JP2002285161A - 液晶組成物、該液晶組成物を用いる液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents

液晶組成物、該液晶組成物を用いる液晶表示素子及びその製造方法

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JP2002285161A
JP2002285161A JP2001087833A JP2001087833A JP2002285161A JP 2002285161 A JP2002285161 A JP 2002285161A JP 2001087833 A JP2001087833 A JP 2001087833A JP 2001087833 A JP2001087833 A JP 2001087833A JP 2002285161 A JP2002285161 A JP 2002285161A
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Takashi Kato
隆 加藤
Yasuhiro Haseba
康宏 長谷場
Toshiya Sawai
俊哉 澤井
Nobuyuki Otsuka
信之 大塚
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JNC Corp
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Chisso Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ゾル−ゲル転移制御性の液晶組成物、該液
晶組成物を用いる液晶表示素子、その製造方法を提供す
る。 【解決手段】 式(1)で表される化合物を含有するこ
とを特徴とする光ゾル−ゲル転移制御性の液晶組成物。 【化1】 式(1)において、Rは水素または炭素数1〜20の1価
有機基、Z1は単結合、エーテル結合、エステル結合、
アミド結合またはカルボニル基、Z2は炭素または窒
素、Z3は単結合または−O(CH2)n−結合を示し、n
=1〜10の整数である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光照射によりゾル
−ゲル転移が制御される液晶組成物に関する。また該液
晶組成物を用いた液晶表示素子及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶表示素子(LCD)の大画面
化や高コントラストなどの高性能化が求められるように
なってきている。 従来のLCD製造工程では、流動性
液体の液晶組成物を2枚の基板間に減圧下で真空注入す
るものであるが、LCDが大画面化する程注入時間が長
くなり、歩留まりや作業効率が低下する等の問題が不可
避であった。この様な欠点を改善するため、液晶の滴下
によるLCD製造方法(特開昭59−171925号公
報)が提案されているが、該滴下法は簡便な方法ではあ
るものの封止工程が難しい等の欠点がある。
【0003】また、近年液晶の流動性そのものを消失さ
せ、その取り扱いを容易にするための技術がいくつか開
示されている。例えば、特開平11−21556号公報
には、液晶組成物にゲル化剤を添加することにより、実
質上その流動性を消失せしめた液晶ゲルが開示されてい
る。しかし、この液晶ゲルを用いることにより表示素子
を容易に製造することが可能ではあるが、液晶ゲルを用
いた表示素子はそのコントラストが劣るという欠点を有
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光照
射によりゾル−ゲル転移が可逆的に制御し得る液晶組成
物を提供することである。さらに、かかる液晶組成物を
用いる液晶表示素子とその製造方法を提供することであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、液晶組成
物の流動性を外部からの刺激により自在に制御すること
により前記欠点のない液晶組成物が得られるという観点
から鋭意研究した結果、光異性化基を有するコレステロ
ール誘導体を含む液晶組成物の流動性(ゾル状態、ゲル
状態)を可逆的に自在に制御可能であることを見出し本
発明の完成に至った。
【0006】すなわち、本発明にかかる液晶組成物は、
光の照射により、ゾル−ゲル転移が可逆的に自在に制御
され得る液晶組成物である。ここで、ゾル状態からゲル
状態への転移とは、完全にゾル状態から完全にゲル状態
にあるすべての状態をも含む意味である。
【0007】また、本発明にかかる液晶組成物は、式
(1)で表される化合物を含有することを特徴とする光
ゾル−ゲル転移制御性の液晶組成物である。
【化3】 (式(1)において、Rは水素または炭素数1〜20の1
価有機基、Z1は単結合、エーテル結合、エステル結
合、アミド結合またはカルボニル基、Z2は炭素または
窒素、Z3は単結合または−O(CH2)n−結合を示し、
n=1〜10の整数である。)
【0008】さらに本発明は、本発明にかかる光ゾル−
ゲル転移制御性の液晶組成物を用いることを特徴とする
液晶表示素子に関する。
【0009】また、本発明は、前記液晶表示素子を製造
する方法であって、式(1)で表される化合物を含有す
る液晶組成物を光照射してゲル状態へ転移し、該ゲル状
態の液晶組成物を基板間に塗布し、さらに前記ゲル状態
の液晶組成物を光照射してゾル状態へ転移することを特
徴とする液晶表示素子の製造方法に関する。
【0010】また、本発明は、前記液晶表示素子を製造
する方法であって、光の照射により、ゾル−ゲル転移が
可逆的に自在に制御され得る液晶組成物を光照射してゲ
ル状態へ転移し、該ゲル状態の液晶組成物を基板間に塗
布し、さらに前記ゲル状態の液晶組成物を光照射してゾ
ル状態へ転移することを特徴とする液晶表示素子の製造
方法に関する。ここで、ゾル状態からゲル状態への転移
とは、完全にゾル状態から完全にゲル状態にあるすべて
の状態をも含む意味である。
【0011】さらに本発明にかかる液晶表示素子の製造
方法は、式(1)で表される化合物を含有する液晶組成
物を光照射してゾル状態へ転移することを特徴とする液
晶表示素子の製造方法に関する。
【0012】
【化4】 (式(1)において、Rは水素または炭素数1〜20の
1価有機基、Z1は単結合、エーテル結合、エステル結
合、アミド結合またはカルボニル基、Z2は炭素または
窒素、Z3は単結合または−O(CH2)n−結合を示し、
n=1〜10の整数である。) 以下本発明を発明の実施の形態に即して詳細に説明す
る。
【0013】
【発明の実施の形態】(液晶組成物)本発明にかかる液
晶組成物は、外部刺激として光照射により、その流動性
が可逆的に制御できるものであり、具体的には液晶組成
物のゾル−ゲル転移を特定の光で照射することにより自
在に制御できるものである。
【0014】このことは、すなわち、本発明にかかる液
晶組成物を用いて液晶表示素子を製造する際に、容易に
該液晶組成物を均一に塗布することができるように流動
性を一時的に消失させてゲル状態とし、また液晶表示素
子が完成した後に再び外部刺激として光照射し液晶組成
物を再びもとの流動性を付与(ゾル状態)し、ゲル化に
よる表示素子のコントラストの低下を防止することがで
きることを意味する。
【0015】本発明にかかる液晶組成物は、分子中にシ
ス−トランス光異性化可能な官能基と液晶性を有する基
を少なくとも有する光異性化液晶性化合物がベース液晶
化合物(又は液晶組成物)に溶解されたものであること
を特徴とする。本発明においては、光異性化液晶性化合
物としては特に制限はなく、公知の種々のシス−トラン
ス光異性化可能な基と、公知の種々の液晶性を有する基
を公知の合成方法により1分子中に含むものであればよ
い。本発明においては、特に前記光異性化液晶性化合物
の液晶性を有する基としてコレステロール基を有し、ま
たシス−トランス光異性化可能な基としてC=C、また
はN=N基を有する誘導体(以下「誘導体」とする)が
好ましい。
【0016】かかる光異性化液晶性化合物又は誘導体を
適当な波長の光の照射により光異性化反応(シス−トラ
ンス異性化)を可逆的に起こさせて分子構造を変化さ
せ、それが融解している液晶組成物の流動性である完全
なゾル状態〜完全なゲル状態までを自在に変化させもの
である。
【0017】本発明において光異性化液晶性化合物又は
誘導体としてはさらに、式(1)で示されるコレステロ
ール誘導体の使用が好ましい。ここで、式(1)で示さ
れるコレステロール誘導体において、式中のRは水素、
または炭素数1〜20の1価有機基であれば特に限定さ
れない。具体的に例示すると、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、メチルシクロプロピル
基、エチルシクロプロピル基、プロピルシクロプロピル
基、n−ブチルシクロプロピル基、メチルシクロブチル
基、エチルシクロブチル基、プロピルシクロブチル基、
n−ブチルシクロブチル基、メチルシクロペンチル基、
エチルシクロペンチル基、プロピルシクロペンチル基、
n−ブチルシクロペンチル基等の環状置換基が挙げられ
る。
【0018】アルキル基としてはメチル基、エチル基、
n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、
iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチ
ル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、iso−ヘキ
シル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル
基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル
基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペン
タデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル
基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイ
コシル基が挙げられる。
【0019】これらの基の中で好ましくはメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブ
チル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブ
チル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo
−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、is
o−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n
−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ド
デシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n
−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデ
シル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−
エイコシル基であり、さらに好ましくはn−ヘキシル
基、iso−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ
ル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル
基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデ
シル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n
−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシ
ル基、n−エイコシル基である。
【0020】さらに式(1)で示されるコレステロール
誘導体において、式中のZ1は単結合、エーテル結合、
エステル結合、アミド結合、カルボニル基であり、この
中で好ましくは単結合、エーテル結合である。
【0021】また式(1)で示されるコレステロール誘
導体において、式中のZ3は単結合または−O(CH2)n
−結合を示す。ここで、n=1〜10の整数であるが、
nの値として好ましくはn=1〜5であり、さらに好ま
しくはn=1〜3である。nが5以上になると、光異性
化に起因する分子全体の構造変化が小さくなり、液晶組
成物の流動性変化に与える影響が低下する可能性があ
る。
【0022】これら式(1)で示されるコレステロール
誘導体は通常の有機合成的手法に従い当業者であれば容
易に合成することができる。具体的には特開平5247
085号公報、およびMurataら,J. Am. Chem. Soc. 11
6, 6664 (1994) の記載に従うことができる。
【0023】本発明の液晶組成物においてベースとなる
液晶組成物(化合物)は特に限定されず従来公知の種々
の単一化合物や又は液晶相を有する組成物が含まれる。
例えば、「液晶デバイスハンドブック」日本学術振興会
142委員会(1989);p154〜192、p71
5〜722に記載の、ネマチックあるいはスメチック相
を示すビフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、フェ
ニルピリミジン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系等
の各種の液晶分子、またはこれらの液晶分子の混合物が
挙げられる。また、カイラルスメクチック層を示す液晶
分子を用いることができる。またディスコティック相を
示す液晶分子を用いることができる。また強誘電性また
は反強誘電性のスメクチック相またはカイラルスメクチ
ック相の液晶分子が挙げられる。表示素子の調光層に用
いる場合には従来より液晶表示素子に用いられている液
晶材料を用いることが好ましい。棒状化合物で構成され
たサーモトロピック液晶が好ましく、さらに好ましくは
室温においてネマチック相を有し、誘電率異方性値が2
以上あるいは−2以下であるもの、あるいは室温におい
てカイラルスメクチックC相またはカイラルスメクチッ
クCA相を呈し、それぞれ自発分極値が0.1以上である
ものが好ましい。具体例としては、下記の化合物群を挙
げることができる。
【0024】
【化5】 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基を示し、こ
の基中の相隣接しない任意の−CH2−基は酸素または
−CH=CH−で置き換えられてもよく、また、この基
中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく;Y1
はフッ素、塩素、−OCF3、−OCF2H、−CF3、−
CF2H、−CFH2、−OCF2CF2Hまたは−OCF2
CFHCF3を示し;L1およびL2は各々独立して水素
またはフッ素を示し;Z4およびZ5は各々独立して−
(CH22−、−(CH24−、−COO−、−CF2
O−、−OCF2−、−CH=CH−または単結合を示
し;環Aおよび環Bはそれぞれ独立してトランス−1,
4−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジ
イル、または水素がフッ素で置き換えられてもよい1,
4−フェニレンを示し、環Cはトランス−1,4−シク
ロヘキシレンまたは水素がフッ素で置き換えられてもよ
い1,4−フェニレンを示す)。
【0025】
【化6】 (式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜10の
アルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意の−C
2−は酸素または−CH=CH−で置き換えられても
よく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置き換え
られてもよく;Y 2は−CN基または−C≡C−CNを
示し;環Dはトランス−1,4−シクロヘキシレン、1,
4−フェニレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイルま
たはピリミジン−2,5−ジイルを示し;環Eはトラン
ス−1,4−シクロヘキシレン、水素がフッ素で置き換
えられてもよい1,4−フェニレン、またはピリミジン
−2,5−ジイルを示し;環Fはトランス−1,4−シク
ロヘキシレンまたは1,4−フェニレンを示し;Z6は−
(CH22−、−COO−、−CF2O−、−OCF2
または単結合を示し;L3、L4およびL5は各々独立し
て水素またはフッ素を示し;b、cおよびdは各々独立
して0または1を示す)。
【0026】
【化7】 (式中、R4およびR5は各々独立して炭素数1〜10の
アルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意のメチ
レン基は酸素または−CH=CH−で置き換えられても
よく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置き換え
られてもよく;環Gおよび環Iは各々独立して、トラン
ス−1,4−シクロヘキシレンまたは1,4−フェニレ
ンを示し;L6およびL7は各々独立して水素またはフッ
素を示すが同時に水素を示すことはなく、Z7およびZ8
はそれぞれ独立して、−(CH2)2−、−COO−または
単結合を示す)。
【0027】
【化8】 (式中、R6およびR7は各々独立して炭素数1〜10の
アルキル基を示し、この基中の相隣接しない任意の−C
2−基は酸素または−CH=CH−で置き換えられて
もよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置き換
えられてもよく;環J、環Kおよび環Mは各々独立し
て、トランス−1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン
−2,5−ジイル、または水素原子がフッ素で置き換え
られてもよい1,4−フェニレンを示し;Z9およびZ10
は各々独立して、−C≡C−、−COO−、−(CH2)2
−、−CH=CH−または単結合を示す)。
【0028】本発明の液晶組成物は、式(1)で示され
るコレステロール誘導体と、式(2)、(3)および
(4)からなる群から選ばれる少なくとも1種類の化合
物、および/または式(5)および(6)からなる群か
ら選ばれる少なくとも1種類の化合物を混合したものが
好ましい。さらに、しきい値電圧、液晶相温度範囲、屈
折率異方性値、誘電率異方性値および粘度等を調整する
目的で、式(10)、(11)および(12)からなる
群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を第三成分と
して混合することもできる。また、本発明に使用される
液晶組成物の各成分は物理特性に大きな差異がないこと
から、各元素の同位体元素からなる類縁体でも差し支え
ない。
【0029】また、本発明の液晶組成物は、必要により
適当な添加物を加えることによって最適化しても良い。
このような添加物は当該業者によく知られており、文献
などに詳細に記載されている。通常、液晶のらせん構造
を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれを防ぐと
いった効果を有するキラルドープ剤等を添加してもよ
い。この場合に使用されるキラルドープ剤の例として以
下の光学活性化合物を挙げることができる。
【0030】
【化9】
【0031】本発明において、式(1)で示されるコレ
ステロール誘導体の含有量は、ベースとなる液晶化合物
(組成物)に対して0.1〜15.0(重量%)であり、
好ましくは1〜10%、さらに好ましくは2〜7%であ
る。この時、コレステロール誘導体は単一成分でも、複
数の化合物を同時に添加しても良いが、その場合光異性
化基は同一系統である方が好ましい。これらの量をベー
スとなる液晶に添加後、均一な等方性液体になるまで加
熱処理を行い、放冷すると光学異方性を持ちながらも流
動性が消失した液晶組成物が得られる。この時の加熱温
度は、ベースとなる液晶組成物の等方相転移温度付近で
あれば特に限定されない。
【0032】本発明の液晶組成物の流動性を光照射で制
御する方法において、式(1)で示される化合物中の光
異性化基がトランス体の時には流動性が消失し、シス体
の時は流動性が付与される。従って、光異性化基の種類
(構造)に応じて照射波長を選択すればよい。
【0033】例えば、光異性化基がアゾベンゼンの場
合、365nm付近の紫外線でシス体へ異性化し、43
6nm付近の可視光照射でトランス配置をとる。スチル
ベンや桂皮酸の場合、313nm付近の紫外線でシス体
になり、254nm付近の深紫外線照射でトランス体に
異性化することが明らかになっている。これらの光異性
化反応は一般に可逆的であり、これを利用して液晶組成
物の流動性を自由に制御することができるのである。
【0034】本発明の液晶組成物に光照射を行うことに
より、該液晶組成物の流動性を制御する方法において、
その露光量は感光基の構造や光源の種類によって異なる
が、0.5〜200J/cm2である。その中で好ましく
は1.0〜150J/cm2であり、さらに好ましくは
3.0〜80J/cm2である。
【0035】(液晶表示素子)本発明の液晶表示素子に
おいて、表示素子として用いる基板は、通常基板上に電
極、具体的にはITO(酸化インジウム−酸化スズ合
金)や酸化スズの透明電極が形成されていても良い。さ
らに、電極と基板の間に、基板からのアルカリ溶出を防
止するための絶縁膜、カラーフィルター、カラーフィル
ターオーバーコート等の保護膜を設けても良く、電極上
に絶縁膜や保護膜を設けても良い。また、電極上にTF
T(薄膜トランジスタ)素子をはじめとする能動素子を
形成していても良い。これらの電極、アンダーコート、
その他の液晶セル内の構成およびその部材は、従来の液
晶表示素子の構成が使用可能である。
【0036】(液晶表示素子の製造方法)本発明記載の
液晶表示素子の製造方法において、液晶層(調光層)を
形成する工程は、本発明の液晶組成物を流動性が消失し
た状態で、前述の基板上に塗布し、直ちに他方の基板を
配置して挟むように形成することができる。もしくは、
本発明の液晶組成物を加熱して得られる等方性液体を通
常の方法で塗布し、その後冷却して流動性を消失せしめ
てから他方の基板を配置しても問題はない。具体的な塗
布方法として、スピンナー法、印刷法、ディッピング
法、滴下法等を挙げることができる。
【0037】この様に形成された基板、調光層を使用し
てセルを組み、完成後に前述の光照射を行って液晶に流
動性を付与することにより、本発明の液晶表示素子は完
成する。これが、本発明の液晶表示素子の製造方法であ
る。
【0038】以上説明した本発明の液晶表示素子は、通
常、基板、電圧印可手段、液晶配向膜、液晶層などによ
り構成され、その特徴は、光照射によって液晶層の流動
性を制御可能な液晶組成物、すなわち本発明に関わる液
晶組成物を備えていることである。
【0039】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例によって、何ら限定さ
れるものではない。実施例で得られた化合物の物性は以
下の方法で測定した。 融点:偏光顕微鏡にホットステージ(メトラー社製FP
−82)を装着して、毎分5℃の昇温速度で測定した。 核磁気共鳴スペクトル(NMR):日本電子株式会社製
EX−90A、内部標準物質にテトラメチルシランを用
いて測定した。
【0040】(実施例1)4−n−ヘキシルオキシ−4′−((コレステリルオキ
シカルボニル)メトキシ)アゾベンゼン(式(1)にお
いて、R=n−ヘキシル基、Z1=エーテル結合、Z2
窒素、Z3=−OCH2−)の合成 ;4−ヘキシルオキシ
ニトロベンゼン12.5g(0.055mol)を酢酸エ
チル250mlに溶かし、5%パラジウム−炭素2.5
gを加えて、常温常圧下で接触還元を行った。反応終了
後触媒をろ別し、溶媒を減圧下留去して、淡黄色油状の
4−ヘキシルオキシアニリンを10.0g(0.052m
ol)得た。この化合物はこれ以上精製せず、次の反応
に用いた。
【0041】4−ヘキシルオキシアニリン9.65g
(0.050mol)を100mlナスフラスコに取
り、メタノール50mlと6(mol/L)塩酸10m
lの混合溶媒を加えて0℃で撹拌した。ここに、亜硝酸
ナトリウム3.5gを10mlの水に溶かした溶液を一
度に加え、0℃で30分間放置した。また、別の300
mlナスフラスコにフェノール4.70g(0.05mo
l)をとり、10%水酸化ナトリウム水溶液125ml
に溶かして0℃で撹拌した。ここに、先に合成したジア
ゾニウム塩の溶液を5℃以下で徐々に加えた。添加後5
℃で30分間撹拌し、TLCで反応終了を確認した。反
応液を大量の水に注ぎ、塩酸で弱酸性に調整してから酢
酸エチルで3回抽出した。有機層を純水で3回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ別して減圧
濃縮した。得られた粗結晶をヘプタン/酢酸エチルで2
回再結晶し、燈色結晶の4,4′−ジヒドロキシアゾベ
ンゼンモノヘキシルエーテルを9.2g(0.03mo
l)得た。
【0042】続いて、4,4′−ジヒドロキシアゾベン
ゼンモノヘキシルエーテル4.0g(0.013mol)
とクロロ酢酸コレステリル6.2g(0.013mol)
を、温度計と撹拌装置のついた300ml三ツ口フラス
コにとり、ジメチルホルムアミド150mlに溶かして
室温撹拌した。ここに無水炭酸カリウム2.7g(0.0
2mol)と臭化ナトリウム1.0gを加え、80℃で
6時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量の水中に注
ぎ、析出した燈色の結晶をろ集、水洗した。最後に少量
の冷エタノールで結晶を洗い、得られた黄色結晶を減圧
乾燥して表題の化合物を6.1g(8.41mmol)得
た。この化合物の融点とNMRは以下の通り。 融点(C−S点):148.9〜150.4℃。1 H−NMR(90MHz、CDCl3):δ0.67〜
2.39(m、58H)、4.03(t、2H)、4.6
6(s、2H)、5.41(d、1H)、6.99(d
d、4H)、7.87(d、4H)
【0043】(実施例2) 4−n−オクチルオキシ−4′−(コレステリルオキシ
カルボニル)スチルベン(式(1)において、R=n−
オクチル基、Z1=エーテル結合、Z2=炭素、Z3=単
結合)の合成;撹拌装置、冷却管を付けた300mlの
三ツ口フラスコに、4−ヒドロキシベンズアルデヒド1
2.2g(0.10mol)と無水炭酸カリウム20.0
g(0.14mol)をとり、DMF150mlを加え
て室温下撹拌した。ここにn−オクチルブロマイド2
0.0g(0.10mol)を一度に加えて、80℃で6
時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量の水中に注
ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。さらに、有機層を5%
水酸化ナトリウム水溶液で2回、飽和食塩水で2回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤をろ別
し、溶媒を減圧下留去して淡黄色油状の4−オクチルオ
キシベンズアルデヒドを19.0g(0.081mol)
得た。この化合物はこれ以上精製せず、次の反応に用い
た。
【0044】温度計、窒素導入管、撹拌装置を付けた3
00ml三ツ口フラスコに、4−(メトキシカルボニ
ル)ベンジルホスホン酸ジメチルエステルを20.9g
(0.081mol)とり、THF100mlに溶かし
て窒素気流下−70℃で撹拌した。この溶液に、t−ブ
トキシカリウム9.07g(0.081mol)のTHF
溶液70mlを−60℃以下で滴下した。滴下終了後−
70℃で30分間撹拌し、4−オクチルオキシベンズア
ルデヒドを19.0g(0.081mol)のTHF溶液
50mlを−60℃以下で滴下した。滴下後、反応液を
徐々に室温に戻し、そのまま3時間撹拌した。TLCで
反応終了を確認し、反応液を大量の水中に投入して析出
した結晶をろ集、冷メタノールで洗浄した。粗結晶を減
圧乾燥後ジオキサンで再結晶し、無色結晶の4−n−オ
クチルオキシ−4′−(メトキシカルボニル)スチルベ
ンを21.0g(0.058mol)得た。
【0045】冷却管、撹拌装置を付けた500ml三ツ
口フラスコに、4−n−オクチルオキシ−4′−(メト
キシカルボニル)スチルベンを20.0g(0.055m
ol)とり、ジオキサン150mlを加えて60℃で撹
拌した。均一溶液になったら、10%水酸化ナトリウム
水溶液を40ml加え、60℃で4時間撹拌した。反応
終了後、液を室温に戻して大量の水中に投入した。ここ
に濃塩酸を加えてpH=2とした後、析出した結晶をろ
集し、冷メタノールで洗浄した。結晶を減圧乾燥して、
4−n−オクチルオキシ−4′−スチルベンカルボン酸
を15.1g(0.043mol)得た。
【0046】冷却管を付けた300mlナスフラスコ
に、4−n−オクチルオキシ−4′−スチルベンカルボ
ン酸を15.0g(0.042mol)とり、塩化チオニ
ル50mlとピリジン1mlを加えて80℃で3時間撹
拌した。過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、トルエン
で2回溶媒交換した。残査をTHF100mlに溶か
し、さらにコレステロール16.2g(0.042mo
l)とピリジン5mlを加え、室温で1晩撹拌した。反
応溶液を水中に投入し、析出した結晶をろ集後減圧乾燥
した。粗結晶を少量のクロロホルムに溶かして不溶固体
をろ別後、ろ液を減圧濃縮して得られた結晶を酢酸エチ
ルで2回再結晶した。白色固体の目的物4−n−オクチ
ルオキシ−4′−(コレステリルオキシカルボニル)ス
チルベンを14.4g(0.020mol)得た。本化合
物の物性値は以下の通り。 融点;146.6〜148.3℃1 H−NMR(90MHz、CDCl3):δ0.69〜
2.51(m、62H)、3.97(t、J=6.4H
z、2H)、4.83(bs、1H)、5.44(d、1
H)、6.89(AB、J=8.7Hz、2H)、7.0
7(d、J=6Hz、2H)、7.46(AB、J=8.
7Hz、2H)、7.51(AB、J=8.5Hz、2
H)、8.00(AB、J=8.5Hz、2H)
【0047】(実施例3)液晶組成物の製造 ;実施例1で合成した化合物をガラス
製サンプルビンに0.030gとり、ここに4−n−ペ
ンチル−4′−シアノビフェニル(以下5CB)を加え
て正確に1.00gとした。この混合物を120℃に加
熱し、固体分が溶解して完全な等方性液体となったら静
置して放冷した。そのまま約48時間放置後5CBの流
動性は消失し、サンプルビンを逆さにしても液晶は流れ
落ちることはなかった。
【0048】光照射による流動性の制御;この液晶組成
物に、超高圧水銀ランプ(ウシオ電機USH−250B
Y)を光源とし、色ガラスフィルター(東芝UV−D3
6A)を介して366nm付近の紫外線を照射したとこ
ろ、露光量70.2J/cm2で液晶組成物に流動性が生
じ、液状の5CBに戻った。
【0049】(実施例4)液晶組成物の製造 ;実施例2で合成した化合物を石英セ
ルに0.100gとり、ここに5CBを加えて正確に1.
00gとした。この混合物を120℃に加熱し、固体が
溶解して完全な等方性液体となったら静置、放冷した。
48時間後5CBの流動性は消失し、石英セルを逆さに
しても液晶は流れ落ちることはなかった。
【0050】光照射による流動性の制御;この液晶組成
物に、超高圧水銀ランプ(ウシオ電機USH−250B
Y)を光源とし、色ガラスフィルター(東芝UV−D3
6A)を介して320nm付近の紫外線を照射したとこ
ろ、3.5時間後液晶組成物に流動性が生じ、液状の5
CBに戻った。
【0051】(実施例5) 実施例1で合成した化合物を0.100g用い、液晶を
5CBから下記の組成物Aに替える以外は実施例3に準
拠して行った。その結果、同様に流動性の消失した液晶
組成物が得られた。
【0052】液晶組成物A:
【化10】
【0053】(実施例6)実施例1で合成した化合物を
0.100g用い、液晶を5CBから下記の組成物Bに
替える以外は実施例3に準拠して行った。その結果、同
様に流動性の消失した液晶組成物が得られた。
【0054】液晶組成物B:
【化11】
【0055】(実施例7)実施例1で合成した化合物を
0.050g用い、液晶を5CBから下記の組成物Cに
替える以外は実施例3に準拠して行った。その結果、同
様に流動性の消失した液晶組成物が得られた。
【0056】液晶組成物C:
【化12】
【0057】(比較例1) (1) 液晶組成物の製造;特開平11−21556号公
報に記載の化合物
【化13】 をガラス製サンプルビンに0.030gとり、ここ5C
Bを加えて正確に1.00gとした。この混合物を12
0℃に加熱し、固体分が溶解して完全な等方性液体とな
ったら静置して放冷した。そのまま約48時間放置後、
室温で液状である5CBの流動性は消失し、サンプルビ
ンを逆さにしても液晶は流れ落ちることはなかった。
【0058】(2) 光照射による流動性の制御;(1)で
製造した液晶組成物に、超高圧水銀ランプを光源とし、
色ガラスフィルターを介して366nm付近の紫外線を
照射したが、120J/cm2露光しても液晶組成物に
流動性は生じなかった。さらに、フィルターを介さずに
全線露光を行っても、5CBが再び液状に戻ることはな
かった。
【0059】(比較例2)液晶を5CBから組成物Aに
替える以外は比較例1に準拠して行った。その結果、同
様に流動性の消失した液晶組成物が得られた。また比較
例1に準拠して紫外線照射および全線露光を行ったが、
組成物Cが再び液状に戻ることはなかった。
【0060】(比較例3)液晶を5CBから組成物Bに
替える以外は比較例1に準拠して行った。その結果、同
様に流動性の消失した液晶組成物が得られた。また比較
例1に準拠して紫外線照射および全線露光を行ったが、
組成物Cが再び液状に戻ることはなかった。
【0061】(比較例4)液晶を5CBから組成物Cに
替える以外は比較例1に準拠して行った。その結果、同
様に流動性の消失した液晶組成物が得られた。また比較
例1に準拠して紫外線照射および全線露光を行ったが、
組成物Cが再び液状に戻ることはなかった。
【0062】
【発明の効果】本発明にかかる液晶組成物は、外部刺激
として光照射により、その流動性が可逆的に制御できる
ものであり、具体的には液晶組成物のゾル−ゲル転移を
特定の光で照射することにより自在に制御できるもので
ある。このことは、すなわち、本発明にかかる液晶組成
物を用いて液晶表示素子を製造する際に、容易に該液晶
組成物を均一に塗布することができるように流動性を一
時的に消失させてゲル状態とし、また液晶表示素子が完
成した後に再び外部刺激として光照射し液晶組成物を再
びもとの流動性を付与(ゾル状態)し、ゲル化による表
示素子のコントラストの低下を防止することができるこ
とを意味する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 澤井 俊哉 神奈川県横浜市金沢区大川5−1 チッソ 株式会社横浜研究所内 (72)発明者 大塚 信之 神奈川県横浜市金沢区大川5−1 チッソ 株式会社横浜研究所内 Fターム(参考) 2H088 FA00 FA09 FA22 GA00 GA15 JA04 JA05 JA17 JA20 JA26 MA02 MA20 4H027 BD03 BE02 CM01 CM04 CQ04 CR04 CS04 CT04 CW01 DH04 DM01 DM02 DM03

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光照射によって流動性を制御することが
    可能な液晶組成物。
  2. 【請求項2】 式(1)で表される化合物を含有するこ
    とを特徴とする光ゾル−ゲル転移制御性の液晶組成物。 【化1】 式(1)において、Rは水素または炭素数1〜20の1価
    有機基、Z1は単結合、エーテル結合、エステル結合、
    アミド結合またはカルボニル基、Z2は炭素または窒
    素、Z3は単結合または−O(CH2)n−結合を示し、n
    =1〜10の整数である。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の液晶組成物を用いること
    を特徴とする液晶表示素子。
  4. 【請求項4】 式(1)で表される化合物を含有する液
    晶組成物を光照射してゲル状態へ転移し、該ゲル状態の
    液晶組成物を基板間に塗布し、さらに前記ゲル状態の液
    晶組成物を光照射してゾル状態へ転移することを特徴と
    する液晶表示素子の製造方法。 【化2】 式(1)において、Rは水素または炭素数1〜20の1価
    有機基、Z1は単結合、エーテル結合、エステル結合、
    アミド結合またはカルボニル基、Z2は炭素または窒
    素、Z3は単結合または−O(CH2)n−結合を示し、n
    =1〜10の整数である。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7601479B2 (en) 2003-09-12 2009-10-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymer, resist composition and patterning process
US7718342B2 (en) 2005-12-27 2010-05-18 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymers, resist compositions and patterning process
JP2011221462A (ja) * 2010-04-14 2011-11-04 Toppan Printing Co Ltd 位相差基板、その製造方法、および液晶表示装置
JP2011256291A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 光で化合物を流動化・非流動化させる方法
JP2013144769A (ja) * 2011-05-27 2013-07-25 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 自己修復性材料、自己修復性材料の使用方法及びゲル材料

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7601479B2 (en) 2003-09-12 2009-10-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymer, resist composition and patterning process
US7718342B2 (en) 2005-12-27 2010-05-18 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymers, resist compositions and patterning process
JP2011221462A (ja) * 2010-04-14 2011-11-04 Toppan Printing Co Ltd 位相差基板、その製造方法、および液晶表示装置
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