JP2002280709A - Method of manufacturing ceramic circuit board and board thereby - Google Patents

Method of manufacturing ceramic circuit board and board thereby

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JP2002280709A
JP2002280709A JP2001076703A JP2001076703A JP2002280709A JP 2002280709 A JP2002280709 A JP 2002280709A JP 2001076703 A JP2001076703 A JP 2001076703A JP 2001076703 A JP2001076703 A JP 2001076703A JP 2002280709 A JP2002280709 A JP 2002280709A
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Japan
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copper conductor
circuit
circuit board
copper
edge
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Application number
JP2001076703A
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Inventor
Kazuo Goto
和生 後藤
Masato Kawahara
正人 川原
Masayuki Ogino
昌幸 荻野
Satoshi Saito
諭 斎藤
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Mitsuboshi Belting Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Belting Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing ceramic circuit board by which a ceramic circuit board on which a copper conductor film circuit having a sharp edge is mounted and the occurrence of short circuits in a circuit formed by fine lines is inhibited can be manufactured without performing any complicated process, and to provide a ceramic circuit board manufactured by this method. SOLUTION: In this method, the copper conductor circuit 2 is formed by printing copper conductor paste on a ceramic substrate 1 and baking the paste. After the circuit 2 is formed, the edge 4 of the circuit 2 is sharpened by removing the stained portion of the copper conductor generated on the edge 4 of the circuit 2 by dissolving the portion.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はセラミックス回路基
板の製造方法及び得られた基板に係り、詳しくは銅導体
ペーストを印刷し、焼成することで得られた銅導体膜回
路のエッジに発生した銅導体の滲み部を溶解して除去
し、エッジを鋭く処理し、後工程である無電解メッキの
広がりを無くすことが可能なセラミックス回路基板の製
造方法及び得られた基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic circuit board and the obtained board, and more particularly, to a method for manufacturing a printed circuit board by printing a copper conductor paste and firing the same. The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic circuit board capable of dissolving and removing a bleeding portion of a conductor, sharpening an edge, and eliminating spread of electroless plating, which is a post-process, and the obtained board.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、セラミックス基板上に回路を印刷
し、焼成することで銅導体を得るために、導体ペースト
が用いられている。最近では、酸化防止や半田性向上の
ために後工程でメッキが可能な銅ペーストが提案されて
いる。
2. Description of the Related Art Today, a conductor paste is used to obtain a copper conductor by printing and firing a circuit on a ceramic substrate. Recently, a copper paste that can be plated in a post-process to prevent oxidation and improve solderability has been proposed.

【0003】例えば、従来の銅ペーストの接着に使われ
ていた鉛ガラスは耐薬品性に劣り、メッキ後に密着力が
落ちてしまう問題点が有ったため、これを解決する方法
として耐薬品性に優れた無鉛ガラスを使用することによ
りメッキを可能にした方法である。この方法はメッキ処
理が可能であるが、印刷法により銅導体の回路を形成す
るため、印刷法では避けることのできない回路のエッジ
に発生するタレなどの滲み部があり、後工程のメッキ処
理でこの滲み部にまでメッキが析出し、ファインライン
の回路では短絡してしまう問題点があった。
For example, lead glass, which has been used for bonding conventional copper pastes, has poor chemical resistance and has a problem in that the adhesion decreases after plating. This method enables plating by using excellent lead-free glass. This method can be plated, but since the copper conductor circuit is formed by the printing method, there are bleeding parts such as sagging that occur at the edge of the circuit that can not be avoided by the printing method, and the plating process in the later process There is a problem that plating is deposited even at the bleeding portion and short-circuits occur in a fine line circuit.

【0004】これらの問題点を解決する方法として、エ
ッチングが可能な銅導体を形成できる銅導体ペーストが
提案され、特開平8−213737号公報、特開平11
−126971号公報等に開示されている。
As a method for solving these problems, a copper conductor paste capable of forming a copper conductor which can be etched has been proposed.
No. 126971.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】これらは銅微粒子の反
応接着を利用して、セラミックス基板と反応接着させる
ことによりエッチング可能な銅導体を形成し、ホトエッ
チング法により回路化することでエッジがシャープな銅
導体を得ることができ、後工程であるメッキ処理でも広
がりが生じない方法であるが、ホトエッチングに必要な
装置や工程が必要であり、通常印刷法でできる程度の回
路形成には不向きであった。
In these methods, a copper conductor that can be etched is formed by reacting and adhering to a ceramic substrate using reactive adhesion of copper fine particles, and a sharp edge is formed by forming a circuit by photoetching. It is a method that can obtain a simple copper conductor and does not spread even in the plating process in the subsequent process, but requires equipment and processes required for photo etching, and is not suitable for circuit formation that can be done by ordinary printing method Met.

【0006】上記のエッチング可能な銅導体ペースト
は、エッジがシャープで非常に細い銅導体を得る方法と
しては有効であるが、通常の印刷法による銅導体作製工
程とエッチング工程を経る必要が有った。
The above-mentioned copper conductor paste which can be etched is effective as a method for obtaining a copper conductor having a sharp edge and a very small thickness. However, it is necessary to go through a copper conductor production step and an etching step by a normal printing method. Was.

【0007】このエッチング工程では、エッチング可能
な銅導体ペーストを印刷焼成することで得られたメタラ
イズ基板をパターニングして、回路パターンを形成した
セラミック配線板を作製することができる。そして、メ
タライズ基板の全面をレジスト膜で被覆する。レジスト
膜はドライフィルムやレジストインクが使用される。続
いて、レジスト膜に所望の回路パターンを形成するため
に、レジスト膜の上に導体回路と同形状に透明な部分を
形成したネガフィルムを置き、紫外線露光ランプを照射
して露光することにより硬化させる。
In this etching step, a metallized substrate obtained by printing and firing an etchable copper conductor paste can be patterned to produce a ceramic wiring board having a circuit pattern formed thereon. Then, the entire surface of the metallized substrate is covered with a resist film. As the resist film, a dry film or a resist ink is used. Next, in order to form a desired circuit pattern on the resist film, a negative film with a transparent portion formed in the same shape as the conductor circuit is placed on the resist film, and cured by irradiating with an ultraviolet exposure lamp and exposing it. Let it.

【0008】ネガフィルムを取り除き、硬化していない
部分、即ち露光していないレジスト膜の部分を現像して
除去する。銅膜の上に、硬化したレジスト膜が導体回路
と同様の形で形成されている。
The negative film is removed, and the uncured portion, that is, the portion of the resist film that has not been exposed is developed and removed. On the copper film, a cured resist film is formed in the same manner as the conductive circuit.

【0009】次に、銅のエッチング液、例えば塩化第二
鉄、塩化第二銅水溶液を用い、回路パターン以外の銅を
除去する。
Next, copper other than the circuit pattern is removed using an etching solution of copper, for example, an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride.

【0010】続いて、回路パターン上に被覆しているレ
ジスト膜を溶剤、例えばジクロロメタンを用いて除去
し、エッジがシャープな微細ラインの銅導体回路を有す
るセラミックス回路基板が形成されるという複雑な工程
を経る必要があった。
Subsequently, the resist film covering the circuit pattern is removed using a solvent, for example, dichloromethane, to form a ceramic circuit board having fine-line copper conductor circuits with sharp edges. Had to go through.

【0011】本発明は、このような複雑な工程を経ず
に、銅導体膜回路のエッジが鋭く、ファインラインの回
路での短絡を阻止したセラミックス回路基板の製造方法
及び得られた基板を提供することを目的とする。
The present invention provides a method for manufacturing a ceramic circuit board in which the edge of a copper conductor film circuit is sharp and a short circuit in a fine line circuit is prevented without passing through such a complicated process, and the obtained board. The purpose is to do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】即ち、本願の請求項1記
載の発明では、銅導体ペーストを基板上に印刷、焼成す
ることにより回路を形成したセラミックス回路基板の製
造方法において、銅導体ペーストをセラミックスからな
る基板上に印刷し、焼成して銅導体回路を形成した後、
該回路のエッジに発生した銅導体の滲み部を溶解して除
去し、エッジを鋭く処理したセラミックス回路基板の製
造方法にあり、通常のエッチングに必要な装置や工程が
不要にしてエッジが鋭い銅導体を形成することができる
ために、加工コストを低下することができる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a ceramic circuit board in which a circuit is formed by printing and firing a copper conductor paste on a substrate. After printing on a substrate made of ceramics and firing to form a copper conductor circuit,
A method for manufacturing a ceramic circuit board in which a bleeding portion of a copper conductor generated at the edge of the circuit is dissolved and removed, and the edge is sharpened. Since a conductor can be formed, processing cost can be reduced.

【0013】本願の請求項2記載の発明では、銅導体の
滲み部を溶解する液が塩化第二鉄、そして塩化第二銅か
ら選ばれた少なくとも1種のエッチング液であり、請求
項3記載の発明では、塩化第二鉄をエッチング液として
使用した場合のエッチング条件として、濃度を1〜15
質量%、浸漬時間を1,800〜10秒に設定し、請求
項4記載の発明では、エッジを鋭く処理したセラミック
ス回路基板を無電解メッキ処理し、そして本願の請求項
5記載の発明では、無電解メッキ処理が無電解ニッケル
-リンメッキであるラミックス回路基板の製造方法にあ
る。
According to the second aspect of the present invention, the solution for dissolving the bleeding portion of the copper conductor is at least one type of etching solution selected from ferric chloride and cupric chloride. According to the invention, when the ferric chloride is used as an etching solution, the concentration is 1 to 15 as an etching condition.
%, The immersion time is set to 1,800 to 10 seconds. In the invention according to the fourth aspect, the ceramic circuit board having the sharpened edge is subjected to an electroless plating process, and in the invention according to the fifth aspect, Electroless plating is electroless nickel
-It is in a method of manufacturing a Lamix circuit board that is phosphor-plated.

【0014】本願の請求項6記載の発明では、銅導体ペ
ーストをセラミックスからなる基板上に印刷し、焼成し
て銅導体回路を形成した後、該回路のエッジに発生した
銅導体の滲み部を除去してエッジをシャープに仕上げた
セラミックス回路基板にある。
According to the invention of claim 6 of the present application, a copper conductor paste is printed on a substrate made of ceramics and baked to form a copper conductor circuit. It is on a ceramic circuit board whose edges have been removed and sharpened.

【0015】本願の請求項7記載の発明では銅導体回路
の表面にメッキ層を設け、そして請求項8記載の発明で
はメッキ層がニッケル-リンであるセラミックス回路基
板にある。
According to the invention of claim 7 of the present application, a plating layer is provided on the surface of the copper conductor circuit, and in the invention of claim 8, the plating layer is nickel-phosphorous on a ceramic circuit board.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明においては、まず銅導体ペ
ーストを酸化アルミニウム燒結体、窒化アルミニウム燒
結体、チタン酸バリウム燒結体等から選ばれたセラミッ
クスからなる基材1の表面にスクリーン印刷法により厚
さ10〜1,000nmの所望の銅導体回路2に印刷す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, first, a copper conductor paste is screen-printed on the surface of a substrate 1 made of ceramics selected from aluminum oxide sintered body, aluminum nitride sintered body, barium titanate sintered body and the like. Printing is performed on a desired copper conductor circuit 2 having a thickness of 10 to 1,000 nm.

【0017】スクリーン印刷の手順は、水平に置かれた
スクリーン(例えば、ステンレス平織物、300メッシ
ュ)の下に、0.1〜2ミリメートルの間隔をもたせて
印刷基板を設置する。このスクリーンの上に銅導体ペー
ストをのせた後、スキージーを用いてスクリーン全面に
広げる。この時には、スクリーンと基材1とは間隔を有
している。続いて、スクリーンが該基材1に接触する程
度にスキージーでスクリーンを押さえ付けて移動させ、
印刷をする。以後これを繰り返す。
In the screen printing procedure, a printed board is placed under a horizontally placed screen (for example, stainless steel plain fabric, 300 mesh) at an interval of 0.1 to 2 mm. After the copper conductor paste is placed on the screen, it is spread over the entire screen using a squeegee. At this time, the screen and the substrate 1 have an interval. Subsequently, the screen is pressed and moved with a squeegee to such an extent that the screen comes into contact with the substrate 1,
Print. Thereafter, this is repeated.

【0018】その後、窒素中で焼成を行い銅導体回路2
を形成する。焼成では、直接、基材1をベルト炉に入
れ、窒素中、600〜1,000℃の温度下で焼成時間
20〜60分、ピーク保持時間4〜12分間で焼成し、
そして冷却時間9〜27分で焼成工程を終え、銅粉を焼
結させるとともに基材と反応接着させる。この焼成工程
時には、所定量の酸素がこの炉に送り込まれ、銅導体回
路2と上記基材1との密着力を高めて回路の電気抵抗値
を減少させる。
Thereafter, firing is performed in nitrogen to form a copper conductor circuit 2.
To form In the firing, the substrate 1 is directly placed in a belt furnace, and fired in nitrogen at a temperature of 600 to 1,000 ° C. for a firing time of 20 to 60 minutes and a peak holding time of 4 to 12 minutes,
Then, the firing step is completed in a cooling time of 9 to 27 minutes, and the copper powder is sintered and reactively bonded to the base material. During this firing step, a predetermined amount of oxygen is fed into the furnace, and the adhesion between the copper conductor circuit 2 and the substrate 1 is increased to reduce the electric resistance of the circuit.

【0019】焼成後の銅導体回路2は、図1の断面図に
示すように、銅導体回路2の根元周囲から突出したタレ
のような滲み部3が形成され、隣接する銅導体回路2の
滲み部3の間の距離Lが近接している。この距離Lがパ
ターンの間隔Wの半分以上になると短絡してしまう。ま
た、回路設計上滲み部はない方がよく、パターンの間隔
Wと図2に示すように滲み部3を取り除いたL'はでき
る限り近い方が好ましい。
As shown in the cross-sectional view of FIG. 1, the copper conductor circuit 2 after firing has a bleeding portion 3 such as a sag projecting from the periphery of the root of the copper conductor circuit 2. The distance L between the bleeding parts 3 is close. If this distance L is equal to or more than half of the pattern interval W, a short circuit occurs. Further, it is preferable that there is no bleeding part in the circuit design, and it is preferable that the interval W of the pattern and L ′ from which the bleeding part 3 is removed as shown in FIG. 2 be as close as possible.

【0020】ここで使用する銅導体ペーストは、第1の
成分となる銅、銅酸化物、もしくはこれらの混合物から
なる微粒子であり、この微粒子は例えば沈殿法と呼ばれ
る方法、即ち金属塩溶液から還元剤を用いて直接金属微
粒子を沈殿析出させる方法である。ホルマリン、ヒドラ
ジン、次亜リン酸ソーダ、水素化ホウ素塩などの還元剤
を、金属イオンを含む水溶液に適当な条件のもとで添加
することにより、金属微粒子を得ることができる。ま
た、上記微粒子は耐酸化性、分散性等の改善のため、有
機脂肪酸やカップリング剤により表面処理が行われる。
上記微粒子の平均粒子径は1〜200nmの範囲であ
る。好ましくは、100〜200nmの範囲にあり、こ
の範囲であれば微粒子の凝集がなくなって緻密な焼成膜
が形成され、その電気抵抗値も小さくなる。
The copper conductor paste used here is fine particles composed of copper, copper oxide, or a mixture thereof as the first component, and the fine particles are reduced, for example, by a method called a precipitation method, that is, by a reduction from a metal salt solution. This is a method of directly precipitating and depositing metal fine particles using an agent. Fine metal particles can be obtained by adding a reducing agent such as formalin, hydrazine, sodium hypophosphite, or borohydride salt to an aqueous solution containing metal ions under appropriate conditions. The fine particles are subjected to a surface treatment with an organic fatty acid or a coupling agent to improve oxidation resistance, dispersibility, and the like.
The average particle diameter of the fine particles is in the range of 1 to 200 nm. Preferably, the thickness is in the range of 100 to 200 nm. In this range, aggregation of the fine particles is eliminated, a dense fired film is formed, and the electric resistance value is reduced.

【0021】また、銅導体ペーストの第2の成分である
混合銅粉は、平均粒子径0.5〜5μmの範囲にある銅
粉をベースにし、これより平均粒子径の範囲が小さい補
助銅粉を少なくとも1〜3種類以上添加したものであ
る。具体的な混合銅粉は、平均粒子径2〜5μmの範囲
にある最も平均粒子径が大きいベース銅粉と、平均粒子
径1〜2μmの範囲で次に平均粒子径が大きい第1補助
銅粉と、そして平均粒子径0.5〜1μmの範囲で最も
平均粒子径が小さい第2補助銅粉の三段階の粒子径範囲
から構成されている場合や、平均粒子径0.5〜1μm
の範囲にあるベース銅粉と、平均粒子径0.1〜0.5
μmの範囲にある補助銅粉の二段階の粒子径範囲から構
成されている。
The mixed copper powder as the second component of the copper conductor paste is based on copper powder having an average particle diameter in the range of 0.5 to 5 μm, and auxiliary copper powder having a smaller average particle diameter. At least 1 to 3 or more are added. Specific mixed copper powder is a base copper powder having the largest average particle diameter in the range of 2 to 5 μm in average particle diameter, and a first auxiliary copper powder having the second largest average particle diameter in the range of 1 to 2 μm in average particle diameter. And a case where the second auxiliary copper powder has the smallest average particle diameter in the range of 0.5 to 1 μm in the three-stage particle diameter range, or the average particle diameter is 0.5 to 1 μm.
And the average particle diameter of 0.1 to 0.5
It consists of a two-stage particle size range of the auxiliary copper powder in the range of μm.

【0022】上記混合銅粉を三段階の粒子径範囲から構
成した場合では、混合銅粉中、ベース銅粉が80〜98
質量%に対して第1補助銅粉が1〜19質量%、第2補
助銅粉が1〜19質量%になっている。特に、補助銅粉
については、これに限定されることなく、これらの平均
粒子径範囲以下の第3補助銅粉を使用してもよい。
When the mixed copper powder is composed of three stages of particle size ranges, the base copper powder in the mixed copper powder is 80 to 98%.
The first auxiliary copper powder accounts for 1 to 19% by mass and the second auxiliary copper powder accounts for 1 to 19% by mass with respect to the mass%. In particular, the auxiliary copper powder is not limited to this, and a third auxiliary copper powder having an average particle diameter range or less may be used.

【0023】上記補助銅粉の各銅粉は、比較的球形に近
いものが望ましい。これは各銅粉が空隙を少なくして配
列するためである。平均粒子径の異った銅粉を使用する
と、平均粒子径の小さな補助銅粉が平均粒子径の最も大
きなベース銅粉が配列したときに生じる隙間や空隙を充
填するため、焼成後の膜は内部欠陥が少なく、焼き締ま
りも良好になる効果がある。
It is desirable that each copper powder of the above auxiliary copper powder has a relatively spherical shape. This is because the copper powders are arranged with a reduced number of voids. When copper powders having different average particle diameters are used, auxiliary copper powder having a small average particle diameter fills gaps and voids generated when the base copper powder having the largest average particle diameter is arranged. There is an effect that the number of internal defects is small and the compaction becomes good.

【0024】ベース銅粉の平均粒子径が5μmを超える
と、酸化の影響を受けにくく焼成条件設定が広くなる
が、低い温度では充分に焼結せず焼き締まり不足が生じ
て焼成膜と基板との密着力が低下する。また、インクロ
ール工程で銅粉がつぶれてしまって銅箔状となり、スク
リーン印刷時にメッシュずまりが発生することがある。
一方、ベース銅粉の平均粒子径が0.5μm未満では、
混合銅粉の総粒子面積が大きくなり過ぎて、酸化の影響
が大きくなり、電気抵抗値が高くなる。また、カサ密度
が大きいため焼き締まり性が悪くなる。
When the average particle size of the base copper powder exceeds 5 μm, the sintering conditions are set to be wide and the influence of oxidation is reduced. Of the adhesive decreases. Further, the copper powder may be crushed in the ink roll process to form a copper foil, which may cause mesh displacement during screen printing.
On the other hand, when the average particle diameter of the base copper powder is less than 0.5 μm,
Since the total particle area of the mixed copper powder becomes too large, the influence of oxidation increases, and the electric resistance value increases. In addition, since the bulk density is high, the compaction property deteriorates.

【0025】ベース銅粉の添加量が98質量%を超える
と、低い温度では充分に焼結せずに焼き締まり不足が生
じて焼成膜と基板との接着力が低下し、一方80質量%
未満では混合銅粉の総粒子面積が大きくなり過ぎること
になり、前述と同様の不具合が起こる。尚、補助銅粉は
ベース銅粉が配列したときに生じる間隙や空隙を充填す
るために添加するものであり、その平均粒子径と添加量
はベース銅粉のそれらに大きく影響を受ける。
When the amount of the base copper powder exceeds 98% by mass, the material does not sinter sufficiently at a low temperature, resulting in insufficient compaction and a decrease in the adhesive strength between the fired film and the substrate.
If it is less than 1, the total particle area of the mixed copper powder becomes too large, and the same problem as described above occurs. The auxiliary copper powder is added to fill gaps and voids generated when the base copper powder is arranged, and the average particle size and the amount added are greatly affected by those of the base copper powder.

【0026】銅導体ペーストの第3の成分であるバイン
ダー樹脂は、例えばニトロセルロース、エチルセルロー
ス、酢酸セルロース、ブチルセルロース等のセルロース
類、ポリオキシメチレン等のポリエーテル類、ポリブタ
ジエン、ポリイソプレン等のポリビニル類、ポリブチル
メタクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル類、ナイロン6、ナイロン6.6、ナイロン11等の
ポリアミドであり、特に制限されないが、焼成中で分解
する必要がある。
The binder resin as the third component of the copper conductor paste includes, for example, celluloses such as nitrocellulose, ethyl cellulose, cellulose acetate and butyl cellulose; polyethers such as polyoxymethylene; polyvinyls such as polybutadiene and polyisoprene. And acrylics such as polybutyl methacrylate and polymethyl methacrylate, and polyamides such as nylon 6, nylon 6.6, and nylon 11. Although not particularly limited, they need to be decomposed during firing.

【0027】このバインダー樹脂としては、熱分解温度
の相違する樹脂を少なくとも2種類以上含めることが好
ましい。これは焼成した場合でもバインダー樹脂が一度
に熱分解せず環境温度に応じて分解するため、焼成膜中
に残存することがない。
The binder resin preferably contains at least two kinds of resins having different thermal decomposition temperatures. This is because even when fired, the binder resin does not thermally decompose at once but decomposes according to the environmental temperature, so that it does not remain in the fired film.

【0028】上記バインダー樹脂を溶かす有機溶剤とし
ては、カルビトール、カルビトールアセテート、テレピ
ネオール(ターピノール)、メタクレゾール、ジメチル
イミダゾリジノン、ジメチルホルムアミド、ターピノー
ル、ジアセトンアルコール、トリエチレングリコール、
パラキシレン、乳酸エチル、イソホロン等の高沸点の有
機溶剤であり、2種類以上混合してもよい。
Examples of the organic solvent for dissolving the binder resin include carbitol, carbitol acetate, terpineol (terpinol), metacresol, dimethylimidazolidinone, dimethylformamide, terpinol, diacetone alcohol, triethylene glycol,
It is a high-boiling organic solvent such as para-xylene, ethyl lactate, and isophorone, and may be used in combination of two or more.

【0029】本発明に添加される第4の成分であるガラ
ス粉末は、銅、銅酸化物、もしくはこれらの混合物から
なる微粒子や混合銅粉の焼結温度より低くてかつバイン
ダー樹脂の熱分解温度より高い軟化点を有するものが使
用される。とりわけ、銅導体ペーストの焼成過程におい
て銅微粉を溶融させ、基板との反応を促進させたり、該
基板との濡れ性を向上させたりすることにより、効率よ
く基板と反応接着することで、焼成後の膜の平滑化を図
り、焼成膜への半田付け性を改良して基板と焼成膜間の
密着力を向上させ、しかもその信頼性を維持するうえで
重要になる。
The glass powder, which is the fourth component added to the present invention, is lower than the sintering temperature of fine particles or mixed copper powder composed of copper, copper oxide or a mixture thereof, and the thermal decomposition temperature of the binder resin. Those with higher softening points are used. In particular, in the firing process of the copper conductor paste, the copper fine powder is melted, and the reaction with the substrate is promoted or the wettability with the substrate is improved. This is important for smoothing the film, improving the solderability to the fired film, improving the adhesion between the substrate and the fired film, and maintaining its reliability.

【0030】このガラス粉末は、鉛を含有しておらず、
平均粒子径1〜10μmの範囲で500〜600℃の低
軟化点を有している。具体的には、SiO2−B23
ZnO系、SiO2−B23−Bi23系、SiO2−B
23 −CaO系、SiO2−B23−TiO2系、Si
2−B23−MgO系、SiO2−B23−Na2
系、SiO2−B23−ZrO系、SiO2−B23−A
23系からなる少なくとも1種のガラス材である。し
かし、これに限定する必要はない。
This glass powder does not contain lead,
It has a low softening point of 500 to 600 ° C in the average particle size range of 1 to 10 µm. Specifically, SiO 2 —B 2 O 3
ZnO-based, SiO 2 -B 2 O 3 -Bi 2 O 3 system, SiO 2 -B
2 O 3 —CaO system, SiO 2 —B 2 O 3 —TiO 2 system, Si
O 2 -B 2 O 3 -MgO based, SiO 2 -B 2 O 3 -Na 2 O
System, SiO 2 -B 2 O 3 -ZrO based, SiO 2 -B 2 O 3 -A
It is at least one kind of glass material composed of l 2 O 3 . However, it is not necessary to limit to this.

【0031】その中でも比較的銅が溶融しやすいSiO
2−B23−ZnO系ガラスと、ガラスフリットが軟化
した場合に基板表面に広がりやすいSiO2−B23
Bi23系ガラスを利用することで、溶融した銅成分と
基材が反応し、良好な密着力を得られる。その際、活性
度の高い銅微粉を用いることにより、積極的に銅成分を
ガラスフリット中に溶融させ、密着力を向上させること
が可能になった。
Among them, SiO is relatively easy to melt copper.
2 -B 2 O 3 and -ZnO based glass, spreads easily on the substrate surface when the glass frit is softened SiO 2 -B 2 O 3 -
By using Bi 2 O 3 -based glass, the molten copper component reacts with the substrate, and good adhesion can be obtained. At that time, by using a copper fine powder having high activity, it was possible to positively melt the copper component in the glass frit and improve the adhesion.

【0032】その添加量はペーストの総量に対して、各
々0.25〜3質量%を含有し、なおかつ2種のガラス
フリットの合計が、0.5〜4質量%含有することが好
ましい。一方の添加量が3.0質量%を超えると、ガラ
ス粉末が焼成後の焼成膜内に残存するため、焼成膜の電
気抵抗値が上昇する傾向があり、また焼成膜と基板との
界面にガラス層を形成し、熱膨張による歪みをおこしや
すく、熱衝撃性が弱くなる。また、0.25質量%未満
では、信頼性の高い基板との接着力が期待できない。
The amount of addition is preferably 0.25 to 3% by mass with respect to the total amount of the paste, and the total amount of the two types of glass frit is preferably 0.5 to 4% by mass. If the addition amount exceeds 3.0% by mass, the glass powder remains in the fired film after firing, so that the electrical resistance of the fired film tends to increase, and the interface between the fired film and the substrate tends to increase. A glass layer is formed, which tends to cause distortion due to thermal expansion, and weakens thermal shock. If it is less than 0.25% by mass, a highly reliable adhesive force to a substrate cannot be expected.

【0033】そして、本発明の銅導体ペーストは、バイ
ンダー樹脂と有機溶剤からなる有機分が2〜16質量%
の範囲にして粘度調節されている。有機分が2質量%未
満の場合には、銅導体ペーストの粘度が高くなり、また
有機分が14質量%を超えると、粘度が低くなり印刷性
に劣る。
The copper conductor paste of the present invention has an organic content of 2 to 16% by mass consisting of a binder resin and an organic solvent.
And the viscosity is adjusted. When the organic content is less than 2% by mass, the viscosity of the copper conductor paste becomes high, and when the organic content exceeds 14% by mass, the viscosity becomes low and the printability is poor.

【0034】また、含有している全ての銅粉と銅酸化
物、銅、もしくはこれらの混合物からなる微粒子が84
〜98質量%の範囲にある。98質量%を超えると、ペ
ーストが高粘度となり焼き締まり不足が生じて焼成膜と
基板との接着力が低下し、一方84質量%未満ではペー
ストが焼成により収縮するために、前述と同様の不具合
が起こる。
Further, fine particles comprising all of the contained copper powder and copper oxide, copper, or a mixture thereof are 84%.
9898% by mass. If the content exceeds 98% by mass, the paste becomes highly viscous, causing insufficient shrinkage, and the adhesive strength between the fired film and the substrate is reduced. Happens.

【0035】続いて、銅導体回路2の根元周囲から突出
したタレのような滲み部3を溶解して除去し、エッジ4
を鋭く処理する。図2に示すように隣接する銅導体回路
2の根元間の間隔L’はLより大きくなっており、パタ
ーンの間隔Wに近くなる。この工程では、上記回路2以
外の滲み部3を除去するのが目的であり、該回路2まで
溶解する必要は無い。そのために浸漬時間を制御するこ
とが必要である。具体的には、基材1を所定濃度のエッ
チング液に所定時間浸浸して滲み部3を溶解する。エッ
チング液は銅を溶解する塩化第二鉄、塩化第二銅、硝
酸、硫酸、酢酸、アンモニア水、シアン化アルカリ溶液
がある。
Subsequently, the bleeding portion 3 such as a sauce projecting from the periphery of the base of the copper conductor circuit 2 is dissolved and removed, and the edge 4 is removed.
Process sharply. As shown in FIG. 2, the distance L ′ between the roots of the adjacent copper conductor circuits 2 is larger than L, and is closer to the pattern distance W. In this step, the purpose is to remove the bleeding portion 3 other than the circuit 2, and it is not necessary to dissolve the circuit 2. Therefore, it is necessary to control the immersion time. Specifically, the substrate 1 is immersed in an etching solution having a predetermined concentration for a predetermined time to dissolve the bleeding portion 3. Etching solutions include ferric chloride, cupric chloride, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, aqueous ammonia, and alkali cyanide solutions that dissolve copper.

【0036】エッチング液の濃度は、特に限定しない
が、塩化第二鉄をエッチング液として使用した場合に
は、その濃度が1〜15質量%、浸漬時間が1,800
〜10秒であり、エッチング液の濃度を希薄に調整し
て、処理時間を長くする。
The concentration of the etching solution is not particularly limited, but when ferric chloride is used as the etching solution, the concentration is 1 to 15% by mass, and the immersion time is 1,800.
10 seconds to 10 seconds, the concentration of the etching solution is adjusted to be low, and the processing time is lengthened.

【0037】必要に応じて後工程として無電解メッキ処
理を施すことも可能である。この場合、銅導体回路2以
外の滲み部3のみが除去されているため、メッキの広が
りは起こらない。この無電解メッキ処理では、上記基板
1を無電解メッキ液に浸漬して銅導体回路2表面上にメ
ッキ膜5を設けるが、無電解メッキ処理としては銅メッ
キ処理、ニッケルメッキ処理、金メッキ処理、銀メッキ
処理、アルミニウムメッキ処理、ロジウムメッキ処理、
コバルトメッキ処理施、そしてルテニウムメッキ処理を
行って、種々のメッキ層を形成した基板が形成される。
If necessary, an electroless plating process can be performed as a post-process. In this case, since only the bleeding portion 3 other than the copper conductor circuit 2 is removed, the plating does not spread. In this electroless plating treatment, the substrate 1 is immersed in an electroless plating solution to provide a plating film 5 on the surface of the copper conductor circuit 2. The electroless plating treatment includes copper plating, nickel plating, gold plating, and the like. Silver plating, aluminum plating, rhodium plating,
By performing a cobalt plating process and a ruthenium plating process, a substrate having various plated layers formed thereon is formed.

【0038】[0038]

【実施例】次に、本発明を具体的な実施例により更に詳
細に説明する。 実施例1〜3、比較例1〜4 (銅導体路基板の作製)セラミックス基板としてアルミ
ナ基板を用い、銅導体ペースト(平均一次粒径5nmの
Cu微粉:80質量部、平均一次粒径3μmのCu粉:
500質量部、平均一次粒径1μmのCu粉:15質量
部、平均一次粒径0.5μmのCu粉:30質量部、ガ
ラス粉SiO−B-ZnO系無鉛ガラス:5質
量部、アクリル樹脂:30質量部、ターピネオール:3
0質量部、ブチルカルビトールアセテート:30質量
部)をステンレス325のスクリーンを用いて密着力評
価用の2mm×2mmの回路とメッキ広がり評価用のラ
イン/スペース=100μm/100μmの回路を印刷
し、レベリングを室温下で15分、乾燥を150℃で2
0分行った。これらのサンプルを直接ベルト炉に入れ、
窒素中でピーク温度900℃、ピーク保持時間10分で
焼成工程を終えて銅導体回路をもつ基板を作製した。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 (Preparation of Copper Conductor Substrate) An alumina substrate was used as a ceramic substrate, and a copper conductor paste (Cu fine powder having an average primary particle size of 5 nm: 80 parts by mass, an average primary particle size of 3 μm) was used. Cu powder:
500 parts by mass, Cu powder having an average primary particle size of 1 μm: 15 parts by mass, Cu powder having an average primary particle size of 0.5 μm: 30 parts by mass, glass powder SiO 2 —B 2 O 3 —ZnO-based lead-free glass: 5 parts by mass , Acrylic resin: 30 parts by mass, terpineol: 3
0 parts by mass, butyl carbitol acetate: 30 parts by mass) using a stainless 325 screen to print a 2 mm × 2 mm circuit for evaluating adhesion and a line / space = 100 μm / 100 μm circuit for plating spread evaluation, Leveling at room temperature for 15 minutes, drying at 150 ° C for 2 minutes
It went for 0 minutes. Put these samples directly into the belt furnace,
The firing step was completed at a peak temperature of 900 ° C. and a peak holding time of 10 minutes in nitrogen to produce a substrate having a copper conductor circuit.

【0039】(エッチング処理)塩化第二鉄水溶液(濃
度:150g/リットル、液温40℃)に所定の時間浸
漬を行った後、充分水洗しエッジが鋭くなったセラミッ
クス回路基板を得た。
(Etching treatment) After immersing for a predetermined time in an aqueous ferric chloride solution (concentration: 150 g / liter, liquid temperature: 40 ° C), the substrate was sufficiently washed with water to obtain a ceramic circuit board having sharp edges.

【0040】(評価方法)パターンのエッジの観察、銅
導体回路の密着力、無電解ニッケルメッキの広がりを以
下の方法で測定した。上記の評価方法によって得られた
結果を表1に示す。
(Evaluation Method) Observation of pattern edges, adhesion of copper conductor circuits, and spread of electroless nickel plating were measured by the following methods. Table 1 shows the results obtained by the above evaluation method.

【0041】1.回路エッジの観察 100倍のルーペで観察し、エッジがパターンの端より
10ミクロン未満の場合は○、10ミクロン以上の場合
は×として評価した。
1. Observation of Circuit Edge Observation was performed with a loupe of 100 times. When the edge was less than 10 microns from the edge of the pattern, it was evaluated as ○, and when it was 10 microns or more, it was evaluated as x.

【0042】2.焼成膜の密着力(L型ピール強度) L型に曲げた直径0.8mmのスズメッキ銅線を2mm
×2mmの大きさに焼成した焼成膜の表面に半田付して
固定し、垂直に折り曲げた銅線の付着力をバネ計りで計
測し基板と焼成膜間の接着力を求め、2.0kgを越え
る場合には○、1.2〜2.0kgの範囲は△、そして
1.2kg未満の場合には×として評価した。
2. Adhesion strength of fired film (L-peel strength) Tin-plated copper wire with a diameter of 0.8 mm bent into L-shape is 2 mm
Solder to the surface of the baked film baked to a size of × 2 mm, fix it by soldering, measure the adhesive force of the vertically bent copper wire with a spring meter, determine the adhesive force between the substrate and the baked film, and calculate 2.0 kg When it exceeded, it was evaluated as 、, when it was less than 1.2 kg, it was evaluated as Δ, and when it was less than 1.2 kg, it was evaluated as ×.

【0043】3.無電解ニッケルメッキの広がり評価 無電解ニッケルメッキ処理を施し、100倍のルーペで
観察し、エッジが回路の端より10ミクロン未満の場合
は○、10ミクロン以上の場合は×として評価した。
3. Evaluation of Spread of Electroless Nickel Plating Electroless nickel plating was applied and observed with a magnifier of 100 times. When the edge was less than 10 microns from the edge of the circuit, it was evaluated as ○, and when it was 10 microns or more, it was evaluated as x.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】この結果、塩化第二鉄水溶液(濃度:15
0g/リットル、液温40℃)の浸漬時間が10秒から
20秒の範囲内であれば、回路エッジが鋭く、銅導体回
路の密着力の低下も無く、無電解ニッケルメッキの広が
りも無い基板が作製できた。この範囲より浸漬時間が短
い場合はエッジが鋭くならず、無電解ニッケルメッキも
広がった。また、この範囲よりも浸漬時間が長い場合
は、導体パターン自体も侵食され、密着力が低下した。
As a result, an aqueous ferric chloride solution (concentration: 15
If the immersion time (0 g / liter, liquid temperature 40 ° C.) is within the range of 10 to 20 seconds, the substrate has sharp circuit edges, does not decrease the adhesion of the copper conductor circuit, and does not spread electroless nickel plating. Was produced. When the immersion time was shorter than this range, the edge did not become sharp, and the electroless nickel plating also spread. When the immersion time was longer than this range, the conductor pattern itself was also eroded, and the adhesion was reduced.

【0046】また、エッチング処理を、液温40℃の塩
化第二鉄水溶液を用い、濃度1〜15質量%、浸漬時間
5〜1,800秒、1,800秒以上にして行って、実
施1と同様の銅導体回路をもつ基板を作製した。そし
て、回路エッジの観察と焼成膜の密着力を測定した。そ
の結果を表2と表3に示す。
Further, the etching treatment was carried out using an aqueous solution of ferric chloride at a liquid temperature of 40 ° C. with a concentration of 1 to 15% by mass and an immersion time of 5 to 1,800 seconds and 1,800 seconds or more. A substrate having the same copper conductor circuit as described above was produced. The circuit edge was observed and the adhesion of the fired film was measured. The results are shown in Tables 2 and 3.

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】この結果、塩化第二鉄水溶液をエッチング
液として用いた場合、回路エッジと密着力の両方を満足
させるために所定濃度に対して浸漬時間を調節すること
ができる。
As a result, when an aqueous ferric chloride solution is used as an etching solution, the immersion time can be adjusted to a predetermined concentration in order to satisfy both the circuit edge and the adhesion.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように本願の請求項記載の発明で
は、エッチング処理が可能な銅導体ペーストをスクリー
ン印刷法により所望の回路に印刷、その後焼成を行い銅
導体回路を形成し、銅を溶解するエッチング液で回路以
外の滲み部を除去することで、エッジが鋭くなった銅導
体回路を得ることができ、必要に応じてエッチング液の
濃度を希薄に調整して、処理時間を長くすることも可能
になり、また必要に応じて後工程として無電解メッキ処
理を施すこともでき、この場合回路以外の滲み部が除去
されているため、メッキの広がりは起こらない効果もあ
る。
As described above, according to the invention described in the claims of the present application, a copper conductor paste that can be etched is printed on a desired circuit by a screen printing method, and then baked to form a copper conductor circuit. By removing the bleeding portion other than the circuit with the dissolving etching solution, a copper conductor circuit having a sharp edge can be obtained, and if necessary, the concentration of the etching solution can be adjusted to a low concentration to prolong the processing time. It is also possible to perform electroless plating as a post-process if necessary. In this case, since the bleeding portion other than the circuit is removed, there is also an effect that the plating does not spread.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施例で得られた焼成後の銅導体回路の断面
図を示す。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of a fired copper conductor circuit obtained in this example.

【図2】図1に示す銅導体回路の滲み部をエッチング処
理した後の断面図を示す。
FIG. 2 is a cross-sectional view after a bleed portion of the copper conductor circuit shown in FIG. 1 is subjected to an etching process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材 2 銅導体回路 3 滲み部 4 エッジ Reference Signs List 1 base material 2 copper conductor circuit 3 bleeding part 4 edge

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斎藤 諭 兵庫県神戸市長田区浜添通4丁目1番21号 三ツ星ベルト株式会社内 Fターム(参考) 5E343 AA02 AA23 BB24 BB72 BB77 DD04 EE52 EE55 EE58 ER35 ER36 ER39 ER53 FF02 FF11 GG08 GG11  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Satoshi Saito 4-1-1, Hamazoe-dori, Nagata-ku, Kobe-shi, Hyogo Mitsuboshi Belting Co., Ltd. F term (reference) 5E343 AA02 AA23 BB24 BB72 BB77 DD04 EE52 EE55 EE58 ER35 ER36 ER39 ER53 FF02 FF11 GG08 GG11

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 銅導体ペーストを基板上に印刷、焼成す
ることにより回路を形成したセラミックス回路基板の製
造方法において、銅導体ペーストをセラミックスからな
る基板上に印刷し、焼成して銅導体回路を形成した後、
該回路のエッジに発生した銅導体の滲み部を溶解して除
去し、エッジを鋭く処理したことを特徴とするセラミッ
クス回路基板の製造方法。
1. A method of manufacturing a ceramic circuit board, wherein a circuit is formed by printing and firing a copper conductor paste on a substrate, wherein the copper conductor paste is printed on a ceramic substrate and fired to form a copper conductor circuit. After forming
A method for manufacturing a ceramic circuit board, comprising: dissolving and removing a bleeding portion of a copper conductor generated at an edge of the circuit; and sharpening the edge.
【請求項2】 銅導体の滲み部を溶解する液が塩化第二
鉄、そして塩化第二銅から選ばれた少なくとも1種のエ
ッチング液である請求項1記載のセラミックス回路基板
の製造方法。
2. The method for manufacturing a ceramic circuit board according to claim 1, wherein the solution for dissolving the bleeding portion of the copper conductor is at least one etching solution selected from ferric chloride and cupric chloride.
【請求項3】 塩化第二鉄をエッチング液として使用し
た場合のエッチング条件として、濃度を1〜15質量
%、浸漬時間を1,800〜10秒に設定する請求項1
記載のセラミックス回路基板の製造方法。
3. An etching condition when ferric chloride is used as an etching solution, the concentration is set to 1 to 15% by mass, and the immersion time is set to 1,800 to 10 seconds.
The manufacturing method of the ceramic circuit board described in the above.
【請求項4】 エッジを鋭く処理したセラミックス回路
基板を無電解メッキ処理する請求項1〜3の何れかに記
載のセラミックス回路基板の製造方法。
4. The method for manufacturing a ceramic circuit board according to claim 1, wherein the ceramic circuit board having a sharp edge is subjected to electroless plating.
【請求項5】 無電解メッキ処理が無電解ニッケル-リ
ンメッキである請求項4記載のセラミックス回路基板の
製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the electroless plating is electroless nickel-phosphorus plating.
【請求項6】 銅導体ペーストをセラミックスからなる
基板上に印刷し、焼成して銅導体回路を形成した後、該
回路のエッジに発生した銅導体の滲み部を除去してエッ
ジを鋭くしたことを特徴とするセラミックス回路基板。
6. A method in which a copper conductor paste is printed on a substrate made of ceramics and fired to form a copper conductor circuit, and a bleeding portion of the copper conductor generated at an edge of the circuit is removed to sharpen the edge. A ceramic circuit board characterized by the above-mentioned.
【請求項7】 銅導体回路の表面にメッキ層を設けた請
求項6記載のセラミックス回路基板。
7. The ceramic circuit board according to claim 6, wherein a plating layer is provided on a surface of the copper conductor circuit.
【請求項8】 メッキ層がニッケル-リンである請求項
7記載のセラミックス回路基板。
8. The ceramic circuit board according to claim 7, wherein the plating layer is nickel-phosphorus.
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