JP2002279629A - 光ディスク原盤の露光方法および装置、ならびに光ディスクメディア - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露
光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の
影響を低減したピット形状形成を達成できる光ディスク
原盤露光方法を実現する。 【解決手段】フォトレジストを塗布したガラス基盤５
に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ
光１を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク
原盤露光装置であり、隣接するトラック上に形成される
長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御す
る。パルスジェネレータ１３から各トラックのフォーマ
ット信号送出クロックＣＬＫをフォーマッタシステム１
５に送出し、さらに短ピット露光ビーム強度制御回路１
７にピット露光データ信号を送出し、回路１７から光変
調器３にピット形成信号を送出することにより、短ピッ
トを形成する。２は露光光学系、４はフォーカスアクチ
ュエータである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤露
光装置における、光ディスク原盤露光方法および装置な
らびに光ディスクメディアに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大容量光ディスクメディアとし
て、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等が
注目されている。ＤＶＤ規格においては、トラックピッ
チ：０．７４μｍ、最小ピット長：０．４μｍと、現行
のＣＤ規格トラックピッチ：１．６μｍ、最小ピット長
０．８７μｍに比べ約半分の微少構造のプリフォーマッ
トを光ディスク原盤上に形成しなければならなくなって
いる。記憶容量の増大化への要求により、今後益々、狭
ピッチ化、小ピット化が求められ、より高精度、高品質
な光ディスクカッティングマシンが必要となってきてい
る。

【０００３】この様な状況のもとで、ＣＬＶフォーマッ
トの光ディスク原盤の露光に際し、光ディスク原盤露光
装置では、露光ビーム径（波長λ／開口数ＮＡ）を小さ
くする、すなわち露光レーザの波長（λ）を短くするか
開口数（ＮＡ）を大きくするか、あるいは、超解像現象
を利用して露光ビームの微少化を図る等のことが行われ
てきた。また、従来より、フォトレジストを塗布したガ
ラス原盤上に露光で記録ピットを形成していく場合、記
録データ長の長短の違いにより形成されるピット形状に
差が生じ、再生したときの変調度の差を生じるととも
に、ジッタが増えるという不具合があった。

【０００４】例えば、特開平５−１３５４１２号公報に
記載の技術では、このような問題を解決するために、露
光ピット長に応じて露光光の強度を制御して、長いピッ
トも短いピットも同じ変調度となるようピット形成する
ことを提案している。近年の高密度化は、形成されるピ
ット間隔とトラックピッチを一層狭くしている。

【０００５】また、特開平９−２５９４７７号公報に記
載の技術では、露光光のエアリーリングに関連し、トラ
ック方向のピット密度に応じて露光ビームの強度と露光
ピット長のエッジ位置を調整して、エアリーリングによ
る過剰露光を低減しピット記録信号通りのピットを形成
し、再生信号におけるジッタの抑制を行っている。以上
の２つの場合は、いづれも現在露光しているトラックの
トラック方向の露光ビーム強度および露光光のエアリー
リングによる過剰露光を問題としている。

【０００６】また、特開平９−２６５６２７号公報に記
載の技術では、上記２つと違い、ピット列の両側にグル
ーブが配置された光ディスクフォーマットの光ディスク
原盤露光に際し、ピットに隣接するグルーブの深さが深
くなることを問題とし、ピットに隣接するグルーブの露
光ビーム強度を制御することによって、グルーブ形状を
制御している。

【０００７】図１１は、現像条件一定で、露光ビーム強
度と形成されるピット幅あるいはグルーブ幅の関係を模
式的に示した図である。図１１からも明らかなように、
露光ビーム強度と形成されるピットあるいは溝の幅は、
露光ビーム強度が小さいうちは露光ビーム強度の増加に
伴い増加する（図中‘Ａ領域‘）。すなわち、この領域
で形成されるピットあるいはグルーブ幅は僅かな露光ビ
ーム強度の変化でその形状が変わる。露光ビーム強度が
ある程度大きくなると（’Ｂ領域‘）露光ビーム強度が
変化しても、ピットあるいはグルーブ幅はほとんど変わ
らない。

【０００８】また、特開平９−２５９４７７号公報、お
よび特開平９−２６５６２７号公報に記載の各技術で
は、明細書中で述べられるグルーブ形状は、いわゆる
‘Ｖ溝’と言われるもので、図１１の‘Ａ領域’で形成
される溝である。従って、隣接して形成されるピットを
露光する露光ビームのエアリーリングによる僅かな過剰
露光によってグルーブ形状に変化が生じてしまい、問題
となった。

【０００９】また、特開平１０−６９６３７号公報に記
載のピット露光装置では、プリフォーマット信号のパル
ス幅を予め設定された補正量で補正するパルス幅調整回
路と、プリフォーマット信号の信号レベルを予め設定さ
れた補正量で補正する信号レベル調整回路とを備えてい
る。すなわち、プリフォーマット信号がセクタマーク部
（円形）である場合とＶＦＯ部（楕円形）である場合と
で、補正量を異なる値に設定している。しかし、周回前
と周回後のエアリーリングによるグループ形状の変化に
ついては何も述べていない。本発明が対象とする、短ピ
ットと長ピットのピット列から成る高密度フォーマット
においては、短ピットは、図１１の‘Ａ領域’、長ピッ
トは‘Ｂ領域’で形成される。従って、短ピットの形状
は、隣接トラック上のピット形成露光ビームのエアリー
リングの影響を受け易く、長ピット形状は隣接トラック
ピットのエアリーリングの影響を受け難い。

【００１０】図１２は、短ピット形状への隣接トラック
長ピット配置の影響を示す説明図である。実際、図１２
に示すように、短ピット、長ピットおよびその中間長ピ
ットがランダムに配置される。図から明らかなように、
隣接するトラックに長ピットが有るか無いかによって、
形成される短ピットの形状が異なってくる。隣接トラッ
クに長ピットが存在する場合、ピットは通常より大きく
形成されてしまう。隣接トラックが露光された際のエア
リーリングによる短ピットの過剰露光が一因と考えられ
る。このエアリーリングの影響は、超解像現象を用いた
場合は更に顕著に現れてくる。

【００１１】従来の課題は、このような、短ピットに対
する隣接長ピットの露光ビームのエアリーリングによる
過剰露光による短ピット形状変化を低減することであ
る。さらに、隣接するピットパターンが不特定となるＣ
ＬＶディスクフォーマット露光における、隣接する長ピ
ットに対する短ピットに形状補正への対応が本発明の最
終的な課題である。従来技術による対処法では、隣接ト
ラック上の不特定パターンの影響に対応することは不可
能である。

【００１２】ここで、従来の光ディスク原盤露光装置の
基本構成について説明しておく。図１３は、従来の光デ
ィスクカッティングマシンの基本構成を示す図である。
図１３において、１はフォトレジストを塗布したガラス
原盤５を露光するための露光レーザ。２は露光レーザ１
から出射されたレーザ光を整形し、フォーカスアクチュ
エータ４へ露光光を導く光学系。フォーカスアクチュエ
ータ４は、入射した露光レーザ光を極小スポットに集光
させ、絶えず、そのビームウエスト位置をフォトレジス
ト位置に保つようにフォーカス制御する。なお、フォー
カス制御の為の光学系等は省略する。３は光変調器で、
ガラス原盤５上にプリエンボスピットやグルーブを形成
する信号を発生させるフォーマッタ１５からの信号Ｆou
tに基づいて露光レーザ光の強度変調をする。フォーマ
ッタ１５は、光ディスク原盤上に形成されるピット列に
対応した露光データ信号を出力する。

【００１３】１６はフォーマッタ１５を駆動するための
基本クロックを発生する基本クロック発生器。ガラス原
盤５は、エアスピンドルモータ６に吸着され回転させら
れる。これと同時に、フォーカスアクチュエータ４はエ
アスライダ８によって半径方向に移動させられる。ま
た、７はエアスピンドルモータ６にとりつけられ、回転
に応じパルス列を出力するエンコーダ。１４は、露光ス
ポットの半径位置を検出するためのリニアエンコーダ
（リニアスケール）である。

【００１４】９，１１は、それぞれ、スライダ８および
スピンドル６を駆動するためのドライバ。１０，１２
は、駆動系コントローラ（パルスジェネレータ）１３に
よって指示される移動および回転指令に対して、滑らか
にそして精度良くスライダ８およびスピンドル６を追従
させるための制御回路である。ここで、リニアスケール
１４の値をプリセットするための絶対位置を検出するた
めのセンサは省略してある。また、光ディスクカッティ
ングマシンは各種ディスクフォーマットに対応して、２
ビーム露光、露光ビームの蛇行等々の設定が必要になる
が、それらに要する各種露光光学系等は、本発明に直接
関係しないので記載を省略した。

【００１５】光変調器３は、従来では、ピット形成する
／しないに対応した変調を行っていた。この光変調器３
にピット形成する／しないに対応した電圧の中間的電圧
を加えることにより、露光光強度を変化させることがで
き、ピット形状を変えることができる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来技
術による対処法では、隣接トラック上の不特定パターン
の影響に対応することは不可能である。従来の問題点
は、このような、短ピットに対する隣接長ピットの露光
ビームのエアリーリングによる過剰露光による短ピット
形状変化を低減できないことである。さらに、重要な問
題点は、隣接するピットパターンが不特定となるＣＬＶ
ディスクフォーマット露光における、隣接する長ピット
に対する短ピットに形状補正へ対応することができない
ことである。

【００１７】本発明の第１の目的は、短ピット形状の、
隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリング
の過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状
形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を提供するこ
とにある。

【００１８】本発明の第２の目的は、上記第１の目的を
更に厳密に、短ピットと長ピットの相対的位置関係まで
考慮して隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリ
ーリングの過剰露光による形状変化の影響をより低減し
たピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法
を提供することにある。

【００１９】本発明の第３の目的は、上記第１あるいは
第２の目的の光ディスク原盤露光方法をＣＬＶフォーマ
ット露光に適応するにあたり、現トラックに対するＣＬ
Ｖ駆動時に、現トラックおよび隣接トラック上に配置さ
れるピット列に対応した露光データ信号を送出可能なフ
ォーマッタクロックを生成可能なパルスジェネレータを
提供することにある。

【００２０】本発明の第４の目的は、上記第１あるいは
第２の目的の光ディスク原盤露光方法をＣＬＶフォーマ
ット露光に適応するにあたり、現トラックに対するＣＬ
Ｖ駆動時に、現トラックおよび隣接トラック上に配置さ
れるピット列に対応した露光データ信号を生成可能なフ
ォーマッタシステムを提供することにある。

【００２１】本発明の第５の目的は、上記第３の目的の
パルスジェネレータおよび第４の目的のフォーマッタシ
ステムを用いて得られる、現トラックおよび隣接トラッ
ク上のピット露光データ信号に基づいて、短ピット形状
の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリ
ングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット
形状の形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を提供
することにある。

【００２２】本発明の第６の目的は、上記第５の目的の
光ディスク原盤露光方法を精度良く実現できる光ディス
ク原盤露光装置を提供することにある。

【００２３】本発明の第７の目的は、上記第６の目的の
光ディスク原盤露光装置によって作製される、露光ビー
ムのエアリーリングの隣接トラックへの影響を低減した
ピット形状を形成した光ディスクメディアを市場に提供
することにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るため、本発明の光ディスク原盤露光方法は、フォトレ
ジストを塗布したガラス基盤に、記録すべきピット情報
に基づいて変調されたレーザ光を照射し、光ディスクの
原盤を作製する光ディスク原盤露光方法において、隣接
するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピット
の露光ビーム強度を制御することを特徴としている（請
求項１）。

【００２５】上記第２の目的を達成するため、本発明の
光ディスク原盤露光方法は、隣接するトラック上に形成
される長ピットに対する短ピットの相対的位置関係に応
じて、短ピットの露光ビーム強度を制御することを特徴
としている（請求項２）。

【００２６】上記第３の目的を達成するため、本発明の
パルスジェネレータは、上記請求項１、２に記載の光デ
ィスク露光方法で形成される各トラック長がフォーマッ
ト構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長である
ＣＬＶディスクフォーマット露光方法において、現トラ
ックに対するＣＬＶ駆動制御時の、現トラックに対する
露光データ信号送出クロックと１トラック前のトラック
および１トラック後のトラックに対応した露光データ信
号送出クロックを生成することを特徴としている。

【００２７】上記第４の目的を達成するため、本発明の
フォーマッタシステムは、上記請求項３に記載のパルス
ジェネレータのクロックに入力し、現トラックの露光信
号によって形成されるピット配置に同期して、１トラッ
ク前の露光信号および１トラック後の露光信号が生成さ
れることを特徴としている。

【００２８】上記第５の目的を達成するため、本発明の
ＣＬＶディスクフォーマットの原盤露光方法は、請求項
３に記載のパルスジェネレータおよび請求項４に記載の
フォーマッタシステムから得られる、現トラックの露光
データ信号と１トラック前の露光データ信号と１トラッ
ク後の露光データ信号に基づいて、隣接するトラック上
に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強
度を制御すること、そして、その場合に各トラック長が
フォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数
倍長であることを特徴としている。

【００２９】上記第６の目的を達成するため、本発明の
光ディスク原盤露光装置は、請求項３に記載のパルスジ
ェネレータおよび請求項４に記載のフォーマッタシステ
ムおよびこれらによって得られる露光データ信号および
隣接トラックの露光データ信号に基づいて露光ビーム強
度制御を行う回路を搭載したことを特徴としている。

【００３０】上記第７の目的を達成するため、本発明の
ＣＬＶディスクメディアは、請求項６に記載の光ディス
ク原盤露光装置によって製作され、隣接するトラック上
に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強
度を制御し、短ピットの形状に補正された光ディスク原
盤から得られる、各トラック長がフォーマット構成の最
少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であることを特徴
とするＣＬＶディスクフォーマットを搭載したことを特
徴としている。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を、図面に
より詳細に説明する。 （請求項１に対応する実施例）図１は、請求項１の実施
例を示す隣接トラック上のピット配置図である。図１に
おいては、露光中のトラック（Ｎ）とそれに隣接するト
ラック（Ｎ−１、Ｎ＋１）上の短ピット（Ps1、Ps2、Ps
3）と、これに隣接する長ピット（Pl-1、Pl-2、Pl+1）
と、この時の短ピットの露光ビーム強度制御の例を示し
ている。図中‘Ａ’は隣接トラックにピットが無い場合
に適正なピット形状を形成する露光ビーム強度である。
また、図中‘Ｂ’は隣接するトラックの一方に長ピット
が配置される時、適正な短ピット形状とする為に、減少
を必要とされる平均的露光ビーム強度量である。この場
合、短ピットPs1は周回前に長ピットの影響があり、短
ピットPs3は周回前と周回後の両方で長ピットの影響が
ある場合の本実施例の方法について説明する。

【００３２】今、短ピット Ps１、Ps2、Ps3を露光しよ
うとしているとすると、Ps1およびPs3の１トラック前の
隣接位置には Pl-１およびPl-2という長ピットが既に露
光されており、短ピット Ps１、Ps3が露光される領域は
長ピットPl-１およびPl-2の露光時に、その露光ビーム
のエアリーリングによって露光されている。従って、こ
の時点で、短ピットPs1を露光するときは露光ビーム強
度を‘Ａ−Ｂ’に設定する。一方、短ピットPs3の露光
に関しては、現時点から１トラック後、再び隣接長ピッ
トPl+1によって過剰露光されることになるので‘Ａ−２
Ｂ’の露光ビーム強度で露光する。Ps2については、隣
接長ピットが無いので‘Ａ’の露光ビーム強度で露光す
る。このような露光ビーム強度制御を行うことにより、
最終的に形成される短ピット Ps１、Ps2、Ps3は、隣接
長ピットの露光ビームのエアリーリングによる過剰露光
の影響を低減したピット形状として得ることができる。

【００３３】（請求項２に対応する実施例）図２は、請
求項２に対応する実施例を示す短ピット露光ビーム強度
制御の説明図である。図２では、露光中のトラック
（Ｎ）とそれに隣接するトラック（Ｎ−１、Ｎ＋１）上
の短ピット（Ps1、Ps2、Ps3）と、これに隣接する長ピ
ット（Pl-1、Pl-2）と、この時の短ピットの露光ビーム
強度制御の例を示している。図中‘Ａ’‘Ｂ’は前出の
図１の説明と同じである。図２（ａ）では、図１と同じ
ように、Ps3は周回後にも長ピットの影響を受けるた
め、Ps2に対しては、露光ビーム強度`Ａ’で露光し、Ps
1に対しては、`2/3・Ａ'で露光し、Ps3に対しては、`1/3
・Ａ'で露光している。

【００３４】今、短ピット Ps１、Ps2、Ps3を露光しよ
うとしているとすると、Ps2については前出と同様、露
光ビーム強度‘Ａ’で露光する。Ps1及びPs3の露光ビー
ム強度は、本実施例では前出の露光ビーム強度制御とは
異なる。図４（ｂ）が前出の請求項１の実施例であり、
図４（ｃ）が本実施例による露光ビーム強度を示してい
る。図３、４は、請求項２に対応する実施例の参考図で
ある。図３，４に示されるように、短ピットPs1とPs3と
それぞれの隣接長ピットとの相対的位置関係をみると、
Ps1は隣接長ピットPl-1のほぼ中央位置に配置され、Ps3
は隣接長ピットPl-2のほぼ露光開始位置にある。この位
置関係を考えた場合、一般的に短ピットが隣接長ピット
の中央付近にある場合（Ps1）の方が、短ピットが隣接
長ピットの前後端付近にある場合より長ピット露光ビー
ムのエアリーリングによる短ピット形成領域への過剰露
光量は大きくなる。なお、図３では、周回後に露光され
る長ピット列はない場合を考えている。

【００３５】従って、短ピットが隣接長ピットの中央付
近配置されるときは減少を必要とされる平均的露光ビー
ム強度量（‘Ｂ’）より若干多めに減少させる（図４
中、‘Ｂ＋’＞‘Ｂ’である。）。また、短ピットが隣
接長ピットの前後端付近にある場合は、減少を必要とさ
れる平均的露光ビーム強度量（‘Ｂ’）より若干少な目
に減少させる（図４中、‘Ｂ−’＜‘Ｂ’＞）（図４
（ｃ）参照）。このような露光ビーム強度制御を行うこ
とにより、最終的に形成される短ピット Ps１、Ps2、Ps
3は、請求項１に記載の露光ビーム強度制御によって得
られる短ピット形状よりも、更に、隣接長ピットの露光
ビームのエアリーリングによる過剰露光の影響を低減し
たピット形状として得ることができる。

【００３６】（請求項３、４、５に対応する実施例）図
５は、隣接トラック間のトラック長変化を示す図であ
り、図６は隣接トラック間の時間軸の変化を示す図であ
る。ＣＬＶディスクフォーマットでは、トラックに沿っ
て１回転する毎にその線路長は‘２πＰ’（Ｐはトラッ
クピッチ）づつ長くなる。今、各トラックの長さを比べ
てみると図５に示すようになる。説明を簡単にする為
に、図ではＮトラックの長さを‘２πＰ’長のｍ倍長と
している。この時、Ｎ＋１トラックは‘２πＰ’長のｍ
＋１倍長、Ｎ−１トラックは‘２πＰ’長にｍ―１倍長
となる。以上のことを、今、ＮトラックにおいてＣＬＶ
駆動動作を行っているとして、Ｎトラックからみて、同
一時刻に隣接するＮ＋１およびＮ−１トラックとの時間
関係は図６のようになる。すなわち、内周側は対応する
時間が長く、外周側は対応する時間が短いことになる。

【００３７】‘２πＰ’長がフォーマット構成の最少単
位（ｃｂ；チャンネルビット）相当でＮf0個であったと
すると、Ｎトラックからみてトラック１回転の時間に、
Ｎ−１トラックはＮトラックよりＮf0個少なく、Ｎ＋１
トラックはＮトラックよりＮf0個多くフォーマットされ
ていることになる。本実施例では、各トラック長がフォ
ーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長
であるＣＬＶディスクフォーマットの露光方法に関する
発明であるので、Ｎトラックにおける、ある半径位置に
おけるトラック長は‘１ｃｂ長’相当で整数個あるいは
有限小数個として求まる。その値をここでＮt個とす
る。

【００３８】図７は、本発明によるパルスジェネレータ
の構成図である。図７に示される、各トラックのフォー
マッタクロック発生回路２３〜２５は、ＣＬＶ駆動を行
っているＮトラックに対応したフォーマッタクロック発
生回路２３〜２５においては、１ｃｂ相当の周波数の数
倍の周波数を与えるパルスジェネレータ（基本クロック
発生器）２２の基本クロック‘Ｆclk‘を分周し、１ト
ラックの‘ｃｂ’相当数Ｎｔ個のパルス列を生成する。
１トラックあたりＮf0個多いパルス列を送出するＮ＋１
トラックフォーマッタクロック発生回路２３では、Ｎト
ラックフォーマッタクロック発生回路２４において、Ｎ
ｔ個のパルス列を生成したと同じパルスジェネレータの
基本クロック‘Ｆclk‘からＮｔ＋Ｎf0個のパルス列を
生成する。

【００３９】１トラックあたりＮf0個少ないパルス列を
送出するＮ―１トラックフォーマッタクロック発生回路
２５では、同様にＮｔ―Ｎf0個のパルス列を生成する。
このように、パルスジェネレータの基本クロック‘Ｆcl
k’を用い、これを分周してＮt個、あるいはＮt＋Ｎf0
個あるいはＮt―Ｎf0個の分周パルスをえることは、う
るう周期（Ｆclkの分周数を１増やしたり減らしたりさ
せて得られる周期）のパルスを混在させて生成すること
により任意に実現できる。この各トラックに対応したフ
ォーマッタクロック発生回路２３〜２５の出力を、それ
ぞれＣＬＫn＋1，ＣＬＫn，ＣＬＫn−1とする。

【００４０】（請求項３）請求項３の実施例では、それ
ぞれのパルス列に１トラック相当の露光ピットデータ信
号分のディレイをもたせた露光ピットデータ信号を載せ
て送出することにより、現在露光中のＮトラック上のピ
ット露光データ信号と１トラック前に露光した露光デー
タ信号と、１トラック後に露光する露光データ信号を得
ることができることになる。

【００４１】図８は、本発明によるフォーマッタシステ
ムの構成図である。パルスジェネレータから得られる、
Ｎトラックおよび、Ｎ＋１トラック、Ｎ−１トラックに
対応した露光データ信号列に相当したパルス列を、それ
ぞれ入力とするＮトラック露光ピットデータ信号発生回
路３３、Ｎ＋１トラック露光ピットデータ信号発生回路
３２、Ｎ−１トラック露光ピットデータ信号発生回路３
４から構成され、Ｎ＋１トラック露光ピットデータ信号
発生回路３２から順次１トラック毎に（スピンドルの回
転毎に）それぞれ、露光ピットデータ信号出力を開始す
ることにより、１トラック相当のディレイをもった露光
ピットデータ信号列ＰＳｎ，ＰＳn＋1，ＰＳn−1が出力
される

【００４２】（請求項４）請求項４の実施例では、露光
ピットデータＰＳnを実際にピットとして形成するに際
して、フォーマッタシステムから同時に出力される、１
トラック前の露光ピットデータ信号と１トラック後に露
光する露光ピットデータ信号から、短ピットとその時の
隣接長ピットデータ信号検出することにより、短ピット
露光ビーム強度制御を実施することができる。

【００４３】（請求項５）図９は、請求項９の実施例を
示す短ピット露光ビーム強度制御回路の構成図である。
図９では、その前段に図８が、さらにその前段に図７が
設けられている。１トラック相当の露光データのディレ
イをもった露光ピットデータ信号列ＰＳｎ，ＰＳn＋1，
ＰＳn−1を入力とし、これらのデータは一旦シフトレジ
スタ４１〜４３上に展開され、短ピット露光に際し、隣
接露光ピットデータＰＳn＋1，ＰＳn−1上に長ピットデ
ータがあるかどうかを検定し、それぞれの場合に応じて
請求項１、２の構成動作で説明したような露光ビーム強
度制御を施したピット露光信号Ｐoutを出力する。各シ
フトレジスタ４１〜４３のシフトクロックはＣＬＫn＋
1，ＣＬＫn，ＣＬＫn−1、である。

【００４４】（請求項６に対応する実施例）図１０は、
請求項６に対応する実施例を示す光ディスク原盤露光装
置の構成図である。請求項３に記載のパルスジェネレー
タ、および請求項４に記載のフォーマッタシステム、お
よびこれらによって得られる露光データ信号および隣接
トラックの露光データ信号に基づいて、露光ビーム強度
制御を行う回路を搭載している。これにより、短ピット
露光時の隣接長ピットの有り無しによる短ピット露光ビ
ーム強度制御をした短ピット露光が可能となる。図１０
において、図１３の従来の回路に比べて異なる点は、パ
ルスジェネレータ１３からＣＬＫｎ−１，ＣＬＫｎ，Ｃ
ＬＫ＋１のフォーマット信号送出クロックがフォーマッ
タシステム１５に送出され、フォーマッタシステム１５
からＰＳｎ−１，ＰＳｎ，ＰＳｎ＋１のピット露光デー
タ信号が短ピット露光ビーム強度制御回路１７に送出さ
れ、そして、短ピット露光ビーム強度制御回路１７から
光変調器３に変調信号が送出される点である。

【００４５】（請求項７に対応する実施例）図１０に示
される光ディスク原盤露光装置によって作製される光デ
ィスク原盤により作製される光ディスクメディアは、隣
接長ピットがある場合は短ピット露光ビーム強度制御を
行って露光が行われており、長ピットの露光ビームのエ
アリーリングの影響を低減した短ピット形状が形成され
ている。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
次のように効果を奏する。 （１）請求項１に対応する作用効果。 請求項１の光ディスク原盤露光方法では、隣接トラック
に配置される長ピットに応じて露光ビーム強度を制御す
るので、隣接トラック上の長ピット露光に影響されない
最適な短ピット形状を形成できる。従って、本発明によ
れば、ＣＡＶディスクフォーマット露光における、隣接
する長ピットに対する短ピットの形状補正も同様に可能
である。

【００４７】（２）請求項２に対応する作用効果。 請求項２の光ディスク原盤露光方法では、短ピットと隣
接長ピットの相対位置関係を考慮した短ピット露光ビー
ム強度制御がおこなわれるので請求項１記載の作用効果
に比べ更に適正な短ピット形状を形成できる。従って、
本発明によれば、ＣＡＶディスクフォーマット露光にお
ける、隣接する長ピットに対する短ピットの形状補正も
同様に可能である。

【００４８】（３）請求項３に対応する作用効果。 請求項３のパルスジェネレータでは、現トラックに対す
るＣＬＶ駆動時に、現トラックおよび隣接トラック上の
露光ピットに対応したクロックを生成できるので、フォ
ーマッタに対して、現トラックおよび隣接トラック上の
露光データ信号送出クロックを供給することができる。

【００４９】（４）請求項４に対応する作用効果。 請求項４のフォーマッタシステムでは、請求項３記載の
パルスジェネレータ出力を入力とし、現トラックに対し
正確に隣接トラック上の露光ピットデータ信号を生成出
来るので、実際に露光した時の現トラックと隣接トラッ
クの短ピットと隣接長ピットの関係を得ることができ
る。

【００５０】（５）請求項５に対応する作用効果。 請求項５の光ディスク原盤露光方法では、実際に連続露
光中に在って、請求項３および４記載のパルスジェネレ
ータおよびフォーマッタシステムから得られる、露光中
の現トラックにおける露光信号と１トラック前に露光し
た露光信号及び１トラック後に露光する露光信号を基に
露光ビーム強度を制御出来るので、隣接トラック上のピ
ット露光に影響されない最適なピット形状を連続して形
成していくことができる。

【００５１】（６）請求項６に対応する作用効果。 請求項６の光ディスク原盤露光装置では、請求項３及び
４記載のパルスジェネレータおよびフォーマッタシステ
ムを搭載し、これらから得られる露光データ信号および
隣接トラックの露光データ信号に基づいて露光ビーム強
度の制御を行う回路を搭載しているので、隣接長ピット
に影響されない短ピットの露光ができる。

【００５２】（７）請求項７に対応する作用効果。 請求項７の光ディスクメディアでは、短ピット形状が隣
接長ピットの有り／無しに係わらず適正に形成されてい
るので、短ピットの再生信号の変調度に差を生じる、あ
るいはジッタが増えるという不具合が解消される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の請求項１に対応する実施例を示す隣接
トラック上のピット配置図である。

【図２】本発明の請求項２に対応する実施例を示す隣接
長ピットを考慮した短ピット露光ビーム強度制御方法の
説明図である。

【図３】同じく請求項２に対応する実施例を示す隣接ト
ラック上のピット配置図である。

【図４】同じく請求項２に対応する実施例を示す隣接長
ピットを考慮した短ピット露光ビーム強度制御方法の説
明図である。

【図５】本発明の請求項３〜５に対応する実施例を示す
隣接トラック間のトラック長変化の説明図である。

【図６】同じく、ＮトラックにおけるＣＬＶ駆動動作時
の隣接トラック間の時間軸の変化を示す図である。

【図７】同じく、本発明によるパルスジェネレータの構
成図である。

【図８】本発明の請求項４に対応する実施例を示すフォ
ーマッタシステムの構成図である。

【図９】本発明の請求項５に対応する実施例を示す短ピ
ット露光ビーム強度制御回路の構成図である。

【図１０】本発明の請求項６に対応する実施例を示す光
ディスク原盤露光装置の構成図である。

【図１１】本発明が適用される露光ビーム強度とピット
またはグループ形態（幅）の関係を示す特性図である。

【図１２】短ピット形態への隣接トラック長ピット配置
の影響を示す図である。

【図１３】従来の光ディスクカッティングマシンの構成
図である。

【符号の説明】

Ps1,Ps2,Ps3…短ピット、P１-1,P1-2…長ピット、２１
…コントローラ、２２…基本クロック発生器、３１…コ
ントローラ、２３…Ｎ＋１トラック・フォーマッタクロ
ック発生回路、２４…Ｎトラック・フォーマッタクロッ
ク発生回路、２５…Ｎ−１トラック・フォーマッタクロ
ック発生回路、３２…Ｎ＋１トラック・露光ピットデー
タ信号発生回路、３３…Ｎトラック・露光ピットデータ
信号発生回路、３４…Ｎ−１トラック・露光ピットデー
タ信号発生回路、４１，４２，４３…シフトレジスタ、
４４…コントローラ、１…露光レーザ、２…露光光学
系、３…光変調器、４…フォーカスアクチュエータ、５
…ガラス原盤、６…エアスピンドルモータドライバ、７
…エンコーダ、８…エアスライドモータ、９…スライド
モータドライバ、１０…スライダ制御回路、１１…スピ
ンドルモータドライバ、１２…スピンドル制御回路、１
３…パルスジェネレータ、１４…リニアエンコーダ、１
５…フォーマッタシステム、１６…基本クロック発生
器、１７…短ピット露光ビーム強度制御回路。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォトレジストを塗布したガラス基盤
   に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ
   光を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原
   盤露光方法において、 隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピ
   ットの露光ビーム強度を制御することを特徴とする光デ
   ィスク原盤露光方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の光ディスク原盤露光方
   法において、 前記露光ビームの制御は、隣接するトラック上に形成さ
   れる長ピットに対する短ピットの相対的位置関係に応じ
   て短ピットの露光ビーム強度を制御することを特徴とす
   る光ディスク原盤露光方法。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の光ディスク露
   光方法で形成される各トラック長が、フォーマット構成
   の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であるＣＬＶ
   ディスクフォーマット露光方法に用いるパルスジェネレ
   ータであって、 現トラックに対するＣＬＶ駆動制御時の、現トラックに
   対する露光データ信号送出クロックと１トラック前のト
   ラックおよび１トラック後のトラックに対応した露光デ
   ータ信号送出クロックを生成する手段を有することを特
   徴とするパルスジェネレータ。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のパルスジェネレータの
   クロックに入力し、現トラックの露光信号によって形成
   されるピット配置に同期して、１トラック前の露光信号
   および１トラック後の露光信号を生成する手段を有する
   ことを特徴とするフォーマッタシステム。
5. 【請求項５】 請求項３に記載のパルスジェネレータお
   よび請求項４に記載のフォーマッタシステムから得られ
   る、現トラックの露光データ信号と１トラック前の露光
   データ信号と１トラック後の露光データ信号に基づい
   て、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて
   短ピットの露光ビーム強度を制御する各トラック長がフ
   ォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍
   長であることを特徴とするＣＬＶディスクフォーマット
   の原盤露光方法。
6. 【請求項６】 請求項３に記載のパルスジェネレータお
   よび請求項４に記載のフォーマッタシステムおよびこれ
   らによって得られる露光データ信号および隣接トラック
   の露光データ信号に基づいて露光ビーム強度制御行う回
   路を搭載したことを特徴とする光ディスク原盤露光装
   置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の光ディスク原盤露光装
   置によって製作され、隣接するトラック上に形成される
   長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度が制御さ
   れ、短ピットの形状補正された光ディスク原盤から得ら
   れる、各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整
   数倍長あるいは有限数倍長であることを特徴とするＣＬ
   Ｖディスクフォーマットを搭載した光ディスクメディ
   ア。