JP2002261442A - Method of manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

Method of manufacturing multilayer printed wiring board

Info

Publication number
JP2002261442A
JP2002261442A JP2001061226A JP2001061226A JP2002261442A JP 2002261442 A JP2002261442 A JP 2002261442A JP 2001061226 A JP2001061226 A JP 2001061226A JP 2001061226 A JP2001061226 A JP 2001061226A JP 2002261442 A JP2002261442 A JP 2002261442A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
metal foil
wiring board
printed wiring
multilayer printed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001061226A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Tanabe
貴弘 田邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2001061226A priority Critical patent/JP2002261442A/en
Publication of JP2002261442A publication Critical patent/JP2002261442A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing multilayer printed wiring board by which the occurrence of recesses on an IVH when the conventional resin-bonded copper foil is used in the build-up method can be eliminated and the smoothness of a core IVH is improved. SOLUTION: This method of manufacturing multilayer printed wiring board includes a step (1) of preparing a thermosetting resin composition in which an electrical insulating filler is scattered, a step (2) of applying the resin composition to one surface of metal foil having a thickness of 18-105 μm, and a step (3) of forming adhesive-bonded metallic foil by half-curing the resin composition by heating. This method also includes a step (4) of laminating the adhesive- bonded metal foil upon an internal-layer circuit board.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐電食性に優れる
接着フィルムまたは接着剤付き金属箔を用いる、多層プ
リント配線板の製造方法に関し、特に、コアインタース
ティシャルバイアホール(以下「コアIVH」とい
う。)の平滑性を高めた多層プリント板の製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board using an adhesive film or a metal foil with an adhesive excellent in corrosion resistance, and more particularly, to a core interstitial via hole (hereinafter referred to as "core IVH"). The present invention relates to a method for producing a multilayer printed board having improved smoothness.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多層プリント配線板は、回路形成
された内層回路基板上に、ガラスクロス基材にエポキシ
樹脂を含浸させ半硬化させたプリプレグシートを一枚以
上重ね、さらにその上に銅箔を重ね、これらの多層積層
体を、熱圧プレスを用いて加熱一体成形するという工程
を経て製造されている。しかし、この方法では、層間厚
さの極薄化が困難であり、またガラスクロスには凹凸が
あるため、表面の平滑化の要求を満たすことが難しかっ
た。また、多層積層板を形成する際に、層間をつなぐコ
アIVHの信頼性を確保し、配線密度を向上するため
に、穴埋め剤を用いてIVHの穴を埋める必要があっ
た。しかし、穴埋め剤を用いる場合は、塗布、乾燥、研
磨の3つの工程がさらに必要となり、歩留りの低下や加
工費の増加等の問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a multilayer printed wiring board is formed by laminating one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with an epoxy resin and semi-curing on an inner circuit board on which a circuit is formed, and furthermore, copper It is manufactured through a process of laminating foils and integrally forming these multilayer laminates by heating using a hot press. However, in this method, it is difficult to make the interlayer thickness extremely thin, and it is difficult to satisfy the requirement for smoothing the surface because the glass cloth has irregularities. Further, when forming the multilayer laminate, it is necessary to fill the holes of the IVH with a hole-filling agent in order to secure the reliability of the core IVH connecting the layers and improve the wiring density. However, when a filling agent is used, three steps of coating, drying and polishing are further required, and there are problems such as a decrease in yield and an increase in processing cost.

【0003】近年、これらの問題を解決する方法とし
て、層間絶縁材料にガラスクロスを使用せず、ビルドア
ップ方式により多層プリント配線板を製造する方法が注
目されている。なかでも、樹脂付き銅箔を用い、銅箔を
コンフォーマルマスクとしてレーザまたはプラズマによ
り、バイアを設けるビルドアップ方式が多用され始めて
いる。
In recent years, as a method of solving these problems, a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method without using glass cloth as an interlayer insulating material has been attracting attention. Above all, a build-up system in which a via is provided by a laser or plasma using a copper foil with a resin and the copper foil as a conformal mask has begun to be frequently used.

【0004】ビルドアップ方式では、バイアを埋める方
法として、穴埋め剤もしくは導電性ペーストを用いて埋
め込む方法、または熱圧時に樹脂付き銅箔の樹脂を穴に
充填させる方法がある。前者は、穴埋め剤を埋め込んだ
後、バイア周辺にはみ出した穴埋め剤を研磨して除去す
る必要があり、工程の増加と歩留りの低下を招くという
問題があった。一方後者は、樹脂全体がバイアに流れ込
むので、充填性に優れるという利点がある。しかし、樹
脂が固化するときの収縮により、コアIVH上に凹みが
生成しやすく、その上の層に配線パターンを形成する
と、エッチング不良が生じるおそれがあった。
In the build-up method, as a method of filling a via, there is a method of filling with a hole filling agent or a conductive paste, or a method of filling a resin of a copper foil with a resin into a hole at the time of hot pressing. In the former, after filling the filling material, it is necessary to polish and remove the filling material protruding around the via, which causes a problem of increasing the number of steps and decreasing the yield. On the other hand, the latter has the advantage that the entire resin flows into the via, so that the filling property is excellent. However, dents are easily formed on the core IVH due to shrinkage when the resin is solidified, and when a wiring pattern is formed on a layer thereabove, there is a possibility that an etching defect may occur.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ビルドアッ
プ方式において、従来の樹脂付き銅箔を使用したときの
IVH上の凹みの問題を解決し得る、コアIVHの平滑
性を高めた多層プリント配線板の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a multi-layer print with improved core IVH smoothness which can solve the problem of dents on the IVH when a conventional resin-coated copper foil is used in a build-up system. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a wiring board.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】このような目的に対し、
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、銅箔の厚さと樹脂
に配合するフィラーの剛性とを利用し、積層時に、樹脂
全体の厚さをコントロールすることにより、コアIVH
上の凹みの問題を解決し得ることを知見した。たとえば
銅箔の厚さが小さいなど剛性が十分にない場合は、熱圧
プレス時に、局所的な樹脂の流れ込みを抑制することが
できない。しかし、銅箔を厚いものとし、またフィラー
の剛性を利用すると、かかる局所的な樹脂の流れ込みを
抑制し、樹脂全体をバイアに均一に流れ込ませることに
より、樹脂厚みを均一化することが可能になる。
Means for Solving the Problems For such a purpose,
The present inventors have conducted intensive studies, and as a result, utilizing the thickness of the copper foil and the rigidity of the filler mixed with the resin, controlling the thickness of the entire resin at the time of lamination, the core IVH
It has been found that the problem of the upper dent can be solved. For example, when the rigidity is not sufficient, such as when the thickness of the copper foil is small, it is not possible to suppress local resin inflow during hot pressing. However, if the copper foil is made thicker and the rigidity of the filler is used, such local resin inflow can be suppressed, and the resin can be made uniform by uniformly flowing the entire resin into the via. Become.

【0007】すなわち本発明は、(1)電気絶縁性フィ
ラーを分散させた熱硬化性樹脂組成物を調製する工程
と、(2)前記調製した樹脂組成物を、厚さ18〜10
5μmの金属箔の片面に塗布する工程と、(3)前記塗
布した樹脂組成物を加熱し、接着剤付き金属箔を形成す
る工程と、(4)前記接着剤付き金属箔を内層回路基板
に積層し、積層板を形成する工程と、を含む多層プリン
ト配線板の製造方法である。
That is, the present invention provides (1) a step of preparing a thermosetting resin composition in which an electrically insulating filler is dispersed, and (2) a step of preparing the prepared resin composition by using a resin composition having a thickness of 18 to 10.
A step of applying a metal foil of 5 μm on one side, (3) a step of heating the applied resin composition to form a metal foil with an adhesive, and (4) a step of applying the metal foil with an adhesive to an inner circuit board. Laminating and forming a laminated board.

【0008】また本発明は、(1)電気絶縁性フィラー
を分散させた熱硬化性樹脂組成物を調製する工程と、
(2)前記調製した樹脂組成物を、厚さ18〜105μ
mの金属箔を備えたキャリア付き金属箔の箔面に塗布す
る工程と、(3)前記樹脂組成物を塗布したキャリア付
き金属箔を加熱し、接着剤層を備えたキャリア付き金属
箔を形成する工程と、(4)前記接着剤層を内層回路基
板に積層し、積層板を形成する工程と、(5)前記積層
されたキャリア付き金属箔からキャリアフィルムを除去
して、金属箔を露出させる工程と、を含む多層プリント
配線板の製造方法である。
The present invention also provides (1) a step of preparing a thermosetting resin composition in which an electrically insulating filler is dispersed;
(2) The resin composition prepared above is coated with a thickness of 18 to 105 μm.
and (3) heating the metal foil with a carrier coated with the resin composition to form a metal foil with a carrier having an adhesive layer. (4) laminating the adhesive layer on an inner circuit board to form a laminate; and (5) removing the carrier film from the laminated metal foil with a carrier to expose the metal foil. And a step of producing a multilayer printed wiring board.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の多層プリント配線板の製
造方法は、まず電気絶縁フィラーを分散させた熱硬化性
樹脂を調製し、次いでこの樹脂を金属箔の片面に塗布す
る。このとき、塗布はナイフコート法など公知の方法を
使用することができる。次に、この塗布した樹脂組成物
を、たとえば150℃で10分間加熱し、その後乾燥さ
せて、Bステージ状態の半硬化した接着剤付き金属箔を
形成する。次に、この接着剤面を内層回路板の片面また
は両面に重ね合わせ、たとえば、175℃で60分間、
3MPaの加圧力で圧着させて、多層プリント配線板を形
成する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, first, a thermosetting resin in which an electric insulating filler is dispersed is prepared, and then this resin is applied to one surface of a metal foil. At this time, a known method such as a knife coating method can be used for application. Next, the applied resin composition is heated at, for example, 150 ° C. for 10 minutes, and then dried to form a B-stage semi-cured metal foil with an adhesive. Next, this adhesive surface is superimposed on one or both surfaces of the inner layer circuit board, for example, at 175 ° C. for 60 minutes.
The multi-layer printed wiring board is formed by pressing with a pressure of 3 MPa.

【0010】また、上記の金属箔の代わりに、キャリア
付き金属箔を用いることもできるが、この場合は、半硬
化させたキャリア付き金属箔を内層回路板に積層し、そ
の後キャリアフィルムを除去する必要がある。
In addition, a metal foil with a carrier can be used in place of the above metal foil. In this case, the metal foil with a carrier that has been semi-cured is laminated on an inner circuit board, and then the carrier film is removed. There is a need.

【0011】本発明の方法は、上記した方法で一体成形
した多層プリント配線板の金属箔面にエッチングして導
体パターンを形成する代わりに、積層板の金属箔を除去
し、接着剤層面に新たに金属めっきを形成して、導体パ
ターンを形成することもできる。このようなアディティ
ブ法は、ファインパターンの形成に有利である。
According to the method of the present invention, instead of etching a metal foil surface of a multilayer printed wiring board integrally formed by the above-described method to form a conductor pattern, the metal foil of the laminate is removed and a new adhesive layer surface is formed. The conductor pattern can also be formed by forming a metal plating on the substrate. Such an additive method is advantageous for forming a fine pattern.

【0012】本発明に用いる電気絶縁性フィラーは、セ
ラミックフィラーである。フィラーは、繊維状、球状、
鱗片状、不定形等の形状のフィラーを用いることができ
るが、フィルム形成性の点で、繊維状フィラーが好まし
い。また、フィラーは、これらの形状から選ばれた1種
類以上の形状のフィラーを用いることができる。
The electrically insulating filler used in the present invention is a ceramic filler. Filler is fibrous, spherical,
A filler having a shape such as a scaly shape or an amorphous shape can be used, but a fibrous filler is preferable in view of film formability. As the filler, a filler having one or more types selected from these shapes can be used.

【0013】フィラーの平均直径は、剛性を付与する点
で、また表面の平滑性の点で、0.3〜3.0μmであ
ることが好ましく、0.3〜1.0μmであることがよ
り好ましい。またフィラーの平均粒子長は、100μm
以下が好ましく、50μm以下がより好ましい。フィラ
ーは、あらかじめ目的とする粒子径に合わせて製造され
たフィラーを用いることができる。また、せん断力を付
加できる一般的な粉砕装置、たとえばボールミル、ビー
ズミル、ナノメーカ、ナノマイザ等を用いて粒度を調節
したフィラーを用いることもできる。
The average diameter of the filler is preferably from 0.3 to 3.0 μm, more preferably from 0.3 to 1.0 μm, from the viewpoint of imparting rigidity and the smoothness of the surface. preferable. The average particle length of the filler is 100 μm
Or less, more preferably 50 μm or less. As the filler, a filler manufactured in advance according to a target particle diameter can be used. Further, a filler whose particle size is adjusted by using a general pulverizing apparatus to which a shearing force can be applied, for example, a ball mill, a bead mill, a nano maker, a nanomizer, or the like can be used.

【0014】フィラーとして用いるウィスカーの種類
は、ケイ酸、ホウ酸アルミニウム、ウォラストナイト、
チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウ
ム、窒化ケイ素、水酸化アルミニウム、α−アルミナ、
タルク、およびアルミナとフッ化ケイ酸から合成される
合成雲母等から選ばれた1種類以上のフィラーを用いる
ことができる。なかでも、熱膨張係数が小さく、比較的
安価であることから、ホウ酸アルミニウムがより好まし
い。
The whiskers used as fillers include silicic acid, aluminum borate, wollastonite,
Potassium titanate, magnesium sulfate, magnesium oxide, silicon nitride, aluminum hydroxide, α-alumina,
One or more fillers selected from talc and synthetic mica synthesized from alumina and fluorosilicic acid can be used. Among them, aluminum borate is more preferable because of its low coefficient of thermal expansion and relatively low cost.

【0015】また、フィラーの表面をカップリング剤で
表面処理したフィラーは、樹脂との濡れ性および結合性
に優れるので、プリント配線板の剛性および耐熱性をさ
らに高めることができる。このような目的で使用するカ
ップリング剤は、シリコン系、チタン系、アルミニウム
系、ジルコニウム系、ジルコアルミニウム系、クロム
系、ボロン系、リン系、アミノ酸系等の公知のものを使
用することができる。
The filler whose surface is treated with a coupling agent is excellent in wettability and bonding property with resin, so that the rigidity and heat resistance of the printed wiring board can be further increased. As the coupling agent used for such a purpose, known compounds such as silicon-based, titanium-based, aluminum-based, zirconium-based, zirconaluminum-based, chromium-based, boron-based, phosphorus-based, and amino acid-based can be used. .

【0016】本発明で使用する熱硬化性樹脂は、従来の
ガラスクロスを基材としたプリプレグに使用される熱硬
化性樹脂、または、ガラスクロス基材を含まないプリプ
レグに用いられる接着フィルムもしくは銅箔付き接着フ
ィルムに使用されている熱硬化性樹脂を使用することが
できる。
The thermosetting resin used in the present invention may be a thermosetting resin used for a conventional prepreg based on a glass cloth, an adhesive film or a copper used for a prepreg containing no glass cloth base. The thermosetting resin used for the adhesive film with a foil can be used.

【0017】すなわち、熱硬化性樹脂として、エポキシ
樹脂、ビストリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、フェノー
ル樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、シアン酸エステル樹脂、イソシアネート樹脂、
ポリイミド樹脂またはこれらの種々の変性樹脂類を用い
ることができる。なかでも、プリント配線板の特性の点
から、エポキシ樹脂またはビストリアジン樹脂が好まし
い。
That is, as the thermosetting resin, epoxy resin, bistriazine resin, polyimide resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, unsaturated polyester resin, cyanate ester resin, isocyanate resin,
A polyimide resin or various modified resins thereof can be used. Among them, epoxy resin or bistriazine resin is preferable from the viewpoint of the characteristics of the printed wiring board.

【0018】エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、サリ
チルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルア
ミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イ
ソシアヌレート型エポキシ樹脂、脂肪族環状エポキシ樹
脂、またはこれらの樹脂のハロゲン化物もしくは水素化
物を使用することができる。なかでも、ビスフェノール
Aノボラック型エポキシ樹脂またはサリチルアルデヒド
ノボラック型エポキシ樹脂が、耐熱性に優れるので、よ
り好ましい。また、これらの樹脂は単独で、または2種
以上を併用して、使用することができる。
As the epoxy resin, bisphenol A
Epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A novolak epoxy resin, salicylaldehyde novolak epoxy resin, bisphenol F novolak epoxy resin, fat Cyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, aliphatic cyclic epoxy resin, or halide or hydride of these resins can be used. . Among them, bisphenol A novolak type epoxy resin or salicylaldehyde novolak type epoxy resin is more preferable because of its excellent heat resistance. These resins can be used alone or in combination of two or more.

【0019】本発明に使用する熱硬化性樹脂は、樹脂硬
化剤を併せて用いることが好ましい。熱硬化性樹脂の硬
化剤としては、従来使用している公知の硬化剤を使用す
ることができる。エポキシ樹脂の場合は、たとえばジシ
アンジアミド、ビスフェノールA、ビスフェノールF、
ポリビニルフェノール、フェノールノボラック樹脂、ビ
スフェノールAノボラック樹脂、またはこれらフェノー
ル樹脂のハロゲン化物もしくは水素化物等を使用するこ
とができる。なかでも、耐熱性に優れる点で、ビスフェ
ノールAノボラック樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂に対
する樹脂硬化剤の配合割合は、熱硬化性樹脂100重量
部に対して、2〜80重量部が好ましい。硬化剤がジシ
アンジアミドの場合は2〜5重量部、それ以外の硬化剤
の場合は20〜70重量部が好ましい。
The thermosetting resin used in the present invention is preferably used in combination with a resin curing agent. As the curing agent for the thermosetting resin, a known curing agent that has been conventionally used can be used. In the case of an epoxy resin, for example, dicyandiamide, bisphenol A, bisphenol F,
Polyvinyl phenol, phenol novolak resin, bisphenol A novolak resin, or a halide or hydride of these phenol resins can be used. Above all, bisphenol A novolak resin is preferred because of its excellent heat resistance. The mixing ratio of the resin curing agent to the thermosetting resin is preferably 2 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the thermosetting resin. When the curing agent is dicyandiamide, the amount is preferably 2 to 5 parts by weight, and when the other curing agent is used, the amount is preferably 20 to 70 parts by weight.

【0020】また、本発明の熱硬化性樹脂は、硬化促進
剤を使用することもできる。硬化促進剤としては、エポ
キシ樹脂の場合には、たとえばイミダゾール化合物、有
機リン化合物、第三級アミン、または第四級アンモニウ
ム塩等を使用することができる。熱硬化性樹脂に対する
硬化促進剤の配合割合は、熱硬化性樹脂100重量部に
対して、0.01〜20重量部が好ましく、0.1〜
1.0重量部がより好ましい。
Further, the thermosetting resin of the present invention can also use a curing accelerator. In the case of an epoxy resin, for example, an imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, or the like can be used as the curing accelerator. The mixing ratio of the curing accelerator to the thermosetting resin is preferably from 0.01 to 20 parts by weight, and more preferably from 0.1 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin.
1.0 parts by weight is more preferred.

【0021】本発明の熱硬化性樹脂は、溶剤を用いて希
釈し、樹脂ワニスとして使用することもできる。この目
的に使用する溶剤としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、
酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、
メタノール、エタノール、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド等を使用することが
できる。熱硬化性樹脂に対する希釈剤の配合割合は、従
来使用している配合割合であることができ、熱硬化性樹
脂100重量部に対して、1〜200重量部が好まし
く、30〜100重量部がより好ましい。
The thermosetting resin of the present invention can be diluted with a solvent and used as a resin varnish. Solvents used for this purpose include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone,
Ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether,
Methanol, ethanol, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like can be used. The compounding ratio of the diluent to the thermosetting resin can be a compounding ratio conventionally used, and is preferably 1 to 200 parts by weight, more preferably 30 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin. More preferred.

【0022】本発明においては、上記の組成物のほか
に、必要に応じて、公知のカップリング剤、充填材等を
適宜配合することもできる。
In the present invention, in addition to the above-described composition, a known coupling agent, a filler, and the like can be appropriately compounded, if necessary.

【0023】電気絶縁性フィラーの配合量は、熱硬化性
樹脂、樹脂硬化剤、硬化促進剤等の樹脂固形分100重
量部に対して、5〜350重量部が好ましい。この範囲
にあると、切断時に樹脂が細かく砕けて飛散しやすくな
る等の取扱い性の問題を起こすことがないので、配線板
にしたときに十分な放熱性を得ることができる。また、
熱圧プレスで成形する際の、内層回路の穴埋め性および
回路間への樹脂充填性が良好であり、熱圧プレスで成形
した後のフィラーを複合させた樹脂組成物層中に、ボイ
ドまたはかすれ等の欠陥の発生を防止できるので、配線
板の特性が優れる。また、樹脂固形分100重量部に対
して、フィラーが100〜230重量部配合させると、
内層回路の穴埋め性および回路間への樹脂充填性がより
優れる。このため、従来のガラスクロスを使用したプリ
プレグを用いて製造する配線板と比較して、同等以上の
剛性、寸法安定性、およびワイヤボンディング性を有す
る配線板を製造することが可能になる。
The compounding amount of the electrically insulating filler is preferably 5 to 350 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solid content such as a thermosetting resin, a resin curing agent, and a curing accelerator. In this range, there is no problem in handling such that the resin is finely crushed and easily scattered at the time of cutting, so that sufficient heat radiation can be obtained when the wiring board is used. Also,
Filling of the inner layer circuit and filling of the resin between the circuits are good when molding by hot pressing, and voids or fainting are contained in the resin composition layer in which the filler is compounded after hot pressing. Therefore, the characteristics of the wiring board are excellent. When the filler is blended in an amount of 100 to 230 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin solid content,
Better filling of the inner layer circuit and filling of resin between circuits are more excellent. For this reason, it is possible to manufacture a wiring board having stiffness, dimensional stability, and wire bonding properties equal to or higher than those of a wiring board manufactured using a prepreg using a conventional glass cloth.

【0024】電気絶縁性フィラーを含む樹脂組成物の厚
さは1層あたり、5〜30μmが好ましい。また、繊維
の平均長が短い繊維状フィラーを使用する場合、樹脂組
成物の厚さは、これより薄い5〜10μmが好ましい。
また、電気絶縁性フィラーを含む樹脂組成物を、繰返し
塗布、乾燥することにより、目的の厚さの絶縁層を得る
ことができる。
The thickness of the resin composition containing the electrically insulating filler is preferably 5 to 30 μm per layer. When a fibrous filler having a short average fiber length is used, the thickness of the resin composition is preferably 5 to 10 μm, which is thinner.
Further, by repeatedly applying and drying a resin composition containing an electrically insulating filler, an insulating layer having a desired thickness can be obtained.

【0025】本発明の金属箔は、銅箔、ステンレス箔、
またはニッケル箔などを使用することができるが、導電
性の点で銅箔が好ましい。銅箔は、電解銅箔または圧延
銅箔を使用することができるが、いずれも絶縁樹脂への
接着力を増すために、接着面に粗化処理を行うことが好
ましい。
The metal foil of the present invention may be a copper foil, a stainless steel foil,
Alternatively, a nickel foil or the like can be used, but a copper foil is preferable in terms of conductivity. As the copper foil, an electrolytic copper foil or a rolled copper foil can be used, but it is preferable to perform a roughening treatment on the bonding surface in order to increase the bonding strength to the insulating resin.

【0026】金属箔の厚さは、18〜105μmの範囲
である。この範囲にあると、金属箔が樹脂を保持するこ
とができ、かつその剛性により樹脂の局所的な流れ込み
を防止できるので、コアIVH上の凹みを最小にするこ
とができる。凹みをより小さくするためには、厚さ35
〜105μmが好ましい。一方、キャリア付き金属箔の
場合は、この限りではなく、キャリア箔は18μm以上
が好ましく、35μm以上がより好ましい。この範囲に
あると、細線ラインのエッチングを容易に行うことがで
きる。
The thickness of the metal foil ranges from 18 to 105 μm. In this range, the metal foil can hold the resin, and its rigidity can prevent local inflow of the resin, so that the depression on the core IVH can be minimized. In order to make the dent smaller, a thickness of 35
~ 105 μm is preferred. On the other hand, in the case of the metal foil with a carrier, the thickness is not limited thereto, and the carrier foil is preferably 18 μm or more, more preferably 35 μm or more. Within this range, the thin line can be easily etched.

【0027】本発明に使用する金属箔に細線パターンを
形成する必要がある場合は、金属箔の粗化面の表面粗さ
Rzが5μm以上の通常箔よりも、Rzが2〜5μmのロ
ープロファイル箔が好ましい。
When it is necessary to form a fine line pattern on the metal foil used in the present invention, a low profile Rz of 2 to 5 μm is required as compared with a normal foil having a roughened surface of the metal foil having a surface roughness Rz of 5 μm or more. Foil is preferred.

【0028】[0028]

【実施例】以下に、本発明を実施例に基づいてを説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0029】実施例1 電気絶縁性ウィスカーを含む熱硬化性樹脂組成物は以下
の方法で作製した。熱硬化性樹脂として、エポキシ当量
210のビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂1
00重量部とエポキシ当量123のビスフェノールAノ
ボラック樹脂100重量部、および樹脂硬化剤として、
ジシアンジアミド1重量部を、メチルエチルケトン(M
EK)80重量部で希釈して、熱硬化性樹脂ワニスを作
製した。次に、このワニスに、平均直径0.8μm、平
均繊維長8μm、最大繊維長さ12μmのホウ酸アルミニ
ウムウィスカーを、樹脂固形分100重量部に対して1
10重量部配合し、フィラーがワニス中に均一に分散す
るまで撹拌した。
Example 1 A thermosetting resin composition containing an electrically insulating whisker was prepared by the following method. Bisphenol A novolak type epoxy resin 1 having an epoxy equivalent of 210 as a thermosetting resin
100 parts by weight and 100 parts by weight of a bisphenol A novolak resin having an epoxy equivalent of 123, and as a resin curing agent,
1 part by weight of dicyandiamide is added to methyl ethyl ketone (M
EK) was diluted with 80 parts by weight to prepare a thermosetting resin varnish. Next, an aluminum borate whisker having an average diameter of 0.8 μm, an average fiber length of 8 μm, and a maximum fiber length of 12 μm was added to the varnish in an amount of 1 part per 100 parts by weight of the resin solid content.
10 parts by weight were mixed and stirred until the filler was uniformly dispersed in the varnish.

【0030】このワニスを、ナイフコータを用いて、厚
さ35μmのロープロファイル銅箔に塗工し、温度15
0℃で10分間加熱乾燥して、溶剤を除去するととも
に、熱硬化性樹脂を半硬化させた。これにより、ウィス
カーの体積分率が30%である、厚さ60μmの接着剤
付き銅箔を作製した。この時の樹脂流れは、MIL法で
測定したところ25%であった。
The varnish was applied to a low-profile copper foil having a thickness of 35 μm using a knife coater,
The resultant was dried by heating at 0 ° C. for 10 minutes to remove the solvent and semi-cured the thermosetting resin. Thereby, a copper foil with an adhesive having a thickness of 60 μm and a whisker volume fraction of 30% was produced. The resin flow at this time was 25% as measured by the MIL method.

【0031】ここで、樹脂流れとは、加熱により樹脂が
溶融した際に、加圧によって樹脂が染み出る量をいう。
またMIL法は、米国のMIL規格で定めた方法であ
り、樹脂付き銅箔を3〜4枚重ね合わせて試験する方法
である。
Here, the resin flow refers to the amount of resin that exudes due to pressure when the resin is melted by heating.
The MIL method is a method defined in the U.S. MIL standard, and is a method in which three to four resin-coated copper foils are superposed and tested.

【0032】次に、穴密度が300,000穴/m2とな
るように、0.3mmφのコアIVHを設けた内層板の両
面を、上記方法により作製した厚さ60μmの接着剤付
き銅箔を用いて、接着剤面が内層板と接するように重ね
合わせ、175℃、3MPaの加重下で、60分間、加熱
・加圧して、多層プリント配線板を一体成形した。その
後、銅箔面に、電食試験用の電極となるパターンをエッ
チングした。
Then, both sides of an inner layer plate provided with a 0.3 mmφ core IVH were coated with a 60 μm-thick copper foil with an adhesive by the above method so that the hole density was 300,000 holes / m 2. Were laminated so that the adhesive surface was in contact with the inner layer plate, and heated and pressed at 175 ° C. under a load of 3 MPa for 60 minutes to integrally form a multilayer printed wiring board. Then, the pattern used as the electrode for an electrolytic corrosion test was etched on the copper foil surface.

【0033】実施例2 熱硬化性樹脂として、エポキシ当量250のサリチルア
ルデヒドノボラック型エポキシ樹脂100重量部とエポ
キシ当量123のビスフェノールAノボラック樹脂を主
成分とする樹脂200重量部を使用した以外は、実施例
1と同様にして、ワニスを作製した。このワニスを、ナ
イフコータを用いて、厚さ35μmのキャリアを付した
厚さ5μmのロープロファイル銅箔の箔面に塗工し、温
度150℃で10分間加熱乾燥して、溶剤を除去すると
ともに、熱硬化性樹脂を半硬化させ、接着剤層を備えた
厚さ65μmのキャリア付き銅箔を形成した。 次に、実
施例1と同様のコアIVHを設けた内層板の両面を、上
記方法により作製した厚さ65μmの接着剤層を備えた
キャリア付き銅箔を用いて、接着剤面が内層板と接する
ように重ね合わせ、175℃、3MPaの加重下で、60
分間、加熱・加圧して、多層プリント配線板を一体成形
した。その後、キャリアフィルムを除去し、露出させた
銅箔面に、電食試験用の電極となるパターンをエッチン
グした。
Example 2 The procedure of Example 2 was repeated except that 100 parts by weight of salicylaldehyde novolak type epoxy resin having an epoxy equivalent of 250 and 200 parts by weight of a resin mainly composed of bisphenol A novolak resin having an epoxy equivalent of 123 were used as the thermosetting resin. A varnish was prepared in the same manner as in Example 1. Using a knife coater, this varnish is applied to a foil surface of a low-profile copper foil having a thickness of 5 μm with a carrier having a thickness of 35 μm, and heated and dried at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes to remove the solvent. The thermosetting resin was semi-cured to form a copper foil with a carrier having a thickness of 65 μm and having an adhesive layer. Next, both surfaces of the inner layer plate provided with the same core IVH as in Example 1 were coated with a carrier-provided copper foil provided with an adhesive layer having a thickness of 65 μm by the above-described method. Laminated so that they touch each other, at 175 ° C under a load of 3 MPa, 60
By heating and pressurizing for minutes, a multilayer printed wiring board was integrally formed. Thereafter, the carrier film was removed, and a pattern serving as an electrode for an electrolytic corrosion test was etched on the exposed copper foil surface.

【0034】実施例3 平均直径1μm、平均繊維長70μmの繊維状粒子のケイ
酸ガラスフィラーを使用した以外は、実施例1と同様に
して、多層プリント配線板を作製した。
Example 3 A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1, except that a silicate glass filler of fibrous particles having an average diameter of 1 μm and an average fiber length of 70 μm was used.

【0035】実施例4 平均粒径10μmの鱗片状のアルミナとフッ化ケイ酸か
ら合成された合成雲母フィラーを使用した以外は、実施
例1と同様にして、多層プリント配線板を作製した。
Example 4 A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that a synthetic mica filler synthesized from flaky alumina having an average particle diameter of 10 μm and fluorinated silicic acid was used.

【0036】比較例1 平均直径1μm、平均繊維長30μm、最大繊維長50μ
mのホウ酸アルミニウムフィラーを使用し、厚さ12μm
の通常銅箔を使用した以外は、実施例1と同様にして、
多層プリント配線板を作製した。
Comparative Example 1 Average diameter 1 μm, average fiber length 30 μm, maximum fiber length 50 μm
m aluminum borate filler, thickness 12μm
Except that the usual copper foil was used,
A multilayer printed wiring board was manufactured.

【0037】比較例2 接着剤付き銅箔の代わりに、ガラスクロスに実施例1の
樹脂組成物を含浸させ乾燥させた厚さ60μmのプリプ
レグを使用した以外は、実施例1と同様にして、多層プ
リント配線板を作製した。
Comparative Example 2 In the same manner as in Example 1 except that a prepreg having a thickness of 60 μm obtained by impregnating and drying the resin composition of Example 1 in a glass cloth was used instead of the copper foil with an adhesive, A multilayer printed wiring board was manufactured.

【0038】これらの方法で得られた多層プリント配線
板について、コアIVHの充填性、表面の凹み量(表面
段差)および耐電食性を調査した。実施例1〜4および
比較例1、2の特性値を表1に示す。
With respect to the multilayer printed wiring board obtained by these methods, the filling property of the core IVH, the amount of depression on the surface (surface step) and the corrosion resistance were investigated. Table 1 shows the characteristic values of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2.

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【0040】ここで実施した試験方法は以下の通りであ
る。表面粗さは、JISB0601に規定されるRMAX
を、基準長さ2.5mmとして測定した。耐電食性は、8
5℃、85%RH、DC50Vの条件下で、接着層の絶
縁抵抗値が109Ω以上の値を500時間以上保ったも
のを○とした。また、コアIVH充填性は、加熱圧着
後、断面を研磨し、実体顕微鏡を用いて300倍の倍率
で確認した。
The test method carried out here is as follows. The surface roughness is defined as R MAX specified in JISB0601.
Was measured as a reference length of 2.5 mm. The corrosion resistance is 8
At 5 ° C., 85% RH and DC 50 V, the adhesive layer having an insulation resistance value of not less than 10 9 Ω for 500 hours or more was evaluated as ○. In addition, the core IVH filling property was checked at a magnification of 300 times by using a stereoscopic microscope after polishing the cross section after heat compression.

【0041】表1から明らかなように、本発明に従う実
施例1〜4は、コアIVHの充填性および500時間後
の耐電食性に優れるとともに、IVH上の凹みも2〜3
μm以内に抑えられている。一方、本発明の範囲を外れ
る厚さの銅箔を用いた実施例1は、IVH上の凹みが8
μmと大きくなっている。また、ガラスクロスプリプレ
グを使用した実施例2は、コアIVHの充填性、500
時間後の耐電食性およびIVH上の凹みのいずれも、不
充分な値である。
As is clear from Table 1, Examples 1 to 4 according to the present invention are excellent in the filling property of the core IVH and the electric corrosion resistance after 500 hours, and the dents on the IVH are also 2-3.
It is suppressed to within μm. On the other hand, in Example 1 using a copper foil having a thickness outside the range of the present invention, the dent on the IVH was 8%.
μm. In Example 2 using a glass cloth prepreg, the filling property of the core IVH was 500
Both the corrosion resistance after time and the depression on the IVH are insufficient values.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の、電気絶縁性フィラーを分散さ
せた熱硬化性樹脂を配合した樹脂組成物を、銅箔の片面
に塗布し、加熱して半硬化させ、この工程を繰り返すこ
とにより目的の厚さの層状絶縁層を作り、これを内層回
路基板に積層する多層プリント配線板の製造方法は、回
路充填性に優れ、表面が平坦で回路加工性が良いので、
絶縁信頼性が高い。また、既存の設備を用いて製造する
ことができるので、環境にこれまで以上に大きな負荷を
与えることはない。したがって、多層プリント配線板の
高密度化、薄型化、高信頼性化、低コスト化に多大の貢
献をするという効果を有する。
According to the present invention, a resin composition containing a thermosetting resin in which an electric insulating filler is dispersed is applied to one surface of a copper foil, heated and semi-cured, and this process is repeated. The method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a layered insulating layer having a desired thickness is formed and laminated on an inner layer circuit board has excellent circuit filling properties, a flat surface, and good circuit workability.
High insulation reliability. In addition, since it can be manufactured using existing equipment, it does not impose a greater burden on the environment than ever. Therefore, the present invention has the effect of greatly contributing to higher density, thinner, higher reliability, and lower cost of the multilayer printed wiring board.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (1)電気絶縁性フィラーを分散させた
熱硬化性樹脂組成物を調製する工程と、(2)前記調製
した樹脂組成物を、厚さ18〜105μmの金属箔の片
面に塗布する工程と、(3)前記塗布した樹脂組成物を
加熱し、接着剤付き金属箔を形成する工程と、(4)前
記接着剤付き金属箔を内層回路基板に積層し、積層板を
形成する工程と、を含むことを特徴とする多層プリント
配線板の製造方法。
(1) a step of preparing a thermosetting resin composition in which an electrically insulating filler is dispersed; and (2) applying the prepared resin composition to one surface of a metal foil having a thickness of 18 to 105 μm. A step of applying; (3) a step of heating the applied resin composition to form a metal foil with an adhesive; and (4) a step of laminating the metal foil with an adhesive on an inner circuit board to form a laminate. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board.
【請求項2】 (1)電気絶縁性フィラーを分散させた
熱硬化性樹脂組成物を調製する工程と、(2)前記調製
した樹脂組成物を、厚さ18〜105μmの金属箔を備
えたキャリア付き金属箔の箔面に塗布する工程と、
(3)前記樹脂組成物を塗布したキャリア付き金属箔を
加熱し、接着剤層を備えたキャリア付き金属箔を形成す
る工程と、(4)前記接着剤層を内層回路基板に積層
し、積層板を形成する工程と、(5)前記積層されたキ
ャリア付き金属箔からキャリアフィルムを除去して、金
属箔を露出させる工程と、を含むことを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
2. A step of (1) preparing a thermosetting resin composition in which an electrically insulating filler is dispersed; and (2) providing the prepared resin composition with a metal foil having a thickness of 18 to 105 μm. A step of applying to the foil surface of the metal foil with a carrier,
(3) heating the metal foil with a carrier to which the resin composition has been applied to form a metal foil with a carrier having an adhesive layer; and (4) laminating the adhesive layer on an inner circuit board, and laminating. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising: a step of forming a board; and (5) a step of removing a carrier film from the laminated metal foil with a carrier to expose the metal foil.
【請求項3】 前記方法がさらに、前記積層板から金属
箔を除去する工程と、前記金属箔を除去した接着剤層面
に金属めっきにより導体パターンを形成する工程と、を
含む請求項1または2記載の多層プリント配線板の製造
方法。
3. The method according to claim 1, further comprising the steps of: removing a metal foil from the laminate; and forming a conductive pattern by metal plating on the surface of the adhesive layer from which the metal foil has been removed. A method for manufacturing the multilayer printed wiring board according to the above.
【請求項4】 前記電気絶縁性フィラーがホウ酸アルミ
ニウムである、請求項1〜3のいずれか1項記載の多層
プリント配線板の製造方法。
4. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein said electrically insulating filler is aluminum borate.
JP2001061226A 2001-03-06 2001-03-06 Method of manufacturing multilayer printed wiring board Pending JP2002261442A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001061226A JP2002261442A (en) 2001-03-06 2001-03-06 Method of manufacturing multilayer printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001061226A JP2002261442A (en) 2001-03-06 2001-03-06 Method of manufacturing multilayer printed wiring board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002261442A true JP2002261442A (en) 2002-09-13

Family

ID=18920553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001061226A Pending JP2002261442A (en) 2001-03-06 2001-03-06 Method of manufacturing multilayer printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002261442A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005032227A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-07 Ibiden Co., Ltd. Interlayer insulating layer for printed wiring board, printed wiring board and method for manufacturing same
JP2005219379A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Furukawa Circuit Foil Kk Composite material for substrates and circuit board using it
JP2006019451A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Ibiden Co Ltd Printed-circuit board and interlayer insulating layer therefor
JP2006100463A (en) * 2004-09-29 2006-04-13 Ibiden Co Ltd Interlayer insulating layer for printed wiring board, printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2008251970A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Ajinomoto Co Inc Process for producing multilayer printed wiring board

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07202418A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd Interlayer adhesive for multilayer printed wiring board, copper foil applied with adhesive and production of multilayer printed wiring board
JPH0883980A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Toagosei Co Ltd Manufacture of multilayer printed-wiring board
JPH08316642A (en) * 1995-05-19 1996-11-29 Toagosei Co Ltd Multilayer printed wiring board with interstitial via hole
JPH0992981A (en) * 1995-09-27 1997-04-04 Hitachi Chem Co Ltd Multilayer printed circuit board and its manufacture
JPH1187927A (en) * 1996-12-26 1999-03-30 Ajinomoto Co Inc Inter-layer adhesive film for multilayered printed wiring board and multilayered printed wiring board using the same
JPH11207868A (en) * 1998-01-29 1999-08-03 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition, adhesive sheet, metal foil with adhesive, and metal foil-clad laminate
JP2000036662A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000036660A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000036659A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000036661A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000049461A (en) * 1998-07-28 2000-02-18 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of multilayer printed wiring board

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07202418A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd Interlayer adhesive for multilayer printed wiring board, copper foil applied with adhesive and production of multilayer printed wiring board
JPH0883980A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Toagosei Co Ltd Manufacture of multilayer printed-wiring board
JPH08316642A (en) * 1995-05-19 1996-11-29 Toagosei Co Ltd Multilayer printed wiring board with interstitial via hole
JPH0992981A (en) * 1995-09-27 1997-04-04 Hitachi Chem Co Ltd Multilayer printed circuit board and its manufacture
JPH1187927A (en) * 1996-12-26 1999-03-30 Ajinomoto Co Inc Inter-layer adhesive film for multilayered printed wiring board and multilayered printed wiring board using the same
JPH11207868A (en) * 1998-01-29 1999-08-03 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition, adhesive sheet, metal foil with adhesive, and metal foil-clad laminate
JP2000036662A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000036660A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000036659A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000036661A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of build-up multilayer interconnection board
JP2000049461A (en) * 1998-07-28 2000-02-18 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of multilayer printed wiring board

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005032227A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-07 Ibiden Co., Ltd. Interlayer insulating layer for printed wiring board, printed wiring board and method for manufacturing same
US8021748B2 (en) 2003-09-29 2011-09-20 Ibiden Co., Ltd. Interlayer insulating layer for printed wiring board, printed wiring board and method for manufacturing same
JP2005219379A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Furukawa Circuit Foil Kk Composite material for substrates and circuit board using it
JP4615226B2 (en) * 2004-02-06 2011-01-19 古河電気工業株式会社 Composite material for substrate and circuit board using the same
JP2006019451A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Ibiden Co Ltd Printed-circuit board and interlayer insulating layer therefor
JP2006100463A (en) * 2004-09-29 2006-04-13 Ibiden Co Ltd Interlayer insulating layer for printed wiring board, printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2008251970A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Ajinomoto Co Inc Process for producing multilayer printed wiring board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5493853B2 (en) Epoxy resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, semiconductor device, insulating resin sheet, and method for producing multilayer printed wiring board
JP5344022B2 (en) Epoxy resin composition, prepreg, laminate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP5206600B2 (en) Epoxy resin composition, prepreg, laminate, resin sheet, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
KR20140011391A (en) Multilayer resin sheet, resin sheet laminate, cured multilayer resin sheet and method for producing same, multilayer resin sheet with metal foil, and semiconductor device
JP5381869B2 (en) Epoxy resin precursor composition, prepreg, laminate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP5482083B2 (en) LAMINATED BOARD FOR WIRING BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD, PRIMER LAYER RESIN FILM, MULTILAYER WIRING BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD
JP2015189884A (en) Thermosetting resin composition, resin sheet, prepreg and laminate sheet
JP2002261442A (en) Method of manufacturing multilayer printed wiring board
JP2693005B2 (en) Metal core substrate and manufacturing method thereof
JP6214336B2 (en) Insulating sheet manufacturing method
JP3838389B2 (en) Insulating material and multilayer printed wiring board using the same
JP2007194405A (en) Epoxy resin composition for heat conduction
JP5821845B2 (en) Resin composition used for formation of resin layer constituting metal base substrate, metal base substrate, and method of manufacturing metal base substrate
JP2007146095A (en) Resin composition, prepreg, and laminated board and printed circuit board produced by using the same
EP4141899A1 (en) Method of manufacturing inductor-embedded substrate
JPH0883979A (en) Manufacture of metal-based board
JP3390306B2 (en) Prepreg with carrier film for printed wiring boards
JP2008111188A (en) Copper foil for printed circuit board
JP2001119153A (en) Adhesive sheet and production method thereof and multilayer printed wiring board using adhesive sheet and production method thereof
JP2001119150A (en) Material for build-up wiring board and method for producing printed wiring board using it
JP3343330B2 (en) Method for producing insulating varnish, insulating varnish obtained by this method, and multilayer printed wiring board using this insulating varnish
JP3804812B2 (en) Method for producing insulating varnish
JP2001156459A (en) Manufacturing method for multilayer printed wiring board
JP3932635B2 (en) Insulating varnish and multilayer printed wiring board using the same
JP2022151865A (en) Laminated structure and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080117

A977 Report on retrieval

Effective date: 20100729

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100810

A02 Decision of refusal

Effective date: 20101207

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02