JP2002211153A - Original plate of heat-sensitive lithographic printing plate and plate making/printing method - Google Patents

Original plate of heat-sensitive lithographic printing plate and plate making/printing method

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JP2002211153A
JP2002211153A JP2001013241A JP2001013241A JP2002211153A JP 2002211153 A JP2002211153 A JP 2002211153A JP 2001013241 A JP2001013241 A JP 2001013241A JP 2001013241 A JP2001013241 A JP 2001013241A JP 2002211153 A JP2002211153 A JP 2002211153A
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JP
Japan
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heat
printing plate
lithographic printing
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JP2001013241A
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Japanese (ja)
Inventor
Noribumi Inno
紀文 因埜
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate of a heat-sensitive lithographic printing plate with improved sensitivity so that a printing plate can be made by simple abroad-the-printing machine processing and a lithographic printing plate forms a high-quality image without a smear in a nonimage, by not increasing a laser exposure as well as a printing plate making/printing method. SOLUTION: The original plate of the heat-sensitive lithographic printing plate comprises a thermal recording layer containing (A) a polymer compound with a functional group which generates a sulfonic acid by heat as represented by the described formulae (1) -L-SO2-O-R', (2) -L-SO2-SO2-R2 and (3), (B) an organic amine compound and (C) a photothermal conversion substance, if desired, formed on a support with a hydrophilic surface. In the formulae (1), (2) and (3), L is a polyvalent organic group, composed of a non-metallic atom, which is required for connecting the functional group to a polymer skeleton.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイレクト感熱性
平版印刷版に関するものである。より詳しくは、ディジ
タル信号に基づいた走査露光による画像記録が可能であ
り、簡易な印刷機上処理により製版可能な平版印刷版原
版及びその製版・印刷方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a direct heat-sensitive lithographic printing plate. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of recording an image by scanning exposure based on a digital signal and capable of making a plate by simple on-press processing, and a plate making and printing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版として
は、従来から、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層
を設けたPS版が広く用いられている。その製版方法と
して、通常は、リスフイルムなどの原画を通して露光を
行った後、非画像部を現像液によって溶解除去する方法
であり、この方法により所望の印刷版を得ている。
2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area for receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area for receiving fountain solution. As such a lithographic printing plate, a PS plate in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used. As a plate making method, usually, after exposing through an original such as a lith film, a non-image portion is dissolved and removed with a developing solution, and a desired printing plate is obtained by this method.

【0003】従来のPS版に於ける製版工程は、露光の
後、非画像部を溶解除去する操作が必要であり、このよ
うな付加的な湿式の処理を不要化又は簡易化すること
が、従来技術に対して改善が望まれてきた一つの課題で
ある。特に近年は、地球環境への配慮から湿式処理に伴
って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事
となっているので、この面での改善の要請は一層強くな
っている。
[0003] The plate making process in the conventional PS plate requires an operation of dissolving and removing a non-image portion after exposure, and it is necessary to eliminate or simplify such additional wet processing. This is one problem that has been desired to be improved over the prior art. In particular, in recent years, the disposal of the waste liquid discharged by wet processing has become a major concern of the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for improvement in this aspect has been further increased.

【0004】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、印刷版用原版の非画像部の除去を通常の印刷過程
の中で行えるような画像感熱記録層を用い、露光後、印
刷機上で現像し、最終的な印刷版を得る方法が提案され
ている。このような方法による平版印刷版の製版方式は
機上現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例え
ば、湿し水やインク溶剤に可溶な画像感熱記録層の使
用、印刷機中の圧胴やブランケット胴との接触による力
学的除去を行う方法等が挙げられる。しかしながら、従
来の紫外線や可視光を利用した画像記録方式の機上現像
法は、露光後も、画像感熱記録層が定着されないため、
例えば、印刷機に装着するまでの間、原版を完全に遮光
状態又は恒温条件で保存する、といった手間のかかる方
法をとる必要があった。
[0004] As one of the simple plate making methods responding to this demand, an image heat-sensitive recording layer is used which enables non-image portions of a printing plate precursor to be removed in a normal printing process. A method of developing the above and obtaining a final printing plate has been proposed. The lithographic printing plate making method by such a method is called an on-press development method. Specific examples of the method include a method of using an image heat-sensitive recording layer that is soluble in a fountain solution or an ink solvent, and a method of performing mechanical removal by contact with an impression cylinder or a blanket cylinder in a printing press. However, in the conventional on-press developing method of an image recording method using ultraviolet light or visible light, even after exposure, the image heat-sensitive recording layer is not fixed,
For example, it is necessary to take a time-consuming method, such as storing the original plate completely in a light-shielded state or under constant temperature conditions until the original plate is mounted on a printing press.

【0005】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及して
きており、このような、ディジタル化技術に対応した、
新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきて
いる。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線
にディジタル化された画像情報を担持してこの光で原版
を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印
刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注
目されている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版
用原版を得ることが重要な技術課題となっている。した
がって、製版作業の簡素化、乾式化、無処理化は、上記
した環境面と、ディジタル化への適合化の両面から、従
来にも増して、強く望まれるようになっている。
On the other hand, another trend in this field in recent years is that digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread. Technology,
Various new image output systems have come into practical use. Along with this, a computer / computer for manufacturing a printing plate directly without carrying a lithographic film by carrying digitized image information on highly convergent radiation such as laser light and scanning and exposing the original with this light. Attention has been focused on to-plate technology. Accordingly, obtaining a printing plate precursor suitable for this purpose has become an important technical problem. Therefore, simplification, dry processing, and non-processing of plate making operations are more and more desired than ever in view of both the above-mentioned environmental aspects and adaptation to digitalization.

【0006】デジタル化技術に組み込みやすい走査露光
による印刷版の製造方法として、最近、半導体レーザ、
YAGレーザ等の固体レーザで高出力のものが安価に入
手できるようになってきたことから、特に、これらのレ
ーザを画像記録手段として用いる製版方法が有望視され
るようになっている。従来方式の製版方法では、感光性
原版に低〜中照度の像様露光を与えて光化学反応による
原版面の像様の物性変化によって画像記録を行っている
が、高出力レーザを用いた高パワー密度の露光を用いる
方法では、露光領域に瞬間的な露光時間の間に大量の光
エネルギーが集中照射して、光エネルギーを効率的に熱
エネルギーに変換し、その熱により化学変化、相変化、
形態や構造の変化などの熱変化を起こさせ、その変化を
画像記録に利用する。つまり、画像情報はレーザー光な
どの光エネルギーによって入力されるが、画像記録は熱
エネルギーによる反応によって記録される。通常、この
ような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式
はヒートモード記録と呼び、光エネルギーを熱エネルギ
ーに変えることを光熱変換と呼んでいる。
Recently, as a method of manufacturing a printing plate by scanning exposure, which is easy to incorporate into digital technology, semiconductor lasers,
Since high-power solid-state lasers such as YAG lasers have become available at low cost, plate-making methods using these lasers as image recording means have become particularly promising. In the conventional plate making method, image recording is performed by giving imagewise exposure of the photosensitive original plate at low to medium illuminance and changing the imagewise physical properties of the original plate surface by a photochemical reaction. In the method using density exposure, a large amount of light energy is intensively applied to an exposure area during an instantaneous exposure time, and the light energy is efficiently converted to heat energy, and the heat causes chemical change, phase change,
A thermal change such as a change in form or structure is caused, and the change is used for image recording. That is, image information is input by light energy such as laser light, while image recording is recorded by a reaction by heat energy. Normally, a recording method using heat generated by such high power density exposure is called heat mode recording, and changing light energy to heat energy is called photothermal conversion.

【0007】ヒートモード記録手段を用いる製版方法の
大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光
では感光せず、また高照度露光によって記録された画像
は定着が必須ではないことにある。つまり、画像記録に
ヒートモード感材を利用すると、露光前には、室内光に
対して安全であり、露光後にも画像の定着は必須ではな
い。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化若
しくは可溶化する画像感熱記録層を用い、露光した画像
感熱記録層を像様に除去して印刷版とする製版工程を機
上現像方式で行えば、現像(非画像部の除去)は、画像
露光後ある時間、たとえ室内の環境光に暴露されても、
画像が影響を受けないような印刷システムが可能とな
る。従ってヒートモード記録を利用すれば、機上現像方
式に望ましい平版印刷版用原版を得ることも可能となる
と期待される。
A great advantage of the plate making method using the heat mode recording means is that the plate making method is not sensitive to light having a normal illuminance level such as room illumination, and that an image recorded by high illuminance exposure does not require fixing. . In other words, if a heat mode photosensitive material is used for image recording, it is safe against room light before exposure, and it is not essential to fix an image after exposure. Therefore, for example, if a plate-making process using an image heat-sensitive recording layer that is insolubilized or solubilized by heat mode exposure and the exposed image heat-sensitive recording layer is imagewise removed to form a printing plate is performed by an on-press development method, development ( Removal of non-image areas) is performed for some time after image exposure, even if exposed to room ambient light.
A printing system in which images are not affected can be realized. Therefore, the use of heat mode recording is expected to make it possible to obtain a lithographic printing plate precursor that is desirable for an on-press development system.

【0008】例えば、特開平10−282672号公報
には熱により側鎖が親水性に変化する疎水性高分子化合
物を含む記録層を有する感熱性平版用原版が記載されて
いる。このものは加熱により親水性に変化したポリマー
が印刷機上で湿し水によって現像されるためとくに現像
処理を必要とはしない特徴があった。しかし、この原版
は、発生した熱が基板に拡散し、基板表面付近の熱が上
がりにくいという特性があり、そのため基板付近では記
録層の高分子化合物の熱反応が十分進行せず親水性に変
化しないために機上現像時に完全に取り除かれず残膜と
なってのこり、印刷時に汚れとなる場合があった。その
ため、完全に加熱部の記録層を取り除くためにはレーザ
ーの露光量を上げて使う必要があり、露光装置の高出力
化、記録エネルギーの増大などの問題をはらんでいる。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-282672 describes a heat-sensitive lithographic master having a recording layer containing a hydrophobic polymer compound whose side chain changes to hydrophilic by heat. This polymer was characterized in that the polymer changed to hydrophilic by heating was developed on a printing press with a dampening solution, so that no special developing treatment was required. However, this master has the property that the generated heat diffuses to the substrate and the heat near the surface of the substrate is unlikely to rise. As a result, the film was not completely removed during on-press development and remained as a residual film, and sometimes stained during printing. Therefore, in order to completely remove the recording layer of the heating section, it is necessary to use a laser with an increased exposure amount, which causes problems such as an increase in output of an exposure apparatus and an increase in recording energy.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記従来の技術の欠点を克服し、簡易な印刷機上処
理により製版可能であり、且つ、レーザーの露光量等を
上げることなく、非画像に汚れのない高品質な画像を得
ることができる平版印刷版を作成しうる感度の向上した
感熱性平版印刷版及びその製版・印刷方法を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to overcome the above-mentioned disadvantages of the prior art, to make a plate by a simple processing on a printing press, and to increase the laser exposure amount and the like. Another object of the present invention is to provide a heat-sensitive lithographic printing plate having improved sensitivity for producing a lithographic printing plate capable of obtaining a high-quality image free from stains on non-images, and a method of making and printing the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に対して、加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を
有する高分子化合物を含有する感熱記録層に、有機アミ
ン化合物を含有させることにより、加熱部における感熱
記録層の親水性液体(湿し水等)に対する溶解性が増大
し、感熱記録層の感度が向上することを見いだし、この
発明を完成するに至った。すなわち、本発明の感熱性平
版印刷版原版は、親水性表面を有する支持体上に、
(A)加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有す
る高分子化合物、及び(B)有機アミン化合物を含有す
る感熱記録層を設けてなることを特徴とする。より具体
的には、前記(A)加熱によりスルホン酸を発生させる
官能基を有する化合物における加熱によりスルホン酸を
発生させる官能基は、下記一般式(1)乃至一般式
(3)で表される官能基の少なくとも1種であることが
好ましい態様である。 一般式(1) −L−SO2−O−R1 一般式(2) −L−SO2−SO2−R2
The present inventor has solved the above-mentioned problem by including an organic amine compound in a heat-sensitive recording layer containing a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating. As a result, the solubility of the heat-sensitive recording layer in a hydrophilic liquid (fountain solution or the like) in the heating section is increased, and the sensitivity of the heat-sensitive recording layer is improved. Thus, the present invention has been completed. That is, the heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the invention is provided on a support having a hydrophilic surface,
It is characterized by comprising (A) a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating, and (B) a thermosensitive recording layer containing an organic amine compound. More specifically, the functional group that generates sulfonic acid by heating in the compound (A) having a functional group that generates sulfonic acid by heating is represented by the following general formulas (1) to (3). In a preferred embodiment, at least one of the functional groups is used. Formula (1) -L-SO 2 -O -R 1 Formula (2) -L-SO 2 -SO 2 -R 2

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】(式中、Lは一般式(1)、一般式(2)
又は一般式(3)で示される官能基をポリマー骨格に連
結するのに必要な非金属原子からなる多価の有機基を表
し、R1はアリール基、アルキル基又は環状イミド基を
示し、R2、R3はアリール基又はアルキル基を示し、R
4はアリール基、アルキル基又は−SO2−R5を示し、
5はアリール基又はアルキル基を示す。) ここで、感熱記録層に、さらに(C)光熱変換物質を用
いることにより、赤外線レーザ露光による記録が可能と
なる。また、本発明の請求項4に係る感熱性平版印刷版
原版の製版・印刷方法は、前記(A)加熱によりスルホ
ン酸を発生させる官能基を有する高分子化合物、(B)
有機アミン化合物、及び(C)光熱変換剤を含有する感
熱記録層を有する感熱性平版印刷版原版をレーザー光に
よって画像露光し、そのまま印刷機に取り付けて印刷す
るか、又は印刷機に取り付けた後に、印刷機上でレーザ
ー光によって露光し、そのまま印刷することを特徴とす
る。
(Where L is a general formula (1), a general formula (2)
Or a polyvalent organic group comprising a nonmetallic atom necessary for linking the functional group represented by the general formula (3) to the polymer skeleton; R 1 represents an aryl group, an alkyl group or a cyclic imide group; 2 and R 3 represent an aryl group or an alkyl group;
4 represents an aryl group, an alkyl group or -SO 2 -R 5,
R 5 represents an aryl group or an alkyl group. Here, by using (C) a light-to-heat conversion material in the thermosensitive recording layer, recording by infrared laser exposure becomes possible. Further, in the plate making and printing method for a heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to claim 4 of the present invention, the (A) polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating;
A heat-sensitive lithographic printing plate precursor having a heat-sensitive recording layer containing an organic amine compound and (C) a light-to-heat conversion agent is image-exposed by a laser beam, and is directly attached to a printing machine for printing or after being attached to a printing machine. It is characterized by exposing with a laser beam on a printing press and printing as it is.

【0013】本発明において、加熱部の感熱記録層の溶
解性が向上する機構は明確ではないが、加熱により
(A)成分より発生したスルホン酸と(B)有機アミン
が塩を形成することにより、発生したスルホン酸を有す
る高分子の親水性が増大し、スルホン酸の発生が不充分
な基板界面付近においても、有機アミン塩の形成が有効
に機能し、溶解性が向上するためであると考えられ、従
って、基板界面近傍における残膜の発生が効果的に抑制
される。
In the present invention, the mechanism by which the solubility of the heat-sensitive recording layer in the heating section is improved is not clear, but the sulfonic acid generated from the component (A) by heating and the organic amine (B) form a salt. This is because the hydrophilicity of the generated sulfonic acid-containing polymer is increased, and even near the substrate interface where the generation of sulfonic acid is insufficient, the formation of the organic amine salt functions effectively and the solubility is improved. It is conceivable that the generation of a residual film near the substrate interface is effectively suppressed.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の感熱性平版印刷版原版は、
親水性表面を有する支持体上に、特開平10−2826
72に記載の(A)加熱によりスルホン酸を発生させる
官能基を有する高分子化合物(以下、スルホン酸発生型
高分子化合物という)及び(B)有機アミン化合物を含
有する感熱記録層を備えていることが特徴であり、感熱
記録層において、赤外線レーザー照射により発生した
熱、あるいはサーマルヘッド等による加熱で、スルホン
酸を発生させることにより、この部分が高度に親水化
し、印刷機上、湿し水等の親水性の印刷液体により、容
易に溶解あるいは分散除去され、現像工程がなくても良
好なポジ型画像が得られるものである。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention is:
JP-A-10-2826 on a support having a hydrophilic surface
72. A heat-sensitive recording layer containing (A) a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating (hereinafter referred to as a sulfonic acid-generating polymer compound) and (B) an organic amine compound. This is characterized in that, in the heat-sensitive recording layer, sulfonic acid is generated by heat generated by infrared laser irradiation or heating by a thermal head or the like, so that this portion is highly hydrophilized, and a fountain solution is printed on a printing machine. And the like, it can be easily dissolved or dispersed and removed by a hydrophilic printing liquid, and a good positive image can be obtained without a developing step.

【0015】以下、本発明の感熱性平版印刷版原版の構
成について順次説明する。 (感熱記録層) [(A)加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有
する高分子化合物(スルホン酸発生型高分子化合物)]
本発明の感熱記録層に用いるスルホン酸発生型高分子化
合物は、加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有
していれば、特に、制限はなく、スルホン酸を発生させ
る官能基を主鎖に有していても、側鎖に有していても良
いが、合成適性の点で、前記一般式(1)乃至一般式
(3)で示される官能基を側鎖に有する高分子化合物が
好ましい。
Hereinafter, the constitution of the heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention will be sequentially described. (Thermal recording layer) [(A) Polymer compound having functional group capable of generating sulfonic acid upon heating (sulfonic acid-generating polymer compound)]
The sulfonic acid-generating polymer compound used in the heat-sensitive recording layer of the present invention is not particularly limited as long as it has a functional group that generates sulfonic acid by heating, and a functional group that generates sulfonic acid is included in the main chain. It may have it or may have it in the side chain, but from the viewpoint of synthesis suitability, a polymer compound having a functional group represented by the above general formula (1) to general formula (3) in the side chain is preferable. .

【0016】以下に、本発明における前記一般式
(1)、(2)又は(3)で示される官能基の少なくと
もいずれかを有する高分子化合物について、更に、具体
的に説明する。
Hereinafter, the polymer compound having at least one of the functional groups represented by the general formulas (1), (2) and (3) in the present invention will be described more specifically.

【0017】R1〜R5がアリール基若しくは置換アリー
ル基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリール基
と複素環式(ヘテロ)アリール基が含まれる。炭素環式
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基、ピレニル基等の炭素数6から19のものが
用いられる。また、複素環式アリール基としては、ピリ
ジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノリ
ル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾー
ル基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数1〜5を含むも
のが用いられる。R1〜R5がアルキル基若しくは置換ア
ルキル基を表わすとき、当該アルキル基としてはメチル
基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロ
ヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数1
から25までのものが用いられる。
When R 1 to R 5 represent an aryl group or a substituted aryl group, the aryl group includes a carbocyclic aryl group and a heterocyclic (hetero) aryl group. As the carbocyclic aryl group, those having 6 to 19 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and a pyrenyl group are used. Examples of the heterocyclic aryl group include a pyridyl group, a furyl group, and other quinolyl groups in which a benzene ring is fused, a benzofuryl group, a thioxanthone group, and a carbazole group. Things are used. When R 1 to R 5 represent an alkyl group or a substituted alkyl group, the alkyl group may be a linear, branched or cyclic carbon atom such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. 1
To 25 are used.

【0018】R1〜R5が置換アリール基、置換ヘテロア
リール基、置換アルキル基であるとき、置換基としては
メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10までのアル
コキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基の
ようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、t−ブチルオキシカル
ボニル基、p−クロロフェニルオキシカルボニル基等の
炭素数2から15までのアルコキシカルボニル基若しく
はアリールオキシカルボニル基;水酸基;アセチルオキ
シ基、ベンゾイルオキシ基、p−ジフェニルアミノベン
ゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;t−ブチルオキシ
カルボニルオキシ基等のカルボネート基;t−ブチルオ
キシカルボニルメチルオキシ基、2−ピラニルオキシ基
等のエーテル基;アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェ
ニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等の
置換、非置換のアミノ基;メチルチオ基、フェニルチオ
基等のチオエーテル基;ビニル基、スチリル基等のアル
ケニル基;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基等のアシル基;フェニル基、ナフチル
基のようなアリール基;ピリジル基のようなヘテロアリ
ール基等を挙げることができる。またR1〜R5が置換ア
リール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換基と
して前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル基を
用いることができる。
When R 1 to R 5 are a substituted aryl group, a substituted heteroaryl group, or a substituted alkyl group, examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a fluorine atom; Atom, halogen atom such as bromine atom, trifluoromethyl group, halogen-substituted alkyl group such as trichloromethyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butyloxycarbonyl group, p-chlorophenyloxycarbonyl group, etc. An alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group having 2 to 15 carbon atoms; a hydroxyl group; an acyloxy group such as an acetyloxy group, a benzoyloxy group or a p-diphenylaminobenzoyloxy group; a carbonate group such as a t-butyloxycarbonyloxy group; t-butyloxycarbonyl Ether groups such as tyloxy group and 2-pyranyloxy group; substituted and unsubstituted amino groups such as amino group, dimethylamino group, diphenylamino group, morpholino group and acetylamino group; thioether groups such as methylthio group and phenylthio group; vinyl An alkenyl group such as a group or styryl group; a nitro group; a cyano group; an acyl group such as a formyl group, an acetyl group or a benzoyl group; an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group; be able to. When R 1 to R 5 are a substituted aryl group or a substituted heteroaryl group, alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group can be used as the substituent in addition to the above.

【0019】R1が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子4〜20までのものを用いることが
できる。
When R 1 represents a cyclic imide group, cyclic imides such as succinimide, phthalimide, cyclohexanedicarboxylic imide, norbornenedicarboxylic imide and the like having 4 to 20 carbon atoms can be used. .

【0020】前記一般式(1)において、R1として
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、2級若しくは3級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドが
好ましく、感度と経時安定性とを両立できるという点
で、下記一般式(4)で表される2級アルキル基がより
好ましい。
In the general formula (1), R 1 represents an aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro, or an alkyl substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro. Group, a secondary or tertiary branched alkyl group, a cyclic alkyl group, and a cyclic imide are preferable, and a secondary alkyl group represented by the following general formula (4) in that both sensitivity and stability over time can be achieved. Is more preferred.

【0021】[0021]

【化3】 Embedded image

【0022】R6、R7は置換もしくは非置換アルキル、
置換もしくは非置換アリール基を表し、また、R6、R7
はそれが結合している2級炭素原子(CH)と共に環を
形成してもよい。R6、R7が置換もしくは非置換アルキ
ル基を表すとき、アルキル基としてはメチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基
などの直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基が挙
げられ、炭素数1から25までのものが好適に用いられ
る。R6、R7が置換もしくは非置換アリール基を表すと
き、アリール基には炭素環式アリール基と複素環式アリ
ール基が含まれる。炭素環式アリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、ピレニル基など
炭素数6から19のものが用いられる。また、複素環式
アリール基としてはピリジル基、フリル基、その他ベン
ゼン環が縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキ
サントン基、カルバゾール基などの炭素数3〜20、ヘ
テロ原子数1〜5を含むものが用いられる。
R 6 and R 7 are substituted or unsubstituted alkyl,
Represents a substituted or unsubstituted aryl group; and R 6 , R 7
May form a ring with the secondary carbon atom (CH) to which it is attached. When R 6 and R 7 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, examples of the alkyl group include a linear, branched, or cyclic alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. And those having 1 to 25 carbon atoms are preferably used. When R 6 and R 7 represent a substituted or unsubstituted aryl group, the aryl group includes a carbocyclic aryl group and a heterocyclic aryl group. As the carbocyclic aryl group, those having 6 to 19 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and a pyrenyl group are used. Examples of the heterocyclic aryl group include those having 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 heteroatoms such as a pyridyl group, a furyl group, and a quinolyl group, a benzofuryl group, a thioxanthone group, and a carbazole group in which a benzene ring is fused. Is used.

【0023】R6、R7が置換アルキル基、置換アリール
基であるとき、置換基としてはメトキシ基、エトキシ基
などの炭素数1〜10までのアルコキシ基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフル
オロメチル基、トリクロロメチル基のようなハロゲン置
換されたアルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、p−ク
ロロフェニルオキシカルボニルなどの炭素数2から15
までのアルコキシカルボニル基またはアリールオキシカ
ルボニル基;水酸基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキ
シ、p−ジフェニルアミノベンゾイルオキシなどのアシ
ルオキシ基;t−ブチルオキシカルボニルオキシ基など
のカルボネート基;t−ブチルオキシカルボニルメチル
オキシ基、2−ピラニルオキシ基などのエーテル基;ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モル
フォリノ基、アセチルアミノ基などの置換、非置換のア
ミノ基;メチルチオ基、フェニルチオ基などのチオエー
テル基;ビニル基、ステリル基などのアルケニル基;ニ
トロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基などのアシル基;フェニル基、ナフチル基のような
アリール基;ピリジル基のようなヘテロアリール基等を
挙げることができる。また、R6、R7が置換アリール基
であるとき、置換基としては、前述したものの他にもメ
チル基、エチル基などのアルキル基を用いることができ
る。
When R 6 and R 7 are a substituted alkyl group or a substituted aryl group, examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom. A halogen atom, a trifluoromethyl group, a halogen-substituted alkyl group such as a trichloromethyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butyloxycarbonyl group, a p-chlorophenyloxycarbonyl or the like having 2 to 15 carbon atoms.
A hydroxyl group; an acyloxy group such as acetyloxy, benzoyloxy, p-diphenylaminobenzoyloxy; a carbonate group such as a t-butyloxycarbonyloxy group; a t-butyloxycarbonylmethyloxy group A substituted or unsubstituted amino group such as an amino group, a dimethylamino group, a diphenylamino group, a morpholino group, or an acetylamino group; a thioether group such as a methylthio group or a phenylthio group; a vinyl group; Alkenyl groups such as steryl group; nitro group; cyano group; acyl groups such as formyl group, acetyl group and benzoyl group; aryl groups such as phenyl group and naphthyl group; heteroaryl groups such as pyridyl group. Can . When R 6 and R 7 are a substituted aryl group, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group can be used as the substituent in addition to those described above.

【0024】上記のR6、R7としては、感材の保存安定
性に優れる点で、置換、非置換のアルキル基が好まし
く、経時安定性の点で、アルコキシ基、カルボニル基、
アルコキシカルボニル基、シアノ基、ハロゲン基などの
電子吸引性基で置換された2級のアルキル基、もしくは
シクロヘキシル基、ノルボルニル基などの2級のアルキ
ル基が特に好ましい。物性値としては、重クロロホルム
中、プロトンNMRにおける2級メチン水素のケミカル
シフトが4.4ppmよりも低磁場に現れる化合物が好
ましく、4.6ppmよりも低磁場に現れる化合物がよ
り好ましい。このように、電子吸引性基で置換された2
級のアルキル基が特に好ましいのは、熱分解反応時に中
間体として生成していると思われるカルボカチオンが電
子吸引性基により不安定化し、分解が抑制されるためで
あると考えられる。具体的には、−CHR67の構造と
しては、下記式で表される構造が特に好ましい。
As the above R 6 and R 7 , a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable from the viewpoint of excellent storage stability of the light-sensitive material, and an alkoxy group, a carbonyl group,
A secondary alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as an alkoxycarbonyl group, a cyano group, or a halogen group, or a secondary alkyl group such as a cyclohexyl group or a norbornyl group is particularly preferable. As a physical property value, a compound in which the chemical shift of secondary methine hydrogen in proton NMR is lower than 4.4 ppm in deuterated chloroform is preferable, and a compound which is lower in magnetic field than 4.6 ppm is more preferable. Thus, 2 substituted with an electron-withdrawing group
It is considered that the higher alkyl group is particularly preferable because the carbocation, which is considered to be generated as an intermediate during the thermal decomposition reaction, is destabilized by the electron-withdrawing group and the decomposition is suppressed. Specifically, as the structure of —CHR 6 R 7, a structure represented by the following formula is particularly preferable.

【0025】[0025]

【化4】 Embedded image

【0026】また、前記一般式(2)および一般式
(3)において、R2〜R5として特に好ましいものは、
ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換され
たアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引
性基で置換されたアルキル基、及び2級若しくは3級の
分岐状のアルキル基である。
In the general formulas (2) and (3), particularly preferred as R 2 to R 5 are:
An aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro; an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro; and a secondary or tertiary branched alkyl group. .

【0027】Lで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、1から60個までの炭素原子、0個から10
個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1
個から100個までの水素原子、及び0個から20個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
A polyvalent linking group consisting of a nonmetallic atom represented by L means 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 carbon atoms.
Up to nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1
From 100 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific linking groups include those constituted by combining the following structural units.

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数1から20ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6
から16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数1から6までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数1から6までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数2から7までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
When the polyvalent linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group;
To 16 aryl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups,
An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group, an acetoxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, and a halogen such as chlorine and bromine. An atom, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, and a carbonate group such as t-butyl carbonate can be used.

【0030】本発明による一般式(1)乃至一般式
(3)に示す官能基を側鎖に有する高分子化合物の合成
に好適に使用されるモノマーの具体例〔モノマー(1)
〜モノマー(56)〕を以下に示す。
Specific examples of the monomer suitably used for synthesizing the high molecular compound having a functional group represented by the general formula (1) to the general formula (3) in the side chain according to the present invention [monomer (1)
To monomer (56)] are shown below.

【0031】[0031]

【化6】 Embedded image

【0032】[0032]

【化7】 Embedded image

【0033】[0033]

【化8】 Embedded image

【0034】[0034]

【化9】 Embedded image

【0035】[0035]

【化10】 Embedded image

【0036】[0036]

【化11】 Embedded image

【0037】[0037]

【化12】 Embedded image

【0038】[0038]

【化13】 Embedded image

【0039】[0039]

【化14】 Embedded image

【0040】本発明では、好ましくは一般式(1)〜一
般式(3)で表される官能基を有するモノマーの内、少
なくともいずれか一つをラジカル重合することにより得
られる高分子化合物を使用する。このような高分子化合
物として、一般式(1)〜一般式(3)で表される官能
基を有するモノマーの内一種のみを用いた単独重合体を
使用してもよいが、2種以上を用いた共重合体やこれら
のモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用してもよ
い。本発明において、さらに好適に使用される高分子化
合物は、上記モノマーと他の公知のモノマーとのラジカ
ル重合により得られる共重合体である。
In the present invention, a polymer compound obtained by subjecting at least one of the monomers having functional groups represented by the general formulas (1) to (3) to radical polymerization is preferably used. I do. As such a polymer compound, a homopolymer using only one of the monomers having a functional group represented by the general formulas (1) to (3) may be used. Copolymers used or copolymers of these monomers with other monomers may be used. In the present invention, a polymer compound more preferably used is a copolymer obtained by radical polymerization of the above-mentioned monomer and another known monomer.

【0041】共重合体に用いられる他のモノマーとし
て、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニ
ルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イ
ミド等の公知のモノマーも挙げられる。その他のモノマ
ーとしては、グリシジルメタクリレート、N−メチロー
ルメタクリルアミド、オメガ−(トリメトキシシリル)
プロピルメタクリレート、2−イソシアネートエチルア
クリレート等の架橋反応性を有するモノマーを共重合す
ることも可能である。
Other monomers used in the copolymer include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride Known monomers such as acid and maleic imide are also included. Other monomers include glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, omega- (trimethoxysilyl)
It is also possible to copolymerize monomers having crosslinking reactivity such as propyl methacrylate and 2-isocyanate ethyl acrylate.

【0042】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, Examples thereof include tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl acrylate.

【0043】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate,
Methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl Carbonyloxy) ethyl methacrylate and the like.

【0044】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0045】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0046】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

【0047】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。
Specific examples of styrenes include styrene,
Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Examples thereof include iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.

【0048】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、炭素原子数20以下のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、ア
クリル酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルであ
る。共重合体の合成に使用される一般式(1)〜(3)
で表される官能基を含むモノマーの割合は、5〜99重
量%であることが好ましく、さらに好ましくは10〜9
5重量%である。
Of these other monomers, those particularly preferably used are acrylates, methacrylates, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylates having not more than 20 carbon atoms. Acids, methacrylic acid, and acrylonitrile. General formulas (1) to (3) used for the synthesis of the copolymer
Is preferably 5 to 99% by weight, more preferably 10 to 9% by weight.
5% by weight.

【0049】以下に、一般式(1)〜一般式(3)に示
す官能基を側鎖に有する高分子化合物の具体例〔高分子
化合物(1)〜高分子化合物(28)〕を示す。なお、
下記式中の数字或は高分子化合物のモル組成を表す。
Hereinafter, specific examples of the high molecular compound having the functional group represented by the general formula (1) to the general formula (3) in the side chain [the high molecular compound (1) to the high molecular compound (28)] are shown. In addition,
The number in the following formula or the molar composition of the polymer compound is shown.

【0050】[0050]

【化15】 Embedded image

【0051】[0051]

【化16】 Embedded image

【0052】[0052]

【化17】 Embedded image

【0053】[0053]

【化18】 Embedded image

【0054】[0054]

【化19】 Embedded image

【0055】[0055]

【化20】 Embedded image

【0056】また、本発明で使用される一般式(1)〜
(3)で表される官能基の少なくともいずれか一つを有
する高分子化合物の重量平均分子量は好ましくは200
0以上であり、更に好ましくは5000〜30万の範囲
であり、数平均分子量は好ましくは800以上であり、
更に好ましくは1000〜25万の範囲である。多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これら
の高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましい。
Further, the compounds represented by the general formulas (1) to (1) used in the present invention:
The weight average molecular weight of the polymer compound having at least one of the functional groups represented by (3) is preferably 200
0 or more, more preferably in the range of 5000 to 300,000, the number average molecular weight is preferably 800 or more,
More preferably, it is in the range of 1,000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10. These polymer compounds may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like, but are preferably a random polymer.

【0057】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、
酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は
2種以上混合して用いられる。本発明で使用されるスル
ホン酸発生型高分子化合物を合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。
Examples of the solvent used for synthesizing the sulfonic acid generating polymer compound used in the present invention include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol. Glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene,
Examples include ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. As the radical polymerization initiator used for synthesizing the sulfonic acid generating polymer compound used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0058】本発明で使用される(A)スルホン酸発生
型高分子化合物は単独で用いても混合して用いてもよ
い。これらスルホン酸発生型高分子化合物は、感熱記録
層全固形分の50〜99重量%、好ましくは60〜90
重量%の割合で使用することがでる。添加量が50重量
%未満の場合は、印刷画像が不鮮明になる。また添加量
が90重量%を越える場合は、レーザ露光による画像形
成が十分できなくなる。
The sulfonic acid-generating polymer compound (A) used in the present invention may be used alone or as a mixture. These sulfonic acid-generating polymer compounds are used in an amount of 50 to 99% by weight, preferably 60 to 90% by weight of the total solids of the heat-sensitive recording layer.
Can be used in proportions by weight. If the amount is less than 50% by weight, the printed image becomes unclear. If the addition amount exceeds 90% by weight, it becomes impossible to form an image sufficiently by laser exposure.

【0059】[(B)有機アミン化合物]本発明の感熱記
録層に用いる有機アミン化合物としては、下記一般式
(5)で示される有機アミン化合物が挙げられる。
[(B) Organic amine compound] The organic amine compound used in the heat-sensitive recording layer of the present invention includes an organic amine compound represented by the following general formula (5).

【0060】[0060]

【化21】 Embedded image

【0061】一般式(5)中、R8、R9、R10は、各々
独立に、水素原子または有機基を表し、R8、R9、R10
が同時に水素原子になることはない。R8、R9、R10
有機基としては、置換もしくは無置換のアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、複素環基が挙げられる。
In the general formula (5), R 8 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or an organic group, and R 8 , R 9 and R 10
Cannot be hydrogen atoms at the same time. Examples of the organic group for R 8 , R 9 and R 10 include a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, aralkyl group, and heterocyclic group.

【0062】R8、R9、R10で表されるアルキル基は炭
素数1〜12のものが好ましく、直鎖状であっても分枝
を有するものであってもよく、環状構造を有するもので
もよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。また、アルキル基は置換基を有するものであっても
よく、置換基としては、置換もしくは無置換のアルキル
基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリー
ロキシ基、アラルキロキシ基や、水酸基、シアノ基、カ
ルボニル基、カルボキシル基、ハロゲン原子の他、下記
に示される一般式(6)で表される基等が挙げられ、さ
らに、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合
を含有しても良い。
The alkyl group represented by R 8 , R 9 and R 10 preferably has 1 to 12 carbon atoms, and may be linear or branched and has a cyclic structure. And a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, and the like. Further, the alkyl group may have a substituent, as the substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, a hydroxyl group, a cyano group, In addition to a carbonyl group, a carboxyl group, and a halogen atom, examples thereof include a group represented by the following general formula (6), and may further include an ester bond, an ether bond, and a thioether bond.

【0063】[0063]

【化22】 Embedded image

【0064】(R12、R13は、各々独立に、水素原子あ
るいは、R8、R9、R10と同義の有機基を表し、R
11は、置換もしくは無置換のアルキレン基、アラルキレ
ン基を表す。R11で表されるアルキレン基としては、炭
素数2〜12のものが好ましく、置換基を有するもので
あってもよい。具体的には、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチ
レン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメ
チレン基、デカメチレン基、シクロヘキシレン基あるい
はメチレン基やエチレン基等とシクロヘキシレン基とを
組み合わせた基などが挙げられる。これらのアルキレン
基はさらに置換基を有していてもよく、このような置換
基としては、置換もしくは無置換のアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、
アラルキロキシ基や、水酸基、シアノ基、カルボニル
基、カルボキシル基、ハロゲン原子等が挙げられ、アル
キル基は炭素数1〜6のものが、アリール基はフェニル
基等が、アラルキル基はベンジル基等が、アルコキシ基
はアルキル部分の炭素数1〜6のものが好ましく、アリ
ーロキシ基はアルキル部分の炭素数6〜12のものが好
ましく、アラルキロキシ基はアルキル部分の炭素数7〜
12のものが好ましくハロゲン原子の具体例としては塩
素原子が挙げられる。
(R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having the same meaning as R 8 , R 9 and R 10 ;
11 represents a substituted or unsubstituted alkylene group or aralkylene group. The alkylene group represented by R 11 is preferably one having 2 to 12 carbon atoms, and may have a substituent. Specifically, ethylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, heptamethylene, octamethylene, nonamethylene, decamethylene, cyclohexylene, methylene, ethylene, etc. and cyclohexylene And a group in combination with a group. These alkylene groups may further have a substituent, such as a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group,
An aralkyloxy group, a hydroxyl group, a cyano group, a carbonyl group, a carboxyl group, a halogen atom, and the like, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group such as a phenyl group, an aralkyl group such as a benzyl group, The alkoxy group preferably has 1 to 6 carbon atoms in the alkyl portion, the aryloxy group preferably has 6 to 12 carbon atoms in the alkyl portion, and the aralkyloxy group has 7 to 6 carbon atoms in the alkyl portion.
Twelve are preferred, and specific examples of the halogen atom include a chlorine atom.

【0065】また、アルキレン基は、オキシカルボニル
基、オキシ基、チオ基等が介在し、エステル結合、エー
テル結合、チオエーテル結合を含むものであってもよ
く、また繰り返し構造を含んでいてもよい。繰り返し構
造を含む場合は、繰り返し構造あたりの炭素数は2〜6
が好ましい。具体的には、−CH2CH2−O−CH2
2−、−CH2CH(CH3)−O−CH2CH(C
3)−、−CH2CH2−C(O)−O−CH2CH2
O−C(O)−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−C
2CH2)n−、−CH2CH(CH3)−(O−CH2
CH(CH3))n−、−CH2CH2−C(O)−O−
(CH2CH2−O)n−C(O)−CH2CH2−等があ
り、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基を
含む構造が挙げられる。この場合、n=2〜30が好ま
しい。
The alkylene group may have an oxycarbonyl group, an oxy group, a thio group or the like, and may have an ester bond, an ether bond, a thioether bond, or may have a repeating structure. When a repeating structure is included, the number of carbon atoms per repeating structure is 2 to 6
Is preferred. Specifically, -CH 2 CH 2 -O-CH 2 C
H 2 -, - CH 2 CH (CH 3) -O-CH 2 CH (C
H 3) -, - CH 2 CH 2 -C (O) -O-CH 2 CH 2 -
O-C (O) -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 - (O-C
H 2 CH 2) n -, - CH 2 CH (CH 3) - (O-CH 2
CH (CH 3)) n - , - CH 2 CH 2 -C (O) -O-
(CH 2 CH 2 -O) n -C (O) -CH 2 CH 2 - has the like, polyoxyethylene groups, structures containing polyoxypropylene groups. In this case, n = 2 to 30 is preferable.

【0066】R11で表されるアラルキレン基としては炭
素数7〜12のものが好ましく、具体的にはキシリレン
基等が挙げられる。アラルキレン基はさらに置換基を有
するものであってもよく、置換基としてはアルキレン基
と同様のものを例示することができる。また、上記アル
キレン基と同様に、アラルキレン基は、エステル結合、
エーテル結合、チオエーテル結合を含んでいてもよ
い。)
The aralkylene group represented by R 11 preferably has 7 to 12 carbon atoms, and specific examples include a xylylene group. The aralkylene group may further have a substituent, and examples of the substituent include those similar to the alkylene group. Further, like the alkylene group, an aralkylene group is an ester bond,
It may contain an ether bond or a thioether bond. )

【0067】R8、R9、R10で表される置換アルキル基
の具体例としては、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基、エトキシカルボニルメチル基、エトキシカル
ボニルエチル基、シアノエチル基、カルボキシメチル
基、カルボキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル
基、メトキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシカ
ルボニルエチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、
N,N−ジヒドロキシエチルアミノエチル基、繰り返し
数が2以上、好ましくは2〜10で末端ヒドロキシ基ま
たはアルコキシ基を有するポリオキシエチレン基、ポリ
オキシプロピレン基等を挙げることができる。
Specific examples of the substituted alkyl group represented by R 8 , R 9 and R 10 include a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, an ethoxycarbonylmethyl group, an ethoxycarbonylethyl group, a cyanoethyl group, a carboxymethyl group, and a carboxymethyl group. Ethyl group, hydroxyethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, hydroxyethoxycarbonylethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group,
Examples thereof include an N, N-dihydroxyethylaminoethyl group, a polyoxyethylene group having a repeating number of 2 or more, preferably 2 to 10, having a terminal hydroxy group or an alkoxy group, and a polyoxypropylene group.

【0068】R8、R9、R10で表されるアリール基は炭
素数6〜12のものが好ましく、具体的にはフェニル
基、ナフチル基等が挙げられる。これらは置換基を有す
るものであってもよく、置換基の具体例としては、前記
の置換アルキル基の置換基と同様のものを挙げることが
できる。
The aryl group represented by R 8 , R 9 and R 10 preferably has 6 to 12 carbon atoms, and specific examples include a phenyl group and a naphthyl group. These may have a substituent, and specific examples of the substituent include those similar to the substituents of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0069】R8、R9、R10で表されるアラルキル基は
炭素数7〜12のものが好ましく、具体的にはベンジル
基、フェネチル基等が挙げられる。これらは置換基を有
するものであってもよく、置換基の具体例としては、前
記の置換アルキル基の置換基と同様のものを挙げること
ができる。
The aralkyl group represented by R 8 , R 9 and R 10 preferably has 7 to 12 carbon atoms, and specific examples include a benzyl group and a phenethyl group. These may have a substituent, and specific examples of the substituent include those similar to the substituents of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0070】R8、R9、R10で表される複素環基として
は、ピリジル基等が挙げられる。これらは置換基を有す
るものであってもよく、置換基の具体例としては、前記
の置換アルキル基の置換基と同様のものを挙げることが
できる。さらに、R8、R9、R10のうち2つあるいは3
つが連結して、例えば、モルホリノ基、チオモルホリノ
基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピロリジニル基、
ピリジニル基等の複素環式基を形成しても良い。
Examples of the heterocyclic group represented by R 8 , R 9 and R 10 include a pyridyl group. These may have a substituent, and specific examples of the substituent include those similar to the substituents of the above-mentioned substituted alkyl group. Further, two or three of R 8 , R 9 , and R 10
One is linked, for example, morpholino group, thiomorpholino group, piperidino group, piperazinyl group, pyrrolidinyl group,
A heterocyclic group such as a pyridinyl group may be formed.

【0071】(B)有機アミン化合物の具体例として
は、エチルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルア
ミン、ベンジルアミン、モノエタノールアミン、モノイ
ソプロパノールアミン、アニリン、エチレンジアミン、
キシリレンジアミン等の1級アミン類、ジエチルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ジn−ブチルアミン、ジベ
ンジルアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノー
ルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、N−
メチルアニリン、N−ヒドロキシエチルアニリン、N−
(2−ヒドロキシプロピル)アニリン、N−ヒドロキシ
エトキシエチルアニリン、ジフェニルアミン、ベンジル
メチルアミン、ベンジルヒドロキシエチルアミン、ベン
ジル(2−ヒドロキシプロピル)アミン、ベンジルヒド
ロキシエトキシエチルアミン、N,N’−ジフェニルエ
チレンジアミン、N,N’−ジベンジルエチレンジアミ
ン、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,N’−
ジメチルキシリレンジアミン、N,N’−ジヒドロキシ
エチルエチレンジアミン、N,N’−ジヒドロキシエチ
ルキシリレンジアミン、N,N’−ジヒドロキシエトキ
シエチルエチレンジアミン、N,N’−ジヒドロキシエ
トキシエチルキシリレンジアミン、N,N’−ジ(2−
ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン、N,N’−ジ
(2−ヒドロキシプロピル)キシリレンジアミン等の2
級アミン類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リイソプロピルアミン、トリn−ブチルアミン、トリフ
ェニルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパ
ノールアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピロ
リジン、N,N’−ジメチルピペリジン、N−フェニル
モルホリン、N−フェニルピロリジン、N,N’−ジフ
ェニルピペリジン、N−ベンジルモルホリン、N−ベン
ジルピロリジン、N,N’−ジベンジルピペリジン、N
−ヒドロキシエチルモルホリン、N−ヒドロキシエチル
ピロリジン、N,N’−ジヒドロキシエチルピペリジ
ン、N−ヒドロキシエトキシエチルモルホリン、N−ヒ
ドロキシエトキシエチルピロリジン、N,N’−ジヒド
ロキシエトキシエチルピペリジン、N−(2−ヒドロキ
シプロピル)モルホリン、N−(2−ヒドロキシプロピ
ル)ピロリジン、N,N’−ジ(2−ヒドロキシプロピ
ル)ピペリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−
ジヒドロキシエチルアニリン、N,N−ジ(2−ヒドロ
キシプロピル)アニリン、
Specific examples of (B) the organic amine compound include ethylamine, isopropylamine, n-butylamine, benzylamine, monoethanolamine, monoisopropanolamine, aniline, ethylenediamine,
Primary amines such as xylylenediamine, diethylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, dibenzylamine, diethanolamine, diisopropanolamine, morpholine, pyrrolidine, piperidine, N-
Methylaniline, N-hydroxyethylaniline, N-
(2-hydroxypropyl) aniline, N-hydroxyethoxyethylaniline, diphenylamine, benzylmethylamine, benzylhydroxyethylamine, benzyl (2-hydroxypropyl) amine, benzylhydroxyethoxyethylamine, N, N'-diphenylethylenediamine, N, N '-Dibenzylethylenediamine, N, N'-dimethylethylenediamine, N, N'-
Dimethylxylylenediamine, N, N'-dihydroxyethylethylenediamine, N, N'-dihydroxyethylxylylenediamine, N, N'-dihydroxyethoxyethylethylenediamine, N, N'-dihydroxyethoxyethylxylylenediamine, N, N '-Di (2-
2 such as hydroxypropyl) ethylenediamine, N, N'-di (2-hydroxypropyl) xylylenediamine;
Secondary amines, trimethylamine, triethylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, triphenylamine, triethanolamine, triisopropanolamine, N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N, N'-dimethylpiperidine, N-phenyl Morpholine, N-phenylpyrrolidine, N, N'-diphenylpiperidine, N-benzylmorpholine, N-benzylpyrrolidine, N, N'-dibenzylpiperidine, N
-Hydroxyethylmorpholine, N-hydroxyethylpyrrolidine, N, N'-dihydroxyethylpiperidine, N-hydroxyethoxyethylmorpholine, N-hydroxyethoxyethylpyrrolidine, N, N'-dihydroxyethoxyethylpiperidine, N- (2-hydroxy Propyl) morpholine, N- (2-hydroxypropyl) pyrrolidine, N, N′-di (2-hydroxypropyl) piperidine, N, N-dimethylaniline, N, N-
Dihydroxyethylaniline, N, N-di (2-hydroxypropyl) aniline,

【0072】N,N−ジ(ヒドロキシエトキシエチル)
アニリン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジ(ヒド
ロキシエチル)アミン、ベンジルジ(2−ヒドロキシプ
ロピル)アミン、ベンジルジ(ヒドロキシエトキシエチ
ル)アミン、メチルジフェニルアミン、ヒドロキシエチ
ルジフェニルアミン、(2−ヒドロキシプロピル)ジフ
ェニルアミン、(ヒドロキシエトキシエチル)ジフェニ
ルアミン、メチルジベンジルアミン、ヒドロキシエチル
ジベンジルアミン、(2−ヒドロキシプロピル)ジベン
ジルアミン、(ヒドロキシエトキシエチル)ジベンジル
アミン、ピリジン、2−ヒドロキシエチルピリジン、
N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、
N,N,N’,N’−テトラメチルキシリレンジアミ
ン、N,N,N’,N’−テトラヒドロキシエチルエチ
レンジアミン、N,N,N’,N’−テトラヒドロキシ
エチルキシリレンジアミン、N,N,N’,N’−テト
ラヒドロキシエトキシエチルエチレンジアミン、N,
N,N’,N’−テトラヒドロキシエトキシエチルキシ
リレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラ(2−ヒ
ドロキシプロピル)エチレンジアミン、N,N,N’,
N’−テトラ(2−ヒドロキシプロピル)キシリレンジ
アミン、トリエチレンジアミン等の3級アミン類また、
グリシン、アラニン等のアミノ酸類及びその誘導体等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
N, N-di (hydroxyethoxyethyl)
Aniline, benzyldimethylamine, benzyldi (hydroxyethyl) amine, benzyldi (2-hydroxypropyl) amine, benzyldi (hydroxyethoxyethyl) amine, methyldiphenylamine, hydroxyethyldiphenylamine, (2-hydroxypropyl) diphenylamine, (hydroxyethoxyethyl) Diphenylamine, methyldibenzylamine, hydroxyethyldibenzylamine, (2-hydroxypropyl) dibenzylamine, (hydroxyethoxyethyl) dibenzylamine, pyridine, 2-hydroxyethylpyridine,
N, N, N ', N'-tetramethylethylenediamine,
N, N, N ', N'-tetramethylxylylenediamine, N, N, N', N'-tetrahydroxyethylethylenediamine, N, N, N ', N'-tetrahydroxyethylxylylenediamine, N, N N, N ', N'-tetrahydroxyethoxyethylethylenediamine, N,
N, N ′, N′-tetrahydroxyethoxyethylxylylenediamine, N, N, N ′, N′-tetra (2-hydroxypropyl) ethylenediamine, N, N, N ′,
Tertiary amines such as N'-tetra (2-hydroxypropyl) xylylenediamine, triethylenediamine,
Examples include amino acids such as glycine and alanine and derivatives thereof, but are not limited thereto.

【0073】本発明に用いる有機アミン化合物は、なか
でも、現像性や経時安定性向上の観点から、親水性基を
有することが好ましく、3級アミン類であることが好ま
しく、また、分子内にアミン官能基を1つ含有するもの
が好ましい。本発明に用いる有機アミン化合物の使用量
は、感熱記録層全固形分の3〜50重量%、好ましく
は、5〜30重量%、さらに好ましくは、8〜20重量
%である。
The organic amine compound used in the present invention preferably has a hydrophilic group, and is preferably a tertiary amine, from the viewpoint of improving developability and stability over time. Those containing one amine function are preferred. The amount of the organic amine compound used in the present invention is 3 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight, more preferably 8 to 20% by weight of the total solids of the heat-sensitive recording layer.

【0074】[(C)光熱変換物質]本発明の感熱性平
版印刷版原版には、光熱変換物質を含有させることが好
ましく、光熱変換物質としては、紫外線、可視光線、赤
外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質な
らば全て使用でき、例えば、カーボンブラック、カーボ
ングラファイト、顔料、フタロシアニン系顔料、鉄粉、
黒鉛粉末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫
化鉄、硫化クロム等が挙げられる。特に、好ましいの
は、波長760nmから1200nmの赤外線を有効に
吸収する染料、顔料、または金属である。
[(C) Light-to-Heat Conversion Material] The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention preferably contains a light-to-heat conversion material. Any substance that can convert light into heat by absorbing light can be used, for example, carbon black, carbon graphite, pigment, phthalocyanine pigment, iron powder,
Examples thereof include graphite powder, iron oxide powder, lead oxide, silver oxide, chromium oxide, iron sulfide, and chromium sulfide. Particularly preferred are dyes, pigments, or metals that effectively absorb infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

【0075】染料としては、市販の染料及び文献(例え
ば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。好ま
しい染料としては、例えば、特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号等に記載されてい
るナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,
875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, and dyes such as metal thiolate complexes. Preferred dyes include, for example, JP-A-58-125246.
JP-A-59-84356, JP-A-59-2028
29, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, and JP-A-5-173696.
Methine dyes described in JP-A-8-181690 and JP-A-58-194595;
JP-A-58-224793, JP-A-59-481
No. 87, JP-A-59-73996, JP-A-60-52
No. 940, JP-A-60-63744 and the like, naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792 and the like, British Patent 434
No. 875, and the like.

【0076】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換アリールベンゾ
(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号
(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同5
8−220143号、同59−41363号、同59−
84248号、同59−84249号、同59−146
063号、同59−146061号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭59−216146号記載の
シアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別
の染料の例として、米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。これらの染料のうち特
に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げ
られる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. And JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169).
Nos. 8-220143, 59-41363 and 59-
No. 84248, No. 59-84249, No. 59-146
Nos. 063 and 59-146061; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475; Fairness 5-135
Nos. 14 and 5-19702 are also preferably used. Further, as another preferable example of the dye, a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in U.S. Pat. No. 4,756,993 can be exemplified. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0077】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Metal powder pigments and other polymer-bound dyes can be used.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0078】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリ
ング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔
料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印
刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最
新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載
されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface. Conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). I have.

【0079】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、0.1μm〜1μmの範
囲にあることが特に好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感熱記
録層の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法
としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知
の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散
器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパー
ミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the image heat-sensitive recording layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0080】これらの染料又は顔料は、感熱記録層全固
形分の0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜30
重量%、染料の場合特に好ましくは1〜20重量%、顔
料の場合特に好ましくは5〜25重量%の割合で使用す
ることができる。顔料又は染料の添加量が0.01重量
%未満であると感度が低くなり、また50重量%を越え
ると印刷時非画像部に汚れが発生する。
These dyes or pigments are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 30% by weight based on the total solids of the heat-sensitive recording layer.
% By weight, particularly preferably 1 to 20% by weight for dyes, and particularly preferably 5 to 25% by weight for pigments. If the amount of the pigment or the dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered.

【0081】[その他の成分]本発明の感熱記録層で
は、上述の3つの成分以外に、必要に応じて種々の化合
物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を
持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。
具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー
#103、オイルピンク#312、オイルグリーンB
G、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイ
ルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラック
T−505(以上、オリエント化学工業(株)製)、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI
42555)、メチルバイオレット(CI4253
5)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145
170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、
メチレンブルー(CI52015)等及び特開昭62−
293247号公報に記載されている染料を挙げること
ができる。これらの染料は、レーザ露光後退色し、画像
部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好
ましい。尚、添加量は、感熱記録層全固形分の0.01
〜10重量%である。
[Other Components] In the heat-sensitive recording layer of the present invention, various compounds may be added, if necessary, in addition to the above three components. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image.
Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green B
G, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI
42555), methyl violet (CI4253)
5), ethyl violet, rhodamine B (CI145
170B), malachite green (CI42000),
Methylene blue (CI52015), etc.
The dyes described in JP-A-293247 can be exemplified. These dyes are preferably added because they fade after laser exposure and are easy to distinguish between image areas and non-image areas. The amount of addition was 0.01% of the total solids of the heat-sensitive recording layer.
-10% by weight.

【0082】また、本発明における感熱記録層には、印
刷条件に対する安定性を広げるため、特開昭62−25
1740号公報や特開平3−208514号公報に記載
されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−1
21044号公報、特開平4−13149号公報に記載
されているような両性界面活性剤を添加することができ
る。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ
る。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポアミノエチルグリシ
ン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テト
ラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモー
ゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イ
オン界面活性剤及び両性界面活性剤の感熱記録層中に占
める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好
ましくは0.1〜5重量%である。
The heat-sensitive recording layer of the present invention has a structure described in JP-A-62-25 in order to increase the stability under printing conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-1740 and JP-A-3-208514, and JP-A-59-1
An amphoteric surfactant as described in JP-A-21044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpoaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-
Hydroxyethyl imidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the heat-sensitive recording layer is preferably from 0.05 to 15% by weight, and more preferably from 0.1 to 5% by weight.

【0083】更に本発明の感熱記録層には必要に応じ、
塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。
例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチ
ル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ
ヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、
リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テ
トラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸の
オリゴマー及びポリマー等が用いられる。
The heat-sensitive recording layer of the present invention may further comprise
A plasticizer is added to impart flexibility and the like to the coating film.
For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate,
For example, oligomers and polymers of tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid are used.

【0084】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類、特願平7−18120に記載のヒドロキシ
メチル基を持つフェノール化合物、及びアルコキシメチ
ル基を有するフェノール化合物等を添加してもよい。更
に塗膜の強度を向上させるために他の高分子化合物を添
加してもよい。
In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group and phenol compounds having an alkoxymethyl group described in Japanese Patent Application No. 7-18120 may be added. Further, another polymer compound may be added to improve the strength of the coating film.

【0085】本発明の平版印刷版用原版は、通常上記各
成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すること
により製造することができる。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好
ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得
られる支持体上の塗布量(固形分)は、0.1〜5.0
g/m2が好ましく、0.3〜3.0g/m2がより好ま
しく、0.4〜2.0g/m2がさらに好ましい。この
範囲において、現像性と耐刷性が両立する。塗布する方
法としては、種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention can be usually produced by dissolving the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying is 0.1 to 5.0.
preferably g / m 2, more preferably 0.3 to 3.0 g / m 2, more preferably 0.4 to 2.0 g / m 2. Within this range, both developability and printing durability are compatible. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

【0086】本発明における感熱記録層には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170
950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。これらの添加量は、感熱記
録層固形分中0.01〜1重量%が好ましく、さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
The heat-sensitive recording layer in the present invention may contain a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-170.
For example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-950-950 can be added. The amount of these additives is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the heat-sensitive recording layer.

【0087】(親水性表面を有する支持体)本発明に使
用される親水性表面を有する支持体には、支持体自身が
親水性であるもの、支持体の表面を親水化処理したも
の、あるいは、支持体上に親水性層を備えたものを含
む。
(Support having hydrophilic surface) The support having a hydrophilic surface used in the present invention may be a support having a hydrophilic surface, a support having a hydrophilic surface, or a support having a hydrophilic surface. And those provided with a hydrophilic layer on a support.

【0088】本発明に係る平版印刷版原版に使用される
支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例え
ば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金
属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチ
ックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、
上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された
紙、もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。本発
明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、
(a)アルミニウム板又は(b)ポリエステルフィルム
が好ましい。以下、これらの好ましい支持体とその親水
化処理について説明する。
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material. Paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, Polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.),
Examples include paper on which metal is laminated or vapor-deposited, plastic film, or the like. As the support used in the lithographic printing plate precursor of the present invention,
(A) Aluminum plate or (b) polyester film is preferred. Hereinafter, these preferred supports and their hydrophilic treatment will be described.

【0089】[a−1.アルミニウム板(支持体基
板)]本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体とし
ては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ま
しいのは前述の通りであるが、その中でも寸法安定性が
よく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好まし
い。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板および
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量
%以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
[A-1. Aluminum Plate (Support Substrate)] As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable as described above. Is particularly preferred. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.1 mm to 0.4 mm.
It is 2 mm to 0.3 mm.

【0090】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used.

【0091】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が
可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸あるい
はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は
電解質の種類によって適宜決められる。
The surface roughening by the above-mentioned method is performed when the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as required, and further neutralized, and then anodized to enhance abrasion resistance if desired. Processing is performed.
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0092】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は、1.0〜5.0g/m2、特に1.5〜4.0
g/m2であることが好ましく、1.0g/m2より少な
いと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部
に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインクが付
着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。 [a−2.アルミニウム板の親水化処理]前記のように
陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面に親水化処理
を施すことで、前記表面を親水化処理した支持体を得る
ことができる。ここで使用される親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号および第3,902,
734号に開示されているようなアルカリ金属シリケー
ト(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方
法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬
処理されるか、または電解処理される。他に特公昭36
−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸
カリウムおよび米国特許第3,276,868号、同第
4,153,461号、同第4,689,272号に開
示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方
法などが用いられる。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of the anodic oxide film is 1.0 to 5.0 g / m 2 , particularly 1.5 to 4.0 g / m 2 .
g / m 2 is preferable, and if it is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched. The so-called "scratch stain" to which ink adheres easily occurs. [A-2. Hydrophilization treatment of aluminum plate] By subjecting the aluminum surface subjected to the anodic oxidation treatment as described above to the hydrophilic treatment, a support having the surface hydrophilized can be obtained. As the hydrophilic treatment used here,
U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,4
No. 61, No. 3,280,734 and No. 3,902,
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in US Pat. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, Tokuboku Sho 36
Potassium fluoride zirconate disclosed in U.S. Pat. No. 2,220,632 and polyvinyl as disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272. For example, a method of treating with phosphonic acid is used.

【0093】[b−1.非導電性支持体(支持体基
板)]また、本発明の基板にポリエステル等の非導電性
のものを用いる場合、基板の感熱記録層側または反対
側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好まし
い。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合
には、親水性層との密着性にも寄与する。帯電防止層と
しては、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマ
ー層が使用できる。
[B-1. Non-conductive support (support substrate)] When a non-conductive substrate such as polyester is used for the substrate of the present invention, an antistatic layer is provided on the heat-sensitive recording layer side or on the opposite side or on both sides of the substrate. Is preferred. When the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to the adhesion to the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles and a matting agent are dispersed can be used.

【0094】帯電防止層に用いられる金属酸化物粒子の
材料としては、SiO2、ZnO、TiO2、SnO2
Al23、In23、MgO、BaO、MoO3、V2
5及びこれらの複合酸化物、及び/又はこれらの金属酸
化物に更に異種原子を含む金属酸化物を挙げることがで
きる。これらは単独で用いてもよく、混合して用いても
よい。金属酸化物としては、SiO2、ZnO、Sn
2、Al23、TiO2、In23、MgOが好まし
い。異種原子を少量含む例としては、ZnOに対してA
lあるいはIn、SnO2に対してSb、Nbあるいは
ハロゲン元素、In23に対してSnなどの異種原子を
30モル%以下、好ましくは10モル%以下の量をドー
プしたものを挙げることができる。金属酸化物粒子は、
帯電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれている
ことが好ましい。金属酸化物粒子の粒子径は、平均粒子
径が0.001〜0.5μmの範囲が好ましい。ここで
いう平均粒子径とは、金属酸化物粒子の一次粒子径だけ
でなく高次構造の粒子径も含んだ値である。
As the material of the metal oxide particles used for the antistatic layer, SiO 2 , ZnO, TiO 2 , SnO 2 ,
Al 2 O 3 , In 2 O 3 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O
5 and their composite oxides, and / or metal oxides further containing different atoms in these metal oxides. These may be used alone or as a mixture. As the metal oxide, SiO 2 , ZnO, Sn
O 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 and MgO are preferred. As an example containing a small amount of heteroatoms, ZnO
l or In, SnO 2 doped with Sb, Nb or a halogen element, and In 2 O 3 with a hetero atom such as Sn in an amount of 30 mol% or less, preferably 10 mol% or less. it can. The metal oxide particles
It is preferable that the antistatic layer contains 10 to 90% by weight. The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably in the range of 0.001 to 0.5 μm. Here, the average particle diameter is a value including not only the primary particle diameter of the metal oxide particles but also the particle diameter of the higher-order structure.

【0095】帯電防止層に用いることができるマット剤
としては、好ましくは平均粒径が0.5〜20μm、よ
り好ましくは平均粒径が1.0〜15μmの粒径を持つ
無機又は有機の粒子が挙げられる。無機粒子としては、
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化チタン、酸化亜
鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、チ
タン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の金属塩等
が挙げられる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスチレン、ポリオレフィン及びそれらの共
重合体の架橋粒子が挙げられる。マット剤は、帯電防止
層中に1〜30重量%の範囲で含まれていることが好ま
しい。帯電防止層に用いることができるポリマーとして
は、例えば、ゼラチン、カゼイン等のタンパク質、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、アセチルセルロース、ジアセチルセルロース、トリ
アセチルセルロース等のセルロース化合物、デキストラ
ン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポ
リビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸
エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、
ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリメタクリ
ル酸等の合成ポリマー等が挙げられる。ポリマーは、帯
電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれているこ
とが好ましい。
The matting agent that can be used in the antistatic layer is preferably an inorganic or organic particle having an average particle size of 0.5 to 20 μm, more preferably an average particle size of 1.0 to 15 μm. Is mentioned. As inorganic particles,
Examples thereof include metal oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, and zinc oxide, and metal salts such as calcium carbonate, barium sulfate, barium titanate, and strontium titanate. Examples of the organic particles include cross-linked particles of polymethyl methacrylate, polystyrene, polyolefin, and a copolymer thereof. The matting agent is preferably contained in the antistatic layer in a range of 1 to 30% by weight. Examples of the polymer that can be used for the antistatic layer include, for example, gelatin, proteins such as casein, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, acetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose compounds such as triacetyl cellulose, dextran, agar, sodium alginate, and starch derivatives. Such as saccharides, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyacrylate, polymethacrylate, polystyrene,
Examples include synthetic polymers such as polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyester, polyvinyl chloride, polyacrylic acid, and polymethacrylic acid. The polymer is preferably contained in the antistatic layer in the range of 10 to 90% by weight.

【0096】[親水性層]支持体の表面を親水性にする
方法としては、前記したアルミニウム支持体表面を親水
化処理する方法の他、種々の支持体基板上に親水性層を
設ける方法がある。支持体上に設けることが可能な親水
性層としては、例えば、有機親水性ポリマーを架橋ある
いは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリ
ックスや、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコ
ネート又はアルミネートの加水分解、縮合反応からなる
ゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックス
あるいは親水性表面を有する金属又は金属化合物の薄膜
が好ましく挙げられる。
[Hydrophilic layer] As a method for making the surface of the support hydrophilic, other than the above-mentioned method of hydrophilizing the surface of the aluminum support, a method of providing a hydrophilic layer on various support substrates is available. is there. Examples of the hydrophilic layer that can be provided on the support include, for example, an organic hydrophilic matrix obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer, and hydrolysis of polyalkoxysilane, titanate, zirconate, or aluminate. And a thin film of a metal or a metal compound having a hydrophilic surface or an inorganic hydrophilic matrix obtained by a sol-gel conversion comprising a condensation reaction.

【0097】〔有機親水性マトリックス〕本発明の親水
性層の有機親水性マトリックス形成に使用する架橋反応
としては、熱または光による共有結合形成、又は、多価
金属塩によるイオン結合形成が可能である。本発明に用
いる有機親水性ポリマーとしては、架橋反応に用いるこ
とが可能な官能基を有するポリマーが好ましい。好まし
い官能基としては、例えば、−OH、−SH、−N
2、−NH−、−CO−NH2、−CO−NH−、−O
−CO−NH−、−NH−CO−NH−、−CO−O
H、−CO−O-、−CO−O−、−CS−OH、−C
O−SH、−CS−SH、−SO3H、−SO
2(O-)、−PO32、−PO(O-2、−SO2−N
2、−SO2−NH−、−CH=CH2、−CH=CH
−、−CO−C(CH3)=CH2、−CO−CH=CH
2、−CO−CH2−CO−、−CO−O−CO−、及び
以下に示す官能基等が挙げられる。
[Organic hydrophilic matrix] The crosslinking reaction used to form the organic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention can be the formation of a covalent bond by heat or light, or the formation of an ionic bond by a polyvalent metal salt. is there. As the organic hydrophilic polymer used in the present invention, a polymer having a functional group that can be used for a crosslinking reaction is preferable. Preferred functional groups include, for example, -OH, -SH, -N
H 2, -NH -, - CO -NH 2, -CO-NH -, - O
-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-O
H, -CO-O -, -CO -O -, - CS-OH, -C
O-SH, -CS-SH, -SO 3 H, -SO
2 (O ), —PO 3 H 2 , —PO (O ) 2 , —SO 2 —N
H 2, -SO 2 -NH -, - CH = CH 2, -CH = CH
-, - CO-C (CH 3) = CH 2, -CO-CH = CH
2, -CO-CH 2 -CO - , - CO-O-CO-, and functional group, and the like shown below.

【0098】[0098]

【化23】 Embedded image

【0099】これらの官能基のなかでも、特に、水酸
基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基が好まし
い。
Among these functional groups, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group and an epoxy group are particularly preferred.

【0100】このような有機親水性ポリマーとしては、
公知の水溶性バインダーを用いることが可能であり、例
えば、ポリビニルアルコール(ケン化度60%以上のポ
リビニルアセテート)、カルボキシ変性ポリビニルアル
コール等の変性ポリビニルアルコール、澱粉およびその
誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびその塩、ヒ
ドロキシエチルセルロースのようなセルロース誘導体、
カゼイン、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルピロリ
ドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体及びその塩、ス
チレン−マレイン酸共重合体及びその塩、ポリアクリル
酸及びその塩、ポリメタクリル酸及びその塩、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンイミン、ポリビニルホス
ホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその
塩、ポリ(メタクリロイロキシプロパンスルホン酸)及
びその塩、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリ(メ
タクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロラ
イド)、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリヒ
ドロキシエチルアクリレート、ポリアクリルアミド等が
挙げられる。これらのポリマーは、親水性を損なわない
限りにおいて、コポリマーであっても良く、1種単独で
用いても、2種以上を併用して用いても良い。その使用
量は親水性層の総固形分重量に対して、20重量%〜9
9重量%、好ましくは25重量%〜95重量%、より好
ましくは30重量%〜90重量%である。
Such organic hydrophilic polymers include:
Known water-soluble binders can be used, for example, polyvinyl alcohol (polyvinyl acetate having a saponification degree of 60% or more), modified polyvinyl alcohol such as carboxy-modified polyvinyl alcohol, starch and derivatives thereof, carboxymethyl cellulose and salts thereof, Cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose,
Casein, gelatin, gum arabic, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer and its salt, styrene-maleic acid copolymer and its salt, polyacrylic acid and its salt, polymethacrylic acid and its salt, polyethylene glycol, Polyethyleneimine, polyvinylphosphonic acid and its salt, polystyrenesulfonic acid and its salt, poly (methacryloyloxypropanesulfonic acid) and its salt, polyvinylsulfonic acid and its salt, poly (methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride), polyhydroxy Examples include ethyl methacrylate, polyhydroxyethyl acrylate, and polyacrylamide. These polymers may be copolymers as long as hydrophilicity is not impaired, and may be used alone or in combination of two or more. The amount used is from 20% by weight to 9% by weight based on the total solid weight of the hydrophilic layer.
It is 9% by weight, preferably 25% to 95% by weight, more preferably 30% to 90% by weight.

【0101】本発明においては、有機親水性ポリマーの
架橋を公知の架橋剤により行うことが可能である。公知
の架橋剤としては、多官能イソシアネート化合物、多官
能エポキシ化合物、多官能アミン化合物、ポリオール化
合物、多官能カルボキシル化合物、アルデヒド化合物、
多官能(メタ)アクリル化合物、多官能ビニル化合物、
多官能メルカプト化合物、多価金属塩化合物、ポリアル
コキシシラン化合物およびその加水分解物、ポリアルコ
キシチタン化合物およびその加水分解物、ポリアルコキ
シアルミニウム化合物およびその加水分解物、ポリメチ
ロール化合物、ポリアルコキシメチル化合物等が挙げら
れ、公知の反応触媒を添加し、反応を促進することも可
能である。その使用量は親水性層の塗布液中の総固形分
重量に対して、1重量%〜50重量%、好ましくは3重
量%〜40重量%、より好ましくは5重量%〜35重量
%である。
In the present invention, the organic hydrophilic polymer can be crosslinked with a known crosslinking agent. Known crosslinking agents include polyfunctional isocyanate compounds, polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional amine compounds, polyol compounds, polyfunctional carboxyl compounds, aldehyde compounds,
Polyfunctional (meth) acrylic compound, polyfunctional vinyl compound,
Polyfunctional mercapto compounds, polyvalent metal salt compounds, polyalkoxysilane compounds and their hydrolysates, polyalkoxytitanium compounds and their hydrolysates, polyalkoxyaluminum compounds and their hydrolysates, polymethylol compounds, polyalkoxymethyl compounds, etc. It is also possible to add a known reaction catalyst to promote the reaction. The amount used is 1% by weight to 50% by weight, preferably 3% by weight to 40% by weight, more preferably 5% by weight to 35% by weight, based on the total solid content in the coating solution of the hydrophilic layer. .

【0102】〔無機親水性マトリックス〕[Inorganic hydrophilic matrix]

【0103】本発明の親水性層の無機親水性マトリック
ス形成に使用することができるゾル−ゲル変換が可能な
系は、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して
網目状構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基
やアルコキシ基も有していて、これらが混在した樹脂状
構造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水
酸基が多い段階ではゾル状態であり、エーテル結合化が
進行するのに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。ま
た、水酸基の一部が固体微粒子に結合することによって
固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させる働き
をも併せ持っている。ゾル−ゲル変換を行う水酸基やア
ルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニ
ウム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、これ
らはいずれも本発明に用いることができるが、以下はも
っとも好ましく用いることのできるシロキサン結合によ
るゾル−ゲル変換系について説明する。アルミニウム、
チタン及びジルコニウムを用いるゾル−ゲル変換は、下
記の説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施する
ことができる。
The system capable of sol-gel conversion which can be used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention has a network-like structure in which a bonding group derived from a polyvalent element is linked via an oxygen atom. At the same time, the polyvalent metal also has unbonded hydroxyl groups and alkoxy groups, and is a polymer having a resin-like structure in which these are mixed, and in a stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, it is in a sol state. In some cases, the network-like resin structure becomes strong as the ether bonding proceeds. In addition, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of the hydroxyl groups to the solid fine particles and changing the degree of hydrophilicity. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, or the like, and any of these can be used in the present invention. A sol-gel conversion system using a siloxane bond will be described. aluminum,
The sol-gel conversion using titanium and zirconium can be performed by substituting silicon for each element described below.

【0104】すなわち、特に好ましく用いられるのは、
ゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも1個のシラノール
基を有するシラン化合物を含んた系である。以下に、ゾ
ル−ゲル変換を利用する系についてさらに説明する。ゾ
ル−ゲル変換によって形成される無機親水性マトリック
スは、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を
有する樹脂であり、少なくとも1個のシラノール基を有
するシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗
布、乾燥、経時する間に、シラノール基の加水分解縮合
が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進
行することにより形成される。また、このゲル構造のマ
トリックスのなかには、膜強度、柔軟性等の物理的性能
向上や、塗布性の改良、親水性の調整等を目的として、
上記の有機親水性ポリマーや架橋剤などを添加すること
も可能である。ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、
下記一般式(I)で示され、また少なくとも1個のシラ
ノール基を有するシラン化合物は、下記一般式(II)で
示されるシラン化合物の加水分解により得られ、必ずし
も一般式(II)のシラン化合物の部分加水分解物単独で
ある必要はなく、一般には、シラン化合物が部分加水重
合したオリゴマーからなっていてもよく、あるいは、シ
ラン化合物とそのオリゴマーの混合組成であってもよ
い。
That is, particularly preferably used are:
This is a system containing a silane compound having at least one silanol group and capable of sol-gel conversion. Hereinafter, a system utilizing the sol-gel conversion will be further described. The inorganic hydrophilic matrix formed by the sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and is coated with a coating solution that is a sol system containing a silane compound having at least one silanol group. During the drying and aging, the hydrolytic condensation of the silanol groups proceeds to form the structure of the siloxane skeleton, which is formed by the progress of gelation. Further, in the matrix of this gel structure, for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, improving coating properties, adjusting hydrophilicity, etc.
It is also possible to add the above-mentioned organic hydrophilic polymer and crosslinking agent. The siloxane resin that forms the gel structure is
The silane compound represented by the following general formula (I) and having at least one silanol group is obtained by hydrolysis of the silane compound represented by the following general formula (II), and is not necessarily the silane compound represented by the general formula (II) It is not necessary to use the partial hydrolyzate alone. In general, the silane compound may be composed of an oligomer partially hydrolyzed, or may be a mixed composition of the silane compound and its oligomer.

【0105】[0105]

【化24】 Embedded image

【0106】上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種の化合物のゾル−ゲル変換によって形成され、一般
式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは水酸基を表
し、他は下記一般式(II)中の記号のR0及びYから選
ばれる有機残基を表わす。
The siloxane resin represented by the general formula (I) is
It is formed by sol-gel conversion of at least one compound of the silane compounds represented by the following general formula (II), wherein at least one of R 01 to R 03 in the general formula (I) represents a hydroxyl group, and Represents an organic residue selected from the symbols R 0 and Y in the general formula (II).

【0107】一般式(II) (R0nSi(Y)4-n Formula (II) (R 0 ) n Si (Y) 4-n

【0108】一般式(II)中、R0は、水酸基、炭化水
素基又はヘテロ環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン
原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子
を表わす)、−OR1、−OCOR2又は、−N(R3
(R4)を表す(R1、R2は、各々炭化水素基を表し、
3、R4は同じでも異なってもよく、水素原子又は炭化
水素基を表す)、nは0、1、2又は3を表わす。
In the general formula (II), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom (representing a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), —OR 1 , —OCOR 2, or —N (R 3 )
(R 4) represents the (R 1, R 2 each represents a hydrocarbon group,
R 3 and R 4 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group), and n represents 0, 1, 2 or 3.

【0109】一般式(II)中のR0の炭化水素基又はヘ
テロ環基とは、例えば、炭素数1〜12の置換されても
よい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基等;これらの基に置換される基として
は、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原
子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR'基(R'は、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル基、ブ
テニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒドロキ
シエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノエチル
基、N,N−ジメチルアミノエチル基、1−ブロモエチ
ル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシプロピ
ル基、ベンジル基等を示す)、−OCOR''基(R''
は、前記R’と同一の内容を表わす)、−COOR''
基、−COR''基、−N(R''')(R''')基(R'''
は、水素原子又は前記R'と同一の内容を表わし、各々
同じでも異なってもよい)、−NHCONHR''基、−
NHCOOR''基−Si(R'')3基、−CONH
R'''基、−NHCOR''基等が挙げられる。(これら
の置換基はアルキル基中に複数置換されてもよい)、
The hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 0 in the general formula (II) is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group , Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group,
A hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group and the like; the groups substituted by these groups include a halogen atom (a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom), a hydroxy group, a thiol group, and a carboxy group. Group, sulfo group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group,
Hexyl, octyl, decyl, propenyl, butenyl, hexenyl, octenyl, 2-hydroxyethyl, 3-chloropropyl, 2-cyanoethyl, N, N-dimethylaminoethyl, 1-bromoethyl Group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group, etc.), -OCOR "group (R"
Represents the same content as R ′), —COOR ″
Group, -COR "group, -N (R"")(R"") group (R""
Represents the same content as a hydrogen atom or the aforementioned R ′, and may be the same or different), —NHCONHR ″ group, —
NHCOOR "group -Si (R") 3 group, -CONH
R ′ ″ group, —NHCOR ″ group and the like. (These substituents may be substituted plurally in the alkyl group),

【0110】炭素数2〜12の置換されてもよい直鎖状
又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オ
クテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これらの基
に置換される基としては、前記アルキル基に置換される
基と同一の内容のものが挙げられる)、炭素数7〜14
の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基等;これらの基に置換
される基としては、前記アルキル基に置換される基と同
一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよ
い)、
An optionally substituted linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms (for example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc. And the groups substituted with these groups include those having the same contents as the groups substituted with the above-mentioned alkyl groups), having 7 to 14 carbon atoms.
Optionally substituted aralkyl groups (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; Groups having the same content as the group to be mentioned, or may be substituted plurally),

【0111】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置
換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の
内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えば、
フェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキ
ル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又
複数置換されてもよい)、又は、窒素原子、酸素原子、
イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有す
る縮環してもよいヘテロ環基(例えば、該ヘテロ環とし
ては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン
環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリ
ジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒド
ロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基とし
ては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のも
のが挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
-Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like, the group substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group, and those substituted with a plurality of May be substituted), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example,
A phenyl group, a naphthyl group, and examples of the substituent include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group, and a plurality of the groups may be substituted), or a nitrogen atom, an oxygen atom,
A condensable heterocyclic group containing at least one atom selected from sulfur atoms (for example, the heterocyclic ring includes a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, a morpholine ring, a pyrrole ring, a thiazole ring, and an oxazole And a ring, a pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. The same content may be mentioned, or a plurality of the same may be substituted).

【0112】一般式(II)中のYの−OR1基、−OC
OR2基又は−N(R3)(R4)基の置換基としては、
例えば、以下の置換基を表す。−OR1基において、R1
は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル
基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メ
トキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル
基、1−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メ
トキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオ
キサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル
基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシク
ロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル
基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベン
ジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
In the general formula (II), -OR 1 group of Y, -OC
As a substituent of the OR 2 group or the —N (R 3 ) (R 4 ) group,
For example, it represents the following substituents. —OR 1 group includes R 1
Is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, propenyl group) , Butenyl, heptenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 2-methoxyethyl, 2- (methoxyethyloxo) ethyl, 1- (N, N -Diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, benzyl group, Phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methylbenzyl group, bromobenzyl It represents a group and the like).

【0113】−OCOR2基において、R2は、R1と同
一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール
基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。
又、−N(R3)(R4)基において、R3、R4は、互い
に同じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数
1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記の
−OR1基のR1と同様の内容のものが挙げられる)を表
わす。より好ましくは、R3とR4の炭素数の総和が16
個以内である。一般式(II)で示されるシラン化合物の
具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限
定されるものではない。
In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same contents as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is the aryl group in the above R). And the same as those exemplified for the group).
In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and each may be a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms ( For example, those having the same contents as those of R 1 in the above-mentioned —OR 1 group can be mentioned). More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 16
It is within the number. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.

【0114】テトラクロルシラン、テトラブロムシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラn−プロピルシラ
ン、テトラt−ブトキシシラン、テトラn−ブトキシシ
ラン、ジメトキシジエトキシシラン、メチルトリクロル
シラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン、エチ
ルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシ
シラン、n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピル
トリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、
n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイ
ソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシ
ラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルト
リブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n
−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソ
プロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラ
ン、n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロ
ムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシル
トリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシ
ラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン、n−オクタ
デシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロム
シラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オ
クタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリ
イソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブト
キシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン、ジメチルジクロ
ルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジク
ロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニ
ルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラ
ン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチル
ジエトキシシラン、
Tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propylsilane, tetra-t-butoxysilane, tetra-n-butoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, methyltrichlorosilane , Methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriiso Propoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane,
n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n
-Hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n -Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltrisilane -Butoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyl Dibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane,

【0115】トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒ
ドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキ
シヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニ
ルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリ
フルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエ
トキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキ
シシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
Triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, Vinyl tri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxip Pills trimethoxysilane, gamma
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane Γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ- Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane Γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, etc. Is mentioned.

【0116】本発明の親水性層の無機親水性マトリック
ス形成に用いる一般式(II)で示されるシラン化合物と
ともに、Ti、Zn、Sn、Zr、Al等のゾル−ゲル
変換の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用
することができる。用いられる金属化合物として、例え
ば、Ti(OR54(R5はメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、Ti
Cl4、Ti(CH3COCHCOCH32(O
52、Zn(OR52、Zn(CH3COCHCOC
32、Sn(OR54、Sn(CH3COCHCOC
34、Sn(OCOR5)4、SnCl4、Zr(OR
54、Zr(CH3COCHCOCH34、Al(O
53、Al(CH3COCHCOCH33等が挙げら
れる。
Along with the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, the silane compound binds to the resin during the sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc. And a metal compound capable of forming a film. Examples of the metal compound used include Ti (OR 5 ) 4 (R 5 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, etc.), Ti
Cl4, Ti (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 (O
R 5 ) 2 , Zn (OR 5 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOC
H 3 ) 2 , Sn (OR 5 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOC)
H 3) 4, Sn (OCOR 5) 4, SnCl 4, Zr (OR
5 ) 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (O
R 5 ) 3 and Al (CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 .

【0117】更に一般式(II)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が高い場合は加水分解・
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の程度は1N(水溶液での濃
度換算)以下が望ましい。
Further, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II), and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or basic compound used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, hydrolysis /
The polycondensation rate tends to increase. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution.

【0118】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸
などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水
素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカ
ルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元
素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベン
ゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒とし
ては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルア
ミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited. Specific examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, and hydrogen peroxide. Examples of basic catalysts include ammonia, such as carboxylic acids such as carbonic acid, formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids in which R of the structural formula represented by RCOOH is substituted with another element or a substituent, and sulfonic acids such as benzenesulfonic acid. Examples include ammoniacal bases such as water and amines such as ethylamine and aniline.

【0119】上記のゾルーゲル法のさらに詳細は、作花
済夫「ゾルーゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)
(1988年)、平島碩「最新ゾルーゲル法による機能
性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992
年)等の成書等に詳細に記述されている。
For further details of the above-mentioned sol-gel method, refer to Saio Sakuhana, “Sol-gel Method Science”, Agne Shofusha Co., Ltd.
(1988), Takashi Hirashima, "Functional thin film production technology by the latest sol-gel method" General Technology Center (published) (1992)
It is described in detail in written documents such as year).

【0120】本発明の上記有機又は無機親水性マトリッ
クスの親水性層中には、上記以外にも、親水性の程度の
制御、親水性層の物理的強度の向上、層を構成する組成
物相互の分散性の向上、塗布性の向上印刷適性の向上な
どの種々の目的の化合物を添加することができる。例え
ば、可塑剤、顔料、色素、界面活性剤、親水性の粒子等
が挙げられる。
In the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix according to the present invention, in addition to the above, control of the degree of hydrophilicity, improvement of the physical strength of the hydrophilic layer, and mutual Various compounds can be added, such as improvement in dispersibility, improvement in coating properties, and improvement in printability. For example, plasticizers, pigments, dyes, surfactants, hydrophilic particles and the like can be mentioned.

【0121】親水性の粒子としては、特に限定されない
が、好ましくはシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム
等が挙げられる。これらは、親水性を助長したり、皮膜
の強化などに用いることができる。より好ましくは、シ
リカ、アルミナ、酸化チタン又はこれらの混合物であ
る。本発明の上記有機又は無機親水性マトリックスの親
水性層においては、特に、シリカ、アルミナ、酸化チタ
ン等の金属酸化物粒子を含有することが好ましい態様で
ある。
The hydrophilic particles are not particularly limited, but preferably include silica, alumina, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate and the like. These can be used for promoting hydrophilicity, strengthening a film, and the like. More preferably, it is silica, alumina, titanium oxide or a mixture thereof. In a preferred embodiment, the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention particularly contains metal oxide particles such as silica, alumina, and titanium oxide.

【0122】シリカは、表面に多くの水酸基を持ち、内
部はシロキサン結合(−Si−O−Si−)を構成して
いる。本発明において、好ましく用いることができるシ
リカとしては、コロイダルシリカとも称される、水もし
くは、極性溶媒中に分散した粒子径1〜100nmのシ
リカ超微粒子である。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監
修「高純度シリカの応用技術」第3巻、(株)シーエム
シー(1991年)に記載されている。
Silica has many hydroxyl groups on the surface, and the inside constitutes a siloxane bond (—Si—O—Si—). In the present invention, silica that can be preferably used is ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm, also referred to as colloidal silica, dispersed in water or a polar solvent. Specifically, it is described in "Applied Technology of High Purity Silica", Vol. 3, supervised by Yoshitoshi Kaga and Ei Hayashi, CMC Corporation (1991).

【0123】また、好ましく用いることができるアルミ
ナとしては、5〜200nmのコロイドの大きさをもつ
アルミナ水和物(ベーマイト系)で、水中の陰イオン
(例えば、フッ素イオン、塩素イオン等のハロゲン原子
イオン、酢酸イオン等のカルボン酸アニオン等)を安定
剤として分散されたものである。又好ましく用いること
ができる酸化チタンとしては、平均一次粒径が50〜5
00nmのアナターゼ型あるいはルチル型の酸化チタン
を、必要に応じ、分散剤を用い、水もしくは、極性溶媒
中に分散したものである。
Alumina which can be preferably used is alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm, and an anion (for example, a halogen atom such as a fluorine ion or a chlorine ion) in water. Ions, carboxylate anions such as acetate ions, etc.) as a stabilizer. The titanium oxide that can be preferably used has an average primary particle size of 50 to 5
Anatase-type or rutile-type titanium oxide having a thickness of 00 nm is dispersed in water or a polar solvent using a dispersant, if necessary.

【0124】本発明において、好ましく用いることがで
きる親水性の粒子の平均一次粒径は、1〜5000nm
であり、より好ましくは、10〜1000nmである。
本発明の親水性層中において、これらの親水性の粒子
は、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても
良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、
5重量%〜90重量%、好ましくは10重量%〜70重
量%、より好ましくは20重量%〜60重量%である。
In the present invention, the hydrophilic particles which can be preferably used have an average primary particle size of 1 to 5000 nm.
And more preferably 10 to 1000 nm.
In the hydrophilic layer of the present invention, these hydrophilic particles may be used alone or in combination of two or more. The amount used is based on the total solid weight of the hydrophilic layer.
It is 5% to 90% by weight, preferably 10% to 70% by weight, more preferably 20% to 60% by weight.

【0125】本発明に用いる上記の有機または無機親水
性マトリックスの親水性層は、例えば、水や、メタノー
ル、エタノール等の極性溶剤等の適当な溶剤の単独又は
これらの混合溶媒に溶解あるいは分散して、光熱変換層
上に塗布、乾燥、硬化される。その塗布重量は乾燥後の
重量で、0.1〜5g/m2が適当であり、好ましくは
0.3〜3g/m2、さらに好ましくは0.5〜2g/
2である。親水性層の乾燥後の塗布重量は、0.1g
/m2より低すぎると、湿し水等の親水性液体の保持性
の低下や、膜強度の低下など好ましくない結果を与え、
高すぎると、膜が脆くなり、耐刷性の低下などの好まし
くない結果を与える。
The hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix used in the present invention may be formed by dissolving or dispersing in a suitable solvent such as water or a polar solvent such as methanol or ethanol alone or a mixed solvent thereof. Is applied, dried and cured on the photothermal conversion layer. Its coating weight in weight after drying is suitably from 0.1-5 g / m 2, preferably from 0.3 to 3 g / m 2, more preferably 0.5 to 2 g /
m 2 . The coating weight of the hydrophilic layer after drying is 0.1 g.
/ M 2 is too low, the retention of hydrophilic liquids such as fountain solution and retention, undesired results such as a decrease in film strength are given,
If it is too high, the film becomes brittle, giving undesired results such as reduced printing durability.

【0126】〔親水性表面を有する金属又は金属化合物
の薄膜〕本発明の親水性層に用いる親水性表面を有する
金属又は金属化合物の薄膜としては、表面親水性を有す
るものであれば特に制限はないが、例えば、アルミニウ
ム、クロム、マンガン、スズ、テルル、チタン、鉄、コ
バルト、ニッケル、インジウム、ビスマス、ジルコニウ
ム、亜鉛、鉛、バナジウム、ケイ素、銅、銀の金属およ
び合金やそれぞれの金属に対応する金属酸化物、金属炭
化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属硫化物、金属ハ
ロゲン化物が挙げられる。実質上、上記金属及び金属化
合物の薄膜表面は、高酸化の状態にあり、親水性の点に
おいて、有利に働く。このため、インジウムスズ酸化
物、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化ケイ素、酸
化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の金
属酸化物の薄膜が、本発明の親水性層として好適に用い
ることができる。
[Thin Film of Metal or Metal Compound Having Hydrophilic Surface] The thin film of metal or metal compound having a hydrophilic surface used in the hydrophilic layer of the present invention is not particularly limited as long as it has surface hydrophilicity. Not available, for example, for aluminum, chromium, manganese, tin, tellurium, titanium, iron, cobalt, nickel, indium, bismuth, zirconium, zinc, lead, vanadium, silicon, copper, silver metal and alloys and their respective metals Metal oxides, metal carbides, metal nitrides, metal borides, metal sulfides, and metal halides. Substantially, the surface of the thin film of the metal and the metal compound is in a highly oxidized state, and works advantageously in terms of hydrophilicity. Therefore, a thin film of a metal oxide such as indium tin oxide, tungsten oxide, manganese oxide, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, and zirconium oxide can be suitably used as the hydrophilic layer of the present invention.

【0127】また、本発明の親水性層に用いる親水性表
面を有する金属又は金属化合物の薄膜形成には、真空蒸
着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などのPV
D法(物理蒸着法)あるいはCVD法(化学蒸着法)な
どが適宜用いられる。例えば真空蒸着法においては、加
熱方式としては、抵抗加熱、高周誘導加熱、電子ビーム
加熱等を用いることができる。また、反応性ガスとし
て、酸素や窒素等を導入したり、オゾン添加、イオンア
シスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いても良い。
For forming a thin film of a metal or a metal compound having a hydrophilic surface used in the hydrophilic layer of the present invention, a PVD method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method may be used.
Method D (physical vapor deposition) or CVD (chemical vapor deposition) is used as appropriate. For example, in a vacuum evaporation method, resistance heating, high-period induction heating, electron beam heating, or the like can be used as a heating method. In addition, oxygen, nitrogen, or the like may be introduced as a reactive gas, or reactive vapor deposition using means such as ozone addition or ion assist may be used.

【0128】スパッタ法を用いる場合は、ターゲット材
料として純金属または目的とする金属化合物を用いるこ
とができ、純金属を用いる時は反応性ガスとして酸素や
窒素等を導入する。スパッタ電源としては、直流電源、
パルス型直流電源、高周波電源を用いることができる。
When the sputtering method is used, the target material
Use pure metal or the desired metal compound
When using pure metal, oxygen or
Nitrogen and the like are introduced. DC power supply,
A pulse DC power supply or a high-frequency power supply can be used.

【0129】上記の方法による薄膜形成に先だって、感
熱層との密着性を向上させるため、基体加熱等による基
体脱ガスや感熱層表面への真空グロー処理を施してもよ
い。例えば、真空グロー処理においては、1〜10mt
orr程度の圧力下で基体に高周波を印加しグロー放電
を形成させ、発生したプラズマによる基板処理を行うこ
とができる。また、印加電圧を上げたり、酸素や窒素な
どの反応性ガスを導入することにより効果を向上させる
ことも可能である。
Prior to the formation of a thin film by the above method, degassing of the substrate by heating the substrate or vacuum glow treatment on the surface of the heat-sensitive layer may be performed to improve the adhesion to the heat-sensitive layer. For example, in vacuum glow processing, 1 to 10 mt
A high frequency is applied to the base under a pressure of about orr to form a glow discharge, and the substrate can be processed by the generated plasma. Further, the effect can be improved by increasing the applied voltage or introducing a reactive gas such as oxygen or nitrogen.

【0130】本発明の親水性層に用いる親水性表面を有
する金属又は金属化合物の薄膜の厚みは、10nm〜3
000nmが好ましい。さらに好ましくは20〜150
0nmである。薄すぎると、湿し水等の親水性液体の保
持性の低下や、膜強度の低下など好ましくない結果を与
え、厚すぎると、薄膜形成に時間を要するため製造適性
上好ましくない。
The thickness of the metal or metal compound thin film having a hydrophilic surface used in the hydrophilic layer of the present invention is 10 nm to 3 nm.
000 nm is preferred. More preferably, 20 to 150
0 nm. If the thickness is too small, unfavorable results such as a decrease in retention of a hydrophilic liquid such as a fountain solution and a decrease in film strength are given. If the thickness is too large, it takes time to form a thin film, which is not preferable in terms of production suitability.

【0131】本発明で使用する支持体は、ブロッキング
を防止する観点から、支持体の裏面の最大粗さ深度(R
t)が少なくとも、1.2μm以上であることが好まし
く、さらに、支持体の裏面(即ち、本発明の平版印刷版
原版の裏面)が本発明の平版印刷版原版の表面上を滑る
時の動摩擦係数(μk)が2.6以下であることが好ま
しい。
The support used in the present invention has a maximum roughness depth (R) on the back surface of the support from the viewpoint of preventing blocking.
t) is preferably at least 1.2 μm, and furthermore, the dynamic friction when the back surface of the support (that is, the back surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention) slides on the surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention. Preferably, the coefficient (μk) is 2.6 or less.

【0132】本発明で用いられる上記支持体の厚みはお
よそ0.05mm〜0.6mm程度、好ましくは0.1
mm〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.
3mmである。
The thickness of the support used in the present invention is about 0.05 mm to about 0.6 mm, preferably 0.1 mm to 0.6 mm.
mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.15 mm to 0.4 mm.
3 mm.

【0133】[平版印刷版原版のその他の層] 〔下塗り層〕本発明の平版印刷版原版は、親水性表面を
有する支持体上に本発明の感熱記録層を設けたものであ
るが、必要に応じてその間に下塗層を設けることができ
る。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、
例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、
アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミ
ノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およ
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基
を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アル
キルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置
換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホ
スフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホス
フィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラ
ニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの
塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等か
ら選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
[Other Layers of Lithographic Printing Plate Precursor] [Undercoat Layer] The lithographic printing plate precursor of the invention has a heat-sensitive recording layer of the invention provided on a support having a hydrophilic surface. An undercoat layer can be provided between them according to the above. Various organic compounds are used as the undercoat layer component,
For example, carboxymethylcellulose, dextrin,
Gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid which may have a substituent Organic phosphonic acids such as acids, phenylphosphoric acid optionally having a substituent, naphthylphosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid optionally having a substituent, naphthylphosphinic acid, Selected from organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as hydrochloride of triethanolamine. You may use it.

【0134】この下塗層は次のような方法で設けること
ができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メ
チルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合
溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を支持体上に
塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくは
それらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液
に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水
などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法で
ある。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005
〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。
また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量
%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は
20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時
間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、
水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸など
の酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することも
できる。下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。
The undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on a support, dried, and provided. A method in which a support is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the compound, and then washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. . In the former method, 0.005 of the above organic compound is used.
Solutions having a concentration of 〜1010% by weight can be applied in various ways.
In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 50 ° C, and the immersion time is It is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
The solution used for this is ammonia, triethylamine,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. The coating amount of the undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 .

【0135】(画像記録工程)本発明の感熱性平版印刷
版原版の画像記録は、例えば、熱記録ヘッド等により直
接画像様に感熱記録を施したり、波長700〜1200
nmの赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザ
ー、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ光や赤外線
ランプ露光などの光熱変換型の露光も用いることができ
る。本発明においては、特に、レーザー光を用いること
が好ましく、画像記録に用いられるレーザー光エネルギ
ーが、本発明の感熱性平版印刷版原版に含有される
(C)光熱変換物質において吸収されて熱エネルギーに
変換され、これに起因して発生した熱により、感熱性平
版印刷版原版を画像様に加熱し、画像記録がなされる。
本発明において使用されるレーザーは、感熱性平版印刷
版原版に画像記録ができるのに充分な熱を発生するのに
必要な露光量を与えるものであれば特に制限はなく、A
rレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザー、
YAGレーザーのような固体レーザー、そして半導体レ
ーザーなどが使用できる。通常、出力が50mWクラス
以上のレーザーが必要となる。保守性、価格などの実用
的な面からは、半導体レーザーおよび半導体励起の固体
レーザー(YAGレーザーなど)が好適に使用される。
これらのレーザーの記録波長は赤外線の波長領域であ
り、700nmから1200nmの発振波長を利用する
ことが多い。また、特開平6−186750号公報に記
載されているイメージング装置を用いて露光することも
可能である。本発明においては、レーザ照射時、記録に
必要なレーザエネルギーを減少させることを目的とし
て、レーザ照射工程と印刷工程の間に加熱処理を行うこ
とができる。好ましい加熱処理の条件は、80℃〜15
0℃の範囲内で10秒〜5分間である。この画像記録工
程は、平版印刷版原版を印刷機上に取り付けた後に行う
こともできる。その場合、後述するように画像記録後に
そのまま印刷することができる。
(Image Recording Step) The image recording of the heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention can be performed, for example, by directly performing image-wise thermal recording with a thermal recording head or the like, or by using a wavelength of 700 to 1200.
Solid-state lasers or semiconductor lasers emitting infrared light of nm, high-intensity flash light such as xenon discharge lamps, and light-heat conversion type exposure such as infrared lamp exposure can also be used. In the present invention, it is particularly preferable to use laser light, and the laser light energy used for image recording is absorbed by the photothermal conversion material (C) contained in the heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention, and the thermal energy is used. The heat-generated lithographic printing plate precursor is heated in an image-like manner by the heat generated thereby, and image recording is performed.
The laser used in the present invention is not particularly limited as long as it provides an exposure amount necessary to generate heat sufficient for image recording on the heat-sensitive lithographic printing plate precursor.
gas lasers such as r lasers, carbon dioxide lasers,
A solid-state laser such as a YAG laser and a semiconductor laser can be used. Usually, a laser having an output of 50 mW class or more is required. Semiconductor lasers and semiconductor-excited solid-state lasers (such as YAG lasers) are preferably used in terms of practicality such as maintainability and price.
The recording wavelength of these lasers is in the infrared wavelength range, and an oscillation wavelength of 700 nm to 1200 nm is often used. Exposure can also be performed using an imaging device described in JP-A-6-186750. In the present invention, at the time of laser irradiation, a heating process can be performed between the laser irradiation step and the printing step for the purpose of reducing the laser energy required for recording. Preferred conditions for the heat treatment are 80 ° C to 15 ° C.
10 seconds to 5 minutes in the range of 0 ° C. This image recording step can also be performed after the lithographic printing plate precursor has been mounted on a printing press. In that case, as described later, printing can be performed as it is after image recording.

【0136】(印刷工程)本発明の感熱性平版印刷版原
版は、画像記録された印刷原版をそれ以上の処理なしに
印刷機に装着し、湿し水及びインクを用いた通常の平版
印刷、または、特公昭49−26844号公報、特公昭
49−27124号公報、特公昭49−27125号公
報、特開昭53−36307号公報、特開昭53−36
308号公報、特公昭61−52867号公報、特開昭
58−2114844号公報、特開昭53−27803
号公報、特開昭53−29807号公報、特開昭54−
146110号公報、特開昭57−212274号公
報、特開昭58−37069号公報、特開昭54−10
6305号公報などに記載のエマルジョンインクを用い
た湿し水を用いない簡易な平版印刷を実施することが可
能である。
(Printing Step) The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention is prepared by mounting a printing plate precursor on which an image has been recorded into a printing machine without any further processing, and performing normal lithographic printing using dampening solution and ink. Or JP-B-49-26844, JP-B-49-27124, JP-B-49-27125, JP-A-53-36307, and JP-A-53-36.
No. 308, JP-B-61-52867, JP-A-58-2114844, and JP-A-53-27803.
JP, JP-A-53-29807, JP-A-54-29807
146110, JP-A-57-212274, JP-A-58-37069, JP-A-54-10
It is possible to perform simple lithographic printing using an emulsion ink described in JP-A-6305 and the like without using dampening water.

【0137】画像記録された印刷原版をそれ以上の処理
なしに印刷機に装着し、印刷を開始すると、感熱記録層
の露光部(加熱部)においては、スルホン酸が発生して
いるため、版上に供給された湿し水等の親水性液体によ
り、露光部(加熱部)の感熱記録層が溶解あるいは分散
除去(機上現像)され、その部分において親水性表面が
露出する。湿し水等の親水性液体は、露出した親水性表
面上に付着し、インクは、非露光部(非加熱部)の感熱
記録層に着肉し印刷が開始される。湿し水とインクを用
いた通常の平版印刷を実施する場合は、上記露光部(加
熱部)の感熱記録層を効率的に版面より溶解あるいは分
散除去するために、湿し水を予め版面に供給した後、イ
ンクを供給することが好ましい。
When the printing original plate on which the image was recorded was mounted on a printing press without further processing and printing was started, sulfonic acid was generated in the exposed portion (heating portion) of the heat-sensitive recording layer. The heat-sensitive recording layer in the exposed portion (heating portion) is dissolved or dispersed and removed (on-press development) by the hydrophilic liquid such as dampening solution supplied above, and the hydrophilic surface is exposed in that portion. A hydrophilic liquid such as a fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the ink is deposited on a heat-sensitive recording layer in a non-exposed portion (non-heated portion) to start printing. When performing normal lithographic printing using a dampening solution and ink, in order to efficiently dissolve or disperse the heat-sensitive recording layer of the above-mentioned exposed portion (heating portion) from the plate surface, apply dampening solution to the plate surface in advance. After the supply, the ink is preferably supplied.

【0138】〔エマルジョンインク〕また、上記の本発
明に使用可能なエマルジョンインクは、油性インク成分
に、親水性成分を加え、乳化したエマルジョンインクで
あり、W/O(water in oil)型であっても、O/W
(oil in water)型であっても良い。また、本発明に用
いるエマルジョンインクは、インク缶内での保存状態及
び印刷に適用した時の印刷機のインク壺内では、安定な
乳化状態を保持し、印刷時、シェアー(剪断力)を受け
ながらインキングシステムを転移し、インク付けローラ
ーに達した時点では、乳化が破壊され親水性成分が分離
し、版面上に供給される。版面においては、非画像部領
域に親水性成分が付着し、液膜を形成し、油性インク成
分の付着が防止され、一方、画像部領域には、油性イン
ク成分が付着する。このような機能を有するエマルジョ
ンインクであれば、特に限定されることなく本発明に使
用することができる。また、本発明に用いるエマルジョ
ンインクが上記機能を発現するために、インキングシス
テムに冷却機構の付いた印刷機を用いることがより好ま
しい。
[Emulsion Ink] The emulsion ink which can be used in the present invention is an emulsion ink obtained by adding a hydrophilic component to an oil-based ink component, and is a W / O (water in oil) type. O / W
(Oil in water) type. Further, the emulsion ink used in the present invention maintains a stable emulsified state in an ink fountain of a printing press when applied to printing in a storage state in an ink can and receives a shear (shear force) during printing. At the time when the inking system is transferred to the inking roller, the emulsification is broken and the hydrophilic component is separated and supplied onto the plate surface. On the plate surface, the hydrophilic component adheres to the non-image area to form a liquid film, thereby preventing the oil-based ink component from adhering. On the other hand, the oil-based ink component adheres to the image area. Any emulsion ink having such a function can be used in the present invention without any particular limitation. Further, in order for the emulsion ink used in the present invention to exhibit the above function, it is more preferable to use a printing machine equipped with a cooling mechanism in the inking system.

【0139】本発明のエマルジョンインクの油性インク
成分と親水性成分の割合は、油性インク成分100重量
部に対し、親水性成分5〜150重量部であり、好まし
くは、10〜120重量部、さらに好ましくは、20〜
100重量部である。本発明のエマルジョンインクの油
性インク成分としては、植物油、合成樹脂ワニスまた
は、天然樹脂ワニス、あるいは、それらの合成ワニス、
高沸点石油系溶剤、顔料、その他添加剤(耐摩擦向上
剤、インクドライヤー、乾燥抑制剤など)からなる通常
の油性インクを用いることができる。
The proportion of the oily ink component and the hydrophilic component in the emulsion ink of the present invention is 5 to 150 parts by weight, preferably 10 to 120 parts by weight, based on 100 parts by weight of the oily ink component. Preferably, 20 to
100 parts by weight. As the oily ink component of the emulsion ink of the present invention, vegetable oil, synthetic resin varnish or natural resin varnish, or a synthetic varnish thereof,
An ordinary oil-based ink comprising a high-boiling petroleum solvent, a pigment, and other additives (such as a friction resistance improver, an ink dryer, and a drying inhibitor) can be used.

【0140】本発明に用いうるエマルジョンインクの親
水性成分としては、水及び/又は多価アルコール類を用
いることができる。多価アルコール類としては、例え
ば、グリセリン、ジグリセリン、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、ヘキシレングリコール、ソルビトー
ル、ブタンジオール、ペンタンジオール等が挙げられ
る。なかでも、グリセリン、、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコールが好ましく使用できる。多価アルコール
は、1種単独で用いても、2種以上を混合して用いても
良く、さらに、水と混合して用いても良い。親水性成分
中の多価アルコール類の好ましい含有量は、30〜10
0重量%であることが好ましく、50〜100重量%で
あることがさらに好ましい。親水性成分としては、上記
以外に、乳化安定性の向上、流動特性の改良、親水性の
向上、親水性成分の蒸発の抑制等を目的として、添加剤
を使用することができる。例えば、メタノール、エタノ
ール等の1価のアルコール類、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン等のアミノアルコール類、ノニオン
系、アニオン系、カチオン系、ベタイン系の公知の界面
活性剤、グリコール酸、乳酸、クエン酸等のオキシカル
ボン酸類、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ア
ラビアガム、カルボキシメチルセルロース等の親水性高
分子類、リン酸、ケイ酸、硝酸、及びそれらの塩等の無
機酸及び無機塩類等が挙げられる。
As the hydrophilic component of the emulsion ink that can be used in the present invention, water and / or polyhydric alcohols can be used. As polyhydric alcohols, for example, glycerin, diglycerin, ethylene glycol,
Examples thereof include diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, sorbitol, butanediol, and pentanediol. Among them, glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol can be preferably used. The polyhydric alcohol may be used singly, or two or more kinds may be used as a mixture. Further, the polyhydric alcohol may be used as a mixture with water. The preferred content of the polyhydric alcohol in the hydrophilic component is 30 to 10
The content is preferably 0% by weight, more preferably 50 to 100% by weight. In addition to the above, additives can be used as the hydrophilic component for the purpose of improving emulsion stability, improving flow characteristics, improving hydrophilicity, suppressing evaporation of the hydrophilic component, and the like. For example, monohydric alcohols such as methanol and ethanol, monoethanolamine,
Amino alcohols such as diethanolamine, nonionic, anionic, cationic and betaine known surfactants, oxycarboxylic acids such as glycolic acid, lactic acid and citric acid, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, gum arabic and carboxymethylcellulose And inorganic acids and salts such as phosphoric acid, silicic acid, nitric acid, and salts thereof.

【0141】また、本発明の感熱性平版印刷版原版は、
日本特許2938398号に記載されているように、印
刷機シリンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭載され
たレーザーにより画像記録し、その後に、上記と同様
に、機上現像し、印刷することも可能である。また、本
発明の感熱性平版印刷版原版は、画像記録された印刷原
版を、水または適当な水溶液(例えば、湿し水)を用い
て、露光部(加熱部)の感熱記録層を溶解あるいは分散
除去(現像)した後、上記と同様に印刷にすることもで
きる。
Further, the heat-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention comprises:
As described in Japanese Patent No. 2938398, after mounting on a printing press cylinder, an image is recorded by a laser mounted on the printing press, and then, on-press development and printing can be performed in the same manner as described above. It is possible. Further, the heat-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention is obtained by dissolving the heat-sensitive recording layer of an exposed portion (heating portion) by using water or an appropriate aqueous solution (for example, fountain solution) with the printing original plate on which an image is recorded. After dispersion removal (development), printing can be performed in the same manner as described above.

【0142】[0142]

〔実施例1〜13〕[Examples 1 to 13]

(支持体の作成)両面にコロナ処理を施した厚さ180
μmのポリエチレンテレフタレートの両面に、下記の塗
布液を塗布、加熱乾燥(180℃、30秒)し、乾燥膜
厚0.2g/m2の帯電防止層を形成した。 (帯電防止層塗布液) ・アクリル樹脂水分散液 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 20g ・酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 (平均粒径:0.1μm、17重量%) 30g ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル (ノニポール100、三洋化成工業(株)製) 0.6g ・アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩水溶液 (サンデットBL、濃度40重量%、三洋化成工業(株)製) 0.6g ・メラミン化合物 0.2g (スミテックスレジンM−3、 有効成分濃度80重量%、住友化学工業(株)製) ・シリカゲル20%水分散液 17g (スノーテックスC(日産化学工業(株)製、平均粒子径約10nm) ・水 42.4g
(Preparation of support) Thickness 180 with corona treatment on both sides
The following coating solution was applied to both surfaces of a polyethylene terephthalate having a thickness of μm and dried by heating (180 ° C., 30 seconds) to form an antistatic layer having a dry film thickness of 0.2 g / m 2. (Antistatic layer coating solution) Acrylic resin aqueous dispersion (Julima ET-410, solid content 20% by weight, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 20 g tin oxide-antimony oxide aqueous dispersion (average particle size: 0. 1 μm, 17% by weight) 30 g ・ Polyoxyethylene nonylphenyl ether (Nonipol 100, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.6 g ・ Alkyl diphenyl ether disulfonate sodium salt aqueous solution (Sandet BL, concentration: 40% by weight, Sanyo Chemical Industries ( 0.6g-Melamine compound 0.2g (Sumitec Resin M-3, active ingredient concentration 80% by weight, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)-20% silica gel aqueous dispersion 17g (Snowtex C (Nissan) (Manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., average particle size: about 10 nm) 42.4 g of water

【0143】次いで、上記のポリエチレンテレフタレー
トの片側に、下記の塗布液を塗布し、加熱乾燥(100
℃、10分)することにより、乾燥重量5g/m2の親
水性層を形成した。 (親水性層塗布液) ・酸化チタン20%/ポリビニルアルコール10%水分散液 8g (酸化チタン(和光純薬(株)製、ルチル型、平均粒径200nm) /PVA117(クラレ(株)製)=2/1重量比) ・メタノールシリカ 8g (日産化学製:10nm〜20nmのシリカ粒子を30重量% 含有するメタノール溶液からなるコロイド) ・ゾル−ゲル調製液(下記組成) 4.7g ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル (ノニポール100、三洋化成工業(株)製) 0.025g ・水 15g ・メタノール 5g
Next, the following coating solution was applied to one side of the above polyethylene terephthalate, and dried by heating (100
C. for 10 minutes) to form a hydrophilic layer having a dry weight of 5 g / m 2 . (Hydrophilic layer coating liquid) 8 g of aqueous dispersion of titanium oxide 20% / polyvinyl alcohol 10% (titanium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., rutile type, average particle diameter 200 nm)) / PVA117 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) = 2/1 weight ratio)-8 g of methanol silica (Nissan Chemical: colloid consisting of a methanol solution containing 30% by weight of silica particles of 10 nm to 20 nm)-Sol-gel preparation liquid (the following composition) 4.7 g-Polyoxy Ethylene nonyl phenyl ether (Nonipol 100, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.025 g ・ water 15 g ・ methanol 5 g

【0144】(ゾル−ゲル調製液の作成)下記組成の液
を室温において、1時間熟成してゾル−ゲル調製液を作
成した。 ・テトラエトキシシラン 8.5g ・メタノール 1.8g ・水 15.0g ・リン酸 0.015g
(Preparation of sol-gel preparation liquid) A liquid having the following composition was aged at room temperature for 1 hour to prepare a sol-gel preparation liquid. -8.5 g of tetraethoxysilane-1.8 g of methanol-15.0 g of water-0.015 g of phosphoric acid

【0145】(感熱記録層の形成)次いで、上記ポリエ
チレンテレフタレート支持体の親水性層の上に、下記の
感熱記録層塗布液を塗布、乾燥(100℃、2分)する
ことにより、乾燥塗布重量0.6g/m2の感熱記録層
を形成して、各々の平版印刷版原版を得た。 (感熱記録層塗布液) ・表1のスルホン酸発生型高分子化合物(平均分子量約3万) 1.0g ・表1の有機アミン化合物 (表1に記載の量) ・赤外線吸収剤A(下記構造) 0.2g ・ ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 0.05g ・フッ素系界面活性剤 (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・メチルエチルケトン 15g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 4g ・メチルアルコール 7g ・ジメチルホムアミド 1g
(Formation of Thermosensitive Recording Layer) Then, the following thermosensitive recording layer coating solution was applied on the hydrophilic layer of the polyethylene terephthalate support and dried (at 100 ° C. for 2 minutes) to obtain a dry coating weight. A heat-sensitive recording layer of 0.6 g / m 2 was formed to obtain each lithographic printing plate precursor. (Coating solution for heat-sensitive recording layer) Sulfonic acid-generating polymer compound in Table 1 (average molecular weight: about 30,000) 1.0 g Organic amine compound in Table 1 (amount described in Table 1) Infrared absorber A (described below) Structure) 0.2 g ・ Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.05 g ・ Fluorinated surfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0 .02 g ・ Methyl ethyl ketone 15 g ・ Propylene glycol monomethyl ether 4 g ・ Methyl alcohol 7 g ・ Dimethylformamide 1 g

【0146】[0146]

【化25】 Embedded image

【0147】[0147]

【表1】 [Table 1]

【0148】(平版印刷版の作成) (レーザー露光)上記の平版印刷版原版の感熱記録層側
からCREO社の40Wトレンドセッター(40Wの8
30nm半導体レーザーを搭載プレートセッター)を用
い、200mJ/cm2のエネルギーで露光を行い、画
像記録を行った。
(Preparation of Lithographic Printing Plate) (Laser Exposure) A 40 W trend setter of CREO (40 W 8
Using a 30 nm semiconductor laser mounted plate setter), exposure was performed at an energy of 200 mJ / cm 2 to record an image.

【0149】(印刷評価)次いで、上記の画像記録した
平版印刷版原版をなんら処理することなく、ハイデルベ
ルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿
し水を供給した後、インクを供給し、さらに紙を供給し
て印刷を行った(使用した湿し水:EU−3(富士写真
フイルム(株)製)を1体積%、イソプロパノールを1
0体積%添加した水溶液、使用したインク:GEOS−
G墨(大日本インキ化学工業(株)製))ところ、非画
像部(露光部)の感熱記録層は、速やかに印刷機上にお
いて、版面より除去され、非画像部の汚れがなく、画像
部の耐刷性も問題のない2万枚の良好な印刷物が得られ
た。
(Printing evaluation) Next, the lithographic printing plate precursor on which the image was recorded was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without any processing, and after supplying dampening water, ink was supplied. Further, paper was supplied and printing was performed (fountain solution used: 1% by volume of EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and 1% by volume of isopropanol.
Aqueous solution with 0% by volume added, ink used: GEOS-
G ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) However, the heat-sensitive recording layer in the non-image area (exposed area) was promptly removed from the plate surface on the printing press, and there was no stain on the non-image area. As a result, 20,000 good prints having no problem in printing durability were obtained.

【0150】(比較例1)感熱記録層に、有機アミン化
合物を添加しない以外は、実施例9と同様にして、平版
印刷版原版を得た。次いで、実施例9と同様に、画像記
録を実施し、印刷機に取り付け、印刷を行ったところ、
非画像部(露光部)の感熱記録層の上部は、速やかに除
去されたものの、親水性層界面付近の感熱記録層が完全
には除去されず、印刷物の非画像部に、汚れが発生し、
良好な印刷物が得られなかった。
(Comparative Example 1) A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 9 except that no organic amine compound was added to the heat-sensitive recording layer. Next, image recording was performed in the same manner as in Example 9, the image was mounted on a printing machine, and printing was performed.
Although the upper part of the heat-sensitive recording layer in the non-image part (exposed part) was quickly removed, the heat-sensitive recording layer near the hydrophilic layer interface was not completely removed, and the non-image part of the printed matter was stained. ,
Good prints were not obtained.

【0151】(実施例14)湿し水を用いず、下記組成
のエマルジョンインクを用いて印刷した以外は、実施例
9と同様に、印刷を行ったところ、刷り出し初期に、非
画像部(露光部)の感熱記録層は、速やかに印刷機上に
おいて、版面より除去され、2万枚の非画像部の汚れの
ない良好な印刷物が得られた。
Example 14 Printing was carried out in the same manner as in Example 9 except that printing was performed using an emulsion ink having the following composition without using fountain solution. The heat-sensitive recording layer of the exposed portion) was promptly removed from the plate surface on the printing press, and 20,000 sheets of good printed matter without stain on the non-image portion were obtained.

【0152】 (エマルジョンインク組成1) [エマルジョンインクの調製] (1)ワニスの調製 (以下、部は、重量部を示す。) ワニスA :マレイン化石油樹脂 (ネオポリマー120:日本石油(株)製) 47部 スピンドル油 53部 ゲルワニスB :ロジン変性フェノール樹脂 (タマノール354:荒川化学工業(株)製) 34部 マシン油 31部 スピンドル油 31部 アルミニウムステアレート 4部 ワニスC :ギルソナイト 25部 マシン油 75部(Emulsion Ink Composition 1) [Preparation of Emulsion Ink] (1) Preparation of Varnish (Hereinafter, parts are by weight.) Varnish A: Maleated petroleum resin (Neopolymer 120: Nippon Oil Co., Ltd.) 47 parts Spindle oil 53 parts Gel varnish B: Rosin-modified phenolic resin (Tamanol 354: manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 34 parts Machine oil 31 parts Spindle oil 31 parts Aluminum stearate 4 parts Varnish C: Gilsonite 25 parts Machine oil 75 parts

【0153】 (2)油性インク成分の調製: カーボンブラッック 14部 炭酸カルシウム(白艶華DD:白石工業(株)製) 5部 ワニスA 27部 ゲルワニスB 7部 ワニスC 11部 アマニ油 4部 マシン油 6部 スピンドル油 24部 シアニンブルー 1部 (3)親水性成分の調製: 精製水 5部 エチレングリコール 25部 プロピレングリコール 35部 グリセリン 34部 界面活性剤(ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、 リポノックスNCE:ライオン油脂(株)製) 1部 (2)項の油性インク成分100重量部と(3)項の親
水性成分70重量部、を攪拌混合してW/O型エマルジ
ョンインクを調製した。
(2) Preparation of oil-based ink component: Carbon black 14 parts Calcium carbonate (Shirashina DD: manufactured by Shiraishi Industry Co., Ltd.) 5 parts Varnish A 27 parts Gel varnish B 7 parts Varnish C 11 parts Linseed oil 4 parts Machine Oil 6 parts Spindle oil 24 parts Cyanine blue 1 part (3) Preparation of hydrophilic component: Purified water 5 parts Ethylene glycol 25 parts Propylene glycol 35 parts Glycerin 34 parts Surfactants (polyoxyethylene alkyl phenyl ether, Liponox NCE: 1 part 100 parts by weight of the oil-based ink component (2) and 70 parts by weight of the hydrophilic component (3) were stirred and mixed to prepare a W / O emulsion ink.

【0154】(実施例15)以下のように形成した下塗
りアルミニウム基板を支持体として用いる以外は、実施
例9と同様にして、平版印刷版原版を得た。次いで、実
施例9と同様に、画像記録及び印刷を行ったところ、非
画像部(露光部)の感熱記録層は、速やかに印刷機上に
おいて、版面より除去され、2万枚の非画像部の汚れの
ない良好な印刷物が得られた。
(Example 15) A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 9, except that an undercoated aluminum substrate formed as described below was used as a support. Next, when image recording and printing were performed in the same manner as in Example 9, the heat-sensitive recording layer in the non-image area (exposed area) was promptly removed from the printing plate on the printing press, and 20,000 non-image areas were printed. And a good printed matter free of dirt was obtained.

【0155】(アルミニウム基板の作成)99.5重量
%アルミニウムに、銅を0.01重量%、チタンを0.
03重量%、鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%
含有するJISA1050アルミニウム材の厚み0.2
4mm圧延板を、400メッシュのパミストン(共立窯
業製)の20重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ
(6,10−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立て
した後、よく水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナ
トリウム水溶液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸
漬してアルミニウムの溶解量が5g/m2になるように
エッチングした後、流水で水洗した。更に、1重量%硝
酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウ
ム0.5重量%含有)中で、陽極時電圧10.5ボル
ト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電
流比r=0.90、特公昭58−5796号公報実施例
に記載されている電流波形)を用いて160クローン/
dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。水洗
後、35℃の10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸
漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるように
エッチングした後、水洗した。次に、50℃、30重量
%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗し
た。さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液(アルミニ
ウム0.8重量%含有)中で直流電流を用いて、多孔性
陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密度13A/
dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極酸化皮
膜重量2.7g/m2とした。この支持体を水洗後、7
0℃のケイ酸ナトリウムの0.2重量%水溶液に30秒
間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られ
たアルミニウム基板は、マクベスRD920反射濃度計
で測定した反射濃度は0.30で、中心線平均粗さRa
は0.58μmであった。
(Preparation of aluminum substrate) 0.01% by weight of copper and 0.1% by weight of titanium were added to 99.5% by weight of aluminum.
03% by weight, 0.3% by weight of iron, 0.1% by weight of silicon
Contain JISA1050 aluminum material thickness 0.2
The surface of a 4 mm rolled plate is grained using a 400-mesh aqueous suspension of pumicestone (manufactured by Kyoritsu Ceramics Co., Ltd.) and a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then thoroughly washed with water. did. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and washed with running water. Further, it is neutralized with 1% by weight nitric acid, and then, in a 0.7% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave having a voltage of 10.5 volts at the anode and a voltage of 9.3 volts at the cathode. Using an alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, current waveform described in Example of Japanese Patent Publication No. 58-5796), 160 clones /
Electrolytic surface-roughening treatment was performed with a dm 2 anode charge. After washing with water, the substrate was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 35 ° C., etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and then washed with water. Next, it was immersed in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C., desmutted, and washed with water. Further, a porous anodic oxide film forming treatment was performed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 35 ° C. using a direct current. That is, the current density is 13 A /
Electrolysis was performed at dm 2 , and the anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. After washing the support with water, 7
It was immersed in a 0.2% by weight aqueous solution of sodium silicate at 0 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried. The aluminum substrate obtained as described above had a reflection density of 0.30 measured with a Macbeth RD920 reflection densitometer and a center line average roughness Ra.
Was 0.58 μm.

【0156】(下塗り層の作成)上記、アルミニウム支
持体上に、下記の下塗り層塗布液を塗布、加熱乾燥(1
00℃,1分)することにより、乾燥塗布量0.05g
/m2の下塗り層を形成した。 (下塗り層塗布液) ・アラビアガム 1g ・水 1000g
(Preparation of Undercoat Layer) The following undercoat layer coating solution was coated on the aluminum support and dried by heating (1).
00 ° C, 1 minute) to obtain a dry coating amount of 0.05 g
/ M 2 undercoat layer. (Coating solution for undercoat layer) ・ Arabic gum 1g ・ Water 1000g

【0157】(実施例16)親水性層の形成を下記に変
える以外は、実施例9と各々同様にして、平版印刷版原
版を得た。次いで、実施例9と同様にして、画像記録及
び印刷を行ったところ、非画像部(露光部)の感熱記録
層は、速やかに印刷機上において、版面より除去され、
2万枚の非画像部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。 (親水性層の形成)帯電防止層上に、バッチ式スパッタ
成膜装置(芝浦エレテック製 CFS−10−EP7
0)を用い下記条件で厚さ20nmになるよう酸化ケイ
素を成膜し、親水性層を形成した。 ターゲット材:酸化ケイ素 雰囲気 :アルゴン 成膜時圧力 :5mtorr パワー :RF1kW(電源は日本電子製JRF−
3000)
Example 16 A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 9 except that the formation of the hydrophilic layer was changed as follows. Next, when image recording and printing were performed in the same manner as in Example 9, the heat-sensitive recording layer in the non-image portion (exposed portion) was promptly removed from the printing plate on a printing press.
20,000 sheets of good printed matter without stain on the non-image area were obtained. (Formation of hydrophilic layer) On the antistatic layer, a batch type sputtering film forming apparatus (CFS-10-EP7 manufactured by Shibaura Eletech Co., Ltd.)
Using 0), a silicon oxide film was formed to a thickness of 20 nm under the following conditions to form a hydrophilic layer. Target material: silicon oxide Atmosphere: argon Film formation pressure: 5 mtorr Power: RF1 kW (power supply is JRF- manufactured by JEOL Ltd.)
3000)

【0158】なお、成膜前には帯電防止層表面を下記条
件でグロー処理した。 雰囲気 :アルゴン 処理時圧力 :5.0mtorr パワー :Rf3kW (電源は日本電子製JRF
−3000) 時間 :2.5分
Before the film formation, the surface of the antistatic layer was glow-treated under the following conditions. Atmosphere: argon Processing pressure: 5.0 mtorr Power: Rf3 kW (Power supply is JRF manufactured by JEOL Ltd.
-3000) Time: 2.5 minutes

【0159】[0159]

【発明の効果】本発明の感熱性平版印刷版原版によれ
ば、加熱、または、光熱変換により生じた熱により、高
感度で画像記録ができ、さらに、簡易な印刷機上処理に
より、非画像部における残膜の発生が抑制され、汚れの
ない良好な印刷物が得られる平版印刷版を提供し得る。
また、この感熱性平版印刷版を用いた製版・印刷方法に
よれば、記録後の平版印刷版は特段の現像処理を必要と
せず、高画質の印刷が可能となる。
According to the heat-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention, an image can be recorded with high sensitivity by heating or heat generated by light-to-heat conversion. It is possible to provide a lithographic printing plate in which the generation of a residual film in a portion is suppressed, and a good printed matter without stain is obtained.
Further, according to the plate making / printing method using the heat-sensitive lithographic printing plate, the lithographic printing plate after recording does not require a special developing process, and can perform high-quality printing.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD03 BH03 CB41 CC11 CC20 FA10 2H084 AA14 AA38 BB02 BB13 CC05 CC12 2H096 AA06 BA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA01 BA10 DA32 DA52 DA53 EA01 EA02 FA16  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD03 BH03 CB41 CC11 CC20 FA10 2H084 AA14 AA38 BB02 BB13 CC05 CC12 2H096 AA06 BA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA01 FA10 DA32 DA52 DA53

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性表面を有する支持体上に、(A)
加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有する高分
子化合物、及び(B)有機アミン化合物を含有する感熱
記録層を設けてなる平版印刷版原版。
1. A method according to claim 1, wherein (A) is provided on a support having a hydrophilic surface.
A lithographic printing plate precursor comprising a heat-sensitive recording layer containing a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating and (B) an organic amine compound.
【請求項2】 前記加熱によりスルホン酸を発生させる
官能基が、一般式(1)、一般式(2)又は一般式
(3)で表される官能基の少なくとも1種であることを
特徴とする請求項1の平版印刷版原版。 一般式(1) −L−SO2−O−R1 一般式(2) −L−SO2−SO2−R2 【化1】 (式中、Lは一般式(1)、一般式(2)又は一般式
(3)で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに
必要な非金属原子からなる多価の有機基を表し、R1
アリール基、アルキル基又は環状イミド基を示し、
2、R3はアリール基又はアルキル基を示し、R4はア
リール基、アルキル基又は−SO2−R5を示し、R5
アリール基又はアルキル基を示す。)
2. The functional group which generates sulfonic acid by heating is at least one of functional groups represented by the general formula (1), the general formula (2) or the general formula (3). The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1. General formula (1) -L-SO 2 -OR 1 General formula (2) -L-SO 2 -SO 2 -R 2 (In the formula, L represents a polyvalent organic group comprising a nonmetallic atom necessary for connecting the functional group represented by the general formula (1), (2) or (3) to the polymer skeleton. , R 1 represents an aryl group, an alkyl group or a cyclic imide group,
R 2, R 3 represents an aryl group or an alkyl group, R 4 represents an aryl group, an alkyl group or -SO 2 -R 5, R 5 represents an aryl group or an alkyl group. )
【請求項3】 前記感熱記録層が、さらに(C)光熱変
換物質を含有することを特徴とする請求項1又は請求項
2に記載の平版印刷版原版。
3. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the heat-sensitive recording layer further contains (C) a light-to-heat conversion material.
【請求項4】 請求項3に記載の感熱性平版印刷版原版
をレーザー光によって画像露光し、そのまま印刷機に取
り付けて印刷するか、又は印刷機に取り付けた後に、印
刷機上でレーザー光によって露光し、そのまま印刷する
ことを特徴とする感熱性平版印刷版原版の製版・印刷方
法。
4. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to claim 3 is image-exposed by a laser beam and is directly mounted on a printing machine for printing, or is mounted on the printing machine, and then is irradiated with the laser beam on the printing machine. A method of making and printing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor characterized by exposing and printing as it is.
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