JP2002287887A - 静電容量検出装置 - Google Patents

静電容量検出装置

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JP2002287887A
JP2002287887A JP2001084203A JP2001084203A JP2002287887A JP 2002287887 A JP2002287887 A JP 2002287887A JP 2001084203 A JP2001084203 A JP 2001084203A JP 2001084203 A JP2001084203 A JP 2001084203A JP 2002287887 A JP2002287887 A JP 2002287887A
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Toshio Imai
俊雄 今井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型、薄型、軽量、低消費電力の指紋画像入
力装置として利用できる静電容量検出装置を提供する。 【解決手段】 被検体との間に静電容量素子を形成する
検出電極11に、リセット電源線4より充放電して初期
値に設定し、バイアス電位に充放電した容量素子12か
ら電荷を注入して、検出電極11との間で分配させる
と、検出電極11の保持電圧は被検体との間で形成する
静電容量の大きさに応じて変動するので、増幅トランジ
スタ13のゲート電位の変化量として信号を出力するこ
とにより、被検体と検出電極11とで形成する静電容量
が求まる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、被検体と検出電
極とによって形成される静電容量を検出する装置に関
し、とくに、小型、薄型、軽量、低消費電力の電気的に
指紋画像パターンを得るために利用できる静電容量検出
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】情報化社会の発展に伴い、ネットワーク
への不正ログインの防止、電子商取引等での本人照明、
各種行政システムにおける本人照明、クレジットカード
等の他人利用の防止など、指紋照合による個人識別は簡
便で信頼性の高いセキュリティチェックの手段とされて
いる。
【0003】図10は従来から広く利用されている指紋
入力装置の基本構成を示す図面である。LED71は、
指70が接触しているプリズム72にたいして発光す
る。レンズ73は、指70の指紋の凹凸情報を表す光信
号を集光する。そしてCCD(Charge Coup
led Device)74は、この集光信号を電気信
号に変換する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
指紋入力装置は、体積、重量ともに大きく、また、経済
的にも高価である。情報化社会の発展に伴い、ネットワ
ークの末端に位置する機器には、携帯電話等により移動
しながらでもアクセスできる端末機器も出現し、セキュ
リティチェックとして指紋入力装置を付加することは困
難であった。
【0005】すなわち、図10で示した従来から広く利
用されている指紋入力装置の構成から解るように、光学
的に撮像する手法では、比較的大きなプリズム72やレ
ンズ73が必要で、かつそれらとLED71とを3次元
的に配置する必要があり、必然的に装置は大きく重くな
る。また、精密な工学的位置あわせなどの高度な組み立
て工数も多く、部品点数も多いことから経済的にも高価
であった。
【0006】また、撮像素子であるCCD74を駆動す
るためには、一般的に3電源を必要とし、数100mW
の消費電力を必要とする。また、LED71を発光させ
るためにも電力を必要とするため、電池で駆動する携帯
機器に使用することは困難であった。
【0007】この発明の目的は、このような問題を解決
するためになされたものであり、小型、薄型、軽量で、
消費電力が少なく、電気的に指紋画像パターンを得るこ
とが可能で、携帯機器にも搭載できる静電容量検出装置
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の静電容量検出装置は、下記記載の手段を採
用する。
【0009】本発明の静電容量検出装置は、保護層を介
して被検体と接触ないし近接させることにより静電容量
素子を構成する検出電極と、信号検出用のバイアス電荷
を蓄積する容量素子と、前記検出電極をリセット電位に
するリセット用スイッチ素子と、前記容量素子にバイア
ス電位を与えるバイアス用スイッチ素子と、前記検出電
極に信号検出用のタイミング信号を受けて前記容量素子
からバイアス電荷を注入させる電荷転送用スイッチ素子
と、前記検出電極の保持電圧を受けるソースフォロワ増
幅素子と、このソースフォロワ増幅素子のソース側に設
けられる読み出し選択用のスイッチ素子とを含む検出セ
ルを2次元状に複数個配列してなる検出領域と、前記検
出領域の読み出し行を選択する読み出し行選択手段と、
前記検出領域の読み出し列を選択する読み出し列選択手
段とを備えたことを特徴とする。
【0010】本発明の静電容量検出装置は、保護層を介
して被検体と接触ないし近接させることにより静電容量
素子を構成する検出電極と、信号検出用のバイアス電荷
を蓄積する容量素子と、前記容量素子にバイアス電位を
与えるバイアス用スイッチ素子と、前記検出電極に信号
検出用のタイミング信号を受けて前記容量素子からバイ
アス電荷を注入させる電荷転送用スイッチ素子と、前記
検出電極の保持電圧を受けるソースフォロワ増幅素子
と、このソースフォロワ増幅素子のソース側に設けられ
る読み出し選択用のスイッチ素子とを含む検出セルを2
次元状に複数個配列してなる検出領域と、前記検出領域
の読み出し行を選択する読み出し行選択手段と、前記検
出領域の読み出し列を選択する読み出し列選択手段とを
備えたことを特徴とする。
【0011】本発明の静電容量検出装置は、保護層を介
して被検体と接触ないし近接させることにより静電容量
素子を構成する検出電極と、信号検出用のバイアス電荷
を蓄積する容量素子と、前記検出電極をリセット電位に
するリセット用スイッチ素子と、前記検出電極に信号検
出用のタイミング信号を受けて前記容量素子からバイア
ス電荷を注入させる電荷転送用スイッチ素子と、前記検
出電極の保持電圧を受けるソースフォロワ増幅素子と、
このソースフォロワ増幅素子のソース側に設けられる読
み出し選択用のスイッチ素子とを含む検出セルを2次元
状に複数個配列してなる検出領域と、前記検出領域の読
み出し行を選択する読み出し行選択手段と、前記検出領
域の読み出し列を選択する読み出し列選択手段とを備え
たことを特徴とする。
【0012】〔作用〕この発明による静電容量検出装置
では、被検体と検出電極によって被検体の凹凸に応じた
静電容量素子を構成し、そこに電荷を注入し、各検出セ
ル内に設けた検出回路でその信号を検出し、信号をソー
スフォロワ増幅素子で増幅して出力する。その際、被検
体と静電容量素子を構成する検出電極は信号検出前に規
定電位を保持するので、被検体の初期の帯電状態に影響
されない正確な容量検出が可能である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、この発明による静電容量検
出装置の実施の形態について、図面を参照しながら説明
する。
【0014】〔第1の実施の形態の構成説明:図1〕ま
ず、この発明による静電容量検出装置の第1の実施形態
について、図1から図3によって説明する。図1はその
静電容量検出装置の構成を示す回路図である。
【0015】この図1において、1−11は1行1列目
の検出セル、1−12は1行2列目の検出セル、1−2
1は2行1列目の検出セル、1−22は2行2列目の検
出セルであり、説明の便宜上、検出セルを2行2列に配
置した場合を例示的に示しているが、実際にはもっと多
くの検出セルを2次元状に配列して検出領域を形成す
る。なお、各検出セルもこの発明による1個の静電容量
検出装置を構成しており、とくにその配列位置を区別す
る必要がない場合は、検出セル1という。
【0016】この検出セル1は、それぞれ、保護層を介
して被検体と接触ないし近接させることにより静電容量
素子を構成する検出電極11と、この検出電極11にリ
セット電源線4よりリセット電位Vrに充放電するリセ
ット用スイッチ素子16と、信号検出用のバイアス電荷
を蓄積する容量素子12と、この容量素子12にバイア
ス電源線3よりバイアス電位Vbに充放電するバイアス
用スイッチ素子15と、検出電極11に容量素子12か
ら信号検出用のバイアス電荷を注入する電荷転送用スイ
ッチ素子14と、検出電極11の保持電圧がゲートに供
給されるソースフォロワ増幅素子13と、ソースフォロ
ワ増幅素子13のソース側に設けられた読み出し選択用
スイッチ素子17とから検出領域を構成し、この検出領
域は半導体基板上に形成されている。
【0017】図1において、検出セル1−11を構成す
る上記検出電極および各素子にのみ符号を付している
が、他の検出セル1−12、1−21、1−22につい
ても全く同じ構成であるので、符号を省略している。こ
れら各検出セル1を構成する検出電極11および各素子
12〜17は、全て半導体基板上に設けられており、そ
の上には保護膜が被覆されている。そして、各検出電極
11は、その保護膜を介して指などの被検体と接触また
は近接させることによって静電容量素子を構成する。
【0018】また、ソースフォロワ増幅素子13、電荷
転送用スイッチ素子14、バイアス用スイッチ素子1
5、リセット用スイッチ素子16、および読み出し選択
用スイッチ素子17の各素子は、いずれもnチャネルM
OSトランジスタによって構成されている。
【0019】各検出セル1のソースフォロワ増幅素子1
3のドレイン端子は、電源線2に共通接続されており、
電源電圧Vddが印加される。各検出セル1の電荷転送
用スイッチ素子14のゲートは、転送ゲート制御線24
に共通接続されており、転送ゲート制御信号TCにより
全検出セル1が一括制御される。
【0020】また、各検出セル1のリセット用スイッチ
素子16のゲートは、リセットゲート制御線23と共通
接続されており、リセットゲート制御信号RCにより全
検出セル1が一括制御される。さらに、各検出セル1の
バイアス用スイッチ素子15のゲートは、バイアスゲー
ト制御線22と共通接続されており、バイアスゲート制
御信号BCにより全検出セル1が一括制御される。
【0021】一方、検出セル1−11と1−12の各読
み出し選択用スイッチ素子17のゲートは、第1のシフ
トレジスタ5の水平アドレス線6−1に共通接続され、
1行目の検出セル1−11と1−12が同時に制御さ
れ、検出セル1−21と1−22の各読み出し選択用ス
イッチ素子17のゲートは、第1のシフトレジスタ5の
水平アドレス線6−2に共通接続され、2行目の検出セ
ル1−21と1−22が同時に制御される。
【0022】そして、第1のシフトレジスタ5から水平
アドレス線6−1、6−2に出力されるアドレスパルス
により、各検出セル1の読み出し選択用スイッチ素子1
7が行毎に順次選択される。この第1のシフトレジスタ
5が読み出し行選択手段である。
【0023】その選択された検出セル1の読み出し選択
用スイッチ素子17は導通し、ソースフォロワ増幅素子
13のソースは読み出し選択用スイッチ素子17を介し
て垂直信号線7−1、7−2にそれぞれ接続される。す
なわち、1列目の検出セル1−11と1−21のソース
フォロワ増幅素子13のソースは垂直信号線7−1に、
2列目の検出セル1−12と1−22のソースフォロワ
増幅素子13のソースは垂直信号線7−2に、それぞれ
接続される。
【0024】そして、垂直信号線7−1は列選択用スイ
ッチ素子18−1を介して、垂直信号線7−2は列選択
用スイッチ素子18−2を介して、それぞれ1本の検出
信号出力線20に共通に接続されている。この検出信号
出力線20は、定電流負荷19を介して接地されている
とともに信号出力端子21に接続されている。
【0025】また、各列選択用スイッチ素子18−1、
18−2のゲートは、第2のシフトレジスタ8の垂直ア
ドレス線9−1、9−2にそれぞれ接続されている。そ
して、第2のシフトレジスタ8から各垂直アドレス線9
−1、9−2に出力されるアドレス信号によって、各列
選択用スイッチ素子18−1、18−2が順次選択され
て、全検出セル1による検出信号を検出信号出力線20
に順次出力する。
【0026】これらの垂直信号線7−1、7−2、検出
信号出力線20、列選択用スイッチ素子18−1、18
−2、および第2のシフトレジスタ8等によって、読み
出し列選択手段を構成している。なお、列選択用スイッ
チ素子18−1、18−2も、nチャネルMOSトラン
ジスタによって構成されている。
【0027】〔第1の実施の形態の動作説明:図2およ
び図3〕この第1の実施形態の静電容量検出装置による
静電容量検出動作について、図2および図3を用いて説
明する。
【0028】図1の検出セル1が静電容量を検出する動
作を図2に示す。これは、図1における検出セル1の検
出電極11が接続するソースフォロワ増幅素子13のゲ
ート電位と、電荷転送用スイッチ素子14のゲート下の
チャネル領域の電位と、容量素子12の電位を模式的に
示した電位分布図である。
【0029】図2(a)に示す状態は、バイアス用スイ
ッチ素子15、電荷転送用スイッチ素子14およびリセ
ット用スイッチ素子16がオフの状態で、被検体が検出
電極11上の保護層を介して接触した直後の様子であ
り、検出電極11の電位は電荷の供給源と接続していな
いため被検体の帯電状態に応じて決まる。
【0030】次いで、図2(b)に示すように、リセッ
ト用スイッチ素子16をオン状態とし、検出電極11に
リセット電源線4から電荷を充放電する。そうすると、
被検体の帯電状態に応じて決まっていた検出電極11の
電位はリセット電位Vrに設定される。同様にバイアス
用スイッチ素子15をオン状態とし、容量素子12にバ
イアス電源線3から保持電圧がバイアス電位Vbとなる
ように電荷を充放電する。
【0031】続いて、バイアス用スイッチ素子15およ
びリセット用スイッチ素子16をオフ状態にし、電荷転
送用スイッチ素子14をオン状態とする。そうすると、
容量素子12に蓄積したバイアス電荷が検出電極11へ
と注入される。そして、被検体と検出電極11とで形成
する静電容量と容量素子12との間で電荷を分配する。
このとき、図2の(c)に示すように、ソースフォロワ
増幅素子13のゲート電位は被検体と検出電極11とで
形成する容量の大きさに応じて変動するので、ソースフ
ォロワ増幅素子13のゲート電位の変化量として信号を
出力することにより、被検体と検出電極11とで形成す
る静電容量が求まる。
【0032】つまり、検出電極11と被検体とで形成す
る静電容量が容量素子12に比べ十分小さければ、容量
素子12からのバイアス電荷の注入により検出電極11
の電位はリセット電位Vrからバイアス電位Vbへと大
きく変動する。
【0033】一方、検出電極11と被検体とで形成する
静電容量が容量素子12に比べ十分大きければ、容量素
子12からバイアス電荷が注入にされても、検出電極1
1の電位はリセット電位Vrからはほとんど変動しない
ことになる。検出領域を構成する各検出セル1−11、
1−12、1−21、1−22における静電容量検出動
作は上述のとうりであり、同じである。
【0034】次に、この各検出セル1による静電容量検
出信号の読み出し動作について、図3のタイミングチャ
ートによって説明する。図1に示した静電容量検出装置
の各検出セル1−11、1−12、1−21、1−22
を含む検出領域に被検体が接触した状態から検出を開始
する。
【0035】まず、リセットゲート制御信号RCの電位
をハイレベルとし、全ての検出セル1のリセット用スイ
ッチ素子16をオン状態とし、検出電極11の保持電圧
がリセット電位Vrとなるように、リセット電源線4よ
り電荷を充放電する。その際、同時にバイアスゲート制
御信号BCも電位をハイレベルとし、全検出セル1の容
量素子12の保持電圧がバイアス電位Vbとなるよう
に、バイアス電源線3より電荷を充放電する。(図3の
時点t=1)
【0036】次に、転送ゲート制御信号TCの電位をハ
イレベルとし、全ての検出セル1の電荷転送用スイッチ
素子14をオン状態にする。それによって、各検出セル
1において、被検体と検出電極11とで形成する静電容
量と容量素子12との間で電荷を分配させる。
【0037】このとき、被検体と検出電極11とで形成
する静電容量は被検体の凹凸に応じて検出セル1−1
1、1−12、1−21、1−22ごとに異なると、検
出電極11の保持電圧も検出セル1(1−11、1−1
2、1−21、1−22)毎に異なる。この保持電圧が
ソースフォロワ増幅素子13のゲートに印加される。つ
まり、被検体と検出電極11とで形成する静電容量に蓄
積された電荷量を電圧信号へと変換したことになる。
(図3の時点t=2)
【0038】続いて、検出信号の読み出しを行う。ま
ず、読み出し行選択手段である図1に示した第1のシフ
トレジスタ5から、水平アドレス線6−1をハイレベル
にするアドレスパルス601(図3に示す)を印加す
る。それによって、1行目の検出セル1−11と検出セ
ル1−12の読み出し選択用スイッチ素子17をオン状
態にし、検出セル1−11と検出セル1−12のソース
フォロワ増幅素子13のソースは、読み出し選択用スイ
ッチ素子17を介して、それぞれ、垂直信号線7−1と
7−2に接続される。
【0039】この状態にて、図1に示した読み出し列選
択手段の第2のシフトレジスタ8から、垂直アドレス線
9−1をハイレベルとするアドレスパルス901(図3
に示す)を印加して、列選択用スイッチ素子18−1を
オン状態にする。検出セル1−11のソースフォロワ増
幅素子13と定電流負荷19とによってソースフォロワ
回路が構成される。
【0040】それによって、その検出セル1−11のソ
ースフォロワ増幅素子13のゲート電圧、即ち被検体と
検出電極11とによって形成される静電容量に応じた電
圧が検出信号出力線20に現れる(図3の時点t=
3)。それを信号出力端子21から出力させる。
【0041】次いで、第2のシフトレジスタ8から図3
に示すアドレスパルス902を垂直アドレス線9−2に
印加すると、列選択用スイッチ素子18−2がオン状態
になり、検出セル1−12のソースフォロワ増幅素子1
3と定電流負荷19とによってソースフォロワ回路が構
成される。それによって、その検出セル1−12のソー
スフォロワ増幅素子13のゲート電圧、即ち被検体と検
出電極11とによって形成される静電容量に応じた電圧
が出力線20に現れる。それを信号出力端子21から出
力させる。
【0042】このようにして、1行目の検出セル1−1
1と検出セル1−12による1ライン分の検出信号を、
検出信号出力線20に順次読み出して信号出力端子21
から順次取り出すことができる。
【0043】続いて、第1のシフトレジスタ5から、図
3に示すアドレスパルス602を水平アドレス線6−2
に印加し、この動作を次の水平アドレス線6−2に印加
し、ついで、第2のシフトレジスタ8から図3に示すア
ドレスパルス901を垂直アドレス線9−1に、アドレ
スパルス902を垂直アドレス線9−2に順次印加す
る。
【0044】それによって、上述の1行目と同様にし
て、2行目の検出セル1−21と検出セル1−22によ
る1ライン分の検出信号を、検出信号出力線20に順次
読み出して、信号出力端子21から順次取り出すことが
できる。
【0045】このようにして、検出領域に2次元に配置
されているすべての検出セル1による、被検体と検出電
極11とによって形成される静電容量の検出信号を読み
出すことができる。
【0046】上述した実施形態では2行2列の場合を例
示したが、行数および列数はもっと多い配列になって
も、同様に読み出すことができる。
【0047】この発明の第1の実施形態による静電容量
検出装置は、光学的撮像技術を用いずに、被検体の凹凸
を静電容量の差で検出するので、半導体基板上に平面状
の装置として実現することができる。
【0048】したがって、これを用いれば小型、薄型、
軽量の指紋情報入力装置を実現することができ、携帯機
器に搭載することも可能になる。さらに、この静電容量
検出装置を構成する各スイッチ素子および増幅素子をす
べてMOSトランジスタを用いて構成するので、単一電
源動作が可能であり、CCDを用いるより低消費電力で
ある。また、光源も不要であるから、光源を発光させる
ための電力も消費しない。
【0049】〔第2の実施の形態:図4から図6〕次
に、この発明による静電容量検出装置の第2の実施形態
について、図4から図6によって説明する。図4はその
静電容量検出装置の構成を示す回路図である。この図4
において、図1と同じ部分には同一の符号を付してあ
り、それらの説明は省略する。
【0050】この第2の実施形態の静電容量検出装置
は、図1に示した第1の実施形態の静電容量検出装置か
ら、各検出セル1内のリセット用スイッチ素子16を省
略するとともに、リセット電源線4およびリセットゲー
ト制御線23も除去したものであり、その他の構成は第
1の実施の形態の静電容量検出装置と同じである。
【0051】次に、この第2の実施形態の静電容量検出
装置の動作を説明する。まず、図4における各検出セル
1が静電容量を検出する動作を、図5によって説明す
る。これは、図4の検出電極11が接続するソースフォ
ロワ増幅素子13のゲート電位と、電荷転送用のスイッ
チ素子14のゲート下のチャネル領域の電位と、容量素
子12の電位を模式的に示した電位分布図である。
【0052】図5(a)は、バイアス用スイッチ素子1
5と電荷転送用スイッチ素子14とがオフの状態で、被
検体が検出電極11上の保護層を介して接触した直後の
様子であり、検出電極11の電位は電荷の供給源と接続
していないため被検体の帯電状態に応じて決まる。
【0053】次いで、バイアス電源線3の電位をリセッ
ト電圧に設定したのち、バイアス用スイッチ素子15と
電荷転送用スイッチ素子14をオン状態にして、図5
(b)に示すように、検出電極11の保持電圧がリセッ
ト電位Vrとなるように、バイアス電源線3から電荷を
充放電して電荷量をリセットする。
【0054】次いで、電荷転送用スイッチ素子14をオ
フ状態にし、バイアス電源線3の電位をバイアス電圧V
bに設定する。それによって、容量素子12にはバイア
ス電源線3からバイアス電荷が注入され、図5(c)に
示すようにバイアス電位Vbに設定される。
【0055】続いて、バイアス用スイッチ素子15をオ
フ状態にし、電荷転送用スイッチ素子14をオン状態と
する。そうすると、被検体と検出電極11とで形成する
静電容量と容量素子12との間で電荷を分配する。この
とき、検出電極11の保持電圧は被検体と検出電極11
とで形成する静電容量の大きさに応じて変動するので、
図5(d)に示すソースフォロワ増幅素子13のゲート
電位の変化量として信号を出力することにより、被検体
と検出電極11とで形成する静電容量が求まる。
【0056】つまり、検出電極11と被検体とで形成す
る静電容量が容量素子12に比べ十分小さければ、容量
12からのバイアス電荷の注入により検出電極11の電
位はリセット電位Vrからバイアス電位Vbへと大きく
変動する。一方、検出電極11と被検体とで形成する静
電容量が容量素子12に比べ十分大きければ、容量素子
12からバイアス電荷が注入されても、検出電極11の
電位はリセット電位Vrからはほとんど変動しないこと
になる。
【0057】次に、その各検出セル1−11、1−1
2、1−21、1−22による検出信号の読み出し動作
を説明する。図6はその読み出し動作のタイミングチャ
ートを示す。各検出セル1における静電容量の検出動作
は前述のとうりであり、被検体が各検出電極11上に保
護膜を介して接触した状態から検出を開始する。
【0058】まず、図4におけるバイアス電源線3の電
位をリセット電圧Vrに設定する。次いで、バイアスゲ
ート制御信号BCと転送ゲート制御信号TCの電位をハ
イレベルにし、各検出セル1−11、1−12、1−2
1、1−22のバイアス用スイッチ素子15と電荷転送
用スイッチ素子14をオン状態にし、全検出セル1のソ
ースフォロワ増幅素子13のゲートに接続する検出電極
11の保持電圧がリセット電位Vrとなるように電荷量
をリセットする。(図6のt=1)
【0059】そして、転送ゲート制御信号TCの電位を
ローレベルとした後に、バイアス電源線3の電位をバイ
アス電圧に設定する。容量素子12はバイアス電源線3
より充放電され、バイアス電位Vbにセットされる。
(図6のt=2)
【0060】つぎに、転送ゲート制御信号TCの電位を
ハイレベルとし、各検出セル1−11、1−12、1−
21、1−22の電荷転送用スイッチ素子14をオン状
態とする。それぞれの検出セル1にて被検体と検出電極
11とで形成する静電容量と容量素子12との間で電荷
を分配させる。
【0061】このとき、被検体と検出電極11とで形成
する静電容量の大きさが被検体の凹凸に応じて検出セル
1−11、1−12、1−21、1−22毎に異なる
と、検出電極11の保持電圧も検出セル1毎に異なる。
この保持電圧がソースフォロワ増幅素子13のゲートに
印加される。つまり、被検体と検出電極11とで形成す
る静電容量に蓄積された電荷量を電圧信号へと変換した
ことになる。(図6のt=3)
【0062】続いて、各検出セル1による検出信号の読
み出しを行う。ここからの、第1のシフトレジスタ5が
アドレスパルス601、602を順次出力し、第2のシ
フトレジスタ8がアドレスパルス901、902を順次
出力することによる読み出し動作は、図3によって説明
した第1の実施形態の場合と同じであるから、その説明
を省略する。
【0063】上述した第2の実施形態では2行2列の場
合を例示したが、行数および列数はもっと多い配列にな
っても、同様に読み出すことができる。
【0064】この第2の実施形態の静電容量検出装置
は、図1に示した第1の実施形態の静電容量検出装置か
ら、各検出セル1内のリセット用スイッチ素子16を省
略するとともに、リセット電源線4およびリセットゲー
ト制御線23も除去したにもかかわらず、第1の実施形
態と同様の効果が得られる。つまり、光学的撮像技術を
用いずに、被検体の凹凸を静電容量の差で検出するの
で、半導体基板上に平面状の装置として実現することが
できる。
【0065】したがって、これを用いれば小型、薄型、
軽量の指紋情報入力装置を実現することができ、携帯機
器に搭載することも可能になる。さらに、この静電容量
検出装置を構成する各スイッチ素子および増幅素子を全
てMOSトランジスタを用いて構成するので、単一電源
動作が可能であり、CCDを用いるより低消費電力であ
る。また、光源も不要であるから、光源を発光させるた
めの電力も消費しない。
【0066】また、第1の実施形態の静電容量検出装置
の解像度と第2の実施形態の静電容量検出装置の解像度
が同じであるなら、図1に示した第1の実施形態の静電
容量検出装置から、検出セル1内のリセット用スイッチ
素子16と、リセット電源線4およびリセットゲート制
御線23を除去した図4に示した第2の実施形態の静電
容量検出装置では、検出電極11の面積を大きくして、
検出感度を高くすることが可能である。
【0067】〔第3の実施の形態:図7から図9〕次
に、この発明による静電容量検出装置の第3の実施形態
について、図7から図9によって説明する。図7はその
静電容量検出装置の構成を示す回路図である。この図7
において、図1と同じ部分には同一の符号を付してあ
り、それらの説明は省略する。
【0068】この第3の実施形態の静電容量検出装置
は、図1に示した第1の実施形態の静電容量検出装置か
ら、各検出セル1内のバイアス用スイッチ素子15を省
略するとともに、バイアス電源線3およびバイアスゲー
ト制御線22も除去したものであり、その他の構成は第
1の実施の形態の静電容量検出装置と同じである。
【0069】次に、この第3の実施形態の静電容量検出
装置の動作を説明する。まず、図7における各検出セル
1が静電容量を検出する動作を、図8によって説明す
る。
【0070】これは、図7の検出電極11が接続するソ
ースフォロワ増幅素子13のゲート電位と、電荷転送用
のスイッチ素子14のゲート下の電位と、容量素子12
の電位を模式的に示した電位分布図である。
【0071】図8(a)は、リセット用スイッチ素子1
6および電荷転送用スイッチ素子14がオフの状態で、
被検体が検出電極11上の保護層を介して接触した直後
の様子であり、検出電極11の電位は電荷の供給源と接
続していないため被検体の帯電状態に応じて決まる。
【0072】次いで、リセット電源線3の電位をバイア
ス電圧に設定したのち、リセット用スイッチ素子16と
電荷転送用スイッチ素子14をオン状態にして、図8
(b)に示すように、容量素子12の保持電圧がバイア
ス電位Vbとなるように、リセット電源線4から電荷を
充放電する。
【0073】次いで、電荷転送用スイッチ素子14をオ
フ状態にし、リセット電源線4の電位をリセット電圧V
rに設定する。それによって、検出電極11にはリセッ
ト電源線3からリセット電荷が注入され、図8(c)に
示すようにリセット電位Vrに設定される。
【0074】続いて、リセット用スイッチ素子16をオ
フ状態にし、電荷転送用スイッチ素子14をオン状態と
する。そうすると、被検体と検出電極11とで形成する
静電容量と容量素子12との間で電荷を分配する。この
とき、検出電極11の保持電圧は被検体と検出電極11
とで形成する静電容量の大きさに応じて変動するので、
図8(d)に示すソースフォロワ増幅素子13のゲート
電位の変化量として信号を出力することにより、被検体
と検出電極11とで形成する静電容量が求まる。
【0075】つまり、検出電極11と被検体とで形成す
る静電容量が容量素子12に比べ十分小さければ、容量
素子12からのバイアス電荷の注入により検出電極11
の電位はリセット電位Vrからバイアス電位Vbへと大
きく変動する。一方、検出電極11と被検体とで形成す
る静電容量が容量素子12に比べ十分大きければ、容量
12からバイアス電荷が注入されても、検出電極11の
電位はリセット電位Vrからはほとんど変動しないこと
になる。
【0076】つぎに、その各検出セル1−11、1−1
2、1−21、1−22による検出信号の読み出し動作
を説明する。図9はその読み出し動作のタイミングチャ
ートを示す。各検出セル1における静電容量の検出動作
は前述のとうりであり、被検体が各検出電極11上に保
護膜を介して接触した状態から検出を開始する。
【0077】まず、図7におけるリセット電源線4の電
位をバイアス電圧Vbに設定する。次いで、リセットゲ
ート制御信号RCと転送ゲート制御信号TCの電位をハ
イレベルにし、各検出セル1−11、1−12、1−2
1、1−22のリセット用スイッチ素子16と電荷転送
用スイッチ素子14をオン状態にし、全検出セル1の容
量素子12の保持電圧がリセット電位Vrとなるように
電荷を充放電する。(図9の時点t=1)
【0078】そして、転送ゲート制御信号TCの電位を
ローレベルとした後に、リセット電源線4の電位をリセ
ット電圧Vrに設定する。検出電極11はリセット電源
線4より充放電され、リセット電位Vbにセットされ
る。(図9の時点t=2)
【0079】つぎに、転送ゲート制御信号TCの電位を
ハイレベルとし、各検出セル1−11、1−12、1−
21、1−22の電荷転送用スイッチ素子14をオン状
態とする。それぞれの検出セル1にて被検体と検出電極
11とで形成する静電容量と容量素子12との間で電荷
を分配させる。
【0080】このとき、被検体と検出電極11とで形成
する静電容量の大きさが被検体の凹凸に応じて検出セル
1−11、1−12、1−21、1−22毎に異なる
と、検出電極11の保持電圧も検出セル1毎に異なる。
この保持電圧がソースフォロワ増幅素子13のゲートに
印加される。つまり、被検体と検出電極11とで形成す
る静電容量に蓄積された電荷量を電圧信号へと変換した
ことになる。(図9の時点t=3)
【0081】続いて、各検出セル1による検出信号の読
み出しを行う。ここからの、第1のシフトレジスタ5が
アドレスパルス601、602を順次出力し、第2のシ
フトレジスタ8がアドレスパルス901、902を順次
出力することによる読み出し動作は、図3によって説明
した第1の実施形態の場合と同じであるから、その説明
を省略する。
【0082】上述し第3のた実施形態では2行2列の場
合を例示したが、実際には検出領域にもっと多くの検出
セル1が配列されている。しかし、1個の検出セル1で
も、この発明による静電容量検出装置を構成している。
【0083】この第3の実施形態の静電容量検出装置
は、図1に示した第1の実施形態の静電容量検出装置か
ら、各検出セル1内のバイアス用スイッチ素子15を省
略するとともに、バイアス電源線3およびバイアスゲー
ト制御線22も除去したにもかかわらず、第1の実施形
態と同様の効果が得られる。つまり、光学的撮像技術を
用いずに、被検体の凹凸を静電容量の差で検出するの
で、半導体基板上に平面状の装置として実現することが
できる。
【0084】したがって、これを用いれば小型、薄型、
軽量の指紋情報入力装置を実現することができ、携帯機
器に搭載することも可能になる。さらに、この静電容量
検出装置を構成する各スイッチ素子および増幅素子を全
てMOSトランジスタを用いて構成するので、単一電源
動作が可能であり、CCDを用いるより低消費電力であ
る。また、光源も不要であるから、光源を発光させるた
めの電力も消費しない。
【0085】また、第1の実施形態の静電容量検出装置
の解像度と第3の実施形態の静電容量検出装置の解像度
が同じであるなら、図1に示した第1の実施形態の静電
容量検出装置から、検出セル1内のバイアス用スイッチ
素子15と、バイアス電源線3およびバイアスゲート制
御線22を除去した図7に示した第3の実施形態の静電
容量検出装置では、検出電極11の面積を大きくして、
検出感度を高くすることが可能である。
【0086】また、これらの第1から第3の各実施形態
における読み出し行選択手段と読み出し列選択手段とし
て、第1、第2のシフトレジスタに代えて、それぞれデ
コーダを用いることにより、各検出セル1の読み出しも
ランダムアクセスが可能になる。
【0087】さらに上述した各実施形態においては、各
検出セル1を構成するソースフォロワ増幅素子13、電
荷転送用スイッチ素子14、バイアス用スイッチ素子1
5、リセット用スイッチ素子16、および読み出し選択
用スイッチ素子17と、列選択用スイッチ素子18−
1、18−2は、いずれもnチャネルMOSトランジス
タとして説明を行ったが、nチャネルMOSトランジス
タとpチャネルMOSトランジスタを組み合わせて用い
てもよい。
【0088】あるいは、pチャネルMOSトランジスタ
のみで構成してもよい。ただし、pチャネルMOSトラ
ンジスタのゲート制御信号の極性は、nチャネルMOS
トランジスタのゲート制御信号の場合とは逆極性にな
る。
【0089】
【発明の効果】以上の説明から明らなように、この発明
による静電容量検出装置では、被検体と検出電極によっ
て被検体の凹凸に応じた静電容量素子を構成し、そこに
電荷を注入し、各検出セル内に設けた検出回路でその信
号を検出し、信号をソースフォロワ増幅素子で増幅して
出力する。
【0090】その際、被検体と静電容量素子を構成する
検出電極は信号検出前に規定電位を保持するので、被検
体の初期の帯電状態に影響されない正確な容量検出が可
能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態による静電容量検出装
置の構成を示す回路図である。
【図2】本発明の第1の実施形態による静電容量検出装
置の各検出セルによる静電容量検出動作を説明するため
の図面である。
【図3】本発明の第1の実施形態による静電容量検出装
置全体による静電容量検出装置の動作を説明するための
タイミングを示す図面である。
【図4】本発明の第2の実施形態による静電容量検出装
置の構成を示す回路図である。
【図5】本発明の第2の実施形態による静電容量検出装
置の各検出セルによる静電容量検出動作を説明するため
の図面である。
【図6】本発明の第2の実施形態による静電容量検出装
置全体による静電容量検出装置の動作を説明するための
タイミングを示す図面である。
【図7】本発明の第3の実施形態による静電容量検出装
置の構成を示す回路図である。
【図8】本発明の第3の実施形態による静電容量検出装
置の各検出セルによる静電容量検出動作を説明するため
の図面である。
【図9】本発明の第3の実施形態による静電容量検出装
置全体による静電容量検出装置の動作を説明するための
タイミングを示す図面である。
【図10】従来の指紋入力装置の構成を説明するための
図面である。
【符号の説明】
1:検出セル 2:電源線 3:バイ
アス電源線 4:リセット電源線 5:第1のシフトレジス
タ 6:水平アドレス線 7:垂直信号線 8:第2のシフトレジスタ 9:垂直アドレス
線 11:検出電極 12:容量素子 13:ソースフォロワ増幅素子 14:電荷転
送用スイッチ素子 15:バイアス用スイッチ素子 16:リセッ
ト用スイッチ素子 17:読み出し選択用スイッチ素子 18:列
選択用スイッチ素子 19:定電流負荷 20:検出信号出力線 21:信号出力端子 22:バイアスゲート制
御線 23:リセットゲート制御線 24:転送ゲー
ト制御線

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 保護層を介して被検体と接触ないし近接
    させることにより静電容量素子を構成する検出電極と、
    信号検出用のバイアス電荷を蓄積する容量素子と、前記
    検出電極をリセット電位にするリセット用スイッチ素子
    と、前記容量素子にバイアス電位を与えるバイアス用ス
    イッチ素子と、前記検出電極に信号検出用のタイミング
    信号を受けて前記容量素子からバイアス電荷を注入させ
    る電荷転送用スイッチ素子と、前記検出電極の保持電圧
    を受けるソースフォロワ増幅素子と、この増幅素子のソ
    ース側に設けられる読み出し選択用のスイッチ素子とを
    含む検出セルを2次元状に複数個配列してなる検出領域
    と、 前記検出領域の読み出し行を選択する読み出し行選択手
    段と、 前記検出領域の読み出し列を選択する読み出し列選択手
    段とを備えたことを特徴とする静電容量検出装置。
  2. 【請求項2】 前記リセット用スイッチ素子、前記バイ
    アス用スイッチ素子、前記電荷転送用スイッチ素子、前
    記ソースフォロワ増幅素子、および前記読み出し選択用
    スイッチ素子は、いずれもMOSトランジスタであるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の静電容量検出装置。
  3. 【請求項3】 保護層を介して被検体と接触ないし近接
    させることにより静電容量素子を構成する検出電極と、
    信号検出用のバイアス電荷を蓄積する容量素子と、前記
    容量素子にバイアス電位を与えるバイアス用スイッチ素
    子と、前記検出電極に信号検出用のタイミング信号を受
    けて前記容量素子からバイアス電荷を注入させる電荷転
    送用スイッチ素子と、前記検出電極の保持電圧を受ける
    ソースフォロワ増幅素子と、前記ソースフォロワ増幅素
    子のソース側に設けられる読み出し選択用のスイッチ素
    子とを含む検出セルを2次元状に複数個配列してなる検
    出領域と、 前記検出領域の読み出し行を選択する読み出し行選択手
    段と、 前記検出領域の読み出し列を選択する読み出し列選択手
    段とを備えたことを特徴とする静電容量検出装置。
  4. 【請求項4】 前記バイアス用スイッチ素子、前記転送
    用スイッチ素子、前記ソースフォロワ増幅素子、および
    前記読み出し選択用スイッチ素子は、いずれもMOSト
    ランジスタであることを特徴とする請求項3に記載の静
    電容量検出装置。
  5. 【請求項5】 保護層を介して被検体と接触ないし近接
    させることにより静電容量素子を構成する検出電極と、
    信号検出用のバイアス電荷を蓄積する容量素子と、前記
    検出電極をリセット電位にするリセット用スイッチ素子
    と、前記検出電極に信号検出用のタイミング信号を受け
    て前記容量素子からバイアス電荷を注入させる電荷転送
    用スイッチ素子と、前記検出電極の保持電圧を受けるソ
    ースフォロワ増幅素子と、前記ソースフォロワ増幅素子
    のソース側に設けられる読み出し選択用のスイッチ素子
    とを含む検出セルを2次元状に複数個配列してなる検出
    領域と、 前記検出領域の読み出し行を選択する読み出し行選択手
    段と、 前記検出領域の読み出し列を選択する読み出し列選択手
    段とを備えたことを特徴とする静電容量検出装置。
  6. 【請求項6】 前記リセット用スイッチ素子、電荷転送
    用スイッチ素子、前記ソースフォロワ増幅素子、および
    前記読み出し選択用スイッチ素子は、いずれもMOSト
    ランジスタであることを特徴とする請求項5に記載の静
    電容量検出装置。
  7. 【請求項7】 前記読み出し行選択手段が、前記各検出
    セルの前記読み出し選択用スイッチ素子を読み出し行ご
    とに制御する第1のシフトレジスタであり、 前記読み出し列選択手段が、前記各検出セルの前記読み
    出し選択用スイッチ素子からの出力信号を読み出し列ご
    とにまとめて送出する垂直信号線と、一本の検出信号出
    力線と、前記各垂直信号線と前記一本の検出信号出力線
    との間にそれぞれ設けた列選択用スイッチ素子と、その
    各列選択用スイッチ素子を制御する第2のシフトレジス
    タとからなることを特徴とする請求項1、3、または5
    に記載の静電容量検出装置。
  8. 【請求項8】 前記列選択用スイッチ素子がMOSトラ
    ンジスタであることを特徴とする請求項7に記載の静電
    容量検出装置。
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007048275A (ja) * 2005-08-05 2007-02-22 Samsung Electronics Co Ltd センシング回路及びこれを有する表示装置
JP2009003916A (ja) * 2007-05-18 2009-01-08 Seiko Epson Corp センシング回路、その駆動方法、表示装置および電子機器
JP2010092152A (ja) * 2008-10-06 2010-04-22 Hitachi Displays Ltd 入力装置、及びそれを備えた表示装置
WO2010055708A1 (ja) * 2008-11-14 2010-05-20 シャープ株式会社 容量変化検出回路
WO2010055707A1 (ja) * 2008-11-14 2010-05-20 シャープ株式会社 容量変化検出回路
CN102063882A (zh) * 2009-11-12 2011-05-18 索尼公司 具有图像拾取功能的显示装置、驱动方法及电子设备
JP2012195019A (ja) * 2012-07-18 2012-10-11 Japan Display East Co Ltd 入力装置、及びそれを備えた表示装置
KR101210473B1 (ko) 2011-04-26 2012-12-10 실리콘 디스플레이 (주) 정전용량 지문센서
JP2013514578A (ja) * 2009-12-17 2013-04-25 リ,ソンホ タッチパネルのタッチセル構造及びそれを用いたタッチパネル
WO2013176302A1 (ko) * 2012-05-22 2013-11-28 실리콘 디스플레이 (주) 정전용량 지문센서
US9395850B2 (en) 2008-10-06 2016-07-19 Japan Display Inc. Coordinate input device and display device with the same
WO2016163775A1 (ko) * 2015-04-08 2016-10-13 실리콘 디스플레이 (주) 정전용량 지문센서

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007048275A (ja) * 2005-08-05 2007-02-22 Samsung Electronics Co Ltd センシング回路及びこれを有する表示装置
JP2009003916A (ja) * 2007-05-18 2009-01-08 Seiko Epson Corp センシング回路、その駆動方法、表示装置および電子機器
JP2010092152A (ja) * 2008-10-06 2010-04-22 Hitachi Displays Ltd 入力装置、及びそれを備えた表示装置
US10191588B2 (en) 2008-10-06 2019-01-29 Japan Display Inc. Coordinate input device and display device with the same
US9395850B2 (en) 2008-10-06 2016-07-19 Japan Display Inc. Coordinate input device and display device with the same
WO2010055708A1 (ja) * 2008-11-14 2010-05-20 シャープ株式会社 容量変化検出回路
WO2010055707A1 (ja) * 2008-11-14 2010-05-20 シャープ株式会社 容量変化検出回路
CN102063882B (zh) * 2009-11-12 2013-05-15 株式会社日本显示器西 具有图像拾取功能的显示装置、驱动方法及电子设备
CN102063882A (zh) * 2009-11-12 2011-05-18 索尼公司 具有图像拾取功能的显示装置、驱动方法及电子设备
JP2013514578A (ja) * 2009-12-17 2013-04-25 リ,ソンホ タッチパネルのタッチセル構造及びそれを用いたタッチパネル
JP2017041268A (ja) * 2009-12-17 2017-02-23 ジー2タッチ カンパニー,リミテッド タッチパネル
KR101210473B1 (ko) 2011-04-26 2012-12-10 실리콘 디스플레이 (주) 정전용량 지문센서
WO2013176302A1 (ko) * 2012-05-22 2013-11-28 실리콘 디스플레이 (주) 정전용량 지문센서
US8766651B2 (en) 2012-05-22 2014-07-01 Silicon Display Technology Capacitive fingerprint sensor
CN104662430A (zh) * 2012-05-22 2015-05-27 硅显示技术有限公司 电容指纹传感器
JP2012195019A (ja) * 2012-07-18 2012-10-11 Japan Display East Co Ltd 入力装置、及びそれを備えた表示装置
WO2016163775A1 (ko) * 2015-04-08 2016-10-13 실리콘 디스플레이 (주) 정전용량 지문센서
US10354115B2 (en) 2015-04-08 2019-07-16 Silicon Display Technology Capacitive fingerprint sensor

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