JP2002296602A - Method for manufacturing liquid crystal display panel - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal display panel

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JP2002296602A
JP2002296602A JP2001103355A JP2001103355A JP2002296602A JP 2002296602 A JP2002296602 A JP 2002296602A JP 2001103355 A JP2001103355 A JP 2001103355A JP 2001103355 A JP2001103355 A JP 2001103355A JP 2002296602 A JP2002296602 A JP 2002296602A
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JP
Japan
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substrates
substrate
liquid crystal
bonding step
display panel
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JP2001103355A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Furukawa
慶一 古川
Tatsuo Taniguchi
辰雄 谷口
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing liquid crystal display panel with liquid crystal arranged between a pair of substrates capable of adhering so that these substrates are positioned in a specific relation to each other while controlling the substrates generating crinkles. SOLUTION: The manufacturing method consists of the following processes; a process in which the material for adhesion is fed onto at least one of the substrates S1 and S2; a process in which liquid crystal is fed onto one of the substrates; a process in which the substrates are temporarily adhered with the material for adhesion and liquid crystal being sandwiched in between; and a process in which the substrates are then properly and fully adhered. In the temporary adhesion process pressure is applied to the substrates at the normal temperature without heating them, and the substrates S1 and S2 are temporarily adhered under the normal temperature after positioning. The full adhesion process is conducted with application of heat and pressure to the substrates S1 and S2 after the temporary adhesion process is completely over.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板間に液晶が配
置された液晶表示パネルの製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which liquid crystals are arranged between substrates.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルにおいては、通常、第1
及び第2の一対の基板の間に液晶が配置されており、こ
れら基板は接着性を有する材料からなるシール壁などに
よって接着されている。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display panel, the first type is usually used.
A liquid crystal is disposed between the first pair of substrates and the second pair of substrates, and these substrates are adhered to each other by a seal wall made of an adhesive material.

【0003】基板としてはガラス基板が多用されている
が、最近では樹脂フィルム基板が用いられることもあ
る。基板として樹脂フィルム基板を採用すると、液晶表
示パネルの薄型化、軽量化を図ることができ、基板とし
てガラス基板を採用するときよりも基板が破損しにく
い。
[0003] As a substrate, a glass substrate is often used, but recently, a resin film substrate is sometimes used. When a resin film substrate is used as the substrate, the thickness and weight of the liquid crystal display panel can be reduced, and the substrate is less likely to be damaged than when a glass substrate is used as the substrate.

【0004】液晶表示パネルを作製するときには、液晶
やシール壁などを間に挟んで第1基板と第2基板は接着
される。例えば、第1及び第2基板に圧力や熱を加えな
がら、第1基板と第2基板を接着することが提案されて
いる。
When a liquid crystal display panel is manufactured, the first substrate and the second substrate are bonded with a liquid crystal, a seal wall, etc. therebetween. For example, it has been proposed to bond the first and second substrates while applying pressure and heat to the first and second substrates.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】液晶表示パネルを作製
するときには、良好な画像表示を行うなどのために、第
1基板と第2基板が所定の位置関係となるように、これ
ら基板を貼り合わせることが求められる。
When a liquid crystal display panel is manufactured, these substrates are bonded together so that the first substrate and the second substrate have a predetermined positional relationship in order to display a good image. Is required.

【0006】また、基板にしわができないように、これ
ら基板を貼り合わせることが求められる。基板として樹
脂フィルム基板を採用すると、第1及び(又は)第2基
板に熱を加えながらこれら基板を接着するときには、基
板にしわができてしまうことがある。基板にしわが発生
すると、基板間に空気が混入するなどの不具合が生じ
る。
Further, it is required to bond these substrates so that the substrates cannot be wrinkled. When a resin film substrate is used as a substrate, when the first and / or second substrates are bonded while applying heat thereto, the substrates may be wrinkled. When wrinkles occur in the substrates, problems such as air mixing between the substrates occur.

【0007】そこで本発明は、一対の基板の間に液晶が
配置された液晶表示パネルの製造方法であって、これら
基板にしわが発生するのを抑制しながら、これら基板を
接着することができる液晶表示パネルの製造方法を提供
する。
Therefore, the present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which liquid crystal is arranged between a pair of substrates, and a liquid crystal display panel capable of adhering these substrates while suppressing wrinkling of the substrates. Provided is a method for manufacturing a display panel.

【0008】また、本発明は、第1及び第2の一対の基
板の間に液晶が配置された液晶表示パネルの製造方法で
あって、第1基板と第2基板が所定の位置関係となるよ
うに、これら基板を接着することができる液晶表示パネ
ルの製造方法を提供することを課題とする。
The present invention is also a method of manufacturing a liquid crystal display panel in which liquid crystal is disposed between a first and a second pair of substrates, wherein the first substrate and the second substrate have a predetermined positional relationship. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display panel to which these substrates can be bonded.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】[1] 前記課題を解決
するために本発明は、第1基板と第2基板の間に液晶が
配置された液晶表示パネルの製造方法であって、前記第
1及び第2基板のうちの少なくとも一方の基板の上に接
着材料を供給する接着材料供給工程と、前記第1及び第
2基板のうちの少なくとも一方の基板の上に液晶を供給
する液晶供給工程と、前記接着材料及び前記液晶を間に
挟んで、前記第1基板と前記第2基板を仮接着する仮接
着工程と、前記接着材料及び前記液晶を間に挟んで、前
記第1基板と前記第2基板を本接着する本接着工程とを
含んでおり、前記本接着工程は前記仮接着工程が終了し
た後に行われ、前記仮接着工程と前記本接着工程では前
記第1及び(又は)第2基板に加える熱が異なることを
特徴とする液晶表示パネルの製造方法を提供する。 [1−1] 本発明の製造方法は、第1基板と第2基板
の間に液晶が配置された液晶表示パネルを作製するため
のものである。
Means for Solving the Problems [1] In order to solve the above problems, the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which a liquid crystal is arranged between a first substrate and a second substrate. An adhesive material supplying step of supplying an adhesive material onto at least one of the first and second substrates, and a liquid crystal supplying step of supplying liquid crystal onto at least one of the first and second substrates A temporary bonding step of temporarily bonding the first substrate and the second substrate with the adhesive material and the liquid crystal interposed therebetween; and the first substrate and the first substrate with the adhesive material and the liquid crystal interposed therebetween. And a final bonding step of permanently bonding the second substrate. The final bonding step is performed after the temporary bonding step is completed. In the temporary bonding step and the final bonding step, the first and / or second bonding is performed. Liquid crystal display characterized by different heats applied to two substrates Provided is a method for manufacturing a panel. [1-1] The manufacturing method of the present invention is for manufacturing a liquid crystal display panel in which a liquid crystal is arranged between a first substrate and a second substrate.

【0010】本発明の製造方法は、接着材料供給工程、
液晶供給工程、仮接着工程及び本接着工程を含んでい
る。以下、各工程について順に説明する。 (a)接着材料供給工程 接着材料供給工程においては、第1及び第2基板のうち
の少なくとも一方の基板上に接着材料を供給する。
[0010] The production method of the present invention comprises an adhesive material supply step,
It includes a liquid crystal supply step, a temporary bonding step, and a main bonding step. Hereinafter, each step will be described in order. (A) Adhesive material supply step In the adhesive material supply step, an adhesive material is supplied onto at least one of the first and second substrates.

【0011】基板上に供給する接着材料によって、仮接
着工程において第1基板と第2基板を仮接着し、本接着
工程において第1基板と第2基板を本接着する。したが
って、接着材料供給工程は仮接着工程及び本接着工程の
前に行う。
In the temporary bonding step, the first substrate and the second substrate are temporarily bonded by the bonding material supplied onto the substrate, and in the final bonding step, the first substrate and the second substrate are fully bonded. Therefore, the bonding material supply step is performed before the temporary bonding step and the main bonding step.

【0012】接着材料は、例えば、熱硬化型樹脂、紫外
線硬化型樹脂等とすればよい。
The adhesive material may be, for example, a thermosetting resin, an ultraviolet curing resin, or the like.

【0013】基板上に供給する接着材料によって、例え
ば、第1及び第2基板の間から液晶が漏れ出ないように
シールするためのシール壁を形成すればよい。シール壁
は、、最終的には、第1基板と第2基板の間に配置され
る液晶を囲むように、第1基板と第2基板の間に設けれ
ばよい。このように接着材料によってシール壁を形成す
る場合には、その接着材料としては、例えば接着性を有
するシール材料を使用すればよい。
For example, a sealing wall for sealing the liquid crystal from leaking from between the first and second substrates may be formed by the adhesive material supplied onto the substrate. The seal wall may be finally provided between the first substrate and the second substrate so as to surround the liquid crystal disposed between the first substrate and the second substrate. When the sealing wall is formed with the adhesive material as described above, for example, an adhesive sealing material may be used as the adhesive material.

【0014】基板上に供給する接着材料によって、1又
は2以上の柱状構造物を形成してもよい。柱状構造物
は、第1基板と第2基板の間に配置して、第1基板と第
2基板を接着するために設ければよい。柱状構造物に
は、接着機能の他に、例えば、液晶表示パネル全体の強
度を高める機能や、第1基板と第2基板の間のギャップ
を制御する機能を持たせてもよい。柱状構造物の断面形
状はどのようなものでもよく、例えば円形、楕円形、四
角形等にすればよい。柱状構造物は表示領域に配置して
もよい。柱状構造物を表示領域に配置する場合には、柱
状構造物の材料(接着材料)は、表示品質を低下させな
いために透明であることが好ましい。柱状構造物は、例
えば、接着性を有する樹脂によって形成すればよい。
One or more columnar structures may be formed by the adhesive material supplied on the substrate. The columnar structure may be provided between the first substrate and the second substrate and provided for bonding the first substrate and the second substrate. In addition to the bonding function, for example, the columnar structure may have a function of increasing the strength of the entire liquid crystal display panel or a function of controlling the gap between the first substrate and the second substrate. The cross-sectional shape of the columnar structure may be any shape, for example, a circular shape, an elliptical shape, a square shape, or the like. The columnar structure may be arranged in the display area. When the columnar structure is arranged in the display area, the material of the columnar structure (adhesive material) is preferably transparent so as not to lower the display quality. The columnar structure may be formed of, for example, an adhesive resin.

【0015】接着材料によって、シール壁及び柱状構造
物のうちのいずれか一方だけを形成してもよく、双方を
形成してもよい。なお、シール壁を形成するための接着
材料と、柱状構造物を形成するための接着材料は同じも
のでもよく、異なるものでもよい。
According to the adhesive material, only one of the seal wall and the columnar structure may be formed, or both may be formed. The adhesive material for forming the seal wall and the adhesive material for forming the columnar structure may be the same or different.

【0016】接着材料によってシール壁や柱状構造物な
どを形成する場合には、その接着材料は基板上に例えば
所定形状に配設すればよい。例えば、ペースト状の接着
材料(例えば、接着材料を溶剤に溶かしたもの)を、ス
クリーン版やメタルマスク等を介してスキージで基板上
に押し出す印刷法で、接着材料を基板上に所定形状に配
設することができる。ディスペンサ法やインクジェット
法などを利用して、接着材料をノズルの先から基板上に
吐出することでも、基板上に接着材料を所定形状に配設
することができる。接着材料を平板又はローラ上に供給
した後、基板上に転写する転写法でも、基板上に所定形
状に接着材料を配設することができる。 (b)液晶供給工程 液晶供給工程においては、第1及び第2基板のうちの少
なくとも一方の基板上に液晶(液晶組成物)を供給す
る。代表的には、第1及び第2基板のうちのいずれか一
方の基板上に液晶を供給すればよい。
When a sealing wall, a columnar structure, or the like is formed by an adhesive material, the adhesive material may be disposed on the substrate in a predetermined shape, for example. For example, the adhesive material is arranged in a predetermined shape on the substrate by a printing method in which a paste-like adhesive material (for example, a material obtained by dissolving the adhesive material in a solvent) is extruded onto the substrate with a squeegee via a screen plate or a metal mask. Can be set up. The adhesive material can be disposed on the substrate in a predetermined shape by discharging the adhesive material onto the substrate from the tip of the nozzle by using a dispenser method, an inkjet method, or the like. Even in a transfer method in which the adhesive material is supplied onto a flat plate or a roller and then transferred onto a substrate, the adhesive material can be provided in a predetermined shape on the substrate. (B) Liquid crystal supply step In the liquid crystal supply step, a liquid crystal (liquid crystal composition) is supplied onto at least one of the first and second substrates. Typically, the liquid crystal may be supplied onto one of the first and second substrates.

【0017】液晶供給工程は、例えば、仮接着工程及び
本接着工程の前に行う。
The liquid crystal supply step is performed, for example, before the temporary bonding step and the main bonding step.

【0018】基板上に供給する液晶は、最終的には第1
基板と第2基板の間に層状に配置される。
The liquid crystal to be supplied on the substrate is finally the first liquid crystal.
It is arranged in layers between the substrate and the second substrate.

【0019】液晶供給工程においては、最終的に液晶が
配置されるべき基板領域の全領域に液晶を供給してもよ
く、その基板領域の一部の領域だけに液晶を供給しても
よい。 (c)仮接着工程 仮接着工程においては、基板上に供給されている接着材
料及び液晶を間に挟んで、第1基板と第2基板を仮接着
する。
In the liquid crystal supply step, the liquid crystal may be supplied to the entire substrate region where the liquid crystal is to be finally disposed, or the liquid crystal may be supplied to only a part of the substrate region. (C) Temporary bonding step In the temporary bonding step, the first substrate and the second substrate are temporarily bonded with the bonding material and liquid crystal supplied on the substrate interposed therebetween.

【0020】接着材料供給工程において予め基板上に供
給されている接着材料によって、第1基板と第2基板を
仮接着する。
In the adhesive material supplying step, the first substrate and the second substrate are temporarily bonded with the adhesive material previously supplied onto the substrate.

【0021】仮接着工程においては、第1基板と第2基
板を仮接着する。ここで、仮接着とは、本接着に先立っ
て行う接着のことである。典型的には、仮接着状態では
接着が不完全な状態とされ、接着状態が最終的に得よう
とする接着強度に達していない状態とされる。接着材料
として例えば熱硬化性樹脂を用いている場合には、例え
ばその接着材料に熱を与えず未硬化のままとしたり、熱
を与えたとしても硬化が不完全で接着状態が最終的に得
ようとする接着強度に達していないようにしたりする。
In the temporary bonding step, the first substrate and the second substrate are temporarily bonded. Here, the temporary bonding is bonding performed prior to the main bonding. Typically, in the temporary bonding state, the bonding is incomplete, and the bonding state does not reach the bonding strength to be finally obtained. For example, when a thermosetting resin is used as an adhesive material, for example, the adhesive material is left uncured without applying heat, or even if heat is applied, the curing is incomplete and a bonded state is finally obtained. For example, the desired adhesive strength may not be reached.

【0022】仮接着工程は、例えば、第1及び第2基板
に所定の圧力を加えながら行えばよい。圧力は、第1基
板と第2基板が互いに近づくように、これら基板に加え
ればよい。
The temporary bonding step may be performed, for example, while applying a predetermined pressure to the first and second substrates. The pressure may be applied to the first substrate and the second substrate so that they approach each other.

【0023】仮接着工程は、第1及び第2基板の一方の
端部から他方の端部へ順に所定の圧力を加えながら行っ
てもよい。具体的に言うと、例えば、第1及び第2基板
のうちの少なくとも一方の基板を保持するための平面テ
ーブルに対して、加圧ローラを相対的に移動させること
で、第1及び第2基板の一方の端部から他方の端部へ順
に所定の圧力を加えながら仮接着工程を行ってもよい。
このように第1及び第2基板の一方の端部から他方の端
部へ順に圧力を加えながら、第1及び第2基板を仮接着
することで、これら基板の間の空気(例えば液晶中の空
気)を押し出しながら第1基板と第2基板を仮接着する
ことができ、基板間に空気が残留してしまうことを抑制
することができる。
The temporary bonding step may be performed while sequentially applying a predetermined pressure from one end of the first and second substrates to the other end. Specifically, for example, by moving a pressure roller relatively to a flat table for holding at least one of the first and second substrates, the first and second substrates are moved. The temporary bonding step may be performed while applying a predetermined pressure sequentially from one end to the other end.
By temporarily bonding the first and second substrates while sequentially applying pressure from one end to the other end of the first and second substrates, the air between these substrates (for example, The first substrate and the second substrate can be temporarily bonded while extruding (air), so that air can be prevented from remaining between the substrates.

【0024】仮接着工程においては、加える圧力によっ
て、基板上に供給されている液晶を押し広げながら、第
1基板と第2基板を仮接着してもよい。
In the temporary bonding step, the first substrate and the second substrate may be temporarily bonded while spreading the liquid crystal supplied on the substrate by the applied pressure.

【0025】仮接着工程においては、代表的には、第1
基板と第2基板を所定の位置関係になるようにこれら基
板を仮接着すればよい。つまり、代表的には、仮接着工
程の前に、第1基板と第2基板が所定の位置関係となる
ように、これら基板の位置合わせを行っておけばよい。
この位置合わせは、代表的には、第1及び第2基板が常
温であるときに行えばよい。 (d)本接着工程 本接着工程においては、接着材料及び液晶を間に挟ん
で、第1基板と第2基板を本接着する。
In the temporary bonding step, typically, the first
What is necessary is just to temporarily bond these substrates so that the substrate and the second substrate have a predetermined positional relationship. That is, typically, prior to the temporary bonding step, the first substrate and the second substrate may be aligned so that they have a predetermined positional relationship.
Typically, this alignment may be performed when the first and second substrates are at room temperature. (D) Final bonding step In the final bonding step, the first substrate and the second substrate are fully bonded with the bonding material and the liquid crystal interposed therebetween.

【0026】本接着工程においては、第1基板と第2基
板を本接着する。ここで、本接着とは、仮接着の後に行
う接着のことである。典型的には、仮接着状態よりも接
着強度が高い状態とされ、接着状態が最終的に得ようと
する接着強度に達するかこの接着強度に近い状態とされ
る。接着材料として例えば熱硬化型樹脂を用いている場
合には、熱を加えることで、その接着材料の硬化度を仮
硬化状態よりも進行させ、接着状態が最終的に得ようと
する接着強度に達するかこれに近い接着強度を持つ硬化
度まで硬化させる。
In the final bonding step, the first substrate and the second substrate are fully bonded. Here, the actual bonding is bonding performed after the temporary bonding. Typically, the bonding strength is higher than the temporary bonding state, and the bonding state reaches or is close to the bonding strength to be finally obtained. For example, when a thermosetting resin is used as the adhesive material, by applying heat, the degree of curing of the adhesive material is advanced from the temporarily cured state, and the adhesive state is finally increased to an adhesive strength to be obtained. It is cured to a degree of cure that has reached or is close to this.

【0027】本接着工程は、例えば、第1及び第2基板
に所定の圧力を加えながら行えばよい。圧力は、第1基
板と第2基板が互いに近づくように、これら基板に加え
ればよい。
The final bonding step may be performed, for example, while applying a predetermined pressure to the first and second substrates. The pressure may be applied to the first substrate and the second substrate so that they approach each other.

【0028】このように第1及び第2基板に圧力を加え
ながら本接着工程を行う場合には、その圧力は例えば第
1及び第2基板の一方の端部から他方の端部へ順に加え
ればよい。例えば、第1及び第2基板のうちの少なくと
も一方の基板を保持するための平面テーブルに対して、
加圧ローラを相対的に移動させることで、第1及び第2
基板の一方の端部から他方の端部へ順に所定の圧力を加
えることができる。互いに対向する第1及び第2の加圧
ローラの間を第1及び第2基板を通過させることでも、
第1及び第2基板の一方の端部から他方の端部へ順に所
定の圧力を加えることができる。
In the case where the main bonding step is performed while applying pressure to the first and second substrates as described above, the pressure may be applied in order from one end of the first and second substrates to the other end. Good. For example, with respect to a flat table for holding at least one of the first and second substrates,
By relatively moving the pressure roller, the first and second
A predetermined pressure can be applied in order from one end of the substrate to the other end. By passing the first and second substrates between the first and second pressure rollers facing each other,
A predetermined pressure can be sequentially applied from one end of the first and second substrates to the other end.

【0029】本接着工程は、第1及び第2基板に圧力だ
けでなく、所定の熱を加えながら行ってもよい。第1及
び第2基板に熱及び圧力を加えながら本接着工程を行う
場合には、その熱及び圧力は例えば第1及び第2基板の
一方の端部から他方の端部へ順に加えればよい。例え
ば、第1及び第2基板のうちの少なくとも一方の基板を
保持するための平面テーブルに対して、加熱加圧ローラ
を相対的に移動させることで、第1及び第2基板の一方
の端部から他方の端部へ順に所定の熱及び圧力を加える
ことができる。この場合、平面テーブルにも加熱装置
(例えばヒータ)を設けておき、平面テーブル側からも
第1及び第2基板に熱を加えてもよい。互いに対向する
第1及び第2の加熱加圧ローラの間を第1及び第2基板
を通過させることでも、第1及び第2基板の一方の端部
から他方の端部へ順に所定の熱及び圧力を加えることが
できる。
The main bonding step may be performed while applying not only pressure but also predetermined heat to the first and second substrates. When performing the main bonding step while applying heat and pressure to the first and second substrates, the heat and pressure may be applied in order from one end of the first and second substrates to the other end, for example. For example, by moving a heating and pressing roller relatively to a flat table for holding at least one of the first and second substrates, one end of the first and second substrates is moved. And predetermined heat and pressure can be applied in order from the other end. In this case, a heating device (for example, a heater) may be provided on the flat table, and heat may be applied to the first and second substrates also from the flat table. By passing the first and second substrates between the first and second heating and pressing rollers facing each other, predetermined heat and heat are sequentially applied from one end of the first and second substrates to the other end. Pressure can be applied.

【0030】第1及び第2基板に圧力を加えながら本接
着工程を行う場合には、圧力は第1及び第2基板の圧力
を加えるべき部分の全面に一時に加えてもよい。同様
に、第1及び第2基板に熱を加えながら本接着工程を行
う場合には、熱は第1及び第2基板の熱を加えるべき部
分の全面に一時に加えてもよい。 [1−2] 本発明の製造方法においては、本接着工程
は仮接着工程が完全に終了した後に行われる。つまり、
仮接着工程を行いながら本接着工程を行うということは
しない。仮接着工程を例えば前述のように第1及び第2
基板の一方の端部(第1端部)から他方の端部(第2端
部)へ順に圧力を加えながら行う場合には、少なくとも
第2端部に圧力をかけ終わってから、本接着工程を開始
する。
In the case where the main bonding step is performed while applying pressure to the first and second substrates, the pressure may be applied to the entire surface of the portion of the first and second substrates to which pressure is to be applied at one time. Similarly, when performing the main bonding process while applying heat to the first and second substrates, the heat may be applied to the entire surface of the portion of the first and second substrates to which heat is to be applied at one time. [1-2] In the manufacturing method of the present invention, the main bonding step is performed after the temporary bonding step is completely completed. That is,
It does not mean that the final bonding step is performed while the temporary bonding step is performed. The temporary bonding step is performed by, for example, the first and second
In the case where pressure is applied sequentially from one end (first end) to the other end (second end) of the substrate, the pressure is applied to at least the second end before the final bonding step. To start.

【0031】また、本発明の製造方法においては、仮接
着工程と本接着工程では第1及び(又は)第2基板に加
える熱が異なっている。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the heat applied to the first and / or second substrate differs between the temporary bonding step and the main bonding step.

【0032】代表的には、仮接着工程は第1及び第2基
板が常温の状態で行われ、本接着工程は第1及び(又
は)第2基板を加熱しながら行われる。つまり、代表的
には、仮接着工程においては第1及び第2基板のいずれ
にも熱を加えずに、第1及び第2基板が常温の状態で行
い、本接着工程においては第1及び(又は)第2基板を
加熱しながら行う。
Typically, the temporary bonding step is performed while the first and second substrates are at room temperature, and the main bonding step is performed while heating the first and / or second substrate. That is, typically, in the temporary bonding step, the first and second substrates are not subjected to heat, and the first and second substrates are kept at room temperature, and in the final bonding step, the first and ( Or) while heating the second substrate.

【0033】このようにして液晶表示パネルを作製する
ことで次の利点がある。
Manufacturing the liquid crystal display panel in this manner has the following advantages.

【0034】仮接着工程は第1及び第2基板のいずれに
も熱を加えずに行うため、これら基板が熱膨張すること
なしに、第1基板と第2基板を仮接着することができ
る。したがって、第1基板と第2基板が所定の位置関係
になるように位置合わせをしてから、これら基板を仮接
着することで、第1基板と第2基板が所定の位置関係と
なるようにこれら基板を仮接着することができる。位置
合わせを第1及び第2基板が常温の状態で行うことで、
位置合わせの後に基板が熱膨張したり、収縮することに
よる第1基板と第2基板の間の位置関係のずれを抑制す
ることができる。
Since the temporary bonding step is performed without applying heat to both the first and second substrates, the first substrate and the second substrate can be temporarily bonded without thermal expansion of these substrates. Therefore, the first substrate and the second substrate are aligned so as to have a predetermined positional relationship, and then these substrates are temporarily bonded, so that the first substrate and the second substrate have a predetermined positional relationship. These substrates can be temporarily bonded. By performing the alignment in a state where the first and second substrates are at room temperature,
The displacement of the positional relationship between the first substrate and the second substrate due to thermal expansion or contraction of the substrate after the alignment can be suppressed.

【0035】この後、第1及び(又は)第2基板に熱を
加えながらこれら基板を本接着しても、仮接着工程が完
全に終了しているため、つまり、第1基板と第2基板の
全体が既に仮接着されているため、仮接着されている第
1基板と第2基板の位置関係がずれてしまうことを抑制
できる。第1及び(又は)第2基板が多少熱膨張して
も、仮接着されている第1基板と第2基板の位置関係が
ずれてしまうことを抑制できる。したがって、第1基板
と第2基板が所定の位置関係となるように位置合わせを
してから、これら基板を仮接着しておくことで、第1基
板と第2基板の間の所定の位置関係を維持したまま、こ
れら基板を本接着することができる。
Thereafter, even if the first and / or second substrates are fully bonded while applying heat, the temporary bonding process is completely completed, that is, the first substrate and the second substrate are bonded. Is temporarily bonded, the positional relationship between the first substrate and the second substrate that are temporarily bonded can be suppressed. Even if the first and / or the second substrate expands somewhat, the positional relationship between the temporarily bonded first substrate and the second substrate can be suppressed. Therefore, the first substrate and the second substrate are aligned so as to have a predetermined positional relationship, and then these substrates are temporarily bonded, so that the predetermined positional relationship between the first substrate and the second substrate is obtained. While these conditions are maintained, these substrates can be fully bonded.

【0036】また、第1及び(又は)第2基板に熱を加
えながらこれら基板を本接着しても、第1基板と第2基
板の全体が既に仮接着されているため、第1及び(又
は)第2基板にしわが発生するのを抑制することができ
る。
Further, even if the first and / or second substrates are fully bonded while applying heat, the first and second substrates are already temporarily bonded, so that the first and / or second substrates are already bonded. Or) The generation of wrinkles on the second substrate can be suppressed.

【0037】第1及び(又は)第2基板に熱を加えなが
ら本接着工程を行うときには、その熱によって第1基板
と第2基板の位置関係がずれたり、基板にしわが発生す
るのを抑制するなどのために、第1基板と第2基板の全
面にわたって、且つ、接着面積がなるべく大きくなるよ
うに、本接着前にはこれら基板が接着材料によって仮接
着するようにしてもよい。基板上に供給する接着材料に
よって例えば表示領域を含む領域に複数の柱状構造物を
形成して、上記のように第1基板と第2基板を仮接着す
るようにしてもよい。 [1−3]以下、本発明の製造方法についてさらに説明
する。 (a) 仮接着工程の後であって本接着工程の前に、第
1及び(又は)第2基板の予備加熱を行ってもよい。予
備加熱を行うことで、効率良く本接着工程を行うことが
できる。予備加熱は、例えば、赤外線ランプヒータ等の
輻射熱によって行えばよい。 (b) 仮接着工程及び本接着工程のいずれの工程も、
第1及び第2基板に圧力を加えながら行う場合には、仮
接着工程において加える圧力と、本接着工程において加
える圧力は、同じでもよいし、異なっていてもよい。例
えば、仮接着工程において第1及び第2基板に加える圧
力は、本接着工程において第1及び第2基板に加える圧
力よりも小さくしてもよい。 (c) 仮接着工程を行った後であって、本接着工程を
開始する前には、接着材料と液晶は通常は接触してして
いる。また、この段階においては接着材料にもよるが接
着材料は硬化していない。未硬化の接着材料(例えばシ
ール壁を構成するシール材料)と液晶が接触することに
よる液晶の劣化を抑制するために、仮接着工程を行った
後速やかに本接着工程を行うことが好ましい。 (d) 本発明の製造方法は、第1及び第2基板のうち
の少なくとも一方の基板として例えば樹脂フィルム基板
を用いる場合に特に有用である。なお、樹脂フィルム基
板を採用することで、ガラス基板を採用するときより
も、基板の破損を抑制でき、液晶表示パネルの薄型化、
軽量化を図れる。 (e) 本発明の製造方法により作製する液晶表示パネ
ルにおいては、液晶表示パネルを駆動して表示を行うた
めに、代表的には、第1及び第2基板上にそれぞれ電極
を形成しておけばよい。
When performing the main bonding step while applying heat to the first and / or second substrate, the heat suppresses the positional relationship between the first substrate and the second substrate and the occurrence of wrinkles in the substrate. For this reason, these substrates may be temporarily bonded with an adhesive material before the actual bonding so that the bonding area is as large as possible over the entire surface of the first substrate and the second substrate. For example, a plurality of columnar structures may be formed in a region including a display region with an adhesive material supplied on the substrate, and the first substrate and the second substrate may be temporarily bonded as described above. [1-3] Hereinafter, the production method of the present invention will be further described. (A) The pre-heating of the first and / or second substrate may be performed after the temporary bonding step and before the main bonding step. By performing the preheating, the actual bonding step can be efficiently performed. The preheating may be performed, for example, by radiant heat from an infrared lamp heater or the like. (B) In both the temporary bonding step and the final bonding step,
When the pressure is applied to the first and second substrates while applying the pressure, the pressure applied in the temporary bonding step and the pressure applied in the main bonding step may be the same or different. For example, the pressure applied to the first and second substrates in the temporary bonding step may be smaller than the pressure applied to the first and second substrates in the main bonding step. (C) The adhesive material and the liquid crystal are usually in contact with each other after the temporary bonding step and before the main bonding step is started. At this stage, the adhesive material has not been cured though it depends on the adhesive material. In order to suppress the deterioration of the liquid crystal due to the contact of the liquid crystal with the uncured adhesive material (for example, the seal material forming the seal wall), it is preferable to perform the final bonding step immediately after performing the temporary bonding step. (D) The manufacturing method of the present invention is particularly useful when, for example, a resin film substrate is used as at least one of the first and second substrates. In addition, by using a resin film substrate, the breakage of the substrate can be suppressed more than when a glass substrate is used, and the liquid crystal display panel can be made thinner,
The weight can be reduced. (E) In a liquid crystal display panel manufactured by the manufacturing method of the present invention, typically, electrodes are formed on the first and second substrates in order to drive the liquid crystal display panel to perform display. I just need.

【0038】電極は、例えば、液晶表示パネルを単純マ
トリクス駆動又はアクティブマトリクス駆動するための
ものとすればよい。
The electrodes may be, for example, those for driving the liquid crystal display panel by simple matrix driving or active matrix driving.

【0039】また、必要に応じて、第1及び(又は)第
2基板上には、絶縁膜、配向膜、ガスバリア膜等を形成
しておいてもよい。
If necessary, an insulating film, an alignment film, a gas barrier film and the like may be formed on the first and / or second substrate.

【0040】電極等は、接着材料供給工程及び液晶材料
供給工程の前に基板上に形成しておけばよい。 (f) 本発明の製造方法により作製する液晶表示パネ
ルにおいては、第1基板と第2基板の間のギャップを制
御するために、第1基板と第2基板の間に1又は2以上
のスペーサを配置してもよい。
The electrodes and the like may be formed on the substrate before the adhesive material supply step and the liquid crystal material supply step. (F) In the liquid crystal display panel manufactured by the manufacturing method of the present invention, one or more spacers are provided between the first substrate and the second substrate in order to control the gap between the first substrate and the second substrate. May be arranged.

【0041】このようなスペーサを第1基板と第2基板
の間に配置する場合には、スペーサは例えば第1基板と
第2基板を仮接着する前に、第1及び第2基板のうちの
少なくとも一方の基板上に散布しておけばよい。
When such a spacer is arranged between the first substrate and the second substrate, the spacer may be, for example, the one of the first and second substrates before the first substrate and the second substrate are temporarily bonded. What is necessary is just to spray on at least one board | substrate.

【0042】或いは、液晶材料供給工程において基板上
に供給する液晶中にスペーサを分散させておいてもよ
い。 (g) 仮接着工程は液晶供給工程を行った後に行って
もよいが、仮接着工程と液晶供給工程は並行して行って
もよい。
Alternatively, spacers may be dispersed in the liquid crystal supplied onto the substrate in the liquid crystal material supply step. (G) The temporary bonding step may be performed after the liquid crystal supply step is performed, but the temporary bonding step and the liquid crystal supply step may be performed in parallel.

【0043】例えば、第1基板と第2基板をこれらの一
方の端部から他方の端部に順に加圧しながら仮接着する
場合には、第1基板と第2基板の間に液晶を供給しなが
ら、第1基板と第2基板を仮接着してもよい。 (h) 液晶供給工程において基板上に供給する液晶
(液晶組成物)は、例えば、コレステリック相を示す液
晶(例えば、室温でコレステリック相を示す液晶)を含
む液晶組成物とすればよい。コレステリック相を示す液
晶は、液晶のヘリカルピッチに応じた波長の光を選択的
に反射する。そのため、コレステリック相を示す液晶が
基板間に配置された液晶表示パネルは、反射型の液晶表
示パネルとして利用できる。
For example, when the first substrate and the second substrate are temporarily bonded while being sequentially pressed from one end to the other end, a liquid crystal is supplied between the first substrate and the second substrate. Alternatively, the first substrate and the second substrate may be temporarily bonded. (H) The liquid crystal (liquid crystal composition) supplied onto the substrate in the liquid crystal supply step may be, for example, a liquid crystal composition including a liquid crystal exhibiting a cholesteric phase (eg, a liquid crystal exhibiting a cholesteric phase at room temperature). Liquid crystals exhibiting a cholesteric phase selectively reflect light having a wavelength corresponding to the helical pitch of the liquid crystal. Therefore, a liquid crystal display panel in which liquid crystals exhibiting a cholesteric phase are arranged between substrates can be used as a reflective liquid crystal display panel.

【0044】コレステリック相を示す液晶としては、例
えば、それ自体がコレステリック相を示すコレステリッ
ク液晶や、ネマティック液晶にカイラル材料を添加した
カイラルネマティック液晶などを採用すればよい。カイ
ラルネマティック液晶は、カイラル材料の添加量によっ
て、ヘリカルピッチを調整でき、選択反射波長を簡単に
調整できる利点がある。
As the liquid crystal exhibiting a cholesteric phase, for example, a cholesteric liquid crystal exhibiting a cholesteric phase itself, or a chiral nematic liquid crystal obtained by adding a chiral material to a nematic liquid crystal may be used. The chiral nematic liquid crystal has an advantage that the helical pitch can be adjusted by the amount of the chiral material added, and the selective reflection wavelength can be easily adjusted.

【0045】[0045]

【発明の実施の形態】[3]以下、本発明の実施の形態
を図面を参照して説明する。
[3] Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0046】本発明に係る製造方法により作製すること
ができる液晶表示パネルの一例の概略断面図及び概略平
面図をそれぞれ図1及び図2に示す。
FIGS. 1 and 2 are a schematic sectional view and a schematic plan view, respectively, of an example of a liquid crystal display panel that can be manufactured by the manufacturing method according to the present invention.

【0047】図1及び図2の液晶表示パネルDP1は、
反射型の液晶表示パネルである。液晶表示パネルDP1
による表示は、図1において表示パネルDP1の上側か
ら観察する。
The liquid crystal display panel DP1 shown in FIGS.
This is a reflective liquid crystal display panel. Liquid crystal display panel DP1
Is observed from above the display panel DP1 in FIG.

【0048】液晶表示パネルDP1は透明基板S1とS
2を有しており、これら基板の間には液晶LCが配置さ
れている。
The liquid crystal display panel DP1 comprises transparent substrates S1 and S
2, and a liquid crystal LC is arranged between these substrates.

【0049】基板S1及びS2は、本例では、いずれも
ポリカーボネイト(PC)からなるフィルム基板であ
る。
In this embodiment, the substrates S1 and S2 are both film substrates made of polycarbonate (PC).

【0050】基板S1の基板S2に臨む側の面上には、
本例では、電極E1、絶縁膜IS1、配向膜O1が順に
形成されている。
On the surface of the substrate S1 on the side facing the substrate S2,
In this example, an electrode E1, an insulating film IS1, and an alignment film O1 are sequentially formed.

【0051】また、基板S2の基板S1に臨む側の面上
には、本例では、電極E2、絶縁膜IS2、配向膜O2
が形成されている。基板S2の観察側から遠い側の面に
は、黒色の光吸収膜ABが形成されている。
In this embodiment, on the surface of the substrate S2 facing the substrate S1, the electrode E2, the insulating film IS2, and the alignment film O2 are provided.
Are formed. A black light absorbing film AB is formed on a surface of the substrate S2 on a side far from the observation side.

【0052】電極E1とE2は、本例では、液晶表示パ
ネルDP1を単純マトリクス駆動するためのものであ
る。電極E1は、所定ピッチで平行に並んだ複数の帯状
電極を含んでいる。電極E2も、所定ピッチで平行に並
んだ複数の帯状電極を含んでいる。電極E1の帯状電極
と、電極E2の帯状電極は互いに直交する方向に延びて
いる。電極E1及びE2は本例ではいずれもITOから
なる。
The electrodes E1 and E2 are for driving the liquid crystal display panel DP1 in a simple matrix in this example. The electrode E1 includes a plurality of strip electrodes arranged in parallel at a predetermined pitch. The electrode E2 also includes a plurality of strip electrodes arranged in parallel at a predetermined pitch. The strip electrode of the electrode E1 and the strip electrode of the electrode E2 extend in directions orthogonal to each other. The electrodes E1 and E2 are both made of ITO in this example.

【0053】基板S1の上には、アライメントマークM
1が二つ形成されている。同様に、基板S2の上にも、
アライメントマークM2が二つ形成されている。これら
アライメントマークは、基板S1とS2を貼り合わせる
ときに、これら基板の位置関係を所定の位置関係に調整
するために設けられている。アライメントマークM1及
びM2は、本例では、いずれも電極材料と同じITOか
らなる。
On the substrate S1, an alignment mark M
Two 1 are formed. Similarly, on the substrate S2,
Two alignment marks M2 are formed. These alignment marks are provided for adjusting the positional relationship between the substrates S1 and S2 to a predetermined positional relationship when the substrates are bonded. In this example, the alignment marks M1 and M2 are both made of the same ITO as the electrode material.

【0054】基板S1とS2の間に配置された液晶(液
晶組成物)LCは、本例では、室温でコレステリック相
を示すカイラルネマティック液晶組成物である。液晶L
Cは、可視光領域に選択反射波長を有している。
The liquid crystal (liquid crystal composition) LC disposed between the substrates S1 and S2 is, in this example, a chiral nematic liquid crystal composition exhibiting a cholesteric phase at room temperature. Liquid crystal L
C has a selective reflection wavelength in the visible light region.

【0055】基板S1とS2の間には、液晶LC以外に
も、シール壁SW、複数の柱状構造物CS及び複数のス
ペーサSPが配置されている。
A seal wall SW, a plurality of columnar structures CS, and a plurality of spacers SP are disposed between the substrates S1 and S2, in addition to the liquid crystal LC.

【0056】スペーサSPは、基板S1とS2の間のギ
ャップを各部において均一に保つために、基板S1とS
2の間に配置されている。
The spacer SP is used to keep the gap between the substrates S1 and S2 uniform at each part.
2 between the two.

【0057】シール壁SWは、液晶LCを囲む位置に環
状に設けられている。シール壁SWは、基板S1とS2
のいずれにも接着している。シール壁SWによって、基
板S1とS2の間から液晶LCが漏れ出ることが防止さ
れている。
The seal wall SW is provided annularly at a position surrounding the liquid crystal LC. The sealing wall SW is composed of the substrates S1 and S2.
Adhered to both. The seal wall SW prevents the liquid crystal LC from leaking from between the substrates S1 and S2.

【0058】柱状構造物CSは、表示領域を含む領域に
形成されている。柱状構造物CSは、基板S1とS2の
いずれにも接着している。柱状構造物CSは、基板S1
とS2を接着し、基板S1とS2の間のギャップを保
ち、液晶表示パネルDP1全体の強度を高めるなどのた
めに設けられている。
The columnar structure CS is formed in a region including the display region. The columnar structure CS is bonded to both the substrates S1 and S2. The columnar structure CS is a substrate S1.
And S2 are adhered to maintain a gap between the substrates S1 and S2 and to increase the strength of the entire liquid crystal display panel DP1.

【0059】このように液晶表示パネルDP1において
は、シール壁SW及び柱状構造物CSによって基板S1
とS2は互いに接着している。 [4] 以下、液晶表示パネルDP1を作製するときの
製造方法について、図3のフローチャートを参照しなが
ら説明する。 (a)準備工程 準備工程においては、基板S1とS2を準備する。本例
では、PCフィルムを基板S1及びS2として利用す
る。 (b)機能膜形成工程 機能膜形成工程においては、基板S1とS2上にそれぞ
れ所定の機能膜を形成する。
As described above, in the liquid crystal display panel DP1, the substrate S1 is formed by the seal wall SW and the columnar structure CS.
And S2 are adhered to each other. [4] Hereinafter, a method of manufacturing the liquid crystal display panel DP1 will be described with reference to the flowchart of FIG. (A) Preparation Step In the preparation step, the substrates S1 and S2 are prepared. In this example, a PC film is used as the substrates S1 and S2. (B) Function Film Forming Step In the function film forming step, a predetermined function film is formed on each of the substrates S1 and S2.

【0060】基板S1上には、電極E1、絶縁膜IS1
及び配向膜O1を順に形成する。また、基板S1上に
は、アライメントマークM1も形成する。
On the substrate S1, an electrode E1, an insulating film IS1
And an alignment film O1 are formed in this order. Further, an alignment mark M1 is also formed on the substrate S1.

【0061】同様に、基板S2上には、電極E2、絶縁
膜IS2及び配向膜O2を順に形成する。また、基板S
2上には、アライメントマークM2も形成する。
Similarly, an electrode E2, an insulating film IS2, and an alignment film O2 are sequentially formed on the substrate S2. Also, the substrate S
2, an alignment mark M2 is also formed.

【0062】基板S1上の電極E1及びアライメントマ
ークM1は、本例ではITOによって、次のように同時
に形成する。まずITO膜を基板S1上に一様に形成
し、このITO膜をフォトリソグラフィー法を利用して
所定形状にパターニングすることで、所定形状の電極E
1と所定形状のアライメントマークM1を形成する。基
板S2上の電極E2及びアライメントマークM2も同様
にして、ITOによって同時に形成される。 (c)スペーサ散布工程 スペーサ散布工程においては、基板S1及び基板S2の
うちの少なくとも一方の基板上にスペーサSPを散布す
る。本例では、基板S1上にスペーサSPを散布する。 (d)接着材料供給工程 接着材料供給工程においては、基板S1とS2を接着す
るための接着材料を基板S1及びS2のうちの少なくと
も一方の基板上に供給する。本例では、基板S1とS2
のいずれにも接着材料を供給する。
The electrode E1 and the alignment mark M1 on the substrate S1 are simultaneously formed by ITO in this example as follows. First, an ITO film is uniformly formed on the substrate S1, and the ITO film is patterned into a predetermined shape by using a photolithography method, so that an electrode E having a predetermined shape is formed.
1 and an alignment mark M1 having a predetermined shape are formed. Similarly, the electrode E2 and the alignment mark M2 on the substrate S2 are simultaneously formed of ITO. (C) Spacer dispersing step In the spacer dispersing step, the spacers SP are dispersed on at least one of the substrates S1 and S2. In this example, spacers SP are scattered on the substrate S1. (D) Adhesive material supply step In the adhesive material supply step, an adhesive material for bonding the substrates S1 and S2 is supplied onto at least one of the substrates S1 and S2. In this example, the substrates S1 and S2
Supply the adhesive material to any of the above.

【0063】基板S1上に供給する接着材料によって、
シール壁SWが形成される。シール壁SWを形成するた
めの接着材料は、本例では、熱硬化性樹脂である。所定
形状のシール壁SWは、本例では、ディスペンサ法によ
って形成される。
According to the adhesive material supplied on the substrate S1,
A seal wall SW is formed. In this example, the adhesive material for forming the seal wall SW is a thermosetting resin. In this example, the seal wall SW having a predetermined shape is formed by a dispenser method.

【0064】基板S2上に供給する接着材料によって、
複数の柱状構造物CSが形成される。柱状構造物CSを
形成するための接着材料は本例では熱可塑性樹脂であ
る。所定形状、所定配列パターンの柱状構造物CSは、
本例では、スクリーン印刷法によって形成される。
According to the adhesive material supplied on the substrate S2,
A plurality of columnar structures CS are formed. The adhesive material for forming the columnar structure CS is a thermoplastic resin in this example. The columnar structure CS having a predetermined shape and a predetermined arrangement pattern includes:
In the present example, it is formed by a screen printing method.

【0065】このように接着材料供給工程は、シール壁
形成工程でもあり、柱状構造物形成工程でもある。
As described above, the adhesive material supply step is both a seal wall forming step and a columnar structure forming step.

【0066】なお、接着材料を基板上に供給することで
シール壁SWを形成する工程、接着材料を基板上に供給
することで柱状構造物CSを形成する工程及びスペーサ
散布工程はどのような順序で行ってもよい。 (e)液晶供給工程 液晶供給工程においては、基板S1及びS2のうちの少
なくとも一方の基板上に、液晶LCを供給する。本例で
は、基板S2上に液晶LCを供給する。 (f)仮接着工程 仮接着工程においては、接着材料、液晶LC及びスペー
サSPを間に挟んで、基板S1とS2を仮接着する。基
板S1とS2が所定の位置関係となるように位置合わせ
をしてから、これら基板を仮接着する。仮接着工程につ
いては後に詳述する。 (g)本接着工程 本接着工程においては、接着材料等を間に挟んで仮接着
されている基板S1とS2を本接着する。接着材料を所
定の方法によって硬化させることで、基板S1とS2を
本接着する。本接着工程は、仮接着工程が完全に終了し
た後に開始される。本接着工程については後に詳述す
る。 (h)光吸収膜形成工程 光吸収膜形成工程においては、基板S2の裏側に黒色の
光吸収膜ABを形成する。光吸収膜ABは例えば黒色の
塗料を用いて塗布法により形成することができる。な
お、光吸収膜ABは、接着材料供給工程の前などのタイ
ミングで形成してもよい。
The order of the steps of forming the sealing wall SW by supplying the adhesive material onto the substrate, forming the columnar structure CS by supplying the adhesive material onto the substrate, and dispersing the spacers are as follows. May be performed. (E) Liquid crystal supply step In the liquid crystal supply step, the liquid crystal LC is supplied onto at least one of the substrates S1 and S2. In this example, the liquid crystal LC is supplied on the substrate S2. (F) Temporary bonding step In the temporary bonding step, the substrates S1 and S2 are temporarily bonded with the bonding material, the liquid crystal LC, and the spacer SP interposed therebetween. After the substrates S1 and S2 are aligned so as to have a predetermined positional relationship, these substrates are temporarily bonded. The temporary bonding step will be described later in detail. (G) Main Bonding Step In the main bonding step, the substrates S1 and S2, which are temporarily bonded with a bonding material or the like interposed therebetween, are permanently bonded. The substrates S1 and S2 are permanently bonded by curing the bonding material by a predetermined method. The main bonding step is started after the temporary bonding step is completed. The actual bonding step will be described later in detail. (H) Light Absorbing Film Forming Step In the light absorbing film forming step, a black light absorbing film AB is formed on the back side of the substrate S2. The light absorbing film AB can be formed by a coating method using, for example, a black paint. Note that the light absorbing film AB may be formed at a timing such as before the adhesive material supply step.

【0067】これらにより、図1の液晶表示パネルDP
1を得る。 [4] 仮接着工程を行うための仮接着装置の一例の概
略構成図を図4に示す。また、この仮接着装置の概略ブ
ロック図を図5に示す。なお、図5においては、仮接着
装置の駆動及びその制御に関連する部分が主に示されて
いる。
Thus, the liquid crystal display panel DP shown in FIG.
Get 1. [4] FIG. 4 shows a schematic configuration diagram of an example of a temporary bonding device for performing the temporary bonding step. FIG. 5 is a schematic block diagram of the temporary bonding apparatus. FIG. 5 mainly shows a portion related to driving of the temporary bonding apparatus and its control.

【0068】図4に示す仮接着装置A1は、液晶供給工
程及び仮接着工程を行うことができる。接着材料供給工
程までが終わった後に、仮接着装置A1により液晶供給
工程及び仮接着工程が行われる。
The temporary bonding apparatus A1 shown in FIG. 4 can perform a liquid crystal supply step and a temporary bonding step. After the completion of the adhesive material supply step, the liquid crystal supply step and the temporary adhesion step are performed by the temporary bonding apparatus A1.

【0069】仮接着装置A1は、基板を保持するなどの
ための第1及び第2の二つのステージ31、32を有し
ている。本例では、シール壁SWが形成されている基板
S1は第1ステージ31によって保持され、柱状構造物
CSが形成されている基板S2は第2ステージ32によ
って保持される。
The temporary bonding apparatus A1 has first and second two stages 31, 32 for holding a substrate and the like. In this example, the substrate S1 on which the seal wall SW is formed is held by the first stage 31, and the substrate S2 on which the columnar structure CS is formed is held by the second stage 32.

【0070】第1ステージ31は回転軸31pを中心に
して、基板S1を載置するときの初期位置P11と、仮
接着工程を行うときの位置P12の間で旋回することが
できる。第1ステージ31の旋回は、旋回駆動部31d
によって行われる。
The first stage 31 can rotate around the rotation axis 31p between an initial position P11 for mounting the substrate S1 and a position P12 for performing the temporary bonding step. The turning of the first stage 31 is performed by a turning drive unit 31d.
Done by

【0071】第1ステージ31は吸着テーブル311を
有している。吸着テーブル311には複数の排気孔31
1vが設けられており、各排気孔311vはチューブ
(図示省略)を介して排気ポンプ311pに接続されて
いる。排気ポンプ311pを運転することで、吸着テー
ブル311上に載置される基板S1を所定の吸着力で保
持することができる。
The first stage 31 has a suction table 311. The suction table 311 has a plurality of exhaust holes 31.
1v is provided, and each exhaust hole 311v is connected to an exhaust pump 311p via a tube (not shown). By operating the exhaust pump 311p, the substrate S1 placed on the suction table 311 can be held with a predetermined suction force.

【0072】第1ステージ31において吸着テーブル3
11は、X−Y−θ駆動機構312を介してベース部材
313に支持されている。X−Y−θ駆動機構312を
駆動部312dによって駆動することで、ベース部材3
13に対する吸着テーブル311の位置を図4中のX軸
方向、Y軸方向及びθ方向(以降X−Y−θ方向とい
う)に微調整することができる。
In the first stage 31, the suction table 3
11 is supported by a base member 313 via an XY-θ drive mechanism 312. By driving the XY-θ driving mechanism 312 by the driving unit 312d, the base member 3
The position of the suction table 311 with respect to 13 can be finely adjusted in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the θ direction (hereinafter referred to as the XY-θ direction) in FIG.

【0073】X−Y−θ駆動機構312及びその駆動部
312dは、基板S1の位置決めを行うときに利用され
る。この位置決めには、基板S1上に形成されている二
つのアライメントマークM1と、第1ステージ31の上
方に配置されるCCDカメラ711、712も利用され
る。なお、CCDカメラ711、712をY軸方向に移
動することで、第1ステージ31の旋回を許す位置まで
CCDカメラを退避させることができる。
The XY-θ drive mechanism 312 and its drive section 312d are used when positioning the substrate S1. For this positioning, two alignment marks M1 formed on the substrate S1 and CCD cameras 711 and 712 disposed above the first stage 31 are also used. By moving the CCD cameras 711 and 712 in the Y-axis direction, the CCD cameras can be retracted to a position where the rotation of the first stage 31 is allowed.

【0074】第2ステージ32は、X軸方向に延びるガ
イドレール32gに沿って、基板S2を載置するときの
初期位置P21と、液晶LCを基板S2上に供給する位
置P22の間で移動することができる。位置P21と位
置P22の間には、仮接着工程を開始する位置P23が
ある。第2ステージ32のX軸方向の駆動はX−駆動部
32dによって行われ、図示を省略したエンコーダ等の
位置検出部の検出結果に基づき、第2ステージ32のX
軸方向の位置や移動速度等は制御される。
The second stage 32 moves along a guide rail 32g extending in the X-axis direction between an initial position P21 for mounting the substrate S2 and a position P22 for supplying the liquid crystal LC onto the substrate S2. be able to. Between the position P21 and the position P22, there is a position P23 at which the temporary bonding step is started. The second stage 32 is driven in the X-axis direction by an X-drive unit 32d, and based on a detection result of a position detection unit such as an encoder (not shown), the X-drive of the second stage 32
The position in the axial direction, the moving speed, and the like are controlled.

【0075】第2ステージ32も第1ステージ31と同
様に吸着テーブル321を有している。吸着テーブル3
21には複数の排気孔321vが設けられており、各排
気孔321vはチューブ(図示省略)を介して排気ポン
プ321pに接続されている。排気ポンプ321pを運
転することで、吸着テーブル321上に載置される基板
S2を所定の吸着力で保持することができる。
The second stage 32 also has a suction table 321 like the first stage 31. Suction table 3
21 is provided with a plurality of exhaust holes 321v, and each exhaust hole 321v is connected to an exhaust pump 321p via a tube (not shown). By operating the exhaust pump 321p, the substrate S2 placed on the suction table 321 can be held with a predetermined suction force.

【0076】第2ステージ32において吸着テーブルは
321は、X−Y−θ駆動機構322を介してベース部
材323に支持されている。X−Y−θ駆動機構322
を駆動部322dによって駆動することで、ベース部材
323に対する吸着テーブル321の位置をX−Y−θ
方向に微調整することができる。
In the second stage 32, the suction table 321 is supported by a base member 323 via an XY-θ driving mechanism 322. XY-θ drive mechanism 322
Of the suction table 321 with respect to the base member 323 by driving the
The direction can be fine-tuned.

【0077】X−Y−θ駆動機構322及びその駆動部
322dは、基板S2の位置決めを行うときに利用され
る。この位置決めには、基板S2上に形成されている二
つのアライメントマークM2と、第2ステージ32の上
方に配置されるCCDカメラ721、722も利用され
る。
The XY-θ drive mechanism 322 and its drive section 322d are used when positioning the substrate S2. For this positioning, two alignment marks M2 formed on the substrate S2 and CCD cameras 721 and 722 arranged above the second stage 32 are also used.

【0078】仮接着装置A1は、第1及び第2ステージ
31、32等の他に、液晶供給工程を行うときに用いる
ディスペンサ4及び仮接着工程を行うときに用いる加圧
ローラ5を有している。
The temporary bonding apparatus A1 has, in addition to the first and second stages 31, 32, etc., a dispenser 4 used for performing the liquid crystal supply step and a pressure roller 5 used for performing the temporary bonding step. I have.

【0079】ディスペンサ4は液晶供給制御部4cに接
続されており、この制御部4cによって液晶の供給量等
は制御される。
The dispenser 4 is connected to a liquid crystal supply control unit 4c, and the control unit 4c controls the liquid crystal supply amount and the like.

【0080】仮接着工程において用いる加圧ローラ5は
回転自在に支持されている。加圧ローラ5は仮接着工程
を行うときの位置と、それよりも上方の退避位置の間で
移動することができる。このような加圧ローラ5のY軸
方向の駆動は、Y−駆動部5dによって行われる。 [5]本接着工程を行うための本接着装置の一例の概略
構成図を図6に示す。
The pressure roller 5 used in the temporary bonding step is rotatably supported. The pressure roller 5 can move between a position where the temporary bonding process is performed and a retracted position above the position. The driving of the pressure roller 5 in the Y-axis direction is performed by a Y-drive unit 5d. [5] FIG. 6 shows a schematic configuration diagram of an example of the main bonding apparatus for performing the main bonding step.

【0081】図6に示す本接着装置A2は、仮接着がな
されている基板S1とS2を載置するためのステージ3
3を有している。本接着装置A2は本例では仮接着装置
A1の隣に配置されており、仮接着装置A1のステージ
32上の仮接着が終了した基板S1とS2は、ローラR
1〜R5によって本接着装置A2のステージ33に移し
替えられる。
The main bonding apparatus A2 shown in FIG. 6 is a stage 3 for mounting the substrates S1 and S2 to which the temporary bonding has been performed.
Three. In this example, the actual bonding apparatus A2 is disposed next to the temporary bonding apparatus A1, and the substrates S1 and S2 on the stage 32 of the temporary bonding apparatus A1 on which the temporary bonding has been completed are formed by rollers
It is transferred to the stage 33 of the main bonding apparatus A2 by 1 to R5.

【0082】本接着装置A2のステージ33は、X軸方
向に延びるガイドレール33gに沿って、X軸方向に移
動することができる。ステージ33は、X−駆動部33
dによってX軸方向に駆動される。
The stage 33 of the bonding apparatus A2 can move in the X-axis direction along a guide rail 33g extending in the X-axis direction. The stage 33 includes an X-drive unit 33.
Driven in the X-axis direction by d.

【0083】ステージ33もステージ32と同様に吸着
テーブル331を有している。吸着テーブル331には
複数の排気孔331(図示省略)が設けられており、各
排気孔331はチューブ(図示省略)を介して排気ポン
プ331pに接続されている。排気ポンプ331pを運
転することで、吸着テーブル331上に載置される基板
を所定の吸着力で保持することができる。
The stage 33 has a suction table 331 like the stage 32. The suction table 331 is provided with a plurality of exhaust holes 331 (not shown), and each of the exhaust holes 331 is connected to an exhaust pump 331p via a tube (not shown). By operating the exhaust pump 331p, the substrate placed on the suction table 331 can be held with a predetermined suction force.

【0084】吸着テーブル331にはヒータ331hが
組み込まれている。図示を省略した温度センサの検出温
度に基づき、ヒータ駆動部331dによってヒータ33
1hを駆動制御することで、吸着テーブル331を所定
温度にまで加熱することができ、ひいては吸着テーブル
331上の基板S1及びS2を加熱することができる。
The suction table 331 incorporates a heater 331h. Based on the temperature detected by a temperature sensor (not shown), the heater 33
By controlling the driving of 1h, the suction table 331 can be heated to a predetermined temperature, and the substrates S1 and S2 on the suction table 331 can be heated.

【0085】本接着装置A2は、ステージ33の他に、
加熱加圧ローラ6を有している。
The bonding apparatus A2 includes, in addition to the stage 33,
The heating and pressing roller 6 is provided.

【0086】加熱加圧ローラ6は回転自在に支持されて
いる。ローラ6は中空であり、その内部にヒータ6hが
配置されている。温度センサ(図示省略)の検出温度に
基づき、ヒータ駆動部6dがヒータ6hを駆動制御する
ことで、ローラ6の温度を所定温度に制御することがで
きる。 [6] 以下、仮接着装置A1及び本接着装置A2を用
いて行う液晶供給工程、仮接着工程及び本接着工程を図
7〜図9の工程図を参照して説明する。
The heating and pressing roller 6 is rotatably supported. The roller 6 is hollow, and has a heater 6h disposed therein. The heater 6 d drives and controls the heater 6 h based on the temperature detected by a temperature sensor (not shown), so that the temperature of the roller 6 can be controlled to a predetermined temperature. [6] Hereinafter, the liquid crystal supply step, the temporary bonding step, and the final bonding step performed using the temporary bonding apparatus A1 and the final bonding apparatus A2 will be described with reference to the process charts of FIGS.

【0087】液晶供給工程、仮接着工程及び本接着工程
は、いずれも常温雰囲気下において行われる。 (1) 仮接着装置A1の第1及び第2ステージ31、
32は、基板を載置するときの初期位置P11、P21
にそれぞれ配置する(#101)。
The liquid crystal supply step, the temporary bonding step, and the main bonding step are all performed in a normal temperature atmosphere. (1) The first and second stages 31 of the temporary bonding device A1,
32 denotes initial positions P11 and P21 when the substrate is placed.
(# 101).

【0088】基板S1及びS2はそれぞれ常温のステー
ジ31、32の所定のプリセット位置に位置決めして配
置する(#101)。
The substrates S1 and S2 are positioned and arranged at predetermined preset positions on the stages 31 and 32 at normal temperature (# 101).

【0089】基板S1を配置すべきプリセット位置は、
第1ステージ31のベース部材313の位置を基準にし
て定められている。同様に、基板S2を配置すべきプリ
セット位置は、第2ステージ32のベース部材323の
位置を基準にして定められている。
The preset position where the substrate S1 should be placed is
The position is determined based on the position of the base member 313 of the first stage 31. Similarly, the preset position where the substrate S2 is to be arranged is determined based on the position of the base member 323 of the second stage 32.

【0090】第1及び第2ステージ31、32がそれぞ
れ初期位置P11、P21に配置されているときには、
第1ステージ31のベース部材313と第2ステージの
ベース部材323は所定の位置関係にある。
When the first and second stages 31, 32 are located at the initial positions P11, P21, respectively,
The base member 313 of the first stage 31 and the base member 323 of the second stage have a predetermined positional relationship.

【0091】したがって、基板S1及びS2をそれぞれ
上記プリセット位置に配置した後、第1ステージ31を
旋回させて仮接着工程を開始するときの位置P12に配
置するとともに、第2ステージ32を移動させて仮接着
工程を開始するときの位置P23に配置すると(工程#
103の図参照)、基板S1とS2を位置ずれなく仮接
着できる位置関係となるように、これら基板を配置する
ことができる。ステージ31、32をそれぞれ位置P1
2、P23に配置したときに、基板S1とS2がこのよ
うな位置関係となるように、基板S1と基板S2の上記
プリセット位置はそれぞれ定められている。
Therefore, after arranging the substrates S1 and S2 at the preset positions, the first stage 31 is turned to be arranged at the position P12 at which the temporary bonding step is started, and the second stage 32 is moved. If it is arranged at the position P23 at the start of the temporary bonding step (step #
103), the substrates S1 and S2 can be arranged in such a manner that they can be temporarily bonded without displacement. Move the stages 31 and 32 to the position P1
2, the preset positions of the substrates S1 and S2 are determined so that the substrates S1 and S2 have such a positional relationship when they are arranged at P23.

【0092】基板S1は、次のようにして第1ステージ
31のプリセット位置に配置される。まず、基板S1を
第1ステージ31の吸着テーブル311のほぼプリセッ
ト位置に載置する。シール壁SWが形成されている側の
面を上にして、基板S1は吸着テーブル311上に載置
する。
The substrate S1 is arranged at a preset position on the first stage 31 as follows. First, the substrate S1 is placed at a substantially preset position on the suction table 311 of the first stage 31. The substrate S1 is placed on the suction table 311 with the surface on which the seal wall SW is formed facing upward.

【0093】次いで、排気ポンプ311pを運転するこ
とで、基板S1を吸着テーブル311に向けて吸着す
る。
Next, the substrate S1 is sucked toward the suction table 311 by operating the exhaust pump 311p.

【0094】次いで、吸着テーブル311上の基板S1
が所定のプリセット位置にくるように、X−Y−θ駆動
部312dによって基板S1の位置を微調整する。この
位置合わせに際しては、基板S1上に形成されている二
つのアライメントマークM1や、これらマークにそれぞ
れ臨むCCDカメラ711、712等が利用される。さ
らに詳しく言うと、CCDカメラ711及び712によ
って読み取られた画像に基づき、二つのアライメントマ
ークM1の位置が制御部312cによって画像処理の手
法を利用して検出される。検出された位置情報に基づ
き、基板S1の所定プリセット位置からのずれ量が算出
される。そのずれ量に基づき、制御部312cがX−Y
−θ駆動部312dを駆動制御することで、基板S1は
プリセット位置に配置される。
Next, the substrate S1 on the suction table 311
The position of the substrate S1 is finely adjusted by the XY-θ driving unit 312d so that the. For this alignment, two alignment marks M1 formed on the substrate S1 and CCD cameras 711 and 712 facing these marks are used. More specifically, based on the images read by the CCD cameras 711 and 712, the positions of the two alignment marks M1 are detected by the control unit 312c using an image processing technique. Based on the detected position information, a shift amount from the predetermined preset position of the substrate S1 is calculated. Based on the amount of the deviation, the control unit 312c performs XY
By controlling the driving of the −θ driving unit 312d, the substrate S1 is arranged at the preset position.

【0095】基板S2は、基板S1と同様にして、第2
ステージ32のプリセット位置に配置される。まず、基
板S2を第2ステージ32の吸着テーブル321のほぼ
プリセット位置に載置する。柱状構造物CSが形成され
ている側の面を上にして、基板S2は吸着テーブル32
1上に載置する。次いで、排気ポンプ321pを運転す
ることで、基板S2を吸着テーブル321に向けて吸着
する。次いで、基板S1の位置を調整するときと同様に
して、吸着テーブル322上の基板S2が所定のプリセ
ット位置にくるように、X−Y−θ駆動部322dによ
って基板S2の位置を微調整する。 (2) 次いで、基板S2を保持している第2ステージ
32を、液晶供給工程を行うときの位置、つまり、ディ
スペンサ4に臨む位置P22まで移動させる(#10
2)。
The substrate S2 is formed in the same manner as the substrate S1.
The stage 32 is arranged at a preset position. First, the substrate S2 is placed almost at a preset position on the suction table 321 of the second stage 32. With the surface on which the columnar structure CS is formed facing upward, the substrate S2 is attached to the suction table 32.
Place on top. Next, the substrate S2 is sucked toward the suction table 321 by operating the exhaust pump 321p. Next, similarly to the case of adjusting the position of the substrate S1, the XY-θ driving unit 322d finely adjusts the position of the substrate S2 so that the substrate S2 on the suction table 322 is at a predetermined preset position. (2) Next, the second stage 32 holding the substrate S2 is moved to a position for performing the liquid crystal supply step, that is, a position P22 facing the dispenser 4 (# 10).
2).

【0096】ディスペンサ4を下降させた後、基板S2
の端部上にディスペンサ4から所定量の液晶LCを吐出
する(#102)。基板S2上にはライン状に液晶LC
が配設される。 (3) 次いで、ディスペンサ4を上昇させてから、基
板S2を保持している第2ステージ32を仮接着工程を
開始する位置P23まで移動させる(#103)。
After lowering the dispenser 4, the substrate S2
A predetermined amount of liquid crystal LC is ejected from the dispenser 4 onto the end of (# 102). The liquid crystal LC is linearly arranged on the substrate S2.
Is arranged. (3) Next, after raising the dispenser 4, the second stage 32 holding the substrate S2 is moved to a position P23 where the temporary bonding step is started (# 103).

【0097】また、CCDカメラ711、712を退避
位置に退避させてから、基板S1を保持している第1ス
テージ31を仮接着工程を開始する位置P12まで旋回
させる(#103)。
After the CCD cameras 711 and 712 are retracted to the retracted position, the first stage 31 holding the substrate S1 is turned to the position P12 where the temporary bonding step is started (# 103).

【0098】これにより、基板S1の端部は、液晶LC
を介して基板S2の上に重なる(#103)。 (4) 次いで、加圧ローラ5を下降させて、加圧ロー
ラ5を仮接着工程を開始する位置に配置する。
As a result, the edge of the substrate S1 is
(# 103). (4) Next, the pressure roller 5 is lowered, and the pressure roller 5 is arranged at a position where the temporary bonding step is started.

【0099】第2ステージ32を図中右方向に移動させ
ることで、加圧ローラ5等によって基板S1及びS2の
一方の端部から他方の端部へ順に所定の圧力を加えなが
ら、液晶LCと接着材料を間に挟んで基板S1とS2を
仮接着する(#104、#105)。
By moving the second stage 32 rightward in the drawing, the liquid crystal LC and the liquid crystal LC are applied while applying a predetermined pressure from one end of the substrates S1 and S2 to the other end thereof by the pressing roller 5 or the like. The substrates S1 and S2 are temporarily bonded with the bonding material interposed therebetween (# 104, # 105).

【0100】仮接着を行っているときには、基板S1を
吸着保持している第1ステージ31は定位置にある。第
1ステージ31は、基板S1と基板S2の一体的な移動
を許すように基板S1を吸着保持している。
When the temporary bonding is being performed, the first stage 31 holding the substrate S1 by suction is at a fixed position. The first stage 31 sucks and holds the substrate S1 so as to allow the substrate S1 and the substrate S2 to move together.

【0101】また、仮接着を行っているときには、加圧
ローラ5、基板S1を保持している第1ステージ31及
び基板S2を保持している第2ステージ32はいずれも
常温にある。つまり、仮接着工程を行うときには、基板
S1、基板S2及びこれらの間の接着材料には熱は加え
られない。
During the temporary bonding, the pressure roller 5, the first stage 31 holding the substrate S1, and the second stage 32 holding the substrate S2 are all at room temperature. That is, when performing the temporary bonding step, no heat is applied to the substrate S1, the substrate S2, and the bonding material therebetween.

【0102】基板S1とS2の一方の端部から他方の端
部へ順に圧力を加えてゆくことで、これら基板の間にお
いて液晶LCは押し広げられていき、基板S1、基板S
2及びシール壁SWで囲まれる空間全体に液晶LCは満
たされる。
By sequentially applying pressure from one end of the substrates S1 and S2 to the other end, the liquid crystal LC is spread between the substrates, and the substrates S1 and S2 are spread.
The liquid crystal LC fills the entire space surrounded by 2 and the seal wall SW.

【0103】また、基板S1とS2の一方の端部から他
方の端部へ順に圧力を加えてゆくことで、基板S1とS
2の間の空気を追い出しつつ、基板S1とS2を仮接着
することができる。これにより、基板S1とS2の間に
空気が残留することを抑制できる。
Further, by sequentially applying a pressure from one end of the substrates S1 and S2 to the other end, the substrates S1 and S2 are sequentially pressed.
The substrates S1 and S2 can be temporarily bonded while expelling the air between the two. Thereby, it is possible to suppress the air from remaining between the substrates S1 and S2.

【0104】また、上記のように第1及び第2ステージ
31、32に基板S1及びS2をそれぞれ位置決めして
セットしておいたため、基板S1とS2を所定の位置関
係に位置ずれなく、仮接着することができる。 (5) 次いで、仮接着された基板S1とS2を本接着
するために、これら基板を仮接着装置A1のステージ3
2から本接着装置A2のステージ33に移し替える(#
106)。排気ポンプ331pを運転することで、仮接
着されている基板S1とS2を吸着テーブル331に向
けて吸着する。
Since the substrates S1 and S2 are positioned and set on the first and second stages 31 and 32, respectively, as described above, the substrates S1 and S2 are temporarily bonded in a predetermined positional relationship without displacement. can do. (5) Next, in order to fully bond the temporarily bonded substrates S1 and S2, these substrates are bonded to the stage 3 of the temporary bonding apparatus A1.
2 to the stage 33 of the actual bonding apparatus A2 (#
106). By operating the exhaust pump 331p, the temporarily bonded substrates S1 and S2 are sucked toward the suction table 331.

【0105】本例では、基板S1及びS2がステージ3
3に移し替えられる前に、ステージ33(吸着テーブル
331)の温度は所定温度(本例では、50゜C)にま
で既に加熱されている。 (6) 次いで、ステージ33を図中右方向に移動する
ことで、所定温度(本例では150゜C)にまで加熱さ
れている加熱加圧ローラ6等によって、基板S1とS2
を本接着する。加熱加圧ローラ6等によって、基板S1
とS2の一方の端部から他方の端部へ順に熱及び圧力を
加えながら、これら基板を本接着する(#107、#1
08)。
In this example, the substrates S1 and S2 are
Before the transfer to 3, the temperature of the stage 33 (suction table 331) has already been heated to a predetermined temperature (in this example, 50 ° C.). (6) Next, by moving the stage 33 rightward in the figure, the substrates S1 and S2 are heated by the heating / pressurizing roller 6 heated to a predetermined temperature (150 ° C. in this example).
Is fully bonded. The substrate S1 is heated by the heating / pressing roller
While applying heat and pressure sequentially from one end to the other end of S2 and S2, these substrates are fully bonded (# 107, # 1).
08).

【0106】シール壁SWを形成する接着材料(本例で
は熱硬化型樹脂)に熱を加えることで、この接着材料は
硬化し、基板S1とS2は本接着される。また、柱状構
造物CSを形成する接着材料(本例では熱可塑型樹脂)
に熱を加えた後、冷却することでこの接着材料は軟化し
てから硬化し、これによっても基板S1とS2は本接着
される。
By applying heat to the adhesive material (the thermosetting resin in this example) forming the seal wall SW, the adhesive material is cured, and the substrates S1 and S2 are permanently bonded. Further, an adhesive material (a thermoplastic resin in this example) for forming the columnar structure CS.
After applying heat to the substrate, the adhesive material is softened and then cured by cooling, whereby the substrates S1 and S2 are also permanently bonded.

【0107】なお、未硬化の接着材料と液晶LCが長い
時間接触していると、液晶LCが汚染されるなどの不具
合が生じるので、仮接着工程が終了した後速やかに本接
着工程を行うことが好ましい。 [7] このように本発明の製造方法においては、基板
S1とS2の仮接着工程を行った後に、本接着工程が行
われる。
If the uncured adhesive material and the liquid crystal LC are in contact with each other for a long time, problems such as contamination of the liquid crystal LC occur. Therefore, it is necessary to perform the final bonding step immediately after the temporary bonding step is completed. Is preferred. [7] As described above, in the manufacturing method of the present invention, the main bonding step is performed after the temporary bonding step of the substrates S1 and S2 is performed.

【0108】仮接着工程は基板S1とS2に熱を加えず
に行われるため、基板の熱膨張は発生せず、所定の位置
関係に位置ずれなく基板S1とS2を仮接着することが
できる。
Since the temporary bonding step is performed without applying heat to the substrates S1 and S2, no thermal expansion of the substrates occurs and the substrates S1 and S2 can be temporarily bonded to each other without a positional shift in a predetermined positional relationship.

【0109】本接着工程は基板S1とS2に熱を加えな
がら行われるが、仮接着工程が完全に終了した後に本接
着工程が行われるため、仮接着したときの基板S1とS
2の位置関係をくずさずに、基板S1とS2を本接着す
ることができる。つまり、基板S1とS2を所定の位置
関係に位置ずれなく本接着することができる。また、基
板S1及び(又は)S2にしわが発生し、基板S1とS
2の間に気泡が混入するのを抑制しながら、基板S1と
S2を本接着することができる。
Although the final bonding step is performed while applying heat to the substrates S1 and S2, the final bonding step is performed after the temporary bonding step is completely completed.
The substrates S1 and S2 can be permanently bonded without destroying the positional relationship of No. 2. That is, the substrates S1 and S2 can be permanently bonded in a predetermined positional relationship without displacement. Also, wrinkles are generated on the substrates S1 and / or S2, and the substrates S1 and S2
The substrates S <b> 1 and S <b> 2 can be permanently bonded while suppressing air bubbles from entering between the substrates 2.

【0110】これは、本接着を行っているときに、基板
S1及び(又は)S2が多少熱膨張しても、また、その
膨張量が多少違っていても、基板S1とS2の全体が既
に仮接着しているため、基板S1とS2の位置関係がず
れたりするのが抑制されるものと考えられる。同様の理
由により、基板S1とS2にしわが発生するのも抑制さ
れるものと考えられる。
This is because even when the substrates S1 and / or S2 are slightly thermally expanded during the actual bonding and the expansion amounts are slightly different, the entire substrates S1 and S2 are already It is considered that the temporary bonding prevents the positional relationship between the substrates S1 and S2 from shifting. For the same reason, it is considered that the occurrence of wrinkles in the substrates S1 and S2 is also suppressed.

【0111】なお、上記の例では仮接着と本接着は別々
の装置によってそれぞれ行ったが、仮接着装置A1に対
して、加熱加圧ローラ6と、ステージ32の吸着ステー
ジを加熱するためのヒータとをさらに設けた接着装置に
よって、上記と同様にして仮接着を行った後に本接着を
行ってもよい。 [7- 1]実施例1 実際に、仮接着装置A1及び本接着装置A2を用いて上
記述べたようにして、仮接着工程及び本接着工程を行っ
たところ、基板S1とS2を位置ずれなく、また基板S
1とS2にしわの発生なく、さらに基板S1とS2の間
への気泡の混入なく、基板S1とS2を本接着すること
ができた。
In the above example, the temporary bonding and the main bonding were performed by separate devices, respectively. However, the heating and pressing roller 6 and the heater for heating the suction stage of the stage 32 were provided to the temporary bonding device A1. After the temporary bonding is performed in the same manner as described above, the actual bonding may be performed using a bonding apparatus further provided with the above. [7-1] Example 1 When the temporary bonding step and the final bonding step were actually performed using the temporary bonding apparatus A1 and the final bonding apparatus A2 as described above, the substrates S1 and S2 were aligned without displacement. And the substrate S
Substrates S1 and S2 could be permanently bonded without wrinkles occurring in Nos. 1 and S2 and without air bubbles entering between substrates S1 and S2.

【0112】また、複数の液晶表示パネルDP1を作製
するために、仮接着工程及び本接着工程を複数回行った
ところ、いずれの表示パネルにおいても、基板S1とS
2を実用上問題ない程度に位置ずれ小さく、また基板S
1とS2にしわの発生なく、さらに基板S1とS2の間
への気泡の混入なく、基板S1とS2を本接着すること
ができた。 [7- 2]比較例1 これに対して、図10に示す接着装置A1′によって、
仮接着工程と本接着工程を並行して行ったところ、次の
ような不具合が発生した。
In order to produce a plurality of liquid crystal display panels DP1, the temporary bonding step and the final bonding step were performed a plurality of times.
2 is small enough to have no practical problem and the substrate S
Substrates S1 and S2 could be permanently bonded without wrinkles occurring in Nos. 1 and S2 and without air bubbles entering between substrates S1 and S2. [7-1] Comparative Example 1 On the other hand, the bonding apparatus A1 'shown in FIG.
When the temporary bonding step and the main bonding step were performed in parallel, the following problems occurred.

【0113】まず、図10の接着装置A1′について説
明する。接着装置A1′は、次に述べることを除けば図
4の仮接着装置A1と同様のものである。
First, the bonding apparatus A1 'shown in FIG. 10 will be described. The bonding device A1 'is similar to the temporary bonding device A1 of FIG. 4 except for the following.

【0114】接着装置A1′は、仮接着工程を行うとき
に用いる加圧ローラ5の他に、本接着工程を行うときに
用いる加熱加圧ローラ6を備えている。また、接着装置
A1′においては、基板S1、S2を支持するためのス
テージ31、32の吸着テーブル321、322には、
図示を省略したヒータがそれぞれ組み込まれており、吸
着テーブル321、322を所定温度にまで加熱するこ
とができる。
The bonding apparatus A1 'includes a heating and pressing roller 6 used for performing the main bonding step, in addition to the pressing roller 5 used for performing the temporary bonding step. Further, in the bonding apparatus A1 ', the suction tables 321 and 322 of the stages 31 and 32 for supporting the substrates S1 and S2 include:
The heaters, which are not shown, are incorporated respectively, and can heat the suction tables 321 and 322 to a predetermined temperature.

【0115】比較例1においては、接着装置A1′を用
いて次のようにして仮接着工程及び本接着工程を行っ
た。まず、基板S1とS2をそれぞれステージ31、3
2の所定プリセット位置にセットした。基板S1とS2
がセットされたステージ31及び32は予め50°Cに
まで加熱しておいた。次いで、ステージ32を移動し
て、基板S2上に液晶LCを供給した。次いで、ステー
ジ31を旋回するとともに、ステージ32を移動して、
これらステージを仮接着工程を開始する位置に配置し
た。次いで、ステージ32を図中右方向に移動すること
で、加圧ローラ5によって仮接着を行いながら、150
゜Cの加熱加圧ローラ6によって本接着を行った。つま
り、基板S1とS2の全体を仮接着しないうちに、仮接
着が終わった部分から順に本接着を行った。
In Comparative Example 1, the temporary bonding step and the main bonding step were performed as follows using the bonding apparatus A1 '. First, the substrates S1 and S2 are placed on the stages 31, 3 respectively.
2 was set to the predetermined preset position. Substrates S1 and S2
Have been heated to 50 ° C. in advance. Next, the stage 32 was moved to supply the liquid crystal LC onto the substrate S2. Next, while rotating the stage 31, the stage 32 is moved,
These stages were arranged at positions where the temporary bonding step was started. Next, by moving the stage 32 rightward in the figure, the temporary adhesion is performed
The main bonding was performed by the heating and pressing roller 6 of #C. That is, before the entire substrates S1 and S2 were temporarily bonded, the actual bonding was performed in order from the portion where the temporary bonding was completed.

【0116】このようにして仮接着及び本接着を行った
ところ、ステージ31を旋回してステージ31上の基板
S1がステージ32に近づいたときに、ステージ32の
熱によって基板S1の端部が膨張した。そして、仮接着
及び本接着が終わった後には、図11に示すように基板
S1にはしわが発生し、基板S1とS2の間には気泡が
混入してしまった。また、基板S1とS2の位置関係も
所定の位置関係からずれていた。 [7- 3] これらの結果からも、本発明の製造方法に
よると、位置ずれなく、またしわの発生なく、基板S1
とS2を本接着することができることがわかる。
When the temporary bonding and the final bonding are performed as described above, when the stage 31 is turned and the substrate S1 on the stage 31 approaches the stage 32, the end of the substrate S1 expands due to the heat of the stage 32. did. Then, after the temporary bonding and the final bonding were completed, wrinkles were generated on the substrate S1 as shown in FIG. 11, and bubbles were mixed between the substrates S1 and S2. Further, the positional relationship between the substrates S1 and S2 also deviated from the predetermined positional relationship. [7-3] From these results, according to the manufacturing method of the present invention, the substrate S1 has no displacement and no wrinkles.
It can be seen that S2 and S2 can be permanently bonded.

【0117】また、本発明の製造方法においては、仮接
着工程や本接着工程は常温の雰囲気下において行われる
ので、仮接着装置や本接着装置が大がかりににならずに
済む。また、人が立ち入ることできる環境下において、
仮接着工程及び本接着工程を行うことができる。例え
ば、基板にしわが発生するのを抑制するために、仮接着
及び本接着するときの雰囲気温度を常温より高い温度
(例えば本接着を行うときのステージ温度(例えば50
゜C))にすることも提案されているが、そうすると仮
接着装置や本接着装置が大がかりになり、仮接着工程や
本接着工程を行うときの環境が悪化してしまう。 [8] 本発明の製造方法においては、図12(A)及
び(B)に示す本接着装置A3を用いて、本接着工程を
行ってもよい。
Further, in the manufacturing method of the present invention, since the temporary bonding step and the final bonding step are performed in an atmosphere at room temperature, the temporary bonding apparatus and the final bonding apparatus do not need to be large. Also, in an environment where people can enter,
The temporary bonding step and the final bonding step can be performed. For example, in order to suppress the occurrence of wrinkles in the substrate, the ambient temperature during the temporary bonding and the final bonding is set to a temperature higher than room temperature (for example, the stage temperature (eg, 50
(C)) is also proposed, but if this is done, the size of the temporary bonding apparatus and the final bonding apparatus becomes large, and the environment when the temporary bonding step and the final bonding step are performed deteriorates. [8] In the manufacturing method of the present invention, the main bonding step may be performed using the main bonding apparatus A3 shown in FIGS. 12 (A) and 12 (B).

【0118】本接着装置A3は、互いに対向する二つの
加熱加圧ローラ61、62を有している。これらローラ
61、62は、いずれもヒータ61h、62hをそれぞ
れ内蔵している。ヒータ61h、62hによって、ロー
ラ61、62を所定温度にまで加熱することができる。
The bonding device A3 has two heating / pressing rollers 61 and 62 facing each other. Each of these rollers 61 and 62 has a built-in heater 61h and 62h, respectively. The rollers 61 and 62 can be heated to a predetermined temperature by the heaters 61h and 62h.

【0119】本接着装置A3においては、仮接着された
基板S1とS2をローラ61と62を通すことで、基板
S1とS2の一方の端部から他方の端部へ順に熱及び圧
力を加えながら、本接着が行われる。本接着装置A3に
おいても、本接着装置A2と同様に、位置ずれなく、ま
た、しわの発生なく基板S1とS2を本接着することが
できる。 [8- 1]実施例2 実際に、本接着装置A3を用いて、仮接着装置A1によ
って仮接着された基板S1とS2を本接着したところ、
基板S1とS2を位置ずれなく、また基板S1とS2に
しわの発生なく、さらに基板S1とS2の間への気泡の
混入なく、基板S1とS2を本接着することができた。
なお、本接着を行うときのローラ61と62の温度は、
80゜Cに設定した。
In the actual bonding apparatus A3, the temporarily bonded substrates S1 and S2 are passed through rollers 61 and 62 to apply heat and pressure sequentially from one end of the substrates S1 and S2 to the other. , And the actual bonding is performed. In the final bonding apparatus A3, similarly to the final bonding apparatus A2, the substrates S1 and S2 can be permanently bonded without any displacement and without wrinkles. [8-1] Example 2 When the substrates S1 and S2 temporarily bonded by the temporary bonding device A1 were actually bonded using the final bonding device A3,
The substrates S1 and S2 could be fully bonded without any displacement between the substrates S1 and S2, no wrinkling of the substrates S1 and S2, and no air bubbles between the substrates S1 and S2.
The temperature of the rollers 61 and 62 at the time of performing the actual bonding is as follows.
The temperature was set to 80 ° C.

【0120】また、複数の液晶表示パネルDP1を作製
するために、仮接着工程及び本接着工程を複数回行った
ところ、いずれの表示パネルにおいても、基板S1とS
2を実用上問題ない程度に位置ずれ小さく、また基板S
1とS2にしわの発生なく、さらに基板S1とS2の間
への気泡の混入なく、基板S1とS2を本接着すること
ができた。 [9] 本発明の製造方法においては、図13に示す本
接着装置A4を用いて、本接着工程を行ってもよい。
In order to manufacture a plurality of liquid crystal display panels DP1, the temporary bonding step and the final bonding step were performed a plurality of times.
2 is small enough to have no practical problem and the substrate S
Substrates S1 and S2 could be permanently bonded without wrinkles occurring in Nos. 1 and S2 and without air bubbles entering between substrates S1 and S2. [9] In the manufacturing method of the present invention, the main bonding step may be performed using the main bonding apparatus A4 shown in FIG.

【0121】本接着装置A4は、次に述べることを除け
は図6の本接着装置A2と同様のものである。
The main bonding apparatus A4 is the same as the main bonding apparatus A2 in FIG. 6 except for the following.

【0122】本接着装置A4は、加熱加圧ローラ6の他
に、予備加熱装置H1を備えている。予備加熱装置H1
は本例では赤外線ランプヒータである。
The bonding apparatus A4 includes a preliminary heating device H1 in addition to the heating and pressing roller 6. Preheating device H1
Is an infrared lamp heater in this example.

【0123】本接着装置A4においては、仮接着された
基板S1とS2をステージ33上に載置して、ステージ
33の吸着テーブル331に向けてこれら基板を吸着し
た後、次のようにして本接着が行われる。
In the permanent bonding apparatus A4, the temporarily bonded substrates S1 and S2 are placed on the stage 33, and these substrates are sucked toward the suction table 331 of the stage 33. Bonding is performed.

【0124】ステージ33をヒータH1に臨む位置まで
移動させて、ヒータH1によって基板S1とS2を基板
S1側から予備加熱するとともに、ステージ33の吸着
テーブル331のヒータ331hによって基板S2側か
らこれら基板を予備加熱する。なお、本例では、基板S
1とS2がステージ33上にセットされたときには、吸
着テーブル331の温度は常温であり、ステージ33上
に基板がセットされた後から吸着テーブル331のヒー
タ331hを駆動することで、基板S2側から基板S1
とS2の加熱を開始する。
The stage 33 is moved to a position facing the heater H1, and the substrates S1 and S2 are preheated from the substrate S1 side by the heater H1, and these substrates are heated from the substrate S2 side by the heater 331h of the suction table 331 of the stage 33. Preheat. In this example, the substrate S
When 1 and S2 are set on the stage 33, the temperature of the suction table 331 is normal temperature, and after the substrate is set on the stage 33, the heater 331h of the suction table 331 is driven, so that Substrate S1
And heating of S2 is started.

【0125】吸着テーブル331の温度が所定温度に到
達した後に、ステージ33を図中右方向に移動して、所
定温度の加熱加圧ローラ6によって、基板S1とS2の
一方の端部から他方の端部へ順に熱及び圧力を加えなが
ら、基板S1とS2を本接着する。
After the temperature of the suction table 331 reaches a predetermined temperature, the stage 33 is moved rightward in the figure, and the heating and pressing roller 6 at a predetermined temperature causes one end of the substrates S1 and S2 to move to the other end. The substrates S1 and S2 are permanently bonded while sequentially applying heat and pressure to the ends.

【0126】このように仮接着されている基板S1とS
2を予備加熱した後、熱及び圧力を加えながら基板S1
とS2を本接着しても、位置ずれなく、また、しわの発
生なく基板S1とS2を本接着することができる。 [9- 1]実施例3 実際に、本接着装置A4を用いて、仮接着装置A1によ
って仮接着された基板S1とS2を上記のようにして本
接着したところ、基板S1とS2を位置ずれなく、また
基板S1とS2にしわの発生なく、さらに基板S1とS
2の間への気泡の混入なく、基板S1とS2を本接着す
ることができた。なお、ステージ33の吸着テーブル3
31の温度は50°Cにまで予備加熱し、加熱加圧ロー
ラ6の温度は150°Cに設定した。
The thus temporarily bonded substrates S1 and S1
2 is preheated, and the substrate S1
Even when the substrates S1 and S2 are fully bonded, the substrates S1 and S2 can be completely bonded without any displacement and without wrinkles. [9-1] Example 3 When the substrates S1 and S2 temporarily bonded by the temporary bonding device A1 were actually bonded as described above using the actual bonding device A4, the substrates S1 and S2 were misaligned. And no wrinkles occurred on the substrates S1 and S2.
The substrates S1 and S2 could be permanently bonded without air bubbles entering between the two. The suction table 3 of the stage 33
The temperature of 31 was preliminarily heated to 50 ° C., and the temperature of the heating and pressing roller 6 was set at 150 ° C.

【0127】また、複数の液晶表示パネルDP1を作製
するために、仮接着工程及び本接着工程を複数回行った
ところ、いずれの表示パネルにおいても、基板S1とS
2を実用上問題ない程度に位置ずれ小さく、また基板S
1とS2にしわの発生なく、さらに基板S1とS2の間
への気泡の混入なく、基板S1とS2を本接着すること
ができた。
In order to manufacture a plurality of liquid crystal display panels DP1, the temporary bonding step and the final bonding step were performed a plurality of times.
2 is small enough to have no practical problem and the substrate S
Substrates S1 and S2 could be permanently bonded without wrinkles occurring in Nos. 1 and S2 and without air bubbles entering between substrates S1 and S2.

【0128】[0128]

【発明の効果】本発明は、一対の基板の間に液晶が配置
された液晶表示パネルの製造方法であって、これら基板
にしわが発生するのを抑制しながら、これら基板を接着
することができる液晶表示パネルの製造方法を提供する
ことができる。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display panel in which liquid crystal is disposed between a pair of substrates, and these substrates can be bonded while suppressing wrinkles from being generated in these substrates. A method for manufacturing a liquid crystal display panel can be provided.

【0129】また、本発明は、第1及び第2の一対の基
板の間に液晶が配置された液晶表示パネルの製造方法で
あって、第1基板と第2基板が所定の位置関係となるよ
うに、これら基板を接着することができる液晶表示パネ
ルの製造方法を提供することができる。
Further, the present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which liquid crystal is disposed between a first and a second pair of substrates, wherein the first substrate and the second substrate have a predetermined positional relationship. Thus, a method for manufacturing a liquid crystal display panel to which these substrates can be bonded can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法により作製される液晶表示パ
ネルの一例の概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an example of a liquid crystal display panel manufactured by a manufacturing method of the present invention.

【図2】図2(A)及び図2(B)は、図1の液晶表示
パネルをそれぞれ表側、裏側から見た概略平面図であ
る。
FIGS. 2A and 2B are schematic plan views of the liquid crystal display panel of FIG. 1 as viewed from the front side and the back side, respectively.

【図3】図1の液晶表示パネルを作製するときの本発明
の製造方法の一例の概略フローチャートである。
FIG. 3 is a schematic flowchart of an example of a manufacturing method of the present invention when manufacturing the liquid crystal display panel of FIG.

【図4】仮接着工程を行うための仮接着装置の一例の概
略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an example of a temporary bonding device for performing a temporary bonding step.

【図5】図4の仮接着装置の概略ブロック図である。FIG. 5 is a schematic block diagram of the temporary bonding device of FIG. 4;

【図6】本接着工程を行うための本接着装置の一例の概
略構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an example of a main bonding apparatus for performing a main bonding step.

【図7】図7から図9は、図4の仮接着装置及び図6の
本接着装置を用いて、液晶供給工程、仮接着工程及び本
接着工程を行うときの工程図である。
FIGS. 7 to 9 are process diagrams when a liquid crystal supply step, a temporary bonding step, and a full bonding step are performed using the temporary bonding apparatus of FIG. 4 and the full bonding apparatus of FIG. 6;

【図8】図7から図9は、図4の仮接着装置及び図6の
本接着装置を用いて、液晶供給工程、仮接着工程及び本
接着工程を行うときの工程図である。
FIGS. 7 to 9 are process diagrams when a liquid crystal supply step, a temporary bonding step, and a full bonding step are performed using the temporary bonding apparatus of FIG. 4 and the full bonding apparatus of FIG.

【図9】図7から図9は、図4の仮接着装置及び図6の
本接着装置を用いて、液晶供給工程、仮接着工程及び本
接着工程を行うときの工程図である。
FIGS. 7 to 9 are process diagrams when a liquid crystal supply step, a temporary bonding step, and a full bonding step are performed using the temporary bonding apparatus of FIG. 4 and the full bonding apparatus of FIG. 6;

【図10】比較例1において用いた接着装置によって仮
接着工程及び本接着工程を行うときの工程図である。
FIG. 10 is a process chart when a temporary bonding step and a main bonding step are performed by the bonding apparatus used in Comparative Example 1.

【図11】比較例1において作製された液晶表示パネル
の概略平面図である。
FIG. 11 is a schematic plan view of a liquid crystal display panel manufactured in Comparative Example 1.

【図12】図12(A)は本接着工程を行うための本接
着装置の他の例の概略側面図であり、図12(B)はこ
の本接着装置の概略斜視図である。
FIG. 12A is a schematic side view of another example of the main bonding apparatus for performing the main bonding step, and FIG. 12B is a schematic perspective view of the main bonding apparatus.

【図13】本接着工程を行うための本接着装置のさらに
他の例の概略構成図である。
FIG. 13 is a schematic configuration diagram of still another example of the main bonding apparatus for performing the main bonding step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

DP1 液晶表示パネル S1、S2 基板 E1、E2 電極 IS1、IS2 絶縁膜 O1、O22 配向膜 LC 液晶 AB 光吸収膜 SW シール壁 CS 柱状構造物 SP スペーサ M1、M2 アライメントマーク A1 仮接着装置 A2、A3、A4 本接着装置 31、32、33 ステージ 311、321、331 吸着テーブル 312、322 X−Y−θ駆動機構 313、323、333 ベース部材 4 ディスペンサ 5 加圧ローラ 6 加熱加圧ローラ 6h ヒータ 711、712、721、722 CCDカメラ DP1 Liquid crystal display panel S1, S2 Substrate E1, E2 Electrode IS1, IS2 Insulating film O1, O22 Alignment film LC Liquid crystal AB Light absorbing film SW Seal wall CS Columnar structure SP Spacer M1, M2 Alignment mark A1 Temporary bonding device A2, A3, A4 Bonding device 31, 32, 33 Stage 311, 321, 331 Suction table 312, 322 XY-θ drive mechanism 313, 323, 333 Base member 4 Dispenser 5 Pressure roller 6 Heating pressure roller 6h Heater 711, 712 , 721, 722 CCD camera

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 LA09 NA22 NA38 NA45 NA48 NA56 QA12 QA14  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H089 LA09 NA22 NA38 NA45 NA48 NA56 QA12 QA14

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1基板と第2基板の間に液晶が配置され
た液晶表示パネルの製造方法であって、 前記第1及び第2基板のうちの少なくとも一方の基板の
上に接着材料を供給する接着材料供給工程と、 前記第1及び第2基板のうちの少なくとも一方の基板の
上に液晶を供給する液晶供給工程と、 前記接着材料及び前記液晶を間に挟んで、前記第1基板
と前記第2基板を仮接着する仮接着工程と、 前記接着材料及び前記液晶を間に挟んで、前記第1基板
と前記第2基板を本接着する本接着工程とを含んでお
り、 前記本接着工程は前記仮接着工程が終了した後に行わ
れ、 前記仮接着工程と前記本接着工程では前記第1及び(又
は)第2基板に加える熱が異なることを特徴とする液晶
表示パネルの製造方法。
1. A method of manufacturing a liquid crystal display panel having a liquid crystal disposed between a first substrate and a second substrate, wherein an adhesive material is provided on at least one of the first and second substrates. An adhesive material supply step of supplying; a liquid crystal supply step of supplying liquid crystal onto at least one of the first and second substrates; and the first substrate with the adhesive material and the liquid crystal interposed therebetween. A temporary bonding step of temporarily bonding the first substrate and the second substrate with the bonding material and the liquid crystal interposed therebetween. The method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein the bonding step is performed after the temporary bonding step is completed, and the heat applied to the first and / or second substrate is different between the temporary bonding step and the main bonding step. .
【請求項2】前記仮接着工程は前記第1及び第2基板が
常温の状態で行われ、 前記本接着工程は前記第1及び(又は)第2基板を加熱
しながら行われる請求項1記載の液晶表示パネルの製造
方法。
2. The temporary bonding step is performed while the first and second substrates are at room temperature, and the main bonding step is performed while heating the first and / or second substrate. Of manufacturing a liquid crystal display panel.
【請求項3】前記仮接着工程は前記第1及び第2基板に
所定の圧力を加えながら行われる請求項1又は2記載の
液晶表示パネルの製造方法。
3. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein said temporary bonding step is performed while applying a predetermined pressure to said first and second substrates.
【請求項4】前記仮接着工程は前記第1及び第2基板の
一方の端部から他方の端部へ順に所定の圧力を加えなが
ら行われる請求項3に記載の液晶表示パネルの製造方
法。
4. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 3, wherein said temporary bonding step is performed while sequentially applying a predetermined pressure from one end of said first and second substrates to the other end.
【請求項5】前記仮接着工程は、前記第1及び第2基板
のうちの少なくとも一方の基板を保持するための平面テ
ーブルに対して、加圧ローラを相対的に移動させること
で、該第1及び第2基板に所定の圧力を加えながら行わ
れる請求項4記載の液晶表示パネルの製造方法。
5. The temporary bonding step comprises: moving a pressure roller relative to a flat table for holding at least one of the first and second substrates; 5. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 4, wherein the method is performed while applying a predetermined pressure to the first and second substrates.
【請求項6】前記本接着工程は前記第1及び第2基板に
所定の熱及び圧力を加えながら行われる請求項1から5
のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
6. The first bonding step is performed while applying predetermined heat and pressure to the first and second substrates.
The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to any one of the above.
【請求項7】前記本接着工程は前記第1及び第2基板の
一方の端部から他方の端部へ順に所定の熱及び圧力を加
えながら行われる請求項1から6のいずれかに記載の液
晶表示パネルの製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein the main bonding step is performed while sequentially applying predetermined heat and pressure from one end of the first and second substrates to the other end. A method for manufacturing a liquid crystal display panel.
【請求項8】前記本接着工程は、前記第1及び第2基板
のうちの少なくとも一方の基板を保持するための平面テ
ーブルに対して、加熱加圧ローラを相対的に移動させる
ことで、該第1及び第2基板に所定の熱及び圧力を加え
ながら行われる請求項7記載の液晶表示パネルの製造方
法。
8. The main bonding step includes: moving a heating / pressing roller relative to a flat table for holding at least one of the first and second substrates; The method according to claim 7, wherein the method is performed while applying predetermined heat and pressure to the first and second substrates.
【請求項9】前記本接着工程は、互いに対向する第1及
び第2の加熱加圧ローラの間を前記第1及び第2基板を
通過させることで、該第1及び第2基板に所定の熱及び
圧力を加えながら行われる請求項7記載の液晶表示パネ
ルの製造方法。
9. The method of claim 1, wherein the first and second substrates are passed through a space between the first and second heating / pressing rollers facing each other, so that the first and second substrates are fixed to each other. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 7, wherein the method is performed while applying heat and pressure.
【請求項10】前記仮接着工程の後であって前記本接着
工程の前に前記第1及び(又は)第2基板を予備加熱す
る予備加熱工程をさらに含んでいる請求項1から9のい
ずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
10. A method according to claim 1, further comprising a preheating step of preheating the first and / or second substrate after the temporary bonding step and before the main bonding step. A method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the above item.
【請求項11】前記仮接着工程の前に前記第1基板と前
記第2基板の位置合わせを行う位置合わせ工程をさらに
含んでいる請求項1から10のいずれかに記載の液晶表
示パネルの製造方法。
11. The manufacturing of the liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a positioning step of positioning the first substrate and the second substrate before the temporary bonding step. Method.
【請求項12】前記第1及び第2基板のうちの少なくと
も一方が樹脂フィルム基板である請求項1から11のい
ずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
12. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein at least one of said first and second substrates is a resin film substrate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102056370B1 (en) * 2013-05-21 2019-12-16 엘지전자 주식회사 Film laminating apparatus

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KR102056370B1 (en) * 2013-05-21 2019-12-16 엘지전자 주식회사 Film laminating apparatus

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