。特に、ＬＤは高出力、
高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的波長
範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができるも
のであればいずれでもよい。例えばＬＤであれば、色素
レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レーザ
ーなどを用いることができる。印刷用途の場合は、非画
像部の濃度がＵＶから可視域において低いことが好まし
く、７００〜８５０ｎｍに感光する材料が必要となる。

【００１１】本発明の画像形成方法において、光源の光
ビームをオーバーラップさせて、前記熱現像感光材料を
露光するのが好ましい。オーバーラップとは副走査ピッ
チ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップ
は、例えばビーム径をビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）
で表わしたとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ幅（オーバー
ラップ係数）で定量的に表現することができる。本発明
ではこのオーバーラップ係数が０．２以上であることが
好ましい。

【００１２】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定されず、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、高出力が得られ、書き込み時間が短くなる
という点でレーザーヘッドを２機以上搭載するマルチチ
ャンネルが好ましい。特に、円筒外面方式の場合にはレ
ーザーヘッドを数機から数十機以上搭載するマルチチャ
ンネルが好ましく用いられる。

【００１３】露光の対象となる熱現像感光材料が、露光
時のヘイズが低い場合は、干渉縞が発生しやすい傾向に
あるので、これを防止することが好ましい。干渉縞の発
生を防止する技術としては、特開平５−１１３５４８号
公報などに開示されているレーザー光を感光材料に対し
て斜めに入光させる技術や、国際公開ＷＯ９５／３１７
５４号公報などに開示されているマルチモードレーザー
を利用する方法が知られており、これらの技術を用いる
ことが好ましい。

【００１４】本発明の画像形成方法において、熱現像感
光材料は露光され、潜像が形成された後、予備加熱部、
熱現像部および徐冷部を備えた熱現像機で現像処理され
る。熱現像機による現像温度は、８０〜２５０℃である
のが好ましく、１００〜１４０℃であるのが好ましい。
前記熱現像機によるトータルの現像時間は１〜１８０秒
であるのが好ましく、５〜９０秒であるのがさらに好ま
しい。また、前記熱現像機による熱現像の処理速度は、
２０〜２００ｍｍ/秒であるのが好ましく、２５〜２０
０ｍｍ/秒であるのがより好ましい。

【００１５】露光された熱現像感光材料は、まず、予備
加熱部で加熱される。予備加熱部は、熱現像時における
熱現像感光材料の寸法変化による処理ムラを防止する目
的で設けられる。予備加熱部における加熱は、熱現像温
度よりも低く（例えば１０〜３０℃程度低く）、熱現像
感光材料中に残存する溶媒を蒸発させるのに十分な温度
および時間に設定することが望ましく、熱現像感光材料
の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも高い温度で、
現像ムラが出ないように設定することが好ましい。一般
的には、８０℃以上１１５℃未満で、５秒以上加熱する
のが好ましい。

【００１６】予備加熱部で加熱された熱現像感光性材料
は、引き続き熱現像部にて加熱される。本発明の画像形
成方法では、前記熱現像部は、搬送される熱現像感光材
料に対して、画像形成層側およびバック層側に加熱部材
を備えるとともに、画像形成層側のみに搬送ローラを備
える。例えば、熱現像感光材料が画像形成層を上側にし
て搬送される場合、熱現像感光材料の搬送方向に対し下
側（熱現像感光材料のバック層側）は搬送ローラがな
く、上側（熱現像感光材料の画像形成層側）のみに搬送
ローラがある構成である。本発明においては、熱現像部
を前記構成とすることにより、濃度ムラの発生および物
理的な変形を防止している。

【００１７】熱現像部において、熱現像感光材料は加熱
ヒータ等の加熱部材によって加熱される。熱現像部にお
ける加熱温度は、熱現像に充分な温度であり、一般的に
は１１０℃〜１４０℃である。熱現像感光材料は、熱現
像部において、１１０℃以上の高温にさらされるため、
該材料中に含まれている成分の一部、あるいは熱現像に
よる分解成分の一部が揮発する場合がある。これらの揮
発成分は現像ムラの原因になったり、熱現像機の構成部
材を腐食させたり、温度の低い場所で析出し、異物とし
て画面の変形を引起こしたり、画面に付着した汚れとな
ったり、等の種々の悪い影響を及ぼすことが知られてい
る。これらの影響を除くための方法として、熱現像機に
フィルターを設置し、また熱現像機内の空気の流れを最
適に調整する方法が知られている。これらの方法は有効
に組み合わせて利用することができる。例えば、国際公
開ＷＯ９５／３０９３３号公報、同９７／２１１５０号
公報、特表平１０−５００４９６号公報には、結合吸収
粒子を有し揮発分を導入する第一の開口部と排出する第
二の開口部とを有するフィルターカートリッジを、フィ
ルムと接触して加熱する加熱装置に用いることが記載さ
れている。また、国際公開ＷＯ９６／１２２１３号公
報、特表平１０−５０７４０３号公報には、熱伝導性の
凝縮捕集器とガス吸収性微粒子フィルターを組合せたフ
ィルターを用いることが記載されている。本発明ではこ
れらを好ましく用いることができる。また、米国特許第
４，５１８，８４５号明細書、特公平３−５４３３１号
公報には、フィルムからの蒸気を除去する装置とフィル
ムを伝熱部材へ押圧する加圧装置と伝熱部材を加熱する
装置とを有する構成が記載されている。また、国際公開
ＷＯ９８／２７４５８号には、フィルムから揮発するカ
ブリを増加させる成分をフィルム表面から取り除くこと
が記載されている。これらについても本発明では好まし
く用いることができる。

【００１８】予備加熱部および熱現像部における加熱の
温度分布は、各々、±１℃以下であるのが好ましく、±
０．５℃以下であるのがより好ましい。

【００１９】熱現像部で加熱された熱現像感光材料は、
次に、徐冷部で冷却される。冷却は、熱現像感光材料が
物理的に変形しないように、徐々に行うのが好ましく、
冷却速度としては０．５〜１０℃／秒が好ましい。

【００２０】本発明の画像形成方法に用いられる熱現像
機の一構成例を図１に示す。図１は熱現像機の概略側面
図を示したものである。図１に示す熱現像機は、熱現像
感光材料１０を予備加熱するための予備加熱部Ａ、熱現
像処理するための熱現像部Ｂおよび熱現像感光材料を冷
却する徐冷部Ｃとから構成される。予備加熱部Ａは、搬
入ローラ対１１（上部ローラはシリコンゴムローラで、
下部ローラがアルミ製のヒートローラ）を備える。熱現
像部Ｂは、熱現像感光材料１０の画像形成層が形成され
た側の面１０ａと接触する側に、複数のローラ１３を備
え、その反対側の熱現像感光材料１０のバック層側の面
１０ｂと接触する側には、不織布（例えば芳香族ポリア
ミドやテフロン（登録商標）から成る）等が貼り合わさ
れた平滑面１４を備える。ローラ１３と平滑面１４との
クリアランスは、熱現像感光材料１０が搬送可能なクリ
アランスに適宜調整される。一般的には、クリアランス
は０〜１ｍｍ程度である。さらに、熱現像部Ｂは、ロー
ラ１３の上部および平滑面１４の下部に、熱現像感光材
料１０を画像形成層側およびバック層側から加熱するた
めの加熱ヒータ１５（板状ヒータ等）を備える。徐冷部
Ｃは、熱現像部Ｂから熱現像感光材料１０を搬出するた
めの搬出ローラ対１２とガイド板１６とを備える。

【００２１】熱現像感光材料１０は搬入ローラ対１１か
ら搬出ローラ対１２へと搬送される間に熱現像される。
熱現像感光材料１０は露光された後、予備加熱部Ｂに搬
入される。予備加熱部Ｂにおいて、熱現像感光材料１０
は、複数の搬入ローラ対１２によって平面状に矯正され
且つ予備加熱されて、熱現像部Ｂに搬入される。熱現像
部Ｂに搬入された熱現像感光材料１０は、複数のローラ
１３と平滑面１４とのクリアランスに挿入され、熱現像
感光材料１０の表面１０ａに接触するローラ１３の駆動
により、バック層側の面１０ｂを平滑面１４上に滑らせ
ながら搬送される。搬送されている間、熱現像感光材料
１０は、画像形成層側およびバック層側の双方から、加
熱ヒータ１５によって熱現像に充分な温度まで加熱さ
れ、露光によって形成された潜像が現像される。その
後、熱現像感光材料１０は、徐冷部Ｃへ搬送され、搬出
ローラ対１２によって平面状に矯正されて、熱現像機２
０から搬出される。

【００２２】熱現像部Ｂのローラ１３の表面の材質およ
び平滑面１４の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光
材料１０の搬送に支障がなければ特に制限はないが、ロ
ーラ１３の表面の材質はシリコンゴムであるのが好まし
く、平滑面１４の部材は芳香族ポリアミドまたはテフロ
ン（ＰＴＦＥ）製の不織布であるのが好ましい。加熱ヒ
ータ１５は、熱現像感光材料１０を熱現像するのに十分
な温度まで加熱するものであれば、その形状および数に
ついては特に制限されないが、それぞれの加熱温度が自
由に設定可能な構成であるのが好ましい。

【００２３】なお、熱現像感光材料１０は、搬入ローラ
対１１を備える予備加熱部Ａと、加熱ヒータ１５を備え
る熱現像部Ｂで加熱されるが、予備加熱部Ａにおける加
熱は、熱現像温度よりも低く（例えば１０〜３０℃程度
低く）、熱現像感光材料１０中の水分量を蒸発させるの
に十分な温度および時間に設定することが望ましく、熱
現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よ
りも高い温度で、現像ムラが出ないように設定すること
が好ましい。予備加熱部と熱現像処理部の温度分布とし
ては±１℃以下が好ましく、さらには±０．５℃以下が
好ましい。

【００２４】徐冷部Ｃにおいて、熱現像感光材料１０が
急激に冷却され、変形してしまわないためには、ガイド
板１６は熱伝導率の低い素材を用いて構成するのが好ま
しい。

【００２５】前記熱現像感光材料は、例えば、幅５５０
〜６５０ｍｍおよび長さ１〜６５ｍのシート状のものが
用いられ、その一部または全部を円筒形状のコア部材に
巻き取られた形態で、熱現像システムに組み込まれる。
画像形成層を外側として巻き取られているのが好まし
い。

【００２６】次に、本発明の画像形成方法の対象となる
熱現像感光材料について説明する。本発明に使用される
熱現像感光材料は、７００〜８５０ｎｍの波長に対して
感光性を有する。前記熱現像感光材料は、支持体上に画
像形成層を少なくとも１層有し、該画像形成層は、１以
上の層からなり、少なくとも前記波長域に感光性を有す
る感光性ハロゲン化銀乳剤をいずれかの層に含有する。
また、前記熱現像感光材料は、画像形成層が形成された
側の面と反対側の支持体面（裏面）にバック層を有す
る。その他、所望により、画像形成層を保護するための
保護層等を有する。本発明に用いられる熱現像感光材料
は、有機溶媒を２０質量％以上含有する塗布液を塗布し
てなる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とす
る。前記塗布層は、熱現像感光材料中のいずれの層（例
えば、画像形成層、保護層等）であってもよいが、画像
形成層が前記塗布層であるのが好ましい。

【００２７】前記熱現像感光材料は、還元可能な有機銀
塩銀を含有する。前記有機銀塩としては、脂肪酸銀塩が
好ましい。前記脂肪酸銀塩は、還元可能な銀イオン源を
含有する脂肪酸の銀塩であり、中でも、長鎖（１０〜３
０、好ましくは１５〜２５の炭素原子数）の脂肪族カル
ボン酸の銀塩が好ましい。好適な脂肪酸銀塩の例は、Ｒ
ｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９お
よび２９９６３に記載されており、例えば、シュウ酸、
ベヘン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の脂肪酸の銀塩が挙げられる。特に、
ベヘン酸銀、アラキジン酸銀およびステアリン酸銀から
選ばれる少なくとも１種であるのが好ましい。

【００２８】前記有機酸銀塩は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する脂肪酸を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２７６４
３号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、脂肪酸にアルカ
リ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など）を加えて脂肪酸アルカリ金属塩ソープ（例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど）を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して脂肪酸銀塩の結晶を
作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。

【００２９】前記有機銀塩は、平板粒子であってもよ
い。該平板粒子の厚さは０．００５〜０．２μｍが好ま
しく、０．００５〜０．１５μｍがより好ましく、０．
００５〜０．１μｍが更に好ましい。また、下記で定義
される平版比率ＴＡが、２〜２００であるのが好まし
く、３〜１００であるのがより好ましい。 ＴＡ＝Ｂ／Ｄ （Ｂ：脂肪酸銀塩平板粒子の投影面積、Ｄ：脂肪酸銀塩
平板粒子の厚みを各々示す） また、有機銀塩粒子の全個数のうち、平版比率２以上の
平板粒子が５０％以上であるのが好ましく、５５％〜１
００％であるのがより好ましく、６０〜１００％である
のがさらに好ましい。

【００３０】平版比率を所望の範囲にする方法として
は、例えば、有機酸（好ましくは脂肪酸）のＮａＯＨ溶
液に硝酸銀を添加する際のｐＨ、温度、電位、速度など
をコントロールする方法、硝酸銀液に有機酸（好ましく
は脂肪酸）のＮａＯＨ溶液を添加する際のｐＨ、温度、
電位、速度などをコントロールする方法、有機酸（好ま
しくは脂肪酸）のＮａＯＨ溶液と硝酸銀液を同時にコン
トロールドダブルジェット法で混合する際のｐＨ、温
度、電位、速度などをコントロールする方法、有機酸銀
塩形成後に反応容器中で熟成をする方法、有機酸銀塩形
成後に分散装置によりバインダーとともに分散する方法
などがあり、これらは単独または組み合わせることがで
きる。その中でも、有機銀塩形成後に分散装置によりバ
インダーや活性剤とともに分散して、有機酸銀塩の平板
粒子を形成することが好ましく用いられる。

【００３１】前記有機酸酸銀塩粒子の平均粒径は、０．
２〜１．２μｍであるのが好ましく、０．３５〜１μｍ
であるのがより好ましい。ここでいう平均粒径とは上記
の粒子を無作為に３００個以上抽出して、レプリカ法等
により個々の粒子の投影面積を測定して円換算した直径
で示し、それらの算術平均を求めて平均粒径とする。ま
た、前記有機酸銀塩の粒子は、単分散であることが好ま
しい。ここでいう単分散とは、後述するハロゲン化銀の
場合と同義であり、好ましくは単分散度が１〜３０であ
る。この範囲にすることで濃度が高く、かつ画像保存性
に優れた感光材料が得られる。

【００３２】前記平板状の有機酸銀塩とともに、針状有
機酸銀塩粒子を混在させることは処理後の透明性を保つ
ためには好ましくない。特に特開平９−６８７７２号公
報の実施例に記載されているような、長軸径が１μｍを
超える粒子が全粒子の５０％以上の個数があるような場
合は著しく処理後の透明性を劣化させる場合がある。

【００３３】前記熱現像感光材料は、ハロゲン化銀乳剤
を含有する。前記乳剤に含有されるハロゲン化銀粒子は
光センサーとして機能するものである。前記ハロゲン化
銀粒子は、画像形成後の白濁を低減し、形成画像の画質
を向上させる観点から、平均粒子サイズが小さいのを用
いの画好ましく、平均粒子サイズが０．１μｍ以下であ
るのが好ましく、０．０１〜０．１μｍであるのがより
好ましく、０．０２〜０．０８μｍであるのが特に好ま
しい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が
立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、正常晶
でない場合、例えば球状、棒状、あるいは平板状の粒子
の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考え
たときの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散である
ことが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求め
られる単分散度が４０以下のことをいう。更に好ましく
は３０以下であり、特に好ましくは０．１以上２０以下
となる粒子である。 単分散度＝｛（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）｝
×１００

【００３４】前記ハロゲン化銀粒子の形状については特
に制限はないが、ミラー指数〔１００〕面の占める割合
が高いものを使用するのが好ましく、この割合が５０％
以上、更には７０％以上、特に８０％以上であるのが好
ましい。ミラー指数〔１００〕面の比率は増感色素の吸
着における〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性
を利用したＴ．Ｔａｎｉ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃ
ｉ．，２９，１６５（１９８５）により求めることがで
きる。

【００３５】また、もう一つの好ましいハロゲン化銀の
形状は平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径ｒμｍとして垂直方向の厚みｈμｍ
した場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものをい
う。その中でも好ましくはアスペクト比が３〜５０であ
る。また粒径は０．１μｍ以下であることが好ましく、
さらに０．０１〜０．０８μｍが好ましい。これらは米
国特許第５，２６４，３３７号、同５，３１４，７９８
号、同５，３２０，９５８号等の各明細書に記載されて
おり、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本
発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、さらに
画像の鮮鋭性も向上する。

【００３６】前記ハロゲン化銀乳剤のハロゲン組成とし
ては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、
臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本
発明に用いられる乳剤は、「Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈ
ｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ」（Ｐ．
Ｇｌａｆｋｉｄｅｓ著、Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ社刊、
１９６７年）、「Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌ
ｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」（Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉ
ｎ著、Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６６
年）、「Ｍａｋｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈ
ｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ」（Ｖ．Ｌ．
Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ著、ＴｈｅＦｏｃａｌ
Ｐｒｅｓｓ刊、１９６４年）等に記載された方法を用い
て調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アン
モニア法等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と可溶性
ハロゲン塩を反応させる形成としては、片側混合法、同
時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよい。
このハロゲン化銀はいかなる方法で層に添加されてもよ
く、このときハロゲン化銀は還元可能な銀源に近接する
ように配置する。また、ハロゲン化銀は有機酸銀とハロ
ゲンイオンとの反応による有機酸銀中の銀の一部または
全部をハロゲン化銀に変換することによって調製しても
よいし、ハロゲン化銀を予め調製しておき、これを有機
銀塩を調製するための溶液に添加してもよく、またはこ
れらの方法の組み合わせも可能であるが、後者が好まし
い。一般にハロゲン化銀は有機銀塩に対して０．７５〜
３０質量％の量で含有することが好ましい。

【００３７】前記ハロゲン化銀は、周期表の６族から１
１族に属する金属イオンを含有するのが好ましく、該金
属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ましい。
これらの金属イオンは、金属錯体または金属錯体イオン
の形でハロゲン化銀に導入できる。これらの金属錯体ま
たは金属錯体イオンとしては、下記一般式（Ｘ）で表さ
れる６配位金属錯体が好ましい。 一般式（Ｘ） 〔ＭＬ₆〕^m 式中、Ｍは周期表の６〜１１族の元素から選ばれる遷移
金属を表し、Ｌは配位子を表し、ｍは０、１−、２−、
３−または４−を表す。複数存在するＬは互いに同一で
あっても異なっていてもよい。Ｍは、ロジウム（Ｒ
ｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イリジ
ウム（Ｉｒ）またはオスミウム（Ｏｓ）であるのが好ま
しい。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲン
化物（弗化物、塩化物、臭化物および沃化物）、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジドおよびアコの各配位子、
ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくは
アコ、ニトロシルおよびチオニトロシル等である。アコ
配位子が存在する場合には、アコ配位子の数は２以下で
あるのが好ましい。

【００３８】以下に、前記一般式（Ｘ）で表される遷移
金属錯体イオンの具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。 １：〔ＲｈＣ_l6〕^3- ２：〔ＲｕＣｌ₆〕^3- ３：〔ＲｅＣｌ₆〕^3- ４：〔ＲｕＢｒ₆〕^3- ５：〔ＯｓＣｌ₆〕^3- ６：〔ＩｒＣｌ₆〕^4- ７：〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ８：〔ＲｕＢｒ４（Ｈ₂Ｏ）〕^2- ９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₄〕^- １０：〔ＲｈＣｌ₅（Ｈ₂Ｏ）〕^2- １１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- １２：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ₅〕^2- １３：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ₄〕^2- １４：〔Ｒｈ（ＮＯ）２Ｃｌ₄〕^- １５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₄〕^- １６：〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ₅〕^2- １７：〔Ｆｅ（ＣＮ）６〕^3- １８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- １９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕− ２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ₄（ＴｅＣＮ）〕^2- ２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕２− ２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ₄（ＳｅＣＮ）〕^2- ２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）４〕^2- ２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2-

【００３９】これらの金属イオン、金属錯体または金属
錯体イオンは一種類でもよいし、同種の金属および異種
の金属を二種以上併用してもよい。これらの金属イオ
ン、金属錯体または金属錯体イオンの含有量としては、
一般的にはハロゲン化銀１モル当たり１×１０^-9〜１×
１０^-2モルが適当であり、好ましくは１×１０^-8〜１×
１０^-4モルである。

【００４０】これらの金属を提供する化合物は、ハロゲ
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。添加に際しては、数回に渡って分割して
添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させ
ることもできるし、特開昭６３−２９６０３号、特開平
２−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７
６５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８
３号等の各公報に記載されている様に、粒子内に分布を
持たせて含有させることもできる。好ましくは粒子内部
に分布をもたせることである。

【００４１】これらの金属化合物は、水あるいは適当な
有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコ
ール類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して
添加することができる。例えば、金属化合物の粉末の水
溶液、または金属化合物とＮａＣｌもしくはＫＣｌとを
一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液
または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、ある
いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第
３の水溶液として添加し、３液同時混合の方法でハロゲ
ン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属
化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハ
ロゲン化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオン
をドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解
させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液
もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解
した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ま
しい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後または
物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必要
量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもで
きる。

【００４２】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができる。

【００４３】前記感光性ハロゲン化銀粒子は化学増感さ
れていることが好ましい。好ましい化学増感法としては
当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増
感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イ
リジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いる
ことができる。

【００４４】本発明において製版フィルム材料の失透を
防ぐためには、ハロゲン化銀および有機酸銀塩の総量
は、銀量に換算して１ｍ²当たり０．５ｇ〜２．２ｇで
あることが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像
が得られる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、
質量比で５０％以下、好ましくは２５％以下、更に好ま
しくは０．１〜１５％の間である。

【００４５】本発明に用いられる熱現像感光材料は、７
００〜８５０ｎｍの波長に対して感光性を有する材料で
ある。前記波長域の光に対して感光性を発現するため
に、前記ハロゲン化銀乳剤は、増感色素によって分光増
感されているのが好ましい。例えば、ＬＥＤ光源および
赤外半導体レーザー光源に対しては、特公昭４８−４２
１７２号、同５１−９６０９号、同５５−３９８１８
号、特開昭６２−２８４３４３号、特開平２−１０５１
３５号等の各公報に記載されたチアカルボシアニン類、
赤外半導体レーザー光源に対しては特開昭５９−１９１
０３２号、特開昭６０−８０８４１号の各公報に記載さ
れたトリカルボシアニン類、特開昭５９−１９２２４２
号公報および特開平３−６７２４２号公報に記載の一般
式（IIIａ）、（IIIｂ）で表される４−キノリン核を含
有するジカルボシアニン類等が好ましく選択される。更
に赤外レーザー光源の波長が７５０ｎｍ以上更に好まし
くは８００ｎｍ以上である場合このような波長域のレー
ザーに対応する為には、特開平４−１８２６３９号、同
５−３４１４３２号、特公平６−５２３８７号、同３−
１０９３１号の各公報、米国特許第５，４４１，８６６
号明細書、特開平７−１３２９５号公報等に記載されて
いる増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色素
は１種を単独で用いてもよく、また強色増感の目的で２
種以上を併用してもよい。また、増感色素とともに、そ
れ自身分光増感作用を持たない色素または可視光を実質
的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を含
有させてもよい。

【００４６】前記熱現像感光材料は、赤外に分光感度を
有する増感色素として、下記一般式（１）〜（３）のい
ずれかで表される化合物を少なくとも１種含有すること
が好ましい。

【００４７】

【化１】

【００４８】前記一般式（１）中、Ｌ¹¹およびＬ¹²は、
各々独立して、単環あるいは縮合された５員または６員
の含窒素複素環を完成するのに必要な非金属原子群を表
し、Ｒ¹¹およびＲ¹²は各々独立して脂肪族基を表し、Ｒ
¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は各々独立して水素原子、置換もし
くは無置換の、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、複素環基、−ＳＲ¹または−Ｎ
Ｒ²Ｒ³を表す。Ｒ¹は置換もしくは無置換の、アルキル
基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ²およびＲ³は
各々独立して、置換もしくは無置換の、アルキル基また
はアリール基を表し、Ｒ²とＲ³とは互いに連結して５員
または６員の含窒素複素環を形成していてもよい。Ｘ¹
は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、ｍ¹
は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。
ｎ¹¹およびｎ¹²は各々０または１を表す。ｋ¹¹は２また
は３を表し、分子内に複数存在するＲ¹⁴およびＲ¹⁵は、
互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ¹¹
〜Ｒ¹⁵のうち可能な場合は２つ（複数存在するＲ¹⁴とＲ
¹⁴との組み合わせ、およびＲ¹⁵とＲ¹⁵との組み合わせを
含む）が互いに結合して、５または６員の炭素環または
複素環を形成していてもよい。

【００４９】Ｌ¹¹およびＬ¹²がそれぞれ表す原子団によ
って形成される前記５員または６員の含窒素複素環とし
ては、オキサゾール核（例えば、オキサゾリジン環、オ
キサゾリン環、ベンゾオキサゾール環、テトラヒドロベ
ンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、ベンゾナ
フトオキサゾール環等）、イミダゾール核（例えば、イ
ミダゾリジン環、イミダゾリン環、ベンズイミダゾール
環、テトラヒドロベンゾイミダゾール環、ナフトイミダ
ゾール環、ベンゾナフトイミダゾール環等）、チアゾー
ル核（例えば、チアゾリジン環、チアゾリン環、ベンゾ
チアゾール環、テトラヒドロベンゾチアゾール環、ナフ
トチアゾール環、ベンゾナフトチアゾール環等）、セレ
ナゾール核（例えば、セレナゾリジン環、セレナゾリン
環、ベンゾセレナゾール環、テトラヒドロベンゾセレナ
ゾール環、ナフトセレナゾール環、ベンゾナフトセレナ
ゾール環等）、テルラゾール核（例えば、テルラゾリジ
ン環、テルラゾリン環、ベンゾテルラゾール環等）、ピ
リジン核（例えば、ピリジン、キノリン等）、ピロール
核（例えば、ピロリジン環、ピロリン環、ピロール環、
３，３−ジアルキルインドレニン環等）が挙げられる。
これらの環を構成している原子が置換可能な場合には、
後述のＱ⁴¹〜Ｑ⁸⁸で表される置換基として例示する基に
よって置換されていてもよい。

【００５０】Ｒ¹¹およびＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と
しては、例えば、炭素数１〜１０の分岐状または直鎖状
のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−
エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等）、炭素
数３〜１０のアルケニル基（例えば、２−プロペニル
基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、
３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−
ヘキセニル基等）、炭素数７〜１０のアラルキル基（例
えば、ベンジル基、フェネチル基等）が挙げられる。

【００５１】Ｒ¹¹およびＲ¹²で表される脂肪族基は、更
に以下の置換基群Ｗのいずれかの基によって置換されて
いてもよい。置換基群Ｗには、低級アルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基等）、ハロゲン原
子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ビ
ニル基、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル
基、ｐ−ブロモフェニル基等）、トリフルオロメチル
基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、
メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、
フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等）、シアノ基、ス
ルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、トリフルオ
ロメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基
等）、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アミノ基（例え
ば、アミノ基、ビスカルボキシメチルアミノ基等）、ア
リール基（例えば、フェニル基、カルボキシフェニル基
等）、複素環基（例えば、テトラヒドロフルフリル、２
−ピロリジノン−１−イル基等）、アシル基（例えば、
アセチル基、ベンゾイル基等）、ウレイド基（例えば、
ウレイド基、３−メチルウレイド基、３−フェニルウレ
イド基等）、チオウレイド基（例えば、チオウレイド
基、３−メチルチオウレイド基等）、アルキルチオ基
（例えば、メチルチオ、エチルチオ基等）、アリールチ
オ基（例えば、フェニルチオ基等）、複素環チオ基（例
えば、２−チエニルチオ基、３−チエニルチオ基等）、
カルボニルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロ
パノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アシルア
ミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ基
等）、チオアミド基（例えば、チオアセトアミド基、チ
オベンゾイルアミノ基等）が含まれる。また、スルホ
基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルファト基、ヒドロ
キシ基、メルカプト基、スルフィノ基、カルバモイル基
（例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモイル基等）、スル
ファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−３
−オキペンタメチレンアミノスルホニル基等）、スルホ
ンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ブタンス
ルホンアミド基等）、スルホニルアミノカルボニル基
（例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル、エタン
スルホニルアミノカルボニル基等）、アシルアミノスル
ホニル基（例えば、アセトアミドスルホニル、メトキシ
アセトアミドスルホニル基等）、アシルアミカルボニル
基（例えば、アセトアミドカルボニル、メトキシアセト
アミドカルボニル基等）、スルフィニルアミノカルボニ
ル基（例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル、
エタンスルフィニルアミノカルボニル基等）等の親水性
の基が含まれる。これら親水性の基で置換された脂肪族
基の具体例には、カルボキシメチル、カルボキシエチ
ル、カルボキシブチル、カルボキペンチル、３−スルフ
ァ−トブチル、３−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−
３−スルホプロピル、４−スルホブチル、５−スルホペ
ンチル、３−スルホペンチル、３−スルフィノブチル、
３−ホスホノプロピル、ヒドロキシエチル、Ｎ−メタン
スルホニルカルバモイルメチル、２−カルボキシ−２−
プロペニル、ｏ−スルホベンジル、ｐ−スルホフェネチ
ル、ｐ−カルボキシベンジル等の各基が含まれる。

【００５２】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表すアル
キル基には無置換のアルキル基および置換基を有するア
ルキル基の双方が含まれる。前記アルキル基の置換基と
しては、前述の置換基群Ｗが挙げられる。前記アルキル
基の具体例には、メチル基、エチル基、ブチル基、ｉｓ
ｏ−ブチル基、２−メトキシエチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、３−エトキシカルボニルプロピル基、２−カ
ルバモイルエチル基、２−メタンスルホニルエチル基、
３−メタンスルホニルアミノプロピル基、ベンジル基、
フェネチル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル
基、アリル基、２−フリルエチル基等が含まれる。

【００５３】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表すアリ
ール基には、単環構造の基および多環構造の基の双方が
含まれ、また無置換のアルキル基および置換基を有する
アルキル基の双方が含まれる。前記アリール基の置換基
としては、前述の置換基群Ｗが挙げられる。前記アリー
ル基の具体例には、フェニル基、ナフチル基、ｐ−カル
ボキシフェニル基、ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニ
ル基、ｐ−モルホリノフェニル基、ｐ−メトキシフェニ
ル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，４−メチレ
ンジオキシフェニル基、３−クロロフェニル基、ｐ−ニ
トロフェニル基等が含まれる。

【００５４】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表すアル
コキシ基には、無置換のアルコキシ基および置換基を有
するアルコキシ基の双方が含まれる。前記アルコキシ基
の置換基としては、前述の置換基群Ｗが挙げられる。前
記アルコキシ基の具体例には、メトキシ基、エトキシ
基、２−メトキシエトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ
基等が含まれる。

【００５５】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表すアリ
ールオキシ基には、無置換のアリールオキシ基および置
換基を有するアリールオキシ基の双方が含まれ、単環構
造の基および多環構造の基の双方が含まれる。前記アリ
ールオキシ基の置換基としては、前述の置換基群Ｗが挙
げられる。前記アリールオキシ基の具体例には、フェノ
キシ基、２−ナフトキシ基、１−ナフトキシ基、ｐ−ト
リルオキシ基、ｐ−メトキフェニル基等が含まれる。

【００５６】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表す複素
環基には、単環構造の基および多環構造の基が含まれ、
また無置換の複素環基および置換基を有する複素環基の
双方が含まれる。前記複素環基が置換基としては、前述
の置換基群Ｗが挙げられる。前記複素環基の具体例に
は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、カルバゾリル
基、ピロリル基、インドリル基、５−クロロ−２−ピリ
ジル基、５−エトキシカルボニル−２−ピリジル基、５
−カルバモイル−２−ピリジル基等の各基が含まれる。

【００５７】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表す−Ｓ
Ｒ¹のうち、Ｒ¹は置換もしくは無置換の、アルキル基、
アリール基または複素環基を表す。Ｒ¹が表すアルキル
基、アリール基および複素環基については、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴
およびＲ¹⁵が表す各基と同義であり、具体例についても
同様である。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表す−Ｎ
Ｒ²Ｒ³のうち、Ｒ²およびＲ³は各々独立して、置換もし
くは無置換の、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ
²とＲ³とは互いに連結して５員または６員の含窒素複素
環を形成していてもよい。前記５員または６員の含窒素
複素環としては、例えば、ピロリジン環、モルホリン
環、ピペリジン環等が挙げられる。Ｒ²およびＲ³がそれ
ぞれ表すアルキル基およびアリール基については、
Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵が表す各基と同義であり、具体例
についても同様である。

【００５８】Ｘ¹が表す分子内の電荷を相殺するに必要
なイオンは、カチオンであってもアニオンであってもよ
い。カチオンの具体例としては、プロトン、有機アンモ
ニウムイオン（例えば、トリエチルアンモニウム、トリ
エタノールアンモニウム等の各イオン）、無機カチオン
（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等の各カチ
オン）が挙げられる。アニオンの具体例としては、ハロ
ゲンイオン（例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素イオ
ン等）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオ
ン、四フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イ
オン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ト
リフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。ｍ
¹は、分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表
し、Ｘ¹の電荷に応じて決定される。

【００５９】ｋ¹¹は２または３を表し、分子内に複数存
在するＲ¹⁴およびＲ¹⁵は、互いに同一であっても異なっ
ていてもよい。また、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁵のうち可能な場合は２
つ（複数存在するＲ¹⁴とＲ¹⁴の組み合わせ、およびＲ¹⁵
とＲ¹⁵の組み合わせを含む）が、互いに結合して５また
は６員の炭素環または複素環（好ましくは炭素環）を形
成していてもよい。形成される環は任意の位置に置換基
を有していてもよい。該置換基としては、前述の置換基
群Ｗが挙げられる。

【００６０】前記一般式（２）中、Ｌ²¹は、単環あるい
は縮合された５員または６員の含窒素複素環を完成する
のに必要な非金属原子群を表し、Ｒ²¹は脂肪族基を表
し、Ｒ ²²およびＲ²³は各々独立して、置換もしく無置換
の、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ
²⁴〜Ｒ²⁹は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置
換の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、複素環基、−ＳＲ¹または−ＮＲ²Ｒ³を表
し、Ｒ¹〜Ｒ³については前述の定義の通りである。Ｒ²¹
とＲ²⁴、Ｒ²⁵とＲ²⁷は互いに連結して５員または６員環
を形成することができる。Ｚ²¹およびＺ²²は各々独立し
て、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−Ｎ（Ｒ）
−を表すし、ここでＲはアルキル基、アリール基または
複素環基を表す。ｎ²¹は０または１を表し、ｋ²¹、ｋ²²
およびｋ²³は各々０または１を表す。

【００６１】前記一般式（２）中、Ｌ²¹が表す前記非金
属原子群については、前記一般式（１）中のＬ¹¹および
Ｌ¹²がそれぞれ表す非金属原子群と同義であり、具体例
についても同様である。前記一般式（１）中、Ｒ²¹が表
す脂肪族基については、前記一般式（１）中のＲ¹¹およ
びＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と同義であり、その具体
例についても同様である。前記一般式（２）中、Ｒ²²〜
Ｒ²⁹がそれぞれ表すアルキル基、アリール基および複素
環基、ならびに、Ｒ²⁴〜Ｒ²⁹がそれぞれ表すアルコキシ
基、アリールオキシ基、−ＳＲ¹および−ＮＲ²Ｒ³につ
いても、前記一般式（１）中のＲ¹³〜Ｒ¹⁵が表す各基と
同義であり、具体例についても同様である。また、Ｒが
表すアルキル基、アリール基および複素環基について
も、前記一般式（１）中のＲ¹³〜Ｒ¹⁵が表す各基と同義
であり、具体例についても同様である。Ｒ²¹とＲ²⁴、Ｒ
²⁵とＲ²⁷が互いに連結して形成される５員または６員環
は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前
述の置換基群Ｗが挙げられる。

【００６２】前記一般式（３）中、Ｌ³¹およびＬ³²は各
々独立して、単環あるいは縮合された５員または６員の
含窒素複素環を完成するのに必要な非金属原子群を表
し、Ｚ ³¹は酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−Ｎ
（Ｒ）−を表し、ここでＲは前述の定義の通りである。
Ｒ³¹およびＲ³³は各々独立して脂肪族基を表し、Ｒ³²は
置換もしくは無置換の、アルキル基、アリール基または
複素環基を表す。Ｒ³⁴〜Ｒ³⁹は各々独立して、水素原
子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アリール基、−ＳＲ¹または−
ＮＲ²Ｒ³を表し、Ｒ¹〜Ｒ³については前述の定義の通り
である。Ｒ³¹とＲ³⁴、Ｒ³⁵とＲ³⁷およびＲ³⁹とＲ³³は、
互いに連結して５員または６員環を形成することができ
る。Ｘ³は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表
し、ｍ³は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数
を表す。ｎ³¹およびｎ³²は各々０または１を表し、
ｋ³¹、ｋ³²およびｋ³³は各々独立して０または１を表
す。

【００６３】前記一般式（３）中、Ｌ³¹およびＬ³²がそ
れぞれ表す前記非金属原子群については、前記一般式
（１）中のＬ¹¹およびＬ¹²がそれぞれ表す非金属原子群
と同義であり、具体例についても同様である。前記一般
式（３）中、Ｒ³¹およびＲ³³がそれぞれ表す脂肪族基に
ついては、前記一般式（１）中のＲ¹¹およびＲ¹²がそれ
ぞれ表す脂肪族基と同義であり、その具体例についても
同様である。前記一般式（３）中、Ｒ³²、およびＲ³⁴〜
Ｒ³⁹がそれぞれ表す、アルキル基、アリール基および複
素環基、ならびに、Ｒ³⁴〜Ｒ³⁹がそれぞれ表すアルコキ
シ基、アリールオキシ基、−ＳＲ¹および−ＮＲ²Ｒ³に
ついても、前記一般式（１）中のＲ¹³〜Ｒ^{1 5}が表す各基
と同義であり、具体例についても同様である。また、Ｒ
が表すアルキル基、アリール基および複素環基について
も、前記一般式（１）中のＲ¹³〜Ｒ ¹⁵が表す各基と同義
であり、具体例についても同様である。前記一般式
（３）中、Ｘ³で表されるイオンの具体例についても、
前記一般式（１）中のＸ¹で表されるイオンの具体例と
同様である。Ｒ³¹とＲ³⁴、Ｒ³⁵とＲ³⁷およびＲ³⁹とＲ³³
が互いに連結して形成される５員または６員環は置換基
を有していてもよく、該置換基としては前述の置換基群
Ｗが挙げられる。

【００６４】前記一般式（１）で表される化合物の中で
も、ｋ¹¹が２である場合の好ましい例として、下記一般
式（４）および（５）で表される化合物が挙げられる。

【００６５】

【化２】

【００６６】前記一般式（４）中、Ｙ⁴¹およびＹ⁴²は各
々独立して、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−
（ＮＲ⁰）−を表す。ここでＲ⁰は脂肪族基を表す。Ｒ⁴¹
およびＲ⁴²は各々独立して脂肪族基を表し、Ｒ⁴⁴および
Ｒ⁴⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換
の、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ
⁴³は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換の、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基またはアミノ基を表す。Ｑ⁴¹〜Ｑ⁴⁸は各々独立して、
水素原子または置換基を表し、Ｑ⁴¹とＱ⁴²、Ｑ⁴²と
Ｑ⁴³、Ｑ⁴³とＱ⁴⁴、Ｑ⁴⁵とＱ⁴⁶、Ｑ⁴⁶とＱ⁴⁷、Ｑ⁴⁷とＱ
⁴⁸の少なくとも一組が、互いに連結して縮合ナフトール
環を形成することができる。Ｘ⁴は分子内の電荷を相殺
するに必要なイオンを表し、ｍ⁴は分子内の電荷を相殺
するに必要なイオンの数を表す。

【００６７】前記一般式（４）中、Ｒ⁰、Ｒ⁴¹およびＲ
⁴²がそれぞれ表す脂肪族基としては、前記一般式（１）
中のＲ¹¹およびＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と同義であ
り、具体例についても同様である。前記一般式（４）
中、Ｒ⁴³〜Ｒ⁴⁵がそれぞれ表すアルキル基、アリール基
および複素環基としては、前記一般式（１）中のＲ¹³〜
Ｒ¹⁵が表す各基と同義であり、具体例についても同様で
ある。前記一般式（４）中、Ｒ⁴³が表すアルコキシ基お
よびアリールオキシ基についても、前記一般式（１）中
のＲ¹³〜Ｒ¹⁵が表す各基と同義であり、具体例について
も同様である。前記一般式（４）中、Ｘ⁴で表されるイ
オンの具体例については、前記一般式（１）中のＸ¹で
表されるイオンの具体例と同様である。

【００６８】Ｒ⁴³が表すハロゲン原子としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げ
られる。Ｒ⁴³が表すアルキルチオ基には置換基を有する
アルキルチオ基および無置換のアルキルチオ基が含ま
れ、その置換基としては、前述の置換基群Ｗが挙げられ
る。前記アルキルチオ基の具体例には、メチルチオ基、
エチルチオ基等が含まれる。Ｒ⁴³が表すアリールチオ基
には置換基を有するアリールチオ基および無置換のアリ
ールチオ基が含まれ、その置換基としては、前述の置換
基群Ｗが挙げられる。前記アリールチオ基の具体例に
は、フェニルチオ基、ｍ−クロロフェニルチオ基等が含
まれる。Ｒ⁴³が表すアミノ基には、置換基を有するアミ
ノ基および非置換のアミノ基が含まれ、その置換基とし
ては、前述の置換基群Ｗが挙げられる。前記アミノ基の
具体例には、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−テトラメチレンアミノ基、Ｎ，Ｎ−ペンタメチレンア
ミノ基等が含まれる。

【００６９】Ｑ⁴¹〜Ｑ⁴⁸でそれぞれ表される置換基とし
ては、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子等）、ビニル基、スチリル基、アリ
ール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ｐ−ブロ
モフェニル基等）、トリフルオロメチル基、アルコキシ
基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、アリールオ
キシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基
等）、カルボニルオキシ基（例えば、アセチルオキシ
基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、
アミノ基（例えば、アミノ、ジメチルアミノ、アニリノ
等の各基）、複素環基（例えば、ピリジル基、ピロリル
基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、チアゾリ
ル基、ピリミジニル基等）、アシル基（例えば、アセチ
ル基、ベンゾイル基等）、シアノ基、スルホニル基（例
えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基
等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基
等）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、
Ｎ−フェニルスルファモイル基、モルホリノスルホニル
基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、
ベンゾイルアミノ、ｏｒｔｈ−ヒドロキシベンゾイルア
ミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスル
ホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ア
ルコキシカルボニル基、（例えば、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、トリフルオロエトキシカル
ボニル基等）、ヒドロキシル基、カルボキシル基等が挙
げられる。

【００７０】Ｑ⁴¹とＱ⁴²、Ｑ⁴²とＱ⁴³、Ｑ⁴³とＱ⁴⁴、Ｑ
⁴⁵とＱ⁴⁶、Ｑ⁴⁶とＱ⁴⁷、Ｑ⁴⁷とＱ⁴⁸の少なくとも一組
が、互いに連結して形成される縮合ナフトール環は、置
換基を有していてもよく、該置換基としては前述の置換
基群Ｗが挙げられる。

【００７１】前記一般式（５）中、Ｙ⁵¹およびＹ⁵²は各
々独立して、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−
（ＮＲ⁰）−を表す。ここでＲ⁰は脂肪族基を表す。Ｒ⁵¹
は脂肪族基またはＲ⁵²と結合して５員または６員の縮合
環を完成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｒ⁵²は水
素原子またはＲ⁵¹との結合手を表す。Ｒ⁵⁴は水素原子、
ハロゲン原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、ア
リール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはアミノ基を
表し、Ｒ⁵³およびＲ⁵⁵は各々独立して、水素原子、置換
もしくは無置換のアルキル基またはＲ⁵³とＲ⁵⁵の間で結
合して５員または６員の環を形成するのに必要な非金属
原子群を表す。Ｑ⁵¹〜Ｑ⁵⁸は各々独立して、水素原子ま
たは置換基を表し、Ｑ⁵¹とＱ⁵²、Ｑ⁵²とＱ⁵³、Ｑ⁵³とＱ
⁵⁴、Ｑ⁵⁵とＱ⁵⁶、Ｑ⁵⁶とＱ⁵⁷、Ｑ⁵⁷とＱ⁵⁸の少なくとも
一組が、互いに連結して縮合ナフトール環を形成するこ
とができる。Ｍ⁵は分子内の電荷を相殺するに必要なイ
オンを表し、ｍ⁵は分子内の電荷を相殺するに必要なイ
オンの数を表す。ｐは２または３を表す。

【００７２】前記一般式（５）中、Ｒ⁰およびＲ⁵¹がそ
れぞれ表す脂肪族基としては、前記一般式（１）中のＲ
¹¹およびＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と同義であり、具
体例についても同様である。前記一般式（５）中、Ｒ⁵⁴
が表すアルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基およびアミノ基については、前記一
般式（４）中のＲ⁴³が表す各基とそれぞれ同義であり、
具体例についても同様である。前記一般式（５）中、Ｒ
⁵³およびＲ⁵⁵がそれぞれ表すアルキル基については、前
記一般式（１）中のＲ¹³〜Ｒ¹⁵が表すアルキル基と同義
であり、具体例についても同様である。前記一般式
（５）中、Ｘ⁵で表されるイオンの具体例については、
前記一般式（１）中のＸ¹で表されるイオンの具体例と
同様である。また、前記一般式（５）中、Ｑ⁵¹〜Ｑ⁵⁸が
それぞれ表す置換基の具体例については、前記一般式
（４）中のＱ⁴¹〜Ｑ⁴⁸でそれぞれ表される置換基の具体
例と同様である。

【００７３】Ｒ⁵¹とＲ⁵²とが結合して形成される縮合
環、Ｒ⁵³とＲ⁵⁵とが結合して形成される環、Ｑ⁵¹と
Ｑ⁵²、Ｑ⁵²とＱ⁵³、Ｑ⁵³とＱ⁵⁴、Ｑ⁵⁵とＱ⁵⁶、Ｑ⁵⁶とＱ
⁵⁷、Ｑ⁵⁷とＱ⁵⁸の少なくとも一組が、互いに連結して形
成される縮合ナフトール環は、置換基を有していいても
よく、該置換基としては、前述の置換基群Ｗが挙げられ
る。

【００７４】前記一般式（１）で表される化合物の中で
も、ｋ¹¹が３である場合の好ましい例として、下記一般
式（６）〜（８）で表される化合物が挙げられる。

【００７５】

【化３】

【００７６】前記一般式（６）中、Ｙ⁶¹およびＹ⁶²は各
々独立して、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−
（ＮＲ⁰）−を表し、ここでＲ⁰は脂肪族基を表す。Ｒ⁶¹
およびＲ⁶²は各々独立して脂肪族基を表し、Ｒ⁶³とＲ⁶⁵
は互いに結合して５員または６員の環を形成するのに必
要な非金属原子群を表し、Ｒ⁶⁴は水素原子、ハロゲン原
子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アリール基、
複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基またはアミノ基を表す。Ｑ⁶¹〜
Ｑ⁶⁸は各々独立して、水素原子または置換基を表し、Ｑ
⁶¹とＱ⁶²、Ｑ⁶²とＱ⁶³、Ｑ⁶³とＱ⁶⁴、Ｑ⁶⁵とＱ⁶⁶、Ｑ⁶⁶
とＱ⁶⁶、Ｑ⁶⁶とＱ⁶⁸の少なくとも一組は互いに連結して
縮合ナフトール環を形成することができる。Ｘ⁶は分子
内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、ｍ⁶は分子
内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。

【００７７】前記一般式（６）中、Ｒ⁰、Ｒ⁶¹およびＲ
⁶²がそれぞれ表す脂肪族基は、前記一般式（１）中のＲ
¹¹およびＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と同義であり、具
体例についても同様である。前記一般式（６）中、Ｒ⁶⁴
が表すアルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基およびアミノ基については、前記一
般式（４）中のＲ⁴³が表す各基とそれぞれ同義であり、
具体例についても同様である。前記一般式（６）中、Ｘ
⁶で表されるイオンの具体例については、前記一般式
（１）中のＸ¹で表されるイオンの具体例と同様であ
る。また、前記一般式（６）中、Ｑ⁶¹〜Ｑ⁶⁸がそれぞれ
表す置換基の具体例については、前記一般式（４）中の
Ｑ⁴¹〜Ｑ⁴⁸でそれぞれ表される置換基の具体例と同様で
ある。

【００７８】Ｒ⁶³とＲ⁶⁵とが結合することによって形成
される環（好ましくは炭化水素環）、およびＱ⁶¹と
Ｑ⁶²、Ｑ⁶²とＱ⁶³、Ｑ⁶³とＱ⁶⁴、Ｑ⁶⁵とＱ⁶⁶、Ｑ⁶⁶とＱ
⁶⁶、Ｑ⁶⁶とＱ⁶⁸の少なくとも一組が互いに連結して形成
される縮合ナフトール環は、置換基を有していてもよ
く、該置換基としては、前述の置換基群Ｗが挙げられ
る。

【００７９】前記一般式（７）中、Ｙ⁷¹およびＹ⁷²は各
々独立して、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−
（ＮＲ⁰）−を表し、ここでＲ⁰は脂肪族基を表す。Ｒ⁷¹
およびＲ⁷²は各々独立して脂肪族基を表す。Ｑ⁷¹〜Ｑは
各々独立して水素原子または置換基を表し、Ｑ⁷¹と
Ｑ⁷²、Ｑ⁷²とＱ⁷³、Ｑ⁷³とＱ⁷⁴、Ｑ⁷⁵とＱ⁷⁶、Ｑ⁷⁶とＱ
⁷⁷、Ｑ⁷⁷とＱ⁷⁸の少なくとも一組は互いに連結して縮合
ナフトール環を形成することができる。Ｘ⁷は分子内の
電荷を相殺するに必要なイオンを表し、ｍ⁷は分子内の
電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。

【００８０】前記一般式（７）中、Ｒ⁰、Ｒ⁷¹およびＲ
⁷²がそれぞれ表す脂肪族基は、前記一般式（１）中のＲ
¹¹およびＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と同義であり、具
体例についても同様である。前記一般式（７）中、Ｘ⁷
で表されるイオンの具体例については、前記一般式
（１）中のＸ¹で表されるイオンの具体例と同様であ
る。また、前記一般式（７）中、Ｑ⁷¹〜Ｑ⁷⁸がそれぞれ
表す置換基の具体例については、前記一般式（４）中の
Ｑ⁴¹〜Ｑ⁴⁸でそれぞれ表される置換基の具体例と同様で
ある。Ｑ⁷¹とＱ⁷²、Ｑ⁷²とＱ⁷³、Ｑ⁷³とＱ⁷⁴、Ｑ⁷⁵とＱ
⁷⁷、Ｑ⁷⁷とＱ⁷⁷、Ｑ⁷⁷とＱ⁷⁸の少なくとも一組が互いに
連結して形成される縮合ナフトール環は、置換基を有し
ていてもよく、該置換基としては、前述の置換基群Ｗが
挙げられる。

【００８１】前記一般式（８）中、Ｙ⁸¹およびＹ⁸²は各
々独立して、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−
（ＮＲ⁰）−を表し、ここでＲ⁰は脂肪族基を表す。Ｒ⁸¹
およびＲ⁸²は各々独立して脂肪族基を表す。Ｒ⁸³とＲ⁸⁵
は各々互いに結合して５員または６員の環を形成するの
に必要な非金属原子群を表し、Ｒ⁸⁴は水素原子、ハロゲ
ン原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アリール
基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基またはアミノ基を表す。Ｑ
⁸¹〜Ｑ⁸⁸は各々独立して水素原子または置換基を表し、
Ｑ⁸¹とＱ⁸²、Ｑ ⁸²とＱ⁸³、Ｑ⁸³とＱ⁸⁴、Ｑ⁸⁵とＱ⁸⁶、Ｑ
⁸⁶とＱ⁸⁷、Ｑ⁸⁷とＱ⁸⁸の少なくとも一組は互いに連結し
て縮合ナフトール環を形成することができる。Ｘ⁸は分
子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、ｍ⁸は分
子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。

【００８２】前記一般式（８）中、Ｒ⁰、Ｒ⁸¹およびＲ
⁸²がそれぞれ表す脂肪族基は、前記一般式（１）中のＲ
¹¹およびＲ¹²がそれぞれ表す脂肪族基と同義であり、具
体例についても同様である。前記一般式（８）中、Ｒ⁸⁴
が表すアルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基およびアミノ基については、前記一
般式（４）中のＲ⁴³が表す各基とそれぞれ同義であり、
具体例についても同様である。前記一般式（８）中、Ｘ
⁸で表されるイオンの具体例については、前記一般式
（１）中のＸ¹で表されるイオンの具体例と同様であ
る。また、前記一般式（８）中、Ｑ⁸¹〜Ｑ⁸⁸がそれぞれ
表す置換基の具体例については、前記一般式（４）中の
Ｑ⁴¹〜Ｑ⁴⁸でそれぞれ表される置換基の具体例と同様で
ある。

【００８３】Ｒ⁸³とＲ⁸⁵とが結合することによって形成
される環（好ましくは炭化水素環）、およびＱ⁸¹と
Ｑ⁸²、Ｑ⁸²とＱ⁸³、Ｑ⁸³とＱ⁸⁴、Ｑ⁸⁵とＱ⁸⁸、Ｑ⁸⁸とＱ
⁸⁸、Ｑ⁸⁸とＱ⁸⁸の少なくとも一組が互いに連結して形成
される縮合ナフトール環は、置換基を有していてもよ
く、該置換基としては、前述の置換基群Ｗが挙げられ
る。

【００８４】本発明に用いられる熱現像感光材料は、増
感色素として、前記一般式（１）〜（３）で表される化
合物の少なくとも１種を含有しているのが好ましく、前
記一般式（４）および（５）で表される化合物の少なく
とも１種を含有しているのがより好ましく、前記一般式
（６）〜（８）で表される化合物の少なくとも１種を含
有しているのがさらに好ましい。

【００８５】以下に、前記一般式（１）〜（８）で示さ
れる増感色素の具体例（例示化合物１−１〜５５）を示
すが、本発明はこれらの具体例によってなんら制限され
るものではない。

【００８６】

【化４】

【００８７】

【化５】

【００８８】

【化６】

【００８９】

【化７】

【００９０】

【化８】

【００９１】

【化９】

【００９２】

【化１０】

【００９３】

【化１１】

【００９４】

【化１２】

【００９５】

【化１３】

【００９６】

【化１４】

【００９７】前記一般式（１）〜（８）で表される化合
物は、例えば、「Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ
Ｈｅｔｅｒｏｃｙｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」第１８
巻（エフ・エム・ハーマー著）、「Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉ
ｎｅ Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏ
ｕｎｄｓ」（Ａ．Ｗｅｉｓｓｈｅｒｇｅｒ ｅｄ．Ｉｎ
ｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社刊、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９６
４年）に記載の方法によって容易に合成することができ
る。

【００９８】本発明に用いられる熱現像感光材料は、増
感色素を１種単独で用いたものであっても、２種以上を
組み合わせて用いたものであってもよい。前記一般式
（１）〜（８）で表される化合物を２種以上組み合わせ
て用いる場合、感光色素はそれぞれ独立して、または予
め混合して、ハロゲン化銀乳剤中に分散含有させること
ができる。前記一般式（１）〜（８）で表される化合物
とともに、強色増感を目的として可視域に吸収を持つ色
素や、それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を含有させてもよい。

【００９９】有用な感光色素、強色増感を示す色素の組
み合わせおよび強色増感を示す物質はリサーチ・ディス
クロージャ（Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒ
ｅ）１７６巻１７６４３（１９７８年１２月発行）第２
３頁IVのＪ項、あるいは特公昭４９−２５５００号、同
４３−４９３３号、特開昭５９−１９０３２号、同５９
−１９２２４２号、同６２−１２３４５４号、特開平３
−１５０４９号、特開平７−１４６５２７号等の各公報
に記載されている。

【０１００】本発明に用いられる熱現像感光材料には、
現像を抑制あるいは促進させて現像を制御することを目
的として、分光増感効率を向上させることを目的とし
て、または現像前後の保存性を向上させることを目的と
して、メルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン
化合物を含有させることができる。前記メルカプト化合
物としては、下記一般式（１０）および（１１）で表さ
れる化合物が好ましい。 一般式（１０）： Ａｒ−ＳＭ 一般式（１１）： Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ 式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａ
ｒは１個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたは
テルリウム原子を有する複素芳香環または縮合複素芳香
環を表す。

【０１０１】Ａｒで表される複素芳香環としてははベン
ズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾー
ル、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオ
キサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾー
ル、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリア
ゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジン、
ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリ
ン、キノリンおよびキナゾリノンが挙げられる。前記複
素芳香環は、例えば、ハロゲン（例えば、ＢｒおよびＣ
ｌ）、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、アルキル（例
えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素
原子を有するもの）およびアルコキシ（例えば、１個以
上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有する
もの）からなる置換基群から選択される置換基を有して
もよい。

【０１０２】前記一般式（１０）および（１１）中の、
Ａｒ−Ｓ（メルカプト置換複素芳香族化合物）の具体例
としては、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メ
ルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチ
アゾール、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾ
ール、６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２，２’−ジチオビスベンゾチアゾール、３−メル
カプト−１，２，４−トリアゾール、４，５−ジフェニ
ル−２−イミダゾールチオール、２−メルカプトイミダ
ゾール、１−エチル−２−メルカプトベンズイミダゾー
ル、２−メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、
２−メルカプト−４−（３Ｈ）キナゾリノン、７−トリ
フルオロメチル−４−キノリンチオール、２，３，５，
６−テトラクロロ−４−ピリジンチオール、４−アミノ
−６−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジンモノヒド
レート、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チ
アジアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール、４−ヒドロキシ−２−メルカプトピ
リミジン、２−メルカプトピリミジン、４，６−ジアミ
ノ−２メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−メ
チルピリミジンヒドロクロリド、３−メルカプト−５−
フェニル−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト
−４−フェニルオキサゾール等が挙げられる。前記一般
式（１０）または（１１）で表される化合物の添加量
は、乳剤層中に銀１モル当たり０．００１〜１．０モル
添加するのが好ましく、銀の１モル当たり０．０１〜
０．３モル添加するのがより好ましい。

【０１０３】前記熱現像感光材料には、ハレーション防
止を目的として、７００〜９００ｎｍの赤外線吸収化合
物を含有させることができる。前記赤外線吸収化合物と
しては、特開昭５９−６４８１号および同５９−１８２
４３６号の各公報、米国特許第４，２７１，２６３号、
同第４，５９４，３１２号、欧州特許公開第５３３，０
０８号、同第６５２，４７３号の各明細書、特開平２−
２１６１４０号、同４−３４８３３９号同７−１９１４
３２号、同７−３０１８９０号、同９−２３０５３１
号、同１０−１０４７７９号、同１０−１０４７８５
号、特表平９−５０９５０３号の各公報等に記載されて
いるポリメチン系染料、スクエアリリウム系染料等を用
いることができる。

【０１０４】ハレーション防止染料を添加する層は、特
に制限はないが、下引層が好ましい。画像形成層側に塗
設された下引層に添加することが好ましい。下引層が複
数の層で構成されている場合には、画像形成層に最も近
い層に添加することが望ましい。添加量は所望の目的に
より異なるが、一般的には０．１〜１０００ｍｇ／ｍ ²
であり、好ましくは１〜２００ｍｇ／ｍ²である。

【０１０５】前記熱現像感光材料は、銀イオンを還元す
るための還元剤を含有する。前記還元剤としては、米国
特許第３，７７０，４４８号、同第３，７７３，５１２
号、同第３，５９３，８６３号の各明細書、およびＲｅ
ｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ 第１７０２９お
よび２９９６３に記載されているものが好ましく用いら
れる。具体的には、次のものが挙げられる。アミノヒド
ロキシシクロアルケノン化合物（例えば、２−ヒドロキ
シピペリジノ−２−シクロヘキセノン）；還元剤の前駆
体としてアミノリダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）
エステル（例えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモ
ノアセテート）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例えば、
Ｎ−ｐ−メチルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；アル
デヒドまたはケトンのヒドラゾン類（例えば、アントラ
センアルデヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーアミ
ドフェノール類；ホスファーアミドアニリン類；ポリヒ
ドロキシベンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔｅｒｔ
−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノンお
よび（２，５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホ
ン）；スルフヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスル
フヒドロキサム酸）；スルホンアミドアニリン類（例え
ば、４−（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２
−テトラゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチ
ル−５−（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒド
ロキノン）；テトラヒドロキノキサリン類（例えば、
１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミド
オキシン類；アジン類（例えば、脂肪族カルボン酸アリ
ールヒドラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ）；
ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合
わせ、リダクトンおよび／またはヒドラジン；ヒドロキ
サン酸類；アジン類とスルホンアミドフェノール類の組
み合わせ；α−シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−
ナフトールと１，３−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組
み合わせ；５−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノー
ル還元剤；２−フェニルインダン−１，３−ジオン等；
クロマン；１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，
６−ジメトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−
ジヒドロピリジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス
（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル
フェニル）メタン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）
メシトール（ｍｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エ
チリデン−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル）
フェノール）；紫外線感応性アスコルビン酸誘導体およ
び３−ピラゾリドン類等が挙げられる。中でも、還元剤
としては、ヒンダードフェノール類が特に好ましい。

【０１０６】還元剤として用いられるヒンダードフェノ
ール類としては、下記一般式（ａ）で表される化合物が
挙げられる。

【０１０７】

【化１５】

【０１０８】式中、Ｒ^a1およびＲ^a2は各々独立して、水
素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基（例え
ば、−Ｃ₄Ｈ₉、２，４，４−トリメチルペンチル）を表
し、少なくとも一方は水素原子である。Ｒ^a3〜Ｒ^a6は各
々独立して水素原子または炭素原子数１〜５のアルキル
基（例えば、メチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチル）を表
し、Ｒ^a4およびＲ^a6は水素原子であり、且つＲ^a3および
Ｒ^a5が炭素原子数１〜５のアルキル基であるのが好まし
い。

【０１０９】前記一般式（ａ）で表される化合物の具体
例（例示化合物ａ−１〜７）を以下に示すが、本発明
は、以下の具体例によってなんら限定されるものではな
い。

【０１１０】

【化１６】

【０１１１】

【化１７】

【０１１２】前記一般式（ａ）で表される還元剤を含
め、還元剤の使用量は銀１モル当り１×１０^-2〜１０モ
ルであるのが好ましく、１×１０^-2〜１．５モルである
のが好ましい。

【０１１３】前記熱現像感光材料は、硬調化剤を含有し
ていてもよい。前記硬調化剤としては、ヒドラジン誘導
体、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化
合物または後述する一般式（ｅ）で表されるビニル化合
物が好ましい。

【０１１４】前記ヒドラジン誘導体としては、下記一般
式（ｂ）で表される化合物が好ましい。

【０１１５】

【化１８】

【０１１６】式中、Ｒ^b1はそれぞれが置換基を有しても
よい、脂肪族基、アリール基、複素環基または−Ｇ⁰−
Ｄ⁰基を表し、Ｒ^b4はブロッキング基を表し、Ｒ^b2およ
びＲ^b3は各々、水素原子、アシル基、スルホニル基また
はオキザリル基を表すが、少なくとも一方は水素原子で
ある。

【０１１７】前記一般式（ｂ）において、Ｒ^b1で表され
る脂肪族基は、好ましくは炭素数１〜３０のものであ
り、特に炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状または環状の
アルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基等が挙げられる。これらは更に適当な置換基
（例えばアリール基、複素環基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
キシ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アシル
アミノ基、ウレイド基等）で置換されていてもよい。

【０１１８】前記一般式（ｂ）において、Ｒ^b1で表され
るアリール基には、単環構造のものおよび２環以上が縮
合したものの双方が含まれ、置換基（例えばアルキル
基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホン
アミド基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイ
ド基等）を有していてもよい。具体的には、フェニル基
またはナフチル基が好ましい。

【０１１９】前記一般式（ｂ）において、Ｒ^b1で表され
る複素環基には、単環構造のものおよび２環以上が縮合
したものの双方が含まれ、置換基（例えばアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンア
ミド基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド
基等）を有していてもよい。複素環は、窒素、硫黄、酸
素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含む
複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール
環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン
環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられる。

【０１２０】前記一般式（ｂ）において、Ｒ^b1が−Ｇ⁰
−Ｄ⁰基を表す場合、Ｇ⁰は−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−
基、−ＣＳ−基、−Ｃ（＝Ｎ−Ｇ¹Ｄ¹）−基、−ＳＯ−
基、−ＳＯ₂−基または−Ｐ（Ｏ）（Ｇ¹−Ｄ¹）−基を
表す。Ｇ¹は単なる結合手、−Ｏ−基、−Ｓ−基または
−Ｎ（Ｄ¹）−基を表し、Ｄ¹は脂肪族基、芳香族基、複
素環基または水素原子を表し、分子内に複数のＤ¹が存
在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。
Ｄ⁰は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミ
ノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基またはアリールチオ基を表す。好ましいＤ⁰としては
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙
げられる。−Ｇ⁰−Ｄ⁰基は置換基を有していてもよい。

【０１２１】Ｒ^b1として特に好ましいものはアリール基
または−Ｇ⁰−Ｄ⁰基である。

【０１２２】また、一般式（ｂ）において、Ｒ^b1は耐拡
散基またはハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むこ
とが好ましい。前記耐拡散基としてはカプラー等の不動
性写真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、
バラスト基としては写真的に不活性であるアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル
基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げら
れ、置換基部分の炭素数の合計は８以上であることが好
ましい。前記ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、あるいは特開昭６４−９０４３９号公報に記
載の吸着基等が挙げられる。

【０１２３】前記一般式（ｂ）において、Ｒ^b4で表され
るブロッキング基としては、−Ｇ⁰−Ｄ⁰基が好ましい。
Ｇ⁰は−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−基、−ＣＳ−基、−Ｃ
（＝ＮＧ¹Ｄ¹）−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ₂−基または
−Ｐ（Ｏ）（Ｇ¹Ｄ¹）−基を表し、好ましいＧ⁰として
は−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−基が挙げられる。Ｇ¹は単
なる結合手、−Ｏ−基、−Ｓ−基または−Ｎ（Ｄ¹）−
基を表し、Ｄ¹は脂肪族基、芳香族基、複素環基または
水素原子を表し、分子内に複数のＤ¹が存在する場合、
それらは同じであっても異なってもよい。Ｄ⁰は水素原
子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基を表し、好ましいＤ⁰としては水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。

【０１２４】前記一般式（ｂ）において、Ｒ^b2およびＲ
^b3がそれぞれ表すアシル基としては、アセチル基、トリ
フルオロアセチル基、ベンゾイル基等が挙げられ、スル
ホニル基としてはメタンスルホニル基、トルエンスルホ
ニル基等が挙げられ、オキザリル基としてはエトキザリ
ル基等が挙げられる。

【０１２５】以下、一般式（ｂ）で表される化合物の具
体例（ｂ−１〜３０）を以下に示すが、本発明は以下の
具体例によってなんら限定されるものではない。

【０１２６】

【化１９】

【０１２７】

【化２０】

【０１２８】

【化２１】

【０１２９】

【化２２】

【０１３０】

【化２３】

【０１３１】

【化２４】

【０１３２】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体としては、米国特許第５，５４５，５０５
号カラム１１〜カラム２０に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−
２９、米国特許第５，４６４，７３８号報カラム９〜カ
ラム１１に記載の化合物１〜１２が挙げられる。これら
のヒドラジン誘導体は公知の方法で合成することができ
る。

【０１３３】前記ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲ
ン化銀を含む感光層および／または感光層に隣接した層
である。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲ
ン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量
は一様ではないが、ハロゲン化銀１モル当たり１０^-6モ
ル〜１０^-1モル程度が好ましく、特に１０^-5モル〜１０
^-2モル程度が好ましい。

【０１３４】硬調化剤として好ましく用いられる第四級
アンモニウム化合物および第四級ホスホニウム化合物と
しては、下記一般式（ｃ）および（ｃ）’で表される化
合物が好ましく用いられる。

【０１３５】

【化２５】

【０１３６】前記一般式（ｃ）および（ｃ）’中、
Ｒ^c1、Ｒ^c2、Ｒ^c3およびＲ^c4は各々独立して水素原子ま
たは置換基を表し、Ｘ^c-はアニオンを表す。なお、Ｒ^c1
〜Ｒ^c4は互いに連結して環を形成してもよい。

【０１３７】これらの化合物は分子中に耐拡散性基また
はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散
性を有するためには分子量１００以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量３００以上であり、前記一
般式（ｂ）中のＲ^b1が有する耐拡散基と同義であり、具
体例についても同様である。また、好ましいハロゲン化
銀吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテル
基、チオン基、チオウレア基等が挙げられる。

【０１３８】前記一般式（ｃ）および（ｃ）’におい
て、Ｒ^c1〜Ｒ^c4で表される置換基としては、アルキル基
（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（アリル
基、ブテニル基等）、アルキニル基（プロパルギル基、
ブチニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基
等）、複素環基（ピペリジニル基、ピペラジニル基、モ
ルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、テ
トラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、スルホ
ラニル基等）、アミノ基等が挙げられる。

【０１３９】Ｒ^c1〜Ｒ^c4が互いに連結して形成し得る環
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。

【０１４０】Ｒ^c1〜Ｒ^c4はさらに置換基によって置換さ
れていてもよく、前記置換基としては、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ
る。

【０１４１】Ｒ^c1〜Ｒ^c4はそれぞれ、水素原子またはア
ルキル基であるのが好ましい。

【０１４２】Ｘ^c-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、ｐ−トル
エンスルホン酸イオン等の無機および有機のアニオンが
挙げられる。

【０１４３】更に好ましくは、下記一般式（ｃ−１）、
（ｃ−２）または（ｃ−３）で表される化合物、および
下記一般式（ｄ）で表される化合物である。

【０１４４】

【化２６】

【０１４５】前記一般式（ｃ−１）において、Ｌ^c1およ
びＬ^c2は各々独立して、含窒素複素環を完成させるため
の非金属原子群を表す。前記含窒素複素環は、酸素原
子、他の窒素原子、硫黄原子を含んでいてもよく、ベン
ゼン環が縮合していてもよい。Ｌ^c1およびＬ^c2でそれぞ
れ構成される複素環は、置換基を有してもよく、また、
互いに同一でも異なっていてもよい。前記置換基として
は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スル
ホ基、カルボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カル
バモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド
基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。Ｌ^c1およ
びＬ^c2でそれぞれ完成される含窒素複素環の好ましい例
としては、５〜６員環（ピリジン、イミダゾール、チオ
ゾール、オキサゾール、ピラジン、ピリミジン等の各
環）を挙げることができ、更に好ましい例としてピリジ
ン環が挙げられる。

【０１４６】前記一般式（ｃ−１）において、Ｇ^c1は２
価の連結基を表し、ｒは０または１を表す。Ｇ^c1で表さ
れる２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン
基、アルケニレン基、−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｏ−、
−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ^c）−（Ｒ^cはアルキル基、
アリール基、水素原子を表す）を単独または組み合わせ
て構成されるものを表す。Ｇ^c1として好ましくは、アル
キレン基、アルケニレン基を挙げることができる。

【０１４７】前記一般式（ｃ−１）中、Ｒ^c11およびＲ
^c12は各々独立して、炭素数１〜２０のアルキル基を表
し、Ｒ^c11およびＲ^c12は互いに同一でも異っていてもよ
い。前記アルキル基には、置換基を有するアルキル基お
よび無置換のアルキル基が含まれ、前記置換基として
は、Ｌ^c1およびＬ^c2の置換基として挙げた置換基と同様
である。Ｒ^c11およびＲ^c12の好ましい例としては、それ
ぞれ炭素数４〜１０のアルキル基であり、更に好ましい
例としては、置換あるいは無置換のアリール置換アルキ
ル基である。

【０１４８】前記一般式（ｃ−１）中、Ｘ^c-は分子全体
の電荷を相殺するのに必要な対イオンを表し、例えば塩
素イオン、臭素イオン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸
イオン、ｐ−トルエンスルホナート、オキザラート等を
表す。ｎは分子全体の電荷を相殺するのに必要な対イオ
ンの数を表し、分子内塩の場合にはｎは０である。

【０１４９】前記一般式（ｃ−２）において、Ｌ^c3およ
びＬ^c4は各々独立して、含窒素複素環を完成させるため
の非金属原子群を表す。Ｌ^c3およびＬ^c4については、前
記一般式（ｃ−１）中のＬ^c1およびＬ^c2と同義であり、
具体例、好ましい範囲についても同様である。前記一般
式（ｃ−２）において、Ｇ^c2は２価の連結基を表す。Ｇ
^c2については、前記一般式（ｃ−１）中のＧ^c1と同義で
あり、具体例、好ましい範囲についても同様である。前
記一般式（ｃ−２）中、Ｘ^c-は分子全体の電荷を相殺す
るのに必要な対イオンを表し、ｎは分子全体の電荷を相
殺するのに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場合
にはｎは０である。Ｘ^c-については、前記一般式（ｃ−
１）中のＸ^c-と同義であり、具体例についても同様であ
る。

【０１５０】前記一般式（ｃ−３）において、Ｌ^c5は含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表す。Ｌ
^c5については、前記一般式（ｃ−１）中のＬ^c1およびＬ
^c2と同義であり、具体例、好ましい範囲についても同様
である。前記一般式（ｃ−３）中、Ｘ^c-は分子全体の電
荷を相殺するのに必要な対イオンを表し、ｎは分子全体
の電荷を相殺するのに必要な対イオンの数を表し、分子
内塩の場合にはｎは０である。Ｘ^c-については、前記一
般式（ｃ−１）中のＸ^c-と同義であり、具体例について
も同様である。

【０１５１】

【化２７】

【０１５２】前記一般式（ｄ）中、Ｒ^d1、Ｒ^d2およびＲ
^d3は水素原子または置換基を表す。前記置換基としして
は、電子吸引性度を示すハメットのシグマ値（σＰ）が
負のものが好ましい。フェニル基におけるハメットのシ
グマ値は多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディ
カルケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃ
ａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）２０巻、３０４頁、１９７
７年記載のＣ．ハンシュ（Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ）等の報文
等に見ることができ、特に好ましい負のシグマ値を有す
る基としては、例えばメチル基（σＰ＝−０．１７以下
何れもσＰ値）、エチル基（−０．１５）、シクロプロ
ピル基（−０．２１）、ｎ−プロピル基（−０．１
３）、ｉｓｏ−プロピル基（−０．１５）、シクロブチ
ル基（−０．１５）、ｎ−ブチル基（−０．１６）、ｉ
ｓｏ−ブチル基（−０．２０）、ｎ−ペンチル基（−
０．１５）、シクロヘキシル基（−０．２２）、アミノ
基（−０．６６）、アセチルアミノ基（−０．１５）、
ヒドロキシル基（−０．３７）、メトキシ基（−０．２
７）、エトキシ基（−０．２４）、プロポキシ基（−
０．２５）、ブトキシ基（−０．３２）、ペントキシ基
（−０．３４）等が挙げられ、これらはいずれも前記一
般式（ｄ）中のＲ^d1、Ｒ^d2およびＲ^d3として有用であ
る。

【０１５３】ｎは１または２を表し、Ｘ^{d n-}で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはｐ−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−２−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。

【０１５４】以下、第四級アンモニウム化合物および第
四級ホスホニウム化合物の具体例を示すが、本発明は以
下の具体例によってなんら限定されるものではない。

【０１５５】

【化２８】

【０１５６】

【化２９】

【０１５７】

【化３０】

【０１５８】

【化３１】

【０１５９】

【化３２】

【０１６０】

【化３３】

【０１６１】

【化３４】

【０１６２】

【化３５】

【０１６３】

【化３６】

【０１６４】

【化３７】

【０１６５】前記第四級アンモニウム化合物および第四
急ホスホニウム化合物は公知の方法に従って容易に合成
でき、例えば上記テトラゾリウム化合物は、Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌＲｅｖｉｅｗｓ ５５ ｐ．３３５〜４８３に記
載の方法を参考に合成することができる。

【０１６６】これら第四級アンモニウム化合物および第
四級ホスホニウム化合物の添加量は、ハロゲン化銀１モ
ル当たり１×１０^-8〜１モル程度であるのが好ましく、
１×１０^-7〜１×１０^-1モル程度であるのがより好まし
い。これらはハロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任
意の時期に感光材料中に添加できる。

【０１６７】第四級アンモニウム化合物および第四級ホ
スホニウム化合物は、単独で用いても２種以上を組み合
わせて用いてもよい。また感光材料の構成層中のいかな
る層に添加してもよいが、好ましくは画像形成層を有す
る側の構成層の少なくとも１層、更には画像形成層およ
び／またはその隣接層に添加する。

【０１６８】次に、硬調化剤として好ましく用いられる
一般式（ｅ）で表されるビニル化合物について説明す
る。

【０１６９】

【化３８】

【０１７０】前記一般式（ｅ）において、Ｒ^e1とＲ^e3は
便宜上シス形で表示してあるが、トランス形も前記一般
式（ｅ）に包含され、具体的化合物の構造式においても
同じである。前記一般式（ｅ）において、Ｒ^e1は電子吸
引基を表し、Ｒ^e2は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン
原子、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシ
オキサリル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オ
キシカルボニル基、−Ｓ−カルボニル基、カルバモイル
基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル
基、オキシスルホニル基、チオスルホニル基、スルファ
モイル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル
基、スルフィナモイル基、ホスホイル基、ニトロ基、イ
ミノ基、Ｎ−カルボニルイミノ基、Ｎ−スルホニルイミ
ノ基、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニ
ウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基またはインモニ
ウム基を表す。Ｒ^e3はハロゲン原子、オキシ基、チオ基
またはアミノ基を表す。

【０１７１】ここで、Ｒ^e1が表す「電子吸引基」とは、
ハメットの置換基定数σ_pが正の値を取り得る置換基の
ことをいうが、但しシアノ基そのものは除くものとす
る。前記電子吸引基の具体例としては、置換アルキル基
（例えば、ハロゲン置換アルキル基等）、置換アルケニ
ル基（例えばシアノビニル基等）、置換もしくは未置換
のアルキニル基（例えばトリフロオロメチルアセチレニ
ル基、シアノアセチレニル基等）、置換アリール基（例
えばシアノフェニル基等）、置換もしくは未置換のヘテ
ロ環基（例えばピリジル基、トリアジニル基、ベンゾオ
キサゾリル基等）、ハロゲン原子、アシル基（例えばア
セチル基、トリフルオロアセチル基、ホルミル基等）、
チオアシル基（例えばチオホルミル基、チオアセチル基
等）、オキサリル基（例えばメチルオキサリル基等）、
オキシオキサリル基（例えばエトイイサリル基）、チオ
オキサリル基（例えばエチルチオオキサリル基等）、オ
キサモイル基（例えばメチルオキサモイル基等）、オキ
シカルボニル基（例えばエトキシカルボニル基、カルボ
キシル基等）、チオカルボニル基（例えばエチルチオカ
ルボニル基等）、カルバモイル基、チオカルバモイル
基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルフィニ
ル基（例えばエトキシスルホニル基）、チオスルホニル
基（例えばエチルチオスルホニル基）、スルファモイル
基、オキシスルフィニル基（例えばメトキシスルフィニ
ル基）、チオスルフィニル基（例えばメチルチオスルフ
ィニル基等）、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニ
トロ基、イミノ基、Ｎ−カルボニルイミノ基（例えばＮ
−アセチルイミノ基等）、Ｎ−スルホニルイミノ基（Ｎ
−メタンスルホニルイミノ基等）、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）
₂基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム
基、ピリリウム基、インモニウム基等が挙げられるが、
アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、イ
ンモニウム基等が環を形成したヘテロ環状のものも含ま
れる。σp値として０．３以上のものが好ましい。

【０１７２】Ｒ^e2としては、水素原子、アルキル基（例
えばメチル基、エチル基、トリフルオトメチル基等）、
アルケニル基（例えばビニル基、ハロゲン置換ビニル
基、シアノビニル基等）、アルキニル基（例えばアセチ
レニル基、シアノアセチレニル基等）、アリール基（例
えばニトロフェニル基、シアノフェニル基、ペンタフル
オロフェニル基等）、ヘテロ環基（例えばピリジル基、
ピリミジル基、トリアジニル基、スクシンイミド基、テ
トラゾリル基、トリアゾリル基、イミダゾリル基、ベン
ゾオキサゾリル基等）の他、上記Ｘが表す基において具
体的に説明したようなハロゲン原子、アシル基、チオア
シル基、オキサリル基、オキシオキサリル基、チオオキ
サリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、チオ
カルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、
スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基、
チオスルホニル基、スルファモイル基、オキシスルフィ
ニル基、チオスルフィニル基、スルフィナモイル基、ホ
スホイル基、ニトロ基、イミノ基、Ｎ−カルボニルイミ
ノ基、Ｎ−スルホニルイミノ基、ジシアノエチレン基、
アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピ
リリウム基またはインモニウム基等が挙げられる。

【０１７３】Ｒ^e2としては、ハメットの置換基定数σp
が正の値をとりうる電子吸引基が好ましく、σp値とし
て０．３０以上のものが更に好ましい。

【０１７４】Ｒ^e3としては、ハロゲン原子、オキシ基
（例えばヒドロキシ基（有機または無機の塩を含む）、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキ
シ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニ
ルオキシ基等）、チオ基（例えばメルカプト基（有機ま
たは無機の塩を含む）、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチ
オ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニルチオ基、ア
ミノカルボニルチオ基等）、アミノ基（例えばアミノ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミ
ノ基、オキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、スルホ
ンアミド基等）が挙げられる。

【０１７５】Ｒ^e3として好ましくは、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基もしくはメルカプト基の有機塩また
は無機塩等が挙げられるが、好ましくは、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、ヒドロキシ基の有機塩または無機塩
であり、更に好ましくは、ヒドロキシ基またはヒドロキ
シ基の有機塩または無機塩である。

【０１７６】また、Ｒ^e1およびＲ^e2でそれぞれ表される
置換基中にチオエーテル基を含む化合物が好ましい。

【０１７７】以下に、前記一般式（ｅ）で表されるビニ
ル化合物の具体例を示す。

【０１７８】

【化３９】

【０１７９】

【化４０】

【０１８０】

【化４１】

【０１８１】

【化４２】

【０１８２】

【化４３】

【０１８３】

【化４４】

【０１８４】

【化４５】

【０１８５】

【化４６】

【０１８６】

【化４７】

【０１８７】

【化４８】

【０１８８】

【化４９】

【０１８９】

【化５０】

【０１９０】

【化５１】

【０１９１】

【化５２】

【０１９２】

【化５３】

【０１９３】

【化５４】

【０１９４】

【化５５】

【０１９５】

【化５６】

【０１９６】

【化５７】

【０１９７】

【化５８】

【０１９８】

【化５９】

【０１９９】前記一般式（ｅ）で表される化合物は公知
の方法に従って容易に合成できる。

【０２００】前記一般式（ｅ）で表される化合物は、ハ
ロゲン化銀１モル当たり、０．００５〜０．５モル添加
するのが好ましく、０．０１〜０．３モル添加するのが
より好ましい。前記一般式（ｅ）で表される化合物は１
種を単独で用いてもよいし、２種以上を適宜併用しても
よい。また感光材料の構成層中のいかなる層に添加して
もよいが、好ましくは画層形成層を有する側の構成層の
少なくとも１層、更には画像形成層および／またはその
隣接層に添加する。

【０２０１】本発明の画像形成方法に用いられる熱現像
感光材料は、ハロゲン化銀、有機酸銀塩、還元剤および
硬調化剤を支持体上に塗設することによって作製するこ
とができる。前記熱現像感光材料は、好ましくは、ハロ
ゲン化銀、有機酸銀塩、還元剤および硬調化剤、さらに
バインダーを含有する少なくとも１層の画像形成層を支
持体上に有する構成であるのが好ましい。また、前記熱
現像感光材料は、画像形成層の他に、保護層、下引層、
フィルター層等の非感性層を設けることができ、フィル
ター層は支持体上画像形成層側に設けても画像形成層と
反対側に設けてもよい。前述した様に、いずれかの層
は、有機溶媒を２０質量％以上含有する塗布液を塗布し
てなる塗布層であり、好ましくは、前記画像形成層が溶
媒として有機溶媒を２０質量％以上含有する塗布液を塗
布してなる塗布層である。前記有機溶媒は、塗布液中に
２０質量％〜９０質量％含有されるのが好ましく、３０
質量％〜８０質量％含有されるのがより好ましい。前記
有機溶媒については特に制限はなく、メチルエチルケト
ン、トルエン、メタノール、エタノール、アセトン等の
一般的な有機溶媒を使用することができる。またはこれ
らのうち２種以上を混合した混合有機溶媒を用いること
もできる。前記塗布液は水を含有していてもよいが、水
を含有する場合は２０質量％以下であるのが好ましく、
１０質量％以下であるのがより好ましい。

【０２０２】前記熱現像感光材料が所望により含有する
バインダーは、透明または半透明で、一般的には、無色
のポリマーであるのが好ましい。前記ポリマーとして
は、天然ポリマー、合成樹脂、合成ポリマーおよびコポ
リマー、その他フィルムを形成する媒体等が挙げられ
る。具体低には、ゼラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニ
ルアルコール）、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リ（ビニルピロリドン）、カゼイン、デンプン、ポリ
（アクリル酸）、ポリ（メチルメタクリル酸）、ポリ
（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル酸）、コポリ（スチ
レン−無水マレイン酸）、コポリ（スチレン−アクリロ
ニトリル）、コポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ
（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマ
ール）およびポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エス
テル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ
（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カ
ーボネート）類、ポリ（ビニルアセテート）、セルロー
スエステル類、ポリ（アミド）類がある。親水性でも疎
水性でもよいが、熱現像後のカブリを低減させるために
は、疎水性透明バインダーを使用することが好ましい。
好ましいバインダーとしては、ポリビニルブチラール、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル
酸、ポリウレタンなどがあげられる。その中でもポリビ
ニルブチラール、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ポリエステルは特に好ましく用い
られる。

【０２０３】また、前記熱現像感光材料は、表面を保護
し、擦り傷を防止するために、画像形成層の外側に非感
光性の層を有することができる。これらの非感光層に用
いられるバインダーとしては、前記画像形成層に用いら
れるバインダーと同じ種類でも異なった種類でもよい。

【０２０４】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために画像形成層のバインダー量が１．５〜１０ｇ／ｍ
²であることが好ましい。さらに好ましくは１．７〜８
ｇ／ｍ²である。１．５ｇ／ｍ²未満では未露光部の濃度
が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。

【０２０５】本発明においては、画像形成層側にマット
剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき
防止のためには、熱現像感光材料の表面にマット剤を配
することが好ましく、そのマット剤を、画像形成層側の
全バインダーに対し、質量比で０．５〜３０％含有する
ことが好ましい。また、支持体をはさみ画像形成層の反
対側にバック層を設ける場合は、バック層側の少なくと
も１層中にマット剤を含有することが好ましく、熱現像
材料のすべり性や指紋付着防止のためにも、表面にマッ
ト剤を配することが好ましく、そのマット剤を画像形成
層側の反対側のバック層の全バインダーに対し、質量比
で０．５〜４０％含有することが好ましい。マット剤の
形状は、定形、不定形どちらでもよいが、好ましくは定
形で、球形が好ましく用いられる。

【０２０６】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に画
像形成層のみを形成してもよいが、画像形成層の上に少
なくとも１層の非感光層を形成することが好ましい。画
像形成層に通過する光の量または波長分布を制御するた
めに、画像形成層と同じ側にフィルター染料層および／
または反対側にアンチハレーション染料層、いわゆるバ
ッキング層を形成してもよいし、画像形成層に染料また
は顔料を含ませてもよい。また、所望により形成される
非感光性層には、前記のバインダーやマット剤を含有す
ることが好ましく、さらにポリシロキサン化合物やワッ
クスや流動パラフィンのようなスベリ剤を含有してもよ
い。

【０２０７】また、前記熱現像感光材料には、塗布助剤
として各種の界面活性剤を用いることができる。その中
でもフッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑
点状の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。

【０２０８】前記熱現像感光材料は、必要に応じて銀の
色調を抑制する色調剤を含有できる。好適な色調剤の例
はＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ 第１７０
２９号に開示されている。

【０２０９】各種の添加剤は画像形成層、非感光層、ま
たはその他の形成層のいずれに添加してもよい。前記熱
現像感光材料には、例えば、界面活性剤、酸化防止剤、
安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いて
もよい。これらの添加剤および上述したその他の添加剤
はＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ
１７０２９（１９７８年６月ｐ．９〜１５）に記載され
ている化合物を好ましく用いることができる。

【０２１０】前記熱現像感光材料の支持体は透明である
ことが好ましく、現像処理後に所定の光学濃度を得るた
め、および現像処理後の画像の変形を防ぐために、プラ
スチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルロ
ーストリアセテート、ポリエチレンナフタレート）であ
ることが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレー
ト（以下ＰＥＴと略す）およびシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体を含むプラスチック（以下Ｓ
ＰＳと略す）の支持体が好ましい。支持体の厚みとして
は５０〜３００μｍ程度が適当であり、好ましくは７０
〜１８０μｍである。また、熱処理したプラスチック支
持体を用いることもできる。採用するプラスチックとし
ては、前記のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処
理とはこれらの支持体を製膜後、画像形成層が塗布され
るまでの間に、支持体のガラス転移点より３０℃以上高
い温度で、好ましくは３５℃以上高い温度で、更に好ま
しくは４０℃以上高い温度で、かつ支持体の融点を超え
ない温度で加熱することがよい。

【０２１１】前記熱現像感光材料の帯電性を改良するた
めに、金属酸化物および／または導電性ポリマーなどの
導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これ
らはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引
層、バック層、画像形成層と下引層との間の層などに含
まれる。本発明においては米国特許第５，２４４，７７
３号明細書カラム１４〜２０に記載された導電性化合物
が好ましく用いられる。

【０２１２】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操
作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更する
ことができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す
具体例に制限されるものではない。 ＜熱現像感光材料Ａの作製＞ （下引済み支持体の作製）市販の２軸延伸熱固定済みの
ＰＥＴフィルム（厚さ１２０μｍ）の両面に、８Ｗ／ｍ
²・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗
布液ａを乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥さ
せて下引層Ａとし、また反対側の面に下記帯電防止加工
した下引塗布液ｂを乾燥膜厚０．８μｍになるように塗
設し乾燥させて帯電防止加工下引層Ｂとした。

【０２１３】 《下引塗布液ａ》 固形分３０％の共重合体ラテックス液 ２７０ｇ (フ゛チルアクリレート/tert-フ゛チルアクリレート/スチレン/2-ヒト゛ロキシエチルアクリレート=30/20/25/25(質量%)) ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μｍ） ０．０５ｇ コロイダルシリカ（平均粒径９０μｍ） ０．１ｇ 水を加えて合計で１リットルにした。

【０２１４】 《下引塗布液ｂ》 ＳｎＯ₂／Ｓｂ（９／１（質量比）） （平均粒径０．１８μｍ） ２００ｍｇ／ｍ²になる量 固形分３０％の共重合体ラテックス液 ２７０ｇ (フ゛チルアクリレート/スチレン/ク゛リシシ゛ルアクリレート=30/20/40(質量%)) ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水を加えて合計で１リットルにした。

【０２１５】《支持体の熱処理》上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を１４０℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。

【０２１６】（ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）水９００ｍ
Ｌ中にイナートゼラチン７．５ｇおよび臭化カリウム１
０ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた
後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍＬ、塩化ナトリ
ウムと臭化カリウムと沃化カリウムとを６０／３８／２
のモル比で含む水溶液、および〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕
塩を銀１モル当たり１×１０^{- 6}モルと塩化ロジウム塩を
銀１モル当たり１×１０^-6モルを、ｐＡｇ７．７に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−
テトラザインデンを添加しＮａＯＨでｐＨを８、ｐＡｇ
６．５に調整することで還元増感を行い平均粒子サイズ
０．０６μｍ、単分散度１０％の投影直径面積の変動係
数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子
を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降さ
せ脱塩処理を行い、ハロゲン化銀乳剤乳剤Ａを得た。

【０２１７】（ベヘン酸Ｎａ溶液の調製）９４５ｍＬの
純水にベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９ｇおよ
びステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高速
で撹拌しながら１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水
溶液９８ｍＬを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍＬを加
えた後、５５℃に冷却して３０分撹拌させてベヘン酸Ｎ
ａ溶液を得た。

【０２１８】（プレホーム乳剤Ａの調製）上記のベヘン
酸Ｎａ溶液に前記ハロゲン化銀乳剤Ａを１５．１ｇ添加
し、水酸化ナトリウム溶液でｐＨ８．１に調整した後
に、１ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀溶液１４７ｍＬを７分間かけ
て加え、さらに２０分間撹拌し、限外濾過により水溶性
塩類を除去した。得られたベヘン酸銀は、平均粒子サイ
ズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子であった。分散物の
フロックを形成後、水を取り除き、更に６回の水洗と水
の除去を行った後乾燥させ、プレホーム乳剤Ａを得た。

【０２１９】（感光性乳剤Ａの調製）得られたプレホー
ム乳剤Ａに、それぞれポリビニルブチラール（平均分子
量３，０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量
％）５４４ｇと、トルエン１０７ｇとを徐々に添加して
混合した後に、０．５ｍｍサイズのＺｒＯ₂のビーズミ
ルを用いたメディア分散機で４０００ｐｓｉで分散し、
感光性乳剤Ａを調製した。

【０２２０】（熱現像感光材料Ａの作製）前記支持体上
に以下の各層を両面同時塗布し、熱現像感光材料Ａを作
製した。なお、乾燥は各々６０℃で、１５分間で行っ
た。

【０２２１】（バック面側塗布）支持体の下引き層Ｂの
上に以下の組成の液を塗布した。 セルロースセルロースアセテートブチレート （１０％メチルエチルケトン溶液） １５ｍＬ／ｍ² 染料 ７ｍｇ／ｍ² 染料 ７ｍｇ／ｍ² 単分散シリカマット剤 ３０ｍｇ／ｍ² （単分散度１５％、平均粒子サイズ８μｍ単分散シリカ Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）１２Ｃ₈Ｆ₁₇ ５０ｍｇ／ｍ² Ｃ₈Ｆ₁₇−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ １０ｍｇ／ｍ²

【０２２２】（画像形成層面側塗布） 画像形成層：支持体の下引き層Ａの上に下記組成の液を
塗布銀量が２．４ｇ／ｍ²になる様に塗布し乾燥した。 なお、画像形成層用の塗布液は、有機溶媒としてメチル
エチルケトン、トルエン、メタノールおよびアセトンを
５０質量％含有する塗布液であった。 感光性乳剤Ａ ２４０ｇ 増感色素（０．１％メタノール溶液） １．７ｍＬ ピリジニウムプロミドペルブロミド（６％メタノール溶液） ３ｍＬ 臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液） １．７ｍＬ 酸化剤（１０％メタノール溶液） １．２ｍＬ ２−４−クロロベンゾイル安息香酸（１２％メタノール溶液） ９．２ｍＬ ２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液） １１ｍＬ 酸化剤 １７ｍＬ （トリブロモメチルスルホキノリン（５％メタノール溶液）） フタラジン ０．６ｇ ヒドラジン誘導体 ０．３ｇ ヒドラジン誘導体 ０．３ｇ Ｎ−メチルフロヒドロキサム酸 ０．３ｇ ４−メチルフタル酸 ０．２５ｇ テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ 現像剤（２０％メタノール溶液） ２９．５ｍＬ イソシアネート化合物（モーヘ゛イ社製、Desmodur N3300） ０．５ｇ １−シアノ−２−ヒドロキシアクリル酸エチル ０．２ｇ

【０２２３】

【化６０】

【０２２４】

【化６１】

【０２２５】表面保護層：以下の組成の液を画像形成層
の上に同時塗布し乾燥した。 アセトン ５ｍＬ／ｍ² メチルエチルケトン ２１ｍＬ／ｍ² セルロースアセテートブチレート ２．３ｇ／ｍ² メタノール ７ｍＬ／ｍ² フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ² 単分散シリカマット剤 ７０ｍｇ／ｍ² （単分散度１０％、平均粒子サイズ４μｍ） CH₂=CHSO₂CH₂CH₂OCH₂CH₂SO₂CH=CH₂ ３５ｍｇ／ｍ² C₈F₁₇(CH₂CH₂O)₁₂C₈F₁₇ １００ｍｇ／ｍ² C₈F₁₇-C₆H₄-SO₃Na １０ｍｇ／ｍ²

【０２２６】＜比較用熱現像感光材料Ａ’の作製＞ 《ハロゲン化銀乳剤Ａ’の調製》水７００ｍＬにアルカ
リ処理ゼラチン（カルシウム含有量として２７００ｐｐ
ｍ以下）１１ｇおよび臭化カリウム３０ｍｇ、４−メチ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム１．３ｇを溶解して温
度４５℃にてｐＨを６．５に合わせた後、硝酸銀１８．
６ｇを含む水溶液１５９ｍＬと臭化カリウムを１モル／
リットル（ＮＨ₄）₂ＲｈＣｌ₅（Ｈ₂Ｏ）を５×１０^-6モ
ル／リットルおよびＫ₃ＩｒＣｌ₆を２×１０^-5モル／リ
ットルで含む水溶液をｐＡｇ７．７に保ちながらコント
ロールダブルジェット法で６分３０秒間かけて添加し
た。ついで、硝酸銀５５．５ｇを含む水溶液４７６ｍＬ
と臭化カリウムを１モル／リットルおよびＫ₃ＩｒＣｌ₆
を２×１０^-5モル／リットルで含むハロゲン塩水溶液を
ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールダブルジェット
法で２８分３０秒間かけて添加した。その後ｐＨを下げ
て凝集沈降させて脱塩処理をし、平均分子量１５，００
０の低分子量ゼラチン（カルシウム含有量として２０ｐ
ｐｍ以下）５１．１ｇ加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ８．０
に調製した。得られた粒子は平均粒子サイズ０．１１μ
ｍ、投影面積変動係数９％、（１００）面比率９０％の
立方体粒子であった。こうして得たハロゲン化銀粒子
に、銀１モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム
７６μモル、トリエチルチオ尿素７１μモルを添加した
後に熟成し、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデンを５×１０^-4モル、化合物Ａ
を０．１７ｇ加えた後、ハロゲン化銀１モルに対して
４．７×１０^-2モルの臭化カリウム（水溶液として添
加）、１２．８×１０^-4モル下記増感色素ＡあるいはＢ
あるいはＣ（エタノール溶液として添加）、６．４×１
０^-3モルの化合物Ｂ（メタノール溶液として添加）を攪
拌しながら添加し、２０分後に３０℃に急冷してハロゲ
ン化銀乳剤Ａ’の調製を終了した。

【０２２７】

【化６２】

【０２２８】《ベヘン酸銀分散物Ａの調製》ヘンケル社
製ベヘン酸（製品名ＥｄｅｎｏｒＣ２２−８５Ｒ）８
７．６ｇを、５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液４９．２ｍ
Ｌおよびｔｅｒｔ−ブチルアルコール１２０ｍＬと混合
し、７５℃にて反応させベヘン酸ナトリウム溶液を得
た。このベヘン酸ナトリウム溶液と硝酸銀の水溶液と
を、６３５ｍＬの蒸留水および３０ｍＬのｔｅｒｔ−ブ
チルアルコールを入れた反応容器を攪拌しながら、添加
した。このとき、反応容器内の温度は３０℃とし、液温
度が上がらないようにコントロールした。添加終了後、
吸引濾過で固形分を濾別し、水洗した。つぎに、得られ
たベヘン酸銀の固形分１００ｇ相当のウエットケーキ
に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２１７，
平均重合度：約１７００）７．４ｇおよび水を添加し、
ホモミキサーにて予備分散した後、分散機（商品名：マ
イクロフルイダイザーＭ−１１０Ｓ−ＥＨ、マイクロフ
ルイデックス・インターナショナル・コーポレーション
製、Ｇ１０Ｚインタラクションチャンバー使用）で分散
し、ベヘン酸分散物Ａを得た。

【０２２９】《１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサ
ン：還元剤の固体微粒子分散物の調製》１，１−ビス
（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，
５，５−トリメチルヘキサン１０ｋｇと変性ポリビニル
アルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の
２０質量％水溶液１０ｋｇに、サーフィノール１０４Ｅ
（日信化学（株）製）４００ｇと、メタノール６４０
ｇ、水１６ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとし
た。このスラリーを、横型ビーズミル（ＵＶＭ−２：ア
イメックス（株）製）にて分散した後、ベンゾイソチア
ゾリノンナトリウム塩４ｇと水を加えて還元剤の固体微
粒子分散物を得た。こうして得た分散物に含まれる還元
剤粒子はメジアン径０．４４μｍ、最大粒子径２．０μ
ｍ以下、平均粒子径の変動係数１９％であった。

【０２３０】《有機ポリハロゲン化合物Ａの固体微粒子
分散物の調製》ポリハロゲン化合物Ａを１０ｋｇと、変
性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ
２０３）の２０質量％水溶液１０ｋｇと、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶
液６３９ｇと、サーフィノール１０４Ｅ（日信化学
（株）製）４００ｇと、メタノール６４０ｇと、水１６
ｋｇとをよく混合してスラリーとした。このスラリー
を、横型ビーズミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）
製）にて分散した後、水を加えてポリハロゲン化合物Ａ
の濃度が２５質量％になるように調製し、有機ポリハロ
ゲン化合物Ａの固体微粒子分散物を得た。こうして得た
分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジア
ン径０．３６μｍ、最大粒子径２．０μｍ以下、平均粒
子径の変動係数１８％であった。

【０２３１】《有機ポリハロゲン化合物Ｂの固体微粒子
分散物の調製》ポリハロゲン化合物Ｂを５ｋｇと、変性
ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ２
０３）の２０質量％水溶液２．５ｋｇと、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶
液２１３ｇと、水１０ｋｇとをよく混合してスラリーと
した。このスラリーを、横型ビーズミル（ＵＶＭ−２：
アイメックス（株）製）にて分散したのち、ベンゾイソ
チアゾリノンナトリウム塩２．５ｇと水とを加えてポリ
ハロゲン化合物Ｂの濃度が２３．５質量％になるように
調製し、有機ポリハロゲン化合物Ｂの固体微粒子分散物
を得た。こうして得た分散物に含まれる有機ポリハロゲ
ン化合物粒子はメジアン径０．３８μｍ、最大粒子径
２．０μｍ以下、平均粒子径の変動係数２０％であっ
た。

【０２３２】《有機ポリハロゲン化合物Ｃ水溶液の調
製》室温で攪拌しながら、水７５．０ｍｌ、トリプロピ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム（２０％水溶液）
８．６ｍｌ、オルトリン酸二水素ナトリウム・２水和物
（５％水溶液）６．８ｍｌ、および水酸化カリウムの１
ｍｏｌ／Ｌ水溶液９．５ｍｌを順次攪拌混合した。さら
に、攪拌しながらポリハロゲン化合物Ｃの４．０ｇの粉
末を添加し、有機ポリハロゲン化合物Ｃ水溶液１００ｍ
ｌを得た。

【０２３３】《化合物−Ｚの乳化分散物の調製》化合物
−Ｚを８５質量％含有する三光（株）製Ｒ−０５４を１
０ｋｇと、ＭＩＢＫ１１．６６ｋｇを混合した後、窒素
置換して８０℃１時間溶解した。この液に水２５．５２
ｋｇとクラレ（株）製ＭＰポリマーのＭＰ−２０３の２
０質量％水溶液１２．７６ｋｇと、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液０．
４４ｋｇとを添加して、２０〜４０℃、３６００ｒｐｍ
で６０分間乳化分散した。さらに、この液にサーフィノ
ール１０４Ｅ（日信化学（株）製）０．０８ｋｇと、水
４７．９４ｋｇとを添加して減圧蒸留しＭＩＢＫを除去
したのち、化合物−Ｚの濃度が１０質量％になるように
調製した。

【０２３４】《６−イソプロピルフタラジン化合物の分
散液の調製》室温で水６２．３５ｇを攪拌しながら、変
性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭ
Ｐ２０３）２．０ｇを添加し１０分間攪拌混合した後、
加熱し、内温５０〜６０℃の範囲で均一に溶解させた。
内温を４０℃以下に降温し、ポリビニルアルコール（ク
ラレ（株）製、ＰＶＡ−２１７、１０質量％水溶液）２
５．５ｇ、トリプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム（２０質量％水溶液）３．０ｇ、および６−イソプロ
ピルフタラジン（７０質量％水溶液）７．１５ｇを添加
し、攪拌混合して、透明分散液１００ｇを得た。

【０２３５】《現像促進剤Ｗの固体微粒子分散物の調
製》現像促進剤Ｗの１０ｋｇと、変性ポリビニルアルコ
ール（クラレ（株）製ポバールＭＰ２０３）の２０質量
％水溶液の１０ｋｇと、水２０ｋｇとを、よく混合して
スラリーとした。このスラリーを、横型ビーズミル（Ｕ
ＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて分散した後、水
を加えて現像促進剤Ｗの濃度が２０質量％になるように
調製し、現像促進剤Ｗの固体微粒子分散物を得た。

【０２３６】《画像形成層塗布液の調製》上記で作製し
たベヘン酸銀分散物Ａの銀１モルに対して、以下のバイ
ンダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Ａ’を添加し
て、水を加えて、画像形成層塗布液とした。この塗布液
は、有機溶媒としてメタノールおよびエタノールを１０
質量％含有する塗布液であった。完成後、減圧脱気を圧
力０．５４ａｔｍで４５分間行った。塗布液のｐＨは
７．７、粘度は２５℃で５０ｍＰａ・ｓであった。

【０２３７】 バインダー；ＳＢＲラテックス 固形分として ３９７ｇ （Ｓｔ／Ｂｕ／ＡＡ＝６８／２９／３（質量％）、重合開始剤としてＮａ₂Ｓ₂Ｏ ₈ を使用） 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として １４９．５ｇ ポリハロゲン化合物Ｂ 固形分として ３６．３ｇ ポリハロゲン化合物Ｃ 固形分として ２．３４ｇ エチルチオスルホン酸ナトリウム ０．４７ｇ ベンゾトリアゾール １．０２ｇ ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ−２３５） １０．８ｇ ６−イソプロピルフタラジン １５．０ｇ 化合物Ｚ 固形分として ９．７ｇ 化合物Ｘ ７．７ｇ 染料Ａ（平均分子量10.5000の低分子量ゼラチンとの混合液として添加） 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量 （目安として固形分０．４０ｇ） ハロゲン化銀乳剤Ａ Ａｇ量として０．０６モル 防腐剤として化合物−Ａ 塗布液中に４０ｐｐｍ（塗布量として２．５ｍｇ／ｍ²） ｐＨ調整剤として、ＮａＯＨを用いて調整した。 （なお、塗布膜のガラス転移温度は１７℃であった。）

【０２３８】《保護層塗布液の調製》メチルメタクリレ
ート／スチレン／２−エチルヘキシルアクリレート／２
−ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸＝５
８．９／８．６／２５．４／５．１／２（質量％）のポ
リマーラテックス溶液（共重合体でガラス転移温度４６
℃（計算値）、固形分濃度として２１．５質量％、化合
物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造膜助剤として化
合物Ｄをラテックスの固形分に対して１５質量％含有さ
せ塗布液のガラス転移温度を２４℃とした、平均粒子径
１１６ｎｍ）９４３ｇにＨ₂Ｏを加え、ポリハロゲン化
合物Ｃの水溶液 １１４．８ｇ、ポリハロゲン化合物Ａ
を固形分として１７．０ｇ、オルトリン酸二水素ナトリ
ウム・二水和物を固形分として０．６９ｇ、現像促進剤
Ｗを固形分として１１．５５ｇ、マット剤（ポリスチレ
ン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８％）
１．５８ｇ、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製，
ＰＶＡ−２３５）２９．３ｇおよび化合物Ｅを１．６２
ｇ加え、さらにＨ₂Ｏを加えて塗布液（メタノール溶媒
を０．８質量％含有）を調製した。完成後、減圧脱気を
圧力０．４７ａｔｍで６０分間行った。塗布液のｐＨは
５．５、粘度は２５℃で４５ｍＰａ・ｓであった。

【０２３９】

【化６３】

【０２４０】《下層オーバーコート層塗布液の調製》メ
チルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルア
クリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸＝５８．９／８．６／２５．４／５．１／２
（質量％）のポリマーラテックス溶液（共重合体でガラ
ス転移温度４６℃（計算値）、固形分濃度として２１．
５質量％、化合物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造
膜助剤として化合物Ｄをラテックスの固形分に対して１
５質量％含有させ、塗布液のガラス転移温度を２４℃と
した、平均粒子径７４ｎｍ）６２５ｇにＨ₂Ｏを加え、
化合物Ｃを０．２３ｇ、化合物Ｅを０．１３ｇ、化合物
Ｆを１１．７ｇ、化合物Ｈを２．７ｇおよびポリビニル
アルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ−２３５）１１．
５ｇを加え、さらにＨ₂Ｏを加えて塗布液（メタノール
溶媒を０．１質量％含有）を調製した。完成後、減圧脱
気を圧力０．４７ａｔｍで６０分間行った。塗布液のｐ
Ｈは２．６、粘度は２５℃で３０ｍＰａ・ｓであった。

【０２４１】《上層オーバーコート層塗布液の調製》メ
チルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルア
クリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸＝５８．９／８．６／２５．４／５．１／２
（質量％）のポリマーラテックス溶液（共重合体でガラ
ス転移温度４６℃（計算値）、固形分濃度として２１．
５質量％、化合物Ａを１００ｐｐｍ含有させ、さらに造
膜助剤として化合物Ｄをラテックスの固形分に対して１
５質量％含有させ、塗布液のガラス転移温度を２４℃と
した、平均粒子径１１６ｎｍ）６４９ｇにＨ₂Ｏを加
え、カルナヴァワックス（中京油脂（株）製、セロゾー
ル５２４：シリコーン含有量として５ｐｐｍ未満）３０
質量％溶液１８．４ｇ、化合物Ｃを０．２３ｇ、化合物
Ｅを１．８５ｇ、化合物Ｇを１．０ｇ、マット剤（ポリ
スチレン粒子、平均粒径７μｍ、平均粒径の変動係数８
％）３．４５ｇおよびポリビニルアルコール（クラレ
（株）製，ＰＶＡ−２３５）２６．５ｇを加え、さらに
Ｈ₂Ｏを加えて塗布液（メタノール溶媒を１．１質量％
含有）を調製した。完成後、減圧脱気を圧力０．４７ａ
ｔｍで６０分間行った。塗布液のｐＨは５．３、粘度は
２５℃で２５ｍＰａ・ｓであった。

【０２４２】

【化６４】

【０２４３】《バック／下塗り層のついたポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）支持体の作製》 （１）ＰＥＴ支持体の作製 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノール／テトラクロ
ルエタン＝６／４（質量比）中２５℃で測定）のポリエ
チレンテレフタレートを得た。これをペレット化した
後、溶融し、Ｔ型ダイから押し出し、未延伸フィルムと
した後、周速の異なるロールを用い、３．３倍に縦延
伸、ついでテンターで４．５倍に横延伸を実施した。こ
のときの温度はそれぞれ、１１０℃、１３０℃であっ
た。この後、２４０℃で２０秒間熱固定後、これと同じ
温度で横方向に４％緩和した。この後、テンターのチャ
ック部をスリットした後、両端にナール加工を行い、
４．８ｋｇ／ｃｍ²で巻きとった。このようにして、幅
２．４ｍ、長さ３５００ｍ、厚み１２０μｍのロール状
のＰＥＴ支持体を得た。

【０２４４】（２）下塗り層およびバック層の作成 下塗り第一層 上記ＰＥＴ支持体に０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²のコ
ロナ放電処理を施した後、以下に示す組成の塗布液を
６．２ｍＬ／ｍ²となる様に支持体上に塗布し、乾燥し
て下塗り第一層を形成した。

【０２４５】 ラテックス−Ａ ２８０ｇ ＫＯＨ ０．５ｇ ポリスチレン微粒子 ０．０３ｇ （平均粒径：２μｍ、平均粒径の変動係数７％） ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン １．８ｇ 化合物Ｂｃ−Ｃ ０．０９７ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０２４６】下塗り第二層 以下に示す組成の塗布液を５．５ｍＬ／ｍ²となる様に
下塗り第一層の上に塗布し、乾燥して下塗り第二層を形
成した。 脱イオン処理ゼラチン １０ｇ （Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ、ゼリー強度２３０ｇ） 酢酸（２０質量％水溶液） １０ｇ 化合物‐Ｂｃ−Ａ ０．０４ｇ メチルセルロース（２質量％水溶液） ２５ｇ ポリエチレンオキシ化合物 ０．３ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０２４７】バック第一層 前記下塗り層塗布面とは反対側の面に０．３７５ｋＶ・
Ａ・分／ｍ²のコロナ放電処理を施し、その面に以下に
示す組成の塗布液を１３．８ｍＬ／ｍ²となる様に塗布
し、乾燥してバック第一層を形成した。

【０２４８】 ジュリマーＥＴ４１０ ２３ｇ （３０質量％水分散物、日本純薬（株）製） アルカリ処理ゼラチン ４．４４ｇ （分子量約１００００、Ｃａ²⁺含量３０ｐｐｍ） 脱イオン処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量０．６ｐｐｍ） ０．８４ｇ 化合物‐Ｂｃ−Ａ ０．０２ｇ 染料−Ｂｃ−Ａ （783nmの光学濃度として1.3〜1.4になるように調整) 目安として０．８８ｇ ポリオキシエチレンフェニルエーテル １．７ｇ スミテックスレジンＭ−３（８質量％水溶液） １５ｇ （水溶性メラミン化合物、住友化学工業（株）製） ＦＳ−１０Ｄ ２４ｇ （ＳｂドープＳｎＯ２の針状粒子の水分散物、石原産業（株）製） ポリスチレン微粒子 ０．０３ｇ （平均粒径：２μｍ、平均粒径の変動係数７％） 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０２４９】バック第二層 以下に示す組成の塗布液を５．５ｍＬ／ｍ²となる様に
バック第一層上に塗布し、乾燥してバック第二層を形成
した。 ジュリマーＥＴ４１０ ５７．５ｇ （３０質量％水分散物、日本純薬（株）製） ポリオキシエチレンフェニルエーテル １．７ｇ スミテックスレジンＭ−３（８質量％水溶液） １５ｇ （水溶性メラミン化合物、住友化学工業（株）製） セロゾール５２４（３０質量％水溶液、中京油脂（株）製） ６．６ｇ 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０２５０】バック第三層 下塗り第一層と同じ塗布液を６．２ｍＬ／ｍ²となる様
にバック第二層上に塗布し、乾燥してバック第三層を形
成した。 バック第四層 以下に示す組成の塗布液を１３．８ｍＬ／ｍ²となる様
にバック第三層上に塗布し、乾燥してバック第四層を形
成した。 ラテックス−Ｂ ２８６ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｂ ２．７ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｃ ０．６ｇ 化合物−Ｂｃ−Ｄ ０．５ｇ ２，４ジクロロ−６−ヒドロキシーｓ−トリアジン ２．５ｇ ポリメチルメタクリレート ７．７ｇ （１０質量％水分散物、平均粒子径 ５μｍ、平均粒子の変動係数７％） 蒸留水 合計量が１０００ｇとなる量

【０２５１】

【化６５】

【０２５２】ラテックス−Ａ：コア部９０質量％、シェ
ル部１０質量％のコアシェルタイプのラテックスコア部
塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタク
リレート／アクリロニトリル／アクリル酸の＝９３／３
／３／０．９／０．１（質量％） シェル部 塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチ
ルメタクリレート／アクリロニトリル／アクリル酸＝８
８／３／３／３／３（質量％） 質量平均分子量３８，０００ ラテックス−Ｂ：メチルメタクリレート／スチレン／２
−エチルヘキシルアクリレート／２−ヒドロキシエチル
メタクリレート／アクリル酸＝５９／９／２６／５／１
（質量％）の共重合体

【０２５３】（３）搬送熱処理 （３−１）熱処理 このようにして作製したバック／下塗り層のついたＰＥ
Ｔ支持体を１６０℃設定した全長２００ｍ熱処理ゾーン
に入れ、張力２ｋｇ／ｃｍ^２、搬送速度２０ｍ／分で搬
送した。 （３−２）後熱処理 上記熱処理に引き続き、４０℃のゾーンに１５秒間通し
て後熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力
は１０ｋｇ／ｃｍ²であった。

【０２５４】《比較用熱現像感光材料Ａ’の作製》前記
下塗り第一層と下塗り第二層を塗布した側のＰＥＴ支持
体の下塗り層の上に、特開平２０００−２９６４号公報
の図１で開示されているスライドビート塗布方式を用い
て、前記の画像形成層塗布液を、塗布銀量１．５ｇ／ｍ
²になるように塗布した。さらにその上に、前記保護層
塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布量が１．２９
ｇ／ｍ²になるように画像形成層塗布液と共に同時重層
塗布した。その後、保護層の上に前記下層オーバーコー
ト層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布量が１．
９７ｇ／ｍ²および前記上層オーバーコート層塗布液を
ポリマーラテックスの固形分塗布量が１．０７ｇ／ｍ²
になるように下層オーバーコート塗布液と共に同時重層
塗布し、比較用熱現像感光材料Ａ’を作製した。

【０２５５】＜評価＞作製した熱現像感光材料Ａおよび
比較用熱現像感光材料Ａ’を各々、幅５９０ｍｍおよび
長さ５９ｍのシート状とし、これを円筒状のコア部材に
画像形成層側を外向きにして巻き付け、ロール状のサン
プルとした。このロール状のサンプルを７８５ｎｍの半
導体レーザーを有する日本電気製ＦＴ−２８６Ｒにセッ
トした。このプロッターと、表１に示す熱現像機とをそ
れぞれドッキングし、露光・熱現像処理した。表１中に
示す熱現像機は以下の構成のものであった。

【０２５６】《熱現像機１》図１と同一の構成の熱現像
機。 《熱現像機２》図１の熱現像機において、熱現像部Ｂ
中、下側にも上側と同じ搬送ローラー１３を対向設置し
た以外は熱現像機１と同一の構成の熱現像機。 《熱現像機３》図２に示す構成のベルト／ドラム方式の
熱現像機。図２において、熱現像感光材料５５は、露光
された後、ヒートドラム５２と、複数の送りローラ５３
に懸架され、且つヒートドラム５２に圧接する搬送用の
エンドレスベルト５４との間に挟まれて搬送される。ヒ
ートドラム５２は熱源としてハロゲンランプ５１を内包
し、熱現像感光材料５５はヒートドラム５２とエンドレ
スベルト５４とに挟まれて搬送される間に、熱現像温度
まで加熱され、露光によって形成された潜像は現像され
る。その後、熱現像感光材料５５は、出口５６まで搬送
されて、ガイド板５７によって平面状に矯正され、２組
の送りローラ５８、６０によって搬送される、ガイド板
５９によって平面状に矯正されるとともに、冷却ファン
６１によって所定の温度まで冷却される。 《熱現像機４》富士写真フィルム社製の「ＦＤＳ−６１
００Ｘ」。図１に示す熱現像機と同様な構成であり、熱
現像部Ｂには画像形成層側にのみ搬送ローラ１３が配置
された構成である。また、いずれの熱現像機において
も、熱現像温度を１２１℃とし、ライン速度２５ｍｍ/
秒で処理した。

【０２５７】得られた画像について、最高濃度、階調
（２．７／（濃度３を与える露光量―濃度０．３を与え
る露光量））、濃度ムラ、物理的変形を評価した。濃度
ムラ、物理的変形ともに５段階の官能評価で行い、５を
全く問題なし、３を実用許容限界、１を実用上使用不可
とした。評価結果を下記表１に示す。

【０２５８】

【表１】

【０２５９】表１に示す結果から明らかなように、本発
明の画像形成方法によれば、最高濃度が高く硬調な画像
が得られ、しかも画像部には濃度ムラの発生がなく、且
つ物理的変形もないことがわかった。

【０２６０】

【発明の効果】本発明の画像形成方法によれば、写真製
版用、中でもスキャナーまたはイメージセッター用熱現
像感光材料を用いて、物理的な変形を生じさせることな
く、濃度ムラの発生が少なく硬調で且つ最高濃度が高い
画像を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の画像形成方法に用いられる熱現像機
の一構成例を示す概略側面図である。

【図２】 本発明の画像形成方法の比較例としての熱現
像機の一構成例を示す概略側面図である。

【符号の説明】

１０ 熱現像感光材料 １１ 搬入ローラ対 １２ 搬出ローラ対 １３ ローラ １４ 平滑面 １５ 加熱ヒータ １６ ガイド板 Ａ 予備加熱部 Ｂ 熱現像部 Ｃ 徐冷部 ６１ ハロゲンランプ ６２ ヒートドラム ６３ 送りローラ ６４ エンドレスベルト ６５ 熱現像感光材料 ６６ 出口 ６７ ガイド板 ６８ 送りローラ対 ６９ 平面ガイド板 ７０ 送りローラ対 ７１ 冷却ファン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H112 AA03 BA09 BA10 BC02 BC10 BC40 2H123 AB00 AB03 AB23 BC00 BC01 CA00 CA16 CB00 CB03 CB20

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 画像形成層とバック層とを有する熱現像
   感光材料を、７００〜８５０ｎｍの波長の光で露光し、
   予備加熱部、熱現像部および徐冷部を備えた熱現像機で
   処理する画像形成方法において、前記熱現像感光材料
   は、有機溶媒を２０質量％以上含有する塗布液を塗布し
   てなる塗布層を少なくとも１層有し、且つ前記熱現像部
   は、搬送される熱現像感光材料に対して画像形成層側お
   よびバック層側に加熱部材を備えるとともに、画像形成
   層側のみに搬送ローラを備えることを特徴とする画像形
   成方法。
2. 【請求項２】 前記熱現像感光材料は、幅５５０〜６５
   ０ｍｍおよび長さ１〜６５ｍのシート状であるととも
   に、その一部または全部が円筒形状のコア部材に画像形
   成層を外側として巻き取られていることを特徴とする請
   求項１に記載の画像形成方法。
3. 【請求項３】 前記熱現像感光材料の熱現像時の処理速
   度が２０ｍｍ/秒〜２００ｍｍ／秒であることを特徴と
   する請求項１または２に記載の画像形成方法。