JP2002294033A

JP2002294033A - 難燃性エポキシ樹脂組成物、半導体封止材料、及び半導体装置

Info

Publication number: JP2002294033A
Application number: JP2001100716A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Hirata; 明広平田; Hiroshi Hirose; 浩廣瀬; Hirotaka Nonaka; 啓孝野中
Original assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date: 2001-03-30
Filing date: 2001-03-30
Publication date: 2002-10-09

Abstract

(57)【要約】【課題】ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物を
含まずに優れた難燃性を有する難燃性エポキシ樹脂組成
物、及びそれを用いた成形性と難燃性に優れた半導体封
止材料、更には高い半田耐熱性と耐湿信頼性を有する半
導体装置を提供する。【解決手段】１分子内に少なくとも２個のエポキシ基
を有する化合物、硬化剤、及びセラミックス、を必須成
分として配合して難燃性エポキシ樹脂組成物、更に軟化
点１０００℃以上の無機質充填材を配合して半導体封止
材料を得て、これを用いて半導体素子を封止して半導体
装置を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン系化合物
やリン系難燃剤を使用することなしに優れた難燃性を示
す難燃性エポキシ樹脂組成物、およびその難燃性エポキ
シ樹脂組成物に無機質充填材を配合して得られる半導体
封止材料、更にはその半導体封止材料の硬化物によって
封止された半導体装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ダイオード、トランジスタ、集積
回路等の電子部品の半導体封止材料に用いられる樹脂と
しては、不飽和ポリエステル樹脂やフェノール樹脂など
に比べて硬化の際の収縮が少ないことや金属や無機物と
の接着性が良いことから、主にエポキシ樹脂が半導体封
止材料として用いられており、更には火災に対する安全
性を確保するため難燃性が付与されている。従来、これ
らの熱硬化性樹脂の難燃化手法としては、臭素化エポキ
シ樹脂などのハロゲン系化合物と酸化アンチモンを用い
るのが一般的手法として採用されてきた。

【０００３】しかしながら、このハロゲン系化合物を用
いた手法は高度な難燃性を有するが、世界的な環境保護
意識の高まりの中、ハロゲン系難燃剤やアンチモン化合
物を使用しないで優れた難燃性を発揮する、新しい難燃
化手法の開発要求が大きくなってきている。

【０００４】このような理由から、ハロゲン系化合物に
代わる難燃剤として種々の難燃剤が、例えば、リン系難
燃剤、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金
属水酸化物、ホウ素系化合物が広く検討されてきた。し
かし、これらは多量に配合しないと難燃性の効果が発現
しない。また、エポキシ樹脂系組成物にこれら難燃剤を
添加した場合には、これら難燃剤自身の加水分解やイオ
ン性不純物等が原因となって硬化性を阻害したり、硬化
物の電気的特性を低下させる場合がある。更にまた、半
導体封止材料に用いた場合には半導体装置の信頼性を劣
化させるというおそれがあるために、更に異なる新しい
難燃技術の開発が望まれている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ハロゲン系
難燃剤及びアンチモン化合物を含まずに優れた難燃性を
有する難燃性エポキシ樹脂組成物、および成形性、難燃
性、半田耐熱性に優れた半導体封止材料、更には信頼性
に優れた半導体装置を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明らは、エポキシ樹
脂の難燃化におけるこのような現状に鑑みて更に検討を
重ねた結果、セラミックスを添加することにより、エポ
キシ樹脂組成物が、成形性、電気特性、耐湿信頼性に大
きな悪影響を及ぼすことなく高い難燃性を発揮できるこ
とを見出し、更に、軟化点が１０００℃以上の無機充填
材を配合することによって調整された半導体封止材料が
優れた成形性と難燃性を有し、これを用いて封止された
半導体装置が高い信頼性を発揮することを見出して、本
発明を完成するに至ったものである。

【０００７】即ち本発明は、１分子内に少なくとも２個
のエポキシ基を有する化合物（Ａ）、（Ａ）に対する硬
化剤（Ｂ）、及びセラミックス（Ｃ）、を必須成分とし
て含有することを特徴とする難燃性エポキシ樹脂組成
物、更にこの難燃性エポキシ樹脂組成物と、軟化点が１
０００℃以上の無機質充填材（Ｄ）とで基本的に構成さ
れることを特徴とする半導体封止材料、そして更にはそ
の半導体封止材料の硬化物によって封止された高い難燃
性と信頼性を有する半導体装置を提供するものである。

【０００８】更に好ましくは、エポキシ樹脂組成物にお
いて、エポキシ基を有する化合物（Ａ）に対する硬化剤
（Ｂ）が、１分子内に少なくとも２個のフェノール性水
酸基を有する化合物からなること、セラミックス（Ｃ）
の軟化点が９００℃以下であり、また、最大粒径が１５
０μｍ以下、エポキシ樹脂組成物中に６０〜９５重量％
の割合で配合されること、半導体封止材料において、無
機質充填材（Ｄ）が、平均粒径５〜３０μｍ、最大粒径
１５０μｍ以下となる溶融シリカで、全半導体封止材料
中に５５〜８５重量％の割合で配合されることを特徴と
するものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の難燃性エポキシ樹脂組成
物、及びそれを用いた半導体封止材料は、ハロゲン化エ
ポキシ樹脂などのハロゲン系化合物及びアンチモン化合
物を使用せず、構成成分であるセラミックス（Ｃ）及び
無機質充填材（Ｄ）の添加によって、流動性、硬化性、
耐湿信頼性を著しく低下させることなく優れた難燃性
を、半導体装置に付与することを骨子とする。

【００１０】本発明に用いる１分子内に少なくとも２個
のエポキシ基を有する化合物（Ａ）は、モノマー、オリ
ゴマー、ポリマー全般を言い、その分子量や分子構造を
特に限定するものではない。例えば、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン
型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型
エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂
（フェニレン骨格、ジフェニレン骨格等を有する）、ナ
フトール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹
脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹
脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、芳香族アミンおよ
び複素環式窒素塩基から導かれるＮ-グリシジル化合
物、例えば、Ｎ,Ｎ-ジグリシジルアニリン、トリグリシ
ジルイソシアヌレート、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'-テトラグリシジ
ル-ビス（ｐ-アミノフェニル）-メタン等が挙げられる
が、特にこれらに限定されるものではない。また、これ
らは単独でも併用して用いても差し支えない。

【００１１】但し、本発明がハロゲン系化合物を用いな
い樹脂組成物を目的とする以上、臭素化ビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂や臭素化ノボラック型エポキシ樹脂な
どのハロゲン化エポキシ樹脂は原則として除外するが、
ハロゲン化エポキシ樹脂を少量あるいは部分的に含んで
いたとしても本発明の技術的範囲に含まれることは勿論
である。また、エポキシ樹脂の製造工程上、エピクロル
ヒドリンを起源とする通常のエポキシ樹脂に含まれる塩
素はやむを得ず残留するものであり、本発明に関して何
ら差し支えはなく、これを除外するものではない。その
量は当業者に公知のレベルであり、加水分解性塩素にて
数百ｐｐｍのオーダーである。

【００１２】本発明に用いる化合物（Ａ）に対する硬化
剤（Ｂ）は、少なくとも２個のエポキシ基と硬化反応し
得る官能基を１分子内に有するものであれば良く、モノ
マー、オリゴマー、ポリマー全般を言い、その分子量や
分子構造を特に限定するものでは無く、当業者において
公知のものはすべて用いることができる。例えば、エチ
レンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレン
ジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのＣ２〜Ｃ２０
の直鎖脂肪族ジアミン、メタフェニレンジアミン、パラ
フェニレンジアミン、パラキシレンジアミン、４,４'-
ジアミノジフェニルメタン、４,４'-ジアミノジフェニ
ルプロパン、４,４'-ジアミノジフェニルエーテル、４,
４'-ジアミノジフェニルスルホン、４,４'-ジアミノジ
シクロヘキサン、ビス（４-アミノフェニル）フェニル
メタン、１,５-ジアミノナフタレン、メタキシレンジア
ミン、パラキシレンジアミン、１,１-ビス（４-アミノ
フェニル）シクロヘキサン、ジシアノジアミドなどのア
ミン類、アニリン変性レゾール樹脂やジメチルエーテル
レゾール樹脂などのレゾール型フェノール樹脂、酸無水
物、フェノール系化合物が挙げられるが、特にこれらに
限定されるものではない。また、これらは単独でも混合
して用いても差し支えない。半導体封止材料用として
は、成形性や信頼性等の点から、フェノール系化合物が
特に好ましく用いられる。このフェノール化合物として
は、１分子内に少なくとも２個のフェノール性水酸基を
有するものであれば良く、モノマー、オリゴマー、ポリ
マー全般を言い、その分子量や分子構造を特に限定する
ものではない。例えば、フェノールノボラック樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂、ターシャリー-ブチルフェノ
ールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂
などのノボラック型フェノール樹脂、ジシクロペンタジ
エン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹
脂、トリフェノールメタン型樹脂、レゾール型フェノー
ル樹脂、ポリパラオキシスチレンなどのポリオキシスチ
レン、フェノールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ジ
フェニレン骨格等を有する）、ナフトールアラルキル樹
脂、ポリパラオキシスチレンなどのポリオキシスチレン
樹脂等が挙げられるが、特にこれらに限定されるもので
はない。また、これらは単独でも混合して用いても差し
支えない。特に、フェノールノボラック樹脂、ジシクロ
ペンタジエン変性フェノール樹脂、フェノールアラルキ
ル樹脂、テルペン変性フェノール樹脂等が好ましい。

【００１３】本発明において、１分子内に少なくとも２
個のエポキシ基を有する化合物（Ａ）と硬化剤（Ｂ）の
配合割合は、該樹脂組成物が良好な成形性と電気特性、
信頼性を発揮できる範囲であればよく、硬化剤（Ｂ）が
フェノール系化合物の場合には、全エポキシ樹脂のエポ
キシ基数と全フェノール樹脂のフェノール性水酸基数の
比が０．８〜１．３が好ましく、硬化剤（Ｂ）が酸無水
物の場合は、全エポキシ樹脂のエポキシ基数と酸無水物
の酸無水物基数の比が０.８〜１.４の範囲で配合するこ
とが好ましい。硬化剤（Ｂ）がアミン系化合物の場合
は、全エポキシ樹脂のエポキシ基数と全アミン系化合物
のアミノ基の活性水素数の比が０.５〜２.０の範囲で配
合することが好ましい。

【００１４】一般的にセラミックスとしては、例えば、
Ｐ₂Ｏ₅，ＧｅＯ₂，ＴｅＯ₂，Ｖ₂Ｏ₅等の金属の酸化物、
窒化アルミニウム等の窒化物、炭化珪素等の炭化物、ホ
ウケイ酸のガラス、ケイ酸塩ガラス等のケイ化物、Ａｓ
₂Ｓ₃，ＧｅＳ₂，Ａｓ₂Ｓｅ₃などを主成分としたカルコ
ゲン化物ガラス、ＺｒＦ₄，ＢａＦ₂，ＡｌＦ等のハロゲ
ン化物ガラス等の非晶質、単結晶質と多結晶質のものが
挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。

【００１５】本発明に用いるセラミックス（Ｃ）として
は、これらの中で、好ましくは、ハロゲンとアンチモン
を含まず、９００℃以下の軟化点を有するものが用いら
れる。軟化点が９００℃よりも高いと難燃効果が充分に
発揮され難い傾向にある。セラミックス（Ｃ）の配合量
は、樹脂組成物中６０〜９５重量％の範囲とするのが好
ましい。６０重量％未満では難燃性の効果が小さく、一
方、９５重量％を越えると燃焼時に滴下物が発生するお
それがある。更に、良好な充填性を発揮するためにセラ
ミックス（Ｃ）の最大粒径を１５０μｍ以下とすること
が、また更に良好な流動性とバリ特性を発揮するために
セラミックス（Ｃ）の平均粒径を５〜３０μｍとするこ
とが好ましい。セラミックス（Ｃ）は、単独で用いても
よく、複数種を混合して用いることも出来る。

【００１６】本発明に用いる軟化点１０００℃以上の無
機質充填材（Ｄ）としては、一般に半導体封止材料に使
用されているものを使用することができる。例えば、溶
融シリカ、結晶シリカ、タルク、アルミナ、炭酸カルシ
ウム、クレー、マイカ、窒化珪素等の粉末状の無機質充
填材が挙げられるが、特にこれらの種類に限定されるも
のではなく、軟化点が１０００℃以上ならばよい。ま
た、これらは単独でも混合して用いても差し支えない
が、半導体封止材用途には溶融シリカが好適に用いられ
る。

【００１７】軟化点１０００℃以上の無機質充填材
（Ｄ）の配合量としては、成形性と耐半田性のバランス
から、全半導体封止材料中に５５〜８５重量％含有する
ことが好ましい。５５重量％未満だと吸湿率の上昇に伴
う耐半田性が低下し、８５重量％を越えるとワイヤース
ィープ及びパッドシフト等の成形性の問題が生じるため
に好ましくない。更に、半導体封止材料とした際に良好
な流動性、充填性、低バリ性を発揮するために平均粒径
を５〜３０μｍ、最大粒径を１５０μｍ以下とすること
が好ましい。

【００１８】本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物及び半
導体封止材料には、さらに必要に応じて天然ワックス
類、合成ワックス類、直鎖脂肪族酸の金属塩、酸アミド
類、エステル類、パラフィン類などの離型剤、カーボン
ブラック、ベンガラなどの着色剤、硬化促進剤、シラン
カップリング剤、及びシリコーンオイル、ゴム等の低応
力添加剤等の、当業者において公知の種々の公知の添加
剤を適宜配合して使用しても差し支えない

【００１９】本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物と無機
質充填材及びその他の成分を所定の組成比に選択し、ミ
キサーなどにより十分に均一になるように混合した後、
熱ロール等による混練処理を行い、冷却、固化させ、適
当な大きさに粉砕することで半導体封止材料を得ること
ができる。更に、得られた半導体封止材料を用いて半導
体素子を封止すべく１６５℃〜１９５℃の範囲でトラン
スファー成形や射出成形にて成形硬化させることで半導
体装置を得ることができる。

【００２０】また、本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物
はハロゲン系化合物やアンチモン系難燃剤を含まずに優
れた難燃性を示し、これを用いて調整された半導体封止
材料は良好な成形性を示し、半導体装置に良好な信頼性
を与えることから、半導体素子を初めとして電子部品や
電機部品の封止材料として使用できる他、被膜材料、絶
縁材料、積層板、金属張り積層板などの用途にも好適に
使用することが出来る。

【００２１】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳しく説明する
が、本発明はこれによって何ら限定されるものではな
い。

【００２２】（実施例１）球状溶融シリカ（平均粒径２０μｍ、最大粒径１２０μｍ）８５.０重量部セラミックスＡ（軟化点３５０℃、平均粒径２０μｍ、最大粒径１２０μｍ、主成分Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃）５.０重量部エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社製ＹＸ-４０００ＨＫ、エポキシ当量１９５ｇ／eq）４.８重量部硬化剤樹脂（三井化学製ＸＬ-２２５、水酸基当量１７５ｇ／eq）４.２重量部離型剤（天然カルナバワックス）０.３重量部着色剤（カーボンブラック）０.２重量部エポキシシランカップリング剤０.３重量部トリフェニルホスフィン０.２重量部をミキサーを用いて常温で混合した後に熱ロールを用い
て混練し、冷却した後に粉砕して半導体封止材料を得
た。得られた半導体封止材料を用いて、流動性、硬化
性、および難燃性を測定し、更に半導体装置の耐湿信頼
性の試験を行なった。各特性の測定方法および条件は次
の通りとした。評価結果を表１に示した。

【００２３】（１）流動性スパイラルフローにて評価した。ＥＭＭＩ-１-６６に準
じたスパイラルフロー測定用の金型を用いて、トランス
ファー成形機により、金型温度１７５℃、注入圧力６.
８６ＭＰａ、硬化時間１２０秒の条件で測定した。得ら
れた測定値が大きい方が流動性が良いことを示す。

【００２４】（２）硬化性バーコル硬度＃９３５にて評価した。トランスファー成
形機により、金型温度１７５℃で１２０秒間成形し、金
型の型開き１０秒後の成形品表面のバーコール硬度＃９
３５を測定した。

【００２５】（３）難燃性ＵＬ−９４垂直法に準じて評価した。トランスファー成
形機により、金型温度１７５℃、注入圧力７.４５ＭＰ
ａ、硬化時間１２０秒の条件にて試験片（１２７ｍｍ×
１２．７ｍｍ×１．６ｍｍ）を成形後、１７５℃で８時
間の後硬化を行った。そして、ＵＬ−９４垂直法規格に
準じて難燃性を判定した。

【００２６】（４）半田耐熱性モニターＩＣパッケージとして８０ｐＱＦＰ（パッケー
ジサイズ１４ｍｍ×２０ｍｍ×２．０ｍｍ、チップサイ
ズ９．０ｍｍ×９．０ｍｍ、ＩＣチップは保護膜を施し
ていないアルミ配線無しの模擬素子、リードフレーム材
質は銅）を低圧トランスファー成形機で、金型温度１７
５℃、注入圧力７.４５ＭＰａ、硬化時間１２０秒の条
件にて成形し、更に１７５℃、８時間の後硬化処理を行
って２０個のＩＣパッケージを得た。得られたパッケー
ジを８５℃、相対湿度８５％で１６８時間放置し、その
後２４０℃の半田槽に１０秒間浸漬した。そして、顕微
鏡でパッケージ上の外部クラック発生の有無を観察し、
次いで超音波探傷装置で内部クラックと内部剥離を観察
した。１ヶ所でもクラックまたは内部剥離があるＩＣパ
ッケージを不良と判定した。不良の生じたパッケージが
ｎ個であるとき、ｎ／２０と表示した。

【００２７】（５）耐湿信頼性モニターＩＣパッケージとして１６ｐＤＩＰ（パッケー
ジ幅３００ｍｉｌｓ、チップサイズ３．０ｍｍ×３．５
ｍｍ、ＩＣチップは保護膜を施していないアルミ配線が
むき出しのアルミ模擬素子、リードフレーム材質は４２
アロイ合金）を低圧トランスファー成形機で、金型温度
１７５℃、注入圧力７.４５ＭＰａ、硬化時間１２０秒
の条件にて成形し、更に１７５℃、８時間の後硬化処理
を行って２０個のＩＣパッケージを得た。得られたＩＣ
パッケージを１２５℃、湿度１００％、２．３気圧の恒
温恒湿槽に保管し、２００時間まで試験した後、導通試
験を行った。１端子でも導通しないＩＣパッケージを不
良と判定した。不良の生じたパッケージがｎ個であると
き、ｎ／２０と表示した。

【００２８】（６）バリ特性モニターＩＣパッケージとして１６ｐＤＩＰ（パッケー
ジ幅３００ｍｉｌｓ、チップサイズ３．０ｍｍ×３．５
ｍｍ、ＩＣチップは未搭載、リードフレーム材質は４２
アロイ合金）を低圧トランスファー成形機で、金型温度
１７５℃、注入圧力７.４５ＭＰａ、硬化時間１２０秒
の条件にて成形して得た２０個の各ＩＣパッケージのリ
ード端子上エアベント部のバリ長さを測定して平均値を
求めた。

【００２９】（７）充填性モニターＩＣパッケージとして１６ｐＤＩＰ（パッケー
ジ幅３００ｍｉｌｓ、チップサイズ３．０ｍｍ×３．５
ｍｍ、ＩＣチップは未搭載、リードフレーム材質は４２
アロイ合金）を低圧トランスファー成形機で、金型温度
１７５℃、注入圧力７.４５ＭＰａ、硬化時間１２０秒
の条件にて成形して得た２０個の各ＩＣパッケージの充
填度を外観観察により判定した。リード端子上エアベン
ト部のバリ長さを測定して平均値を求めた。１ヶ所でも
未充填部分を有するＩＣパッケージを不良と判定した。
不良の生じたパッケージがｎ個であるとき、ｎ／２０と
表示した。

【００３０】（実施例２〜９）表１の組成に従い、実施
例１と同様にして、半導体封止材を得た。評価結果を表
１にまとめて示した。

【００３１】（比較例１〜３）表１の組成に従い、実施
例と同様にして、半導体封止材を得た。評価結果を表１
にまとめて示した。

【００３２】

【表１】

【００３３】表１に示した結果から分かるように、難燃
剤を添加しない比較例１は難燃性Ｖ−０を達成できなか
った。シリカ充填材の配合量が多すぎて８５重量％を超
えている比較例２は流動性が充分でなく、多くの他項目
の評価が不可能だった。セラミックスの軟化点が高すぎ
て９００℃を超えている比較例３は難燃性Ｖ−０を達成
できなかった。

【００３４】これらに対して、本発明の最大粒径１５０
μｍ以下、９００℃以下の軟化点を有するセラミックス
と、５〜３０μｍの平均粒径、最大粒径１５０μｍ以
下、１０００℃以上の軟化点を有するシリカ粉末充填材
を、全半導体封止材料中にそれぞれ５〜４０重量％、５
５〜８５重量％の割合で配合して得られた半導体封止材
料である実施例１〜９は全ての項目において良好な結果
を示した。

【００３５】

【発明の効果】本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物、お
よびその難燃性エポキシ樹脂組成物に無機質充填材を配
合して得られる半導体封止材料は、ハロゲン系難燃剤と
アンチモン化合物を含まずに優れた難燃性を有し、成形
性に優れ、更には高い半田耐熱性と耐湿信頼性を有する
半導体装置を得ることができる。

フロントページの続きＦターム(参考） 4J002 BC12X CC04X CC05X CC07X CD04W CD05W CD06W CD07W CD11W CD13W CD14W CD20W CE00X DE148 DE238 DG027 DJ007 DJ008 DJ018 DJ038 DJ048 DJ058 DM007 EN036 EN076 EV216 FD018 FD146 GQ05 4J036 AA01 DA01 FA01 FA06 FB06 FB07 JA07 4M109 AA01 EA03 EB03 EB06 EB07 EB08 EB09 EB13 EC05 EC20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】１分子内に少なくとも２個のエポキシ基
を有する化合物（Ａ）、前記化合物（Ａ）に対する硬化
剤（Ｂ）、及び、セラミックス（Ｃ）、を必須成分とし
て含有することを特徴とする難燃性エポキシ樹脂組成
物。
【請求項２】化合物（Ａ）に対する硬化剤（Ｂ）が、
１分子内に少なくとも２個のフェノール性水酸基を有す
る化合物からなることを特徴とする、請求項１記載の難
燃性エポキシ樹脂組成物。
【請求項３】セラミックス（Ｃ）が９００℃以下の軟
化点を有することを特徴とする、請求項１又は請求項２
に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物。
【請求項４】セラミックス（Ｃ）が１５０μｍ以下の
最大粒径を有し、エポキシ樹脂組成物中に６０〜９５重
量％の割合で配合されてなることを特徴とする請求項
１、請求項２又は請求項３に記載の難燃性エポキシ樹脂
組成物。
【請求項５】請求項１ないし請求項４のいずれかに記
載された難燃性エポキシ樹脂組成物と、軟化点が１００
０℃以上の無機質充填材（Ｄ）とで基本的に構成される
ことを特徴とする半導体封止材料。
【請求項６】無機質充填材（Ｄ）が、５〜３０μｍの
平均粒径、１５０μｍ以下の最大粒径を有する溶融シリ
カであり、半導体封止材料中に５５〜８５重量％の割合
で配合されてなることを特徴とする請求項５に記載の半
導体封止材料。
【請求項７】請求項５又は請求項６に記載の半導体封
止材料の硬化物によって封止された半導体装置。