JP2002282651A5 - - Google Patents
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【特許請求の範囲】
【請求項1】 ハロゲン含有排ガスを、希ガス及び水素供与物質の存在下で放電処理に付すことにより、前記ハロゲン含有排ガス中のハロゲン化合物を分解してなるハロゲン含有排ガス処理方法において、前記ハロゲン化合物の分解により生成される分解生成物を除去した処理ガスを、次の前記ハロゲン含有排ガス処理用のキャリアガスとして再利用することを特徴とするハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項2】 前記希ガスが、He、Ne、Ar、Xeのいずれかまたはこれらの組み合わせからなる請求項1記載のハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項3】 前記水素供与物質が、水素または水素化合物である請求項1または2に記載のハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項4】 前記ハロゲン化合物が、フッ素化合物である請求項1から3のいずれかに記載のハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項5】 ハロゲン含有ガスを排気するハロゲン含有ガス排気設備に接続可能な排ガス導入部と、当該排ガス導入部に導入されたハロゲン含有排ガスをハロゲン化合物の分解処理を行う放電部へ供給するガス供給経路と、当該ガス供給経路に接続され、前記ガス供給経路に希ガスを導入するキャリアガス供給手段並びに水素供与物質を導入する水素供給手段を備えてなるハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項6】 前記放電部の後段に接続され、前記ハロゲン化合物の分解処理による分解生成物を除去する除去部を備えてなる請求項5に記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項7】 前記除去部が前記ガス供給経路もしくは前記ハロゲン含有ガス排気設備に接続されてなる請求項6に記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項8】 前記ガス供給経路に接続され、前記ガス供給経路に導入された前記ハロゲン含有排ガス中の前記ハロゲン化水素を除去するハロゲン化水素前処理部を備えてなる請求項5から7のいずれかに記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項9】 前記ハロゲン化水素前処理部が、前記ハロゲン化水素前処理部にて処理されたガスが前記ガス供給経路を循環するように前記ガス供給経路もしくは前記ハロゲン含有ガス排気設備に接続されてなる請求項8に記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項1】 ハロゲン含有排ガスを、希ガス及び水素供与物質の存在下で放電処理に付すことにより、前記ハロゲン含有排ガス中のハロゲン化合物を分解してなるハロゲン含有排ガス処理方法において、前記ハロゲン化合物の分解により生成される分解生成物を除去した処理ガスを、次の前記ハロゲン含有排ガス処理用のキャリアガスとして再利用することを特徴とするハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項2】 前記希ガスが、He、Ne、Ar、Xeのいずれかまたはこれらの組み合わせからなる請求項1記載のハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項3】 前記水素供与物質が、水素または水素化合物である請求項1または2に記載のハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項4】 前記ハロゲン化合物が、フッ素化合物である請求項1から3のいずれかに記載のハロゲン含有排ガス処理方法。
【請求項5】 ハロゲン含有ガスを排気するハロゲン含有ガス排気設備に接続可能な排ガス導入部と、当該排ガス導入部に導入されたハロゲン含有排ガスをハロゲン化合物の分解処理を行う放電部へ供給するガス供給経路と、当該ガス供給経路に接続され、前記ガス供給経路に希ガスを導入するキャリアガス供給手段並びに水素供与物質を導入する水素供給手段を備えてなるハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項6】 前記放電部の後段に接続され、前記ハロゲン化合物の分解処理による分解生成物を除去する除去部を備えてなる請求項5に記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項7】 前記除去部が前記ガス供給経路もしくは前記ハロゲン含有ガス排気設備に接続されてなる請求項6に記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項8】 前記ガス供給経路に接続され、前記ガス供給経路に導入された前記ハロゲン含有排ガス中の前記ハロゲン化水素を除去するハロゲン化水素前処理部を備えてなる請求項5から7のいずれかに記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
【請求項9】 前記ハロゲン化水素前処理部が、前記ハロゲン化水素前処理部にて処理されたガスが前記ガス供給経路を循環するように前記ガス供給経路もしくは前記ハロゲン含有ガス排気設備に接続されてなる請求項8に記載のハロゲン含有排ガス処理装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001092109A JP4558233B2 (ja) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | ハロゲン含有排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001092109A JP4558233B2 (ja) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | ハロゲン含有排ガス処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002282651A JP2002282651A (ja) | 2002-10-02 |
JP2002282651A5 true JP2002282651A5 (ja) | 2007-01-11 |
JP4558233B2 JP4558233B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=18946626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001092109A Expired - Fee Related JP4558233B2 (ja) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | ハロゲン含有排ガス処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4558233B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
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KR102457227B1 (ko) * | 2022-08-26 | 2022-10-20 | 주식회사 에코에이블 | 반도체 생산설비에서 배출되는 오염물질 처리장치 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2854240B2 (ja) * | 1994-05-09 | 1999-02-03 | 株式会社新潟鉄工所 | ガス回収循環装置 |
JPH11156156A (ja) * | 1997-11-27 | 1999-06-15 | Seiko Epson Corp | ハロゲン系ガスの処理方法、処理装置および反応処理装置並びに半導体装置 |
JP2000009037A (ja) * | 1998-06-18 | 2000-01-11 | Fujitsu Ltd | 排気装置及び排気方法 |
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2001
- 2001-03-28 JP JP2001092109A patent/JP4558233B2/ja not_active Expired - Fee Related
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