JP2002252164A - 転写用マスク及び転写用マスクの検査方法 - Google Patents
転写用マスク及び転写用マスクの検査方法Info
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- JP2002252164A JP2002252164A JP2001051925A JP2001051925A JP2002252164A JP 2002252164 A JP2002252164 A JP 2002252164A JP 2001051925 A JP2001051925 A JP 2001051925A JP 2001051925 A JP2001051925 A JP 2001051925A JP 2002252164 A JP2002252164 A JP 2002252164A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】電子ビーム露光装置に好適で精度のよい転写用
マスクを提供する。 【解決手段】マスクパターンを有するマスク本体と、こ
のマスク本体を保持するマスクホルダ７０とから構成さ
れ、電子ビーム露光装置に使用される転写用マスクであ
る。このマスクホルダ７０は、マスク本体のマスクパタ
ーンに電子ビームを照射するために中央部に設けられた
開口部７２と、マスク本体を面接触させるために開口部
７２の周囲に設けられた接触面７４と、マスク本体を接
触面７４に面接触させた状態で保持するための３箇所の
接着部７６とを有している。接着部７６は、接触面７４
よりも上面が低い凸形状に形成され、凸形状の上面と接
触面７４に面接触されるマスク本体との間に充填される
接着剤によってマスク本体を保持する。
マスクを提供する。 【解決手段】マスクパターンを有するマスク本体と、こ
のマスク本体を保持するマスクホルダ７０とから構成さ
れ、電子ビーム露光装置に使用される転写用マスクであ
る。このマスクホルダ７０は、マスク本体のマスクパタ
ーンに電子ビームを照射するために中央部に設けられた
開口部７２と、マスク本体を面接触させるために開口部
７２の周囲に設けられた接触面７４と、マスク本体を接
触面７４に面接触させた状態で保持するための３箇所の
接着部７６とを有している。接着部７６は、接触面７４
よりも上面が低い凸形状に形成され、凸形状の上面と接
触面７４に面接触されるマスク本体との間に充填される
接着剤によってマスク本体を保持する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は転写用マスク及び転
写用マスクの検査方法に係り、特に電子ビームを用いて
転写用マスクのマスクパターンを半導体ウエハ上のレジ
スト層に等倍転写する電子ビーム露光装置に使用される
転写用マスク及び転写用マスクの検査方法に関する。
写用マスクの検査方法に係り、特に電子ビームを用いて
転写用マスクのマスクパターンを半導体ウエハ上のレジ
スト層に等倍転写する電子ビーム露光装置に使用される
転写用マスク及び転写用マスクの検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の転写用マスクを使用した
電子ビーム露光装置は、米国特許第5,831,272 号（日本
特許第2951947 号に対応）に開示されている。
電子ビーム露光装置は、米国特許第5,831,272 号（日本
特許第2951947 号に対応）に開示されている。
【０００３】図１１は上記電子ビーム露光装置の基本構
成を示す図である。この電子ビーム露光装置１０は、主
として電子ビーム１５を発生する電子ビーム源１４、整
形アパーチャ１６、及び電子ビーム１５を平行ビームに
するレンズ１８を含む電子銃１２と、主偏向器２２、２
４及び副偏向器２６、２８を含み、電子ビームを光軸に
平行に走査する走査手段２０と、転写用マスク３０とか
ら構成されている。
成を示す図である。この電子ビーム露光装置１０は、主
として電子ビーム１５を発生する電子ビーム源１４、整
形アパーチャ１６、及び電子ビーム１５を平行ビームに
するレンズ１８を含む電子銃１２と、主偏向器２２、２
４及び副偏向器２６、２８を含み、電子ビームを光軸に
平行に走査する走査手段２０と、転写用マスク３０とか
ら構成されている。
【０００４】前記転写用マスク３０は、表面にレジスト
層４２が形成された半導体ウエハ４０に近接するように
（隙間が５０μｍとなるように）配置される。この状態
で、転写用マスク３０に垂直に電子ビームを照射する
と、転写用マスク３０のマスクパターンを通過した電子
ビームが半導体ウエハ４０上のレジスト層４２に照射さ
れる。また、走査手段２０は、電子ビーム１５が転写用
マスク３０の全面を走査するように電子ビームを偏向制
御する（図１１のＡ，Ｂ，Ｃは３箇所に偏向された電子
ビームを示す）。これにより、転写用マスク３０のマス
クパターンが半導体ウエハ４０上のレジスト層に等倍転
写される。
層４２が形成された半導体ウエハ４０に近接するように
（隙間が５０μｍとなるように）配置される。この状態
で、転写用マスク３０に垂直に電子ビームを照射する
と、転写用マスク３０のマスクパターンを通過した電子
ビームが半導体ウエハ４０上のレジスト層４２に照射さ
れる。また、走査手段２０は、電子ビーム１５が転写用
マスク３０の全面を走査するように電子ビームを偏向制
御する（図１１のＡ，Ｂ，Ｃは３箇所に偏向された電子
ビームを示す）。これにより、転写用マスク３０のマス
クパターンが半導体ウエハ４０上のレジスト層に等倍転
写される。
【０００５】尚、走査手段２０中の副偏向器２６、２８
は、電子ビームを僅かに傾斜させ、転写用マスク３０と
半導体ウエハ４０との位置ずれや、転写用マスク３０の
歪と半導体ウエハ４０の歪による露光位置のずれを補正
するために使用される。また、この電子ビーム露光装置
は、真空容器（図示せず）内に設けられている。
は、電子ビームを僅かに傾斜させ、転写用マスク３０と
半導体ウエハ４０との位置ずれや、転写用マスク３０の
歪と半導体ウエハ４０の歪による露光位置のずれを補正
するために使用される。また、この電子ビーム露光装置
は、真空容器（図示せず）内に設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記電子ビ
ーム露光装置に使用される転写用マスクは、電子ビーム
が照射される点や、真空中で使用される点などを考慮し
て構成する必要があるが、上記構成の電子ビーム露光装
置は実用化されておらず、転写用マスクも存在していな
い。
ーム露光装置に使用される転写用マスクは、電子ビーム
が照射される点や、真空中で使用される点などを考慮し
て構成する必要があるが、上記構成の電子ビーム露光装
置は実用化されておらず、転写用マスクも存在していな
い。
【０００７】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、上記電子ビーム露光装置に好適で精度のよい転
写用マスク及び転写用マスクの検査方法を提供すること
を目的とする。
もので、上記電子ビーム露光装置に好適で精度のよい転
写用マスク及び転写用マスクの検査方法を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本願請求項１に係る発明は、マスクパターンを有する
マスク本体と、該マスク本体を保持するマスクホルダと
から構成され、電子ビーム露光装置に使用される転写用
マスクにおいて、前記マスクホルダは、前記マスク本体
のマスクパターンに電子ビームを照射するために中央部
に設けられた開口部と、前記マスク本体を面接触させる
ために前記開口部の周囲に設けられた接触面と、前記マ
スク本体を前記接触面に面接触させた状態で保持するた
めの接着部とを有し、前記接着部は、前記接触面よりも
上面が低い凸形状に形成され、当該凸形状の上面と前記
接触面に面接触される前記マスク本体との間に充填され
る接着剤によって当該マスク本体を保持することを特徴
としている。
に本願請求項１に係る発明は、マスクパターンを有する
マスク本体と、該マスク本体を保持するマスクホルダと
から構成され、電子ビーム露光装置に使用される転写用
マスクにおいて、前記マスクホルダは、前記マスク本体
のマスクパターンに電子ビームを照射するために中央部
に設けられた開口部と、前記マスク本体を面接触させる
ために前記開口部の周囲に設けられた接触面と、前記マ
スク本体を前記接触面に面接触させた状態で保持するた
めの接着部とを有し、前記接着部は、前記接触面よりも
上面が低い凸形状に形成され、当該凸形状の上面と前記
接触面に面接触される前記マスク本体との間に充填され
る接着剤によって当該マスク本体を保持することを特徴
としている。
【０００９】即ち、前記マスクホルダにマスク本体を接
着する場合には、前記接着部の凸形状の上面に接着剤を
載せ、その後、マスク本体をマスクホルダの接触面に面
接触させるとともに前記接着剤に押し当てる。このと
き、前記接着部の凸形状の上面はマスクホルダの接触面
よりも低いため、マスク本体をマスクホルダの接触面に
面接触させた状態で、接着剤の厚みを確保することがで
きる。また、前記接着部の凸形状の上面に載せられた接
着剤は、マスク本体が押し当てられると、凸形状の上面
から溢れるが、溢れた接着剤は、凸形状を構成する周囲
の溝部に流れる。これにより、接着剤がマスク本体とマ
スクホルダの接触面との間に入り込むことを未然に防止
することができる。
着する場合には、前記接着部の凸形状の上面に接着剤を
載せ、その後、マスク本体をマスクホルダの接触面に面
接触させるとともに前記接着剤に押し当てる。このと
き、前記接着部の凸形状の上面はマスクホルダの接触面
よりも低いため、マスク本体をマスクホルダの接触面に
面接触させた状態で、接着剤の厚みを確保することがで
きる。また、前記接着部の凸形状の上面に載せられた接
着剤は、マスク本体が押し当てられると、凸形状の上面
から溢れるが、溢れた接着剤は、凸形状を構成する周囲
の溝部に流れる。これにより、接着剤がマスク本体とマ
スクホルダの接触面との間に入り込むことを未然に防止
することができる。
【００１０】前記接着部は、本願請求項２に示すように
前記マスク本体の外周近傍の内側であって、前記マスク
ホルダの中心に対して等距離かつ等角度の位置に３箇所
設けられていることを特徴としている。この接着部の位
置及び数により、マスク本体をマスクホルダに確実に接
着するとともに、接着に伴うマスク本体にかかる応力を
最小限にするようにしている。
前記マスク本体の外周近傍の内側であって、前記マスク
ホルダの中心に対して等距離かつ等角度の位置に３箇所
設けられていることを特徴としている。この接着部の位
置及び数により、マスク本体をマスクホルダに確実に接
着するとともに、接着に伴うマスク本体にかかる応力を
最小限にするようにしている。
【００１１】本願請求項３に示すように前記接着部の凸
形状の上面の中央部には、前記接着剤を充填するための
穴が形成されていることを特徴としている。これによ
り、前記接着部の凸形状の上面に接着剤を載せやすくし
ている。
形状の上面の中央部には、前記接着剤を充填するための
穴が形成されていることを特徴としている。これによ
り、前記接着部の凸形状の上面に接着剤を載せやすくし
ている。
【００１２】前記接着部の凸形状を構成する周囲の溝部
は、本願請求項４に示すように前記マスク本体の接着時
に密閉されないように当該マスク本体の外周部に通じて
いることを特徴としている。即ち、転写用マスクを真空
中で使用できるようにするために、前記接着部に空気溜
まりができないようにしている。また、真空中での使用
に耐える接着剤は、その接着剤の硬化に大気が必要であ
るが、上記構成により接着剤を良好に大気に触れさせる
ようにしている。
は、本願請求項４に示すように前記マスク本体の接着時
に密閉されないように当該マスク本体の外周部に通じて
いることを特徴としている。即ち、転写用マスクを真空
中で使用できるようにするために、前記接着部に空気溜
まりができないようにしている。また、真空中での使用
に耐える接着剤は、その接着剤の硬化に大気が必要であ
るが、上記構成により接着剤を良好に大気に触れさせる
ようにしている。
【００１３】前記マスクホルダは、本願請求項５に示す
ように導電性部材から構成されることを特徴としてい
る。また、前記マスク本体は、本願請求項６、７に示す
ようにダイヤモンド、炭化ケイ素（ＳｉＣ）又は単結晶
のケイ素（Ｓｉ）から構成され、ダイヤモンド又は炭化
ケイ素（ＳｉＣ）の場合には、その表面に導電性の薄膜
が形成されていることを特徴としている。即ち、前記マ
スクホルダを接地することにより、マスクホルダ及びマ
スク本体への帯電を防止することができ、これにより電
子ビームへの影響を防止することができる。
ように導電性部材から構成されることを特徴としてい
る。また、前記マスク本体は、本願請求項６、７に示す
ようにダイヤモンド、炭化ケイ素（ＳｉＣ）又は単結晶
のケイ素（Ｓｉ）から構成され、ダイヤモンド又は炭化
ケイ素（ＳｉＣ）の場合には、その表面に導電性の薄膜
が形成されていることを特徴としている。即ち、前記マ
スクホルダを接地することにより、マスクホルダ及びマ
スク本体への帯電を防止することができ、これにより電
子ビームへの影響を防止することができる。
【００１４】本願請求項８に係る転写用マスクの検査方
法は、光波干渉計の測定対象として基準面上に平行平面
板を載せる工程と、前記光波干渉計から得られる干渉縞
が０次となるように当該光波干渉計と基準面とを相対的
に調整する工程と、前記基準面上に前記平行平面板に代
えて転写用マスクを載せる工程とを含み、前記光波干渉
計から得られる干渉縞によって前記基準面に対する前記
転写用マスクの傾き及び面形状を検査することを特徴と
している。また、本願請求項９に係る転写用マスクの検
査方法は、請求項１乃至７のいずれかに記載の転写用マ
スクに対して上記検査方法を適用している。
法は、光波干渉計の測定対象として基準面上に平行平面
板を載せる工程と、前記光波干渉計から得られる干渉縞
が０次となるように当該光波干渉計と基準面とを相対的
に調整する工程と、前記基準面上に前記平行平面板に代
えて転写用マスクを載せる工程とを含み、前記光波干渉
計から得られる干渉縞によって前記基準面に対する前記
転写用マスクの傾き及び面形状を検査することを特徴と
している。また、本願請求項９に係る転写用マスクの検
査方法は、請求項１乃至７のいずれかに記載の転写用マ
スクに対して上記検査方法を適用している。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る転写用マスク及び転写用マスクの検査方法の好ましい
実施の形態について説明する。
る転写用マスク及び転写用マスクの検査方法の好ましい
実施の形態について説明する。
【００１６】図１は本発明に係る転写用マスクを構成す
るマスクホルダの平面図であり、図２は図１の２−２線
に沿う断面図である。
るマスクホルダの平面図であり、図２は図１の２−２線
に沿う断面図である。
【００１７】図２に示すように転写用マスク５０は、マ
スクパターンを有するマスク本体６０と、このマスク本
体６０を保持するマスクホルダ７０とから構成されてお
り、図１１に示したように電子ビームを用いて転写用マ
スクのマスクパターンを半導体ウエハ上のレジスト層に
等倍転写する電子ビーム露光装置に使用される。
スクパターンを有するマスク本体６０と、このマスク本
体６０を保持するマスクホルダ７０とから構成されてお
り、図１１に示したように電子ビームを用いて転写用マ
スクのマスクパターンを半導体ウエハ上のレジスト層に
等倍転写する電子ビーム露光装置に使用される。
【００１８】まず、マスク本体６０について説明する。
【００１９】図２に示すようにマスク本体６０は、厚さ
ｔ１が２ｍｍであり、中央部の薄膜部６０Ａ（２５ｍｍ
×２５ｍｍ）にマスクパターンが形成されている。ま
た、図３に示すように薄膜部６０Ａの厚さｔ２は0.5 μ
ｍであり、ここに0.1 μｍ以下の線幅Ｗのマスクパター
ンが形成される。
ｔ１が２ｍｍであり、中央部の薄膜部６０Ａ（２５ｍｍ
×２５ｍｍ）にマスクパターンが形成されている。ま
た、図３に示すように薄膜部６０Ａの厚さｔ２は0.5 μ
ｍであり、ここに0.1 μｍ以下の線幅Ｗのマスクパター
ンが形成される。
【００２０】また、マスク本体６０は、ダイヤモンド、
炭化ケイ素（ＳｉＣ）又は単結晶のケイ素（Ｓｉ）から
構成されており、ダイヤモンド又はＳｉＣの場合には、
その表面（マスクパターンも含む）には、電子が帯電し
ないように導電性の薄膜６２が形成されている。
炭化ケイ素（ＳｉＣ）又は単結晶のケイ素（Ｓｉ）から
構成されており、ダイヤモンド又はＳｉＣの場合には、
その表面（マスクパターンも含む）には、電子が帯電し
ないように導電性の薄膜６２が形成されている。
【００２１】上記マスク本体６０を保持するマスクホル
ダ７０は、導電性部材から構成されており、マスク本体
６０のマスクパターンに電子ビームを照射するために中
央部に設けられた開口部７２と、マスク本体６０を面接
触させるために開口部７２の周囲に設けられた接触面７
４と、マスク本体６０を接触面７４に面接触させた状態
で保持するための３つの接着部７６とを有している。
ダ７０は、導電性部材から構成されており、マスク本体
６０のマスクパターンに電子ビームを照射するために中
央部に設けられた開口部７２と、マスク本体６０を面接
触させるために開口部７２の周囲に設けられた接触面７
４と、マスク本体６０を接触面７４に面接触させた状態
で保持するための３つの接着部７６とを有している。
【００２２】３つの接着部７６は、それぞれマスク本体
６０（図１上では接触面７４）の外周近傍の内側であっ
て、マスクホルダ７０の中心Ｃに対して等距離かつ等角
度（中心角が１２０°）の位置に設けられている。
６０（図１上では接触面７４）の外周近傍の内側であっ
て、マスクホルダ７０の中心Ｃに対して等距離かつ等角
度（中心角が１２０°）の位置に設けられている。
【００２３】図４は図１に示した接着部７６を拡大した
平面図であり、図５は図４の５−５線に沿う断面図であ
る。
平面図であり、図５は図４の５−５線に沿う断面図であ
る。
【００２４】これらの図面に示すように、接着部７６
は、その周囲に設けられた溝部７８によって凸形状に形
成されるとともに、凸形状の接着部７６の上面７６Ａが
マスクホルダ７０の接触面７４よりも寸法Ｌだけ低くな
るように形成されている。この寸法Ｌは、後述するよう
にマスク本体６０との間に接着剤を充填するための隙間
を確保するためのものである。また、接着部７６の上面
７６Ａの中央部には、接着剤を充填するための穴７６Ｂ
が形成されている。
は、その周囲に設けられた溝部７８によって凸形状に形
成されるとともに、凸形状の接着部７６の上面７６Ａが
マスクホルダ７０の接触面７４よりも寸法Ｌだけ低くな
るように形成されている。この寸法Ｌは、後述するよう
にマスク本体６０との間に接着剤を充填するための隙間
を確保するためのものである。また、接着部７６の上面
７６Ａの中央部には、接着剤を充填するための穴７６Ｂ
が形成されている。
【００２５】上記凸形状の接着部７６を構成する溝部７
８は、マスク本体６０の接着時に密閉されないようにマ
スク本体６０の外周部（図４、図５上では接触面７４の
外周側面７４Ａ）に通じている。尚、溝部７８の深さＭ
（接触面７４からの溝部７８の深さ）は、接触面７４か
ら接着部７６の上面７６Ａまでの寸法Ｌよりも大きい
（Ｍ＞Ｌ）ことは言うまでもない。
８は、マスク本体６０の接着時に密閉されないようにマ
スク本体６０の外周部（図４、図５上では接触面７４の
外周側面７４Ａ）に通じている。尚、溝部７８の深さＭ
（接触面７４からの溝部７８の深さ）は、接触面７４か
ら接着部７６の上面７６Ａまでの寸法Ｌよりも大きい
（Ｍ＞Ｌ）ことは言うまでもない。
【００２６】次に、マスクホルダ７０にマスク本体６０
を接着する場合の手順について説明する。
を接着する場合の手順について説明する。
【００２７】まず、図６に示すようにマスクホルダ７０
の接着部７６の上面７６Ａに、適量の接着剤８０を載せ
る。このとき、上面７６Ａの中央部の穴７６Ｂの上に接
着剤８０を載せることにより、接着部７６を上面７６Ａ
の中心に正確に載せることができる。
の接着部７６の上面７６Ａに、適量の接着剤８０を載せ
る。このとき、上面７６Ａの中央部の穴７６Ｂの上に接
着剤８０を載せることにより、接着部７６を上面７６Ａ
の中心に正確に載せることができる。
【００２８】続いて、図７に示すようにマスク本体６０
をマスクホルダ７０の接触面７４に面接触させるととも
に、接着部７６上の接着剤８０に押し当てる。このと
き、接着部７６の凸形状の上面７６Ａはマスクホルダ７
０の接触面７４よりも低いため、マスク本体６０をマス
クホルダ７０の接触面７４Ａに面接触させた状態で、接
着剤８０の厚みが確保される。また、接着部７６の凸形
状の上面７６Ａに載せられた接着剤８０は、マスク本体
６０が押し当てられると、凸形状の上面７６Ａから溢れ
るが、この溢れた接着剤は、接着部７６の周囲に形成さ
れている溝部７８に流れる。尚、接着剤８０の量は、接
着部７６の上面７６Ａ全体を覆うことができ、かつ溝部
７８を埋め尽くさないように決定する。
をマスクホルダ７０の接触面７４に面接触させるととも
に、接着部７６上の接着剤８０に押し当てる。このと
き、接着部７６の凸形状の上面７６Ａはマスクホルダ７
０の接触面７４よりも低いため、マスク本体６０をマス
クホルダ７０の接触面７４Ａに面接触させた状態で、接
着剤８０の厚みが確保される。また、接着部７６の凸形
状の上面７６Ａに載せられた接着剤８０は、マスク本体
６０が押し当てられると、凸形状の上面７６Ａから溢れ
るが、この溢れた接着剤は、接着部７６の周囲に形成さ
れている溝部７８に流れる。尚、接着剤８０の量は、接
着部７６の上面７６Ａ全体を覆うことができ、かつ溝部
７８を埋め尽くさないように決定する。
【００２９】上記溝部７８により接着剤８０がマスク本
体６０とマスクホルダ７０の接触面７４との間に入り込
むことを未然に防止することができ、マスク本体６０を
マスクホルダ７０の接触面７４に良好に面接触させ、マ
スク本体６０の平面性を精度よく維持できるようにして
いる。
体６０とマスクホルダ７０の接触面７４との間に入り込
むことを未然に防止することができ、マスク本体６０を
マスクホルダ７０の接触面７４に良好に面接触させ、マ
スク本体６０の平面性を精度よく維持できるようにして
いる。
【００３０】また、溝部７８は、マスク本体６０の外周
部に通じているため、マスク本体６０の接着時に溝部７
８内に空気溜まりができないようにしている。転写用マ
スク５０内に空気溜まりがあると、真空中での使用時に
不具合が生じるからである。また、真空中での使用に耐
える接着剤は、その接着剤の硬化に大気が必要である
が、上記溝部７８の構成により接着剤８０を良好に大気
に触れさせるようにしている。
部に通じているため、マスク本体６０の接着時に溝部７
８内に空気溜まりができないようにしている。転写用マ
スク５０内に空気溜まりがあると、真空中での使用時に
不具合が生じるからである。また、真空中での使用に耐
える接着剤は、その接着剤の硬化に大気が必要である
が、上記溝部７８の構成により接着剤８０を良好に大気
に触れさせるようにしている。
【００３１】上記のようにしてマスク本体６０は、マス
クホルダ７０の接触面７４に面接触した状態でマスクホ
ルダ７０の３箇所の接着部７６（図１参照）で接着され
る。３箇所の接着部７６では、接着剤８０によるマスク
本体６０への接着面積、形状及び厚さが等しくなり、ま
た、３箇所の接着部７６は、マスクホルダ７０の中心Ｃ
に対して等距離かつ等角度の位置にあるため、接着に伴
うマスク本体６０にかかる応力を均等にすることができ
る。接着部７６を３箇所とした理由は、マスク本体６０
をマスクホルダ７０に確実に接着し、かつ接着箇所を最
小限にしたためである。
クホルダ７０の接触面７４に面接触した状態でマスクホ
ルダ７０の３箇所の接着部７６（図１参照）で接着され
る。３箇所の接着部７６では、接着剤８０によるマスク
本体６０への接着面積、形状及び厚さが等しくなり、ま
た、３箇所の接着部７６は、マスクホルダ７０の中心Ｃ
に対して等距離かつ等角度の位置にあるため、接着に伴
うマスク本体６０にかかる応力を均等にすることができ
る。接着部７６を３箇所とした理由は、マスク本体６０
をマスクホルダ７０に確実に接着し、かつ接着箇所を最
小限にしたためである。
【００３２】尚、マスクホルダの接着部の上面の形状や
接着部の上面の中央部に設けられた穴の形状は、この実
施の形態に限定されない。また、接着部の上面の中央部
の穴は、省略してもよい。
接着部の上面の中央部に設けられた穴の形状は、この実
施の形態に限定されない。また、接着部の上面の中央部
の穴は、省略してもよい。
【００３３】次に、本発明に係る転写用マスクの検査方
法について説明する。
法について説明する。
【００３４】まず、図８を用いて転写用マスクの検査方
法に使用する光波干渉計について説明する。
法に使用する光波干渉計について説明する。
【００３５】同図に示すように光波干渉計９０は、測定
対象９５の平面精度及び角度精度に応じたフィゾー干渉
縞を発生させるもので、主として光源９１と、レンズ９
２と、ビームスプリッタ９３と、透過平面鏡９４とから
構成されている。
対象９５の平面精度及び角度精度に応じたフィゾー干渉
縞を発生させるもので、主として光源９１と、レンズ９
２と、ビームスプリッタ９３と、透過平面鏡９４とから
構成されている。
【００３６】光源９１から発せられたレーザー光などの
可干渉な光は、レンズ９２により平行光に変換され、ビ
ームスプリッタ９３を介して透過平面鏡９４に入射す
る。透過平面鏡９４に入射した光は、その一部が透過平
面鏡９４に設けられた半透膜（参照面）９４Ａで反射
し、残りが透過して測定対象９５に入射する。
可干渉な光は、レンズ９２により平行光に変換され、ビ
ームスプリッタ９３を介して透過平面鏡９４に入射す
る。透過平面鏡９４に入射した光は、その一部が透過平
面鏡９４に設けられた半透膜（参照面）９４Ａで反射
し、残りが透過して測定対象９５に入射する。
【００３７】前記透過平面鏡９４の参照面９４Ａで反射
した光と測定対象９５の表面で反射した光は、それぞれ
ビームスプリッタ９３で合成され、撮像装置９６に入射
する。
した光と測定対象９５の表面で反射した光は、それぞれ
ビームスプリッタ９３で合成され、撮像装置９６に入射
する。
【００３８】参照面９４Ａで反射した光と測定対象９５
の表面で反射した光は、それぞれビームスプリッタ９３
で合成されて干渉し合い、測定対象９５の平面精度や参
照面９４Ａに対する測定対象９５の傾きに対応したフィ
ゾー干渉縞として現れる。このフィゾー干渉縞は、撮像
装置９６によって撮影される。
の表面で反射した光は、それぞれビームスプリッタ９３
で合成されて干渉し合い、測定対象９５の平面精度や参
照面９４Ａに対する測定対象９５の傾きに対応したフィ
ゾー干渉縞として現れる。このフィゾー干渉縞は、撮像
装置９６によって撮影される。
【００３９】次に、上記光波干渉計９０を使用して転写
用マスク５０のマスクパターンのパターン面の基準面に
対する傾き、及びパターン面の面形状を検査する方法に
ついて説明する。
用マスク５０のマスクパターンのパターン面の基準面に
対する傾き、及びパターン面の面形状を検査する方法に
ついて説明する。
【００４０】図９に示すように、基準面としてのスペー
サ９７上に平行平面板９８を載せる。この平行平面板９
８は、その平行度及び平面度が精度よく製作されたもの
であある。
サ９７上に平行平面板９８を載せる。この平行平面板９
８は、その平行度及び平面度が精度よく製作されたもの
であある。
【００４１】続いて、光波干渉計９０から得られる干渉
縞が０次となるように光波干渉計９０と平行平面板９８
とを相対的に調整する。即ち、光波干渉計９０によって
干渉縞を観察しながら干渉縞が現れないように調整す
る。これにより、光波干渉計９０の透過平面鏡９４（図
８参照）と平行平面板９８の上面とが平行になるように
調整される。
縞が０次となるように光波干渉計９０と平行平面板９８
とを相対的に調整する。即ち、光波干渉計９０によって
干渉縞を観察しながら干渉縞が現れないように調整す
る。これにより、光波干渉計９０の透過平面鏡９４（図
８参照）と平行平面板９８の上面とが平行になるように
調整される。
【００４２】この調整後、スペーサ９７上の平行平面板
９８に代えて、図１０に示すように転写用マスク５０を
載せる。
９８に代えて、図１０に示すように転写用マスク５０を
載せる。
【００４３】このとき、光波干渉計９０によって観察さ
れるフィゾー干渉縞により、転写用マスク５０のマスク
パターンのパターン面の傾き、及びパターン面の面形状
を検査することができる。例えば、フィゾー干渉縞が等
間隔で平行な場合には、転写用マスク５０のパターン面
は、干渉縞が並んでいる方向に傾斜していることが分か
る。尚、干渉縞の数が多い程、転写用マスク５０のパタ
ーン面の傾きも大きい。また、フィゾー干渉縞がリング
状の場合には、転写用マスク５０のパターン面の中央部
と周辺部とに高低差があることが分かる。
れるフィゾー干渉縞により、転写用マスク５０のマスク
パターンのパターン面の傾き、及びパターン面の面形状
を検査することができる。例えば、フィゾー干渉縞が等
間隔で平行な場合には、転写用マスク５０のパターン面
は、干渉縞が並んでいる方向に傾斜していることが分か
る。尚、干渉縞の数が多い程、転写用マスク５０のパタ
ーン面の傾きも大きい。また、フィゾー干渉縞がリング
状の場合には、転写用マスク５０のパターン面の中央部
と周辺部とに高低差があることが分かる。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、マ
スクホルダに設けた接着部を凸形状とするとともに接着
部の上面をマスクホルダの接触面よりも低いため、マス
ク本体をマスクホルダの接触面に面接触させた状態で精
度よく接着することができる。特に、凸形状の上面から
溢れた接着剤は、凸形状を構成する周囲の溝部に流れる
ため、接着剤がマスク本体とマスクホルダの接触面との
間に入り込むことを未然に防止することができる。
スクホルダに設けた接着部を凸形状とするとともに接着
部の上面をマスクホルダの接触面よりも低いため、マス
ク本体をマスクホルダの接触面に面接触させた状態で精
度よく接着することができる。特に、凸形状の上面から
溢れた接着剤は、凸形状を構成する周囲の溝部に流れる
ため、接着剤がマスク本体とマスクホルダの接触面との
間に入り込むことを未然に防止することができる。
【００４５】また、接着部の凸形状を構成する周囲の溝
部は、マスク本体の外周部に通じるように形成されてい
るため、接着部に空気溜まりができず、転写用マスクを
真空中で使用することができ、更に真空中での使用に耐
える接着剤は、その接着剤の硬化に大気が必要である
が、接着剤を良好に大気に触れさせることができる。更
にまた、マスクホルダを導電性部材から構成するととも
に、ダイヤモンド等の非導電性部材から構成されたマス
ク本体の表面に導電性の薄膜を形成するようにしたた
め、マスクホルダ及びマスク本体への帯電を防止するこ
とができ、電子ビーム露光装置の電子ビームへの影響を
防止することができる。
部は、マスク本体の外周部に通じるように形成されてい
るため、接着部に空気溜まりができず、転写用マスクを
真空中で使用することができ、更に真空中での使用に耐
える接着剤は、その接着剤の硬化に大気が必要である
が、接着剤を良好に大気に触れさせることができる。更
にまた、マスクホルダを導電性部材から構成するととも
に、ダイヤモンド等の非導電性部材から構成されたマス
ク本体の表面に導電性の薄膜を形成するようにしたた
め、マスクホルダ及びマスク本体への帯電を防止するこ
とができ、電子ビーム露光装置の電子ビームへの影響を
防止することができる。
【図１】本発明に係る転写用マスクを構成するマスクホ
ルダの平面図
ルダの平面図
【図２】図１の２−２線に沿う断面図
【図３】マスク本体のマスクパターンが形成される薄膜
部の拡大断面図
部の拡大断面図
【図４】図１に示した接着部を拡大した平面図
【図５】図４の５−５線に沿う断面図
【図６】図５に示した接着部に接着剤を載せた状態を示
す断面図
す断面図
【図７】図６に示した接着部上の接着剤にマスク本体を
押し当てた状態を示す断面図
押し当てた状態を示す断面図
【図８】本発明に係る転写用マスクの検査方法に使用す
る光波干渉計の一例を示す図
る光波干渉計の一例を示す図
【図９】図８に示した光波干渉計を用いた転写用マスク
の検査方法を説明するために用いた図
の検査方法を説明するために用いた図
【図１０】図８に示した光波干渉計を用いた転写用マス
クの検査方法を説明するために用いた図
クの検査方法を説明するために用いた図
【図１１】本発明に係る転写用マスクが適用される電子
ビーム露光装置の基本構成図
ビーム露光装置の基本構成図
５０…転写用マスク、６０…マスク本体、６０Ａ…薄膜
部、６２…導電性の薄膜、７０…マスクホルダ、７２…
開口部、７４…接触面、７４Ａ…接触面の外周側面、７
６…接着部、７６Ａ…接着部の上面、７６Ｂ…穴、７８
…溝部、８０…接着剤、９０…光波干渉計、９７…スペ
ーサ、９８…平行平面板
部、６２…導電性の薄膜、７０…マスクホルダ、７２…
開口部、７４…接触面、７４Ａ…接触面の外周側面、７
６…接着部、７６Ａ…接着部の上面、７６Ｂ…穴、７８
…溝部、８０…接着剤、９０…光波干渉計、９７…スペ
ーサ、９８…平行平面板
Claims (9)
- 【請求項１】 マスクパターンを有するマスク本体と、
該マスク本体を保持するマスクホルダとから構成され、
電子ビーム露光装置に使用される転写用マスクにおい
て、 前記マスクホルダは、前記マスク本体のマスクパターン
に電子ビームを照射するために中央部に設けられた開口
部と、前記マスク本体を面接触させるために前記開口部
の周囲に設けられた接触面と、前記マスク本体を前記接
触面に面接触させた状態で保持するための接着部とを有
し、 前記接着部は、前記接触面よりも上面が低い凸形状に形
成され、当該凸形状の上面と前記接触面に面接触される
前記マスク本体との間に充填される接着剤によって当該
マスク本体を保持することを特徴とする転写用マスク。 - 【請求項２】 前記接着部は、前記マスク本体の外周近
傍の内側であって、前記マスクホルダの中心に対して等
距離かつ等角度の位置に３箇所設けられていることを特
徴とする請求項１の記載の転写用マスク。 - 【請求項３】 前記接着部の凸形状の上面の中央部に
は、前記接着剤を充填するための穴が形成されているこ
とを特徴とする請求項１又は２に記載の転写用マスク。 - 【請求項４】 前記接着部の凸形状を構成する周囲の溝
部は、前記マスク本体の接着時に密閉されないように当
該マスク本体の外周部に通じていることを特徴とする請
求項１乃至３のいずれかに記載の転写用マスク。 - 【請求項５】 前記マスクホルダは、導電性部材から構
成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに
記載の転写用マスク。 - 【請求項６】 前記マスク本体は、ダイヤモンド又は炭
化ケイ素（ＳｉＣ）から構成されるとともに、その表面
に導電性の薄膜が形成されていることを特徴とする請求
項１乃至５のいずれかに記載の転写用マスク。 - 【請求項７】 前記マスク本体は、単結晶のケイ素（Ｓ
ｉ）から構成されていることを特徴とする請求項１乃至
６のいずれかに記載の転写用マスク。 - 【請求項８】 光波干渉計の測定対象として基準面上に
平行平面板を載せる工程と、 前記光波干渉計から得られる干渉縞が０次となるように
当該光波干渉計と基準面とを相対的に調整する工程と、 前記基準面上に前記平行平面板に代えて転写用マスクを
載せる工程とを含み、 前記光波干渉計から得られる干渉縞によって前記基準面
に対する前記転写用マスクの傾き及び面形状を検査する
ことを特徴とする転写用マスクの検査方法。 - 【請求項９】 光波干渉計の測定対象として基準面上に
平行平面板を載せる工程と、 前記光波干渉計から得られる干渉縞が０次となるように
当該光波干渉計と基準面とを相対的に調整する工程と、 前記基準面上に前記平行平面板に代えて請求項１乃至７
のいずれかに記載の転写用マスクを載せる工程とを含
み、 前記光波干渉計から得られる干渉縞によって前記基準面
に対する前記転写用マスクの傾き及び面形状を検査する
ことを特徴とする転写用マスクの検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001051925A JP2002252164A (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | 転写用マスク及び転写用マスクの検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001051925A JP2002252164A (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | 転写用マスク及び転写用マスクの検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002252164A true JP2002252164A (ja) | 2002-09-06 |
Family
ID=18912634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001051925A Pending JP2002252164A (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | 転写用マスク及び転写用マスクの検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002252164A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004068565A1 (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-12 | Leepl Corp. | 荷電粒子露光用マスク |
| US6900878B2 (en) * | 2002-08-05 | 2005-05-31 | Nikon Corporation | Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same |
| JP2006216544A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Samsung Sdi Co Ltd | 伝導性高分子パターン膜及びそのパターニング方法、並びにそれを利用する有機電界発光素子及びその製造方法 |
| JP2006303446A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-11-02 | Dainippon Printing Co Ltd | リソグラフィ用マスク及びその製造方法 |
| JP2010135578A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Toppan Printing Co Ltd | マスクホルダおよび露光装置 |
-
2001
- 2001-02-27 JP JP2001051925A patent/JP2002252164A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6900878B2 (en) * | 2002-08-05 | 2005-05-31 | Nikon Corporation | Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same |
| WO2004068565A1 (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-12 | Leepl Corp. | 荷電粒子露光用マスク |
| JP2006216544A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Samsung Sdi Co Ltd | 伝導性高分子パターン膜及びそのパターニング方法、並びにそれを利用する有機電界発光素子及びその製造方法 |
| JP2006303446A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-11-02 | Dainippon Printing Co Ltd | リソグラフィ用マスク及びその製造方法 |
| JP2010135578A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Toppan Printing Co Ltd | マスクホルダおよび露光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060124 |