JP2002248466A - 汚染水及び地下水浄化装置及びその方法 - Google Patents

汚染水及び地下水浄化装置及びその方法

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JP2002248466A JP2001183201A JP2001183201A JP2002248466A JP 2002248466 A JP2002248466 A JP 2002248466A JP 2001183201 A JP2001183201 A JP 2001183201A JP 2001183201 A JP2001183201 A JP 2001183201A JP 2002248466 A JP2002248466 A JP 2002248466A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 活性炭や微生物による処理を必要とせず、塩
素発生手段(塩素ボンベ、または、塩素溶液すなわち機
能水)を使用することにより、効率的に、しかも2次汚
染の問題なく地下水等の汚染水の浄化処理を行なうこと
のできる装置、及び、該装置を用いた浄化の方法を提供
する。 【解決手段】 汚染物質を含む地下水に気体を曝気し、
得られた汚染物質を含む気体と、塩素を含む気体とを混
合し、これに光照射して汚染物質を分解する装置及び方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、汚染水及び汚染さ
れた地下水の浄化装置及びそれを用いた効率のよい汚染
水及び汚染地下水の浄化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年までの産業技術の発展に伴いハロゲ
ン化脂肪族炭化水素化合物(例えば塩素化エチレン、塩
素化メタン等)が膨大に使用され、その廃棄処理は深刻
な問題となってきている。有機塩素化合物による環境汚
染物質の多くは土壌中に浸透し、分解されずに、序々に
地下水に溶け地下水を通じて汚染領域を拡大する。これ
らの深刻な環境汚染の再発を防止すると共に、すでに汚
染されてしまった環境を浄化し、もとの状態にもどして
いく技術の確立が強く望まれている。
【0003】地下水の浄化方法としては、汚染された地
下水を汲み上げ、オンサイトで浄化を行なうという方法
がある。この方法は、揚水した汚染地下水を曝気塔内で
曝気処理し、気相部に汚染物質を移行させることで地下
水を浄化する。汚染物質が移行した気体は、そのまま大
気に放出すると大気汚染につながるため、活性炭塔で汚
染物質を捕捉し除去している。
【0004】また、微生物のもつ分解能を用いて地下水
中の汚染物質を分解する技術:バイオレメディエーショ
ンが提案されている。
【0005】具体的な例としては、特開昭54-66376号公
報に、NaClまたはNaBrからなるハロゲン化物水溶液
を電解液として電気分解する電解槽と、悪臭成分を含有
する原臭ガスを電解槽の陰極側の液に曝気し、次いで、
曝気されたガスを今度は、陽極側の液に曝気することで
悪臭を除去する装置が開示されている。しかし、この装
置においては、電解槽内の陰極側での原臭ガスの曝気、
ガスの回収、及び陽極側での曝気という工程を経ること
から、必ずしも安定的に原臭ガスの処理ができない可能
性がある。
【0006】また、特公昭53-17816号公報には、有機廃
液中に、塩化アルミニウム又は塩化鉄を溶解させ、紫外
線を照射しながら塩化物を電気分解する有機廃液の処理
方法が開示されている。当該公報によると、電気分解さ
れる塩化物により次亜塩素酸塩が発生し、これに紫外線
が作用して発生する活性酸素により廃液中の有機物を分
解できるとしている。
【0007】しかしながら、当該公報に開示された処理
方法であっても、廃液中における塩化物の濃度が変化す
ることに起因して必ずしも安定した処理が行なえない可
能性がある。
【0008】また、水の電気分解によって得られる機能
水、例えば酸性水が、殺菌効果(特開平1-180293号公
報)や半導体ウエハー上の汚染物の洗浄効果(特開平7-5
1675号公報)を有することについても知られている。
【0009】また、汚染物質を分解する装置として、光
による分解が知られている。UV-B,Cの紫外線が一部
の汚染物質を分解する現象を利用した光分解装置で、特
開平9-299753号公報、10-180040号公報等の開示例があ
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、活性
炭や微生物による処理を必要とせず、塩素を含んだ水等
を使用することにより、効率的な、しかも、2次汚染の
問題のない、地下水等の汚染水の浄化処理を行なうこと
のできる装置、及び、該装置を用いた浄化の方法を提供
することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明の第1の発明は地下水等の汚染水の浄化装置で
ある。
【0012】即ち、本発明は、汚染物質を含む汚染水に
気体を曝気し、汚染物質を含む気体を発生させる手段
と、塩素を含む気体を発生する塩素含有気体発生手段
と、該汚染物質を含有する気体と、該塩素含有気体発生
手段で発生した塩素を含む気体とを混合して混合気体を
形成する混合手段と、該混合気体が導入される処理領域
と、該処理領域に該混合気体に含まれる汚染物質を分解
するための光照射を行なう光照射手段と、を有する処理
槽と、該処理槽の処理領域から分解処理された気体を排
出するための排気手段とを有することを特徴とする汚染
水浄化装置に関するものである。
【0013】本発明における汚染水浄化装置は、土壌中
に配置された井戸内で浄化作業を行なえるように構成さ
れていることが望ましい。
【0014】また、塩素を含む気体を導入する工程とし
ては、塩素ボンベによる導入の他、通気により塩素を含
む気体を発生し得る機能水に空気を接触させる方法が好
適に利用される。具体的には、機能水の表面に空気を送
風する工程、機能水の小液滴と空気を接触させる工程
(たとえばノズルによる機能水の噴射工程)、機能水を空
気で曝気する工程が好適に利用できる。
【0015】さらに、塩素を含む気体を発生させる工程
は、機能水を生成する工程、機能水を水槽に供給する工
程、水槽に空気を導入する工程、発生した塩素を含む気
体を排出する工程、及び塩素を含む気体の発生に用いた
機能水を排水する工程を有するものとすることができ
る。
【0016】また、水槽に供給する機能水を生成する工
程は、水槽に電解質を含む水を供給する工程、水槽内の
電解質を含む水に電位をかける工程を有するものとする
ことができる。
【0017】また、本発明は、汚染物質を含む汚染水に
気体を曝気し、該汚染物質を含む気体として抽出し、該
汚染物質を含む気体と塩素を含む気体との混合物に光照
射して該汚染物質を分解する汚染水浄化方法であって、
汚染水に気体を曝気し、汚染物質を含有する気体を発生
させる工程と、塩素を含む気体を導入する工程と、該汚
染物質を含有する気体と、塩素を含む気体とを混合して
混合気体を形成する工程と、処理槽内に処理領域に導入
された該混合気体に光照射して、該混合気体内の汚染物
質を分解する工程と、該分解処理された混合気体を該処
理領域から排気する工程とを有することを特徴とする汚
染水浄化方法に関するものである。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0019】本発明の汚染水浄化装置は、空気等の気体
によって汚染物質を含有した地下水等の汚染水を曝気
し、汚染物質を含む空気を発生させる。一方、塩素含有
気体を発生させる。この汚染物質を含む空気と塩素含有
気体を処理槽に導入する前、もしくは、処理槽内で混合
し、光の照射を行なう。これにより、汚染物質を分解さ
せ、有害物質として特に問題となっているトリクロロエ
チレン等の汚染物質を地下水等の汚染水中から効率良
く、除き、分解処理することができる汚染水浄化装置で
ある。
【0020】最終的に汚染水から汚染物質は脱離され、
汚染水が浄化されるとともに、汚染水からの汚染物質も
分解され浄化が完了する。
【0021】図1は本発明の一実施態様にかかる汚染水
浄化装置を示す概略図である。この浄化装置では、有機
塩素化合物等のハロゲン化脂肪族炭化水素化合物で汚染
された地下水等の汚染水からそれらの物質を除去し分解
を行なう。本装置は、処理対象の汚染水1が収納されて
いる曝気槽2、塩素を含む水に曝気槽2から排出された
該汚染物質を含む気体を通気して、汚染物質を含む気体
に塩素を付加し、この汚染物質と塩素を同時に含む気体
に光照射手段4を用いて光照射を行ない、汚染物質を分
解浄化する処理槽3及び光照射手段4とを備えて構成さ
れている。
【0022】ここで、曝気槽2には有機塩素化合物等で
汚染された地下水等の水が供給できるように構成されて
いる。曝気槽2には汚染水1を加熱効率よく曝気するた
めの手段として攪拌手段 12 が備えられていてもよい。
【0023】この構成の汚染水浄化装置においては、有
機塩素化合物等のハロゲン化脂肪族炭化水素化合物で汚
染された汚染水1を、曝気槽2に収納し、ポンプ5によ
って供給される空気等の気体により、汚染水1より汚染
物質を脱離させて、汚染水1を浄化する。この工程を曝
気工程と呼ぶ。
【0024】曝気工程からでる汚染物質を含む気体は、
ポンプ8を用いて処理槽3内に導かれ、塩素を含む水
(機能水)中を通過する。
【0025】処理槽3には機能水供給装置(不図示)から
パイプ9及びポンプ 10 を用いて機能水が供給される。
さらに、機能水には曝気槽2から供給される汚染物質を
含む気体が供給され、機能水中を通過する際に汚染物質
を含有する気体に塩素を供給する。この汚染物質と塩素
を同時に含んだ気体に光照射手段4であるランプで光照
射が行なわれ、汚染物質が分解される。この工程を浄化
・分解工程と呼ぶ。
【0026】処理で使われた機能水は排出管6を介して
排出される。また浄化されたガスは排出管7から排出さ
れる。12 は汚染水1の攪拌手段である。
【0027】また排出管7から排出されるガスを活性炭
などの吸着素材に接触させる手段を設けて未分解の汚染
物質を吸着させてもよい。また曝気工程後のガスを一
端、活性炭などの吸着素材に吸着せしめ、濃縮を行な
い、この吸着素材からのガスを処理槽3に導く構成をと
ってもよい。
【0028】図2は本発明の一実施態様にかかる汚染水
浄化装置を示す概略図である。この浄化装置では、有機
塩素化合物等ハロゲン化脂肪族炭化水素化合物で汚染さ
れた地下水等の汚染水からそれらの物質を除去し分解を
行なう。処理対象の汚染水1が収納されている曝気槽
2、機能水を曝気し、塩素含有気体を作製する機能水曝
気槽 14、曝気槽2から排出された該汚染物質を含む気
体と機能水曝気槽 14 により作製された塩素含有気体を
混合させる処理槽3及びこの混合気体に光を照射する光
照射手段4とを備えて構成されている。
【0029】ここで、曝気槽2には有機塩素化合物等で
汚染された地下水等の水が供給できるように構成されて
いる。曝気槽2には汚染水1を効率よく浄化する手段と
して攪拌手段 12 が備えられていてもよい。
【0030】この構成の汚染水浄化装置においては、有
機塩素化合物等のハロゲン化脂肪族炭化水素化合物で汚
染された汚染水1を、曝気槽2に収納し、ポンプ5によ
って供給される空気等の気体加により、汚染水1より汚
染物質を脱離させて、汚染水1を浄化する。
【0031】この工程を曝気工程と呼ぶ。さらに、汚染
物質を含む気体を、ポンプ8を用いて処理槽3内に導
き、同時に機能水中を通過し、塩素含有気体を処理槽3
内に導入する。
【0032】機能水曝気槽 14 には機能水供給装置(不
図示)からパイプ9及びポンプ 10 を用いて機能水が供
給される。処理槽3では、光照射手段4であるランプで
光照射が行なわれ、混合気体中の汚染物質が分解され
る。この工程を浄化・分解工程と呼ぶ。機能水曝気槽 1
4 で使われた機能水は排出管6を介して排出される。ま
た浄化された気体は排出管7から排出される。
【0033】また排出管7からでる気体を活性炭などの
吸着素材に接触させる手段を設けて未分解の汚染物質を
吸着させてもよい。また曝気工程後の気体を一端、活性
炭などの吸着素材に吸着せしめ、濃縮を行ない、この吸
着素材からの気体を処理槽3に導く構成をとってもよ
い。
【0034】曝気工程では、攪拌手段による汚染物質の
気散促進以外にも、ヒータ等を使用し、加熱することに
よっても汚染物質の気散を促進することができる。
【0035】また、図3に示す形態では、排出管7から
排出された処理後のガス中に、汚染物質が残留していた
場合の対応として、第二処理槽 16 を設けている。排出
管7から排出されたガス中に2次処理に十分な塩素ガス
が残留している場合は、光照射手段 17 を用いて光照射
することで残留汚染物質は分解できる。2次処理に必要
な塩素ガスが不十分な場合は、ポンプ 18 を用いて機能
水曝気槽 14(不図示)から塩素を含んだ空気を第二処理
槽 16 に供給し、光照射手段 17 を用いて光照射するこ
とで残留汚染物質は分解できる。
【0036】図4に示す形態では、汚染された地下水等
の汚染水を曝気して得られた汚染物質を含む気体の一部
を機能水の曝気に利用し、塩素を含む気体を発生させ
る。汚染物質を含んだ気体は、バルブ 20 で、2方向に
分岐し、一方は処理槽3に、他方は機能水曝気槽 14 に
導入される。
【0037】機能水曝気槽 14 に導入された気体は、機
能水中を通過する際に機能水より塩素を受け取り、塩素
含有気体となり処理槽3に導入され、バルブ 20 から直
接処理槽3に導入された汚染物質を含んだ気体と混合さ
れる。該混合気体に、光照射手段4を用いて光照射する
ことで汚染物質は、分解され、地下水等の汚染水は浄化
される。
【0038】図5で示す形態は、土壌中に設置された井
戸内で地下水を浄化するための装置の一形態を示してい
る。本外略図に示す装置では、土壌中に設置された井戸
23に浸出する地下水を浄化する。
【0039】まず、井戸 23 に浸出する地下水にブロワ
ー 21 を用いて、空気を吹き込み、汚染物質を気相に移
動させる。汚染物質を含んだ空気は、ポンプ 22 によっ
て処理槽 33 に導入される。同時に、機能水製造装置 3
0 によって作製された機能水は、機能水曝気槽 28 に導
入され、ブロワー 32 から機能水曝気槽 28 の導入され
た空気によって曝気される。曝気によって得られた塩素
含有気体は、ポンプ 27 によって処理槽 33 に導入さ
れ、汚染物質を含んだ空気と混合される。
【0040】混合された気体は、光照射手段 26 の光照
射によって汚染物質を分解浄化され、排気管 34 から排
出される。
【0041】光照射手段 26 には、例えばブラックライ
トなどを用いてもよい。排気管 34から排出される浄化
された空気は、汚染物質濃度が所定の濃度以下ならその
まま排出しても良いし、また、活性炭吸着塔に排出して
もよい。
【0042】図5の形態では機能水曝気槽 28 の曝気に
よって得られた塩素含有気体を、処理槽 33 に導入し、
汚染物質を含んだ空気と混合し分解したが、図6は、機
能水曝気槽 28 の曝気によって塩素を含んだ空気を得る
かわりに、塩素発生装置 35の塩素ボンベから塩素を得
て、これを用いて、汚染物質を含んだ空気と混合し汚染
物質の分解をおこなう形態を示している。
【0043】塩素ボンベからの塩素ガスと汚染物質を含
んだ空気との混合後の工程は図5の形態と同様である。
【0044】以下さらに詳細に説明する。
【0045】(処理対象となる汚染水)本発明に使用でき
る地下水等の汚染水は、いかなるものでも良い。処理対
象となる汚染物質は機能水と光で分解できる物質が良
く、ハロゲン化脂肪族炭化水素化合物であり、該ハロゲ
ン化脂肪族炭化水素化合物は塩素及びフッ素の少なくと
も一方の元素を有するものが挙げられる。特に、有機塩
素化合物が用いられ、有機塩素化合物としては、クロロ
エチレン、1,1-ジクロロエチレン、cis-1,2-ジクロ
ロエチレン、trans-1,2-ジクロロエチレン、トリクロ
ロエチレン、1,1,1-トリクロロエタン、テトラクロ
ロエチレン、クロロメタン、ジクロロメタン及びトリク
ロロメタン等を挙げることができる。
【0046】また、揮発性が高く、汚染水から曝気等の
方法で汚染物質が容易に気相に移動するものが望まし
い。
【0047】汚染水は上記汚染物質で汚染された地下水
のほか、上記汚染物質を含む汚染ガスを活性炭で吸着処
理し、この汚染物質が吸着した活性炭から水蒸気脱着等
の方法で脱離させたとき生じる脱離水の浄化処理にも本
発明を用いることができる。
【0048】汚染水の濃度は、いかなる濃度でもよく、
1mg/L以下の低濃度からほぼ原液の 100%の汚染水(汚
染溶液)まで処理可能である。
【0049】(機能水生成装置及び機能水について)本発
明に用いることのできる、汚染物質を含有する気体の通
気により塩素を含む気体を発生し得る機能水は、下記の
性状をもつ塩素溶液であり、電解水、電解機能水とも呼
ばれ、除菌目的で使用されている。例えば水素イオン濃
度(pH値)が1以上4以下、好ましくは2以上3以下、
残留塩素濃度が5mg/L以上 300mg/L以下、好ましくは
5mg/L以上 150mg/L以下、より好ましくは 30mg/L以
上 120mg/L以下の性状をもつと良い。また好ましくは
作用電極をプラチナ電極とし参照電極を銀-塩化銀とし
たときの酸化還元電位が 800mV以上 1500mV以下で
ある。
【0050】電解質(例えば、塩化ナトリウムや塩化カ
リウムなど)を原水に溶解し、この水を一対の電極を有
する水槽内で電気分解を行なうことによって、陽極側よ
り上記の如きの性状の塩素溶液を得ることができる。
【0051】電解前の原水中の電解質の濃度は例えば塩
化ナトリウムでは 20mg/L〜2000mg/Lが望ましく、よ
り好ましくは 200mg/L以上 1000mg/L以下とするのが
よい。
【0052】またこのとき一対の電極間に隔膜を配置し
た場合、陽極近傍に生成される酸性の水と陰極近傍にて
生成するアルカリ性の水との混合を防ぐことができる。
【0053】該隔膜としては例えばイオン交換膜等が好
適に用いられる。そしてこのような機能水を得る手段と
しては、市販の強酸性電解水生成器(例えば、商品名:オ
アシスバイオハーフ;旭硝子エンジニアリング(株)社
製、商品名:強電解水生成器(Model FW-200 ;アマノ
(株)社製等)を利用することができる。
【0054】上記の特性を有する塩素溶液すなわち機能
水は、次亜塩素酸などを用いて試薬から調製することも
可能である。例えば、塩酸 0.001mol/L〜0.1mol/L、
塩化ナトリウム 0.005mol/L〜0.02mol/L、及び次亜塩
素酸ナトリウム 0.0001mol/L〜0.01mol/Lとすること
により得ることができる。
【0055】また、塩酸と次亜塩素酸塩でpHが 4.0 以
下で塩素濃度が2mg/L〜2000mg/Lの機能水を調製する
こともできる。例えば、塩酸 0.001mol/L〜0.1mol/L
及び次亜塩素酸ナトリウム 0.0001mol/L〜0.01mol/L
とすることにより得ることができる。
【0056】上記の塩酸の代りに他の無機酸または有機
酸を使用することができる。無機酸としては例えば、フ
ッ酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などが、有機酸としては酢
酸、ぎ酸、りんご酸、クエン酸、シュウ酸などが利用で
きる。また、弱酸性水粉末生成剤(例えば、商品名 キノ
ーサン21X(クリーンケミカル株式会社製))として市販
されているN333NaCl2等を用いても機能水を製造
することができる。
【0057】また、隔膜をもたない装置から生成された
塩素を含む水も以上述べられてきた有機塩素化合物の分
解に用いることができる。例えば、酸化還元電位が 300
mV以上 1100mV以下、かつ塩素濃度が2mg/L以上 1
00mg/L以下であり、pHは4〜10 の水である。
【0058】また、pH4以上の水も電解によってばか
りでなく原水に種々の試薬を溶解して調製することも可
能である。例えば、塩酸 0.001mol/L〜0.1mol/L、水
酸化ナトリウム 0.001mol/L〜0.1mol/L、および次亜
塩素酸ナトリウム 0.0001mol/L〜0.01mol/Lの濃度で
水にこれらの成分を含有させることで所望とする塩素を
含む水を得ることができる。
【0059】一方、次亜塩素酸塩のみ、例えば次亜塩素
酸ナトリウム 0.0001mol/L〜0.01mol/Lとすることで
も塩素濃度が 1000mg/L以下で、pH4以上の塩素を含
む水を得ることができる。
【0060】以上は、主に図1に示したごとき、塩素含
有空気発生手段が、処理槽の底部に塩素を含む水(機能
水)が貯溜されており、ここに通気される空気が汚染物
質を含むもので、この通気手段が塩素含有空気と汚染物
質を含む気体との混合手段を兼ねている形態に関して述
べてきた。
【0061】後述するように、本発明による分解反応で
は分解の場において、塩素がある濃度範囲にあることが
望ましく、その濃度範囲が達成されるなら、塩素含有空
気発生手段の塩素を含む水(機能水)中の塩素濃度は必ず
しも、上記に示した範囲にある必要はない。
【0062】例えば、図2のごとき塩素を含む水(機能
水)に汚染物質を含まない気体を導入し、発生した塩素
ガスと汚染物質を含む空気とを混合している場合は、上
記の塩素を含む水(機能水)中の塩素濃度より高くするこ
とが望ましい。
【0063】即ち、図2のごとき構成では、発生した塩
素ガスは汚染物質を含む空気で希釈される。この希釈比
率は、発生した塩素ガスの供給量及び汚染物質を含む空
気の反応場への供給量の比できまる。例えば、汚染物質
を含む空気の供給量が、発生した塩素ガスの供給量の4
倍ならば、塩素濃度は1/5に希釈される。この希釈さ
れたときにある塩素濃度範囲が保たれている必要があ
る。このためこの図2のごとき形態では、塩素を含む水
(機能水)中の塩素濃度をより高くすることが望ましい。
【0064】より高い塩素濃度の機能水(塩素溶液)は、
電気分解を用いて生成するより試薬から調製するほうが
容易である。即ち、電気分解によって得られる機能水の
10倍〜50倍の残留塩素濃度を持つ機能水を容易に得る
ことができる。残留塩素濃度が 50mg/L以上 15000mg/
L以下、好ましくは 50mg/L以上 3000mg/L以下、より
好ましくは 100mg/L以上 1500mg/L以下の性状をもつ
と良い。このような残留塩素濃度の高い溶液を機能水と
呼び得るかは、議論がわかれるところであるが、本発明
では機能水とも呼称する。このような残留塩素濃度の高
い機能水を試薬で調製するときは、予め、試薬を混合す
るより、塩素発生槽(機能水曝気槽)において、例えば、
塩酸と次亜塩素酸ナトリウム溶液を混合すると良い。
【0065】ここで機能水調製に用いる原水としては水
道水、河川水、海水等が挙げられる。これらの水の pH
は通常6〜8の間にあり、塩素濃度は最大でも1mg/L
未満であり、このような原水は当然のことながら上記し
たような有機塩素化合物の分解に用いることはできな
い。
【0066】以上、機能水生成装置及び機能水について
説明してきたが、次に述べる塩素ガスの濃度が混合気体
中で達成できるなら必ずしも上記で説明した範囲の機能
水でなくても良いことは言うまでもない。
【0067】(塩素ガスの濃度及び塩素ガス発生手段)上
記の機能水からはすべて分解に必要な塩素ガスを発生さ
せることが可能である。塩素含有気体として、例えば機
能水に空気を通すことによって得られる塩素ガス含有空
気を用いることもできる。これと分解対象ガスとを混合
し光照射を行なうことで汚染物質を分解する本発明の他
の形態に用いることができる。
【0068】また、機能水に空気を通すかわりに汚染物
質を含む空気を通すことで、分解対象ガスと塩素ガスと
の混合気体を得ても良い。この場合は比較的高濃度の塩
素ガスを得ることができる。
【0069】機能水中に通す空気、または、該機能水の
表面に送風する空気が、汚染された地下水等を曝気して
得られた汚染物質を含有する空気を含むことは何ら問題
とならない。ただし、この場合は、機能水中に汚染物質
が一部溶解する場合があるので注意を要する。機能水中
に汚染物質が一部溶解する場合は、排水された機能水に
光を照射する手段を設けることが望ましい。
【0070】そして、分解対象ガスと塩素ガスを含む気
体との混合割合に関して、気体中の塩素ガスの濃度が、
5ppm以上 1000ppm以下となるように調整することが
好ましく、分解対象ガスの濃度によって異なるが、特に
は、混合気体中の塩素ガス濃度が 20ppmから 500ppm
の間、更には 80ppmから 300ppmとした場合、分解対
象ガスの分解効率は特に顕著なものとなる。
【0071】このような塩素ガスの生成・供給には上述
したような電気分解による方法、薬品の調合によるもの
があるが、塩素ガスボンベ、カートリッジ等を用いてこ
れを希釈して、直接的に所望の濃度の塩素ガスを得ても
良い。即ち上記の混合気体中の塩素濃度の濃度範囲が実
現され得るのなら方法は状況に応じて最適なものを選択
することができる。
【0072】分解のための気体としては塩素ガスについ
てのみ述べてきたが、光照射によってラジカルが発生す
る性質を有する気体であれば他のハロゲンガスなどを用
いてもかまわない。
【0073】(光照射手段)本発明に用いることのできる
光照射手段としては、例えば、波長 300〜500nmの光が
好ましく、350〜450nmの光を用いるのがより好まし
い。また塩素ガスと分解対象物に対する光照射強度とし
ては、例えば波長 360nm近辺にピークを持つ光源では
数百μW/cm2(300nm〜400nm間を測定)の強度で実用
上十分の分解が進む。
【0074】そしてこの様な光の光源としては自然光
(例えば、太陽光等)または人工光(水銀ランプ、ブラッ
クライト、カラー蛍光ランプ、短波長(500nm以下)発光
ダイオード等)を用いることができる。
【0075】また、図1で示したごとく、処理に用いた
塩素を含む水を排水するとき、この排水に光を照射して
も良いが、このとき用いる光照射の波長、強度、光源も
上述の性状の光照射手段を用いることが望ましい。
【0076】(反応槽)分解処理を行なう処理領域を物理
的に限定するものは、いかなる形態でも良いが、先に述
べたように、浄化反応が、300nm以下の光を含まない光
で進むことから、300nm以下の光を通す必要がなく、ガ
ラス・プラスティック等を使用することができる。
【0077】これにより、安価なシステムが達成でき
る。
【0078】反応槽から光照射処理後、排出された気体
は、第1の反応槽と同様に構成された第2の反応槽に導
入され、再度、光照射することもできる。光照射処理後
の汚染物質を含む気体が十分な浄化レベルに達するま
で、反応槽を直列に配置することも可能である。
【0079】材質の選択の拡大によって、反応槽の形態
・形状の選択の自由度も増す。例えば、反応槽としてエ
アーバッグ等の袋状のものを用いることができる。
【0080】袋状反応槽として分解に必要な光(300nm
以上、若しくは 350nm以上)を透過すれば如何なる形態
のものでも良いが、特にポリビニルフルオライドフィル
ムを用いたテドラー(TEDLAR: Du Pont社商標)
バッグまたはフッ素樹脂バッグ等がガスの吸着・透過性
の面から好適である。
【0081】袋を反応槽として使用することで、装置が
より安価になるばかりか、軽量であるため処理現場への
設備設置・移動除去が容易となる。
【0082】また蛇腹構造をとることで折りたたみが容
易となる。
【0083】分解条件に合わせて反応槽のサイズを変更
することが蛇腹構造及び袋状反応槽では容易である為、
状況に合わせて最適な滞留時間(反応時間)を可変的に設
定できる。
【0084】(機能水及び汚染水に通気する手段)汚染水
に空気、機能水に汚染物質を含む気体及び/または曝気
用の気体を通気する場合、散気装置(バブラ)を用いるこ
とができる。散気装置は、液体に気体を吹き込むために
用いられる通常の装置でかまわないが、気泡の大きさが
塩素の気散に十分な表面積になるように選定されること
が望ましい。
【0085】また、散気装置の材質は、機能水の成分と
反応しない素材が選定されていることが望ましい。例え
ば、焼結ガラス、多孔質セラミックス、焼結SUS31
6、繊維状のSUS316 で織った網等で作られた多孔質
散気板や、ガラスまたはSUS316 等のパイプで作られ
たスパージャーなどを用いることができる。
【0086】(分解工程の主たる反応場)本発明の一形態
では機能水に空気を通し分解に必要な塩素ガスを含む空
気を発生させている。機能水に空気を通す部分は、基本
的に分解に必要な塩素ガスの供給の役割を担っている。
これに続く処理及び分解反応を行なう槽での気相反応が
分解反応の主場となっている。
【0087】このため塩素の生成と分解反応が一体化し
ている場合には、気相部と液相部の比率は分解能力に大
きな影響を与える。即ち、機能水の容積が増せば、供給
できる塩素の量は増えるが、気相部が減り分解の反応場
が減少する。また、逆に気相部が増えれば反応場が増し
分解反応は素早く進行するが、液相部が減少するため塩
素の供給がへる。
【0088】曝気の速さ、機能水の供給スピードなど様
々な因子があるが、塩素を含む気体の生成と分解反応の
領域(処理領域)が一体化している場合には、処理槽にお
ける液相の比率を5%〜30%望ましくは 10%から 20%
にすると良い。また一体化されていない場合においても
塩素を含む気体を発生させる槽の容積と分解反応を行な
う槽の容積の比率は概ね1:2〜1:9が望ましい。
【0089】(分解反応機構)本発明者らは塩素ガスの存
在下で光照射すると有機塩素化合物の分解が進むことを
既に見出しているが、その反応機構については不明の部
分が多かった。しかし、塩素が特定範囲の波長の光を受
けると解離してラジカルを生じることが既に知られてい
る。本発明においても光照射により塩素ラジカルが発生
し、分解対象物質と反応することでその結合を切断して
いると考えられる。
【0090】例えば電解質として塩化ナトリウム等を含
む水の電気分解によって陽極近傍に生成する機能水等は
次亜塩素酸もしくは次亜塩素酸イオンを含み、この次亜
塩素酸あるいは次亜塩素酸イオンを含む水は酸性を帯び
ているため塩素の存在比が増すと考えられる。この溶液
に、光が照射されることよっておそらく塩素ラジカルな
どが誘起され、汚染物質の分解反応が進むと考えられ
る。
【0091】また、機能水に通気を行なうことで、機能
水中の塩素は気相部に移行する。塩素と汚染物質は気相
においても混合される。この混合気体に、光が照射され
ることよって塩素ラジカルなどが誘起され、汚染物質の
分解反応が進むと考えられる。このため分解の多くは液
相より気相で進行している推察される。
【0092】また、本願発明の反応では酸素が必須であ
るが、これは塩素と水の分解により生じる酸素ラジカル
や空気中の通常の酸素の存在があれば十分である。
【0093】以上、汚染地下水の浄化を中心に説明して
きたが、本発明は、汚染地下水のみならず上記有機塩素
化合物等の汚染物質で汚染された汚染水の浄化に摘要す
ることができる。
【0094】例えば、汚染ガス中の汚染物質を活性炭で
吸着・除去する浄化処理において、この活性炭を再生処
理するときに生じる脱離水などの浄化に好適である。
【0095】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
【0096】[実施例1]図2に示す汚染水浄化装置に従
って汚染水の浄化を行なった。
【0097】有機塩素化合物等で汚染された汚染水1を
ステンレス製の曝気槽2に供給した。
【0098】汚染水の汚染成分、濃度は以下のようであ
った。
【0099】 トリクロロエチレン濃度 22.3mg/kg テトラクロロエチレン濃度 5.7mg/kg cis-ジクロロエチレン濃度 2.0mg/kg 1,1-ジクロロエチレン濃度 0.5mg/kg 曝気槽2に供給された汚染水は、ポンプ5から供給され
る空気で曝気され、汚染物質を気相に脱離させた。さら
に、汚染物質を含む空気を、処理槽3に導き、機能水曝
気槽 14 から供給される塩素を含んだ空気と処理槽3内
で混合した。
【0100】本実施例では強酸性機能水生成装置(商品
名:強酸性電解水生成器 オアシスバイオハーフ(ADE-
61); 旭硝子エンジニアリング(株)社製)で作成したpH
2.2、酸化還元電位 1150mV、残留塩素濃度 55mg/Lの
機能水を使用した。
【0101】処理槽3には、光照射手段4のブラックラ
イト光(商品名:FL20BLB;株式会社東芝製、20W)
で光照射を行なった。処理槽はガラスカラムを使用して
おり、300nm以下の光は透過しない。
【0102】排出管7からの汚染物質の濃度はガスクロ
マトグラフィー(商品名:GC-14B(FID検出器付);島
津製作所(株)社製、カラムはJ&W社製DB-624)で測定
したところ、何れも測定限界以下であった。処理後の汚
染水は、直ちにn-ヘキサン(n-hexane)の入った容器に
入れ、10分間攪拌した後n-ヘキサン層を分取し、EC
Dガスクロマトグラフィーにて測定したところ汚染物質
の濃度はいずれも 0.01mg/kg以下であった。
【0103】その結果、汚染水は浄化され、汚染水から
放出された汚染物質も分解されることが確認された。
【0104】[実施例2]図3に示す汚染水浄化装置に従
って汚染水の浄化を行なった。
【0105】有機塩素化合物等で汚染された汚染水1を
ステンレス製の曝気槽2に供給した。
【0106】汚染水の汚染成分、濃度は以下のようであ
った。
【0107】 トリクロロエチレン濃度 102.6mg/kg テトラクロロエチレン濃度 15.7mg/kg cis-ジクロロエチレン濃度 20.2mg/kg 1,1-ジクロロエチレン濃度 12.5mg/kg 汚染物質を含んだ空気及び塩素を含んだ空気の供給は、
実施例1と同様に行ない、処理槽3には光照射手段4の
ブラックライト光で光照射を行なった。実施例1と同様
な方法で汚染物質の濃度を測定したところ、排出管7の
部分の汚染物質の濃度は、以下のように測定され、汚染
物質が残留していることが確認された。
【0108】 トリクロロエチレン濃度 17.2 ppm テトラクロロエチレン濃度 1.1 ppm cis-ジクロロエチレン濃度 0.9 ppm 1,1-ジクロロエチレン濃度 0.5 ppm 本実施例では、上記のように観測された汚染物質の残留
している空気を第二処理槽 16 に供給し、光照射手段 1
7 のブラックライトを用いて、再度、浄化処理を行なっ
た。この際、ポンプ 18 を用いて塩素を含んだ空気を第
二処理槽 16 に供給し、処理槽内の塩素ガス濃度は約50
ppmとなるように調整した。
【0109】排出管 19 から排出された気体中の汚染物
質濃度を、実施例1と同様な方法で測定したところ、何
れも測定限界以下でであり、処理後の汚染水の汚染物質
の濃度はいずれも 0.01mg/kg以下であった。これによ
り、汚染水は浄化され、汚染水から放出された汚染物質
も分解されたことが確認された。
【0110】[実施例3]図4に示す装置で汚染水の浄化
を行なった。
【0111】本実施例で使用した装置は、実施例1とほ
ぼ同様の装置であるが、実施例1ではポンプ 15 を用い
て機能水曝気槽 14 に空気を供給したのに対し、バルブ
20を用いて、曝気槽2から供給される汚染物質を含ん
だ空気の一部を機能水曝気槽14 に供給した。
【0112】機能水の性状、光照射手段、排出管7から
排出された空気中の汚染物質の測定方法などは、実施例
1と同様である。
【0113】排出管7から排出された気体中の汚染物質
濃度を、実施例1と同様な方法で測定したところ、何れ
も測定限界以下であり、処理後の汚染水の汚染物質の濃
度はいずれも 0.01mg/kg 以下であった。これにより、
汚染水は浄化され、汚染水から放出された汚染物質も分
解されたことが確認された。
【0114】[実施例4]図2に示す汚染水浄化装置に従
って活性炭からの脱離汚染水の浄化を行なった。
【0115】活性炭吸着塔から回収された汚染物質が吸
着した活性炭を用いた。これを水蒸気脱着して得られた
有機塩素化合物を含む脱離汚染水1をステンレス製の曝
気槽2に供給した。
【0116】汚染水の汚染成分、濃度は以下のようであ
った。
【0117】 トリクロロエチレン濃度 72.3mg/kg テトラクロロエチレン濃度 5.1mg/kg cis-1,2-ジクロロエチレン濃度 12.3mg/kg 1,1-ジクロロエチレン濃度 10.5mg/kg 曝気槽2に供給された汚染水は、ポンプ5から供給され
る空気で曝気され、汚染物質を気相に脱離させた。さら
に、汚染物質を含む空気を、処理槽3に導き、機能水曝
気槽 14 から供給される塩素含有気体と処理槽3内で混
合した。
【0118】本実施例では強酸性機能水生成装置(商品
名:強酸性電解水生成器 オアシスバイオハーフ(ADE-
61); 旭硝子エンジニアリング(株)社製)で作成したpH
2.2、酸化還元電位 1150mV、残留塩素濃度 75mg/Lの
機能水を使用した。
【0119】処理槽3には、光照射手段4のブラックラ
イト光(商品名:FL20BLB;株式会社東芝製、20W)
で光照射を行なった。処理槽はガラスカラムを使用して
おり、300nm以下の光は透過しない。
【0120】排出管7からの汚染物質の濃度はガスクロ
マトグラフィー(商品名:GC-14B(FID検出器付);島
津製作所(株)社製、カラムはJ&W社製DB-624)で測定
したところ、何れも測定限界以下であった。処理後の汚
染水は、直ちにn-ヘキサン(n-hexane)の入った容器に
入れ、10分間攪拌した後n-ヘキサン層を分取し、EC
Dガスクロマトグラフィーにて測定したところ汚染物質
の濃度はいずれも 0.01mg/kg以下であった。
【0121】その結果、汚染水は浄化され、汚染水から
放出された汚染物質も分解されることが確認された。
【0122】[実施例5]図2に示す浄化装置の機能水曝
気槽 14 を塩素ボンベにかえて実施例4と同様の実験を
おこなった。
【0123】即ち、処理槽3には塩素ボンベからの塩素
ガスが送られ、汚染物質を含む空気と処理槽3内で混合
した。
【0124】処理槽3には、光照射手段4のブラックラ
イト光(商品名:FL20BLB;株式会社東芝製、20W)
で光照射を行なった。処理槽はガラスカラムを使用して
おり、300nm以下の光は透過しない。
【0125】排出管7からの汚染物質の濃度はガスクロ
マトグラフィー(商品名:GC-14B(FID検出器付);島
津製作所(株)社製、カラムはJ&W社製DB-624)で測定
したところ、何れも測定限界以下であった。処理後の汚
染水は、直ちにn-ヘキサン(n-hexane)の入った容器に
入れ、10分間攪拌した後n-ヘキサン層を分取し、EC
Dガスクロマトグラフィーにて測定したところ汚染物質
の濃度はいずれも 0.01mg/kg 以下であった。
【0126】その結果、機能水曝気槽 14 を塩素ボンベ
にかえても、汚染水は浄化され、汚染水から放出された
汚染物質も分解されることが確認された。
【0127】[実施例6]実施例1から5では光を照射す
る手段として 300nmから 500nmの光源を用いている
が、本実施例では 254nmにピークをもつ光源(殺菌灯)
を用いて汚染水を浄化を行なった。
【0128】即ち、図1に示す浄化装置を用い、光照射
手段として、ブラックライトの代りに、石英管内に殺菌
灯を挿入した光照射ユニットを処理槽3内に設置し処理
槽内に紫外光を照射した。曝気槽2に機能水を満たし塩
素を含む空気を発生させた場合と、曝気槽2に純水を満
たし塩素を含むガスを発生させず空気のみと混和したし
た場合とで分解能力を比較した。殺菌灯を使用した場合
においても塩素ガスを加える形態のほうが、分解能力は
2〜10 倍優れていた。また、特に 10ppmV以下の低濃
度の分解では、塩素ガスを加えるとその効果が顕著であ
り、分解率を一段と高めることができた。
【0129】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明による汚染水
及び地下水浄化装置および方法によって、汚染水及び地
下水に含まれる汚染物質特にハロゲン化脂肪族炭化水素
化合物を汚染水または地下水から活性炭などの媒体間で
移動するだけのものでなく、根本的に分解浄化すること
が低コストで可能となった。
【0130】更に本発明の塩素含有気体発生装置によれ
ば、制御性良く、安定的に塩素を含有する気体を発生さ
せることが可能となる。
【0131】また、この塩素含有気体発生装置を配して
構成される本発明の汚染気体分解装置によれば、汚染気
体を制御性良く、安定的に分解することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の汚染水及び地下水浄化装置の一実施態
様を示す概略図である。
【図2】本発明の汚染水及び地下水浄化装置の他の実施
態様を示す概略図である。
【図3】本発明の汚染水及び地下水浄化装置の他の実施
態様を示す概略図である。
【図4】本発明の汚染水及び地下水浄化装置の他の実施
態様を示す概略図である。
【図5】本発明の地下水浄化装置の他の実施態様を示す
概略図である。
【図6】本発明の地下水浄化装置の他の実施態様を示す
概略図である。
【符号の説明】
1 汚染水 2 曝気槽 3 処理槽 4 光照射手段 5 ポンプ 6 排出管 7 排出管 8 ポンプ 9 パイプ 10 ポンプ 11 ポンプ 12 攪拌手段 13 バルブ 14 機能水曝気槽 15 ポンプ 16 第二処理槽 17 光照射手段 18 ポンプ 19 排出管 20 バルブ 21 ブロワー 22 ポンプ 23 井戸 24 散気装置 26 光照射手段 27 ポンプ 28 機能水曝気槽 29 ポンプ 30 機能水製造装置 31 タンク 32 ブロワー 33 処理槽 34 排気管 35 塩素発生装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年3月15日(2002.3.1
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 19/03 C07C 19/03 19/04 19/04 19/05 19/05 21/06 21/06 21/073 21/073 21/08 21/08 21/10 21/10 21/12 21/12 35/06 35/06 37/06 37/06 (72)発明者 川口 正浩 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2E191 BA15 BC01 BD17 4D011 AA15 AB01 AC01 AD03 4D037 AA01 AA11 AB14 BA23 BB05 4G075 AA03 AA13 BA05 BB05 BD12 BD27 CA20 CA33 DA01 EB21 EB31 EC01 FB06 FC02 FC04 4H006 AA04 AA05 BA95 BD81 BD84 BE53 EA02 EA03

Claims (39)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 汚染物質を含む汚染水に気体を曝気し、
    汚染物質を含む気体を発生させる曝気手段と、 塩素発生する塩素発生手段と、 該汚染物質を含有する気体と、該塩素発生手段で発生し
    た塩素とを混合して混合気体を形成する混合手段と、 前記混合手段より形成された該混合気体に対して光を照
    射し、含まれる汚染物質を分解するための光照射手段
    と、 を有することを特徴とする汚染水浄化装置。
  2. 【請求項2】 該汚染水が地下水である請求項1に記載
    の汚染水浄化装置。
  3. 【請求項3】 前記曝気手段は、土壌中に配置された井
    戸内にある請求項2に記載の汚染水浄化装置。
  4. 【請求項4】 該塩素発生手段は塩素を収納したボンベ
    によるものである請求項1〜3のいずれかに記載の汚染
    水浄化装置。
  5. 【請求項5】 該塩素発生手段が、通気により塩素を発
    生し得る液体に空気を接触させる手段である請求項1〜
    3のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  6. 【請求項6】 該塩素を発生しうる液体を生成する手段
    を備え、水槽、該水槽に電解質を含む水を供給する手
    段、該水槽内の電解質を含む水に電位をかける為の一対
    の電極及び電源を備えている請求項5に記載の汚染水浄
    化装置。
  7. 【請求項7】 前記電解質が、塩素原子を含む塩である
    請求項6に記載の汚染水浄化装置。
  8. 【請求項8】 前記電解質が、塩化ナトリウム及び塩化
    カリウムの少なくとも一方である請求項7に記載の汚染
    水浄化装置。
  9. 【請求項9】 該塩素を発生しうる液体を生成する手段
    を備え、該生成手段は、水槽、該水槽に次亜塩素酸塩の
    水溶液を供給する手段、該水槽に無機酸及び有機酸の少
    なくとも一方を供給する手段を備えている請求項5記載
    の汚染水浄化装置。
  10. 【請求項10】 該次亜塩素酸塩が次亜塩素塩酸ナトリ
    ウム及び次亜塩素塩酸カリウムの少なくとも一方である
    請求項9に記載の汚染水浄化装置。
  11. 【請求項11】 該無機酸又は有機酸が、塩酸、フッ
    酸、シュウ酸、硫酸、リン酸、ホウ酸、酢酸、ぎ酸、り
    んご酸及びクエン酸から選ばれる少なくとも一種の酸で
    ある請求項9または10に記載の汚染水浄化装置。
  12. 【請求項12】 前記塩素発生手段として、前記塩素を
    発生し得る液体の表面に空気を送風する手段を有する請
    求項5〜11のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  13. 【請求項13】 前記塩素含有気体発生手段として、前
    記塩素を発生し得る液体の液滴と空気を接触させる手段
    を有する請求項5〜11のいずれかに記載の汚染水浄化
    装置。
  14. 【請求項14】 該前記塩素を塩素を発生し得る液体の
    液滴と空気とを接触させる手段が該前記塩素を塩素を発
    生し得る液体を噴射するノズルである請求項13に記載
    の汚染水浄化装置。
  15. 【請求項15】 前記塩素発生手段として、前記塩素を
    発生し得る液体水を空気で曝気する手段を有する請求項
    5〜11のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  16. 【請求項16】 前記塩素を発生し得る液体水を空気で
    曝気する手段が、バブラである請求項15に記載の汚染
    水浄化装置。
  17. 【請求項17】 該塩素を発生し得る液体が請求項6に
    記載の電極の陽極側で生成したものであり、前記塩素発
    生手段が該水槽の該電極の陽極側の近傍に空気を導入す
    る手段である請求項12、15および16のいずれかに
    記載の汚染水浄化装置。
  18. 【請求項18】 前記塩素発生手段は外部から供給した
    分解対象物を含まない空気を導入する手段を有する請求
    項5〜17のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  19. 【請求項19】 該塩素を発生し得る液体が、水素イオ
    ン濃度(pH値)1〜4、及び溶存塩素濃度が50〜30
    00mg/Lなる特性を有する請求項18記載の汚染水浄
    化装置。
  20. 【請求項20】 該塩素を発生し得る液体が、水素イオ
    ン濃度(pH値)2〜3、及び溶存塩素濃度が100〜1
    500mg/Lなる特性を有する請求項19記載の汚染水
    浄化装置。
  21. 【請求項21】 前記汚染物質を含有する気体が前記塩
    素発生手段に導入されるための通路を有する、請求項5
    〜17のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  22. 【請求項22】 該機能水が、水素イオン濃度(pH値)
    1〜4、及び溶存塩素濃度が5〜300mg/Lなる特性
    を有する請求項21記載の汚染水浄化装置。
  23. 【請求項23】 前記混合手段が容積可変の袋状である
    請求項1〜22のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  24. 【請求項24】 前記混合手段が、蛇腹構造を有する請
    求項23に記載の汚染水浄化装置。
  25. 【請求項25】 前記混合手段を覆う外容器を有する請
    求項23または24に記載の汚染水浄化装置。
  26. 【請求項26】 前記照射手段を該外容器の内側でかつ
    前記混合手段の外側に有する請求項25に記載の汚染水
    浄化装置。
  27. 【請求項27】 前記塩素発生手段による塩素発生領域
    が、前記槽状の混合手段の下部に存在し、該混合手段の
    容積に対する該塩素を含む水の容積を、該混合手段の5
    %〜30%とする請求項5〜22のいずれかに記載の汚
    染水浄化装置。
  28. 【請求項28】 前記被処理気体に含まれる塩素が、該
    光照射下において塩素ラジカルを生成している請求項1
    〜27のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  29. 【請求項29】 照射する光が、波長300〜500n
    mの波長域の光を含む光である請求項1〜28のいずれ
    かに記載の汚染水浄化装置。
  30. 【請求項30】 光の照射量が、10μW/cm2〜10
    mW/cm2である請求項1〜29のいずれかに記載の汚
    染水浄化装置。
  31. 【請求項31】 該汚染物質が、有機塩素化合物である
    請求項1〜30のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  32. 【請求項32】 該有機塩素化合物が、クロロエチレ
    ン、1,1-ジクロロエチレン、cis-1,2-ジクロロエチ
    レン、trans-1,2-ジクロロエチレン、トリクロロエチ
    レン、1,1,1-トリクロロエタン、テトラクロロエチ
    レン、クロロメタン、ジクロロメタン及びトリクロロメ
    タンからなる群より選ばれる1種以上の化合物である請
    求項31に記載の汚染水浄化装置。
  33. 【請求項33】 前記分解処理された気体を排出する排
    出手段をさらに有することを特徴とする請求項1〜32
    のいずれかに記載の汚染水浄化装置。
  34. 【請求項34】 前記排出手段によって排出された気体
    に再度光照射を行なう第2の光照射手段をさらに有す
    る、請求項1〜32のいずれかに記載の汚染水浄化装
    置。
  35. 【請求項35】 汚染水の浄化方法であって、 汚染水を曝気し、汚染物質を含有する気体を得る工程
    と、 該汚染物質を含有する気体に、塩素を混合させて混合気
    体を形成する工程と、 該混合気体に光を照射して、該混合気体内の汚染物質を
    分解する工程と、 を有することを特徴とする汚染水の浄化方法。
  36. 【請求項36】 汚染物質を含む汚染水を曝気し、汚染
    物質を含む気体を発生させる手段と、 該汚染物質を含有する気体と、光照射によってラジカル
    を生成する気体とを混合して混合気体を形成する混合手
    段と、 該混合気体に対して光照射を行なう光照射手段と、 を有することを特徴とする汚染水浄化装置。
  37. 【請求項37】 前記光照射によってラジカルを生成す
    る気体が塩素であることを特徴とする請求項36に記載
    の汚染水浄化装置。
  38. 【請求項38】 汚染水の浄化方法であって、 汚染水を曝気し、汚染物質を含有する気体を得る工程
    と、 該汚染物質を含有する気体と、光照射によってラジカル
    を生成する気体とを混合して混合気体を形成する工程
    と、該混合気体に光照射する工程と、 を有することを特徴とする汚染水の浄化方法。
  39. 【請求項39】 前記光照射によってラジカルを生成す
    る気体が塩素であることを特徴とする請求項38に記載
    の汚染水の浄化方法。
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