JP2002258092A - 光ファイバ - Google Patents
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/36—Dispersion modified fibres, e.g. wavelength or polarisation shifted, flattened or compensating fibres (DSF, DFF, DCF)
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- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 例えば波長１３００ｎｍ〜１６００ｎｍの範
囲内の設定波長における波長分割多重伝送を可能とす
る。 【解決手段】 光ファイバの最も内側に形成された第１
ガラス層１と第１ガラス層１の外周側に形成された第２
ガラス層２を有するコア６と、第２ガラス層２の外周側
に設けたクラッド５により光ファイバを形成する。コア
６の中心部にはＧｅを添加し、第１ガラス層１のクラッ
ド５に対する最大比屈折率差をΔ１、第２ガラス層２の
クラッド５に対する最小比屈折率差をΔ２としたとき、
０．３５％≦Δ１≦０．７％、Δ２≦０．３％、第１ガ
ラス層の外径をａ、第２ガラス層の外径をｂとしたと
き、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とし、第１ガラス層１
は屈折率分布形状をα乗とする。
囲内の設定波長における波長分割多重伝送を可能とす
る。 【解決手段】 光ファイバの最も内側に形成された第１
ガラス層１と第１ガラス層１の外周側に形成された第２
ガラス層２を有するコア６と、第２ガラス層２の外周側
に設けたクラッド５により光ファイバを形成する。コア
６の中心部にはＧｅを添加し、第１ガラス層１のクラッ
ド５に対する最大比屈折率差をΔ１、第２ガラス層２の
クラッド５に対する最小比屈折率差をΔ２としたとき、
０．３５％≦Δ１≦０．７％、Δ２≦０．３％、第１ガ
ラス層の外径をａ、第２ガラス層の外径をｂとしたと
き、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とし、第１ガラス層１
は屈折率分布形状をα乗とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、広い波長範囲で波
長多重伝送を可能とする光ファイバに関するものであ
る。
長多重伝送を可能とする光ファイバに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】情報社会の発展により、通信情報量が飛
躍的に増大する傾向にあり、このような情報の増大化に
伴い、波長多重伝送（ＷＤＭ伝送）技術が注目されてい
る。波長分割多重伝送は、複数の波長の光を１本の光フ
ァイバで伝送する方式であるため、大容量高速通信に適
した光伝送方式であり、現在、この伝送技術の検討が盛
んに行なわれている。
躍的に増大する傾向にあり、このような情報の増大化に
伴い、波長多重伝送（ＷＤＭ伝送）技術が注目されてい
る。波長分割多重伝送は、複数の波長の光を１本の光フ
ァイバで伝送する方式であるため、大容量高速通信に適
した光伝送方式であり、現在、この伝送技術の検討が盛
んに行なわれている。
【０００３】上記波長多重伝送用として適用される単一
モード光ファイバには、伝送損失が小さいことはもちろ
んのこと、非線形現象の１つである４光波混合によるノ
イズ発生を防止するため、使用波長域で分散値が零にな
らないことが要求される。なお、現在検討されている波
長多重伝送は、エルビウムドープ光ファイバ型光増幅器
の利得帯域である波長１．５５μｍ帯（例えば１５３０
ｎｍ〜１５７０ｎｍのように、波長１５５０ｎｍをほぼ
中心とした波長帯）で行なうものである。
モード光ファイバには、伝送損失が小さいことはもちろ
んのこと、非線形現象の１つである４光波混合によるノ
イズ発生を防止するため、使用波長域で分散値が零にな
らないことが要求される。なお、現在検討されている波
長多重伝送は、エルビウムドープ光ファイバ型光増幅器
の利得帯域である波長１．５５μｍ帯（例えば１５３０
ｎｍ〜１５７０ｎｍのように、波長１５５０ｎｍをほぼ
中心とした波長帯）で行なうものである。
【０００４】波長１．５５μｍ帯において分散値が零に
ならない光ファイバとして、１．３μｍ帯で零分散を有
するシングルモード光ファイバ（以下、単にシングルモ
ード光ファイバという）がある。シングルモード光ファ
イバは波長１．５５μｍ帯における分散値が大きいの
で、シングルモード光ファイバを波長多重伝送用に適用
する場合は、波長１．５５μｍ帯においてシングルモー
ド光ファイバの分散を補償する分散補償器を組み合わせ
るのが一般的である。
ならない光ファイバとして、１．３μｍ帯で零分散を有
するシングルモード光ファイバ（以下、単にシングルモ
ード光ファイバという）がある。シングルモード光ファ
イバは波長１．５５μｍ帯における分散値が大きいの
で、シングルモード光ファイバを波長多重伝送用に適用
する場合は、波長１．５５μｍ帯においてシングルモー
ド光ファイバの分散を補償する分散補償器を組み合わせ
るのが一般的である。
【０００５】また、従来開発された、波長１．５５μｍ
帯で分散値が零の分散シフト光ファイバの屈折率プロフ
ァイルを調整して零分散波長を僅かに短波長側又は長波
長側にシフトさせた光ファイバも、波長１．５５μｍ帯
において分散値が零にならない光ファイバとして提案さ
れている。この提案例１の光ファイバは、波長１．５５
μｍ帯において分散値の絶対値が小さいので、上記のよ
うな分散補償器は不要かあるいは使用する場合でも少な
い補償量でよい。
帯で分散値が零の分散シフト光ファイバの屈折率プロフ
ァイルを調整して零分散波長を僅かに短波長側又は長波
長側にシフトさせた光ファイバも、波長１．５５μｍ帯
において分散値が零にならない光ファイバとして提案さ
れている。この提案例１の光ファイバは、波長１．５５
μｍ帯において分散値の絶対値が小さいので、上記のよ
うな分散補償器は不要かあるいは使用する場合でも少な
い補償量でよい。
【０００６】しかしながら、この提案例１の光ファイバ
はＧｅの添加量が多く、モードフィールド径が小さいの
で波長１．５５μｍ帯における実効コア断面積が小さ
く、非線形性が強く現われる。したがって、提案例１の
光ファイバは、非線形現象の１つである四光波混合を抑
制しても、その他の非線形現象である自己位相変調（Ｓ
ＰＭ）や相互位相変調（ＳＰＭ）等による波形の乱れが
生じる。
はＧｅの添加量が多く、モードフィールド径が小さいの
で波長１．５５μｍ帯における実効コア断面積が小さ
く、非線形性が強く現われる。したがって、提案例１の
光ファイバは、非線形現象の１つである四光波混合を抑
制しても、その他の非線形現象である自己位相変調（Ｓ
ＰＭ）や相互位相変調（ＳＰＭ）等による波形の乱れが
生じる。
【０００７】そこで、提案例１の光ファイバを改良し、
提案例１と同様の分散特性を有し、かつ、波長１．５５
μｍ帯における実効コア断面積を７０μｍ２以上に拡大
した提案例２の光ファイバが提案されたが、この提案例
２の光ファイバもＧｅの添加量が多いことから伝送損失
は大きかった。
提案例１と同様の分散特性を有し、かつ、波長１．５５
μｍ帯における実効コア断面積を７０μｍ２以上に拡大
した提案例２の光ファイバが提案されたが、この提案例
２の光ファイバもＧｅの添加量が多いことから伝送損失
は大きかった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年の伝送
波長域拡大の要求に対応し、前記エルビウムドープファ
イバ型光増幅器の代わりに、ラマン増幅器を波長分割多
重伝送用に適用使用とすることが提案されるようになっ
た。このラマン増幅器を適用すると、任意の波長におい
て増幅利得を得ることができるので、例えば１．３μｍ
〜１．６μｍといった波長範囲内の任意の波長帯を波長
分割多重伝送用の波長帯として設定し、この設定波長帯
の光信号を用いて波長分割多重伝送を行なえることが期
待される。
波長域拡大の要求に対応し、前記エルビウムドープファ
イバ型光増幅器の代わりに、ラマン増幅器を波長分割多
重伝送用に適用使用とすることが提案されるようになっ
た。このラマン増幅器を適用すると、任意の波長におい
て増幅利得を得ることができるので、例えば１．３μｍ
〜１．６μｍといった波長範囲内の任意の波長帯を波長
分割多重伝送用の波長帯として設定し、この設定波長帯
の光信号を用いて波長分割多重伝送を行なえることが期
待される。
【０００９】しかしながら、上記のように、従来波長分
割多重伝送用に検討されてきた光ファイバは、いずれも
波長１．５５μｍ帯における波長分割多重伝送用として
検討が行なわれてきたため、上記設定波長帯の光信号を
用いた波長分割多重伝送を可能とする光ファイバではな
かった。
割多重伝送用に検討されてきた光ファイバは、いずれも
波長１．５５μｍ帯における波長分割多重伝送用として
検討が行なわれてきたため、上記設定波長帯の光信号を
用いた波長分割多重伝送を可能とする光ファイバではな
かった。
【００１０】本発明は上記課題を解決するために成され
たものであり、その目的は、例えば波長１．３μｍ〜
１．６μｍの範囲内の設定波長帯において高品質の波長
分割多重伝送を可能とすることができる光ファイバを提
供することにある。
たものであり、その目的は、例えば波長１．３μｍ〜
１．６μｍの範囲内の設定波長帯において高品質の波長
分割多重伝送を可能とすることができる光ファイバを提
供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は次のような構成をもって課題を解決するた
めの手段としている。すなわち、第１の発明は、少なく
ともコアの中心部にＧｅを添加してなる石英系光ファイ
バであって、波長１５２０ｎｍ〜波長１６００ｎｍにお
ける分散値を１０〜２２ｐｓ／ｋｍ・ｎｍとし、零分散
波長を１３５０±３０ｎｍとし、該零分散波長における
分散勾配を０．０７ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍより大きい値と
した構成をもって課題を解決する手段としている。
に、本発明は次のような構成をもって課題を解決するた
めの手段としている。すなわち、第１の発明は、少なく
ともコアの中心部にＧｅを添加してなる石英系光ファイ
バであって、波長１５２０ｎｍ〜波長１６００ｎｍにお
ける分散値を１０〜２２ｐｓ／ｋｍ・ｎｍとし、零分散
波長を１３５０±３０ｎｍとし、該零分散波長における
分散勾配を０．０７ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍより大きい値と
した構成をもって課題を解決する手段としている。
【００１２】また、第２の発明は、上記第１の発明の構
成に加え、波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を
９０μｍ２以上とした構成をもって課題を解決する手段
としている。
成に加え、波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を
９０μｍ２以上とした構成をもって課題を解決する手段
としている。
【００１３】さらに、第３の発明は、上記第１又は第２
の発明の構成に加え、波長１５５０ｎｍにおける伝送損
失を０．２１ｄＢ／ｋｍ以下とした構成をもって課題を
解決する手段としている。
の発明の構成に加え、波長１５５０ｎｍにおける伝送損
失を０．２１ｄＢ／ｋｍ以下とした構成をもって課題を
解決する手段としている。
【００１４】さらに、第４の発明は、上記第１又は第２
又は第３の発明の構成に加え、カットオフ波長を１３０
０ｎｍ未満とした構成をもって課題を解決する手段とし
ている。
又は第３の発明の構成に加え、カットオフ波長を１３０
０ｎｍ未満とした構成をもって課題を解決する手段とし
ている。
【００１５】さらに、第５の発明は、上記第１乃至第４
のいずれか一つの発明の構成に加え、波長１３００ｎｍ
〜波長１５５０ｎｍの波長範囲内における伝送損失値を
約０．３５ｄＢ／ｋｍ以下とした構成をもって課題を解
決する手段としている。
のいずれか一つの発明の構成に加え、波長１３００ｎｍ
〜波長１５５０ｎｍの波長範囲内における伝送損失値を
約０．３５ｄＢ／ｋｍ以下とした構成をもって課題を解
決する手段としている。
【００１６】さらに、第６の発明は、上記第１乃至第５
のいずれか一つの発明の構成に加え、前記コアは光ファ
イバの最も内側に形成された第１ガラス層と該第１ガラ
ス層の外周側に形成された第２ガラス層を有しており、
該第２ガラス層の外周側に屈折率分布の基準となる基準
層が設けられ、前記第１ガラス層は前記基準層よりも屈
折率が高く、かつ、屈折率分布形状がα乗を呈してお
り、前記第２ガラス層は前記第１ガラス層よりも屈折率
が低く前記基準層より屈折率が高い構成をもって課題を
解決する手段としている。
のいずれか一つの発明の構成に加え、前記コアは光ファ
イバの最も内側に形成された第１ガラス層と該第１ガラ
ス層の外周側に形成された第２ガラス層を有しており、
該第２ガラス層の外周側に屈折率分布の基準となる基準
層が設けられ、前記第１ガラス層は前記基準層よりも屈
折率が高く、かつ、屈折率分布形状がα乗を呈してお
り、前記第２ガラス層は前記第１ガラス層よりも屈折率
が低く前記基準層より屈折率が高い構成をもって課題を
解決する手段としている。
【００１７】さらに、第７の発明は、上記第６の発明の
構成に加え、前記第１ガラス層と第２ガラス層を同一プ
ロセスのＶＡＤ法で形成し、基準層を別工程で形成した
構成をもって課題を解決する手段としている。
構成に加え、前記第１ガラス層と第２ガラス層を同一プ
ロセスのＶＡＤ法で形成し、基準層を別工程で形成した
構成をもって課題を解決する手段としている。
【００１８】さらに、第８の発明は、上記第６の発明の
構成に加え、前記第１ガラス層と、第２ガラス層と、基
準層のコア寄りの一部を同一プロセスのＶＡＤ法で形成
した構成をもって課題を解決する手段としている。
構成に加え、前記第１ガラス層と、第２ガラス層と、基
準層のコア寄りの一部を同一プロセスのＶＡＤ法で形成
した構成をもって課題を解決する手段としている。
【００１９】さらに、第９の発明は、上記第８の発明の
構成に加え、前記ＶＡＤ法で形成する基準層にフッ素が
添加されている構成をもって課題を解決する手段として
いる。
構成に加え、前記ＶＡＤ法で形成する基準層にフッ素が
添加されている構成をもって課題を解決する手段として
いる。
【００２０】さらに、第１０の発明は、上記第６または
第７の発明の構成に加え、前記第２ガラス層と基準層と
の間に該基準層よりも屈折率が低い第３ガラス層が設け
られている構成をもって課題を解決する手段としてい
る。
第７の発明の構成に加え、前記第２ガラス層と基準層と
の間に該基準層よりも屈折率が低い第３ガラス層が設け
られている構成をもって課題を解決する手段としてい
る。
【００２１】さらに、第１１の発明は、上記第１０の発
明の構成に加え、前記第３ガラス層にはフッ素が添加さ
れている構成をもって課題を解決する手段としている。
明の構成に加え、前記第３ガラス層にはフッ素が添加さ
れている構成をもって課題を解決する手段としている。
【００２２】さらに、第１２の発明は、上記第６乃至第
１１のいずれか一つの発明の構成に加え、前記第１ガラ
ス層と第２ガラス層にはゲルマニウムが添加されている
構成をもって課題を解決する手段としている。
１１のいずれか一つの発明の構成に加え、前記第１ガラ
ス層と第２ガラス層にはゲルマニウムが添加されている
構成をもって課題を解決する手段としている。
【００２３】さらに、第１３の発明は、上記第６乃至第
１２のいずれか一つの発明の構成に加え、前記第１ガラ
ス層の基準層に対する最大比屈折率差をΔ１、第２ガラ
ス層の前記基準層に対する最小比屈折率差をΔ２とした
とき、０．３５％≦Δ１≦０．７％、Δ２≦０．３％、
第１ガラス層の外径をａ、第２ガラス層の外径をｂとし
たとき、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とした構成をもっ
て課題を解決する手段としている。
１２のいずれか一つの発明の構成に加え、前記第１ガラ
ス層の基準層に対する最大比屈折率差をΔ１、第２ガラ
ス層の前記基準層に対する最小比屈折率差をΔ２とした
とき、０．３５％≦Δ１≦０．７％、Δ２≦０．３％、
第１ガラス層の外径をａ、第２ガラス層の外径をｂとし
たとき、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とした構成をもっ
て課題を解決する手段としている。
【００２４】上記構成の本発明においては、零分散波長
を１３５０±３０ｎｍとし、該零分散波長における分散
勾配を０．０７ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍより大きい値として
いるので、零分散波長よりも２０ｎｍ長波長側における
分散値を１．４ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ以上とすることがで
き、零分散波長よりも２０ｎｍ長波長側の波長以上の波
長帯（例えば１４００ｎｍ以上の波長帯）において、あ
るいは零分散波長よりも２０ｎｍ短波長側の波長以下の
波長帯（例えば１３００ｎｍ以下の波長帯）において４
光波混合による信号光歪みを抑制できる。
を１３５０±３０ｎｍとし、該零分散波長における分散
勾配を０．０７ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍより大きい値として
いるので、零分散波長よりも２０ｎｍ長波長側における
分散値を１．４ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ以上とすることがで
き、零分散波長よりも２０ｎｍ長波長側の波長以上の波
長帯（例えば１４００ｎｍ以上の波長帯）において、あ
るいは零分散波長よりも２０ｎｍ短波長側の波長以下の
波長帯（例えば１３００ｎｍ以下の波長帯）において４
光波混合による信号光歪みを抑制できる。
【００２５】なお、零分散波長の上限を１２８０ｎｍと
すると、波長１３００ｎｍ帯で４光波混合による信号光
歪みを抑制した波長分割多重伝送を行なうことができ
る。
すると、波長１３００ｎｍ帯で４光波混合による信号光
歪みを抑制した波長分割多重伝送を行なうことができ
る。
【００２６】また、本発明においては、波長１５２０ｎ
ｍ〜波長１６００ｎｍにおける分散値を１０〜２２ｐｓ
／ｋｍ・ｎｍとしているので、少なくともこの波長範囲
内において４光波混合による信号光歪みを抑制可能とな
る。
ｍ〜波長１６００ｎｍにおける分散値を１０〜２２ｐｓ
／ｋｍ・ｎｍとしているので、少なくともこの波長範囲
内において４光波混合による信号光歪みを抑制可能とな
る。
【００２７】なお、波長１５２０ｎｍ〜波長１６００ｎ
ｍの波長範囲内において、信号伝送速度を例えば１０Ｇ
ｂｉｔ／Ｓ以上の高速度にする場合は、適宜の分散補償
手段を併用することが好ましい。
ｍの波長範囲内において、信号伝送速度を例えば１０Ｇ
ｂｉｔ／Ｓ以上の高速度にする場合は、適宜の分散補償
手段を併用することが好ましい。
【００２８】また、本発明において、波長１５５０ｎｍ
における実効コア断面積を９０μｍ ２以上とした構成に
おいては、波長１５５０ｎｍはもちろんのこと、その周
辺の波長帯（例えば１４００ｎｍ〜１６００ｎｍ）にお
いても実効コア断面積を大きくすることができるので、
４光波混合以外の非線形現象による信号光歪みも確実に
抑制可能となる。
における実効コア断面積を９０μｍ ２以上とした構成に
おいては、波長１５５０ｎｍはもちろんのこと、その周
辺の波長帯（例えば１４００ｎｍ〜１６００ｎｍ）にお
いても実効コア断面積を大きくすることができるので、
４光波混合以外の非線形現象による信号光歪みも確実に
抑制可能となる。
【００２９】さらに、本発明において、波長１５５０ｎ
ｍにおける伝送損失を０．２１ｄＢ／ｋｍ以下とした構
成においては、この波長における伝送損失を非常に小さ
くでき、より一層波長分割多重伝送に適した光ファイバ
にできる。
ｍにおける伝送損失を０．２１ｄＢ／ｋｍ以下とした構
成においては、この波長における伝送損失を非常に小さ
くでき、より一層波長分割多重伝送に適した光ファイバ
にできる。
【００３０】さらに、本発明において、カットオフ波長
を１３００ｎｍ未満とすることにより、波長１３００ｎ
ｍを越える波長帯における波長分割多重伝送の実現を図
ることができる。
を１３００ｎｍ未満とすることにより、波長１３００ｎ
ｍを越える波長帯における波長分割多重伝送の実現を図
ることができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１には、本発明に係る光ファイ
バの第１実施形態例の屈折率プロファイルが示されてい
る。
に基づいて説明する。図１には、本発明に係る光ファイ
バの第１実施形態例の屈折率プロファイルが示されてい
る。
【００３２】同図に示すように、本実施形態例の光ファ
イバは、光ファイバの最も内側に形成された第１ガラス
層１と該第１ガラス層１の外周側に形成された第２ガラ
ス層２を有するコア６を有している。第２ガラス層２の
外周側には屈折率分布の基準となる基準層としてのクラ
ッド５が設けられている。
イバは、光ファイバの最も内側に形成された第１ガラス
層１と該第１ガラス層１の外周側に形成された第２ガラ
ス層２を有するコア６を有している。第２ガラス層２の
外周側には屈折率分布の基準となる基準層としてのクラ
ッド５が設けられている。
【００３３】第１ガラス層１はクラッド５よりも屈折率
が高く、かつ、屈折率分布形状がα乗を呈しており、第
２ガラス層２は前記第１ガラス層１よりも屈折率が低く
クラッド５より屈折率が高い。すなわち、第１ガラス層
１のクラッド５に対する比屈折率差をΔ１とし、第２ガ
ラス層２のクラッド５に対する比屈折率差をΔ２とする
と、Δ１>Δ２である。
が高く、かつ、屈折率分布形状がα乗を呈しており、第
２ガラス層２は前記第１ガラス層１よりも屈折率が低く
クラッド５より屈折率が高い。すなわち、第１ガラス層
１のクラッド５に対する比屈折率差をΔ１とし、第２ガ
ラス層２のクラッド５に対する比屈折率差をΔ２とする
と、Δ１>Δ２である。
【００３４】このように、本実施形態例の光ファイバの
屈折率プロファイルは、いわゆる、デュアルコア構造で
あり、デュアルコア構造は、比較的簡単な構造であるた
め、製造コストの低減を図れる点で好ましい。
屈折率プロファイルは、いわゆる、デュアルコア構造で
あり、デュアルコア構造は、比較的簡単な構造であるた
め、製造コストの低減を図れる点で好ましい。
【００３５】本実施形態例の光ファイバは以下に示すよ
うにして製造されている。すなわち、まず、図２に示す
屈折率プロファイルを有してコア６の外周側に一部のク
ラッド５が形成されたガラス母材（多孔質母材）を、図
３に示すように、３本の反応用バーナ１１，１２，１３
を用いてＶＡＤ法により合成する。
うにして製造されている。すなわち、まず、図２に示す
屈折率プロファイルを有してコア６の外周側に一部のク
ラッド５が形成されたガラス母材（多孔質母材）を、図
３に示すように、３本の反応用バーナ１１，１２，１３
を用いてＶＡＤ法により合成する。
【００３６】この際、コア６を形成する反応用バーナ１
１，１２からの噴出ガスには、それぞれ四塩化ゲルマニ
ウムを混合し、それにより、コア６にはゲルマニウムを
添加し、クラッド５を形成する反応用バーナ１３からの
噴出ガスにはゲルマニウムを添加しないことによりクラ
ッド５にはゲルマニウムを添加しない。
１，１２からの噴出ガスには、それぞれ四塩化ゲルマニ
ウムを混合し、それにより、コア６にはゲルマニウムを
添加し、クラッド５を形成する反応用バーナ１３からの
噴出ガスにはゲルマニウムを添加しないことによりクラ
ッド５にはゲルマニウムを添加しない。
【００３７】なお、周知の如く、光ファイバはガラス母
材を線引きして得られるものであり、本実施形態例でも
この製造方法を適用している。したがって、図２の屈折
率プロファイルにおける比屈折率差Δ１、Δ２は図１と
同様であり、第１、第２ガラス層１，２の径が異なるも
のである。
材を線引きして得られるものであり、本実施形態例でも
この製造方法を適用している。したがって、図２の屈折
率プロファイルにおける比屈折率差Δ１、Δ２は図１と
同様であり、第１、第２ガラス層１，２の径が異なるも
のである。
【００３８】上記ガラス母材の合成後、ガラス母材を脱
水、透明ガラス化し、設定外径となるように延伸する。
その後、いわゆる外付け法によって残りのクラッド部分
を合成し、線引き用母材を得る。その後、ガラス外径が
１２５μｍとなるように線引きし、光ファイバ素線とす
る。なお、この光ファイバ素線において、脱ＯＨ基処理
を十分に施しており、また、この光ファイバ素線を用い
て光ファイバ心線を作製するときには、光ファイバ素線
の外周側に紫外線硬化樹脂の被覆を設け、外径２５０μ
ｍとした。
水、透明ガラス化し、設定外径となるように延伸する。
その後、いわゆる外付け法によって残りのクラッド部分
を合成し、線引き用母材を得る。その後、ガラス外径が
１２５μｍとなるように線引きし、光ファイバ素線とす
る。なお、この光ファイバ素線において、脱ＯＨ基処理
を十分に施しており、また、この光ファイバ素線を用い
て光ファイバ心線を作製するときには、光ファイバ素線
の外周側に紫外線硬化樹脂の被覆を設け、外径２５０μ
ｍとした。
【００３９】上記光ファイバ素線の光伝送特性を評価し
た結果、表１、図４、図５に示す結果が得られた。
た結果、表１、図４、図５に示す結果が得られた。
【００４０】
【表１】
【００４１】なお、以下に示す各表において、ａ／ｂは
第１ガラス層１の径ａと第２ガラス層２の径ｂとの比を
示し、１５５０分散値は波長１５５０ｎｍにおける分散
値、を示し、零分散勾配は零分散波長における分散勾配
を示し、Ａｅｆｆは波長１５５０ｎｍ（１．５５μｍ）
における実効コア断面積を示し、λｃは長さ２２ｍにお
けるカットオフ波長を示す。なお、カットオフ波長は、
光ファイバの長さや曲げ特性に依存するので、本実施形
態例において、１ｋｍ以上のケーブルとした場合、カッ
トオフ波長を１３００ｎｍ以下とすることができる。
第１ガラス層１の径ａと第２ガラス層２の径ｂとの比を
示し、１５５０分散値は波長１５５０ｎｍにおける分散
値、を示し、零分散勾配は零分散波長における分散勾配
を示し、Ａｅｆｆは波長１５５０ｎｍ（１．５５μｍ）
における実効コア断面積を示し、λｃは長さ２２ｍにお
けるカットオフ波長を示す。なお、カットオフ波長は、
光ファイバの長さや曲げ特性に依存するので、本実施形
態例において、１ｋｍ以上のケーブルとした場合、カッ
トオフ波長を１３００ｎｍ以下とすることができる。
【００４２】表１から明らかなように、本実施形態例で
は、波長１５５０ｎｍにおける分散値が１４．７５ｐｓ
／ｋｍ・ｎｍ、零分散波長が１３４７ｎｍ、零分散波長
における分散勾配が０．０８ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２、波長
１５５０ｎｍにおける実効コア断面積が１０２．７μｍ
２となった。また、表１には示されていないが、波長１
５５０ｎｍにおける直径３０ｍｍφでの曲げ損失は０．
１ｄＢ／ｍとなった。
は、波長１５５０ｎｍにおける分散値が１４．７５ｐｓ
／ｋｍ・ｎｍ、零分散波長が１３４７ｎｍ、零分散波長
における分散勾配が０．０８ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２、波長
１５５０ｎｍにおける実効コア断面積が１０２．７μｍ
２となった。また、表１には示されていないが、波長１
５５０ｎｍにおける直径３０ｍｍφでの曲げ損失は０．
１ｄＢ／ｍとなった。
【００４３】また、図４から明らかなように、本実施形
態例では、脱ＯＨ基処理を十分に施しているために波長
１３８０ｎｍ付近の伝送損失値が極端に大きくなること
はなく、波長１３００ｎｍ〜１６２０ｎｍに範囲におい
て、伝送損失を約０．３５ｄＢ以下に抑制することがで
きている。
態例では、脱ＯＨ基処理を十分に施しているために波長
１３８０ｎｍ付近の伝送損失値が極端に大きくなること
はなく、波長１３００ｎｍ〜１６２０ｎｍに範囲におい
て、伝送損失を約０．３５ｄＢ以下に抑制することがで
きている。
【００４４】なお、波長１３８０ｎｍ付近のＯＨ基吸収
ピークを抑制しない場合、波長１３８０ｎｍ付近の伝送
損失値（ピーク値）が例えば０．４ｄＢ／ｍ以上とな
り、そうなると、他の伝送損失が引っ張られることにな
るが、本実施形態例では、ＯＨ基による吸収を抑制して
いるので、他の領域における伝送損失値も安定してお
り、広い波長領域において、伝送損失の悪影響を受けず
に波長分割多重伝送を行なうことができる。
ピークを抑制しない場合、波長１３８０ｎｍ付近の伝送
損失値（ピーク値）が例えば０．４ｄＢ／ｍ以上とな
り、そうなると、他の伝送損失が引っ張られることにな
るが、本実施形態例では、ＯＨ基による吸収を抑制して
いるので、他の領域における伝送損失値も安定してお
り、広い波長領域において、伝送損失の悪影響を受けず
に波長分割多重伝送を行なうことができる。
【００４５】したがって、本実施形態例では、波長１５
５０ｎｍ付近の波長帯における波長分割多重伝送を良好
にできることを始めとし、波長約１２９０ｎｍ〜波長約
１３３０ｎｍおよび波長約１４００ｎｍ〜波長１６２０
ｎｍの広い範囲に渡って波長分割多重伝送を可能とする
ことができる。
５０ｎｍ付近の波長帯における波長分割多重伝送を良好
にできることを始めとし、波長約１２９０ｎｍ〜波長約
１３３０ｎｍおよび波長約１４００ｎｍ〜波長１６２０
ｎｍの広い範囲に渡って波長分割多重伝送を可能とする
ことができる。
【００４６】なお、前記提案例１、２の光ファイバは、
波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を８０μｍ２
以上に拡大しようとした場合に、曲げによる損失増がケ
ーブル使用に耐えうる限界値を越えてしまうため、波長
１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を８０μｍ２以上
に拡大することは困難であり、それ以外の波長帯におい
ても、本実施形態例の光ファイバに比べると実効コア断
面積が小さく、非線形現象の影響を受け易かった。
波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を８０μｍ２
以上に拡大しようとした場合に、曲げによる損失増がケ
ーブル使用に耐えうる限界値を越えてしまうため、波長
１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を８０μｍ２以上
に拡大することは困難であり、それ以外の波長帯におい
ても、本実施形態例の光ファイバに比べると実効コア断
面積が小さく、非線形現象の影響を受け易かった。
【００４７】それに対し、本実施形態例の光ファイバに
よれば、波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を９
０μｍ２以上に拡大し、かつ、上記の如く、零分散波長
を約１３５０ｎｍとし、さらに、この零分散波長におけ
る分散勾配を０．０８ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２としているの
で、非線形現象の影響を受け難く、広い波長帯において
波長分割多重伝送を可能とする優れた光ファイバとする
ことができる。
よれば、波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積を９
０μｍ２以上に拡大し、かつ、上記の如く、零分散波長
を約１３５０ｎｍとし、さらに、この零分散波長におけ
る分散勾配を０．０８ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２としているの
で、非線形現象の影響を受け難く、広い波長帯において
波長分割多重伝送を可能とする優れた光ファイバとする
ことができる。
【００４８】次に、本発明に係る光ファイバの第２実施
形態例について説明する。本第２実施形態例の光ファイ
バは、上記第１実施形態例とほぼ同様の屈折率プロファ
イルを有しているが、本第２実施形態例は上記第１実施
形態例と異なる製造方法を適用して形成されており、そ
れにより、クラッド５の第２ガラス層２寄りの一部に、
ゲルマニウムとフッ素を共にドープした構成としてい
る。
形態例について説明する。本第２実施形態例の光ファイ
バは、上記第１実施形態例とほぼ同様の屈折率プロファ
イルを有しているが、本第２実施形態例は上記第１実施
形態例と異なる製造方法を適用して形成されており、そ
れにより、クラッド５の第２ガラス層２寄りの一部に、
ゲルマニウムとフッ素を共にドープした構成としてい
る。
【００４９】すなわち、まず、本第２実施形態例では、
図７に示すように、３本の反応用バーナ１１，１２，１
３を用いて行なう際、コア６の形成用の反応用バーナ１
１，１２とクラッド５の形成用の反応用バーナ１３から
の噴出ガスに、それぞれ四塩化ゲルマニウムを混合し、
それにより、コア６と、クラッド５の第２ガラス層２寄
りの一部にゲルマニウムを添加する。
図７に示すように、３本の反応用バーナ１１，１２，１
３を用いて行なう際、コア６の形成用の反応用バーナ１
１，１２とクラッド５の形成用の反応用バーナ１３から
の噴出ガスに、それぞれ四塩化ゲルマニウムを混合し、
それにより、コア６と、クラッド５の第２ガラス層２寄
りの一部にゲルマニウムを添加する。
【００５０】そして、得られた多孔質母材を微量のフッ
素を含む雰囲気ガラス中で脱水、透明ガラス化し、それ
により、クラッドの第２ガラス２寄りの一部（ＶＡＤ法
により合成した部位）に、ゲルマニウムとフッ素を共に
ドープした構成とし、図６に示す屈折率プロファイルを
有するガラス母材を得る。そして、本第２実施形態例で
は、これらのドーパントのバランスによって、この部分
の屈折率を外付け法により形成されるクラッド５の屈折
率とほぼ同一とした。
素を含む雰囲気ガラス中で脱水、透明ガラス化し、それ
により、クラッドの第２ガラス２寄りの一部（ＶＡＤ法
により合成した部位）に、ゲルマニウムとフッ素を共に
ドープした構成とし、図６に示す屈折率プロファイルを
有するガラス母材を得る。そして、本第２実施形態例で
は、これらのドーパントのバランスによって、この部分
の屈折率を外付け法により形成されるクラッド５の屈折
率とほぼ同一とした。
【００５１】なお、本第２実施形態例でも、上記透明ガ
ラス化後の製造工程は、上記第１実施形態例と同様にし
た。
ラス化後の製造工程は、上記第１実施形態例と同様にし
た。
【００５２】本実施形態例の光ファイバについて、上記
光ファイバ素線の伝送特性の評価結果を、表２、図８、
図９にそれぞれ示す。
光ファイバ素線の伝送特性の評価結果を、表２、図８、
図９にそれぞれ示す。
【００５３】
【表２】
【００５４】表２から明らかなように、本第２実施形態
例では、波長１５５０ｎｍにおける分散値が１４．０５
ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ、零分散波長が１３５６ｎｍ、零分散
波長における分散勾配が０．０８ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２、
波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積が９９．３μ
ｍ２となった。
例では、波長１５５０ｎｍにおける分散値が１４．０５
ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ、零分散波長が１３５６ｎｍ、零分散
波長における分散勾配が０．０８ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２、
波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積が９９．３μ
ｍ２となった。
【００５５】なお、表２には示されていないが、本第２
実施形態例においても、波長１５５０ｎｍにおける直径
３０ｍｍφでの曲げ損失は０．１ｄＢ／ｍとなり、ま
た、本第２実施形態例でも、１ｋｍ以上のケーブルとし
た場合、カットオフ波長は１３００ｎｍ以下となる。
実施形態例においても、波長１５５０ｎｍにおける直径
３０ｍｍφでの曲げ損失は０．１ｄＢ／ｍとなり、ま
た、本第２実施形態例でも、１ｋｍ以上のケーブルとし
た場合、カットオフ波長は１３００ｎｍ以下となる。
【００５６】本第２実施形態例も上記第１実施形態例と
ほぼ同様の効果を奏することができ、本第２実施形態例
では、４光波混合の発生を考慮した波長分割多重伝送可
能な波長領域を１２９０ｎｍ〜１３４０ｎｍ、１３８０
ｎｍ〜１６２０ｎｍの非常に広い範囲にすることができ
る。また、本第２実施形態例においては、波長１５５０
ｎｍにおける伝送損失値が０．１９４ｄＢ／ｋｍであ
り、上記第１実施形態例よりもさらに低伝送損失とする
ことができた。
ほぼ同様の効果を奏することができ、本第２実施形態例
では、４光波混合の発生を考慮した波長分割多重伝送可
能な波長領域を１２９０ｎｍ〜１３４０ｎｍ、１３８０
ｎｍ〜１６２０ｎｍの非常に広い範囲にすることができ
る。また、本第２実施形態例においては、波長１５５０
ｎｍにおける伝送損失値が０．１９４ｄＢ／ｋｍであ
り、上記第１実施形態例よりもさらに低伝送損失とする
ことができた。
【００５７】図１０には、本発明に係る光ファイバの第
３実施形態例の屈折率プロファイルが示されている。本
第３実施形態例の光ファイバは、上記第１、第２実施形
態例と同様に、第１、第２ガラス層１，２およびクラッ
ド５（基準層）を有し、さらに、本第３実施形態例で
は、第２ガラス層２とクラッド５との間にクラッド５よ
りも屈折率が低い第３ガラス層３を設けて光ファイバを
形成している。第１ガラス層と第２ガラス層にはゲルマ
ニウムが添加され、第３ガラス層にはフッ素が添加され
ている。
３実施形態例の屈折率プロファイルが示されている。本
第３実施形態例の光ファイバは、上記第１、第２実施形
態例と同様に、第１、第２ガラス層１，２およびクラッ
ド５（基準層）を有し、さらに、本第３実施形態例で
は、第２ガラス層２とクラッド５との間にクラッド５よ
りも屈折率が低い第３ガラス層３を設けて光ファイバを
形成している。第１ガラス層と第２ガラス層にはゲルマ
ニウムが添加され、第３ガラス層にはフッ素が添加され
ている。
【００５８】本第３実施形態例では、まず、図１１に示
すＶＡＤ合成範囲（コア６となる部位）を、図１２に示
すように２本の反応用バーナ１１，１２を用いてＶＡＤ
法により合成する。反応用バーナ１１，１２からの噴出
ガスには、それぞれ四塩化ゲルマニウムを混合し、それ
により、第１、第２ガラス層１，２にゲルマニウムを添
加している。
すＶＡＤ合成範囲（コア６となる部位）を、図１２に示
すように２本の反応用バーナ１１，１２を用いてＶＡＤ
法により合成する。反応用バーナ１１，１２からの噴出
ガスには、それぞれ四塩化ゲルマニウムを混合し、それ
により、第１、第２ガラス層１，２にゲルマニウムを添
加している。
【００５９】そして、得られた多孔質母材を微量のフッ
素を含む雰囲気ガラス中で脱水、透明ガラス化し、設定
外径になるように延伸した後、外付け法により第３ガラ
ス層３を合成した。この第３ガラス層３の脱水、透明ガ
ラス化は微量のフッ素を含む雰囲気ガス中で行ない、フ
ッ素を含有するガラスとした。その後、クラッド５の合
成時にはフッ素を添加せず、クラッド５は純粋石英とし
た。そして、この母材を線引きした光ファイバ素線と
し、伝送特性等を測定した結果が表３、図１３、図１４
にそれぞれ示されている。
素を含む雰囲気ガラス中で脱水、透明ガラス化し、設定
外径になるように延伸した後、外付け法により第３ガラ
ス層３を合成した。この第３ガラス層３の脱水、透明ガ
ラス化は微量のフッ素を含む雰囲気ガス中で行ない、フ
ッ素を含有するガラスとした。その後、クラッド５の合
成時にはフッ素を添加せず、クラッド５は純粋石英とし
た。そして、この母材を線引きした光ファイバ素線と
し、伝送特性等を測定した結果が表３、図１３、図１４
にそれぞれ示されている。
【００６０】
【表３】
【００６１】表３から明らかなように、本第３実施形態
例では、波長１５５０ｎｍにおける分散値が１５．０５
ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ、零分散波長が１３７０ｎｍ、零分散
波長における分散勾配が０．０９ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２、
波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積が９５．４μ
ｍ２となった。
例では、波長１５５０ｎｍにおける分散値が１５．０５
ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ、零分散波長が１３７０ｎｍ、零分散
波長における分散勾配が０．０９ｐｓ／ｋｍ・ｎｍ２、
波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面積が９５．４μ
ｍ２となった。
【００６２】なお、本第３実施形態例においては、カッ
トオフ波長は長さ２２ｍにおいても１３００ｎｍ以下と
することができた。また、表には示されていないが、波
長１５５０ｎｍにおける直径３０ｍｍφでの曲げ損失は
０．４ｄＢ／ｍとなった。
トオフ波長は長さ２２ｍにおいても１３００ｎｍ以下と
することができた。また、表には示されていないが、波
長１５５０ｎｍにおける直径３０ｍｍφでの曲げ損失は
０．４ｄＢ／ｍとなった。
【００６３】本第３実施形態例も上記第１、第２実施形
態例とほぼ同様の効果を奏することができ、本第３実施
形態例では、４光波混合の発生を考慮した波長分割多重
伝送可能な波長領域を１２９０ｎｍ〜１３４０ｎｍ、１
３８０ｎｍ〜１６２０ｎｍの非常に広い範囲にすること
ができる。また、本第３実施形態例においては、波長１
５５０ｎｍにおける伝送損失値が０．１９３ｄＢ／ｋｍ
であり、上記第１、第２実施形態例よりもさらに低伝送
損失とすることができた。
態例とほぼ同様の効果を奏することができ、本第３実施
形態例では、４光波混合の発生を考慮した波長分割多重
伝送可能な波長領域を１２９０ｎｍ〜１３４０ｎｍ、１
３８０ｎｍ〜１６２０ｎｍの非常に広い範囲にすること
ができる。また、本第３実施形態例においては、波長１
５５０ｎｍにおける伝送損失値が０．１９３ｄＢ／ｋｍ
であり、上記第１、第２実施形態例よりもさらに低伝送
損失とすることができた。
【００６４】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
ることはなく、様々な実施の態様を採り得る。例えば本
発明の光ファイバは、上記各実施形態例に示した屈折率
プロファイルを有するとは限らず、上記各実施形態例の
ような特性を有する光となるように適宜の屈折率プロフ
ァイルに設定されるものである。
ることはなく、様々な実施の態様を採り得る。例えば本
発明の光ファイバは、上記各実施形態例に示した屈折率
プロファイルを有するとは限らず、上記各実施形態例の
ような特性を有する光となるように適宜の屈折率プロフ
ァイルに設定されるものである。
【００６５】例えば図１、図１０に示すような屈折率プ
ロファイルを有し、第１ガラス層の基準層に対する最大
比屈折率差Δ１を、０．３５％≦Δ１≦０．７％、第２
ガラス層の前記基準層に対する最小比屈折率差Δ２を、
Δ２≦０．３％、第１ガラス層の外径ａと第２ガラス層
の外径ｂの比を、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とする
と、上記第１〜第３実施形態例のような特性を有する光
ファイバを構成することができる。
ロファイルを有し、第１ガラス層の基準層に対する最大
比屈折率差Δ１を、０．３５％≦Δ１≦０．７％、第２
ガラス層の前記基準層に対する最小比屈折率差Δ２を、
Δ２≦０．３％、第１ガラス層の外径ａと第２ガラス層
の外径ｂの比を、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とする
と、上記第１〜第３実施形態例のような特性を有する光
ファイバを構成することができる。
【００６６】また、上記各実施形態例では、屈折率分布
の基準となる基準層の内側に２層または３層のガラス層
を設けて形成したが、本発明の光ファイバは、前記基準
層の内側に４層以上のガラス層を設けて形成してもよ
い。
の基準となる基準層の内側に２層または３層のガラス層
を設けて形成したが、本発明の光ファイバは、前記基準
層の内側に４層以上のガラス層を設けて形成してもよ
い。
【００６７】
【発明の効果】本発明によれば、零分散波長を１３５０
±３０ｎｍとし、該零分散波長における分散勾配を０．
０７ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍより大きい値としているので、
零分散波長±２０ｎｍを除く波長帯（例えば１３００ｎ
ｍ付近および１４００ｎｍ以上の波長帯）において４光
波混合による信号光歪みを抑制できるし、波長１５２０
ｎｍ〜波長１６００ｎｍにおける分散値を１０〜２２ｐ
ｓ／ｋｍ・ｎｍとしているので、少なくともこの波長範
囲内において４光波混合による信号光歪みを抑制可能と
なり、広い波長範囲内の設定波長帯において波長分割多
重伝送を可能にできる。
±３０ｎｍとし、該零分散波長における分散勾配を０．
０７ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍより大きい値としているので、
零分散波長±２０ｎｍを除く波長帯（例えば１３００ｎ
ｍ付近および１４００ｎｍ以上の波長帯）において４光
波混合による信号光歪みを抑制できるし、波長１５２０
ｎｍ〜波長１６００ｎｍにおける分散値を１０〜２２ｐ
ｓ／ｋｍ・ｎｍとしているので、少なくともこの波長範
囲内において４光波混合による信号光歪みを抑制可能と
なり、広い波長範囲内の設定波長帯において波長分割多
重伝送を可能にできる。
【００６８】また、本発明において、波長１５５０ｎｍ
における実効コア断面積を９０μｍ ２以上とした構成に
よれば、波長１５５０ｎｍはもちろんのこと、その周辺
の波長帯（例えば１４００ｎｍ〜１６００ｎｍ）におい
ても実効コア断面積を大きくすることができるので、４
光波混合以外の非線形現象による信号光歪みも確実に抑
制可能でき、より一層高品質の波長分割多重伝送を可能
にできる。
における実効コア断面積を９０μｍ ２以上とした構成に
よれば、波長１５５０ｎｍはもちろんのこと、その周辺
の波長帯（例えば１４００ｎｍ〜１６００ｎｍ）におい
ても実効コア断面積を大きくすることができるので、４
光波混合以外の非線形現象による信号光歪みも確実に抑
制可能でき、より一層高品質の波長分割多重伝送を可能
にできる。
【００６９】さらに、本発明において、波長１５５０ｎ
ｍにおける伝送損失を０．２１ｄＢ／ｋｍ以下とした構
成によれば、この波長における伝送損失を非常に小さく
でき、より一層波長分割多重伝送に適した光ファイバに
できる。
ｍにおける伝送損失を０．２１ｄＢ／ｋｍ以下とした構
成によれば、この波長における伝送損失を非常に小さく
でき、より一層波長分割多重伝送に適した光ファイバに
できる。
【００７０】さらに、本発明において、カットオフ波長
を１３００ｎｍ未満とした構成によれば、波長１３００
ｎｍを越える波長帯における波長分割多重伝送の実現を
図ることができる。
を１３００ｎｍ未満とした構成によれば、波長１３００
ｎｍを越える波長帯における波長分割多重伝送の実現を
図ることができる。
【００７１】さらに、本発明において、コアを、第１ガ
ラス層と第２ガラス層を有する構成とし、第２ガラス層
の外周側に屈折率分布の基準となる基準層を設けて、第
１ガラス層の屈折率を基準層よりも高くし、第２ガラス
層の屈折率を第１ガラス層よりも低く基準層よりも高く
し、第１ガラス層の屈折率をα乗とした構成によれば、
上記効果を奏する光ファイバを比較的簡単に製造でき、
歩留まりも高くできる。
ラス層と第２ガラス層を有する構成とし、第２ガラス層
の外周側に屈折率分布の基準となる基準層を設けて、第
１ガラス層の屈折率を基準層よりも高くし、第２ガラス
層の屈折率を第１ガラス層よりも低く基準層よりも高く
し、第１ガラス層の屈折率をα乗とした構成によれば、
上記効果を奏する光ファイバを比較的簡単に製造でき、
歩留まりも高くできる。
【００７２】さらに、この構成において、第１ガラス層
と第２ガラス層を同一プロセスのＶＡＤ法で形成し、基
準層を別工程で形成したり、第１ガラス層と、第２ガラ
ス層と、基準層のコア寄りの一部を同一プロセスのＶＡ
Ｄ法で形成したりすることにより、さらに容易に光ファ
イバを製造できる。
と第２ガラス層を同一プロセスのＶＡＤ法で形成し、基
準層を別工程で形成したり、第１ガラス層と、第２ガラ
ス層と、基準層のコア寄りの一部を同一プロセスのＶＡ
Ｄ法で形成したりすることにより、さらに容易に光ファ
イバを製造できる。
【００７３】さらに、本発明の光ファイバは、上記屈折
率プロファイルに加えて第２ガラス層と基準層との間に
該基準層よりも屈折率が低い第３ガラス層を設けても、
同様に歩留まり良く光ファイバを製造できる。
率プロファイルに加えて第２ガラス層と基準層との間に
該基準層よりも屈折率が低い第３ガラス層を設けても、
同様に歩留まり良く光ファイバを製造できる。
【００７４】さらに、本発明の光ファイバは、ＶＡＤ法
で形成する基準層にフッ素を添加したり、第３ガラス層
にはフッ素を添加したり、第１ガラス層と第２ガラス層
にゲルマニウムを添加したりして構成することにより、
上記屈折率プロファイルを容易に実現でき、上記効果を
そうする光ファイバを容易に形成できる。
で形成する基準層にフッ素を添加したり、第３ガラス層
にはフッ素を添加したり、第１ガラス層と第２ガラス層
にゲルマニウムを添加したりして構成することにより、
上記屈折率プロファイルを容易に実現でき、上記効果を
そうする光ファイバを容易に形成できる。
【００７５】さらに、本発明において、第１ガラス層の
基準層に対する最大比屈折率差をΔ１、第２ガラス層の
前記基準層に対する最小比屈折率差をΔ２としたとき、
０．３５％≦Δ１≦０．７％、Δ２≦０．３％、第１ガ
ラス層の外径をａ、第２ガラス層の外径をｂとしたと
き、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とした構成によれば、
屈折率プロファイルを詳細に決定し、上記効果を奏する
光ファイバを確実に得ることができる。
基準層に対する最大比屈折率差をΔ１、第２ガラス層の
前記基準層に対する最小比屈折率差をΔ２としたとき、
０．３５％≦Δ１≦０．７％、Δ２≦０．３％、第１ガ
ラス層の外径をａ、第２ガラス層の外径をｂとしたと
き、０．３≦（ａ／ｂ）≦０．７とした構成によれば、
屈折率プロファイルを詳細に決定し、上記効果を奏する
光ファイバを確実に得ることができる。
【図１】本発明に係る光ファイバの第１実施形態例の屈
折率プロファイルを示す説明図である。
折率プロファイルを示す説明図である。
【図２】上記実施形態例の光ファイバ製造に用いられる
ガラス母材の屈折率プロファイルを示す説明図である。
ガラス母材の屈折率プロファイルを示す説明図である。
【図３】上記第１実施形態例の光ファイバのガラス母材
製造工程を示す説明図である。
製造工程を示す説明図である。
【図４】上記第１実施形態例の伝送損失特性を示すグラ
フである。
フである。
【図５】上記第１実施形態例の分散特性を示すグラフで
ある。
ある。
【図６】上記第２実施形態例の光ファイバ製造に用いら
れるガラス母材の屈折率プロファイルを示す説明図であ
る。
れるガラス母材の屈折率プロファイルを示す説明図であ
る。
【図７】上記第２実施形態例の光ファイバのガラス母材
製造工程を示す説明図である。
製造工程を示す説明図である。
【図８】上記第２実施形態例の伝送損失特性を示すグラ
フである。
フである。
【図９】上記第２実施形態例の分散特性を示すグラフで
ある。
ある。
【図１０】本発明に係る光ファイバの第３実施形態例の
屈折率プロファイルを示す説明図である。
屈折率プロファイルを示す説明図である。
【図１１】上記第３実施形態例の光ファイバ製造に用い
られるガラス母材の屈折率プロファイルを示す説明図で
ある。
られるガラス母材の屈折率プロファイルを示す説明図で
ある。
【図１２】上記第３実施形態例の光ファイバのガラス母
材製造工程を示す説明図である。
材製造工程を示す説明図である。
【図１３】上記第３実施形態例の伝送損失特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図１４】上記第３実施形態例の分散特性を示すグラフ
である。
である。
１ 第１ガラス層 ２ 第２ガラス層 ３ 第３ガラス層 ５ クラッド ６ コア １１，１２，１３ バーナ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神谷 保 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号 古 河電気工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H050 AB03Z AB05Z AB10Y AC09 AC15 AC24 AC38 AC71 AC72 AC73 AC75 AC76 AD01 4G021 CA14 EA01 EA03
Claims (13)
- 【請求項１】 少なくともコアの中心部にＧｅを添加し
てなる石英系光ファイバであって、波長１５２０ｎｍ〜
波長１６００ｎｍにおける分散値を１０〜２２ｐｓ／ｋ
ｍ・ｎｍとし、零分散波長を１３５０±３０ｎｍとし、
該零分散波長における分散勾配を０．０７ｐｓ／ｎｍ２
／ｋｍより大きい値としたことを特徴とする光ファイ
バ。 - 【請求項２】 波長１５５０ｎｍにおける実効コア断面
積を９０μｍ２以上としたことを特徴とする請求項１記
載の光ファイバ。 - 【請求項３】 波長１５５０ｎｍにおける伝送損失を
０．２１ｄＢ／ｋｍ以下としたことを特徴とする請求項
１又は請求項２記載の光ファイバ。 - 【請求項４】 カットオフ波長を１３００ｎｍ未満とし
たことを特徴とする請求項１又は請求項２又は請求項３
記載の光ファイバ。 - 【請求項５】 波長１３００ｎｍ〜波長１５５０ｎｍの
波長範囲内における伝送損失値を約０．３５ｄＢ／ｋｍ
以下としたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のい
ずれか一つに記載の光ファイバ。 - 【請求項６】 コアは光ファイバの最も内側に形成され
た第１ガラス層と該第１ガラス層の外周側に形成された
第２ガラス層を有しており、該第２ガラス層の外周側に
は屈折率分布の基準となる基準層が設けられ、前記第１
ガラス層は前記基準層よりも屈折率が高く、かつ、屈折
率分布形状がα乗を呈しており、前記第２ガラス層は前
記第１ガラス層よりも屈折率が低く前記基準層より屈折
率が高いことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいず
れか一つに記載の光ファイバ。 - 【請求項７】 第１ガラス層と第２ガラス層を同一プロ
セスのＶＡＤ法で形成し、基準層を別工程で形成したこ
とを特徴とする請求項６記載の光ファイバ。 - 【請求項８】 第１ガラス層と、第２ガラス層と、基準
層のコア寄りの一部を同一プロセスのＶＡＤ法で形成し
たことを特徴とする請求項６記載の光ファイバ。 - 【請求項９】 ＶＡＤ法で形成する基準層にフッ素が添
加されていることを特徴とする請求項８記載の光ファイ
バ。 - 【請求項１０】 第２ガラス層と基準層との間に該基準
層よりも屈折率が低い第３ガラス層が設けられているこ
とを特徴とする請求項６又は請求項７記載の光ファイ
バ。 - 【請求項１１】 第３ガラス層にはフッ素が添加されて
いることを特徴とする請求項１０記載の光ファイバ。 - 【請求項１２】 第１ガラス層と第２ガラス層にはゲル
マニウムが添加されていることを特徴とする請求項６乃
至請求項１１のいずれか一つに記載の光ファイバ。 - 【請求項１３】 第１ガラス層の基準層に対する最大比
屈折率差をΔ１、第２ガラス層の前記基準層に対する最
小比屈折率差をΔ２としたとき、０．３５％≦Δ１≦
０．７％、Δ２≦０．３％、第１ガラス層の外径をａ、
第２ガラス層の外径をｂとしたとき、０．３≦（ａ／
ｂ）≦０．７としたことを特徴とする請求項６乃至請求
項１２のいずれか一つに記載の光ファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001056889A JP3758981B2 (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | 光ファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001056889A JP3758981B2 (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | 光ファイバ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002258092A true JP2002258092A (ja) | 2002-09-11 |
| JP3758981B2 JP3758981B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=18916844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001056889A Expired - Fee Related JP3758981B2 (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | 光ファイバ |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3758981B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1466873A2 (en) * | 2003-04-08 | 2004-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass preform for an optical fiber and manufacturing method thereof |
| WO2004092794A1 (ja) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Fujikura Ltd. | 光ファイバ |
| EP1441245A3 (en) * | 2003-01-22 | 2005-01-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical fiber |
| JP2013035722A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-02-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 |
-
2001
- 2001-03-01 JP JP2001056889A patent/JP3758981B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1441245A3 (en) * | 2003-01-22 | 2005-01-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical fiber |
| EP1466873A2 (en) * | 2003-04-08 | 2004-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass preform for an optical fiber and manufacturing method thereof |
| EP1466873A3 (en) * | 2003-04-08 | 2011-01-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass preform for an optical fiber and manufacturing method thereof |
| WO2004092794A1 (ja) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Fujikura Ltd. | 光ファイバ |
| US7164835B2 (en) | 2003-04-11 | 2007-01-16 | Fujikura, Ltd. | Optical fiber |
| JP2013035722A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-02-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 |
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|---|---|
| JP3758981B2 (ja) | 2006-03-22 |
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