JP2002267684A - Semiconductor-type dynamic quantity sensor - Google Patents

Semiconductor-type dynamic quantity sensor

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JP2002267684A
JP2002267684A JP2001072606A JP2001072606A JP2002267684A JP 2002267684 A JP2002267684 A JP 2002267684A JP 2001072606 A JP2001072606 A JP 2001072606A JP 2001072606 A JP2001072606 A JP 2001072606A JP 2002267684 A JP2002267684 A JP 2002267684A
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JP
Japan
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sensor chip
semiconductor sensor
semiconductor
thermosetting adhesive
pedestal
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JP2001072606A
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Japanese (ja)
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Yukiya Ando
幸也 安藤
Tomohito Kunda
智仁 薫田
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure capable of preventing a reference value of a sensor from varying due to creep phenomena in a flexible thermosetting adhesive with the passage of days after assembly. SOLUTION: In a process for gluing a semiconductor sensor chip to a seating with a thermosetting adhesive 19a in which a plurality of resin beads 18a are arranged as shown in Fig. (b), the semiconductor sensor chip on the side supporting a weight 14 via a beam part 13 is not glued to the seating. By applying such a gluing method, a frame part 12 of the semiconductor sensor chip on the side connected to the beam part 13 is not deformed by the contraction of the thermosetting adhesive 19a in the process for gluing the semiconductor sensor chip to the seating. Therefore, it is possible to suppress the propagation of distortion to the beam 13 due to the creep phenomena of the thermosetting adhesive 19a, and reduce the amount of variation in the reference value with the passage of days after the gluing process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体式力学量セ
ンサに関するもので、特にその基準が変動してしまうの
を防止できる特性変動低減構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor type dynamic quantity sensor and, more particularly, to a characteristic fluctuation reducing structure which can prevent the reference from fluctuating.

【0002】[0002]

【従来技術】従来、半導体式力学量センサとして、特開
平10−123166号公報に開示されているように、
梁部に設けられた抵抗要素のピエゾ抵抗効果を利用して
加速度(力学量)を検知できるように構成された半導体
式加速度センサがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a semiconductor type dynamic quantity sensor, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-123166,
There is a semiconductor acceleration sensor configured to be able to detect acceleration (mechanical quantity) by utilizing a piezoresistance effect of a resistance element provided on a beam portion.

【0003】ここで、この半導体式加速度センサについ
て、図9及び図10を用いて簡単に説明する。尚、図1
0は、図9における半導体センサチップ1部分のB矢視
図である。
Here, the semiconductor type acceleration sensor will be briefly described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. FIG.
0 is a view of the semiconductor sensor chip 1 in FIG.

【0004】まず、図10に示されるように、半導体セ
ンサチップ1は、枠部2の内側において対称に配置され
た4本の梁部3を介して、重錘部4を両持ち状に支持し
た形態となっており、各梁部3には、印加した加速度に
応じてその抵抗値が変化する抵抗要素(図示せず)が2
個ずつ形成されている。
First, as shown in FIG. 10, a semiconductor sensor chip 1 supports a weight 4 in a bilateral manner via four beams 3 symmetrically arranged inside a frame 2. Each beam 3 has two resistance elements (not shown) whose resistance changes according to the applied acceleration.
It is formed individually.

【0005】これら梁部3は、半導体センサチップ1に
加速度が印加したとき大きな歪みが発生する部分である
ため、梁部3に抵抗要素を形成したことにより、印加し
た加速度を検知することができる。
Since these beam portions 3 are portions where large distortion occurs when acceleration is applied to the semiconductor sensor chip 1, the applied acceleration can be detected by forming a resistance element in the beam portions 3. .

【0006】また、図9に示されるように、半導体セン
サチップ1は、可撓性接着剤9aにより枠部2を介して
台座5上に接着され、さらに、これら半導体センサチッ
プ1及び台座5の一体物は、ハウジング6上に可撓性接
着剤9bにより接着されている。
As shown in FIG. 9, the semiconductor sensor chip 1 is adhered to the pedestal 5 via the frame 2 with a flexible adhesive 9a. The integral body is adhered on the housing 6 by a flexible adhesive 9b.

【0007】この可撓性接着剤9a、9bには、複数個
の樹脂ビーズ8a、8bが配合されているため、重錘部
4と台座5との間のエアギャップ寸法管理を厳密、か
つ、容易に行うことができる。
Since the flexible adhesives 9a and 9b contain a plurality of resin beads 8a and 8b, the air gap between the weight 4 and the pedestal 5 is strictly controlled. It can be done easily.

【0008】尚、このハウジング6は、複数枚のセラミ
ック基板6bを積層して構成されており、これらセラミ
ック基板6bの間には、薄膜状の静電シールド7が全域
に渡って形成されている。
The housing 6 is formed by laminating a plurality of ceramic substrates 6b, and a thin-film electrostatic shield 7 is formed between the ceramic substrates 6b over the entire area. .

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ここで、樹脂ビーズ8
aを配合した可撓性接着剤9aによって、半導体センサ
チップ1と台座5とを接着する接着工程について簡単に
説明する。
Here, the resin beads 8
The bonding step of bonding the semiconductor sensor chip 1 and the pedestal 5 with the flexible adhesive 9a containing a will be briefly described.

【0010】まず、半導体センサチップ1と台座5との
間に、樹脂ビーズ8aを配合した液状状態の可撓性接着
剤9aを塗布する。
First, a liquid state flexible adhesive 9a containing resin beads 8a is applied between the semiconductor sensor chip 1 and the pedestal 5.

【0011】そして、所定温度(150℃程度)の雰囲
気に所定時間(1時間程度)さらすことにより、可撓性
接着剤9aを熱硬化させ、半導体センサチップ1を台座
5に接着させる。
The flexible adhesive 9a is thermally cured by exposing it to an atmosphere at a predetermined temperature (about 150 ° C.) for a predetermined time (about 1 hour), and the semiconductor sensor chip 1 is bonded to the pedestal 5.

【0012】その後、半導体式加速度センサの特性の基
準となる、印加加速度が零の状態での基準値の設定を行
う。
Thereafter, a reference value in a state where the applied acceleration is zero, which is a reference of the characteristics of the semiconductor acceleration sensor, is set.

【0013】しかしながら、この接着工程後の日数の経
過に応じて、設定した基準値が徐々に変動してしまうこ
とが判明した。
However, it has been found that the set reference value gradually changes as the number of days after the bonding step elapses.

【0014】発明者らの鋭意研究により、この問題は、
半導体センサチップ1に生じた反りと可撓性接着剤9a
のクリープ現象に起因することが判明した。
According to the inventors' earnest research, this problem is:
Warpage of semiconductor sensor chip 1 and flexible adhesive 9a
Was found to be due to the creep phenomenon.

【0015】即ち、図11(a)に示されるように、個
々のチップにダイシングした後の半導体センサチップ1
は湾曲形状となっている。
That is, as shown in FIG. 11A, the semiconductor sensor chip 1 after dicing into individual chips.
Has a curved shape.

【0016】これは、半導体センサチップ1形成時に、
ウェハ状態においてウェハ表面にはアルミ配線などが高
温状態で形成され、形成後にウェハを室温状態に戻すこ
とにより、ウェハとアルミとの線膨張係数差によって、
ウェハが変形してしまうからである。
This is because when the semiconductor sensor chip 1 is formed,
In the wafer state, aluminum wiring and the like are formed on the wafer surface in a high temperature state, and after the formation, the wafer is returned to room temperature state.
This is because the wafer is deformed.

【0017】この湾曲形状に反った半導体センサチップ
1を、台座5に可撓性接着剤9aによって接着する際
に、上述のように、150℃程度の高温状態から室温に
戻すと、図11(b)に示されるように、可撓性接着剤
9aは収縮する。
When the semiconductor sensor chip 1 warped in the curved shape is bonded to the pedestal 5 with the flexible adhesive 9a, as described above, the temperature is returned from a high temperature of about 150 ° C. to room temperature, as shown in FIG. As shown in b), the flexible adhesive 9a contracts.

【0018】これと同時に、可撓性接着剤9a内部の両
端に設けられた樹脂ビーズ8aが支点となって、半導体
センサチップ1の中心部が台座5側に変形する。
At the same time, the center of the semiconductor sensor chip 1 is deformed toward the pedestal 5 with the resin beads 8a provided at both ends inside the flexible adhesive 9a as fulcrums.

【0019】そして、接着工程後、時間の経過に応じ
て、図11(c)に示されるように、可撓性接着剤9a
のクリープ現象によって、半導体センサチップ1は図1
1(a)に示されるような接着前の形状に徐々に戻って
しまう。
After the bonding step, as time passes, as shown in FIG. 11C, the flexible adhesive 9a
Due to the creep phenomenon of the semiconductor sensor chip 1 shown in FIG.
The shape gradually returns to the shape before bonding as shown in FIG.

【0020】従って、図11(b)の状態、即ち、接着
直後の状態で、上述の基準値設定を行っても、その後時
間経過に従って、可撓性接着剤9aのクリープ現象によ
り、半導体センサチップ1が変形することにより、半導
体センサチップ1の梁部3に形成された抵抗要素の抵抗
値が変化し、図12の曲線に示されるように、接着工程
後の日数の経過に応じて、徐々に基準値が変動してしま
う。
Therefore, even if the above-mentioned reference value is set in the state shown in FIG. 11B, that is, immediately after the bonding, the semiconductor sensor chip is creeped by the flexible adhesive 9a with the lapse of time thereafter. As a result, the resistance value of the resistance element formed on the beam portion 3 of the semiconductor sensor chip 1 changes, and as shown in the curve of FIG. The reference value fluctuates.

【0021】尚、可撓性接着剤9aとしては、台座5か
ら半導体センサチップ1への歪みの伝播を抑制するため
に、柔らかい材質が選択される。
As the flexible adhesive 9a, a soft material is selected in order to suppress propagation of distortion from the pedestal 5 to the semiconductor sensor chip 1.

【0022】ここで、可撓性接着剤9aとして硬い材質
を選択すれば、硬い材質ほどクリープ速度は遅くなるた
め、半導体センサチップ1が図11(a)に示されるよ
うな形状に戻るには長時間を要し、市場で問題になるこ
とはない。
Here, if a hard material is selected as the flexible adhesive 9a, the harder the material, the slower the creep speed. Therefore, it is necessary to return the semiconductor sensor chip 1 to the shape shown in FIG. It takes a long time and will not be a problem in the market.

【0023】しかし、可撓性接着剤9aとして硬い材質
を選択した場合、半導体センサチップ1を支持する台座
5やハウジング6が温度変化などによって変形すると、
半導体センサチップ1はその影響を受けやすくなり、そ
れによって、加速度が印加されていないにも関わらず基
準値が変動してしまう。
However, when a hard material is selected as the flexible adhesive 9a, if the pedestal 5 or the housing 6 supporting the semiconductor sensor chip 1 is deformed due to a change in temperature or the like,
The semiconductor sensor chip 1 is susceptible to the influence, and the reference value fluctuates even though no acceleration is applied.

【0024】よって、可撓性接着剤9aには柔らかい材
質を利用して、台座5やハウジング6などの変形による
半導体センサチップ1への影響を緩和する必要がある。
Therefore, it is necessary to use a soft material for the flexible adhesive 9a to reduce the influence of the deformation of the pedestal 5 and the housing 6 on the semiconductor sensor chip 1.

【0025】本発明の目的は、上記問題点に鑑み、梁部
を介して支持された重錘部を有し、梁部に形成された抵
抗要素のピエゾ抵抗効果を利用して力学量を検知できる
ように構成された半導体センサチップと、ビーズを配合
した熱硬化性接着剤によって半導体センサチップと接着
された台座とを備えた半導体式力学量センサにおいて、
接着工程後の時間経過による可撓性の熱硬化性接着剤の
クリープ現象によって、センサの基準値が変動してしま
うのを防止できる構造を提供することにある。
In view of the above problems, an object of the present invention is to have a weight portion supported via a beam portion, and to detect a dynamic quantity by utilizing a piezoresistance effect of a resistance element formed on the beam portion. In a semiconductor type dynamic quantity sensor comprising a semiconductor sensor chip configured to be able to, and a pedestal bonded to the semiconductor sensor chip by a thermosetting adhesive containing beads,
It is an object of the present invention to provide a structure capable of preventing a reference value of a sensor from fluctuating due to a creep phenomenon of a flexible thermosetting adhesive due to a lapse of time after a bonding process.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の半導体
式力学量センサは、力学量の印加により変位する変位部
を有し、変位部の変位を検出する半導体センサチップ
と、ビーズを配合した熱硬化性接着剤によって半導体セ
ンサチップを固定する台座とを備えた半導体式力学量セ
ンサにおいて、熱硬化性接着剤からの歪みの影響が小さ
くなるような位置に熱硬化性接着剤が配置されているこ
とを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor dynamic quantity sensor having a displacement section which is displaced by application of a dynamic quantity, and comprising a semiconductor sensor chip for detecting displacement of the displacement section and beads. And a pedestal for fixing the semiconductor sensor chip with the thermosetting adhesive, the thermosetting adhesive is arranged at a position where the influence of distortion from the thermosetting adhesive is reduced. It is characterized by having.

【0027】上述のような接着法法を適用したことによ
り、半導体センサチップと台座との接着工程において熱
硬化性接着剤が収縮しても、熱硬化性接着剤からの歪み
の影響が大きくなるような位置の半導体センサチップに
対しては、熱硬化性接着剤が存在しない。
By applying the bonding method as described above, even if the thermosetting adhesive shrinks in the bonding step between the semiconductor sensor chip and the pedestal, the influence of the distortion from the thermosetting adhesive increases. There is no thermosetting adhesive for the semiconductor sensor chip at such a position.

【0028】それによって、当該位置における半導体セ
ンサチップは、接着工程前後を通して、ダイシングカッ
トしたままの状態を保つことができ、接着工程に起因し
た半導体センサチップの変形は発生しない。
Thus, the semiconductor sensor chip at the position can be kept in a dicing cut state before and after the bonding step, and the semiconductor sensor chip does not deform due to the bonding step.

【0029】即ち、熱硬化性接着剤からの歪みの影響が
大きくなるような位置においては、熱硬化性接着剤のク
リープ現象は発生しないため、接着工程後の時間経過に
よる基準値の変動量を低減させることができる。
That is, in a position where the influence of the distortion from the thermosetting adhesive becomes large, the creep phenomenon of the thermosetting adhesive does not occur. Can be reduced.

【0030】請求項2に記載の半導体式力学量センサ
は、半導体センサチップは、梁部を介して固定部より懸
架された重錘部を有し、梁部に形成された抵抗要素のピ
エゾ抵抗効果を利用して力学量を検知できるように構成
されたものであって、熱硬化性接着剤の配置位置は、梁
部と固定部とが接続した位置から離れた領域であること
を特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor dynamic quantity sensor, the semiconductor sensor chip has a weight portion suspended from the fixed portion via the beam portion, and the piezo-resistance of the resistance element formed on the beam portion. It is configured to be able to detect the mechanical quantity using the effect, and the arrangement position of the thermosetting adhesive is a region apart from the position where the beam portion and the fixed portion are connected, I have.

【0031】梁部が接続した位置の半導体センサチップ
の固定部が変形すると、その変形によって発生する歪み
の影響を抵抗要素が受けやすくなり、それによって、抵
抗要素の抵抗値が変化し、センサの基準値が変動してし
まう。
When the fixing portion of the semiconductor sensor chip at the position where the beam portion is connected is deformed, the resistance element is more susceptible to the distortion caused by the deformation, whereby the resistance value of the resistance element changes, and the resistance of the sensor is changed. The reference value fluctuates.

【0032】一方、請求項2に記載の接着方法を適用す
れば、半導体センサチップと台座との接着工程において
熱硬化性接着剤が収縮しても、梁部が接続する位置の半
導体センサチップの固定部に対しては、熱硬化性接着剤
が存在しない。
On the other hand, if the bonding method according to claim 2 is applied, even if the thermosetting adhesive shrinks in the bonding step between the semiconductor sensor chip and the pedestal, the semiconductor sensor chip at the position where the beam portion connects is formed. There is no thermosetting adhesive for the fixed part.

【0033】それによって、当該位置における固定部
は、接着工程前後を通して、半導体センサチップにダイ
シングカットしたままの状態を保つことができ、接着工
程に起因した固定部の変形は発生しない。
Thus, the fixing portion at the position can be kept in a state of being diced and cut on the semiconductor sensor chip before and after the bonding process, and the fixing portion does not deform due to the bonding process.

【0034】即ち、梁部が接続した位置においては、熱
硬化性接着剤のクリープ現象は発生しないため、接着工
程後の時間経過による基準値の変動量を低減させること
ができる。
That is, since the creep phenomenon of the thermosetting adhesive does not occur at the position where the beam portion is connected, it is possible to reduce the amount of change of the reference value with the passage of time after the bonding step.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明を半導体式加速度セ
ンサに適用した一実施形態を図面に従って説明する。
尚、本実施形態の半導体式加速度センサは、例えば、車
輌用のVSCシステムに用いられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor type acceleration sensor will be described below with reference to the drawings.
The semiconductor acceleration sensor according to the present embodiment is used in, for example, a VSC system for a vehicle.

【0036】図1には、本実施形態の半導体式加速度セ
ンサの要部断面構造を示し、図2には、この半導体式加
速度センサの中核をなす半導体センサチップ11の平面
構造を示す。尚、図2は、図1における半導体センサチ
ップ11部分のA矢視図である。
FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a main part of the semiconductor type acceleration sensor of the present embodiment, and FIG. 2 shows a plan structure of a semiconductor sensor chip 11 which is a core of the semiconductor type acceleration sensor. FIG. 2 is a view of the semiconductor sensor chip 11 in FIG.

【0037】また、図3には、半導体センサチップ11
の表面において抵抗素子により形成されるフルブリッジ
回路の構成を摸式的に示し、図4には、このフルブリッ
ジ回路の結線構造を示す。
FIG. 3 shows the semiconductor sensor chip 11.
FIG. 4 schematically shows the configuration of a full bridge circuit formed by a resistance element on the surface of FIG.

【0038】まず、図2に示されるように、半導体セン
サチップ11は、例えば、シリコン単結晶基板のような
ピエゾ抵抗係数が大なる材料を電気化学エッチングして
形成されるもので、3×3mm〜4×4mm程度の大き
さの枠部(固定部)12の内側において対称配置された
4本の梁部13を介して、重錘部14を両持ち状に支持
した形態となっている。
First, as shown in FIG. 2, the semiconductor sensor chip 11 is formed by electrochemically etching a material having a large piezoresistance coefficient, such as a silicon single crystal substrate, and has a size of 3 × 3 mm. The weight portion 14 is supported in a bilateral manner via four beam portions 13 symmetrically arranged inside a frame portion (fixed portion) 12 having a size of about 4 × 4 mm.

【0039】また、各梁部13には、拡散法などにより
2個ずつの抵抗素子(図3及び図4に符号R11〜R1
4、R21〜R24を付して示す)が形成されるもので
あり、これら抵抗素子により構成されたフルブリッジ回
路を利用して、印加した加速度を検知する構成となって
いる。
Each beam portion 13 is provided with two resistive elements (reference numerals R11 to R1 in FIGS. 3 and 4) by a diffusion method or the like.
4, indicated by R21 to R24), and the applied acceleration is detected by using a full bridge circuit formed by these resistance elements.

【0040】具体的に説明すると、図3に示されるよう
に、各梁部13にそれぞれ形成された抵抗素子R11・
R12、R13・R14、R21・R22、R23・R
24の各対は、重錘部14の変位に応じて一方が縮み変
形するとともに、他方が伸び変形する位置関係に設けら
れている。
More specifically, as shown in FIG. 3, the resistance elements R11 and R11
R12, R13 / R14, R21 / R22, R23 / R
Each pair of 24 is provided in such a positional relationship that one of the pair contracts and deforms in accordance with the displacement of the weight portion 14, and the other expands and deforms.

【0041】そして、同一方向に変形する2個ずつの抵
抗素子(R11とR21、R13とR23、R12とR
22、R14とR24)を一辺とするフルブリッジ回路
を形成し、このフルブリッジ回路の一対の入力端T1及
びT2、並びに一対の出力端T3、T4を、枠部12上
に形成された4個のボンディングパッド12aに対し
て、薄膜状の配線パターンを介して接続されている。
Then, two resistive elements (R11 and R21, R13 and R23, R12 and R
22, R14 and R24) as one side, and a pair of input terminals T1 and T2 and a pair of output terminals T3 and T4 of this full bridge circuit Is connected via a thin-film wiring pattern.

【0042】図4にも示されるように、このフルブリッ
ジ回路においては、同一方向に変形する抵抗素子が互い
に対向する辺に位置するように構成されている。
As shown in FIG. 4, the full bridge circuit is configured such that the resistance elements deforming in the same direction are located on sides facing each other.

【0043】また、入力端子T1及びT2は、それぞれ
電源端子+Vcc及びグランド端子GNDに接続され、
出力端子T3及びT4は、それぞれ正側出力端子+V及
び負側出力端子−Vに接続されている。
The input terminals T1 and T2 are connected to a power supply terminal + Vcc and a ground terminal GND, respectively.
The output terminals T3 and T4 are connected to a positive output terminal + V and a negative output terminal -V, respectively.

【0044】また、図1に示されるように、半導体セン
サチップ11は、枠部12を介して台座15に支持され
るとともに、これら半導体センサチップ11及び台座1
5の一体物は、後述するハウジング16の内部に収納す
ることにより構成されている。
As shown in FIG. 1, the semiconductor sensor chip 11 is supported by a pedestal 15 via a frame 12, and the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 1 are supported.
The unitary member 5 is housed in a housing 16 described later.

【0045】尚、台座15は、半導体センサチップ11
と同等の熱膨張係数を有した材料、具体的には同じ材料
であるシリコンにより形成されている。
The pedestal 15 is connected to the semiconductor sensor chip 11.
It is formed of a material having a thermal expansion coefficient equivalent to that of, specifically, silicon which is the same material.

【0046】この場合、枠部12と台座15との間は、
スペーサとしての複数個の樹脂ビーズ18aを配合した
可撓性の熱硬化性接着剤19aにより接着されるもので
あり、その接着状態では、半導体センサチップ11の重
錘部14と台座15との間を十分に近接させることによ
って、重錘部14のエアダンピングを行うように構成し
ている。
In this case, the space between the frame 12 and the base 15 is
It is bonded by a flexible thermosetting adhesive 19a containing a plurality of resin beads 18a as spacers. In the bonded state, the space between the weight portion 14 of the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15 is formed. Are arranged sufficiently close to each other to perform air damping of the weight portion 14.

【0047】具体的に説明すると、樹脂ビーズ18aの
直径を選択することによって、重錘部14及び台座15
間のエアギャップの寸法を7〜15μmの範囲、好まし
くは8〜15μmの範囲に設定している。
More specifically, by selecting the diameter of the resin bead 18a, the weight 14 and the pedestal 15 are selected.
The size of the air gap therebetween is set in the range of 7 to 15 μm, preferably in the range of 8 to 15 μm.

【0048】また、樹脂ビーズ18aの表面には金メッ
キが塗布してあるので、このように、熱硬化性接着剤1
9aに複数個の樹脂ビーズ18aを配合したことによっ
て、半導体センサチップ11と台座15との導通がとれ
るため、半導体センサチップ11の帯電を防止すること
ができる。
Since the surface of the resin beads 18a is coated with gold plating, the thermosetting adhesive 1
By mixing a plurality of resin beads 18a with 9a, conduction between the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15 can be obtained, so that charging of the semiconductor sensor chip 11 can be prevented.

【0049】尚、一般的に、樹脂ビーズは弾性率が低く
柔らかいものであるが、本実施形態で使用する樹脂ビー
ズ18aは、弾性率が10GPa以下のものであること
が望ましい。
Generally, resin beads have a low elastic modulus and are soft, but the resin beads 18a used in this embodiment preferably have an elastic modulus of 10 GPa or less.

【0050】このような要求を満たすためには、例え
ば、ポリジニビルベンゼン樹脂、シリコーン樹脂、ウレ
タン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、可撓性エポ
キシ樹脂、ビニル樹脂などを利用できる。
In order to satisfy such requirements, for example, polydinivirbenzene resin, silicone resin, urethane resin, acrylic resin, polyimide resin, flexible epoxy resin, vinyl resin and the like can be used.

【0051】また、熱硬化性接着剤19aとしては、弾
性率が500MPa以下の柔らかい材質であることが望
ましく、例えば、シリコン樹脂、ウレタン樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、可撓性エポ
キシ樹脂などを利用できる。
The thermosetting adhesive 19a is desirably a soft material having an elastic modulus of 500 MPa or less. For example, silicone resin, urethane resin, acrylic resin, polyamide resin, polyimide resin, flexible epoxy resin Etc. can be used.

【0052】その理由は、半導体センサチップ11を支
持する台座15やハウジング16が、温度変化などによ
って変形した場合、熱硬化性接着剤19aに硬い材質を
利用すると、半導体センサチップ11はその影響を受け
やすくなってしまい、それによって、加速度が印加され
ていないにも関わらず基準値が変動してしまうからであ
る。
The reason is that when the pedestal 15 and the housing 16 supporting the semiconductor sensor chip 11 are deformed due to a change in temperature or the like, if a hard material is used for the thermosetting adhesive 19a, the influence of the semiconductor sensor chip 11 is reduced. This is because the reference value fluctuates even when no acceleration is applied.

【0053】よって、熱硬化性接着剤19aには柔らか
い材質を利用して、台座15やハウジング16などの変
形による半導体センサチップ11への影響を緩和する必
要がある。
Therefore, it is necessary to use a soft material for the thermosetting adhesive 19a to reduce the influence on the semiconductor sensor chip 11 due to deformation of the pedestal 15 and the housing 16.

【0054】さらに、図5及び図6に示されるように、
台座15は、ハウジング16に形成された凹部16a内
に収納された状態で、このハウジング16を構成するセ
ラミック基板16b上に接着により固定されている。
Further, as shown in FIGS. 5 and 6,
The pedestal 15 is fixed by adhesion onto a ceramic substrate 16b constituting the housing 16 while being accommodated in a recess 16a formed in the housing 16.

【0055】このような接着には、複数個の樹脂ビーズ
18bを配合した熱硬化性接着剤19bが使用されるも
のであり(図1参照)、この場合においても、上述同様
に、樹脂ビーズ18bとしては弾性率が10GPa以下
のものを利用することが望ましく、また、熱硬化性接着
剤19bとしては弾性率が500MPa以下のものを利
用することが望ましい。
For such bonding, a thermosetting adhesive 19b containing a plurality of resin beads 18b is used (see FIG. 1). It is desirable to use one having an elastic modulus of 10 GPa or less, and desirably using one having an elastic modulus of 500 MPa or less as the thermosetting adhesive 19b.

【0056】尚、接着剤として熱硬化性接着剤19a、
19bを用いる理由として、本実施形態のような半導体
式加速度センサの使用環境が上げられる。
As the adhesive, a thermosetting adhesive 19a,
The use environment of the semiconductor type acceleration sensor as in the present embodiment is raised as a reason for using 19b.

【0057】本実施形態のような半導体式加速度センサ
は、車載用に多く用いられるため、常温で接着させる接
着剤を用いると、センサ搭載位置が高温状態になった場
合、接着剤の接着効果が無くなってしまう可能性があ
る。
Since the semiconductor acceleration sensor according to the present embodiment is often used for a vehicle, if an adhesive that is bonded at room temperature is used, the bonding effect of the adhesive is high when the sensor mounting position is in a high temperature state. It may be gone.

【0058】従って、高温状態でも接着効果のある熱硬
化性接着剤19a、19bを用いる必要がある。
Therefore, it is necessary to use thermosetting adhesives 19a and 19b which have an adhesive effect even at a high temperature.

【0059】また、ハウジング16は、複数枚のセラミ
ック基板16bを積層して構成されたもので、内部に前
述した凹部16a及びこれに隣接した台状部16cを備
えた箱状に形成されている。
The housing 16 is formed by laminating a plurality of ceramic substrates 16b, and is formed in a box shape having the above-mentioned concave portion 16a and a trapezoidal portion 16c adjacent thereto. .

【0060】この台状部16c上には、半導体センサチ
ップ11に電源電圧を与えるとともに、半導体センサチ
ップ11による検出出力を増幅する機能を備えた増幅回
路21と、この増幅回路21に印加する電源電圧のレベ
ル調整などを行うための調整回路22とがダイボンディ
ングされている。
An amplifying circuit 21 having a function of applying a power supply voltage to the semiconductor sensor chip 11 and amplifying the detection output of the semiconductor sensor chip 11 is provided on the trapezoidal portion 16 c. An adjustment circuit 22 for performing voltage level adjustment and the like is die-bonded.

【0061】また、ハウジング16を構成するセラミッ
ク基板16bには、各セラミック基板16b間に印刷形
成した導電ペースト(図示せず)や、各セラミック基板
16bを貫通するスルーホール(図示せず)などを利用
して、電源供給や検出出力の取り出しを行うための複数
の配線パターンが形成されている。
The ceramic substrate 16b constituting the housing 16 includes a conductive paste (not shown) printed between the ceramic substrates 16b, a through hole (not shown) penetrating the ceramic substrate 16b, and the like. A plurality of wiring patterns for supplying power and extracting detection output are formed by utilizing the wiring patterns.

【0062】この場合、図6に示されるように、ハウジ
ング16の上縁部には、それらの配線パターンと接続さ
れた外部ターミナル16d群が設けられるとともに、台
状部16cには、同じく配線パターンと接続された内部
ターミナル群16eが設けられている。
In this case, as shown in FIG. 6, external terminals 16d connected to these wiring patterns are provided on the upper edge of the housing 16, and the trapezoidal portion 16c has the same wiring pattern. And an internal terminal group 16e connected to the internal terminal 16e.

【0063】尚、半導体センサチップ11、増幅回路2
1、調整回路22、内部ターミナル群16eの各間は、
ワイヤボンディングにより接続されている。
Incidentally, the semiconductor sensor chip 11, the amplifier circuit 2
1, between the adjustment circuit 22, the internal terminal group 16e,
They are connected by wire bonding.

【0064】さらに、図1及び図5に示されるように、
例えば、ハウジング16における凹部16aに臨むセラ
ミック基板16bと、このセラミック基板16bの下方
に位置したセラミック基板16bとの間には、アルミペ
ースト、銅ペーストあるいはタングステンペーストのよ
うな導電性材料よりなる薄膜状の静電シールド17が全
域に渡って形成されている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 5,
For example, a thin film made of a conductive material such as an aluminum paste, a copper paste, or a tungsten paste is provided between a ceramic substrate 16b facing the concave portion 16a of the housing 16 and the ceramic substrate 16b located below the ceramic substrate 16b. Is formed over the entire area.

【0065】尚、この静電シールド17は、具体的に図
示しないが、セラミック基板16bに形成したスルーホ
ールなどを利用してグランドラインに接続されている。
Although not specifically shown, the electrostatic shield 17 is connected to a ground line using a through hole formed in the ceramic substrate 16b.

【0066】ハウジング16上には、例えばセラミック
よりなる蓋部20(図5参照)が接着により配設され、
半導体式加速度センサの内部が気密に封止される。
A lid 20 (see FIG. 5) made of, for example, ceramic is provided on the housing 16 by bonding.
The inside of the semiconductor acceleration sensor is hermetically sealed.

【0067】尚、実際には、少なくとも半導体センサチ
ップ11及び台座15に対して、周知のバーンイン処理
を施すことにより出力特性の安定化を図っている。
In practice, at least the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15 are subjected to a well-known burn-in process to stabilize the output characteristics.

【0068】具体的に説明すると、本実施形態では、例
えば、半導体センサチップ11に対し所定電圧(5〜6
V程度)を印加した状態で、所定温度(120℃程度)
の雰囲気に所定時間(6時間程度)以上さらすというバ
ーンイン処理を施すようにしている。
More specifically, in the present embodiment, for example, a predetermined voltage (5 to 6) is applied to the semiconductor sensor chip 11.
(Approximately 120 V) while applying a voltage
The burn-in process of exposing to the atmosphere for a predetermined time (about 6 hours) or more is performed.

【0069】次に、半導体センサチップ11と台座15
との接着工程について説明する。
Next, the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15
The step of bonding with will be described.

【0070】従来技術では、図7(a)に示されるよう
に、複数個の樹脂ビーズ18aを配合した熱硬化性接着
剤19aによって、半導体センサチップ11と台座15
との全周を接着するようにしている。
In the prior art, as shown in FIG. 7 (a), a semiconductor sensor chip 11 and a pedestal 15 are formed by a thermosetting adhesive 19a containing a plurality of resin beads 18a.
And the entire circumference is bonded.

【0071】その場合、梁部13を介して重錘部14を
支持する位置の枠部12が変形すると、その変形によっ
て発生する歪みの影響を抵抗素子が受けやすくなり、そ
れによって、抵抗素子の抵抗値が変化し、センサの基準
値が変動してしまう。
In this case, when the frame portion 12 at the position supporting the weight portion 14 via the beam portion 13 is deformed, the resistance element is susceptible to the distortion generated by the deformation. The resistance value changes, and the reference value of the sensor changes.

【0072】従って、半導体センサチップ11と台座1
5との全周を接着してしまうと、図8の曲線(a)に示
されるように、センサの基準値変動が顕著となってしま
う。
Therefore, the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 1
If the entire circumference of the sensor 5 is adhered, the reference value of the sensor greatly fluctuates as shown by the curve (a) in FIG.

【0073】そこで、本実施形態では、図7(b)に示
されるように、複数個の樹脂ビーズ18aを配合した熱
硬化性接着剤19aは、半導体センサチップ11と台座
15とを接着する工程において、梁部13と平行な位置
の枠部12の辺に対してのみ配置し、梁部13が接続す
る位置の枠部12の辺に対しては設定しないようにし、
当該位置において半導体センサチップ11と台座15と
を接着しないようにしている。
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 7B, a thermosetting adhesive 19a containing a plurality of resin beads 18a is used for bonding the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15. In the above, it is arranged only on the side of the frame portion 12 at a position parallel to the beam portion 13 and is not set for the side of the frame portion 12 at the position where the beam portion 13 is connected,
At this position, the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15 are not bonded.

【0074】このような接着方法を適用したことによ
り、半導体センサチップ11と台座15とを接着する工
程における熱硬化性接着剤19aの収縮によって、梁部
13が接続した位置において半導体センサチップ11が
変形することはない。
By applying such a bonding method, the semiconductor sensor chip 11 is shrunk at the position where the beam portion 13 is connected due to the contraction of the thermosetting adhesive 19a in the step of bonding the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15. There is no deformation.

【0075】よって、枠部12の4辺のうち、梁部13
が接続した側の枠部12の辺においては、熱硬化性接着
剤19aのクリープ現象は発生せず、当該クリープ現象
に起因して枠部12に発生する歪みが梁部13に伝播す
ることは抑制でき、図8の曲線(b)に示されるよう
に、接着工程後の日数経過による基準値の変動量を低減
させることができる。
Therefore, of the four sides of the frame 12, the beam 13
No creep phenomenon of the thermosetting adhesive 19a occurs on the side of the frame portion 12 on the side where is connected, and the strain generated in the frame portion 12 due to the creep phenomenon propagates to the beam portion 13. As shown in the curve (b) of FIG. 8, the amount of change in the reference value due to the passage of days after the bonding step can be reduced.

【0076】即ち、本発明の特徴を説明すると、従来の
センサでは、全ての方向から断面を見ても必ず接着剤が
現れたが、本発明を適用したセンサでは、全ての方向か
ら断面を見ると、接着剤の現れることのない断面が存在
するという特徴がある。
That is, to explain the features of the present invention, in the conventional sensor, the adhesive always appeared even when the cross section was viewed from all directions, but in the sensor to which the present invention was applied, the cross section was viewed from all directions. And that there is a cross section where the adhesive does not appear.

【0077】尚、図7(c)に示されるように、半導体
センサチップ11と台座15とを接着する工程におい
て、梁部13が接続する辺の枠部12のみを接着した場
合は、図8の曲線(c)に示されるように、半導体セン
サチップ11と台座15とを全周において接着する場合
に比べて、基準値の変動量を若干低減することができ
る。
As shown in FIG. 7C, in the step of bonding the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15, when only the frame 12 on the side to which the beam 13 is connected is bonded, FIG. As shown in the curve (c), the amount of change in the reference value can be slightly reduced as compared with the case where the semiconductor sensor chip 11 and the pedestal 15 are bonded all around.

【0078】しかし、図7(b)に示される本実施形態
に比べると、殆ど効果が得ることができない。
However, compared to the embodiment shown in FIG. 7B, almost no effect can be obtained.

【0079】尚、本発明は、上記実施形態に限られるも
のではなく、様々な態様に適用可能である。
Note that the present invention is not limited to the above embodiment, but can be applied to various aspects.

【0080】例えば、本発明は、本実施形態のようなピ
エゾ式の加速度センサに限らず、容量式の加速度センサ
にも適用可能であり、さらに、被測定媒体の圧力を検出
する半導体式圧力センサなどの他の力学量センサにも応
用可能である。
For example, the present invention can be applied not only to a piezo-type acceleration sensor as in the present embodiment but also to a capacitance-type acceleration sensor, and furthermore, a semiconductor-type pressure sensor for detecting the pressure of a medium to be measured. It can be applied to other physical quantity sensors.

【0081】また、本実施形態では、半導体センサチッ
プ11を、シリコン単結晶基板により形成したが、ピエ
ゾ抵抗係数が大なる他の材料により形成しても良い。
Further, in this embodiment, the semiconductor sensor chip 11 is formed of a silicon single crystal substrate, but may be formed of another material having a large piezoresistance coefficient.

【0082】また、ハウジング16及び蓋部20の材料
はセラミックに限らず、ガラスなどの絶縁材料や金属に
よって形成してもよい。
The material of the housing 16 and the lid 20 is not limited to ceramic, but may be formed of an insulating material such as glass or a metal.

【0083】また、静電シールド17は、ハウジング1
6における底面部分の全域に設ける構成としたが、蓋部
20にも設ける構成、半導体センサチップ11の底面に
対応した部分のみに設ける構成、あるいは半導体センサ
チップ11を覆う位置のほぼ全体に設ける構成とするな
ど、種々の形態を実施できる。
The electrostatic shield 17 is connected to the housing 1
6, the configuration is provided on the entire bottom surface portion. However, the configuration is also provided on the lid portion 20, the configuration is provided only on the portion corresponding to the bottom surface of the semiconductor sensor chip 11, or the configuration is provided on almost the entire position covering the semiconductor sensor chip 11. Various modes can be implemented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施形態の半導体式加速度センサの要部断面
構造を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional structure of a main part of a semiconductor acceleration sensor according to an embodiment.

【図2】本実施形態の半導体式加速度センサの平面構造
を示す図である。尚、図2は図1におけるA矢視図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a planar structure of the semiconductor acceleration sensor according to the embodiment. FIG. 2 is a view taken in the direction of the arrow A in FIG.

【図3】本実施形態の半導体センサチップに形成される
フルブリッジ回路の構成を摸式的に示す図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a full bridge circuit formed on the semiconductor sensor chip of the embodiment.

【図4】図3に示されたフルブリッジ回路の結線構造を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a connection structure of the full bridge circuit shown in FIG. 3;

【図5】本実施形態の半導体式加速度センサ全体の断面
構造を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a cross-sectional structure of the entire semiconductor acceleration sensor according to the embodiment.

【図6】本実施形態の蓋部を除去した状態での全体の平
面構造を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the entire planar structure of the present embodiment with the lid removed.

【図7】従来技術、本実施形態及び比較例の接着方法を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a bonding method according to a related art, the present embodiment, and a comparative example.

【図8】半導体式加速度センサにおける接着工程後の日
数と基準値変動量との関係を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing the relationship between the number of days after the bonding step and the reference value variation amount in the semiconductor acceleration sensor.

【図9】従来技術の半導体式加速度センサの要部断面構
造を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a cross-sectional structure of a main part of a conventional semiconductor acceleration sensor.

【図10】従来技術の半導体式加速度センサの平面構造
を示す図である。尚、図10は図9におけるB矢視図で
ある。
FIG. 10 is a diagram showing a planar structure of a conventional semiconductor acceleration sensor. FIG. 10 is a view as viewed in the direction of the arrow B in FIG.

【図11】半導体センサチップと台座とを可撓性の熱硬
化性接着剤により接着する工程を示す図である。
FIG. 11 is a view showing a step of bonding the semiconductor sensor chip and the base with a flexible thermosetting adhesive.

【図12】従来技術の半導体式加速度センサにおける接
着工程後の日数と基準値変動量との関係を示すグラフで
ある。
FIG. 12 is a graph showing a relationship between the number of days after a bonding process and a reference value variation amount in a conventional semiconductor acceleration sensor.

【符号の説明】 1…半導体センサチップ、 2…枠部、 3…梁部、 4…重錘部、 5…台座、 6…ハウジング、 6b…セラミック基板、 7…静電シールド、 8a、8b…樹脂ビーズ、 9a、9b…可撓性接着剤、 11…半導体センサチップ、 12…枠部、 12a…ボンディングパッド、 13…梁部、 14…重錘部、 15…台座、 16…ハウジング、 16a…凹部、 16b…セラミック基板、 16c…台状部、 16d…外部ターミナル、 16e…内部ターミナル、 17…静電シールド、 18a、18b…樹脂ビーズ、 19a、19b…熱硬化性接着剤、 20…蓋部、 20…増幅回路、 21…調整回路、 R11〜R14、 R21〜R24…抵抗素子、 T1、T2…入力端、 T3、T4…出力端、 +Vcc…電源端子、 GND…グランド端子、 +V…正側出力端子、 −V…負側出力端子、[Description of Signs] 1 ... Semiconductor sensor chip, 2 ... Frame part, 3 ... Beam part, 4 ... Weight part, 5 ... Pedestal, 6 ... Housing, 6b ... Ceramic substrate, 7 ... Electrostatic shield, 8a, 8b ... Resin beads, 9a, 9b: Flexible adhesive, 11: Semiconductor sensor chip, 12: Frame, 12a: Bonding pad, 13: Beam, 14: Weight, 15: Base, 16: Housing, 16a ... Recessed part, 16b: ceramic substrate, 16c: trapezoidal part, 16d: external terminal, 16e: internal terminal, 17: electrostatic shield, 18a, 18b: resin beads, 19a, 19b: thermosetting adhesive, 20: lid Reference numeral 20: amplifying circuit, 21: adjusting circuit, R11 to R14, R21 to R24: resistive element, T1, T2: input terminal, T3, T4: output terminal, + Vcc: power supply terminal, GND ... Ground terminal, + V: positive output terminal, -V: negative output terminal,

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年4月23日(2001.4.2
3)
[Submission date] April 23, 2001 (2001.4.2
3)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0027[Correction target item name] 0027

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0027】上述のような接着法を適用したことによ
り、半導体センサチップと台座との接着工程において熱
硬化性接着剤が収縮しても、熱硬化性接着剤からの歪み
の影響が大きくなるような位置の半導体センサチップに
対しては、熱硬化性接着剤が存在しない。
[0027] By applying the adhesive how as described above, also the thermosetting adhesive is contracted in the bonding process between the semiconductor sensor chip and the pedestal, the influence of distortion from the thermosetting adhesive becomes larger There is no thermosetting adhesive for the semiconductor sensor chip at such a position.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0050[Correction target item name] 0050

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0050】このような要求を満たすためには、例え
ば、ポリジビニルベンゼン樹脂、シリコーン樹脂、ウレ
タン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、可撓性エポ
キシ樹脂、ビニル樹脂などを利用できる。
[0050] To meet such requirements, for example, a polydiene vinyl Rubenzen resins, silicone resins, urethane resins, acrylic resins, polyimide resins, flexible epoxy resins, and vinyl resins can be utilized.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 力学量の印加により変位する変位部を有
し、前記変位部の変位を検出する半導体センサチップ
と、ビーズを配合した熱硬化性接着剤によって前記半導
体センサチップを固定する台座とを備えた半導体式力学
量センサにおいて、 前記熱硬化性接着剤からの歪みの影響が小さくなるよう
な位置に前記熱硬化性接着剤が配置されていることを特
徴とする半導体式力学量センサ。
1. A semiconductor sensor chip having a displacement portion which is displaced by application of a mechanical quantity and detecting displacement of the displacement portion, and a pedestal for fixing the semiconductor sensor chip with a thermosetting adhesive containing beads. Wherein the thermosetting adhesive is disposed at a position such that the influence of distortion from the thermosetting adhesive is reduced.
【請求項2】 前記半導体センサチップは、梁部を介し
て固定部より懸架された重錘部を有し、前記梁部に形成
された抵抗要素のピエゾ抵抗効果を利用して力学量を検
知できるように構成されたものであって、 前記熱硬化性接着剤の配置位置は、前記梁部と前記固定
部とが接続した位置から離れた領域であることを特徴と
する請求項1に記載の半導体式力学量センサ。
2. The semiconductor sensor chip has a weight portion suspended from a fixed portion via a beam portion, and detects a dynamic quantity using a piezoresistance effect of a resistance element formed on the beam portion. The arrangement position of the thermosetting adhesive is a region apart from a position where the beam portion and the fixing portion are connected, wherein the thermosetting adhesive is disposed. Semiconductor type dynamic quantity sensor.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004212246A (en) * 2003-01-06 2004-07-29 Hitachi Metals Ltd Acceleration sensor
JP2007003211A (en) * 2005-06-21 2007-01-11 Sharp Corp Acceleration sensor and its output correction method
JP2007035962A (en) * 2005-07-27 2007-02-08 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP2007080985A (en) * 2005-09-13 2007-03-29 Seiko Instruments Inc Sensor for mechanical quantity
JP2007333407A (en) * 2006-06-12 2007-12-27 Denso Corp Sensor apparatus
JP2018081036A (en) * 2016-11-18 2018-05-24 日立オートモティブシステムズ株式会社 Composite sensor device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004212246A (en) * 2003-01-06 2004-07-29 Hitachi Metals Ltd Acceleration sensor
JP2007003211A (en) * 2005-06-21 2007-01-11 Sharp Corp Acceleration sensor and its output correction method
JP2007035962A (en) * 2005-07-27 2007-02-08 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP2007080985A (en) * 2005-09-13 2007-03-29 Seiko Instruments Inc Sensor for mechanical quantity
JP2007333407A (en) * 2006-06-12 2007-12-27 Denso Corp Sensor apparatus
JP2018081036A (en) * 2016-11-18 2018-05-24 日立オートモティブシステムズ株式会社 Composite sensor device

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