JP2002239772A - Method and device for laser beam machining - Google Patents

Method and device for laser beam machining

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JP2002239772A
JP2002239772A JP2001039282A JP2001039282A JP2002239772A JP 2002239772 A JP2002239772 A JP 2002239772A JP 2001039282 A JP2001039282 A JP 2001039282A JP 2001039282 A JP2001039282 A JP 2001039282A JP 2002239772 A JP2002239772 A JP 2002239772A
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JP
Japan
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laser
processing
time
laser beam
positions
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JP2001039282A
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Japanese (ja)
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Izuru Nakai
出 中井
Toshiharu Okada
俊治 岡田
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent decrease in laser beam energy, to prevent the extension of machining time, thus, to decrease a thermal influence in the vicinity of a machining zone, to enable the simultaneous machining of a plurality of positions, and further, to enhance the utility efficiency of a laser beam oscillator. SOLUTION: A time division is applied to the laser beam 2 in midcourse of the optical path 3 synchronously with the oscillation frequency of the laser beam pulse, a plurality of machining positions 5 and 6 of a work 4 to be machined are alternately irradiated with the laser beams 2a and 2b which are divided in time and a plurality of machinings are simultaneously performed, further the laser beams which are divided in time are transmitted in parallel on a plurality of optical paths, and a plurality of positions 5 and 6 of the one or individual works 4 to be machined are irradiated with laser beams by means of individual positioning and condensing units, and the machining is alternatively performed. Thus the purpose is attained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工方法と
その装置に関し、例えばビームをマスクを通してプリン
ト基板材料のシート状体である被加工物に照射しマスク
パターンの転写による穴などの加工を行うのに用いられ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing method and an apparatus therefor. For example, a beam is irradiated on a workpiece, which is a sheet-like body of a printed circuit board material, through a mask to process holes and the like by transferring a mask pattern. Used for

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザビームによって穴加工を行う従来
装置は、例えば特開平07−032183号公報に開示
されている。このものは、図7に示すようにレーザビー
ムaを被加工物mの加工位置に集光させるための位置決
めを一対のX、Y各ガルバノメータb、cによって行っ
ている。レーザ発振器dから出射されたレーザビームa
はミラーeとX、Yガルバノメータb、cによって、f
θレンズgを介し被加工物mに導かれる。レーザビーム
aはX、Yガルバノメータb、cの1軸まわりの揺動に
よって被加工物mをXY2方向に走査されて、どの加工
位置にも位置決めされる。fθレンズgはX、Yガルバ
ノメータb、cによってX、Yの1軸まわりに偏向され
たレーザビームaをfθ特性によって被加工物mの加工
面に対して垂直な向きに偏向するとともに前記走査を等
速に行わせる。従って、X、Yガルバノメータb、cが
1軸まわりに揺動する角度とレーザビームaが被加工物
mを走査される移動距離とが比例し、前記位置決めが正
確に行われる。このようにして、X、Yガルバノメータ
b、cが位置決めされる1つのミラー位置に対してレー
ザビームaが被加工物mに集光される1つの結像スポッ
トhが対応する。
2. Description of the Related Art A conventional apparatus for drilling holes using a laser beam is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-032183. In this apparatus, a pair of X and Y galvanometers b and c are used to position a laser beam a at a processing position of a workpiece m as shown in FIG. Laser beam a emitted from laser oscillator d
Is determined by mirror e and X and Y galvanometers b and c.
It is guided to the workpiece m via the θ lens g. The laser beam a scans the workpiece m in the X and Y directions by swinging about one axis of the X and Y galvanometers b and c, and is positioned at any processing position. lens g deflects a laser beam a deflected around one axis of X and Y by X and Y galvanometers b and c in a direction perpendicular to a processing surface of a workpiece m by fθ characteristics and performs the scanning. Perform at a constant speed. Therefore, the angle at which the X and Y galvanometers b and c swing around one axis is proportional to the moving distance of the laser beam a scanning the workpiece m, and the positioning is accurately performed. Thus, one imaging spot h where the laser beam a is focused on the workpiece m corresponds to one mirror position where the X and Y galvanometers b and c are positioned.

【0003】特開平09−248686号公報に開示さ
れている他のレーザ加工装置では、ホログラムを用い、
ガルバノメータによって位置決めされるレーザビームを
複数の加工位置に集光させ、複数の結像スポットにて同
時加工できるようにしている。
Another laser processing apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-248686 uses a hologram,
The laser beam positioned by the galvanometer is condensed on a plurality of processing positions, so that a plurality of imaging spots can be processed simultaneously.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
レーザ加工装置にYAG、YLF、YVO4などのレー
ザ媒質を持ったレーザ発振器を用いてQスイッチの開き
操作によるパルス発振を行い、その基本波長または高調
波を用いてプリント配線基板用の被加工物に穴加工を行
う場合、Qスイッチ発振によって出力が高められるもの
の単発のパルス照射ではエネルギはまだ小さいために加
工ができない。このため、複数回のレーザパルス照射が
必須となっている。レーザパルス照射を行うパルス幅が
約150nsの場合には、20発程度のレーザパルス照
射が必要となる。その際、パルスの周波数が5kHzを
越えると、穴加工部での熱蓄積によって加工穴の周辺部
での熱影響が大きくなる傾向にあり、被加工物mがダメ
ージを受ける。図8に銅箔kを持った被加工物mの加工
穴iのまわりに熱影響層jができている状態を示してい
る。また、ホログラムまたはビームスプリッタによって
レーザビームaを複数に分割して複数の穴を同時に加工
する方式では、レーザビームaが複数に分割されるた
め、1つの穴の加工に用いるレーザビームaのエネルギ
が複数分の1と小さくなるため、加工穴のアスペクトは
悪化し、図9に示すように熱影響層jがさらに大きくな
る傾向がある。
By the way, in the above-mentioned conventional laser processing apparatus, a laser oscillator having a laser medium such as YAG, YLF, YVO4 or the like is used to perform a pulse oscillation by opening a Q switch to obtain a fundamental wavelength or When a hole is drilled in a workpiece for a printed wiring board using harmonics, the output is increased by Q-switch oscillation, but the energy cannot be reduced by single pulse irradiation because the energy is still small. For this reason, a plurality of laser pulse irradiations is essential. When the pulse width for performing the laser pulse irradiation is about 150 ns, about 20 laser pulse irradiations are required. At this time, if the frequency of the pulse exceeds 5 kHz, the heat accumulation in the drilled portion tends to increase the thermal effect at the periphery of the drilled hole, and the workpiece m is damaged. FIG. 8 shows a state in which a heat affected layer j is formed around a processing hole i of a workpiece m having a copper foil k. Further, in a method in which a laser beam a is divided into a plurality of pieces by a hologram or a beam splitter and a plurality of holes are processed at the same time, the laser beam a is divided into a plurality of pieces. Since the diameter is reduced to a fraction, the aspect of the processed hole is deteriorated, and the heat-affected layer j tends to be further increased as shown in FIG.

【0005】また、別に、レーザビームaをガルバノメ
ータb、cにて位置決めする方式では、ガルバノメータ
b、cが位置決めを行っている動作中はレーザ発振を行
えず、加工のロス時間となっている。また、レーザ発振
器の利用効率も低くなる。
In the method of positioning the laser beam a using the galvanometers b and c, laser oscillation cannot be performed during the operation in which the galvanometers b and c perform positioning, which results in a processing loss time. In addition, the utilization efficiency of the laser oscillator decreases.

【0006】本発明の主たる目的は、レーザビームのエ
ネルギの低下なく、また加工時間の延長なく、従って、
加工部まわりへの熱影響少なく、複数の位置を並行して
加工できるレーザ加工方法及びその装置を提供すること
にあり、さらには、レーザ発振器の利用効率を高められ
るレーザ加工方法及びその装置を提供することにある。
The main object of the present invention is to reduce the energy of the laser beam and to extend the processing time, and
It is an object of the present invention to provide a laser processing method and a laser processing apparatus capable of processing a plurality of positions in parallel with little thermal influence on a processing portion, and further provide a laser processing method and a laser processing apparatus capable of improving the utilization efficiency of a laser oscillator. Is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のレーザ加工方法は、レーザ発振器から出
射されるレーザビームを集光させて被加工物へのレーザ
パルス照射により加工を行うのに、レーザビームをレー
ザパルス発振周波数と同期して時分割し、時分割したレ
ーザビームを被加工物の複数の加工位置に交互に照射
し、複数の加工を行うことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a laser processing method according to the present invention focuses a laser beam emitted from a laser oscillator and irradiates a workpiece with a laser pulse to perform processing. In order to perform the processing, the laser beam is time-divided in synchronization with the laser pulse oscillation frequency, and the time-divided laser beam is alternately applied to a plurality of processing positions of a workpiece to perform a plurality of processings.

【0008】このような構成では、被加工物の複数の加
工位置にレーザパルス照射して並行して加工を行うが、
複数の加工位置にレーザパルス照射されるレーザビーム
はその光路途中で時分割されたもので、各加工位置には
レーザ発振器からその時々に発振されるレーザビームの
全量がパルス照射されるので、エネルギの低下やそれに
よる時間延長がなく、従って、加工部まわりへの熱影響
も少なく加工することができる。
In such a configuration, a plurality of processing positions of a workpiece are irradiated with laser pulses to perform processing in parallel.
The laser beam irradiated to a plurality of processing positions is time-divided in the middle of the optical path, and the entire amount of the laser beam oscillated from the laser oscillator at each time is irradiated to each processing position. Therefore, there is no decrease in the length and the time is not prolonged, so that the processing can be performed with less heat influence on the periphery of the processing portion.

【0009】このような方法を達成するレーザ加工装置
としては、レーザ発振器と、このレーザ発振器から出射
されるレーザビームを伝送して被加工物の加工位置に集
光させる伝送光学系と、レーザ発振器からのレーザビー
ムを加工位置にレーザパルス照射して加工を行う制御装
置とを備えたものにおいて、レーザビームをレーザパル
ス発振周波数と同期して時分割する時分割手段を備え、
制御装置は時分割したレーザビームの分割ビームを被加
工物の複数の加工位置に交互に照射し、複数の加工を行
うことを特徴とするものであり、レーザビームの時分割
や交互照射を自動的に安定して行うことができる。
A laser processing apparatus for achieving such a method includes a laser oscillator, a transmission optical system for transmitting a laser beam emitted from the laser oscillator and condensing the laser beam on a processing position of a workpiece, and a laser oscillator. And a control device that performs processing by irradiating a laser beam from a laser beam to a processing position, and a time-division unit that time-divides the laser beam in synchronization with a laser pulse oscillation frequency,
The control device is characterized in that a plurality of processing positions of a workpiece are alternately irradiated with split beams of a time-divided laser beam to perform a plurality of processings. It can be performed stably.

【0010】時分割手段は、角度の振りによってレーザ
ビームを時分割するミラーよりなり、制御装置はミラー
の振り幅の両端においてレーザ発振が起こるように、ミ
ラーの角度とレーザパルス発振周波数とを同期させるよ
うにすることができ、これにより、ミラーとレーザパル
ス発振との関係において、高い周波数のレーザパルス発
振に対してミラーの振れ周波数が小さくその振り幅の両
端ではレーザパルス発振照射されるレーザビームに対し
て実質的に停止しているとみなせることにより、ミラー
を実際に停止させる制御なしに高速に時分割し交互照射
することが自動的に安定して達成される。
The time division means comprises a mirror for time-dividing the laser beam by swinging the angle, and the control unit synchronizes the angle of the mirror with the laser pulse oscillation frequency so that laser oscillation occurs at both ends of the swing width of the mirror. Accordingly, in the relationship between the mirror and the laser pulse oscillation, the oscillation frequency of the mirror is small with respect to the high-frequency laser pulse oscillation, and the laser beam is irradiated at both ends of the oscillation width. Can be regarded as substantially stopped, time-division and alternate irradiation at high speed can be automatically and stably achieved without control for actually stopping the mirror.

【0011】レーザ発振器が直線偏光のレーザビームを
出射し、時分割手段が光路上の前後に配置した電気光学
偏光子および偏光子の組み合わせよりなり、制御装置が
電気光学偏光子により前記レーザービームの直線偏光に
対する角度を回転させることにより、前記レーザビーム
を偏光子での反射光と透過光とに時分割するようにする
ことができ、これにより、複数の加工に必要な時間がよ
り短くなり、レーザ発振器の利用効率もさらに向上す
る。
A laser oscillator emits a linearly polarized laser beam, and the time division means comprises a combination of an electro-optical polarizer and a polarizer arranged before and after on an optical path. By rotating the angle with respect to the linearly polarized light, the laser beam can be time-divided into reflected light and transmitted light at the polarizer, thereby shortening the time required for multiple processing, The utilization efficiency of the laser oscillator is further improved.

【0012】伝送光学系が1つの光学ユニットよりな
り、時分割された複数の光路のレーザビームを並行に伝
送して、被加工物の複数の位置に照射させて加工を交互
に行うようにすることができ、これにより、装置が簡単
になる上、異なった光学ユニットを用いることによる相
互の位置や姿勢のずれ、特性の違いによる影響がなくな
り、より正確な加工ができる。
The transmission optical system is composed of one optical unit, and laser beams of a plurality of time-divided optical paths are transmitted in parallel to irradiate a plurality of positions on a workpiece to perform processing alternately. As a result, the apparatus can be simplified, and the use of different optical units eliminates the influence of the mutual position and orientation shift and the difference in characteristics, thereby enabling more accurate processing.

【0013】伝送光学系が2つの位置決め集光ユニット
を持ち、制御装置が時分割した複数の光路のレーザビー
ムを個別に並行に伝送し、個別の光学ユニットによって
1つまたは複数の被加工物の複数の位置に照射させて加
工を交互に行うようにすることができ、これにより、時
分割した分割レーザビームの位置決めとそれによる加工
を互いに逆なタイミングで行なうことができ、レーザ発
振器をほぼ連続で発振させて複数の加工を交互に行い、
レーザ発振器の利用効率を上げ、また、加工の時間ロス
を無くしてさらに加工速度を向上させられる。
[0013] The transmission optical system has two positioning and focusing units, and the control device transmits laser beams of a plurality of optical paths that are time-divided individually and in parallel, and separate optical units for processing one or more workpieces. By irradiating a plurality of positions to perform processing alternately, it is possible to perform the positioning of the time-divided laser beam and the processing based thereon at timings opposite to each other, thereby making the laser oscillator almost continuous. And oscillate at the same time to perform multiple processing alternately.
The use efficiency of the laser oscillator can be increased, and the processing speed can be further improved by eliminating the processing time loss.

【0014】レーザ発振器がQスイッチなどのシャッタ
手段の開き操作によってレーザパルス発振を制御するも
のであると、レーザパルス発振照射を行うのに、従来か
ら利用されている一般の技術によって対応することがで
きる。
If the laser oscillator controls the laser pulse oscillation by opening a shutter means such as a Q switch, it is possible to cope with the laser pulse oscillation irradiation by a general technique conventionally used. it can.

【0015】本発明のそれ以上の特徴および作用は、以
下に続く詳細な説明および図面の記載から明らかにな
る。本発明の各特徴は可能な限りにおいてそれ単独で、
あるいは種々な組み合わせで複合して用いることができ
る。
Further features and operations of the present invention will become apparent from the following detailed description and drawings. Each feature of the present invention is solely as much as possible,
Alternatively, various combinations can be used in combination.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の幾つかの実施例に係るレーザ
加工方法及びその装置につき、図1〜図6を参照して詳
細に説明し、本発明の理解に供する。なお、以下に示す
実施例は本発明の具体例であって、本発明の技術的範囲
を限定するものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A laser processing method and apparatus according to some embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to FIGS. The following embodiments are specific examples of the present invention and do not limit the technical scope of the present invention.

【0017】本発明の実施例は、プリント基板の材料で
あるシート状体を被加工物としてレーザビームにより複
数の穴加工を行う場合の一例である。しかし、本発明は
これに限られることはなく、どのような被加工物に複数
の穴加工を行う場合、および、加工する複数の穴が1つ
の被加工物に分散している場合は勿論、複数の被加工物
に分散している場合にも、本発明を適用して有効であ
り、それらも本発明の範疇に属する。また、加工は穴加
工に限られることはない。
The embodiment of the present invention is an example of a case where a plurality of holes are formed by a laser beam using a sheet-like body as a material of a printed circuit board as a workpiece. However, the present invention is not limited to this. In the case where a plurality of holes are drilled in any workpiece, and in the case where a plurality of holes to be processed are dispersed in one workpiece, The present invention is also effective when applied to a plurality of workpieces, and these are also included in the scope of the present invention. The processing is not limited to the hole processing.

【0018】(実施例1)本実施例1のレーザ加工方法
は図1に示すように、レーザ発振器1から出射されるレ
ーザビーム2を集光させて被加工物であるシート状体4
へのレーザパルス照射により穴加工を行う。この際、レ
ーザビーム2をその光路3の途中でレーザパルス発振周
波数と同期してビーム2a、2b、・・に時分割し、時
分割した分割ビーム2a、2b、・・をシート状体4の
複数の加工位置5、6などに交互に照射し、複数の穴加
工を行う。このためレーザ加工装置としては、前記レー
ザ発振器1と、このレーザ発振器1から出射されるレー
ザビーム2を伝送してシート状体4の加工位置5、6、
・・に集光させる前記光路3を持った伝送光学系7と、
レーザ発振器1からのレーザビーム2の分割ビーム2
a、2bを加工位置5、6に交互にレーザパルス照射し
て穴加工を行う制御装置8と、光路3の途中でレーザパ
ルス発振周波数と同期してレーザビーム2を時分割する
時分割手段9と、を備え、制御装置8はレーザビーム2
の時分割した分割ビーム2a、2b、・・をシート状体
4の複数の加工位置5、6、・・に交互に振り分けて照
射し、複数の穴加工を行うようにする。なお、加工する
穴の大きさや形状に合わせた照射スポットを形成するた
め、レーザビーム2の断面形状を整形するマスク21が
用いられ、マスク21の開口の形状が穴の形状となる転
写加工が行われる。しかし、これに限られることはな
い。
(Embodiment 1) As shown in FIG. 1, a laser processing method according to Embodiment 1 focuses a laser beam 2 emitted from a laser oscillator 1 to form a sheet-like body 4 as a workpiece.
Drilling is performed by irradiating laser pulses to At this time, the laser beam 2 is time-divided into beams 2a, 2b,... In the middle of the optical path 3 in synchronization with the laser pulse oscillation frequency, and the time-divided divided beams 2a, 2b,. Irradiation is alternately performed on a plurality of processing positions 5, 6 and the like to perform a plurality of hole processing. Therefore, as a laser processing device, the laser oscillator 1 and the laser beam 2 emitted from the laser oscillator 1 are transmitted to process the processing positions 5, 6,
.. a transmission optical system 7 having the optical path 3 for condensing the light;
Split beam 2 of laser beam 2 from laser oscillator 1
a control device 8 that irradiates laser pulses a and 2b to the processing positions 5 and 6 alternately to perform hole drilling, and a time division means 9 that divides the laser beam 2 in the optical path 3 in synchronization with the laser pulse oscillation frequency. And the control device 8 controls the laser beam 2
The time-divided split beams 2a, 2b,... Are alternately distributed to a plurality of processing positions 5, 6,. In order to form an irradiation spot in accordance with the size and shape of the hole to be processed, a mask 21 for shaping the cross-sectional shape of the laser beam 2 is used. Will be However, it is not limited to this.

【0019】以上において、シート状体4の複数の加工
位置5、6、・・にレーザパルス照射して並行して穴加
工を行うのに、複数の加工位置にレーザパルス照射され
るレーザビーム2はその光路途中で時分割され振り分け
られた分割ビーム2a、2bであって、各加工位置5、
6、・・にはレーザ発振器1からその時々に発振される
レーザビーム2の全量がパルス照射されるので、エネル
ギの低下や時間延長なく、従って、加工穴まわりへの熱
影響も少なく穴加工することができる。
In the above, in order to irradiate the laser pulse to the plurality of processing positions 5, 6,... Of the sheet-like body 4 and perform the drilling in parallel, the laser beam 2 irradiated with the laser pulse to the plurality of processing positions Are divided beams 2a and 2b which are time-divided and distributed in the middle of the optical path.
In the steps 6,..., The entire amount of the laser beam 2 oscillated from time to time is irradiated from the laser oscillator 1 so that the drilling is performed without lowering the energy or prolonging the time. be able to.

【0020】図1に示す伝送光学系7は、上記従来の場
合と基本的な構成は同様であり、適数のミラー11と
X、Yガルバノメータ12、13によって、fθレンズ
14を介しシート状体4に導く。X、Yガルバノメータ
12、13はそれの1軸まわりの揺動によってレーザー
ビーム2の分割ビーム2a、2bをX、Y2方向に偏向
してシート状体4をXY2方向に走査されて、加工位置
5、6、・・のどれにも位置決めすることができ、各加
工位置5、6、・・に自由に振り分けて交互に照射する
ことができる。ここに、X、Yガルバノメータ12、1
3は分割ビーム2a、2bを振り分ける振り分け手段1
0をなし、制御装置8はレーザ発振器1のパルス発振
と、時分割手段9の時分割動作ととともに振り分け動作
を同期制御して、分割ビーム2a、2b、・・を複数の
加工位置5、6、・・に振り分けて交互に照射したた穴
加工のためのレーザビームパルス照射を達成する。レー
ザ発振器1のパルス発振は例えばQスイッチ33などの
シャッタ手段の開き操作を制御装置8によって制御して
行う。この場合、前記したYAG、YLF、YVO4な
どのレーザ媒質を持ったレーザ発振器1を用いるのが好
適である。
The basic structure of the transmission optical system 7 shown in FIG. 1 is the same as that of the above-mentioned conventional case, and the transmission optical system 7 is formed by a suitable number of mirrors 11 and X and Y galvanometers 12 and 13 via a fθ lens 14 through a sheet-like body. Lead to 4. The X and Y galvanometers 12 and 13 deflect the split beams 2a and 2b of the laser beam 2 in the X and Y2 directions by swinging about one axis thereof to scan the sheet-like body 4 in the XY2 directions, and , 6,..., And can be freely distributed to each of the processing positions 5, 6,. Here, X, Y galvanometers 12, 1
3 is a distributing means 1 for distributing the split beams 2a and 2b.
0, the control device 8 controls the pulse oscillation of the laser oscillator 1 and the time division operation of the time division means 9 in synchronization with each other to divide the divided beams 2a, 2b,. Laser beam pulse irradiation for drilling holes that are alternately illuminated in the order of... The pulse oscillation of the laser oscillator 1 is performed by controlling the opening operation of shutter means such as the Q switch 33 by the control device 8. In this case, it is preferable to use the laser oscillator 1 having a laser medium such as YAG, YLF, or YVO4 described above.

【0021】fθレンズ14はX、Yガルバノメータ1
2、13の1軸まわりの揺動によってXY方向に偏向さ
れたレーザビーム2の分割ビーム2a、2bをfθ特性
によってシート状体4の加工面に対して垂直な向きに偏
向するとともに前記走査を等速に行わせる。これによ
り、X、Yガルバノメータ12、13が1軸まわりに揺
動する角度とレーザビーム2の分割ビーム2a、2bが
シート状体4を走査する移動距離とが比例し、分割ビー
ム2a、2bを各加工位置5,6、・・に振り分けて正
確に位置決めし結像させることができる。これによっ
て、X、Yガルバノメータ12、13が位置決めされる
1つのミラー位置に対して分割ビーム2a、2bがシー
ト状体4に集光される1つの結像スポットが対応し、上
記のような時分割した分割ビーム2a、2bを複数の加
工位置5、6、・・に交互に照射し並行して穴加工する
ことが自動的に安定して行われる。
Lens 14 is an X, Y galvanometer 1
The split beams 2a and 2b of the laser beam 2 deflected in the X and Y directions by the oscillation about one axis 2 and 13 are deflected in a direction perpendicular to the processing surface of the sheet-like body 4 by the fθ characteristic and the scanning is performed. Perform at a constant speed. Accordingly, the angle at which the X and Y galvanometers 12 and 13 swing about one axis and the moving distance of the divided beams 2a and 2b of the laser beam 2 scanning the sheet 4 are proportional to each other. It is possible to accurately position and form an image by allocating to each of the processing positions 5, 6,.... Thus, one imaging spot where the split beams 2a and 2b are focused on the sheet 4 corresponds to one mirror position where the X and Y galvanometers 12 and 13 are positioned. The plurality of processing positions 5, 6,... Are alternately irradiated with the divided beams 2a, 2b, and the holes are drilled in parallel automatically and stably.

【0022】本実施例1の時分割手段9は、図2に示す
ように1軸回りに正弦振動で一定の周波数で振動的に揺
動する共振型のミラースキャナ31によってレーザビー
ム2を図1、図2(a)に示すように2系統に時分割し
ている。一例として、ミラースキャナ31は4kHzの
周波数のものを採用している。レーザ発振器1で発振さ
れ、焦点距離f=1000mmの集光レンズ(レーザ発
振器1内に設けられ、あるいはその外に設けられた)3
4を透過したレーザビーム2は、前記ミラースキャナ3
1によって偏向されて集光レンズ34から1000mm
離れた位置に設けられたマスク21の異なる2つの開口
に対して時分割して位置決めされる。このとき、分割ビ
ーム2a、2bが図2(b)に示すように直径が300
μmの開口21a、21bが約500μmのレーザビー
ム照射部2a1、2b1の中に入るようにミラースキャ
ナ31の振り幅を設定する。これによって、時分割され
た2系統の分割ビーム2a、2b、・・はいずれもマス
ク21の開口21a、21bのいずれかを通って整形さ
れ、そこから1000mmの距離にあるfθレンズ14
によってシート状体4に結像される。
As shown in FIG. 2, the time-division means 9 of the first embodiment converts the laser beam 2 by a resonance type mirror scanner 31 which oscillates at a constant frequency with a sinusoidal vibration around one axis as shown in FIG. , As shown in FIG. 2 (a). As an example, the mirror scanner 31 has a frequency of 4 kHz. A condensing lens oscillated by the laser oscillator 1 and having a focal length f = 1000 mm (provided inside or outside the laser oscillator 1) 3
The laser beam 2 transmitted through the mirror scanner 3
1 mm from the condenser lens 34
Positioning is performed in a time division manner with respect to two different openings of the mask 21 provided at distant positions. At this time, the split beams 2a and 2b have a diameter of 300 as shown in FIG.
The swing width of the mirror scanner 31 is set so that the openings 21a and 21b of μm enter the laser beam irradiation units 2a1 and 2b1 of approximately 500 μm. .. Are both shaped through one of the openings 21a and 21b of the mask 21, and the fθ lens 14 at a distance of 1000 mm therefrom.
Thereby, an image is formed on the sheet-like body 4.

【0023】ミラースキャナ31の動作を図3に模式的
に示してある。図3(a)においてミラースキャナ31
によって偏向されマスク21を移動するレーザビーム2
の照射位置を縦軸とし、横軸に経過時間をとってある。
□印と●印の位置ではミラースキャナ31の振り幅の両
端であって、ミラースキャナ31が一瞬停止する位置と
なる。このタイミングと同期させて制御装置8によりレ
ーザ発振器1のパルス発振を制御すると、パルス幅が5
0〜150nsに対してミラースキャナ31の振動周波
数が4kHzと非常にゆっくりとしたものになる。これ
によって、レーザパルス発振が行われている間、ミラー
スキャナ31は実質的に停止しているとみなせる。
The operation of the mirror scanner 31 is schematically shown in FIG. In FIG. 3A, the mirror scanner 31 is used.
Laser beam 2 that is deflected by the laser beam and moves through mask 21
Is plotted on the vertical axis, and the elapsed time is plotted on the horizontal axis.
The positions marked with □ and ● are both ends of the swing width of the mirror scanner 31 and are positions where the mirror scanner 31 stops momentarily. When the control device 8 controls the pulse oscillation of the laser oscillator 1 in synchronization with this timing, the pulse width becomes 5
The vibration frequency of the mirror scanner 31 is very slow at 4 kHz for 0 to 150 ns. Thus, the mirror scanner 31 can be regarded as substantially stopped while the laser pulse oscillation is being performed.

【0024】このように、ミラースキャナ31の振り幅
の両端においてレーザ発振が起きるように、ミラースキ
ャナ31の角度とレーザ発振の周波数とを同期させる関
係において、ミラースキャナ31を実際に停止させる制
御なしに高速に時分割し交互照射することができる。
As described above, in order to synchronize the angle of the mirror scanner 31 and the frequency of laser oscillation so that laser oscillation occurs at both ends of the swing width of the mirror scanner 31, there is no control to actually stop the mirror scanner 31. Time-division and alternate irradiation at high speed.

【0025】図3(b)に示すレーザ発振器1の発光指
令信号の周波数は、ミラースキャナ31の2倍の周波数
の8kHzとなっている。加工位置での発光周波数はミ
ラースキャナ31の周波数と同じになり、4kHzであ
る。このため、レーザ発振器1のパルス発振周波数を高
くして、全体の穴加工速度を高めても、それぞれの加工
位置における加工速度はレーザビーム2を分岐させない
従来の加工速度と同等のため、樹脂材料に複数の穴加工
を並行して行なっても加工穴周辺での熱影響層は、およ
そ5〜10μm程度となり、レーザビーム2を分岐させ
ない従来の場合と変わらない。
The frequency of the emission command signal of the laser oscillator 1 shown in FIG. 3B is 8 kHz, which is twice the frequency of the mirror scanner 31. The light emission frequency at the processing position is the same as the frequency of the mirror scanner 31 and is 4 kHz. For this reason, even if the pulse oscillation frequency of the laser oscillator 1 is increased to increase the entire hole processing speed, the processing speed at each processing position is equal to the conventional processing speed at which the laser beam 2 is not branched. Even if a plurality of holes are formed in parallel, the heat-affected layer around the holes becomes about 5 to 10 μm, which is the same as the conventional case in which the laser beam 2 is not branched.

【0026】また、本実施例1は、図1に示すように2
系統に時分割した複数の光路のレーザビーム2を並行に
伝送して、同一の光学ユニットをなす伝送光学系7によ
ってシート状体4の複数の位置に照射させて穴加工を交
互に行っているので、装置が簡単になる上、2系統に時
分割したレーザビーム2を異なった光学ユニットにて伝
送することによる相互の位置や姿勢のずれ、特性の違い
による影響がなくなり、より正確な穴加工ができる。
In the first embodiment, as shown in FIG.
Laser beams 2 of a plurality of optical paths that are time-divided into a system are transmitted in parallel, and radiated to a plurality of positions of the sheet-like body 4 by a transmission optical system 7 that forms the same optical unit, thereby performing hole machining alternately. Therefore, the apparatus becomes simpler, and there is no influence due to mutual position and posture shift and characteristic difference due to transmission of the laser beam 2 time-divided into two systems by different optical units. Can be.

【0027】(実施例2)本実施例2は図4に示すよう
に、直線偏光のレーザビーム42を出射するレーザ発振
器41を用い、レーザビーム42の光路43上の前後に
置かれた電気光学偏光子44および偏光子45の組み合
わせによって時分割手段9を構成し、レーザビーム42
を2系統に時分割している。電気光学偏光子44はレー
ザビーム42の直線偏光に対する角度を制御装置8によ
って電気的に回転制御されて、レーザビーム42を偏光
子45で反射する分割ビーム42aと透過する分割ビー
ム42bとに高速にて時分割することができる。これに
より複数の穴加工に必要な時間がより短くなり、レーザ
発振器41の利用効率もさらに向上する。
(Embodiment 2) This embodiment 2 uses a laser oscillator 41 for emitting a linearly polarized laser beam 42 as shown in FIG. The time division means 9 is constituted by a combination of the polarizer 44 and the polarizer 45, and the laser beam 42
Is time-divided into two systems. The angle of the laser beam 42 with respect to the linearly polarized light is electrically controlled by the control device 8 to rotate the electro-optical polarizer 44 at high speed. The laser beam 42 is rapidly converted into a divided beam 42a reflected by the polarizer 45 and a transmitted divided beam 42b. Can be time-shared. As a result, the time required for processing a plurality of holes becomes shorter, and the utilization efficiency of the laser oscillator 41 is further improved.

【0028】(実施例3)本実施例3は図5に示すよう
に、実施例2の場合同様に、レーザ発振器41から出射
したレーザビーム42を電気光学偏光子44により2系
統の分割ビーム42a、42bに時分割している。しか
し、分割した2系統の分割ビーム42a、42bはその
光路43a、43bにおいて、マスク21、X、Yガル
バノメータ12、13、fθレンズ14を持った個別の
位置決め集光ユニット47a、47bによって取り扱
い、2つのシート状体4に分散している加工位置5、6
に導き制御装置8による制御のもとに並行して穴加工す
るようにしてある。
(Embodiment 3) As shown in FIG. 5, in Embodiment 3, as in Embodiment 2, a laser beam 42 emitted from a laser oscillator 41 is divided into two systems of split beams 42a by an electro-optic polarizer 44. , 42b. However, the divided two divided beams 42a and 42b are handled in their optical paths 43a and 43b by individual positioning and focusing units 47a and 47b having the mask 21, the X and Y galvanometers 12 and 13, and the fθ lens 14. Processing positions 5 and 6 dispersed in one sheet 4
The drilling is performed in parallel under the control of the control device 8.

【0029】図6(a)に一方の位置決め集光ユニット
47aにおける穴加工時の状態を示している。まず、
X、Yガルバノメータ12、13が位置決め状態で停止
している状態で複数発のレーザパルス発振によって穴加
工が行なわれている。この穴加工に要する時間は例えば
1〜7ms程度である。続いて、X、Yガルバノメータ
12、13が移動して次の加工位置への位置決めを行な
う。このための時間は例えば1〜20ms程度である。
このため、X、Yガルバノメータ12、13の位置決め
のための動作時間と穴加工に要する時間とは、ほぼ同じ
ような時間間隔となっている。これにより、加工時の位
置決め集光ユニット47bを図5に示すように今1組備
えて、図6(b)に示すように、図6(a)の制御にて
穴加工を行なっているときに図6(b)の制御にてX、
Yガルバノメータ12、13による位置決めの動作を終
了し、図6(a)の制御で位置決めを行なっているとき
に、図6(b)の制御で穴加工を行なう。
FIG. 6 (a) shows a state in which one of the positioning and focusing units 47a is drilled. First,
Drilling is performed by a plurality of laser pulse oscillations while the X and Y galvanometers 12 and 13 are stopped in the positioning state. The time required for this hole drilling is, for example, about 1 to 7 ms. Subsequently, the X and Y galvanometers 12 and 13 move to perform positioning to the next processing position. The time for this is, for example, about 1 to 20 ms.
For this reason, the operation time for positioning the X and Y galvanometers 12 and 13 and the time required for drilling have substantially the same time interval. Thereby, when one set of the positioning condensing unit 47b is provided as shown in FIG. 5 and drilling is performed under the control of FIG. 6A as shown in FIG. In the control of FIG.
When the positioning operation by the Y galvanometers 12 and 13 is completed, and the positioning is being performed by the control of FIG. 6A, the hole machining is performed by the control of FIG. 6B.

【0030】このように、図6(a)(b)のように2
つの位置決め集光ユニット47a、47bでの位置決め
動作と穴加工動作とが逆のタイミングになるように設定
し、制御することにより、ビームスプリッタによってレ
ーザビーム42を分割したときのようにレーザピークが
半分になるというようなことが起こらず、加工穴のアス
ペクト比が悪くなる原因を取り除ける。これにより、本
実施例3におけるレーザ発振器41の発振時間というの
は、従来のように位置決め動作後にしかレーザ発振を行
わないときよりもほぼ2倍になる。従って、発振効率が
高まり、加工速度の向上に寄与することができる。ま
た、分岐を行なわない従来の場合と同様のピークパワー
を持ったパルスレーザでの加工となることによって、加
工穴のアスペクト比も分岐を行なわない従来の場合と変
わらないものとなる。
As described above, as shown in FIGS.
By setting and controlling the positioning operation and the hole drilling operation in the two positioning light collecting units 47a and 47b to have opposite timings, the laser peak is reduced by half as in the case where the laser beam 42 is split by the beam splitter. Does not occur, and the cause of the poor aspect ratio of the machined hole can be eliminated. As a result, the oscillation time of the laser oscillator 41 in the third embodiment is almost twice as long as the conventional case where laser oscillation is performed only after the positioning operation. Therefore, the oscillation efficiency is increased, and it is possible to contribute to the improvement of the processing speed. Further, by performing processing using a pulse laser having the same peak power as in the conventional case in which branching is not performed, the aspect ratio of a processed hole is the same as in the conventional case in which branching is not performed.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
レーザ加工方法及びその装置によれば、各加工位置には
レーザ発振器からその時々に発振されるれレーザビーム
の全量がパルス照射されるので、エネルギの低下やそれ
による時間延長なく、従って、加工部まわりへの熱影響
も少なく加工することができる。
As is apparent from the above description, according to the laser processing method and apparatus of the present invention, each processing position is oscillated from the laser oscillator at each time and the entire amount of the laser beam is pulse-irradiated. Therefore, the processing can be performed without lowering the energy or extending the time due to the reduction of the energy, and therefore, the influence of the heat around the processing portion can be reduced.

【0032】また、別に、時分割した分割レーザビーム
の位置決めとそれによる加工を互いに逆なタイミングで
行なうことができ、レーザ発振器をほぼ連続で発振させ
て複数の加工を交互に行い、レーザ発振器の利用効率を
上げ、また、加工の時間ロスを無くしてさらに加工速度
を向上させられる。
Further, separately, the positioning of the time-divided split laser beam and the processing thereby can be performed at timings opposite to each other, and the laser oscillator is oscillated almost continuously to perform a plurality of processings alternately. The utilization efficiency can be increased, and the processing speed can be further improved by eliminating the processing time loss.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1に係るレーザ加工方法及びそ
の装置を示す全体構成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram illustrating a laser processing method and apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の時分割手段の動作説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the time division means of FIG. 1;

【図3】(a)は図1の方法及び装置におけるレーザビ
ームの発振と分割ビームの位置決めとの同期関係を示す
グラフ、(b)はレーザビームの発振タイミングの制御
状態を示すタイムチャートである。
3A is a graph showing a synchronous relationship between laser beam oscillation and split beam positioning in the method and apparatus of FIG. 1, and FIG. 3B is a time chart showing a control state of laser beam oscillation timing. .

【図4】本発明の実施例2に係るレーザ加工方法及びそ
の装置を示す要部の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a main part showing a laser processing method and apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例3に係るレーザ加工方法及びそ
の装置を示す全体構成図である。
FIG. 5 is an overall configuration diagram illustrating a laser processing method and apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図6】図5の方法及び装置における位置決めおよび穴
加工のタイミングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart of positioning and drilling in the method and apparatus of FIG. 5;

【図7】従来のレーザ加工装置を示す全体構成図であ
る。
FIG. 7 is an overall configuration diagram showing a conventional laser processing apparatus.

【図8】図7の装置による穴加工の状態を示し、その
(a)は平面図、その(b)は断面図である。
8 (a) is a plan view and FIG. 8 (b) is a sectional view showing a state of drilling by the apparatus of FIG. 7;

【図9】別の従来装置による穴加工の状態を示し、その
(a)は平面図、その(b)は断面図である。
FIG. 9 shows a state of drilling by another conventional apparatus, in which (a) is a plan view and (b) is a sectional view.

【符号の説明】 1、41 レーザ発振器 2、42 レーザビーム 2a、2b、42a、42b 分割ビーム 3、43 光路 4 シート状体 5、6 加工位置 7 伝送光学系(光学ユニット) 8 制御装置 9 時分割手段 11 ミラー 12 Xガルバノメータ 13 Yガルバノメータ 14 fθレンズ 21 マスク 33 Qスイッチ 44 電気光学偏光子 45 偏光子 47a、47b 位置決め集光ユニット[Description of Signs] 1, 41 Laser oscillator 2, 42 Laser beam 2a, 2b, 42a, 42b Divided beam 3, 43 Optical path 4 Sheet 5, 6, Processing position 7 Transmission optical system (optical unit) 8 Control device 9 Dividing means 11 Mirror 12 X Galvanometer 13 Y Galvanometer 14 fθ lens 21 Mask 33 Q switch 44 Electro-optical polarizer 45 Polarizer 47a, 47b Positioning and focusing unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01S 3/00 H01S 3/00 B // B23K 101:42 B23K 101:42 Fターム(参考) 2H041 AA11 AB14 AC04 AZ06 2H079 AA03 BA01 BA02 CA24 HA16 KA05 4E068 CA03 CA04 CD04 CD07 CD12 CE03 5F072 AB01 JJ02 KK05 MM05 MM17 SS06 YY06 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01S 3/00 H01S 3/00 B // B23K 101: 42 B23K 101: 42 F term (Reference) 2H041 AA11 AB14 AC04 AZ06 2H079 AA03 BA01 BA02 CA24 HA16 KA05 4E068 CA03 CA04 CD04 CD07 CD12 CE03 5F072 AB01 JJ02 KK05 MM05 MM17 SS06 YY06

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ発振器から出射されるレーザビー
ムを集光させて被加工物へのレーザパルス照射により加
工を行うレーザ加工方法において、 レーザビームをレーザパルス発振周波数と同期して時分
割し、時分割したレーザビームを被加工物の複数の加工
位置に交互に照射し、複数の加工を並行して行うことを
特徴とするレーザ加工方法。
1. A laser processing method for converging a laser beam emitted from a laser oscillator and irradiating a workpiece with a laser pulse, wherein the laser beam is time-divided in synchronization with a laser pulse oscillation frequency. A laser processing method comprising: irradiating time-division laser beams to a plurality of processing positions of a workpiece alternately to perform a plurality of processings in parallel.
【請求項2】 レーザ発振器と、このレーザ発振器から
出射されるレーザビームを伝送して被加工物の加工位置
に集光させる伝送光学系と、レーザ発振器からのレーザ
ビームを加工位置にレーザパルス照射して加工を行う制
御装置とを備えたレーザ加工装置において、 レーザビームをレーザパルス発振周波数と同期して時分
割する時分割手段を備え、制御装置は時分割したレーザ
ビームの分割ビームを被加工物の複数の加工位置に交互
に照射し、複数の加工を行うことを特徴とするレーザ加
工装置。
2. A laser oscillator, a transmission optical system for transmitting a laser beam emitted from the laser oscillator and condensing the laser beam on a processing position of a workpiece, and irradiating a laser beam from the laser oscillator to a processing position with a laser pulse. A laser processing device comprising: a control device for performing processing by performing time-division processing; and a time-division means for performing time-division synchronization of the laser beam with a laser pulse oscillation frequency. A laser processing apparatus, wherein a plurality of processing positions of an object are alternately irradiated to perform a plurality of processing.
【請求項3】 時分割手段は、角度の振りによってレー
ザビームを時分割するミラーよりなり、制御装置はミラ
ーの振り幅の両端においてレーザ発振が起こるように、
ミラーの角度とレーザパルス発振周波数とを同期させる
請求項2に記載のレーザ加工装置。
3. The time-sharing means includes a mirror for time-sharing a laser beam by swinging an angle, and the control device controls the laser so that laser oscillation occurs at both ends of the swing width of the mirror.
The laser processing apparatus according to claim 2, wherein the angle of the mirror and the laser pulse oscillation frequency are synchronized.
【請求項4】 レーザ発振器は直線偏光のレーザビーム
を出射し、時分割手段は光路上の前後に配置した電気光
学偏光子および偏光子の組み合わせよりなり、制御装置
は電気光学偏光子により前記レーザービームの直線偏光
に対する角度を回転させることにより、前記レーザビー
ムを偏光子での反射光と透過光とに時分割する請求項2
に記載のレーザ加工装置。
4. A laser oscillator emits a linearly polarized laser beam, the time division means comprises a combination of an electro-optical polarizer and a polarizer arranged before and after on an optical path, and the control device controls the laser by the electro-optical polarizer. 3. The laser beam is time-divided into reflected light and transmitted light from a polarizer by rotating an angle of the beam with respect to linearly polarized light.
The laser processing apparatus according to item 1.
【請求項5】 伝送光学系は1つの光学ユニットよりな
り、時分割された複数の光路のレーザビームを並行に伝
送して、被加工物の複数の位置に照射させて加工を交互
に行う請求項2〜4のいずれか1項に記載のレーザ加工
装置。
5. A transmission optical system comprising a single optical unit, wherein laser beams of a plurality of time-divided optical paths are transmitted in parallel to irradiate a plurality of positions on a workpiece to perform processing alternately. Item 5. The laser processing apparatus according to any one of Items 2 to 4.
【請求項6】 伝送光学系は2つの位置決め集光ユニッ
トを持ち、制御装置は時分割した複数の光路のレーザビ
ームを個別に並行に伝送し、個別の光学ユニットによっ
て1つまたは複数の被加工物の複数の位置に照射させて
加工を交互に行う請求項2〜4のいずれか1項に記載の
レーザ加工装置。
6. The transmission optical system has two positioning light-collecting units, and the controller transmits laser beams of a plurality of time-division optical paths individually and in parallel, and one or more workpieces are processed by the individual optical units. The laser processing apparatus according to any one of claims 2 to 4, wherein processing is performed alternately by irradiating a plurality of positions on the object.
【請求項7】 レーザ発振器はQスイッチなどのシャッ
タ手段の開き操作によってレーザビームのパルス発振を
制御される請求項2〜6のいずれか1項に記載のレーザ
加工装置。
7. The laser processing apparatus according to claim 2, wherein the laser oscillator controls the pulse oscillation of the laser beam by opening shutter means such as a Q switch.
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