JP2002226503A - Ｎ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた重合体 - Google Patents
Ｎ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた重合体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線硬化が可能なＮ−アルキルキトサン誘
導体が得られる。従って、これを用いた重合体を得るこ
とができ、抗菌性塗料、生分解性塗料、無電解めっき用
下地プライマーやコンタクトレンズ、歯科用材料などへ
の適用が可能なＮ−アルキルキトサン誘導体の製造方
法、Ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた
重合体を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ）で表されるキトサンと下記
式（II）で表されるアルデヒド基を有する（メタ）アク
リル酸誘導体とを反応させる紫外線硬化性官能基を有す
るＮ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、およびこの
方法により得られたＮ−アルキルキトサン誘導体、これ
を用いた重合体とした。 【化１２】 ［式（Ｉ）中、ｎはＮ−アルキル基の置換度を表し、ｍ
＋ｎ＝１の関係を満たす。式（II）中、Ｒはアクリロイ
ル、またはメタクリロイル基を有する直鎖状不飽和炭化
水素基を表す。］
導体が得られる。従って、これを用いた重合体を得るこ
とができ、抗菌性塗料、生分解性塗料、無電解めっき用
下地プライマーやコンタクトレンズ、歯科用材料などへ
の適用が可能なＮ−アルキルキトサン誘導体の製造方
法、Ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた
重合体を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ）で表されるキトサンと下記
式（II）で表されるアルデヒド基を有する（メタ）アク
リル酸誘導体とを反応させる紫外線硬化性官能基を有す
るＮ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、およびこの
方法により得られたＮ−アルキルキトサン誘導体、これ
を用いた重合体とした。 【化１２】 ［式（Ｉ）中、ｎはＮ−アルキル基の置換度を表し、ｍ
＋ｎ＝１の関係を満たす。式（II）中、Ｒはアクリロイ
ル、またはメタクリロイル基を有する直鎖状不飽和炭化
水素基を表す。］
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、キトサンを利用し
た紫外線硬化性官能基を有するＮ−アルキルキトサン誘
導体の製造方法、紫外線硬化性官能基を有するＮ−アル
キルキトサン誘導体、およびこのＮ−アルキルキトサン
誘導体を用いた重合体に関する。
た紫外線硬化性官能基を有するＮ−アルキルキトサン誘
導体の製造方法、紫外線硬化性官能基を有するＮ−アル
キルキトサン誘導体、およびこのＮ−アルキルキトサン
誘導体を用いた重合体に関する。
【０００２】
【従来の技術】キトサンはキチンの脱アセチル化した塩
基性多糖であり、キチンを濃アルカリと加熱することで
得られる。キチンはエビ、カニなどの甲殻類、昆虫類の
外骨格、甲皮や軟体動物、節足動物などの骨格成分を構
成する多糖類であり、生物により莫大な量が生産されて
おり、残された未利用生物資源の一つである。このた
め、キトサンはキチンから豊富に得ることが可能であ
り、酵素固定化担体、徐放性農医薬担体、タンパク質廃
水の凝集処理・回収剤、タンニン吸収剤などに利用され
るほか、生体適合材料として手術用の吸収性縫合糸や創
傷被覆材（人工皮膚）が実用化されている。
基性多糖であり、キチンを濃アルカリと加熱することで
得られる。キチンはエビ、カニなどの甲殻類、昆虫類の
外骨格、甲皮や軟体動物、節足動物などの骨格成分を構
成する多糖類であり、生物により莫大な量が生産されて
おり、残された未利用生物資源の一つである。このた
め、キトサンはキチンから豊富に得ることが可能であ
り、酵素固定化担体、徐放性農医薬担体、タンパク質廃
水の凝集処理・回収剤、タンニン吸収剤などに利用され
るほか、生体適合材料として手術用の吸収性縫合糸や創
傷被覆材（人工皮膚）が実用化されている。
【０００３】従って、キトサンを用いて、重合可能な誘
導体などが得られれば、その利用範囲も広がり、ひいて
は資源の有効利用にもつながることが期待される。
導体などが得られれば、その利用範囲も広がり、ひいて
は資源の有効利用にもつながることが期待される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、重合
体の合成原料となりうる紫外線硬化性官能基を有するＮ
−アルキルキトサン誘導体の製造方法と紫外線硬化性官
能基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体を提供するこ
とであり、さらには無電解めっき用下地プライマーやコ
ンタクトレンズ、歯科用材料、抗菌性塗料、生分解性塗
料などへの適用が期待される紫外線硬化性官能基を有す
るＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合体を提供す
ることである。
体の合成原料となりうる紫外線硬化性官能基を有するＮ
−アルキルキトサン誘導体の製造方法と紫外線硬化性官
能基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体を提供するこ
とであり、さらには無電解めっき用下地プライマーやコ
ンタクトレンズ、歯科用材料、抗菌性塗料、生分解性塗
料などへの適用が期待される紫外線硬化性官能基を有す
るＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合体を提供す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的は、下記の本発
明によって達成される。 （１）下記式（Ｉ）で表されるキトサンと下記式（II）
で表されるアルデヒド基を有する（メタ）アクリル酸誘
導体とを反応させる紫外線硬化性官能基を有するＮ−ア
ルキルキトサン誘導体の製造方法。
明によって達成される。 （１）下記式（Ｉ）で表されるキトサンと下記式（II）
で表されるアルデヒド基を有する（メタ）アクリル酸誘
導体とを反応させる紫外線硬化性官能基を有するＮ−ア
ルキルキトサン誘導体の製造方法。
【０００６】
【化３】
【０００７】［式（Ｉ）中、ｎはＮ−アルキル基の置換
度を表し、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす。式（II）中、Ｒ
はアクリロイル、またはメタクリロイル基を有する直鎖
状不飽和炭化水素基を表す。］
度を表し、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす。式（II）中、Ｒ
はアクリロイル、またはメタクリロイル基を有する直鎖
状不飽和炭化水素基を表す。］
【０００８】（２） 式（III）で表される紫外線硬化
性官能基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体。
性官能基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体。
【０００９】
【化４】
【００１０】［式（III）中、Ｒはアクリロイル、また
はメタクリロイル基を有する直鎖状不飽和族炭化水素基
を表す。ｎはＮ−アルキル基の置換度を表し、ｍ＋ｎ＝
１の関係を満たす。］
はメタクリロイル基を有する直鎖状不飽和族炭化水素基
を表す。ｎはＮ−アルキル基の置換度を表し、ｍ＋ｎ＝
１の関係を満たす。］
【００１１】（３） （２）の紫外線硬化性官能基を有
するＮ−アルキルキトサン誘導体を含む紫外線硬化性組
成物に紫外線を照射し硬化して得られた紫外線硬化性官
能基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合
体。
するＮ−アルキルキトサン誘導体を含む紫外線硬化性組
成物に紫外線を照射し硬化して得られた紫外線硬化性官
能基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合
体。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】本発明の紫外線（ＵＶ）硬化性官能基を有
するＮ−アルキルキトサン誘導体は、式（Ｉ）で表され
るキトサンと、式（II）で表されるアルデヒド基を有す
る（メタ）アクリル酸誘導体とを反応させて得られる。
するＮ−アルキルキトサン誘導体は、式（Ｉ）で表され
るキトサンと、式（II）で表されるアルデヒド基を有す
る（メタ）アクリル酸誘導体とを反応させて得られる。
【００１４】
【化５】
【００１５】式（II）で表されるアルデヒド基を有する
（メタ）アクリル酸誘導体としては、キトサンのアミノ
基と反応可能なアルデヒド基を有する芳香族アルデヒド
が好ましい。また、Ｒで表される紫外線（ＵＶ）硬化性
官能基としては、ＵＶ硬化可能なアクリロイル基やメタ
クリロイル基を有する直鎖状不飽和炭化水素基であれば
特に制限はない。Ｒで表される紫外線（ＵＶ）硬化性官
能基としては、好ましくは下記に示す構造式で表される
ものである。
（メタ）アクリル酸誘導体としては、キトサンのアミノ
基と反応可能なアルデヒド基を有する芳香族アルデヒド
が好ましい。また、Ｒで表される紫外線（ＵＶ）硬化性
官能基としては、ＵＶ硬化可能なアクリロイル基やメタ
クリロイル基を有する直鎖状不飽和炭化水素基であれば
特に制限はない。Ｒで表される紫外線（ＵＶ）硬化性官
能基としては、好ましくは下記に示す構造式で表される
ものである。
【００１６】
【化６】
【００１７】−ＯＲ基の置換位置は特に限定されるもの
ではなく、芳香族アルデヒドの２，３−、２，４−、
２，５−、２，６−、３，４−、３，５−のいずれの位
置に置換していてもよい。−ＯＲ基を２つ有することに
より、例えばプライマーとして用いた場合の金属イオン
の吸着量が増大し、強固なめっき皮膜を形成することが
できる。
ではなく、芳香族アルデヒドの２，３−、２，４−、
２，５−、２，６−、３，４−、３，５−のいずれの位
置に置換していてもよい。−ＯＲ基を２つ有することに
より、例えばプライマーとして用いた場合の金属イオン
の吸着量が増大し、強固なめっき皮膜を形成することが
できる。
【００１８】このようなＲを有するアルデヒド基を有す
る（メタ）アクリル酸誘導体としては、例えば３，４−
ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイロキシプロポ
キシ）ベンズアルデヒドや３，４−ビス（２−ヒドロキ
シ−３−アクリロイロキシプロポキシ）ベンズアルデヒ
ド、３，４−ジメタクリロイロキシベンズアルデヒド、
３，４−ジアクリロイロキシベンズアルデヒド、３，４
−ジメタクリロイロキシプロポキシベンズアルデヒド、
３，４−ジアクリロイロキシプロポキシベンズアルデヒ
ド等が挙げられる。より具体的には、下記に示すものが
好ましい。
る（メタ）アクリル酸誘導体としては、例えば３，４−
ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイロキシプロポ
キシ）ベンズアルデヒドや３，４−ビス（２−ヒドロキ
シ−３−アクリロイロキシプロポキシ）ベンズアルデヒ
ド、３，４−ジメタクリロイロキシベンズアルデヒド、
３，４−ジアクリロイロキシベンズアルデヒド、３，４
−ジメタクリロイロキシプロポキシベンズアルデヒド、
３，４−ジアクリロイロキシプロポキシベンズアルデヒ
ド等が挙げられる。より具体的には、下記に示すものが
好ましい。
【００１９】
【化７】
【００２０】ここで用いられるアルデヒド基を有する
（メタ）アクリル酸誘導体の出発原料アルデヒドは、ヒ
ドロキシベンズアルデヒド一般を指すものであり、構造
中の水酸基の位置、数には特に制限はない。
（メタ）アクリル酸誘導体の出発原料アルデヒドは、ヒ
ドロキシベンズアルデヒド一般を指すものであり、構造
中の水酸基の位置、数には特に制限はない。
【００２１】具体的には、２，３−ジヒドロキシベンズ
アルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、
２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒ
ドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベン
ズアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−
ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズア
ルデヒド、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒ
ド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、
２，４，６−トリヒドロキシベンズアルデヒド等を挙げ
ることができる。これらのなかで３，４−ジヒドロキシ
ベンズアルデヒドの構造を下記に示す。
アルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、
２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒ
ドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベン
ズアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−
ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズア
ルデヒド、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒ
ド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、
２，４，６−トリヒドロキシベンズアルデヒド等を挙げ
ることができる。これらのなかで３，４−ジヒドロキシ
ベンズアルデヒドの構造を下記に示す。
【００２２】
【化８】
【００２３】一方、ここでいうキトサンとは、式（Ｉ）
で示されるものであり、その構成アミノ糖であるグルコ
サミンおよびそのオリゴ糖等の低分子キトオリゴ糖も含
まれる。キトサンは市販品をそのまま用いることができ
る。
で示されるものであり、その構成アミノ糖であるグルコ
サミンおよびそのオリゴ糖等の低分子キトオリゴ糖も含
まれる。キトサンは市販品をそのまま用いることができ
る。
【００２４】これらの反応は、キトサンのギ酸や酢酸な
どの希有機酸溶液にメタノール等の親水性溶媒を加え、
さらに上記の（メタ）アクリル酸誘導体の溶液を加えて
６〜１２時間程度攪拌し、その後水素化ホウ素ナトリウ
ム等の還元剤の溶液を加えて６〜１２時間程度攪拌する
ことによって進行する。キトサンと上記の（メタ）アク
リル酸誘導体との量比は、キトサンの目的とするＮ−ア
ルキル化の度合（すなわち（メタ）アクリル酸誘導基で
あるＮ−アルキル基の置換度などによって決めればよ
く、反応温度は０℃〜室温程度とすればよい。反応終了
後、精製し、目的物が得られる。反応生成物の同定は、
赤外吸収スペクトル（ＩＲスペクトル）およびプロトン
核磁気共鳴スペクトル（ １Ｈ−ＮＭＲスペクトル）に
よって行うことができる。
どの希有機酸溶液にメタノール等の親水性溶媒を加え、
さらに上記の（メタ）アクリル酸誘導体の溶液を加えて
６〜１２時間程度攪拌し、その後水素化ホウ素ナトリウ
ム等の還元剤の溶液を加えて６〜１２時間程度攪拌する
ことによって進行する。キトサンと上記の（メタ）アク
リル酸誘導体との量比は、キトサンの目的とするＮ−ア
ルキル化の度合（すなわち（メタ）アクリル酸誘導基で
あるＮ−アルキル基の置換度などによって決めればよ
く、反応温度は０℃〜室温程度とすればよい。反応終了
後、精製し、目的物が得られる。反応生成物の同定は、
赤外吸収スペクトル（ＩＲスペクトル）およびプロトン
核磁気共鳴スペクトル（ １Ｈ−ＮＭＲスペクトル）に
よって行うことができる。
【００２５】上記の本発明の製造方法に従って得られる
Ｎ−アルキルキトサン誘導体としては、式（III）で表
される化合物がある。
Ｎ−アルキルキトサン誘導体としては、式（III）で表
される化合物がある。
【００２６】
【化９】
【００２７】式（III）中、Ｒは上記式（II）と同義で
あり、ｎは（メタ）アクリル酸誘導基であるＮ−アルキ
ル基の置換度を表し、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす。ｎは
好ましくは０．０３〜１．０である。
あり、ｎは（メタ）アクリル酸誘導基であるＮ−アルキ
ル基の置換度を表し、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす。ｎは
好ましくは０．０３〜１．０である。
【００２８】本発明の紫外線（ＵＶ）硬化性官能基を有
するＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合体は、式
（III）で表されるＮ−アルキル誘導体を含むＵＶ硬化
性組成物に紫外線を照射し硬化することにより得られ
る。ＵＶ硬化性組成物には、他のＵＶ硬化性化合物を添
加することができ、その種類、添加量等は目的、用途に
応じて選択すればよい。
するＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合体は、式
（III）で表されるＮ−アルキル誘導体を含むＵＶ硬化
性組成物に紫外線を照射し硬化することにより得られ
る。ＵＶ硬化性組成物には、他のＵＶ硬化性化合物を添
加することができ、その種類、添加量等は目的、用途に
応じて選択すればよい。
【００２９】ＵＶ硬化の条件は、公知の方法によること
ができる。この場合、重合開始剤の添加は有効であり、
重合開始剤としては公知の化合物を使用でき、例えばベ
ンゾフェノン、ベンゾイン、アセトフェノン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、メチル
ベンゾイルホルメートが挙げられる。
ができる。この場合、重合開始剤の添加は有効であり、
重合開始剤としては公知の化合物を使用でき、例えばベ
ンゾフェノン、ベンゾイン、アセトフェノン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、メチル
ベンゾイルホルメートが挙げられる。
【００３０】このようにして得られる重合体は、抗菌性
塗料、生分解性塗料、無電解めっき用下地プライマー、
コンタクトレンズや歯科用材料等の医療用材料などへの
適用が期待できる。
塗料、生分解性塗料、無電解めっき用下地プライマー、
コンタクトレンズや歯科用材料等の医療用材料などへの
適用が期待できる。
【００３１】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
する。
【００３２】<実施例１：Ｎ−アルキル化キトサン誘導
体II−１の合成> （１）３，４ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイ
ロキシプロポキシ）ベンズアルデヒドの合成。
体II−１の合成> （１）３，４ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイ
ロキシプロポキシ）ベンズアルデヒドの合成。
【００３３】３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
６．９ｇをジメチルフォルムアルデヒドＤＭＦ５０mlに
溶解し、メタクリル酸グリシジル１３．６mlを加え、８
０℃にて６〜１０時間加熱撹拌した。反応液を酢酸エチ
ルで希釈し、有機層を水洗した後濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造の化合物
（３，４ＤＭＡＰＢ）を得た（収率４０％）。
６．９ｇをジメチルフォルムアルデヒドＤＭＦ５０mlに
溶解し、メタクリル酸グリシジル１３．６mlを加え、８
０℃にて６〜１０時間加熱撹拌した。反応液を酢酸エチ
ルで希釈し、有機層を水洗した後濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、下記構造の化合物
（３，４ＤＭＡＰＢ）を得た（収率４０％）。
【００３４】質量分析の結果：４２２．１６（分子量４
２２．４３、Ｃ21Ｈ26Ｏ9 ） 元素分析の結果：Ｃ，５９．７１；Ｈ，６．２０；Ｏ，
３４．０９
２２．４３、Ｃ21Ｈ26Ｏ9 ） 元素分析の結果：Ｃ，５９．７１；Ｈ，６．２０；Ｏ，
３４．０９
【００３５】
【化１０】
【００３６】（２）Ｎ−アルキル化キトサン誘導体II−
１の合成 キトサン（君津化学、分子量１５万、ＤＡＣ１００）
１．６ｇ（１０mmol）を酢酸バッファー（pH４．５）１
２０mlに溶解しメタノール８０mlを加えた。この溶液に
酢酸エチルに溶解した上記の３，４−ＤＭＡＰＢｎ４２
２．３mg（１mmol、キトサンのアミノ基当たり０．１mo
l当量）を加えた。７〜８時間室温で攪拌した後、水素
化ホウ素ナトリウム１．０５ｇを溶解した水溶液を加え
た。更に一晩室温で攪拌した後、生じた沈殿を遠心分離
で集め、メタノール、水洗浄を繰り返した。最終的に凍
結乾燥で精製し、目的の白色粉末１．６g を得た。生成
物は元素分析、ＩＲスペクトルおよび １Ｈ−ＮＭＲに
よって確認した。
１の合成 キトサン（君津化学、分子量１５万、ＤＡＣ１００）
１．６ｇ（１０mmol）を酢酸バッファー（pH４．５）１
２０mlに溶解しメタノール８０mlを加えた。この溶液に
酢酸エチルに溶解した上記の３，４−ＤＭＡＰＢｎ４２
２．３mg（１mmol、キトサンのアミノ基当たり０．１mo
l当量）を加えた。７〜８時間室温で攪拌した後、水素
化ホウ素ナトリウム１．０５ｇを溶解した水溶液を加え
た。更に一晩室温で攪拌した後、生じた沈殿を遠心分離
で集め、メタノール、水洗浄を繰り返した。最終的に凍
結乾燥で精製し、目的の白色粉末１．６g を得た。生成
物は元素分析、ＩＲスペクトルおよび １Ｈ−ＮＭＲに
よって確認した。
【００３７】質量分析の結果：２０１．６８５１〔分子
量２０１．８０、（Ｃ6Ｈ11Ｏ4Ｎ）0.9（Ｃ27Ｈ37ＮＯ
12）0.1〕 元素分析の結果：Ｃ，４８．２１；Ｈ，６．７９；Ｎ，
６．９４；Ｏ，３８．０６
量２０１．８０、（Ｃ6Ｈ11Ｏ4Ｎ）0.9（Ｃ27Ｈ37ＮＯ
12）0.1〕 元素分析の結果：Ｃ，４８．２１；Ｈ，６．７９；Ｎ，
６．９４；Ｏ，３８．０６
【００３８】生成物の置換度は 1Ｈ−ＮＭＲおよび元素
分析によって算出し、置換度は０．１であった。
分析によって算出し、置換度は０．１であった。
【００３９】キトサンとＮ−アルキル化キトサン誘導体
II−１のＩＲスペクトル、および 1Ｈ−ＮＭＲスペクト
ルを図１、図２に示す。
II−１のＩＲスペクトル、および 1Ｈ−ＮＭＲスペクト
ルを図１、図２に示す。
【００４０】＜実施例２：Ｎ−アルキルキトサン誘導体
II−２の合成＞３，４−ＤＭＡＰＢの添加量をキトサン
のアミノ基当たり０．４ mol当量にかえて、Ｎ−アルキ
ルキトサン誘導体II−２をＮ−アルキルキトサン誘導体
II−１と同様にして合成した。
II−２の合成＞３，４−ＤＭＡＰＢの添加量をキトサン
のアミノ基当たり０．４ mol当量にかえて、Ｎ−アルキ
ルキトサン誘導体II−２をＮ−アルキルキトサン誘導体
II−１と同様にして合成した。
【００４１】質量分析の結果：３２３．５３３９〔分子
量３２３．７３、（Ｃ6Ｈ11Ｏ4Ｎ）0.6（Ｃ27Ｈ37ＮＯ
12）0.4〕 元素分析の結果：Ｃ，５３．４３；Ｈ，６．６６；Ｎ，
４．３３；Ｏ，３５．５８
量３２３．７３、（Ｃ6Ｈ11Ｏ4Ｎ）0.6（Ｃ27Ｈ37ＮＯ
12）0.4〕 元素分析の結果：Ｃ，５３．４３；Ｈ，６．６６；Ｎ，
４．３３；Ｏ，３５．５８
【００４２】生成物の置換度は 1Ｈ−ＮＭＲおよび元素
分析によって算出し、置換度は０．４であった。
分析によって算出し、置換度は０．４であった。
【００４３】Ｎ−アルキル化キトサン誘導体II−２のＩ
Ｒスペクトルおよび 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１、図
２に示す。
Ｒスペクトルおよび 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１、図
２に示す。
【００４４】＜実施例３：重合体の合成＞Ｎ−アルキル
キトサンII−１、およびII−２各１gずつ、それぞれ１
％酢酸水溶液５０mlに溶解した後、メタノール５０mlで
希釈した。これに光重合開始剤としてベンゾインエチル
エーテル２０mgを加え攪拌溶解後、直径２８mmのポリプ
ロピレン容器上に２mlずつ分注した。その後、次の条件
でＵＶを照射した。
キトサンII−１、およびII−２各１gずつ、それぞれ１
％酢酸水溶液５０mlに溶解した後、メタノール５０mlで
希釈した。これに光重合開始剤としてベンゾインエチル
エーテル２０mgを加え攪拌溶解後、直径２８mmのポリプ
ロピレン容器上に２mlずつ分注した。その後、次の条件
でＵＶを照射した。
【００４５】ＵＶ照射条件 使用ランプ：高圧水銀灯、照射距離：１５cm、出力：
１．０kW、 照射時間：２０秒
１．０kW、 照射時間：２０秒
【００４６】ＵＶ照射後、得られた各重合体フィルムを
メタノール洗浄し、十分乾燥させＦＴ／ＩＲの測定を行
った。得られたフィルムの乾燥重量は２０mg、直径は約
２８mmであった。 ＦＴ／ＩＲ測定機種：Nicolet ＡＶＡＴＡＲ ３６０Ｆ
Ｔ／ＩＲ，ＡＴＲ（ＺｎＳｅ）。
メタノール洗浄し、十分乾燥させＦＴ／ＩＲの測定を行
った。得られたフィルムの乾燥重量は２０mg、直径は約
２８mmであった。 ＦＴ／ＩＲ測定機種：Nicolet ＡＶＡＴＡＲ ３６０Ｆ
Ｔ／ＩＲ，ＡＴＲ（ＺｎＳｅ）。
【００４７】このようにして得られた各重合体のＩＲス
ペクトルを、キトサン、Ｎ−アルキル化キトサン誘導体
II−１、II−２とともに図３に示す。
ペクトルを、キトサン、Ｎ−アルキル化キトサン誘導体
II−１、II−２とともに図３に示す。
【００４８】＜実施例４：重合体のプライマーとしての
評価＞上記３，４−ＤＭＡＰＢを有するＮ−アルキルキ
トサン誘導体、比較例としてキトサン、および下記構造
の２−ヒドロキシ−３−（４−ホルミル−２−メトキ
シ）フェノキシプロピルメタクリレート（ＶＭＡ）を有
するキトサン誘導体を、２％濃度となるようにそれぞれ
１％酢酸水溶液に溶解した後、メタノールで２倍に希釈
した。これに光重合開始剤としてベンゾインエチルエー
テルを３％濃度となるように加え、直径２８mmのポリプ
ロピレン容器上に２mlずつ分注した。その後、次の条件
でＵＶを照射した。
評価＞上記３，４−ＤＭＡＰＢを有するＮ−アルキルキ
トサン誘導体、比較例としてキトサン、および下記構造
の２−ヒドロキシ−３−（４−ホルミル−２−メトキ
シ）フェノキシプロピルメタクリレート（ＶＭＡ）を有
するキトサン誘導体を、２％濃度となるようにそれぞれ
１％酢酸水溶液に溶解した後、メタノールで２倍に希釈
した。これに光重合開始剤としてベンゾインエチルエー
テルを３％濃度となるように加え、直径２８mmのポリプ
ロピレン容器上に２mlずつ分注した。その後、次の条件
でＵＶを照射した。
【００４９】
【化１１】
【００５０】ＵＶ照射条件 使用ランプ：高圧水銀灯、照射距離：１５cm、出力：
１．０kW、 照射時間：２０秒
１．０kW、 照射時間：２０秒
【００５１】ＵＶ照射後、得られた各重合体フィルムを
メタノール洗浄し、十分乾燥させた。得られたフィルム
の乾燥重量は２０mg、直径は約２８mmであった。
メタノール洗浄し、十分乾燥させた。得られたフィルム
の乾燥重量は２０mg、直径は約２８mmであった。
【００５２】このようにして得られた各重合体フィルム
を１５０ppm ，pH１．１およびpH５．３の下記組成のパ
ラジウム溶液１０ml中に浸漬し、３０℃で３分間振倒し
た後の溶液中のパラジウム濃度をＩＣＰにて測定した。
そして、処理開始時のパラジウム濃度と処理後のパラジ
ウム濃度の差より、フィルム１枚当たりに吸着したＰｄ
濃度をmg/filmの形で算出した。 パラジウム浴組成 pH１．１：HCl １０ml／PdCl2 ２５０mg／１０００ml pH５．３：NaCl １０ml／PdCl2 ２５０mg／１０００ml
を１５０ppm ，pH１．１およびpH５．３の下記組成のパ
ラジウム溶液１０ml中に浸漬し、３０℃で３分間振倒し
た後の溶液中のパラジウム濃度をＩＣＰにて測定した。
そして、処理開始時のパラジウム濃度と処理後のパラジ
ウム濃度の差より、フィルム１枚当たりに吸着したＰｄ
濃度をmg/filmの形で算出した。 パラジウム浴組成 pH１．１：HCl １０ml／PdCl2 ２５０mg／１０００ml pH５．３：NaCl １０ml／PdCl2 ２５０mg／１０００ml
【００５３】また、めっき被膜が付着した各サンプルの
表面を、各硬度の鉛筆（三菱ユニ：６Ｈ〜５Ｂ）で引っ
掻き、傷の付かない硬度を調べた。以上の結果を表１に
示す。
表面を、各硬度の鉛筆（三菱ユニ：６Ｈ〜５Ｂ）で引っ
掻き、傷の付かない硬度を調べた。以上の結果を表１に
示す。
【００５４】
【表１】
【００５５】表１から明らかなように、本発明のサンプ
ルは、他のサンプルに比べてパラジウムの吸着量、鉛筆
硬度ともに優れた結果が得られた。
ルは、他のサンプルに比べてパラジウムの吸着量、鉛筆
硬度ともに優れた結果が得られた。
【００５６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、紫外線硬
化が可能なＮ−アルキルキトサン誘導体が得られる。従
って、これを用いた重合体を得ることができ、抗菌性塗
料、生分解性塗料、無電解めっき用下地プライマーやコ
ンタクトレンズ、歯科用材料などへの適用が可能にな
る。
化が可能なＮ−アルキルキトサン誘導体が得られる。従
って、これを用いた重合体を得ることができ、抗菌性塗
料、生分解性塗料、無電解めっき用下地プライマーやコ
ンタクトレンズ、歯科用材料などへの適用が可能にな
る。
【図１】キトサン、Ｎ−アルキルキトサン誘導体II−
１、II−２のＩＲスペクトルを示すグラフである。
１、II−２のＩＲスペクトルを示すグラフである。
【図２】キトサン、Ｎ−アルキルキトサン誘導体II−
１,II−２の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示すグラフであ
る。
１,II−２の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示すグラフであ
る。
【図３】キトサン、Ｎ−アルキルキトサン誘導体II−
１、II−２、ＵＶ照射後のＮ−アルキルキトサン誘導体
のＩＲスペクトルを示すグラフである。
１、II−２、ＵＶ照射後のＮ−アルキルキトサン誘導体
のＩＲスペクトルを示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 蓮佛 映子 鳥取県鳥取市千代水三丁目87番地 大村塗 料株式会社内 (72)発明者 斎本 博之 鳥取県鳥取市湖山町南五丁目626 (72)発明者 重政 好弘 鳥取県鳥取市美萩野１−48 Ｆターム(参考） 4C090 AA05 BA47 BA62 BB17 BB32 BB36 BB53 BB65 BB92 DA22 DA31 4J011 QB29 SA02 SA12 SA22 SA32 SA42 VA04 WA02 WA07 4J027 AH03 AJ01 AJ02 CB10 CC05 CD04 CD07 CD08
Claims (3)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ）で表されるキトサンと下記
式（II）で表されるアルデヒド基を有する（メタ）アク
リル酸誘導体とを反応させる紫外線硬化性官能基を有す
るＮ−アルキルキトサン誘導体の製造方法。 【化１】 ［式（Ｉ）中、ｎはＮ−アルキル基の置換度を表し、ｍ
＋ｎ＝１の関係を満たす。式（II）中、Ｒはアクリロイ
ル、またはメタクリロイル基を有する直鎖状不飽和炭化
水素基を表す。］ - 【請求項２】 式（III）で表される紫外線硬化性官能
基を有するＮ−アルキルキトサン誘導体。 【化２】 ［式（III）中、Ｒはアクリロイル、またはメタクリロ
イル基を有する直鎖状不飽和族炭化水素基を表す。ｎは
Ｎ−アルキル基の置換度を表し、ｍ＋ｎ＝１の関係を満
たす。］ - 【請求項３】 請求項２の紫外線硬化性官能基を有する
Ｎ−アルキルキトサン誘導体を含む紫外線硬化性組成物
に紫外線を照射し硬化して得られた紫外線硬化性官能基
を有するＮ−アルキルキトサン誘導体を用いた重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001022194A JP2002226503A (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | Ｎ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001022194A JP2002226503A (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | Ｎ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた重合体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002226503A true JP2002226503A (ja) | 2002-08-14 |
Family
ID=18887639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001022194A Withdrawn JP2002226503A (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | Ｎ−アルキルキトサン誘導体の製造方法、ｎ−アルキルキトサン誘導体、およびこれを用いた重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002226503A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002322430A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬化性組成物およびハードコート処理物品 |
| KR20030023119A (ko) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | 이창 | 기능성 콘택트 렌즈 |
| WO2008038503A1 (fr) * | 2006-09-27 | 2008-04-03 | Tottori University | Adhésif ou agent de revêtement à base de chitosan photodurcissable de type mélange |
| JP2010254892A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化フィルム |
| JP2011160959A (ja) * | 2010-02-09 | 2011-08-25 | Tottori Univ | 新規キチン誘導体 |
| CN102863555A (zh) * | 2012-09-21 | 2013-01-09 | 中国科学院烟台海岸带研究所 | 一种壳聚糖硫酸酯希夫碱及其合成方法 |
| CN102977271A (zh) * | 2012-12-14 | 2013-03-20 | 西北师范大学 | 利用辉光放电电解等离子体引发聚合制备壳聚糖/丙烯酸复合材料的方法 |
| US8623400B2 (en) | 2011-07-08 | 2014-01-07 | National Chiao Tung University | Drug-carrying contact lens and method for fabricating the same |
-
2001
- 2001-01-30 JP JP2001022194A patent/JP2002226503A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002322430A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬化性組成物およびハードコート処理物品 |
| KR20030023119A (ko) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | 이창 | 기능성 콘택트 렌즈 |
| WO2008038503A1 (fr) * | 2006-09-27 | 2008-04-03 | Tottori University | Adhésif ou agent de revêtement à base de chitosan photodurcissable de type mélange |
| JP2010254892A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化フィルム |
| JP2011160959A (ja) * | 2010-02-09 | 2011-08-25 | Tottori Univ | 新規キチン誘導体 |
| US8623400B2 (en) | 2011-07-08 | 2014-01-07 | National Chiao Tung University | Drug-carrying contact lens and method for fabricating the same |
| CN102863555A (zh) * | 2012-09-21 | 2013-01-09 | 中国科学院烟台海岸带研究所 | 一种壳聚糖硫酸酯希夫碱及其合成方法 |
| CN102977271A (zh) * | 2012-12-14 | 2013-03-20 | 西北师范大学 | 利用辉光放电电解等离子体引发聚合制备壳聚糖/丙烯酸复合材料的方法 |
| CN102977271B (zh) * | 2012-12-14 | 2015-03-04 | 西北师范大学 | 利用辉光放电电解等离子体引发聚合制备壳聚糖/丙烯酸复合材料的方法 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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