JP2002255887A - トロポロン化合物の精製方法 - Google Patents
トロポロン化合物の精製方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 トロポロン化合物の製造において、安価且つ
簡便な方法で製品純度および白色度を効率的に高めるこ
とができる有用な精製方法を提供する。 【解決手段】 シクロペンタジエン類とジクロロケテン
とを反応させてジクロロケテン付加体を得、該ジクロロ
ケテン付加体を加溶媒分解することによって得られた粗
トロポロン化合物の精製方法であって、１種もしくは２
種以上の物質よりなりＨｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パ
ラメータδが８．０以上の溶媒を用いて粗トロポロン化
合物を晶析することを特徴とするトロポロン化合物の精
製方法。
簡便な方法で製品純度および白色度を効率的に高めるこ
とができる有用な精製方法を提供する。 【解決手段】 シクロペンタジエン類とジクロロケテン
とを反応させてジクロロケテン付加体を得、該ジクロロ
ケテン付加体を加溶媒分解することによって得られた粗
トロポロン化合物の精製方法であって、１種もしくは２
種以上の物質よりなりＨｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パ
ラメータδが８．０以上の溶媒を用いて粗トロポロン化
合物を晶析することを特徴とするトロポロン化合物の精
製方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トロポロン化合物
の精製方法に関するものである。さらに詳しくは、抗菌
・抗カビ作用をはじめ防虫作用などにも優れる有用な物
質であるトロポロン化合物の製造において、安価且つ簡
便な方法で製品純度および白色度を効率的に高めること
ができる有用な精製方法に関する。
の精製方法に関するものである。さらに詳しくは、抗菌
・抗カビ作用をはじめ防虫作用などにも優れる有用な物
質であるトロポロン化合物の製造において、安価且つ簡
便な方法で製品純度および白色度を効率的に高めること
ができる有用な精製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】トロポロン化合物の合成法は種々知られ
ている。その中で、シクロペンタジエンにジクロロケテ
ンを付加させ、得られたジクロロケテン付加体を加溶媒
分解する方法は、シクロペンタジエンなどの原料が入手
しやすく工程数も少ないので、工業的に実施する上で有
利な方法である。しかしながらこの方法では、ジクロロ
ケテン付加反応および加溶媒分解反応においてトロポロ
ン化合物と分離困難な雑多な不純物が副生するという問
題があった。こうした不純物を除き、高純度のトロポロ
ン化合物を得るために、従来種々の方法が採用されてい
る。
ている。その中で、シクロペンタジエンにジクロロケテ
ンを付加させ、得られたジクロロケテン付加体を加溶媒
分解する方法は、シクロペンタジエンなどの原料が入手
しやすく工程数も少ないので、工業的に実施する上で有
利な方法である。しかしながらこの方法では、ジクロロ
ケテン付加反応および加溶媒分解反応においてトロポロ
ン化合物と分離困難な雑多な不純物が副生するという問
題があった。こうした不純物を除き、高純度のトロポロ
ン化合物を得るために、従来種々の方法が採用されてい
る。
【０００３】例えば特公昭５１−３３９０１号公報に
は、上記の合成法で得られた粗トロポロン化合物（ヒノ
キチオール）に１０％水酸化ナトリウムを加えて酸性成
分を抽出除去した後、希塩酸を加えてトロポロン化合物
を析出させてエーテル抽出し、該エーテル層から８５％
リン酸でトロポロン化合物を抽出した後リン酸層を水で
希釈してトロポロン化合物を析出させるという極めて煩
雑な精製を施した後さらにカラムクロマトグラフィーと
リグロインによる晶析を実施するという精製法が記され
ている。このような精製法は、実験室規模では辛うじて
実施可能であるが、工程数が多く且つ煩雑な操作を要す
るので精製コストが極めて高く、工業的規模では到底実
施できるものではない。
は、上記の合成法で得られた粗トロポロン化合物（ヒノ
キチオール）に１０％水酸化ナトリウムを加えて酸性成
分を抽出除去した後、希塩酸を加えてトロポロン化合物
を析出させてエーテル抽出し、該エーテル層から８５％
リン酸でトロポロン化合物を抽出した後リン酸層を水で
希釈してトロポロン化合物を析出させるという極めて煩
雑な精製を施した後さらにカラムクロマトグラフィーと
リグロインによる晶析を実施するという精製法が記され
ている。このような精製法は、実験室規模では辛うじて
実施可能であるが、工程数が多く且つ煩雑な操作を要す
るので精製コストが極めて高く、工業的規模では到底実
施できるものではない。
【０００４】特開平０８−０４０９７１号公報には、上
記の合成法で得られた粗トロポロン化合物（ヒノキチオ
ール）を減圧下蒸留した後リグロインで晶析するという
方法が記されている。この方法は比較的簡便ではある
が、本発明者らの実験の結果この方法による精製効果は
十分なものではなく、白色度の低い結晶しか得られず、
近年特に精製度の要求水準が高度化している化粧品用途
などへの応用は困難であった。以上のように従来技術で
は、前記の合成法により製造された粗トロポロン化合物
を、簡便且つ効果的に精製することは困難であった。
記の合成法で得られた粗トロポロン化合物（ヒノキチオ
ール）を減圧下蒸留した後リグロインで晶析するという
方法が記されている。この方法は比較的簡便ではある
が、本発明者らの実験の結果この方法による精製効果は
十分なものではなく、白色度の低い結晶しか得られず、
近年特に精製度の要求水準が高度化している化粧品用途
などへの応用は困難であった。以上のように従来技術で
は、前記の合成法により製造された粗トロポロン化合物
を、簡便且つ効果的に精製することは困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の合成
法により製造された粗トロポロン化合物を、簡便且つ効
果的に精製する方法を提供することを目的とし、特に工
業的規模での実施に好適な方法を提供することを目的と
する。
法により製造された粗トロポロン化合物を、簡便且つ効
果的に精製する方法を提供することを目的とし、特に工
業的規模での実施に好適な方法を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、前記の合成法によ
り製造された粗トロポロン化合物に含有される不純物
が、特定の溶解度パラメータを有する溶媒で晶析するこ
とにより効率的に分離できることを見出し、本発明を完
成した。すなわち、本発明は以下のとおりである。
を解決するために鋭意検討した結果、前記の合成法によ
り製造された粗トロポロン化合物に含有される不純物
が、特定の溶解度パラメータを有する溶媒で晶析するこ
とにより効率的に分離できることを見出し、本発明を完
成した。すなわち、本発明は以下のとおりである。
【０００７】１）１種もしくは２種以上の物質よりな
り、Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パラメータδが８．
０〜２０．０の溶媒を用いて粗トロポロン化合物を晶析
することを特徴とする、トロポロン化合物の精製方法。 ２）粗トロポロン化合物が、シクロペンタジエン類とジ
クロロケテンとを反応させて得られたジクロロケテン付
加体を加溶媒分解することによって得られた粗トロポロ
ン化合物であることを特徴とする、１）記載のトロポロ
ン化合物の精製方法。 ３）トロポロン化合物が、ヒノキチオールであることを
特徴とする、１）または２）記載のトロポロン化合物の
精製方法。
り、Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パラメータδが８．
０〜２０．０の溶媒を用いて粗トロポロン化合物を晶析
することを特徴とする、トロポロン化合物の精製方法。 ２）粗トロポロン化合物が、シクロペンタジエン類とジ
クロロケテンとを反応させて得られたジクロロケテン付
加体を加溶媒分解することによって得られた粗トロポロ
ン化合物であることを特徴とする、１）記載のトロポロ
ン化合物の精製方法。 ３）トロポロン化合物が、ヒノキチオールであることを
特徴とする、１）または２）記載のトロポロン化合物の
精製方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明につき具体的に説明
する。本発明でいうトロポロン化合物、シクロペンタジ
エン類およびジクロロケテン付加体とは、それぞれ下記
式（１）、（２）および（３）で表される。
する。本発明でいうトロポロン化合物、シクロペンタジ
エン類およびジクロロケテン付加体とは、それぞれ下記
式（１）、（２）および（３）で表される。
【０００９】
【化１】
【００１０】
【化２】
【００１１】
【化３】
【００１２】ただし、Ｒ1からＲ3はそれぞれ同一でも異
なってもよく、水素、または直鎖または分岐のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基を
表し、直鎖状または分岐状を問わない。また不飽和結合
が含まれていてもかまわない。また酸素、ケイ素、ハロ
ゲンなどのヘテロ原子が含まれていてもかまわない。
なってもよく、水素、または直鎖または分岐のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基を
表し、直鎖状または分岐状を問わない。また不飽和結合
が含まれていてもかまわない。また酸素、ケイ素、ハロ
ゲンなどのヘテロ原子が含まれていてもかまわない。
【００１３】アルキル基としては例えば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチ
ルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，
１−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチ
ルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチ
ル、１，１−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オク
チル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−
ドデシル、２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ヘキセニル、５
−ヘキセニルなどが挙げられる。
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチ
ルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，
１−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチ
ルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチ
ル、１，１−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オク
チル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−
ドデシル、２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ヘキセニル、５
−ヘキセニルなどが挙げられる。
【００１４】アルケニル基としては一般式−ＣＨ＝ＣＲ
4Ｒ5で表され、アルキニル基としては一般式−ＣＨ≡Ｃ
−Ｒ4で表される。 Ｒ4、Ｒ5は、それぞれ同一でも異な
ってもよく、水素または炭化水素基であり、例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチル
ブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−メチルペンチ
ル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メ
チルペンチル、１，１−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウン
デシル、ｎ−ドデシル、２−プロペニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、２−ヘキセニル、５−ヘキセニルな
どが挙げられる。
4Ｒ5で表され、アルキニル基としては一般式−ＣＨ≡Ｃ
−Ｒ4で表される。 Ｒ4、Ｒ5は、それぞれ同一でも異な
ってもよく、水素または炭化水素基であり、例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチル
ブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−メチルペンチ
ル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メ
チルペンチル、１，１−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウン
デシル、ｎ−ドデシル、２−プロペニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、２−ヘキセニル、５−ヘキセニルな
どが挙げられる。
【００１５】シクロアルキル基としては、例えばシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、１−シクロ
ペンテン−１−イル、２−シクロペンテン−１−イル、
シクロペンタジエニル、シクロヘキシル、１−シクロヘ
キセン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３
−シクロヘキセン−１−イル、１，３−シクロヘキサジ
エン−１−イル、２，４−シクロヘキサジエン−１−イ
ル、シクロヘプチル、１−シクロヘプテン−１−イル、
２−シクロヘプテン−１−イル、３−シクロヘプテン−
１−イル、４−シクロヘプテン−１−イル、シクロオク
チル、１−シクロオクテン−１−イル、２−シクロオク
テン−１−イル、シクロノニル、シクロデシルなどが挙
げられる。
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、１−シクロ
ペンテン−１−イル、２−シクロペンテン−１−イル、
シクロペンタジエニル、シクロヘキシル、１−シクロヘ
キセン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３
−シクロヘキセン−１−イル、１，３−シクロヘキサジ
エン−１−イル、２，４−シクロヘキサジエン−１−イ
ル、シクロヘプチル、１−シクロヘプテン−１−イル、
２−シクロヘプテン−１−イル、３−シクロヘプテン−
１−イル、４−シクロヘプテン−１−イル、シクロオク
チル、１−シクロオクテン−１−イル、２−シクロオク
テン−１−イル、シクロノニル、シクロデシルなどが挙
げられる。
【００１６】また酸素が含まれるものとしては、今まで
述べた基に一般式−ＯＲ6や一般式−ＣＯＯＲ7で表され
る置換基が有するものが挙げられる。Ｒ6やＲ7は、それ
ぞれ同一でも異なってもよく、水素または炭化水素基で
あり例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチ
ル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１
−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチ
ル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デ
シル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、２−プロペニ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ヘキセニル、５
−ヘキセニルなどが挙げられる。
述べた基に一般式−ＯＲ6や一般式−ＣＯＯＲ7で表され
る置換基が有するものが挙げられる。Ｒ6やＲ7は、それ
ぞれ同一でも異なってもよく、水素または炭化水素基で
あり例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチ
ル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１
−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチ
ル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デ
シル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、２−プロペニ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ヘキセニル、５
−ヘキセニルなどが挙げられる。
【００１７】また今まで述べた基にケイ素やフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素のようなハロゲンが含まれていてもか
まわない。前記式（１）で表されるトロポロン類の中
で、４位にイソプロピル基を有する４−イソプロピルト
ロポロン（β−ツヤプリシン、別名ヒノキチオール）、
４−位にイソプロペニル基を有するβ−ドラブリン、３
位にイソプロピル基を有するα−ツヤプリシン、５位に
イソプロピル基を有するγ−ツヤプリシンは、青森ヒバ
や台湾ヒノキの精油中に含まれる天然物であり、その安
全性の高さから有用性が高く広く用いられている物質で
ある。
素、臭素、ヨウ素のようなハロゲンが含まれていてもか
まわない。前記式（１）で表されるトロポロン類の中
で、４位にイソプロピル基を有する４−イソプロピルト
ロポロン（β−ツヤプリシン、別名ヒノキチオール）、
４−位にイソプロペニル基を有するβ−ドラブリン、３
位にイソプロピル基を有するα−ツヤプリシン、５位に
イソプロピル基を有するγ−ツヤプリシンは、青森ヒバ
や台湾ヒノキの精油中に含まれる天然物であり、その安
全性の高さから有用性が高く広く用いられている物質で
ある。
【００１８】中でも、４−イソプロピルトロポロン（ヒ
ノキチオール）は、上記精油中に最も多く含まれる成分
のひとつであり、天然抽出品を端緒として用途が広が
り、近年では化学合成品が主流となって様々な分野で利
用されている。この化学合成品のほとんどが前記の化学
合成法によるものであり、ジクロロケテン付加反応や加
溶媒分解反応による雑多な不純物を如何に効率よく除去
するかが課題となるが、本発明者らの実験の結果、ヒノ
キチオールの場合には特にこうした不純物の除去が困難
であり、本発明の有用性が顕著に示される。
ノキチオール）は、上記精油中に最も多く含まれる成分
のひとつであり、天然抽出品を端緒として用途が広が
り、近年では化学合成品が主流となって様々な分野で利
用されている。この化学合成品のほとんどが前記の化学
合成法によるものであり、ジクロロケテン付加反応や加
溶媒分解反応による雑多な不純物を如何に効率よく除去
するかが課題となるが、本発明者らの実験の結果、ヒノ
キチオールの場合には特にこうした不純物の除去が困難
であり、本発明の有用性が顕著に示される。
【００１９】シクロペンタジエン類とジクロロケテンと
を反応させてジクロロケテン付加体を合成する方法、お
よび該ジクロロケテン付加体を加溶媒分解することによ
って粗トロポロン化合物を合成する方法は公知の方法に
準じればよい。例えば特公昭５１−３３９０１号公報や
特開平０８−０４０９７１号公報にそれらの方法の例が
示されている。本発明の晶析においては、１種もしくは
２種以上の物質よりなり溶解度パラメーターが８．０以
上の溶媒を用いることが必須要件である。この要件を満
足しないと、ジクロロケテン付加反応および加溶媒分解
反応において副生する雑多な不純物を十分分離すること
ができず、満足のゆく精製効果が得られない。
を反応させてジクロロケテン付加体を合成する方法、お
よび該ジクロロケテン付加体を加溶媒分解することによ
って粗トロポロン化合物を合成する方法は公知の方法に
準じればよい。例えば特公昭５１−３３９０１号公報や
特開平０８−０４０９７１号公報にそれらの方法の例が
示されている。本発明の晶析においては、１種もしくは
２種以上の物質よりなり溶解度パラメーターが８．０以
上の溶媒を用いることが必須要件である。この要件を満
足しないと、ジクロロケテン付加反応および加溶媒分解
反応において副生する雑多な不純物を十分分離すること
ができず、満足のゆく精製効果が得られない。
【００２０】本発明でいう溶解度パラメーターとは、Ｈ
ｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パラメータδであり、下記
式（１）で表される。 δ＝（△ＥV／Ｖ）1/2 （１） ここで、Ｖは溶媒のモル容積を表す。△ＥVは２５℃に
おける溶媒の蒸発熱を表し、下記式（２）で計算され
る。 △ＥV〔ｃａｌ／ｍｏｌ〕＝−３．５４２＋２３．７Ｔb＋０．０２０Ｔb （２）
ｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パラメータδであり、下記
式（１）で表される。 δ＝（△ＥV／Ｖ）1/2 （１） ここで、Ｖは溶媒のモル容積を表す。△ＥVは２５℃に
おける溶媒の蒸発熱を表し、下記式（２）で計算され
る。 △ＥV〔ｃａｌ／ｍｏｌ〕＝−３．５４２＋２３．７Ｔb＋０．０２０Ｔb （２）
【００２１】（Ｔb：絶対温度で表した溶媒の沸点）混
合溶媒の溶解度パラメーターδmixは、各溶媒の溶解度
パラメーターより下記式（３）で計算される。 δmix＝（ｘ1Ｖ1δ1＋ ｘ2Ｖ2δ2＋・・＋ ｘnＶnδn）／（ ｘ1Ｖ1＋ｘ2Ｖ2 ＋・・＋ｘnＶn） （３）
合溶媒の溶解度パラメーターδmixは、各溶媒の溶解度
パラメーターより下記式（３）で計算される。 δmix＝（ｘ1Ｖ1δ1＋ ｘ2Ｖ2δ2＋・・＋ ｘnＶnδn）／（ ｘ1Ｖ1＋ｘ2Ｖ2 ＋・・＋ｘnＶn） （３）
【００２２】ここで、ｘとＶはそれぞれ各溶媒のモル分
率とモル容積を表す。本発明の晶析で用いる溶媒は、溶
解度パラメータが８．０〜２０．０のものであれば制限
はない。例えば、メタノール、エタノール、１−プロパ
ノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタ
ノール、シクロペンタン、シクロヘキサン、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、トルエン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、アセトニ
トリルなどを単独で用いてもよいし、２種以上を混合し
て用いてもよい。また、溶解度パラメータが８．０未満
の溶媒（例：ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、リグロイン）や溶解度パラメーターが２０．０を越
える溶媒（例：水）と溶解度パラメータが８．０〜２
０．０の溶媒の混合物を用いてもよい。
率とモル容積を表す。本発明の晶析で用いる溶媒は、溶
解度パラメータが８．０〜２０．０のものであれば制限
はない。例えば、メタノール、エタノール、１−プロパ
ノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタ
ノール、シクロペンタン、シクロヘキサン、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、トルエン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、アセトニ
トリルなどを単独で用いてもよいし、２種以上を混合し
て用いてもよい。また、溶解度パラメータが８．０未満
の溶媒（例：ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、リグロイン）や溶解度パラメーターが２０．０を越
える溶媒（例：水）と溶解度パラメータが８．０〜２
０．０の溶媒の混合物を用いてもよい。
【００２３】以上のように本発明では、Ｈｉｌｄｅｂｒ
ａｎｄの溶解度パラメータδが８．０〜２０．０の溶媒
であれば制限なく用いることができるが、より精製効果
が高まるという意味で、溶解度パラメーターが８．０か
ら１９．０の溶媒が好ましい。さらに好ましくは８．０
〜１８．０である。また、晶析後の溶媒除去の容易性や
人体に対する安全性などの観点から、エタノールもしく
はエタノールと水の混合物が好ましい。
ａｎｄの溶解度パラメータδが８．０〜２０．０の溶媒
であれば制限なく用いることができるが、より精製効果
が高まるという意味で、溶解度パラメーターが８．０か
ら１９．０の溶媒が好ましい。さらに好ましくは８．０
〜１８．０である。また、晶析後の溶媒除去の容易性や
人体に対する安全性などの観点から、エタノールもしく
はエタノールと水の混合物が好ましい。
【００２４】本発明の晶析における温度およびトロポロ
ン化合物濃度は、用いる溶媒の溶解度曲線（温度−トロ
ポロン化合物溶解度）に応じて適宜決定すればよい。好
ましい温度は−５０〜１００℃である。−５０℃未満で
は運転コスト面での不利益が大きく、一方１００℃を越
えると溶媒の蒸発が顕著になり晶析中の濃度変化の問題
などが発生する。好ましいトロポロン化合物濃度は、
０．０５〜８０ｗｔ％である。０．０５ｗｔ％未満では
多量の溶媒を要するという意味で精製効率が悪く、一方
８０ｗｔ％を越えると結晶析出時の固−液攪拌が困難に
なり、工業的実施において支障を来す。
ン化合物濃度は、用いる溶媒の溶解度曲線（温度−トロ
ポロン化合物溶解度）に応じて適宜決定すればよい。好
ましい温度は−５０〜１００℃である。−５０℃未満で
は運転コスト面での不利益が大きく、一方１００℃を越
えると溶媒の蒸発が顕著になり晶析中の濃度変化の問題
などが発生する。好ましいトロポロン化合物濃度は、
０．０５〜８０ｗｔ％である。０．０５ｗｔ％未満では
多量の溶媒を要するという意味で精製効率が悪く、一方
８０ｗｔ％を越えると結晶析出時の固−液攪拌が困難に
なり、工業的実施において支障を来す。
【００２５】本発明においては、前述の合成法により得
られた粗トロポロン化合物に対して直接本発明の晶析を
施してもよいが、晶析の前に粗トロポロン化合物を減圧
蒸留して低沸点成分および高沸点成分を除去しておく方
がより精製効果が高まる。本発明のトロポロン化合物の
精製方法は、前記の合成法で製造された粗トロポロンの
精製において特に有用であるが、β−ツヤプリシン（ヒ
ノキチオール）、β−ドラブリン、α−ツヤプリシン、
γ−ツヤプリシンなどの天然トロポロン化合物を、青森
ヒバや台湾ヒノキの精油から抽出する場合の精製方法と
しても有効である。
られた粗トロポロン化合物に対して直接本発明の晶析を
施してもよいが、晶析の前に粗トロポロン化合物を減圧
蒸留して低沸点成分および高沸点成分を除去しておく方
がより精製効果が高まる。本発明のトロポロン化合物の
精製方法は、前記の合成法で製造された粗トロポロンの
精製において特に有用であるが、β−ツヤプリシン（ヒ
ノキチオール）、β−ドラブリン、α−ツヤプリシン、
γ−ツヤプリシンなどの天然トロポロン化合物を、青森
ヒバや台湾ヒノキの精油から抽出する場合の精製方法と
しても有効である。
【００２６】以下に本発明の実施例を説明するが、本発
明は以下の例によって限定されるものではない。なお、
実施例等における各種測定は以下の方法にしたがった。 ＜トロポロン化合物純度分析＞ ガスクロマトグラフ 装置：島津製作所ＧＣ−１４Ａ、島津製作所クロマトパ
ックＣＲ−４Ａ カラム：Ｊ＆Ｗサイエンティフィック社キャピラリーカ
ラムＤＢ−１（長さ３０ｍ×内径０．２５ｍｍ、液相膜
厚０．２５μｍ） 温度条件：カラム１００℃×２分→２５０℃（１０℃／
分）。注入口３００℃、 検出器３００℃（ＦＩＤ） ＜トロポロン化合物白色度測定＞ 分光光度計（４３０ｎｍにおける透過率をもって白色度
の指標とした。） 装置：日立製作所 Ｕ−２０００ 溶媒：エタノール 試料濃度：１０．０ｗｔ％
明は以下の例によって限定されるものではない。なお、
実施例等における各種測定は以下の方法にしたがった。 ＜トロポロン化合物純度分析＞ ガスクロマトグラフ 装置：島津製作所ＧＣ−１４Ａ、島津製作所クロマトパ
ックＣＲ−４Ａ カラム：Ｊ＆Ｗサイエンティフィック社キャピラリーカ
ラムＤＢ−１（長さ３０ｍ×内径０．２５ｍｍ、液相膜
厚０．２５μｍ） 温度条件：カラム１００℃×２分→２５０℃（１０℃／
分）。注入口３００℃、 検出器３００℃（ＦＩＤ） ＜トロポロン化合物白色度測定＞ 分光光度計（４３０ｎｍにおける透過率をもって白色度
の指標とした。） 装置：日立製作所 Ｕ−２０００ 溶媒：エタノール 試料濃度：１０．０ｗｔ％
【００２７】
【実施例１】１−イソプロピルシクロペンタジエン７
５．１１ｋｇ（０．６９４ｋｍｏｌ）を含むヘキサン溶
液７２７．０８ｋｇをグラスライニングを施したジャケ
ット式反応器に仕込み、溶液温度を０℃に冷却した。該
溶液を撹拌しつつ、該溶液に対しジクロロアセチルクロ
ライド１０７．４４ｋｇ（０．７２９ｍｏｌ）およびト
リエチルアミン ７７．２１ｋｇ（０．７６３ｍｏｌ）
を同時に１．５時間かけて滴下し、ジクロロケテン付加
反応を実施した。その間、溶液温度が０〜５℃の範囲に
維持されるよう、ジャケットに冷媒を流通させて反応熱
を除去した。ジクロロアセチルクロライドとトリエチル
アミンの滴下終了後、反応液に水２００ｋｇと濃塩酸
５．４ｋｇを添加し、１５分間撹拌した。その後１５分
間静置して有機層と水層を分離させた後、反応器底端か
ら水層を抜き出し、続けて有機層を抜き出した。該有機
層からヘキサンを減圧留去し、粗ジクロロケテン付加体
１８１．３７ｋｇ（純度８３％、０．６８７ｋｍｏｌ）
を得た（収率９９．０％）。
５．１１ｋｇ（０．６９４ｋｍｏｌ）を含むヘキサン溶
液７２７．０８ｋｇをグラスライニングを施したジャケ
ット式反応器に仕込み、溶液温度を０℃に冷却した。該
溶液を撹拌しつつ、該溶液に対しジクロロアセチルクロ
ライド１０７．４４ｋｇ（０．７２９ｍｏｌ）およびト
リエチルアミン ７７．２１ｋｇ（０．７６３ｍｏｌ）
を同時に１．５時間かけて滴下し、ジクロロケテン付加
反応を実施した。その間、溶液温度が０〜５℃の範囲に
維持されるよう、ジャケットに冷媒を流通させて反応熱
を除去した。ジクロロアセチルクロライドとトリエチル
アミンの滴下終了後、反応液に水２００ｋｇと濃塩酸
５．４ｋｇを添加し、１５分間撹拌した。その後１５分
間静置して有機層と水層を分離させた後、反応器底端か
ら水層を抜き出し、続けて有機層を抜き出した。該有機
層からヘキサンを減圧留去し、粗ジクロロケテン付加体
１８１．３７ｋｇ（純度８３％、０．６８７ｋｍｏｌ）
を得た（収率９９．０％）。
【００２８】得られた粗ジクロロケテン付加体を、ター
シャリーブタノール／水／酢酸＝９３１．８ｋｇ／２４
７．２ｋｇ／２４７．２ｋｇの混合溶媒に溶解し、グラ
スライニングを施した還流冷却器付反応器に仕込み還流
温度まで昇温した。該溶液を撹拌しつつ、還流状態でト
リエチルアミン４８６．６ｋｇ（４．８１ｋｍｏｌ）を
３時間かけて滴下し、加溶媒分解反応を実施した。滴下
終了後さらに１．５時間加熱還流した後、室温まで冷却
した。水１３９２ｋｇと濃塩酸１０８ｋｇ加えた後、タ
ーシャリーブタノールを減圧留去した後トルエン１５０
０ｋｇを加えて４５℃で１５分間撹拌した。撹拌を停止
した１５分間静置して有機層と水層を分離させた。得ら
れた有機層に純水１０００ｋｇを加え１５分間攪拌し
た。撹拌を停止した後１５分間静置して有機層と水層を
分離させた。得られた有機層からトルエンを減圧留去
し、粗ヒノキチオール１１３．３ｋｇを得た（純度８
５．２％、０．５８８ｋｍｏｌ）（収率８５．６％）。
シャリーブタノール／水／酢酸＝９３１．８ｋｇ／２４
７．２ｋｇ／２４７．２ｋｇの混合溶媒に溶解し、グラ
スライニングを施した還流冷却器付反応器に仕込み還流
温度まで昇温した。該溶液を撹拌しつつ、還流状態でト
リエチルアミン４８６．６ｋｇ（４．８１ｋｍｏｌ）を
３時間かけて滴下し、加溶媒分解反応を実施した。滴下
終了後さらに１．５時間加熱還流した後、室温まで冷却
した。水１３９２ｋｇと濃塩酸１０８ｋｇ加えた後、タ
ーシャリーブタノールを減圧留去した後トルエン１５０
０ｋｇを加えて４５℃で１５分間撹拌した。撹拌を停止
した１５分間静置して有機層と水層を分離させた。得ら
れた有機層に純水１０００ｋｇを加え１５分間攪拌し
た。撹拌を停止した後１５分間静置して有機層と水層を
分離させた。得られた有機層からトルエンを減圧留去
し、粗ヒノキチオール１１３．３ｋｇを得た（純度８
５．２％、０．５８８ｋｍｏｌ）（収率８５．６％）。
【００２９】得られた粗ヒノキチオールをグラスライニ
ングを施した単蒸留装置で減圧下に単蒸留し（１４０℃
／１０ｍｍＨｇ）、粗ヒノキチオール１００．１ｋｇを
留出物として得た（純度９１．５％、０．５５８ｋｍｏ
ｌ）（収率９４．９％）。ガラス製晶析槽中に、単蒸留
により得られた粗ヒノキチオール１００．０ｇと混合溶
媒（δ＝１５．６）４００．０ｇ〔エタノール（δ＝１
１．２）２００．０ｇと水（δ＝２１．２）２００．０
ｇの混合物〕を加え、４０℃で３０分間攪拌して均一溶
液とした後、緩やかに攪拌しつつ２時間かけて２２℃ま
で温度を下げ、種晶（ヒノキチオール結晶）１０ｍｇを
添加し、さらに４時間かけて０℃まで温度を下げてヒノ
キチオールの結晶を析出させた。
ングを施した単蒸留装置で減圧下に単蒸留し（１４０℃
／１０ｍｍＨｇ）、粗ヒノキチオール１００．１ｋｇを
留出物として得た（純度９１．５％、０．５５８ｋｍｏ
ｌ）（収率９４．９％）。ガラス製晶析槽中に、単蒸留
により得られた粗ヒノキチオール１００．０ｇと混合溶
媒（δ＝１５．６）４００．０ｇ〔エタノール（δ＝１
１．２）２００．０ｇと水（δ＝２１．２）２００．０
ｇの混合物〕を加え、４０℃で３０分間攪拌して均一溶
液とした後、緩やかに攪拌しつつ２時間かけて２２℃ま
で温度を下げ、種晶（ヒノキチオール結晶）１０ｍｇを
添加し、さらに４時間かけて０℃まで温度を下げてヒノ
キチオールの結晶を析出させた。
【００３０】析出した結晶をガラス製装置で吸引濾過に
より採取した。採取した結晶を０℃に冷却した溶媒（エ
タノール：水＝１：１重量比）１００．０ｇで２回洗浄
した後真空乾燥し、ヒノキチオールの結晶６９．９ｇを
得た（収率７６．４％）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９９．９％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
９０．５％と良好な精製度であった。
より採取した。採取した結晶を０℃に冷却した溶媒（エ
タノール：水＝１：１重量比）１００．０ｇで２回洗浄
した後真空乾燥し、ヒノキチオールの結晶６９．９ｇを
得た（収率７６．４％）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９９．９％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
９０．５％と良好な精製度であった。
【００３１】
【実施例２】ガラス製晶析槽中に、実施例１と同様の方
法で製造した粗ヒノキチオール１００．０ｇと混合溶媒
（δ＝１４．６）〔エタノール（δ＝１１．２）２４
０．０ｇと水（δ＝２１．２）１６０．０ｇの混合物〕
を加え、実施例１と同様の方法で晶析操作を行い、ヒノ
キチオールの結晶を析出させた。析出した結晶をガラス
製装置で吸引濾過により採取した。採取した結晶を０℃
に冷却した溶媒（エタノール：水＝３：２重量比）１０
０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥し、ヒノキチオール
の結晶６８．９ｇを得た（収率７５．３％）。得られた
結晶は、ガスクロマトグラフ純度９９．８％、白色度
（４３０ｎｍ透過率）９０．７％と良好な精製度であっ
た。
法で製造した粗ヒノキチオール１００．０ｇと混合溶媒
（δ＝１４．６）〔エタノール（δ＝１１．２）２４
０．０ｇと水（δ＝２１．２）１６０．０ｇの混合物〕
を加え、実施例１と同様の方法で晶析操作を行い、ヒノ
キチオールの結晶を析出させた。析出した結晶をガラス
製装置で吸引濾過により採取した。採取した結晶を０℃
に冷却した溶媒（エタノール：水＝３：２重量比）１０
０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥し、ヒノキチオール
の結晶６８．９ｇを得た（収率７５．３％）。得られた
結晶は、ガスクロマトグラフ純度９９．８％、白色度
（４３０ｎｍ透過率）９０．７％と良好な精製度であっ
た。
【００３２】
【実施例３】ガラス製晶析槽中に、実施例１と同様の方
法で製造した粗ヒノキチオール１００．０ｇとエタノー
ル（δ＝１１．２）４００．０ｇを加え、２０℃で３０
分間攪拌して均一溶液とした後、緩やかに攪拌しつつ２
時間かけて０℃まで温度を下げ、種晶（ヒノキチオール
結晶）１０ｍｇを添加し、さらに４時間かけて−２０℃
まで温度を下げてヒノキチオールの結晶を析出させた。
析出した結晶をガラス製装置で吸引濾過により採取し
た。採取した結晶を−２０℃に冷却したエタノール５
０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥し、ヒノキチオール
の結晶６４．３ｇを得た（収率７０．３％）。得られた
結晶は、ガスクロマトグラフ純度９９．５％、白色度
（４３０ｎｍ透過率）９１．３％と良好な精製度であっ
た。
法で製造した粗ヒノキチオール１００．０ｇとエタノー
ル（δ＝１１．２）４００．０ｇを加え、２０℃で３０
分間攪拌して均一溶液とした後、緩やかに攪拌しつつ２
時間かけて０℃まで温度を下げ、種晶（ヒノキチオール
結晶）１０ｍｇを添加し、さらに４時間かけて−２０℃
まで温度を下げてヒノキチオールの結晶を析出させた。
析出した結晶をガラス製装置で吸引濾過により採取し
た。採取した結晶を−２０℃に冷却したエタノール５
０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥し、ヒノキチオール
の結晶６４．３ｇを得た（収率７０．３％）。得られた
結晶は、ガスクロマトグラフ純度９９．５％、白色度
（４３０ｎｍ透過率）９１．３％と良好な精製度であっ
た。
【００３３】
【実施例４】エタノールの代わりにメタノール（δ＝１
２．９）を用いた以外は実施例３と同様の方法で晶析、
洗浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６３．６ｇ
を得た（収率６９．５％）。得られた結晶は、ガスクロ
マトグラフ純度９９．４％、白色度（４３０ｎｍ透過
率）９１．１％と良好な精製度であった。
２．９）を用いた以外は実施例３と同様の方法で晶析、
洗浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６３．６ｇ
を得た（収率６９．５％）。得られた結晶は、ガスクロ
マトグラフ純度９９．４％、白色度（４３０ｎｍ透過
率）９１．１％と良好な精製度であった。
【００３４】
【実施例５】エタノールの代わりに酢酸エチル（δ＝
８．６）を用いた以外は実施例３と同様の方法で晶析、
洗浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６４．１ｇ
を得た（収率７０．１）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９９．７％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
９０．０％と良好な精製度であった。
８．６）を用いた以外は実施例３と同様の方法で晶析、
洗浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６４．１ｇ
を得た（収率７０．１）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９９．７％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
９０．０％と良好な精製度であった。
【００３５】
【実施例６】エタノールの代わりにトルエン（δ＝８．
９）を用いた以外は実施例３と同様の方法で晶析、洗
浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６２．４ｇを
得た（収率６８．２％）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９９．９％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
９０．５％と良好な精製度であった。
９）を用いた以外は実施例３と同様の方法で晶析、洗
浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６２．４ｇを
得た（収率６８．２％）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９９．９％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
９０．５％と良好な精製度であった。
【００３６】
【実施例７】１−イソプロピルシクロペンタジエンの代
わりにシクロペンタジエンを用いた以外は実施例１と同
様の方法で粗トロポロンを製造した（純度８９．５
％）。ガラス製晶析槽中に、得られた粗トロポロン１０
０．０ｇと混合溶媒（δ＝１５．６）４００．０ｇ〔エ
タノール（δ＝１１．２）２００．０ｇと水（δ＝２
１．２）２００．０ｇの混合物〕を加え、２０℃で３０
分間攪拌して均一溶液とした後、緩やかに攪拌しつつ２
時間かけて０℃まで温度を下げ、種晶（トロポロン結
晶）１０ｍｇを添加し、さらに４時間かけて−２０℃ま
で温度を下げてトロポロンの結晶を析出させた。析出し
た結晶をガラス製装置で吸引濾過により採取した。採取
した結晶を−２０℃に冷却した溶媒（エタノール：水＝
１：１重量比）５０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥
し、トロポロンの結晶５７．５ｇを得た（収率６４．３
％）。得られた結晶は、ガスクロマトグラフ純度９９．
１％、白色度（４３０ｎｍ透過率）９０．５％と良好な
精製度であった。
わりにシクロペンタジエンを用いた以外は実施例１と同
様の方法で粗トロポロンを製造した（純度８９．５
％）。ガラス製晶析槽中に、得られた粗トロポロン１０
０．０ｇと混合溶媒（δ＝１５．６）４００．０ｇ〔エ
タノール（δ＝１１．２）２００．０ｇと水（δ＝２
１．２）２００．０ｇの混合物〕を加え、２０℃で３０
分間攪拌して均一溶液とした後、緩やかに攪拌しつつ２
時間かけて０℃まで温度を下げ、種晶（トロポロン結
晶）１０ｍｇを添加し、さらに４時間かけて−２０℃ま
で温度を下げてトロポロンの結晶を析出させた。析出し
た結晶をガラス製装置で吸引濾過により採取した。採取
した結晶を−２０℃に冷却した溶媒（エタノール：水＝
１：１重量比）５０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥
し、トロポロンの結晶５７．５ｇを得た（収率６４．３
％）。得られた結晶は、ガスクロマトグラフ純度９９．
１％、白色度（４３０ｎｍ透過率）９０．５％と良好な
精製度であった。
【００３７】
【比較例１】ガラス製晶析槽中に、実施例１と同様の方
法で製造した粗ヒノキチオール１００．０ｇとリグロイ
ン（δ＝７．０〜７．６）を加え、実施例１と同様の方
法で晶析操作を行い、ヒノキチオールの結晶を析出させ
た。析出した結晶をガラス製装置で吸引濾過により採取
した。採取した結晶を０℃に冷却したリグロイン１０
０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥し、ヒノキチオール
の結晶７０．１ｇを得た（収率７６．６％）。得られた
結晶は、ガスクロマトグラフ純度９７．１％、白色度
（４３０ｎｍ透過率）７５．３％と精製度が低く黄ばん
でいた。
法で製造した粗ヒノキチオール１００．０ｇとリグロイ
ン（δ＝７．０〜７．６）を加え、実施例１と同様の方
法で晶析操作を行い、ヒノキチオールの結晶を析出させ
た。析出した結晶をガラス製装置で吸引濾過により採取
した。採取した結晶を０℃に冷却したリグロイン１０
０．０ｇで２回洗浄した後真空乾燥し、ヒノキチオール
の結晶７０．１ｇを得た（収率７６．６％）。得られた
結晶は、ガスクロマトグラフ純度９７．１％、白色度
（４３０ｎｍ透過率）７５．３％と精製度が低く黄ばん
でいた。
【００３８】
【比較例２】リグロインの代わりにヘキサン（δ＝７．
３）を用いた以外は比較例１と同様の方法で晶析、洗
浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６９．４ｇを
得た（収率７５．８％）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９６．５％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
７３．７％と精製度が低く黄ばんでいた。上記の実施例
および比較例により、本発明方法が製品結晶純度および
白色度を高める、効果的な方法であることが実証され
た。
３）を用いた以外は比較例１と同様の方法で晶析、洗
浄、乾燥操作を行いヒノキチオールの結晶６９．４ｇを
得た（収率７５．８％）。得られた結晶は、ガスクロマ
トグラフ純度９６．５％、白色度（４３０ｎｍ透過率）
７３．７％と精製度が低く黄ばんでいた。上記の実施例
および比較例により、本発明方法が製品結晶純度および
白色度を高める、効果的な方法であることが実証され
た。
【００３９】
【発明の効果】本発明により、抗菌・抗カビ作用はじめ
防虫作用などにも優れる有用なトロポロン化合物の製造
において、安価且つ簡便な方法で製品結晶の純度および
白色度を効率的に高めることができる有用な精製方法を
提供することができる。
防虫作用などにも優れる有用なトロポロン化合物の製造
において、安価且つ簡便な方法で製品結晶の純度および
白色度を効率的に高めることができる有用な精製方法を
提供することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 １種もしくは２種以上の物質よりなり、
Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄの溶解度パラメータδが８．０〜
２０．０の溶媒を用いて粗トロポロン化合物を晶析する
ことを特徴とする、トロポロン化合物の精製方法。 - 【請求項２】 粗トロポロン化合物が、シクロペンタジ
エン類とジクロロケテンとを反応させて得られたジクロ
ロケテン付加体を加溶媒分解することによって得られた
粗トロポロン化合物であることを特徴とする、請求項１
記載のトロポロン化合物の精製方法。 - 【請求項３】 トロポロン化合物が、ヒノキチオールで
あることを特徴とする、請求項１または２記載のトロポ
ロン化合物の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001059460A JP2002255887A (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | トロポロン化合物の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001059460A JP2002255887A (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | トロポロン化合物の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002255887A true JP2002255887A (ja) | 2002-09-11 |
Family
ID=18919019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001059460A Pending JP2002255887A (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | トロポロン化合物の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002255887A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20100114833A (ko) | 2009-04-16 | 2010-10-26 | 고토부키 세이야쿠 가부시키가이샤 | γ―투야플리신의 제조방법 |
-
2001
- 2001-03-05 JP JP2001059460A patent/JP2002255887A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20100114833A (ko) | 2009-04-16 | 2010-10-26 | 고토부키 세이야쿠 가부시키가이샤 | γ―투야플리신의 제조방법 |
| JP2010248137A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Kotobuki Seiyaku Kk | γ−ツヤプリシンの製造方法 |
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