JP2001122680A - Glass ceramic substrate and method of producing the same - Google Patents

Glass ceramic substrate and method of producing the same

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JP2001122680A
JP2001122680A JP30328799A JP30328799A JP2001122680A JP 2001122680 A JP2001122680 A JP 2001122680A JP 30328799 A JP30328799 A JP 30328799A JP 30328799 A JP30328799 A JP 30328799A JP 2001122680 A JP2001122680 A JP 2001122680A
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glass ceramic
glass
ceramic substrate
film
firing
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JP30328799A
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Yasuto Kudo
康人 工藤
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass ceramic substrate having improved resistance to a plating liquid, which is produced while the firing temperature at a temperature of <=950 deg.C is maintained, thereby adverse effects on substrate strength and dimensions are suppressed. SOLUTION: In a glass ceramic substrate, which is obtained by forming via conductors and a wiring film in green sheets, each containing a glass component and an inorganic filler, then laminating a pltirality of the green sheets, and firing the laminated sheets at 700 to 950 deg.C, a glass ceramic film having high resistance to a plating liquid and thickness of 3 to 15 μm, preferably 5 to 10 μm is provided on the outermost layer of the glass ceramic substrate mentioned above.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、めっき液に対する
耐性を備えたガラスセラミック基板およびその製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass ceramic substrate having a resistance to a plating solution and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】1500℃以上の温度で焼成が必要なア
ルミナ基板と異なり、ガラス粉末と、アルミナ粉末等の
無機物フィラーとの混合物から成るガラスセラミック基
板は、950℃以下の温度で焼成して得られるため、融
点の低いAgやAu等の金属と同時焼成が可能である。
これらの金属により配線を作製できることより、配線の
導電性が高いという利点が生じる。
2. Description of the Related Art Unlike an alumina substrate which needs to be fired at a temperature of 1500 ° C. or more, a glass ceramic substrate made of a mixture of glass powder and an inorganic filler such as alumina powder is obtained by firing at a temperature of 950 ° C. or less. Therefore, simultaneous sintering with a metal such as Ag or Au having a low melting point is possible.
Since the wiring can be formed using these metals, there is an advantage that the conductivity of the wiring is high.

【0003】また、基板内部にコンデンサや抵抗体を内
蔵することが可能で、小型化、多機能化に適した基板と
して注目されている。
[0003] Further, a capacitor or a resistor can be built in the substrate, so that it is attracting attention as a substrate suitable for miniaturization and multifunctionalization.

【0004】ところで、ガラスセラミック基板の表面に
焼き付ける配線材料としてAgペースト、Agを主体と
してPdを混入させたペースト、Agを主体としてPt
を混入させたペースト、あるいはCuペースト等があ
る。これらのペーストを塗布、焼成して得た配線に電子
部品を搭載するには、はんだで接合するのが一般的であ
るが、Agを主体とした配線は、はんだに溶解しやすい
という問題がある。また、Cuの場合は例えばCuの表
面酸化によってはんだ濡れ性が劣化しやすいという問題
がある。更に、はんだ中のSnが長期的にAgあるいは
Cu中に拡散して脆い金属間化合物を形成し、信頼性を
損なうという問題もある。
An Ag paste, a paste mainly containing Ag and Pd mixed therein, and a Pt mainly containing Ag as a wiring material to be printed on the surface of a glass ceramic substrate are used.
Paste or a Cu paste. In order to mount electronic components on wirings obtained by applying and baking these pastes, it is common to bond them with solder. However, Ag-based wirings have a problem that they are easily dissolved in solder. . Further, in the case of Cu, there is a problem that the solder wettability is likely to be deteriorated due to surface oxidation of Cu, for example. Further, there is another problem that Sn in the solder diffuses into Ag or Cu for a long time to form a brittle intermetallic compound, thereby impairing reliability.

【0005】これらの問題を解決するために、配線上に
Niあるいは更にAuめっきを施すことが一般的に行わ
れている。しかし、これらめっき液は、酸性あるいはア
ルカリ性であることが多く、ほぼ中性であってもガラス
セラミック基板がめっき液に浸食されて、配線とガラス
セラミック基板の密着性が損なわれたり、基板表面が脆
くなるという危険性が高かいという問題がある。
[0005] In order to solve these problems, it is common practice to apply Ni or further Au plating on the wiring. However, these plating solutions are often acidic or alkaline, and even if they are almost neutral, the glass ceramic substrate is eroded by the plating solution and the adhesion between the wiring and the glass ceramic substrate is impaired, or the substrate surface is damaged. There is a problem that the risk of becoming brittle is high.

【0006】この問題を解決するためにガラスセラミッ
ク基板に含まれるガラスをSiO2、Al23,ZrO2
等の成分に富んだ組成として、めっき液耐性に優れたも
のにすることが考えられるが、通常セラミック基板は、
焼成温度を950℃以下とすること、更に基板として十
分な強度を保つことという条件を満足させるため、Zn
O、PbO、アルカリ土類金属の酸化物、B23等の成
分を多く含んだガラスを用いて形成せざるを得ず、めっ
き液耐性を改良できないでいる。
In order to solve this problem, the glass contained in the glass ceramic substrate is made of SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2
It is conceivable to make the composition excellent in plating solution resistance as a composition rich in components such as
In order to satisfy the conditions of setting the firing temperature to 950 ° C. or less and further maintaining sufficient strength as a substrate, Zn
It must be formed using glass containing a large amount of components such as O, PbO, oxides of alkaline earth metals, and B 2 O 3 , and the plating solution resistance cannot be improved.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記状況に鑑
みてなされたものであり、950℃以下の焼成温度を維
持し、基板強度や寸法への影響が極力小さくされ、かつ
めっき液耐性が改良されたガラスセラミック基板の提供
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and maintains a firing temperature of 950 ° C. or less, minimizes the influence on substrate strength and dimensions, and reduces plating solution resistance. It is an object of the present invention to provide an improved glass ceramic substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本第
1の発明は、ガラス成分および無機物フィラーを含むグ
リーンシートにヴィア導体及び配線膜を形成し、前記グ
リーンシートを複数枚積層し、700〜950℃で焼成
して形成されるガラスセラミック基板において、前記ガ
ラスセラミック基板の最外層表面に、厚さ3〜15μ
m、好ましくは5〜10μmのめっき液耐性の高いガラ
スセラミック膜を設けたものである。
According to a first aspect of the present invention, a via conductor and a wiring film are formed on a green sheet containing a glass component and an inorganic filler, and a plurality of the green sheets are laminated. In a glass ceramic substrate formed by firing at ~ 950 ° C, a thickness of 3 ~ 15μ is formed on the outermost layer surface of the glass ceramic substrate.
m, preferably a glass ceramic film having a high plating solution resistance of 5 to 10 μm.

【0009】そして、本第2の発明は、ヴィア導体及び
配線膜が形成されたグリーンシートを複数枚積層し、7
00〜950℃で焼成しててガラスセラミック基板を得
る方法において、ガラスセラミック基板の最外層となる
グリーンシートを、該グリーンシートの一方の面にめっ
き液耐性に富む組成のガラスセラミックスラリーを塗布
し乾燥して第2のガラスセラミックグリーンシート膜を
形成する工程と、ヴィアホールを形成する工程と、ヴィ
アホール内および前記第2のガラスセラミック膜表面に
導電性ペーストを充填、印刷して、ヴィア導体および配
線となる導体膜を形成する工程により作製することを特
徴とするものである。
In the second invention, a plurality of green sheets on which via conductors and wiring films are formed are stacked,
In a method of obtaining a glass-ceramic substrate by firing at 00 to 950 ° C., a green sheet to be an outermost layer of the glass-ceramic substrate is coated on one surface of the green sheet with a glass-ceramic slurry having a composition rich in plating solution resistance. Forming a second glass ceramic green sheet film by drying, forming a via hole, filling and printing a conductive paste in the via hole and the surface of the second glass ceramic film to form a via conductor; And a step of forming a conductor film to be a wiring.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】上記したように、本発明に用いら
れるガラスセラミック基板は、その表面にめっき液耐性
に優れたガラスセラミック膜を有するため、めっき液耐
性に対して効果があり、かつ、該膜は15μm以下と薄
いため、基板強度や寸法への影響を極力少なくされてい
る。また、製造工程としては、従来のガラスセラミック
材料と工程がそのまま利用できるため経済性も損なわれ
ない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, the glass ceramic substrate used in the present invention has a glass ceramic film having excellent plating solution resistance on its surface, and therefore has an effect on plating solution resistance, and Since the film is as thin as 15 μm or less, the influence on substrate strength and dimensions is minimized. Further, as the manufacturing process, the conventional glass ceramic material and the process can be used as they are, so that the economic efficiency is not impaired.

【0011】基板強度や寸法への影響を極力少なくする
ための手段として、めっき液耐性の高いガラスセラミッ
ク膜の厚さは極力薄くするのが好ましいが、基板表面を
十分に被膜する厚さは必要なので、焼成後の厚さを3〜
15μm、好ましくは5〜10μmとする。
As a means for minimizing the influence on the strength and dimensions of the substrate, it is preferable to minimize the thickness of the glass ceramic film having high plating solution resistance, but it is necessary to have a thickness sufficient to sufficiently coat the substrate surface. So, the thickness after firing is 3 ~
It is 15 μm, preferably 5 to 10 μm.

【0012】最外層に設けるめっき液耐性の高いガラス
セラミックグリーンシート膜は、めっき液耐性の高いガ
ラス粉末単独、あるいはガラス粉末とアルミナ、ジルコ
ニア等の粉末との混合粉末と、エチルセルロース、アク
リル、ブチラール等の樹脂と、ターピネオール、エタノ
ール、トルエン等の溶剤とを混合してスラリー状態と
し、スプレー法、スクリーン印刷法、あるいはドクター
ブレード法により塗布して形成する。
The glass ceramic green sheet film having high plating solution resistance provided in the outermost layer may be made of glass powder having high plating solution resistance alone or a mixed powder of glass powder and a powder of alumina, zirconia, etc., ethyl cellulose, acryl, butyral, etc. The resin is mixed with a solvent such as terpineol, ethanol, toluene or the like to form a slurry, and the slurry is formed by spraying, screen printing, or doctor blade method.

【0013】めっき液耐性は、めっき液の酸性度あるい
はアルカリ度あるいは成分により異なるので、めっき液
に応じたガラス組成の選定が必要である。また、ガラス
セラミック基板本体のガラスとガラスセラミック膜のガ
ラスの軟化点(℃)はなるべく近似させることが好まし
いが、焼成する際にグリーンシートの樹脂が分解して発
生するガスの排出を妨害せず、且つ焼成温度で十分に緻
密化するガラス軟化点であれば良いので、概ね650〜
850℃の範囲であれば使用できる。
Since the plating solution resistance varies depending on the acidity or alkalinity of the plating solution or components, it is necessary to select a glass composition according to the plating solution. Further, it is preferable that the softening point (° C.) of the glass of the glass ceramic substrate body and the glass of the glass ceramic film be as close as possible, but it does not hinder the discharge of gas generated by decomposition of the resin of the green sheet during firing. And any glass softening point that sufficiently densifies at the sintering temperature.
It can be used if it is in the range of 850 ° C.

【0014】耐めっき液性に優れたガラスセラミック膜
を形成した上記グリーンシートには、例えば金型を用い
てヴィアホールを開孔し、ヴィアホール内および前記第
2のガラスセラミック膜の表面に導電性ペーストを充
填、印刷して、ヴィア導体および配線となる導体膜を形
成する。
In the green sheet on which the glass ceramic film having excellent plating solution resistance is formed, a via hole is opened using, for example, a mold, and a conductive film is formed in the via hole and on the surface of the second glass ceramic film. The conductive paste is filled and printed to form a via conductor and a conductor film to be a wiring.

【0015】内層のグリーンシートは、ガラスセラミッ
ク膜を形成する以外は、上記と同様に加工し、必要枚数
を積層して、60〜80℃、50〜500Kg/cm2
の条件で加圧して一体化する。そして、300〜500
℃の温度範囲でグリーンシートの樹脂を分解除去し、7
00〜950℃で焼結させてガラスセラミック基板を完
成させる。
The green sheet of the inner layer is processed in the same manner as described above except that a glass ceramic film is formed, and the required number of sheets are laminated to form a green sheet at 60 to 80 ° C. and 50 to 500 kg / cm 2.
Under pressure, the pressure is integrated. And 300-500
Decompose and remove the green sheet resin in the temperature range of 7 ° C.
The glass ceramic substrate is completed by sintering at 00 to 950 ° C.

【0016】[0016]

【実施例】次に実施例を用いて本発明をさらに説明す
る。 (実施例1,2,3,4)ガラスセラミック基板を作製
するためのスラリーは、重量%基準で、SiO2:2
3,Al23:23,ZnO:27,B23:14,C
aO:13という組成で、平均粒径2.2μmのガラス
粉末50重量部と、平均粒径1.7μmのアルミナ粉末
50重量部とに対して、ポリビニルブチラール9重量
部、フタル酸ジイソブチル7重量部、オレイン酸1重量
部、イソプロピルアルコール40重量部、トリクロルエ
タン20重量部を加え、ボールミルで24時間混合して
作製した。得たスラリーを用いてドクターブレード法に
より厚さ120μmのグリーンシートに成形した。
Next, the present invention will be further described with reference to examples. (Examples 1, 2, 3, and 4) The slurry for producing the glass ceramic substrate was SiO 2 : 2 on a weight% basis.
3, Al 2 O 3 : 23, ZnO: 27, B 2 O 3 : 14, C
aO: 13 composition, 50 parts by weight of glass powder having an average particle diameter of 2.2 μm and 50 parts by weight of alumina powder having an average particle diameter of 1.7 μm, 9 parts by weight of polyvinyl butyral and 7 parts by weight of diisobutyl phthalate Oleic acid, 1 part by weight of oleic acid, 40 parts by weight of isopropyl alcohol, and 20 parts by weight of trichloroethane, and mixed by a ball mill for 24 hours. Using the obtained slurry, a green sheet having a thickness of 120 μm was formed by a doctor blade method.

【0017】一方、耐めっき液用ガラス層を作製するた
めのスラリーとして、重量%基準で、SiO2:76,
Al23:5,B23:8,ZrO2:1,Li2O:
4,Na2O:4,TiO2:2という組成で、平均粒径
1.2μmのガラス粉末と、エチルセルロース6重量%
のターピネオール溶液とを3本ロールで混練して得た。
なお、ガラス軟化点は、グリーンシート用は780℃で
あり、耐めっき液用は822℃である。
On the other hand, as a slurry for preparing a plating-resistant glass layer, SiO 2 : 76,
Al 2 O 3 : 5, B 2 O 3 : 8, ZrO 2 : 1, Li 2 O:
4, Na 2 O: 4, TiO 2 : 2, glass powder having an average particle size of 1.2 μm, and ethyl cellulose 6% by weight
And a terpineol solution were kneaded with a three-roll mill.
The glass softening point is 780 ° C. for the green sheet and 822 ° C. for the plating solution.

【0018】ガラスセラミック基板表面として露出する
面に相当するグリーンシート面全面に、スクリーン印刷
法によって、上記耐めっき液ガラススラリーを塗布し
た。乾燥後の塗布膜の厚は、11μmであった。
The above plating-resistant liquid glass slurry was applied to the entire surface of the green sheet corresponding to the surface exposed as the surface of the glass ceramic substrate by a screen printing method. The thickness of the coating film after drying was 11 μm.

【0019】次に、このグリーンシートにNCパンチン
グ法によりヴィアホールを開孔した。そして、スクリー
ン印刷法により、ヴィアホール内にAgペーストを充填
し、更に、配線を印刷形成した。内層のグリーンシート
は、ガラスセラミック膜を形成する以外は、上記と同様
に加工し、ヴィアホールと配線とを設け、内層グリーン
シート数を、それぞれ2(実施例1),4(実施例
2),6(実施例3),8
Next, via holes were formed in the green sheet by the NC punching method. Then, an Ag paste was filled in the via holes by screen printing, and further, wirings were formed by printing. The inner green sheet is processed in the same manner as described above, except that a glass ceramic film is formed, a via hole and a wiring are provided, and the number of inner green sheets is set to 2 (Example 1) and 4 (Example 2), respectively. , 6 (Example 3), 8

【0020】(実施例4)枚積層して、80℃、200
Kg/cm2、5分の条件で加圧して一体化して積層体
とした。上記のようにして得た積層体に、剃刀を格子上
に押し当て、深さ約50μmの格子状のスリットを形成
した。格子の大きさは、X、Y方向ともに17.44m
mとした。
(Embodiment 4)
Kg / cm 2 , pressurized under the conditions of 5 minutes, and integrated to form a laminate. A razor was pressed onto the lattice obtained as described above to form a lattice-like slit having a depth of about 50 μm. The size of the grid is 17.44 m in both X and Y directions
m.

【0021】その後、積層体を電気炉内に設置し、40
0℃まで2℃/分の速度で昇温し、1時間保持してグリ
ーンシートの樹脂を熱分解して除去し、引き続き900
℃まで5℃/分で昇温して、10分保持後、室温まで2
時間かけて冷却した。焼成後、スリットに沿って分割し
た。なお、焼成後のめっき液ガラススラリー塗布膜の厚
は7μmであった。
Thereafter, the laminate is placed in an electric furnace,
The temperature was raised to 0 ° C. at a rate of 2 ° C./min, and held for 1 hour to thermally decompose and remove the resin of the green sheet.
The temperature was raised to 5 ° C / min at 5 ° C / min.
Cooled down over time. After baking, it was divided along the slit. In addition, the thickness of the plating solution glass slurry coating film after firing was 7 μm.

【0022】その後、以下の評価を行った。 寸 法:外形寸法の測定。―――ノギスを用いて測定。 耐食性:25℃の1%塩酸水溶液に浸漬後、Pdで活性
化し、80℃の無電解ニッケルめっき液(pH4)に4
0分間浸漬して、6μm厚さのニッケル膜をAg配線上
に析出させた。塩酸水溶液への浸漬時間を変化させ、電
極の密着強度(Kg/mm2)を測定し、この値を耐食
性の代用値として求め、比較した。なお、評価は各実施
例のものをそれぞれ用いて、各浸漬時間で平均値を求め
た。表1に寸法の測定結果、表2に耐食性の結果を示
す。
Thereafter, the following evaluation was performed. Dimensions: Measurement of external dimensions. ――― Measured using calipers. Corrosion resistance: After immersion in 1% hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C, activated with Pd, and added to 80 ° C electroless nickel plating solution (pH 4)
By immersing for 0 minutes, a nickel film having a thickness of 6 μm was deposited on the Ag wiring. The adhesion time (Kg / mm 2 ) of the electrode was measured by changing the immersion time in the aqueous hydrochloric acid solution, and this value was determined as a substitute for corrosion resistance and compared. The evaluation was performed using each of the examples, and an average value was obtained at each immersion time. Table 1 shows the measurement results of the dimensions, and Table 2 shows the results of the corrosion resistance.

【0023】(比較例1,2,3,4)比較のために、
耐めっき液ガラスセラミック膜を施さない基板を実施例
と同様にして作製し、実施例と同様の評価を行った。表
1に寸法の測定結果を合わせて示し、表2に耐食性の結
果を合わせて示した。
(Comparative Examples 1, 2, 3, 4) For comparison,
A substrate without a plating solution glass ceramic film was prepared in the same manner as in the example, and the same evaluation as in the example was performed. Table 1 also shows the measurement results of dimensions, and Table 2 also shows the results of corrosion resistance.

【0024】(実施例5,6,7,8,9)焼成後の耐
めっき液ガラススラリー塗布膜の厚を3(実施例5),
5(実施例6),7(実施例7),10(実施例8),
15(実施例9)μmとし、内層のグリーンシート数を
8枚とした以外は実施例1と同様にしてガラスセラミッ
ク基板を得た。得られた基板を用いて実施例1と同様に
して耐食性を評価した。得られた浸漬時間1分での耐食
性の結果を表3に示した。
(Examples 5, 6, 7, 8, 9) The thickness of the coating solution of the glass slurry after plating was 3 (Example 5).
5 (Example 6), 7 (Example 7), 10 (Example 8),
A glass ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 15 μm (Example 9) and the number of green sheets in the inner layer was eight. The corrosion resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the obtained substrate. Table 3 shows the results of the obtained corrosion resistance at the immersion time of 1 minute.

【0025】(比較例5,6)焼成後の耐めっき液ガラ
ス膜の厚を1(比較例5),17(実施例6)μmと
し、内層のグリーンシート数を8枚とした以外は実施例
1と同様にしてガラスセラミック基板を得た。得られた
基板を用いて実施例1と同様にして寸法精度と耐食性を
評価した。得られた浸漬時間1分での耐食性の結果を表
3にあわせて示した。
(Comparative Examples 5 and 6) Except that the thickness of the plating-resistant liquid glass film after firing was 1 (Comparative Example 5) and 17 (Example 6) μm and the number of green sheets in the inner layer was 8 A glass ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1. Using the obtained substrate, the dimensional accuracy and corrosion resistance were evaluated in the same manner as in Example 1. The results of the corrosion resistance obtained at the immersion time of 1 minute are shown in Table 3.

【0026】 表1 寸法結果 本発明例 比較例 内層グリーン 平均 σ 備 考 平均 σ 備 考 シート枚数 (mm) (mm) (mm) (mm) 2 15.02 0.02 実施例1 15.02 0.02 比較例1 4 15.04 0.02 実施例2 15.06 0.03 比較例2 6 15.06 0.06 実施例3 15.08 0.07 比較例3 8 15.09 0.07 実施例4 15.10 0.08 比較例4Table 1 Dimensional results Invention example Comparative example Inner layer green Average σ Remarks Average σ Remarks Number of sheets (mm) (mm) (mm) (mm) 2 15.02 0.02 Example 1 15.02 0.02 Comparative example 1 15.04 0.02 Example 2 15.06 0.03 Comparative Example 2 6 15.06 0.06 Example 3 15.08 0.07 Comparative Example 3 8 15.09 0.07 Example 4 15.10 0.08 Comparative Example 4

【0027】 表2 耐食性(密着強度N/mm2) 耐食性(密着強度N/mm2) 1%塩酸水溶液浸漬時間(分) 実施例 比較例 0 15.7 17.6 0.5 15.7 10.8 1.0 14.7 5.9 2.0 14.7 2.9 5.0 12.7 <1.0Table 2 Corrosion resistance (adhesion strength N / mm 2 ) Corrosion resistance (adhesion strength N / mm 2 ) 1% hydrochloric acid aqueous solution immersion time (min) Example Comparative example 0 15.7 17.6 0.5 15.7 10.8 1.0 14.7 5.9 2 0.0 14.7 2.9 5.0 12.7 <1.0

【0028】 表3 耐食性(密着強度N/mm2)および寸法精度 耐めっき液 耐食性 寸法精度 ガラス膜厚さ 平 均 σ (μm) (N/mm2) (mm) (mm) 実施例5 3 12.7 15.10 0.07 実施例6 5 14.7 15.10 0.06 実施例7 7 14.7 15.09 0.08 実施例8 10 14.7 15.09 0.08 実施例9 15 14.7 15.08 0.09 比較例5 1 9.8 15.10 0.07 比較例9 17 14.7 15.09 0.12Table 3 Corrosion Resistance (Adhesion Strength N / mm 2 ) and Dimensional Accuracy Plating Solution Corrosion Resistance Dimensional Accuracy Glass Film Thickness Average σ (μm) (N / mm 2 ) (mm) (mm) Example 5 3 12.7 15.10 0.07 Example 6 5 14.7 15.10 0.06 Example 7 7 14.7 15.09 0.08 Example 8 10 14.7 15.09 0.08 Example 9 15 14.7 15.08 0.09 Comparative example 5 1 9.8 15.10 0.07 Comparative example 17 17 14.7 15.09 0.12

【0029】表1より、本発明の方法は寸法への影響が
ほとんどないことがわかる。また、表2は、比較例が塩
酸水溶液に長く浸漬すればするほど基板が浸食されて密
着強度が低下してくのに対し、本発明例では影響が少な
いことを示している。
Table 1 shows that the method of the present invention has almost no effect on the dimensions. Further, Table 2 shows that the longer the sample is immersed in the aqueous hydrochloric acid solution in the comparative example, the more the substrate is eroded and the lower the adhesion strength is.

【0030】表3より、耐めっき液ガラス膜の厚さが3
μm以上、好ましくは5μm以上とすれば十分な耐めっ
き液性が得られる。しかし、厚さが10μmを超えると
寸法精度が多少悪化し、15μmを超えると寸法精度が
大幅に悪化する。よって、耐めっき液ガラス膜の厚さは
本発明の範囲とすることが望まれる。
According to Table 3, the thickness of the plating-resistant liquid glass film is 3
If it is at least 5 μm, preferably at least 5 μm, sufficient plating solution resistance can be obtained. However, when the thickness exceeds 10 μm, the dimensional accuracy is slightly deteriorated, and when the thickness exceeds 15 μm, the dimensional accuracy is significantly deteriorated. Therefore, it is desired that the thickness of the plating-resistant glass film be within the range of the present invention.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明した通り、従来のガラスセラミ
ック基板の製造方法に耐めっき性のガラスを塗布する工
程を加えるだけで、寸法等に影響することなく耐食性に
優れたガラスセラミック基板上を形成することができ
た。
As described above, by simply adding the step of applying plating-resistant glass to the conventional method of manufacturing a glass-ceramic substrate, a glass-ceramic substrate having excellent corrosion resistance can be formed without affecting the dimensions and the like. We were able to.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス成分および無機物フィラーを含むグ
リーンシートにヴィア導体及び配線膜を形成し、前記グ
リーンシートを複数枚積層し、700〜950℃で焼成
して形成されるガラスセラミック基板において、前記ガ
ラスセラミック基板の最外層表面に、焼成後の厚さが3
〜15μmのめっき液耐性の高いガラスセラミック膜を
設けたことを特徴とするガラスセラミックス基板。
1. A glass ceramic substrate formed by forming a via conductor and a wiring film on a green sheet containing a glass component and an inorganic filler, laminating a plurality of the green sheets, and firing at 700 to 950 ° C. The thickness after firing is 3 on the outermost layer surface of the glass ceramic substrate.
A glass ceramic substrate provided with a glass ceramic film having a high plating solution resistance of up to 15 μm.
【請求項2】ガラスセラミック基板の最外層表面に設け
られたのめっき液耐性の高いガラスセラミック膜の厚さ
が、焼成後で、5〜10μm膜であるガラスセラミック
基板。
2. A glass ceramic substrate provided on the outermost layer surface of the glass ceramic substrate, wherein the glass ceramic film having high plating solution resistance has a thickness of 5 to 10 μm after firing.
【請求項3】ブィア導体及び配線膜が形成されたグリー
ンシートを複数枚積層し、700〜950℃で焼成して
てガラスセラミック基板を得る方法において、ガラスセ
ラミック基板の最外層となるグリーンシートを、該グリ
ーンシートの一方の面にめっき液耐性に富む組成のガラ
スセラミックスラリーを塗布し乾燥して第2のガラスセ
ラミックグリーンシート膜を形成する工程と、ヴィアホ
ールを形成する工程と、ヴィアホール内および前記第2
のガラスセラミック膜表面に導電性ペーストを充填、印
刷して、ヴィア導体および配線となる導体膜を形成する
工程により作製することを特徴とするガラスセラミック
基板の製造方法。
3. A method for obtaining a glass ceramic substrate by laminating a plurality of green sheets on which a via conductor and a wiring film are formed, and firing the green sheets at 700 to 950 ° C. Forming a second glass-ceramic green sheet film by applying a glass-ceramic slurry having a composition rich in plating solution to one surface of the green sheet and drying the glass-ceramic slurry, forming a via-hole; And the second
A method of filling a conductive paste on the surface of the glass ceramic film, printing the conductive paste, and forming a conductive film to be a via conductor and a wiring.
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