JP2002019319A - Method for lithographic printing - Google Patents

Method for lithographic printing

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JP2002019319A
JP2002019319A JP2000207154A JP2000207154A JP2002019319A JP 2002019319 A JP2002019319 A JP 2002019319A JP 2000207154 A JP2000207154 A JP 2000207154A JP 2000207154 A JP2000207154 A JP 2000207154A JP 2002019319 A JP2002019319 A JP 2002019319A
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lithographic printing
hydrophilic
image
recording layer
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JP2000207154A
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Japanese (ja)
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Noribumi Inno
紀文 因埜
Koichi Kawamura
浩一 川村
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for lithographic printing capable of simply and stably obtaining many printed products without using a dampening water by applying to a thermosensitive lithographic printing plate original plate capable of being platemade by simple on-press treating. SOLUTION: The method for lithographic printing comprises the steps of recording an image on the thermosensitive lithographic printing plate original plate having a recording layer containing a polymer compound having a functional group for generating a sulfonic acid represented by the formula (1), (2) or (3) (wherein L is a polyvalent organic group made of a nonmetallic atom necessary to couple the functional group to a polymer skeleton) by heating and a photothermal conversion substance as desired on a support having a hydrophilic surface, and then printing by using an emulsion ink.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感熱性平版印刷版
を用いた印刷方法に関するものである。より詳しくは、
ディジタル信号に基づいた走査露光による画像記録が可
能であり、簡易な印刷機上処理により製版可能な平版印
刷版原版を、湿し水を用いることなく、安定して良好な
印刷物を得ることができる平版印刷方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printing method using a heat-sensitive lithographic printing plate. More specifically,
An image can be recorded by scanning exposure based on a digital signal, and a lithographic printing plate precursor that can be made by simple on-press processing can be stably obtained in good quality without using dampening solution. It relates to a lithographic printing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
キを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷とは、水と
油性インキが互いに反発する性質を利用して、親油性の
画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容
部(インキ非受容部)として、版表面にインキの付着性
の差異を生じせしめ、画像部のみにインキを着肉させた
後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法で
あり、従来は、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層
を設けたPS版が広く用いられている。その製版方法と
して、通常は、平版印刷版原版を、リスフイルムなどの
原画を通して露光を行った後、画像部には感光層を残存
させ、非画像部を現像液によって溶解除去してアルミニ
ウム基板表面を露出させる方法が適用されており、この
方法により所望の印刷版を得ている。
2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area receiving fountain solution. Such lithographic printing utilizes the property that water and oil-based ink repel each other, so that a lipophilic image area is an ink receiving area and a hydrophilic non-image area is a dampening water receiving area (ink non-receiving area). This is a method in which the difference in the adhesion of ink is caused on the plate surface, the ink is applied only to the image area, and then the ink is transferred to a printing material such as paper and printed. PS plates in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a support are widely used. As the plate making method, usually, a lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lith film, and then the photosensitive layer is left in the image area, and the non-image area is dissolved and removed with a developing solution to remove the aluminum substrate surface. Is applied, and a desired printing plate is obtained by this method.

【0003】従来のPS版に於ける製版工程において
は、露光の後、非画像部を感光層に応じた現像液などに
より溶解除去する工程が必要であり、このような付加的
な湿式の処理を不要化又は簡易化することが一つの課題
である。特に近年は、地球環境への配慮から湿式処理に
伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心
事となっているので、この面での改善の要請は一層強く
なっている。
In the plate making process of the conventional PS plate, a step of dissolving and removing the non-image portion with a developing solution corresponding to the photosensitive layer after exposure is necessary. One of the problems is to eliminate or simplify the method. In particular, in recent years, the disposal of waste liquid discharged from wet processing has become a major concern of the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for improvement in this aspect has been further increased.

【0004】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、印刷版用原版の非画像部の除去を通常の印刷過程
の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機
上で現像し、最終的な印刷版を得る方法が提案されてい
る。このような方法による平版印刷版の製版方式は機上
現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例えば、湿
し水やインキ溶剤に可溶な画像記録層の使用、印刷機中
の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を行
う方法等が挙げられる。しかしながら、従来の紫外線や
可視光を利用した画像記録方式の機上現像法は、露光後
も、画像記録層が定着されないため、例えば、印刷機に
装着するまでの間、原版を完全に遮光状態又は恒温条件
で保存する、といった手間のかかる方法をとる必要があ
った。
[0004] As one of the simple plate making methods responding to this demand, an image recording layer is used which enables the non-image portion of the printing plate precursor to be removed in a normal printing process. And a method for obtaining a final printing plate has been proposed. The lithographic printing plate making method by such a method is called an on-press development method. Specific examples of the method include a method of using an image recording layer soluble in a fountain solution or an ink solvent, and a method of mechanically removing the image recording layer by contact with an impression cylinder or a blanket cylinder in a printing press. However, in the conventional on-press developing method of an image recording method using ultraviolet light or visible light, the image recording layer is not fixed even after exposure, so that, for example, the original plate is completely shielded from light until it is mounted on a printing press. Alternatively, it was necessary to take a time-consuming method such as preservation under constant temperature conditions.

【0005】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及して
きており、このような、ディジタル化技術に対応した、
新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきて
いる。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線
にディジタル化された画像情報を担持してこの光で原版
を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印
刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注
目されている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版
用原版を得ることが重要な技術課題となっている。した
がって、製版作業の簡素化、乾式化、無処理化は、上記
した環境面と、ディジタル化への適合化の両面から、従
来にも増して、強く望まれるようになっている。
On the other hand, another trend in this field in recent years is that digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread. Technology,
Various new image output methods have come into practical use. Along with this, a computer / computer for manufacturing a printing plate directly without carrying a lithographic film by carrying digitized image information on highly convergent radiation such as laser light and scanning and exposing the original with this light. Attention has been focused on to-plate technology. Accordingly, obtaining a printing plate precursor suitable for this purpose has become an important technical problem. Therefore, simplification, dry processing, and non-processing of plate making operations are more and more desired than ever in view of both the above-mentioned environmental aspects and adaptation to digitalization.

【0006】デジタル化技術に組み込みやすい走査露光
による印刷版の製造方法として、最近、半導体レーザ、
YAGレーザ等の固体レーザで高出力のものが安価に入
手できるようになってきたことから、特に、これらのレ
ーザを画像記録手段として用いる製版方法が有望視され
るようになっている。従来方式の製版方法では、感光性
原版に低〜中照度の像様露光を与えて光化学反応による
原版面の像様の物性変化によって画像記録を行っている
が、高出力レーザを用いた高パワー密度の露光を用いる
方法では、露光領域に極短時間に大量の光エネルギーを
集中照射して、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに
変換し、その熱により化学変化、相変化、形態や構造の
変化などの熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利
用する。つまり、画像情報はレーザー光などの光エネル
ギーによって入力されるが、画像記録は熱エネルギーに
よる反応によって記録される。通常、このような高パワ
ー密度露光による発熱を利用した記録方式をヒートモー
ド記録と呼び、光エネルギーを熱エネルギーに変えるこ
とを光熱変換と呼んでいる。
Recently, as a method of manufacturing a printing plate by scanning exposure, which is easy to incorporate into digital technology, semiconductor lasers,
Since high-power solid-state lasers such as YAG lasers have become available at low cost, plate-making methods using these lasers as image recording means have become particularly promising. In the conventional plate making method, image recording is performed by giving imagewise exposure of the photosensitive original plate at low to medium illuminance and changing the imagewise physical properties of the original plate surface by a photochemical reaction. In the method using high-density exposure, a large amount of light energy is intensively irradiated onto the exposed area in a very short time, the light energy is efficiently converted to heat energy, and the heat causes a chemical change, phase change, morphological or structural change. A thermal change such as a change is caused, and the change is used for image recording. That is, image information is input by light energy such as laser light, while image recording is recorded by a reaction by heat energy. Usually, a recording method using heat generated by such high power density exposure is called heat mode recording, and converting light energy to heat energy is called photothermal conversion.

【0007】ヒートモード記録手段を用いる製版方法の
大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光
では感光せず、また高照度露光によって記録された画像
は定着が必須ではないことにある。つまり、画像記録に
ヒートモード感材を利用すると、露光前には、室内光に
対して安全であり、露光後にも画像の定着は必須ではな
い。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化若
しくは可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録
層を像様に除去して印刷版とする製版工程を機上現像方
式で行えば、現像、即ち、非画像部の除去は、画像露光
後ある時間、たとえ室内の環境光に暴露されても、画像
が影響を受けないような印刷システムが可能となる。従
ってヒートモード記録を利用すれば、機上現像方式に望
ましい平版印刷版用原版を得ることも可能となると期待
される。
A great advantage of the plate making method using the heat mode recording means is that the plate making method is not sensitive to light having a normal illuminance level such as room illumination, and that an image recorded by high illuminance exposure does not require fixing. . In other words, if a heat mode photosensitive material is used for image recording, it is safe against room light before exposure, and fixing of an image after exposure is not essential. Therefore, for example, using an image recording layer that is insolubilized or solubilized by heat mode exposure, if the plate making process of removing the exposed image recording layer imagewise to make a printing plate by an on-press development method, development, that is, Removal of the non-image areas allows for a printing system in which the image is not affected for some time after image exposure, even if exposed to room ambient light. Therefore, the use of heat mode recording is expected to make it possible to obtain a lithographic printing plate precursor that is desirable for an on-press development system.

【0008】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の基板上に疎水性の
画像記録層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎水
性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式現
像により非画像部を除去する方法が提案されている。こ
のような原版の例として、例えば、特公昭46−279
19号には、親水性支持体上に、熱により溶解性が向上
するいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖類や
メラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有する
記録層を設けた原版をヒートモード記録することによっ
て、印刷版を得る方法が開示されている。
[0008] As one of the preferred methods for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording, a hydrophobic image recording layer is provided on a hydrophilic substrate, and is subjected to heat mode exposure in the form of an image. A method has been proposed in which the dispersibility is changed and, if necessary, the non-image areas are removed by wet development. As an example of such an original plate, for example, Japanese Patent Publication No. 46-279
No. 19 discloses an original plate in which a recording layer having a so-called positive action in which solubility is improved by heat, specifically a recording layer having a specific composition such as a saccharide or a melamine formaldehyde resin, is provided on a hydrophilic support. A method of obtaining a printing plate by performing heat mode recording is disclosed.

【0009】しかしながら、開示された記録層はいずれ
も感熱性が十分でないため、ヒートモード走査露光に対
しては、感度が不十分であった。また、露光前後の疎水
性/親水性のディスクリミネーション、即ち、溶解性の
変化が小さいことも、実用上問題であった。ディスクリ
ミネーションが乏しければ、機上現像方式の製版を行う
ことは実質的に困難である。
However, none of the disclosed recording layers has sufficient heat sensitivity, and thus has insufficient sensitivity to heat mode scanning exposure. In addition, the hydrophobic / hydrophilic discrimination before and after exposure, that is, a small change in solubility was also a practical problem. If discrimination is poor, it is practically difficult to make plate making by the on-press development system.

【0010】また、WO98/40212号公報には、
遷移金属酸化物コロイドからなる親水層が、光熱変換剤
を含有するインキ受容性層を塗布した基板上に設けられ
た、現像することなしに製版することが可能な平版印刷
版原版が開示されている。これは、露光部において光熱
変換剤により発生した熱により、遷移金属酸化物コロイ
ドからなる親水層がアブレーション(飛散)して除去さ
れるものである。しかし、基板側に光熱変換剤が存在し
ているので、吸収光から変換した熱が基板側に発散し、
その為コロイドからなる親水層のアブレーションに有効
に利用することが出来ず、感度が低いという欠点を有し
ていた。その他特開昭55−105560号公報やWO
94/18005号公報には、前記と同様にアブレーシ
ョンする親水層が、親油性の光熱変換層が塗布された基
板上に設けられた平版印刷版原版が開示されている。い
ずれも上記と同様な理由で低感度であった。
[0010] WO 98/40212 discloses that
A lithographic printing plate precursor is disclosed, in which a hydrophilic layer composed of a transition metal oxide colloid is provided on a substrate coated with an ink-receiving layer containing a photothermal conversion agent, and can be made without development. I have. This is because the hydrophilic layer composed of the transition metal oxide colloid is ablated (scattered) and removed by the heat generated by the photothermal conversion agent in the exposed portion. However, since the photothermal conversion agent exists on the substrate side, the heat converted from the absorbed light diverges to the substrate side,
Therefore, it cannot be effectively used for ablation of a hydrophilic layer made of a colloid, and has a disadvantage of low sensitivity. In addition, JP-A-55-105560 and WO
No. 94/18005 discloses a lithographic printing plate precursor in which a hydrophilic layer to be ablated in the same manner as described above is provided on a substrate coated with a lipophilic light-to-heat conversion layer. All were low sensitivity for the same reason as above.

【0011】WO99/19143号公報やWO99/
19144公報には上記のアブレーションする感熱性平
版印刷用原版の低感度であるという欠点を改良する目的
で、上層のコロイドからなる親水層に光熱変換剤が添加
された平版印刷版原版が開示されている。この構成によ
れば感度は確かに向上するものの、光熱変換剤が親水層
に添加されたため、親水層の膜質が低下して耐刷力が低
下したり、場合によっては親水層の親水性が損われ、印
刷途中で非画像部がインキで汚染される等の問題が新た
に発生した。
[0011] WO 99/19143 and WO 99/19143
JP 19144 discloses a lithographic printing plate precursor in which a photothermal conversion agent is added to a hydrophilic layer composed of an upper colloid for the purpose of improving the disadvantage of low sensitivity of the heat-sensitive lithographic printing plate precursor to be ablated. I have. According to this configuration, although the sensitivity is certainly improved, since the photothermal conversion agent is added to the hydrophilic layer, the film quality of the hydrophilic layer is reduced and the printing durability is reduced, and in some cases, the hydrophilicity of the hydrophilic layer is impaired. This causes another problem that the non-image area is contaminated with ink during printing.

【0012】また、このような構成の感熱性平版印刷用
原版では、親水層をアブレーションによって除去するた
め、飛散した親水層の断片によりレーザー露光装置や光
源が汚染される懸念があり、このため、これらの装置に
はアブレーションカス捕捉装置を設ける必要があり、装
置が複雑化するとともに、たとえ捕捉装置を設けても汚
染物完全に取り除くことは困難であり、露光装置や光源
の定期的なメンテナンスが必要であった。
Further, in the heat-sensitive lithographic printing plate precursor having such a configuration, since the hydrophilic layer is removed by ablation, there is a concern that the laser exposure device and the light source may be contaminated by fragments of the scattered hydrophilic layer. These devices need to be equipped with an ablation waste trapping device, which complicates the device and makes it difficult to completely remove contaminants even with the trapping device. Was needed.

【0013】ヒートモードの画像記録を利用する製版・
印刷方法は、版下からフィルムを介するといった工程を
経ることなく直接に刷版を作ることができ、したがって
機上で製版することも可能であり、湿式の現像操作を省
くこともできるなどの利点を持ちながら、上記したよう
な欠点を有している。
Plate making using heat mode image recording
The printing method has the advantage that the printing plate can be made directly without going through the process of passing through the film from under the plate, so that the plate can be made on-press and the wet development operation can be omitted. And has the above-mentioned disadvantages.

【0014】一方、湿し水を用いない簡易な平版印刷の
方式として、特公昭49−26844号公報、特公昭4
9−27124号公報、特公昭49−27125号公
報、特開昭53−36307号公報、特開昭53−36
308号公報、特公昭61−52867号公報、特開昭
58−2114844号公報、特開昭53−27803
号公報、特開昭53−29807号公報、特開昭54−
146110号公報、特開昭57−212274号公
報、特開昭58−37069号公報、特開昭54−10
6305号公報などには、エマルジョンインキを用いた
平版印刷が提案されている。これら、エマルジョンイン
キは、含水インキのエマルジョンであり、版面上で水と
インキが分離されるため、インキの側から水が供給で
き、したがって、印刷機から湿し水を供給する必要のな
いことが特徴である。
On the other hand, as a method of simple lithographic printing without using dampening water, Japanese Patent Publication No. 49-26844 and Japanese Patent Publication No. Sho 4
9-27124, JP-B-49-27125, JP-A-53-36307, and JP-A-53-36.
No. 308, JP-B-61-52867, JP-A-58-2114844, and JP-A-53-27803.
JP, JP-A-53-29807, JP-A-54-29807
146110, JP-A-57-212274, JP-A-58-37069, JP-A-54-10
No. 6305 proposes lithographic printing using emulsion ink. These emulsion inks are emulsions of water-containing inks, and since water and ink are separated on the plate surface, water can be supplied from the ink side. It is a feature.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
のレーザー露光を用いるヒートモードの製版方法の欠点
を解決し、さらに、簡易な印刷機上処理により製版可能
な感熱性平版印刷版原版に適用して、湿し水を用いるこ
となく、簡易に、安定した印刷物を多数枚得ることが可
能な平版印刷方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the drawbacks of the conventional heat mode plate making method using laser exposure, and furthermore, to provide a heat-sensitive lithographic printing plate precursor which can be made by simple on-press processing. An object of the present invention is to provide a lithographic printing method capable of easily obtaining a large number of stable prints without using dampening water.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者は、検討の結
果、記録層に加熱によりスルホン酸を発生させる官能基
を有する高分子化合物を含有させ、さらに、印刷におい
てエマルジョンインキを用いることにより、非画像部
(スルホン酸発生部)の記録層の除去を効率的に印刷機
上で行い得ることを見いだし、この発明を完成するに至
った。
As a result of the study, the present inventors have found that a recording layer contains a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid by heating, and further, by using an emulsion ink in printing. It has been found that the recording layer in the non-image area (sulfonic acid generating area) can be efficiently removed on a printing press, and the present invention has been completed.

【0017】すなわち、本発明の平版印刷方法は、親水
性表面を有する支持体上に、加熱によりスルホン酸を発
生させる官能基を有する高分子化合物を含有する記録層
を設けた感熱性平版印刷版原版に、画像記録を行った
後、油性インキ成分に水及び/又は多価アルコールを主
成分とする親水性成分を加え、乳化して得られたエマル
ジョンインキを用いて印刷することを特徴とする。ここ
で、前記加熱によりスルホン酸を発生させる官能基は、
下記一般式(1)、(2)又は(3)で表される官能基
から選択される少なくとも1種であることが好ましい態
様である。 一般式(1) −L−SO2−O−R1 一般式(2) −L−SO2−SO2−R2
That is, the lithographic printing method of the present invention provides a heat-sensitive lithographic printing plate comprising a support having a hydrophilic surface and a recording layer containing a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating. After the image is recorded on the master plate, water and / or a hydrophilic component containing a polyhydric alcohol as a main component are added to the oil-based ink component, and printing is performed using an emulsion ink obtained by emulsification. . Here, the functional group that generates sulfonic acid by heating is
In a preferred embodiment, at least one selected from functional groups represented by the following general formulas (1), (2) and (3). General formula (1) -L-SO 2 -OR 1 General formula (2) -L-SO 2 -SO 2 -R 2

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】(式中、Lは一般式(1)、一般式(2)
又は一般式(3)で示される官能基をポリマー骨格に連
結するのに必要な非金属原子からなる多価の有機基を表
し、R1はアリール基、アルキル基又は環状イミド基を
示し、R2、R3はアリール基又はアルキル基を示し、R
4はアリール基、アルキル基又は−SO2−R5を示し、
5はアリール基又はアルキル基を示す。) また、本発明の平版印刷方法では、前記記録層に、さら
に光熱変換物質を含有することで、レーザー光による画
像記録が可能となる。即ち、レーザー光の照射により、
露光部の光熱変換物質が発熱し、画像露光後に露光部に
おいて発生したスルホン酸により記録層の除去が可能と
なり、印刷時に前記エマルジョンインキを版面に供給す
ることにより、主にエマルジョンインキに含まれる親水
性成分の働きで露光部の記録層が除去されて非画像部が
形成され、この非画像部が水性成分を受容し、画像部の
記録層表面が親インキ層となり、印刷を行なうことがで
きるようになる。
(Where L is a general formula (1), a general formula (2)
Or a polyvalent organic group comprising a nonmetallic atom necessary for linking the functional group represented by the general formula (3) to the polymer skeleton; R 1 represents an aryl group, an alkyl group or a cyclic imide group; 2 and R 3 represent an aryl group or an alkyl group;
4 represents an aryl group, an alkyl group or -SO 2 -R 5,
R 5 represents an aryl group or an alkyl group. In the lithographic printing method of the present invention, the recording layer further contains a light-to-heat conversion material, thereby enabling image recording by laser light. That is, by irradiation of laser light,
The photothermal conversion material in the exposed area generates heat, and the recording layer can be removed by sulfonic acid generated in the exposed area after image exposure. By supplying the emulsion ink to the printing plate during printing, hydrophilicity mainly contained in the emulsion ink is obtained. The recording layer in the exposed area is removed by the action of the hydrophilic component to form a non-image area. The non-image area receives the aqueous component, and the recording layer surface in the image area becomes an ink-philic layer, and printing can be performed. Become like

【0020】本発明の平版印刷方法によれば、本発明の
方法が適用される感熱性平版印刷版原版の記録層は、加
熱により発生した酸の働きにより記録層の露光部が高度
に親水化され、可溶化或いは可分散化する画像記録機構
を採用しており、感度に優れ、且つ、アブレーションに
よる記録層の飛散がないため、記録層により光学系が汚
染される懸念がない。また、可溶化/可分散化された記
録層はわずかな親水性成分によっても容易に且つ完全に
除去されるため、非画像部に記録層の残存がなく、従っ
て、非画像部に汚れのないディスクリミネーションに優
れた画像の印刷物を容易に得ることができる。
According to the lithographic printing method of the present invention, the recording layer of the heat-sensitive lithographic printing plate precursor to which the method of the present invention is applied is such that the exposed portion of the recording layer is highly hydrophilic by the action of an acid generated by heating. In addition, since an image recording mechanism for solubilizing or dispersing is adopted, the sensitivity is excellent, and there is no scattering of the recording layer due to ablation. Therefore, there is no concern that the optical system is contaminated by the recording layer. Further, the solubilized / dispersible recording layer is easily and completely removed even by a slight hydrophilic component, so that the recording layer does not remain in the non-image portion, and therefore, the non-image portion has no stain. It is possible to easily obtain a printed matter of an image excellent in discrimination.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の印刷方法が適用される感熱
性平版印刷版原版は、その記録層中に、加熱によりスル
ホン酸を発生させる官能基を有する高分子化合物を含む
ものであり、赤外線レーザー照射により発生した熱、あ
るいはサーマルヘッド等による加熱により、記録層の露
光(加熱)領域において、スルホン酸が発生し、この部
分が高度に親水化し、印刷時に使用する流体であるエマ
ルジョンインキ、特に、以下に詳述する親水性成分によ
り、容易に溶解あるいは分散除去され、現像工程がなく
ても良好なポジ型画像が得られることが特徴である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor to which the printing method of the present invention is applied has a recording layer containing a polymer compound having a functional group that generates sulfonic acid by heating, and the heat generated by infrared laser irradiation. Alternatively, sulfonic acid is generated in the exposed (heated) area of the recording layer by heating with a thermal head or the like, and this part is highly hydrophilized, and an emulsion ink, which is a fluid used at the time of printing, is particularly described in detail below. It is characterized in that it is easily dissolved or dispersed and removed by the hydrophilic component, and a good positive image can be obtained without a developing step.

【0022】〔エマルジョンインキ〕本発明に用いるエ
マルジョンインキは、油性インキ成分に、親水性成分を
加え、乳化したエマルジョンインキであり、W/O(wa
ter in oil)型であっても、O/W(oil in water)型
であっても良い。また、本発明に用いるエマルジョンイ
ンキは、インキ缶内での保存状態及び印刷に適用した時
の印刷機のインキ壺内では、安定な乳化状態を保持し、
印刷時、シェアを受けながらインキングシステム(イン
キ供給システム)を転移し、インキ付けローラーに達し
た時点では、乳化が破壊され親水性成分が分離し、版面
上に供給される。版面においては、非画像部領域に親水
性成分が付着し、液膜を形成し、油性インキ成分の付着
が防止され、一方、画像部領域には、油性インキ成分が
付着する。このような機能を有するエマルジョンインキ
であれば、特に限定されることなく本発明に使用するこ
とができる。また、本発明のエマルジョンインキが上記
機能を発現するために、インキングシステムに冷却機構
の付いた印刷機を用いることがより好ましい。
[Emulsion Ink] The emulsion ink used in the present invention is an emulsion ink obtained by adding a hydrophilic component to an oil-based ink component and emulsifying it.
ter in oil) type or O / W (oil in water) type. Further, the emulsion ink used in the present invention, in the ink fountain of the printing machine when applied to printing and printing in an ink can, maintain a stable emulsified state,
At the time of printing, the inking system (ink supply system) is transferred while receiving the share, and when the ink reaches the inking roller, the emulsification is destroyed and the hydrophilic component is separated and supplied onto the plate surface. On the plate surface, the hydrophilic component adheres to the non-image area to form a liquid film, and the oil-based ink component is prevented from adhering, while the oil-based ink component adheres to the image area. Any emulsion ink having such a function can be used in the present invention without any particular limitation. Further, in order for the emulsion ink of the present invention to exhibit the above function, it is more preferable to use a printing machine equipped with a cooling mechanism in the inking system.

【0023】本発明のエマルジョンインキの油性インキ
成分と親水性成分の割合は、油性インキ成分100重量
部に対し、親水性成分5〜150重量部であり、好まし
くは、10〜120重量部、さらに好ましくは、20〜
100重量部である。本発明のエマルジョンインキの油
性インキ成分としては、植物油、合成樹脂ワニスまた
は、天然樹脂ワニス、あるいは、それらの合成ワニス、
高沸点石油系溶剤、顔料、その他添加剤(耐摩擦向上
剤、インキドライヤー、乾燥抑制剤など)からなる通常
の油性インキを用いることができる。
The ratio of the oil-based ink component to the hydrophilic component in the emulsion ink of the present invention is 5 to 150 parts by weight, preferably 10 to 120 parts by weight, based on 100 parts by weight of the oil-based ink component. Preferably, 20 to
100 parts by weight. As the oil-based ink component of the emulsion ink of the present invention, vegetable oil, synthetic resin varnish or natural resin varnish, or a synthetic varnish thereof,
An ordinary oil-based ink comprising a high-boiling petroleum solvent, a pigment, and other additives (such as a friction resistance improver, an ink dryer, and a drying inhibitor) can be used.

【0024】本発明のエマルジョンインキの親水性成分
としては、水及び/又は多価アルコール類を用いること
ができる。多価アルコール類としては、例えば、グリセ
リン、ジグリセリン、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ヘキシレングリコール、ソルビトール、ブタン
ジオール、ペンタンジオール等が挙げられる。なかで
も、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ルが好ましく使用できる。多価アルコールは、1種単独
で用いても、2種以上を混合して用いても良く、さら
に、水と混合して用いても良い。本発明の親水性成分中
の多価アルコール類の好ましい含有量は、30〜100
重量%であり、より好ましくは、50〜100重量%で
ある。本発明の親水性成分としては、上記以外に、乳化
安定性の向上、流動特性の改良、親水性の向上、親水性
成分の蒸発の抑制等を目的として、添加剤を使用するこ
とができる。例えば、メタノール、エタノール等の1価
のアルコール類、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン等のアミノアルコール類、ノニオン系、アニオン
系、カチオン系、ベタイン系の公知の界面活性剤、グリ
コール酸、乳酸、クエン酸等のオキシカルボン酸類、ポ
リビニルピロリドン、ポリアクリル酸、アラビアガム、
カルボキシメチルセルロース等の親水性高分子類、リン
酸、ケイ酸、硝酸、及びそれらの塩等の無機酸及び無機
塩類等が挙げられる。
As the hydrophilic component of the emulsion ink of the present invention, water and / or polyhydric alcohols can be used. Examples of polyhydric alcohols include glycerin, diglycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, sorbitol, butanediol, pentanediol, and the like. Among them, glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol can be preferably used. The polyhydric alcohol may be used alone, or two or more kinds may be used as a mixture, and may be used as a mixture with water. The preferred content of the polyhydric alcohol in the hydrophilic component of the present invention is 30 to 100.
%, More preferably 50 to 100% by weight. As the hydrophilic component of the present invention, in addition to the above, additives can be used for the purpose of improving emulsion stability, improving flow characteristics, improving hydrophilicity, suppressing evaporation of the hydrophilic component, and the like. For example, monohydric alcohols such as methanol and ethanol, amino alcohols such as monoethanolamine and diethanolamine, known nonionic, anionic, cationic and betaine surfactants, glycolic acid, lactic acid, citric acid, etc. Oxycarboxylic acids, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, gum arabic,
Examples include hydrophilic polymers such as carboxymethylcellulose, and inorganic acids and salts such as phosphoric acid, silicic acid, nitric acid, and salts thereof.

【0025】〔感熱性平版印刷版原版〕次に、本発明に
使用可能な感熱性平版印刷版原版について説明する。本
発明に係る感熱性平版印刷版原版は、親水性表面を有す
る支持体上に、特開平10−282672号公報に記載
の加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有する高
分子化合物(以下、スルホン酸発生型高分子化合物とい
う)を含有する記録層を備えている。
[Thermosensitive lithographic printing plate precursor] Next, the lithographic printing plate precursor usable in the present invention will be described. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises a polymer having a functional group capable of generating sulfonic acid by heating described in JP-A-10-282672 (hereinafter referred to as sulfone) on a support having a hydrophilic surface. Recording layer containing an acid-generating polymer compound).

【0026】1.記録層 以下に、平版印刷版原版の記録層を構成する成分につい
て述べる。 [1−a.加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を
有する高分子化合物(スルホン酸発生型高分子化合
物)]本発明の記録層に用いるスルホン酸発生型高分子
化合物は、分子内に加熱によりスルホン酸を発生させる
官能基を有していれば、特に制限はなく、スルホン酸を
発生させる官能基を主鎖に有していても、側鎖に有して
いても良いが、合成適性の点で、前記一般式(1)、
(2)又は(3)で示される官能基を側鎖に有する高分
子化合物が好ましい。
1. Recording Layer Components constituting the recording layer of the lithographic printing plate precursor will be described below. [1-a. Polymer Compound Having Functional Group that Generates Sulfonic Acid by Heating (Sulfonic Acid Generating Polymer Compound)] The sulfonic acid generating polymer compound used in the recording layer of the present invention generates sulfonic acid in a molecule by heating. There is no particular limitation as long as it has a functional group, and it may have a functional group that generates sulfonic acid in the main chain or in a side chain. Equation (1),
A polymer compound having a functional group represented by (2) or (3) in a side chain is preferable.

【0027】以下に、本発明における前記一般式
(1)、(2)又は(3)で示される官能基の少なくと
もいずれかを有する高分子化合物について、更に、具体
的に説明する。
Hereinafter, the polymer compound having at least one of the functional groups represented by the general formulas (1), (2) and (3) in the present invention will be described more specifically.

【0028】R1〜R5がアリール基若しくは置換アリー
ル基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリール基
と複素環式(ヘテロ)アリール基が含まれる。炭素環式
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基、ピレニル基等の炭素数6から19のものが
用いられる。また、複素環式アリール基としては、ピリ
ジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノリ
ル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾー
ル基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数1〜5を含むも
のが用いられる。R1〜R5がアルキル基若しくは置換ア
ルキル基を表わすとき、当該アルキル基としてはメチル
基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロ
ヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数1
から25までのものが用いられる。
When R 1 to R 5 represent an aryl group or a substituted aryl group, the aryl group includes a carbocyclic aryl group and a heterocyclic (hetero) aryl group. As the carbocyclic aryl group, those having 6 to 19 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and a pyrenyl group are used. Examples of the heterocyclic aryl group include a pyridyl group, a furyl group, and other quinolyl groups, benzofuryl groups, thioxanthone groups, thioxanthone groups, carbazole groups, and the like having 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 heteroatoms. Things are used. When R 1 to R 5 represent an alkyl group or a substituted alkyl group, examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, and cyclohexyl. 1
To 25 are used.

【0029】R1〜R5が置換アリール基、置換ヘテロア
リール基、置換アルキル基であるとき、置換基としては
メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10までのアル
コキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基の
ようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、t−ブチルオキシカル
ボニル基、p−クロロフェニルオキシカルボニル基等の
炭素数2から15までのアルコキシカルボニル基若しく
はアリールオキシカルボニル基;水酸基;アセチルオキ
シ基、ベンゾイルオキシ基、p−ジフェニルアミノベン
ゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;t−ブチルオキシ
カルボニルオキシ基等のカルボネート基;t−ブチルオ
キシカルボニルメチルオキシ基、2−ピラニルオキシ基
等のエーテル基;アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェ
ニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等の
置換、非置換のアミノ基;メチルチオ基、フェニルチオ
基等のチオエーテル基;ビニル基、スチリル基等のアル
ケニル基;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基等のアシル基;フェニル基、ナフチル
基のようなアリール基;ピリジル基のようなヘテロアリ
ール基等を挙げることができる。またR1〜R5が置換ア
リール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換基と
して前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル基を
用いることができる。
When R 1 to R 5 are a substituted aryl group, a substituted heteroaryl group, or a substituted alkyl group, examples of the substituent include a methoxy group, an ethoxy group and the like, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a fluorine atom, and a chlorine atom. Atom, halogen atom such as bromine atom, trifluoromethyl group, halogen-substituted alkyl group such as trichloromethyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butyloxycarbonyl group, p-chlorophenyloxycarbonyl group, etc. An alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group having 2 to 15 carbon atoms; a hydroxyl group; an acyloxy group such as an acetyloxy group, a benzoyloxy group, a p-diphenylaminobenzoyloxy group; a carbonate group such as a t-butyloxycarbonyloxy group; t-butyloxycarbonyl Ether groups such as tyloxy group and 2-pyranyloxy group; substituted and unsubstituted amino groups such as amino group, dimethylamino group, diphenylamino group, morpholino group and acetylamino group; thioether groups such as methylthio group and phenylthio group; vinyl An alkenyl group such as a group or styryl group; a nitro group; a cyano group; an acyl group such as a formyl group, an acetyl group or a benzoyl group; an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group; be able to. When R 1 to R 5 are a substituted aryl group or a substituted heteroaryl group, alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group can be used as the substituent in addition to the above.

【0030】R1が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子4〜20までのものを用いることが
できる。
When R 1 represents a cyclic imide group, examples of the cyclic imide include those having 4 to 20 carbon atoms such as succinimide, phthalic imide, cyclohexanedicarboxylic imide and norbornenedicarboxylic imide. .

【0031】前記一般式(1)において、R1として
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、2級若しくは3級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドが
好ましく、感度と経時安定性とを両立できるという点
で、下記一般式(4)で表される2級アルキル基がより
好ましい。
In the above general formula (1), R 1 represents an aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro, or an alkyl substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro. Group, a secondary or tertiary branched alkyl group, a cyclic alkyl group, and a cyclic imide are preferable, and a secondary alkyl group represented by the following general formula (4) from the viewpoint of achieving both sensitivity and stability over time. Is more preferred.

【0032】[0032]

【化3】 Embedded image

【0033】R6,R7は置換もしくは非置換アルキル,
置換もしくは非置換アリール基を表し、また、R6,R7
はそれが結合している2級炭素原子(CH)と共に環を
形成してもよい。R6,R7が置換もしくは非置換アルキ
ル基を表すとき、アルキル基としてはメチル基,エチル
基,イソプロピル基,t−ブチル基,シクロヘキシル基
などの直鎖状,分岐状,もしくは環状のアルキル基が挙
げられ、炭素数1から25までのものが好適に用いられ
る。R6,R7が置換もしくは非置換アリール基を表すと
き、アリール基には炭素環式アリール基と複素環式アリ
ール基が含まれる。炭素環式アリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、ピレニル基など
炭素数6から19のものが用いられる。また、複素環式
アリール基としてはピリジル基、フリル基、その他ベン
ゼン環が縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキ
サントン基、カルバゾール基などの炭素数3〜20、ヘ
テロ原子数1〜5を含むものが用いられる。
R 6 and R 7 are substituted or unsubstituted alkyl,
Represents a substituted or unsubstituted aryl group, and R 6 , R 7
May form a ring with the secondary carbon atom (CH) to which it is attached. When R 6 and R 7 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, examples of the alkyl group include a linear, branched or cyclic alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group and a cyclohexyl group. And those having 1 to 25 carbon atoms are preferably used. When R 6 and R 7 represent a substituted or unsubstituted aryl group, the aryl group includes a carbocyclic aryl group and a heterocyclic aryl group. As the carbocyclic aryl group, those having 6 to 19 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and a pyrenyl group are used. Examples of the heterocyclic aryl group include those having 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 heteroatoms such as a pyridyl group, a furyl group, a quinolyl group in which a benzene ring is fused, a benzofuryl group, a thioxanthone group, and a carbazole group. Is used.

【0034】R6,R7が置換アルキル基,置換アリール
基であるとき、置換基としてはメトキシ基、エトキシ基
などの炭素数1〜10までのアルコキシ基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフル
オロメチル基、トリクロロメチル基のようなハロゲン置
換されたアルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、p−ク
ロロフェニルオキシカルボニルなどの炭素数2から15
までのアルコキシカルボニル基またはアリールオキシカ
ルボニル基;水酸基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキ
シ、p−ジフェニルアミノベンゾイルオキシなどのアシ
ルオキシ基;t−ブチルオキシカルボニルオキシ基など
のカルボネート基;t−ブチルオキシカルボニルメチル
オキシ基、2−ピラニルオキシ基などのエーテル基;ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モル
フォリノ基、アセチルアミノ基などの置換、非置換のア
ミノ基;メチルチオ基、フェニルチオ基などのチオエー
テル基;ビニル基、ステリル基などのアルケニル基;ニ
トロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基などのアシル基;フェニル基、ナフチル基のような
アリール基;ピリジル基のようなヘテロアリール基等を
挙げることができる。また、R6,R7が置換アリール基
であるとき、置換基としては、前述したものの他にもメ
チル基、エチル基などのアルキル基を用いることができ
る。
When R 6 and R 7 are a substituted alkyl group or a substituted aryl group, examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom. A halogen atom, a trifluoromethyl group, a halogen-substituted alkyl group such as a trichloromethyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butyloxycarbonyl group, a p-chlorophenyloxycarbonyl or the like having 2 to 15 carbon atoms.
A hydroxyl group; an acyloxy group such as acetyloxy, benzoyloxy, p-diphenylaminobenzoyloxy; a carbonate group such as a t-butyloxycarbonyloxy group; a t-butyloxycarbonylmethyloxy group A substituted or unsubstituted amino group such as an amino group, a dimethylamino group, a diphenylamino group, a morpholino group, or an acetylamino group; a thioether group such as a methylthio group or a phenylthio group; a vinyl group; Alkenyl groups such as steryl group; nitro group; cyano group; acyl groups such as formyl group, acetyl group and benzoyl group; aryl groups such as phenyl group and naphthyl group; heteroaryl groups such as pyridyl group. Can . When R 6 and R 7 are substituted aryl groups, alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group can be used as the substituent in addition to those described above.

【0035】上記のR6,R7としては、感材の保存安定
性に優れる点で、置換、非置換のアルキル基が好まし
く、経時安定性の点で、アルコキシ基,カルボニル基,
アルコキシカルボニル基,シアノ基,ハロゲン基などの
電子吸引性基で置換された2級のアルキル基,もしくは
シクロヘキシル基、ノルボルニル基などの2級のアルキ
ル基が特に好ましい。物性値としては、重クロロホルム
中、プロトンNMRにおける2級メチン水素のケミカル
シフトが4.4ppmよりも低磁場に現れる化合物が好
ましく、4.6ppmよりも低磁場に現れる化合物がよ
り好ましい。このように、電子吸引性基で置換された2
級のアルキル基が特に好ましいのは、熱分解反応時に中
間体として生成していると思われるカルボカチオンが電
子吸引性基により不安定化し、分解が抑制されるためで
あると考えられる。具体的には、−CHR67の構造と
しては、下記式で表される構造が特に好ましい。
As the above R 6 and R 7 , a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable in terms of excellent storage stability of the light-sensitive material, and an alkoxy group, a carbonyl group,
A secondary alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as an alkoxycarbonyl group, a cyano group, or a halogen group, or a secondary alkyl group such as a cyclohexyl group or a norbornyl group is particularly preferable. As a physical property value, a compound in which chemical shift of secondary methine hydrogen in proton NMR appears in a lower magnetic field than 4.4 ppm in deuterated chloroform is more preferable, and a compound which appears in a lower magnetic field than 4.6 ppm is more preferable. Thus, 2 substituted with an electron-withdrawing group
It is considered that the higher alkyl group is particularly preferable because the carbocation, which is considered to be generated as an intermediate during the thermal decomposition reaction, is destabilized by the electron-withdrawing group and the decomposition is suppressed. Specifically, as a structure of —CHR 6 R 7, a structure represented by the following formula is particularly preferable.

【0036】[0036]

【化4】 Embedded image

【0037】また、前記一般式(2)および(3)にお
いて、R2〜R5として特に好ましいものは、ハロゲン、
シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール
基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアルキル基、及び2級若しくは3級の分岐状のア
ルキル基である。
In the general formulas (2) and (3), particularly preferred as R 2 to R 5 are halogen,
An aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as cyano and nitro; an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano and nitro; and a secondary or tertiary branched alkyl group.

【0038】Lで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、1から60個までの炭素原子、0個から10
個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1
個から100個までの水素原子、及び0個から20個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
The polyvalent linking group consisting of a nonmetallic atom represented by L means 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 carbon atoms.
Up to nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1
From 100 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific linking groups include those constituted by combining the following structural units.

【0039】[0039]

【化5】 Embedded image

【0040】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数1から20ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6
から16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数1から6までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数1から6までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数2から7までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
When the polyvalent linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a carbon atom having 6 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group.
To 16 aryl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups,
An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group, an acetoxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, and a halogen such as chlorine and bromine. An atom, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, and a carbonate group such as t-butyl carbonate can be used.

【0041】本発明による一般式(1)〜(3)に示す
官能基を側鎖に有する高分子化合物の合成に好適に使用
されるモノマーの具体例〔モノマー(1)〜モノマー
(56)〕を以下に示す。
Specific examples of the monomers suitably used for synthesizing the high molecular compound having a functional group represented by the general formula (1) to (3) in the side chain according to the present invention [monomer (1) to monomer (56)] Is shown below.

【0042】[0042]

【化6】 Embedded image

【0043】[0043]

【化7】 Embedded image

【0044】[0044]

【化8】 Embedded image

【0045】[0045]

【化9】 Embedded image

【0046】[0046]

【化10】 Embedded image

【0047】[0047]

【化11】 Embedded image

【0048】[0048]

【化12】 Embedded image

【0049】[0049]

【化13】 Embedded image

【0050】[0050]

【化14】 Embedded image

【0051】本発明では、好ましくは一般式(1)〜一
般式(3)で表される官能基を有するモノマーの内、少
なくともいずれか一つをラジカル重合することにより得
られる高分子化合物を使用する。このような高分子化合
物として、一般式(1)〜一般式(3)で表される官能
基を有するモノマーの内一種のみを用いた単独重合体を
使用してもよいが、2種以上を用いた共重合体やこれら
のモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用してもよ
い。本発明において、さらに好適に使用される高分子化
合物は、上記モノマーと他の公知のモノマーとのラジカ
ル重合により得られる共重合体である。
In the present invention, a polymer compound obtained by subjecting at least one of the monomers having functional groups represented by the general formulas (1) to (3) to radical polymerization is preferably used. I do. As such a polymer compound, a homopolymer using only one of the monomers having a functional group represented by the general formulas (1) to (3) may be used. Copolymers used or copolymers of these monomers with other monomers may be used. In the present invention, a polymer compound more preferably used is a copolymer obtained by radical polymerization of the above monomer and another known monomer.

【0052】共重合体に用いられる他のモノマーとし
て、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニ
ルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イ
ミド等の公知のモノマーも挙げられる。その他のモノマ
ーとしては、グリシジルメタクリレート、N−メチロー
ルメタクリルアミド、オメガ−(トリメトキシシリル)
プロピルメタクリレート、2−イソシアネートエチルア
クリレート等の架橋反応性を有するモノマーを共重合す
ることも可能である。
Other monomers used in the copolymer include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride Known monomers such as acid and maleic imide are also included. Other monomers include glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, omega- (trimethoxysilyl)
It is also possible to copolymerize monomers having crosslinking reactivity such as propyl methacrylate and 2-isocyanate ethyl acrylate.

【0053】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, Examples include tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl acrylate.

【0054】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate,
Methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl Carbonyloxy) ethyl methacrylate and the like.

【0055】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0056】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of the methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0057】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

【0058】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。
Specific examples of styrenes include styrene,
Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Examples thereof include iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.

【0059】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、C20以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。共重
合体の合成に使用される一般式(1)〜一般式(3)で
表される官能基を含むモノマーの割合は、5〜99重量
%であることが好ましく、さらに好ましくは10〜95
重量%である。
Of these other monomers, particularly preferably used are acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid esters of C20 or less. Acid and acrylonitrile. The proportion of the monomer having a functional group represented by the general formulas (1) to (3) used in the synthesis of the copolymer is preferably from 5 to 99% by weight, more preferably from 10 to 95% by weight.
% By weight.

【0060】以下に、一般式(1)〜一般式(3)に示
す官能基を側鎖に有する高分子化合物の具体例〔高分子
化合物(1)〜高分子化合物(28)〕を示す。なお、
下記式中の数字或は高分子化合物のモル組成を表す。
Hereinafter, specific examples of the high molecular compound having a functional group represented by the general formula (1) to the general formula (3) in the side chain [the high molecular compound (1) to the high molecular compound (28)] are shown. In addition,
The number in the following formula or the molar composition of the polymer compound is shown.

【0061】[0061]

【化15】 Embedded image

【0062】[0062]

【化16】 Embedded image

【0063】[0063]

【化17】 Embedded image

【0064】[0064]

【化18】 Embedded image

【0065】[0065]

【化19】 Embedded image

【0066】[0066]

【化20】 Embedded image

【0067】本発明で使用される一般式(1)〜一般式
(3)で表される官能基の少なくともいずれか一つを有
する高分子化合物の重量平均分子量は好ましくは200
0以上であり、更に好ましくは5000〜30万の範囲
であり、数平均分子量は好ましくは800以上であり、
更に好ましくは1000〜25万の範囲である。多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これら
の高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましい。
The weight average molecular weight of the high molecular compound having at least one of the functional groups represented by the general formulas (1) to (3) used in the present invention is preferably 200.
0 or more, more preferably in the range of 5000 to 300,000, the number average molecular weight is preferably 800 or more,
More preferably, it is in the range of 1,000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10. These polymer compounds may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like, but are preferably random polymers.

【0068】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、
酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は
2種以上混合して用いられる。本発明で使用されるスル
ホン酸発生型高分子化合物を合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。
Examples of the solvent used for synthesizing the sulfonic acid generating polymer compound used in the present invention include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol Glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene,
Examples include ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. As the radical polymerization initiator used when synthesizing the sulfonic acid-generating polymer compound used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0069】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物は単独で用いても混合して用いてもよい。これ
らスルホン酸発生型高分子化合物は、記録層全固形分の
50〜99重量%、好ましくは70〜95重量%の割合
で使用することができる。添加量が50重量%未満の場
合は、印刷画像が不鮮明になる。また添加量が95重量
%を越える場合は、レーザ露光による画像形成が十分で
きなくなる。
The sulfonic acid generating polymer compound used in the present invention may be used alone or in combination. These sulfonic acid-generating polymer compounds can be used in a proportion of 50 to 99% by weight, preferably 70 to 95% by weight of the total solids of the recording layer. If the amount is less than 50% by weight, the printed image becomes unclear. If the addition amount exceeds 95% by weight, image formation by laser exposure cannot be sufficiently performed.

【0070】また、本発明のスルホン酸発生型高分子化
合物と、特願平9−10755号明細書に記載の酸発生
剤,特願平9−26877号明細書に記載の塩基発生剤
とを、併用することもできる。
Further, the sulfonic acid-generating polymer compound of the present invention is used together with the acid generator described in Japanese Patent Application No. 9-10755 and the base generator described in Japanese Patent Application No. 9-26877. , Can also be used in combination.

【0071】[1−b.光熱変換物質]本発明の平版印
刷方法を適用し得る感熱性平版印刷版用原版の記録層、
或いは、それに隣接する層に光熱変換物質を含有させる
ことで、レーザー光等の露光による画像記録が可能とな
る。これは、光熱変換物質を含有することで赤外線レー
ザなどの露光部において光熱変換物質の働きで熱が発生
し、その熱により画像記録が行われるためである。光熱
変換物質としては、紫外線、可視光線、赤外線、白色光
線等の光を吸収して熱に変換し得る物質ならば全て使用
できるが、露光に用いる光の波長を吸収して発熱する物
質を選択して用いることが好ましい。具体的には、例え
ば、カーボンブラック、カーボングラファイト、顔料、
フタロシアニン系顔料、鉄粉、黒鉛粉末、酸化鉄粉、酸
化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、硫化クロム等が挙
げられる。特に好ましいのは、波長760nmから12
00nmの赤外線を有効に吸収する染料、顔料、または
金属である。
[1-b. Photothermal conversion material] Recording layer of heat-sensitive lithographic printing plate precursor to which lithographic printing method of the present invention can be applied,
Alternatively, by including a photothermal conversion substance in a layer adjacent thereto, image recording by exposure to laser light or the like becomes possible. This is because the light-to-heat conversion material contains the light-to-heat conversion material to generate heat in an exposed portion such as an infrared laser, and the heat is used to record an image. As the photothermal conversion substance, any substance can be used as long as it can absorb light such as ultraviolet rays, visible light rays, infrared rays, and white light rays and can convert it into heat, but a substance that generates heat by absorbing the wavelength of light used for exposure is selected. It is preferable to use them. Specifically, for example, carbon black, carbon graphite, pigment,
Examples include phthalocyanine pigments, iron powder, graphite powder, iron oxide powder, lead oxide, silver oxide, chromium oxide, iron sulfide, and chromium sulfide. Particularly preferred is a wavelength of 760 nm to 12 nm.
Dyes, pigments, or metals that effectively absorb 00 nm infrared rays.

【0072】染料としては、市販の染料及び文献(例え
ば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。好ま
しい染料としては、例えば、特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号等に記載されてい
るナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,
875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, and metal thiolate complexes. Preferred dyes include, for example, JP-A-58-125246.
JP-A-59-84356, JP-A-59-2028
29, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696 and JP-A-5-173696.
Methine dyes described in JP-A-8-181690 and JP-A-58-194595;
JP-A-58-224793, JP-A-59-481
No. 87, JP-A-59-73996, JP-A-60-52
No. 940, naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744 and the like, squarylium dyes described in JP-A-58-112792 and the like, British Patent 434
No. 875, and the like.

【0073】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換アリールベンゾ
(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号
(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同5
8−220143号、同59−41363号、同59−
84248号、同59−84249号、同59−146
063号、同59−146061号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭59−216146号記載の
シアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別
の染料の例として、米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。これらの染料のうち特
に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げ
られる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. And JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169).
Nos. 8-220143, 59-41363 and 59-
No. 84248, No. 59-84249, No. 59-146
Nos. 063 and 59-146061; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475; Fairness 5-135
Nos. 14 and 5-19702 are also preferably used. Further, as another preferable example of the dye, a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in U.S. Pat. No. 4,756,993 can be exemplified. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0074】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Metal powder pigments and other polymer-bound dyes can be used.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0075】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリ
ング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔
料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印
刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最
新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載
されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface. Conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). I have.

【0076】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、0.1μm〜1μmの範
囲にあることが特に好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, it is not preferable in terms of stability of the dispersion in the coating solution of the photosensitive layer, and if it exceeds 10 μm, it is not preferable in terms of uniformity of the image recording layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0077】これらの染料又は顔料は、記録層全固形分
の0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜30重量
%、染料の場合特に好ましくは1〜20重量%、顔料の
場合特に好ましくは5〜25重量%の割合で使用するこ
とができる。顔料又は染料の添加量が0.01重量%未
満であると感度が低くなり、また50重量%を越えると
印刷時非画像部に汚れが発生する。
These dyes or pigments are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 30% by weight, based on the total solids of the recording layer, particularly preferably 1 to 20% by weight for dyes, and particularly preferably 1 to 20% by weight for pigments. Preferably, it can be used at a ratio of 5 to 25% by weight. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the non-image area is stained during printing.

【0078】[1−c.その他の成分]本発明の記録層
では、上述の2つの成分以外に、必要に応じて種々の化
合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収
を持つ染料を画像の着色剤として使用することができ
る。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエ
ロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーン
BG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オ
イルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラッ
クT−505(以上、オリエント化学工業(株)製)、
ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(C
I42555)、メチルバイオレット(CI4253
5)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145
170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、
メチレンブルー(CI52015)等及び特開昭62−
293247号公報に記載されている染料を挙げること
ができる。これらの染料は、レーザ露光後退色し、画像
部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好
ましい。なお、添加量は、記録層全固形分の0.01〜
10重量%である。
[1-c. Other Components] In the recording layer of the present invention, in addition to the above two components, various compounds may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientation above) Chemical Industry Co., Ltd.)
Victoria Pure Blue, Crystal Violet (C
I42555), methyl violet (CI4253)
5), ethyl violet, rhodamine B (CI145
170B), malachite green (CI42000),
Methylene blue (CI52015), etc.
The dyes described in JP-A-293247 can be exemplified. It is preferable to add these dyes because they fade after laser exposure and the image area and the non-image area are easily distinguished. The addition amount is 0.01 to 0.01% of the total solid content of the recording layer.
10% by weight.

【0079】また、本発明における記録層には、印刷条
件に対する安定性を広げるため、特開昭62−2517
40号公報や特開平3−208514号公報に記載され
ているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121
044号公報、特開平4−13149号公報に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノ
エチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン
塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒ
ドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラ
デシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲ
ンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イオ
ン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録層中に占める割
合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましく
は0.1〜5重量%である。
Further, the recording layer in the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-2517 in order to increase the stability under printing conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121 and JP-A-3-208514.
Further, an amphoteric surfactant as described in JP-A No. 0444/1992 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like.
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the recording layer is preferably from 0.05 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight.

【0080】更に本発明の記録層には必要に応じ、塗膜
の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例え
ば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the recording layer of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer.

【0081】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類、特開平8−276558号公報に記載のヒ
ドロキシメチル基を持つフェノール化合物、及びアルコ
キシメチル基を有するフェノール化合物等を添加しても
よい。更に塗膜の強度を向上させるために他の高分子化
合物を添加してもよい。
In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group described in JP-A-8-276558, phenol compounds having an alkoxymethyl group, and the like may be added. Further, another polymer compound may be added to improve the strength of the coating film.

【0082】本発明の平版印刷版用原版は、通常上記各
成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すること
により製造することができる。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好
ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得
られる支持体上の塗布量(固形分)は、0.1〜5.0
g/m2が好ましく、0.5〜3.0g/m2がより好ま
しい。塗布する方法としては、種々の方法を用いること
ができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、ス
プレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることがで
きる。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention can be usually produced by dissolving the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying is 0.1 to 5.0.
preferably g / m 2, 0.5~3.0g / m 2 is more preferable. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

【0083】本発明における記録層には、塗布性を良化
するための界面活性剤、例えば特開昭62−17095
0号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を
添加することができる。これらの添加量は、記録層固形
分中0.01〜1重量%が好ましく、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。
The recording layer in the present invention may have a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-17095.
No. 0, fluorinated surfactants can be added. The amount of these additives is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the recording layer.

【0084】2.親水性表面を有する支持体 本発明に掛かる平版印刷版原版は、表面が疎水性(親油
性)である前記記録層を親水性表面を有する支持体上に
設けてなる。本発明に使用される親水性表面を有する支
持体には、支持体自身が親水性であるもの、支持体の表
面を親水化処理したもの、あるいは、支持体上に親水性
層を備えたもの等が包含される。
2. Support having hydrophilic surface The lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises the recording layer having a hydrophobic (lipophilic) surface provided on a support having a hydrophilic surface. The support having a hydrophilic surface used in the present invention includes a support having a hydrophilic surface, a support having a hydrophilic surface, or a support having a hydrophilic layer on the support. Etc. are included.

【0085】本発明に係る平版印刷版原版に使用される
支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例え
ば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金
属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチ
ックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、
上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された
紙、もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material, for example, paper or plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated. Paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, Polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.),
Examples include paper on which metal is laminated or vapor-deposited, plastic film, or the like.

【0086】[2−a.支持体基板(アルミニウム
板)]本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体とし
ては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ま
しい。その中でも寸法安定性がよく、比較的安価である
アルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素
材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本
発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1
mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.
4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmであ
る。
[2-a. Support Substrate (Aluminum Plate)] The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably a polyester film or an aluminum plate. Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1
mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.1 mm.
4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0087】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate surface is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used.

【0088】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が
可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸あるい
はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は
電解質の種類によって適宜決められる。
The surface roughening by the above-mentioned method is performed when the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as required, and further neutralized, and then anodized to enhance abrasion resistance if desired. Processing is performed.
As an electrolyte used for anodizing the aluminum plate, various electrolytes forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0089】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は、1.0〜5.0g/m2、特に1.5〜4.0
g/m2であることが好ましく、1.0g/m2より少な
いと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部
に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付
着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of the anodic oxide film is 1.0 to 5.0 g / m 2 , particularly 1.5 to 4.0 g / m 2 .
g / m 2 is preferable, and if it is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched. The so-called "scratch stain" to which ink adheres easily occurs.

【0090】[2−b.アルミニウム板の親水化処理]
前記のように陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面
に親水化処理を施すことで、前記表面を親水化処理した
支持体を得ることができる。ここで使用される親水化処
理としては、米国特許第2,714,066号、同第
3,181,461号、第3,280,734号および
第3,902,734号に開示されているようなアルカ
リ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法
がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウ
ム水溶液で浸漬処理されるか、または電解処理される。
他に特公昭36−22063号公報に開示されているフ
ッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第3,276,
868号、同第4,153,461号、同第4,68
9,272号に開示されているようなポリビニルホスホ
ン酸で処理する方法などが用いられる。
[2-b. Hydrophilic treatment of aluminum plate]
By subjecting the aluminum surface subjected to the anodic oxidation treatment to the hydrophilic treatment as described above, a support having the surface subjected to the hydrophilic treatment can be obtained. The hydrophilizing treatment used here is disclosed in U.S. Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. Such an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method is available. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated.
In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat.
No. 868, No. 4,153,461, No. 4,68
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in US Pat. No. 9,272 is used.

【0091】[2−c.支持体基板(非導電性支持
体)]また、本発明の基板にポリエステル等の非導電性
のものを用いる場合、基板の記録層側または反対側、あ
るいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電
防止層としては、金属酸化物微粒子やマット剤を分散し
たポリマー層が使用できる。
[2-c. Support Substrate (Nonconductive Support)] When a nonconductive substrate such as polyester is used for the substrate of the present invention, it is preferable to provide an antistatic layer on the recording layer side, on the opposite side, or on both sides of the substrate. preferable. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles and a matting agent are dispersed can be used.

【0092】帯電防止層に用いられる金属酸化物粒子の
材料としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al23
In23、MgO、BaO、MoO3、V25及びこれ
らの複合酸化物、及び/又はこれらの金属酸化物に更に
異種原子を含む金属酸化物を挙げることができる。これ
らは単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。金属
酸化物としては、ZnO、SnO2、Al23、Ti
2、In23、MgOが好ましい。異種原子を少量含
む例としては、ZnOに対してAlあるいはIn、Sn
2に対してSb、Nbあるいはハロゲン元素、In2
3に対してSnなどの異種原子を30モル%以下、好ま
しくは10モル%以下の量をドープしたものを挙げるこ
とができる。金属酸化物粒子は、帯電防止層中に10〜
90重量%の範囲で含まれていることが好ましい。金属
酸化物粒子の粒子径は、平均粒子径が0.001〜0.
5μmの範囲が好ましい。ここでいう平均粒子径とは、
金属酸化物粒子の一次粒子径だけでなく高次構造の粒子
径も含んだ値である。
The materials of the metal oxide particles used for the antistatic layer include ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 ,
Examples include In 2 O 3 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5 , composite oxides thereof, and / or metal oxides further containing different atoms. These may be used alone or as a mixture. As metal oxides, ZnO, SnO 2 , Al 2 O 3 , Ti
O 2 , In 2 O 3 and MgO are preferred. Examples of containing a small amount of heteroatoms include Al, In, and Sn with respect to ZnO.
Sb relative O 2, Nb or a halogen element, an In 2 O
Examples thereof include those obtained by doping 3 or more with 30 mol% or less, preferably 10 mol% or less of different atoms such as Sn. The metal oxide particles are present in the antistatic layer
Preferably, it is contained in the range of 90% by weight. The metal oxide particles have an average particle diameter of 0.001 to 0.5.
A range of 5 μm is preferred. Here, the average particle size is
The value includes not only the primary particle diameter of the metal oxide particles but also the particle diameter of the higher-order structure.

【0093】帯電防止層に用いることができるマット剤
としては、好ましくは平均粒径が0.5〜20μm、よ
り好ましくは平均粒径が1.0〜15μmの粒径を持つ
無機又は有機の粒子が挙げられる。無機粒子としては、
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化チタン、酸化亜
鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、チ
タン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の金属塩等
が挙げられる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスチレン、ポリオレフィン及びそれらの共
重合体の架橋粒子が挙げられる。マット剤は、帯電防止
層中に1〜30重量%の範囲で含まれていることが好ま
しい。帯電防止層に用いることができるポリマーとして
は、例えば、ゼラチン、カゼイン等のタンパク質、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、アセチルセルロース、ジアセチルセルロース、トリ
アセチルセルロース等のセルロース化合物、デキストラ
ン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポ
リビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸
エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、
ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリメタクリ
ル酸等の合成ポリマー等が挙げられる。ポリマーは、帯
電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれているこ
とが好ましい。
The matting agent that can be used in the antistatic layer is preferably an inorganic or organic particle having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm, more preferably an average particle diameter of 1.0 to 15 μm. Is mentioned. As inorganic particles,
Examples thereof include metal oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, and zinc oxide, and metal salts such as calcium carbonate, barium sulfate, barium titanate, and strontium titanate. Examples of the organic particles include cross-linked particles of polymethyl methacrylate, polystyrene, polyolefin, and a copolymer thereof. The matting agent is preferably contained in the antistatic layer in the range of 1 to 30% by weight. Examples of the polymer that can be used in the antistatic layer include gelatin, proteins such as casein, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, acetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose compounds such as triacetyl cellulose, dextran, agar, sodium alginate, and starch derivatives. Such as saccharides, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyacrylate, polymethacrylate, polystyrene,
Examples include synthetic polymers such as polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyester, polyvinyl chloride, polyacrylic acid, and polymethacrylic acid. The polymer is preferably contained in the antistatic layer in a range of 10 to 90% by weight.

【0094】本発明で使用する支持体は、ブロッキング
を防止する観点から、支持体の裏面の最大粗さ深度(R
t)が少なくとも、1.2μm以上であることが好まし
く、さらに、支持体の裏面(即ち、本発明の平版印刷版
原版の裏面)が本発明の平版印刷版原版の表面上を滑る
時の動摩擦係数(μk)が2.6以下であることが好ま
しい。
The support used in the present invention has a maximum roughness depth (R) on the back surface of the support from the viewpoint of preventing blocking.
t) is preferably at least 1.2 μm, and furthermore, the dynamic friction when the back surface of the support (that is, the back surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention) slides on the surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention. Preferably, the coefficient (μk) is 2.6 or less.

【0095】本発明で用いられる上記の支持体の厚みは
およそ0.05mm〜0.6mm程度、好ましくは0.
1mm〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜
0.3mmである。
The thickness of the support used in the present invention is about 0.05 to 0.6 mm, preferably about 0.05 mm to 0.6 mm.
1 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.15 mm to
0.3 mm.

【0096】[2−d、親水性層]支持体の表面を親水
性にする方法としては、前記支持体表面を親水化処理す
る方法の他、支持体上に親水性層を設ける方法がある。
支持体上に設けることが可能な親水性層としては、例え
ば、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋するこ
とにより得られる有機親水性マトリックスや、ポリアル
コキシシラン、チタネート、ジルコネート又はアルミネ
ートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換によ
り得られる無機親水性マトリックスあるいは親水性表面
を有する金属又は金属化合物の薄膜が好ましく挙げられ
る。
[2-d, hydrophilic layer] As a method of making the surface of the support hydrophilic, there is a method of providing a hydrophilic layer on the support, in addition to the method of hydrophilizing the surface of the support. .
Examples of the hydrophilic layer that can be provided on the support include, for example, an organic hydrophilic matrix obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer, and hydrolysis of polyalkoxysilane, titanate, zirconate, or aluminate. And a thin film of a metal or metal compound having a hydrophilic surface or an inorganic hydrophilic matrix obtained by a sol-gel conversion comprising a condensation reaction.

【0097】[2−d−1、有機親水性マトリックス]
本発明の親水性層の有機親水性マトリックス形成に使用
する架橋反応としては、熱または光による共有結合形
成、又は、多価金属塩によるイオン結合形成が可能であ
る。本発明に用いる有機親水性ポリマーとしては、架橋
反応に用いることが可能な官能基を有するポリマーが好
ましい。好ましい官能基としては、例えば、−OH、−
SH、−NH2、−NH−、−CO−NH2、−CO−N
H−、−O−CO−NH−、−NH−CO−NH−、−
CO−OH、−CO−O−、−CO−O−、−CS−O
H、−CO−SH、−CS−SH、−SO3H、−SO2
(O−)、−PO32、−PO(O−)2、−SO2−N
2、−SO2−NH−、−CH=CH2、−CH=CH
−、−CO−C(CH3)=CH2、−CO−CH=CH
2、−CO−CH2−CO−、−CO−O−CO−、及び
以下に示す官能基等が挙げられる。
[2-d-1, Organic hydrophilic matrix]
As a crosslinking reaction used for forming an organic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, formation of a covalent bond by heat or light or formation of an ionic bond by a polyvalent metal salt is possible. As the organic hydrophilic polymer used in the present invention, a polymer having a functional group that can be used for a crosslinking reaction is preferable. Preferred functional groups include, for example, -OH,-
SH, -NH 2, -NH -, - CO-NH 2, -CO-N
H-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-,-
CO-OH, -CO-O-, -CO-O-, -CS-O
H, -CO-SH, -CS- SH, -SO 3 H, -SO 2
(O -), - PO 3 H 2, -PO (O-) 2, -SO 2 -N
H 2, -SO 2 -NH -, - CH = CH 2, -CH = CH
-, - CO-C (CH 3) = CH 2, -CO-CH = CH
2, -CO-CH 2 -CO - , - CO-O-CO-, and functional group, and the like shown below.

【0098】[0098]

【化21】 Embedded image

【0099】これらの官能基のなかでも、特に、水酸
基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基が好まし
い。
Among these functional groups, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group and an epoxy group are particularly preferred.

【0100】このような有機親水性ポリマーとしては、
公知の水溶性バインダーを用いることが可能であり、例
えば、ポリビニルアルコール(ケン化度60%以上のポ
リビニルアセテート)、カルボキシ変性ポリビニルアル
コール等の変性ポリビニルアルコール、澱粉およびその
誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびその塩、ヒ
ドロキシエチルセルロースのようなセルロース誘導体、
カゼイン、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルピロリ
ドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体及びその塩、ス
チレン−マレイン酸共重合体及びその塩、ポリアクリル
酸及びその塩、ポリメタクリル酸及びその塩、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンイミン、ポリビニルホス
ホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその
塩、ポリ(メタクリロイロキシプロパンスルホン酸)及
びその塩、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリ(メ
タクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロラ
イド)、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリヒ
ドロキシエチルアクリレート、ポリアクリルアミド等が
挙げられる。これらのポリマーは、親水性を損なわない
限りにおいて、コポリマーであっても良く、1種単独で
用いても、2種以上を併用して用いても良い。その使用
量は親水性層の総固形分重量に対して、20重量%〜9
9重量%、好ましくは25重量%〜95重量%、より好
ましくは30重量%〜90重量%である。
Such organic hydrophilic polymers include:
Known water-soluble binders can be used, for example, polyvinyl alcohol (polyvinyl acetate having a saponification degree of 60% or more), modified polyvinyl alcohol such as carboxy-modified polyvinyl alcohol, starch and derivatives thereof, carboxymethyl cellulose and salts thereof, Cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose,
Casein, gelatin, gum arabic, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer and its salt, styrene-maleic acid copolymer and its salt, polyacrylic acid and its salt, polymethacrylic acid and its salt, polyethylene glycol, Polyethyleneimine, polyvinylphosphonic acid and its salt, polystyrenesulfonic acid and its salt, poly (methacryloyloxypropanesulfonic acid) and its salt, polyvinylsulfonic acid and its salt, poly (methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride), polyhydroxy Examples include ethyl methacrylate, polyhydroxyethyl acrylate, and polyacrylamide. These polymers may be copolymers as long as hydrophilicity is not impaired, and may be used alone or in combination of two or more. The amount used is from 20% by weight to 9% by weight based on the total solid weight of the hydrophilic layer.
It is 9% by weight, preferably 25% to 95% by weight, more preferably 30% to 90% by weight.

【0101】本発明においては、有機親水性ポリマーの
架橋を公知の架橋剤により行うことが可能である。公知
の架橋剤としては、多官能イソシアネート化合物、多官
能エポキシ化合物、多官能アミン化合物、ポリオール化
合物、多官能カルボキシル化合物、アルデヒド化合物、
多官能(メタ)アクリル化合物、多官能ビニル化合物、
多官能メルカプト化合物、多価金属塩化合物、ポリアル
コキシシラン化合物およびその加水分解物、ポリアルコ
キシチタン化合物およびその加水分解物、ポリアルコキ
シアルミニウム化合物およびその加水分解物、ポリメチ
ロール化合物、ポリアルコキシメチル化合物等が挙げら
れ、公知の反応触媒を添加し、反応を促進することも可
能である。その使用量は親水性層の塗布液中の総固形分
重量に対して、1重量%〜50重量%、好ましくは3重
量%〜40重量%、より好ましくは5重量%〜35重量
%である。
In the present invention, the organic hydrophilic polymer can be crosslinked with a known crosslinking agent. Known crosslinking agents include polyfunctional isocyanate compounds, polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional amine compounds, polyol compounds, polyfunctional carboxyl compounds, aldehyde compounds,
Polyfunctional (meth) acrylic compound, polyfunctional vinyl compound,
Polyfunctional mercapto compounds, polyvalent metal salt compounds, polyalkoxysilane compounds and their hydrolysates, polyalkoxytitanium compounds and their hydrolysates, polyalkoxyaluminum compounds and their hydrolysates, polymethylol compounds, polyalkoxymethyl compounds, etc. It is also possible to add a known reaction catalyst to promote the reaction. The use amount thereof is 1% by weight to 50% by weight, preferably 3% by weight to 40% by weight, more preferably 5% by weight to 35% by weight based on the total solid content in the coating solution of the hydrophilic layer. .

【0102】[2−d−2、無機親水性マトリックス]
本発明の親水性層の無機親水性マトリックス形成に使用
することができるゾル−ゲル変換が可能な系は、多価元
素から出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造を
形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコキシ
基も有していて、これらが混在した樹脂状構造となって
いる高分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い段
階ではゾル状態であり、エーテル結合化が進行するのに
伴って網目状の樹脂構造が強固となる。また、水酸基の
一部が固体微粒子に結合することによって固体微粒子の
表面を修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持っ
ている。ゾル−ゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を
有する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、
チタン及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも
本発明に用いることができるが、以下はもっとも好まし
く用いることのできるシロキサン結合によるゾル−ゲル
変換系について説明する。アルミニウム、チタン及びジ
ルコニウムを用いるゾル−ゲル変換は、下記の説明の珪
素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができ
る。
[2-d-2, inorganic hydrophilic matrix]
The system capable of sol-gel conversion that can be used for the formation of the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention is such that a bonding group derived from a polyvalent element forms a network structure through an oxygen atom, At the same time, the polyvalent metal also has an unbonded hydroxyl group or an alkoxy group, and is a polymer having a resin-like structure in which these are mixed. As the bonding proceeds, the network-like resin structure becomes stronger. Further, a part of the hydroxyl group is bonded to the solid fine particles to modify the surface of the solid fine particles, and also has a function of changing the degree of hydrophilicity. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that performs sol-gel conversion is aluminum, silicon,
Titanium and zirconium, which can be used in the present invention, are described below. The sol-gel conversion system based on a siloxane bond which is most preferably used will be described below. The sol-gel conversion using aluminum, titanium and zirconium can be carried out by substituting silicon for each element described below.

【0103】すなわち、特に好ましく用いられるのは、
ゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも1個のシラノール
基を有するシラン化合物を含んた系である。以下に、ゾ
ル−ゲル変換を利用する系についてさらに説明する。ゾ
ル−ゲル変換によって形成される無機親水性マトリック
スは、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を
有する樹脂であり、少なくとも1個のシラノール基を有
するシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗
布、乾燥、経時する間に、シラノール基の加水分解縮合
が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進
行することにより形成される。また、このゲル構造のマ
トリックスのなかには、膜強度、柔軟性等の物理的性能
向上や、塗布性の改良、親水性の調整等を目的として、
上記の有機親水性ポリマーや架橋剤などを添加すること
も可能である。ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、
下記一般式(I)で示され、また少なくとも1個のシラ
ノール基を有するシラン化合物は、下記一般式(II)で
示されるシラン化合物の加水分解により得られ、必ずし
も一般式(II)のシラン化合物の部分加水分解物単独で
ある必要はなく、一般には、シラン化合物が部分加水重
合したオリゴマーからなっていてもよく、あるいは、シ
ラン化合物とそのオリゴマーの混合組成であってもよ
い。
That is, particularly preferably used are:
This is a system containing a silane compound having at least one silanol group and capable of sol-gel conversion. Hereinafter, a system utilizing the sol-gel conversion will be further described. The inorganic hydrophilic matrix formed by the sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and is coated with a coating solution that is a sol system containing a silane compound having at least one silanol group. During drying, aging, the hydrolytic condensation of silanol groups proceeds to form a siloxane skeleton structure, and gelation proceeds to form. In addition, in the matrix of this gel structure, for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, improving coatability, adjusting hydrophilicity, etc.
It is also possible to add the above-mentioned organic hydrophilic polymer and crosslinking agent. The siloxane resin that forms the gel structure is
The silane compound represented by the following general formula (I) and having at least one silanol group is obtained by hydrolysis of the silane compound represented by the following general formula (II), and is not necessarily the silane compound represented by the general formula (II) It is not necessary to use the partial hydrolyzate alone. In general, the silane compound may be composed of a partially hydrolyzed oligomer, or may be a mixed composition of a silane compound and its oligomer.

【0104】[0104]

【化22】 Embedded image

【0105】上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種の化合物のゾル−ゲル変換によって形成され、一般
式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは水酸基を表
し、他は下記一般式(II)中の記号のR0及びYから選
ばれる有機残基を表わす。
The siloxane resin represented by the general formula (I) is
It is formed by sol-gel conversion of at least one compound of the silane compounds represented by the following general formula (II), wherein at least one of R 01 to R 03 in the general formula (I) represents a hydroxyl group, and Represents an organic residue selected from the symbols R 0 and Y in the general formula (II).

【0106】一般式(II) (R0nSi(Y)4-n Formula (II) (R 0 ) n Si (Y) 4-n

【0107】一般式(II)中、R0は、水酸基、炭化水
素基又はヘテロ環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン
原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子
を表わす)、−OR1、−OCOR2又は、−N(R3
(R4)を表す(R1、R2は、各々炭化水素基を表し、
3、R4は同じでも異なってもよく、水素原子又は炭化
水素基を表す)、nは0,1,2又は3を表わす。
In the general formula (II), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom (representing a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), —OR 1 , —OCOR 2, or —N (R 3 )
(R 4) represents the (R 1, R 2 each represents a hydrocarbon group,
R 3 and R 4 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group), and n represents 0, 1, 2 or 3.

【0108】一般式(II)中のR0の炭化水素基又はヘ
テロ環基とは、例えば、炭素数1〜12の置換されても
よい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基等;これらの基に置換される基として
は、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原
子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、エポキシ基、−ORa基(Raは、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル基、ブ
テニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒドロキ
シエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノエチル
基、N,N−ジメチルアミノエチル基、1−ブロモエチ
ル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシプロピ
ル基、ベンジル基等を示す)、−OCORb基(Rbは、
前記Raと同一の内容を表わす)、−COORb基、−C
ORb基、−N(Rc)(Rc)基(Rcは、水素原子又は
前記Raと同一の内容を表わし、各々同じでも異なって
もよい)、−NHCONHRb基、−NHCOORb基、
−Si(Rb3基、−CONHRc基、−NHCORb
等が挙げられる。(これらの置換基はアルキル基中に複
数置換されてもよい)、
The hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 0 in the general formula (II) is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group , Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group,
A hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group and the like; the groups substituted by these groups include a halogen atom (a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom), a hydroxy group, a thiol group, and a carboxy group. group, a sulfo group, a cyano group, an epoxy group, -OR a group (R a is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, butyl group, heptyl group,
Hexyl, octyl, decyl, propenyl, butenyl, hexenyl, octenyl, 2-hydroxyethyl, 3-chloropropyl, 2-cyanoethyl, N, N-dimethylaminoethyl, 1-bromoethyl Group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group, etc.), -OCOR b group (R b is
Wherein represents a R a same content as), - COOR b group, -C
OR b group, -N (R c ) (R c ) group (R c represents a hydrogen atom or the same content as R a, and may be the same or different), -NHCONHR b group, -NHCOOR b Group,
—Si (R b ) 3 groups, —CONHR c groups, and —NHCOR b groups. (These substituents may be substituted plurally in the alkyl group),

【0109】炭素数2〜12の置換されてもよい直鎖状
又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オ
クテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これらの基
に置換される基としては、前記アルキル基に置換される
基と同一の内容のものが挙げられる)、炭素数7〜14
の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基等;これらの基に置換
される基としては、前記アルキル基に置換される基と同
一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよ
い)、
A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group and the like) And the groups substituted with these groups include those having the same contents as the groups substituted with the above-mentioned alkyl groups), having 7-14 carbon atoms.
An aralkyl group which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; Groups having the same content as the group to be mentioned, or may be substituted plurally),

【0110】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置
換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の
内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えば、
フェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキ
ル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又
複数置換されてもよい)、又は、窒素原子、酸素原子、
イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有す
る縮環してもよいヘテロ環基(例えば、該ヘテロ環とし
ては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン
環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリ
ジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒド
ロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基とし
ては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のも
のが挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
-Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like, the group substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group, and those substituted with a plurality of Or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example,
A phenyl group or a naphthyl group, examples of the substituent include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group, and a plurality of the groups may be substituted), or a nitrogen atom, an oxygen atom,
A condensable heterocyclic group containing at least one atom selected from sulfur atoms (for example, the heterocyclic ring includes a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, a morpholine ring, a pyrrole ring, a thiazole ring, and an oxazole A ring, a pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. The same content may be mentioned, or a plurality of the same may be substituted).

【0111】一般式(II)中のYの−OR1基、−OC
OR2基又は−N(R3)(R4)基の置換基としては、
例えば、以下の置換基を表す。−OR1基において、R1
は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル
基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メ
トキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル
基、1−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メ
トキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオ
キサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル
基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシク
ロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル
基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベン
ジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
In the general formula (II), -OR 1 group of Y, -OC
As a substituent for the OR 2 group or the —N (R 3 ) (R 4 ) group,
For example, it represents the following substituents. —OR 1 group includes R 1
Is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, propenyl group) , Butenyl, heptenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 2-methoxyethyl, 2- (methoxyethyloxo) ethyl, 1- (N, N -Diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, benzyl group, Phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methylbenzyl group, bromobenzyl It represents a group and the like).

【0112】−OCOR2基において、R2は、R1と同
一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール
基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。
又、−N(R3)(R4)基において、R3、R4は、互い
に同じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数
1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記の
−OR1基のR1と同様の内容のものが挙げられる)を表
わす。より好ましくは、R3とR4の炭素数の総和が16
個以内である。一般式(II)で示されるシラン化合物の
具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限
定されるものではない。
In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same contents as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is the aryl group in the aforementioned R). And the same as those exemplified for the group).
In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and each may be a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms ( For example, those having the same contents as those of R 1 in the aforementioned —OR 1 group can be mentioned). More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 is 16
It is within the number. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.

【0113】テトラクロルシラン、テトラブロムシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラn−プロピルシラ
ン、テトラt−ブトキシシラン、テトラn−ブトキシシ
ラン、ジメトキシジエトキシシラン、メチルトリクロル
シラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン、エチ
ルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシ
シラン、n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピル
トリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、
n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイ
ソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシ
ラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルト
リブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n
−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソ
プロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラ
ン、n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロ
ムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシル
トリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシ
ラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン、n−オクタ
デシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロム
シラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オ
クタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリ
イソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブト
キシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン、ジメチルジクロ
ルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジク
ロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニ
ルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラ
ン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチル
ジエトキシシラン、
Tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propylsilane, tetra-t-butoxysilane, tetra-n-butoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, methyltrichlorosilane , Methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriiso Propoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane,
n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n
-Hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n -Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltrisilane -Butoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyl Dibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane,

【0114】トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒ
ドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキ
シヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニ
ルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリ
フルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエ
トキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキ
シシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
Triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, Vinyl tri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxip Pills trimethoxysilane, gamma
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane Γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ- Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane Γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, etc. Is mentioned.

【0115】本発明の親水性層の無機親水性マトリック
ス形成に用いる一般式(II)で示されるシラン化合物と
ともに、Ti,Zn,Sn,Zr,Al等のゾル−ゲル
変換の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用
することができる。用いられる金属化合物として、例え
ば、Ti(OR54(R5はメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、Ti
Cl4、Ti(CH3COCHCOCH32(O
52、Zn(OR52、Zn(CH3COCHCOC
32、Sn(OR54、Sn(CH3COCHCOC
34、Sn(OCOR5)4、SnCl4、Zr(OR
54、Zr(CH3COCHCOCH34、Al(O
53、Al(CH3COCHCOCH33等が挙げら
れる。
Along with the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, the silane compound binds to the resin during the sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al and the like. And a metal compound capable of forming a film. Examples of the metal compound used include Ti (OR 5 ) 4 (R 5 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, etc.), Ti
Cl4, Ti (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 (O
R 5 ) 2 , Zn (OR 5 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOC
H 3 ) 2 , Sn (OR 5 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOC)
H 3) 4, Sn (OCOR 5) 4, SnCl 4, Zr (OR
5 ) 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (O
R 5 ) 3 and Al (CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 .

【0116】更に一般式(II)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が高い場合は加水分解・
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の程度は1N(水溶液での濃
度換算)以下が望ましい。
Further, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II) and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or basic compound used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, hydrolysis /
The rate of polycondensation tends to increase. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be formed in the sol solution. Therefore, the degree of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration conversion in an aqueous solution) or less.

【0117】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸
などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水
素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカ
ルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元
素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベン
ゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒とし
ては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルア
ミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, and specific examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, and hydrogen peroxide. Examples of basic catalysts include ammonia, such as carboxylic acids such as carbonic acid, formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids in which R of the structural formula represented by RCOOH is substituted with another element or a substituent, and sulfonic acids such as benzenesulfonic acid. Examples include ammoniacal bases such as water and amines such as ethylamine and aniline.

【0118】上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、作花
済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)
(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能
性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992
年)等の成書等に詳細に記述されている。
For further details of the above sol-gel method, refer to Saio Sakuhana, "Science of Sol-Gel Method", published by Agne Shofusha Co., Ltd.
(1988), Takashi Hirashima, "Technology for preparing functional thin films by the latest sol-gel method", General Technology Center (published) (1992)
It is described in detail in written documents such as year.

【0119】[2−d−3、有機又は無機親水性マトリ
ックスの添加剤]本発明の上記有機又は無機親水性マト
リックスの親水性層中には、上記以外にも、親水性の程
度の制御、親水性層の物理的強度の向上、層を構成する
組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上印刷適性の向
上などの種々の目的の化合物を添加することができる。
例えば、可塑剤、顔料、色素、界面活性剤、親水性の粒
子等が挙げられる。
[2-d-3, Additive of Organic or Inorganic Hydrophilic Matrix] In the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention, in addition to the above, control of the degree of hydrophilicity, Various objective compounds such as an improvement in the physical strength of the hydrophilic layer, an improvement in the dispersibility of the compositions constituting the layer, an improvement in applicability and an improvement in printability can be added.
For example, plasticizers, pigments, dyes, surfactants, hydrophilic particles and the like can be mentioned.

【0120】親水性の粒子としては、特に限定されない
が、好ましくはシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム
等が挙げられる。これらは、親水性を助長したり、皮膜
の強化などに用いることができる。より好ましくは、シ
リカ、アルミナ、酸化チタン又はこれらの混合物であ
る。本発明の上記有機又は無機親水性マトリックスの親
水性層においては、特に、シリカ、アルミナ、酸化チタ
ン等の金属酸化物粒子を含有することが好ましい態様で
ある。
The hydrophilic particles are not particularly limited, but preferably include silica, alumina, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate and the like. These can be used for promoting hydrophilicity and for strengthening the film. More preferably, it is silica, alumina, titanium oxide or a mixture thereof. In a preferred embodiment, the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention particularly contains metal oxide particles such as silica, alumina, and titanium oxide.

【0121】シリカは、表面に多くの水酸基を持ち、内
部はシロキサン結合(−Si−O−Si−)を構成して
いる。本発明において、好ましく用いることができるシ
リカとしては、コロイダルシリカとも称される、水もし
くは、極性溶媒中に分散した粒子径1〜100nmのシ
リカ超微粒子である。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監
修「高純度シリカの応用技術」第3巻、(株)シーエム
シー(1991年)に記載されている。
Silica has many hydroxyl groups on the surface, and the inside constitutes a siloxane bond (—Si—O—Si—). In the present invention, silica that can be preferably used is ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm, also referred to as colloidal silica, dispersed in water or a polar solvent. Specifically, it is described in “Applied Technology of High-Purity Silica”, edited by Yoshitoshi Kaga and Akira Hayashi, Vol. 3, CMC Corporation (1991).

【0122】また、好ましく用いることができるアルミ
ナとしては、5〜200nmのコロイドの大きさをもつ
アルミナ水和物(ベーマイト系)で、水中の陰イオン
(例えば、フッ素イオン、塩素イオン等のハロゲン原子
イオン、酢酸イオン等のカルボン酸アニオン等)を安定
剤として分散されたものである。又好ましく用いること
ができる酸化チタンとしては、平均一次粒径が50〜5
00nmのアナターゼ型あるいはルチル型の酸化チタン
を、必要に応じ、分散剤を用い、水もしくは、極性溶媒
中に分散したものである。
The alumina which can be preferably used is an alumina hydrate (boehmite type) having a colloidal size of 5 to 200 nm, and an anion (for example, a halogen atom such as a fluorine ion or a chlorine ion) in water. Ions, carboxylate anions such as acetate ions, etc.) as a stabilizer. The titanium oxide that can be preferably used has an average primary particle size of 50 to 5
Anatase-type or rutile-type titanium oxide having a thickness of 00 nm is dispersed in water or a polar solvent using a dispersant, if necessary.

【0123】本発明において、好ましく用いることがで
きる親水性の粒子の平均一次粒径は、1〜5000nm
であり、より好ましくは、10〜1000nmである。
本発明の親水性層中において、これらの親水性の粒子
は、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても
良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、
5重量%〜90重量%、好ましくは10重量%〜70重
量%、より好ましくは20重量%〜60重量%である。
In the present invention, the hydrophilic particles which can be preferably used have an average primary particle diameter of 1 to 5000 nm.
And more preferably 10 to 1000 nm.
In the hydrophilic layer of the present invention, these hydrophilic particles may be used alone or in combination of two or more. The amount used is based on the total solid weight of the hydrophilic layer.
It is 5% to 90% by weight, preferably 10% to 70% by weight, more preferably 20% to 60% by weight.

【0124】本発明に用いる上記の有機または無機親水
性マトリックスの親水性層は、例えば、水や、メタノー
ル、エタノール等の極性溶剤等の適当な溶剤の単独又は
これらの混合溶媒に溶解あるいは分散して、光熱変換層
上に塗布、乾燥、硬化される。その塗布重量は乾燥後の
重量で、0.1〜5g/m2が適当であり、好ましくは
0.3〜3g/m2、さらに好ましくは0.5〜2g/
2である。親水性層の乾燥後の塗布重量は、0.1g
/m2より低すぎると、エマルジョンインキの親水性成
分の保持性の低下や、膜強度の低下など好ましくない結
果を与え、高すぎると、膜が脆くなり、耐刷性の低下な
どの好ましくない結果を与える。
The hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix used in the present invention may be dissolved or dispersed in a suitable solvent such as water or a polar solvent such as methanol or ethanol alone or in a mixed solvent thereof. Is applied, dried and cured on the light-to-heat conversion layer. Its coating weight in weight after drying is suitably from 0.1-5 g / m 2, preferably from 0.3 to 3 g / m 2, more preferably 0.5 to 2 g /
m 2 . The coating weight of the hydrophilic layer after drying is 0.1 g.
/ M 2, unfavorable results such as a decrease in the retention of the hydrophilic component of the emulsion ink and a decrease in the film strength are given. Give the result.

【0125】[2−d−4、親水性表面を有する金属又
は金属化合物の薄膜]本発明の親水性層に用いる親水性
表面を有する金属又は金属化合物の薄膜としては、表面
親水性を有するものであれば特に制限はないが、例え
ば、アルミニウム、クロム、マンガン、スズ、テルル、
チタン、鉄、コバルト、ニッケル、インジウム、ビスマ
ス、ジルコニウム、亜鉛、鉛、バナジウム、ケイ素、
銅、銀の金属および合金やそれぞれの金属に対応する金
属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金
属硫化物、金属ハロゲン化物が挙げられる。実質上、上
記金属及び金属化合物の薄膜表面は、高酸化の状態にあ
り、親水性の点において、有利に働く。このため、イン
ジウムスズ酸化物、酸化タングステン、酸化マンガン、
酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジル
コニウム等の金属酸化物の薄膜が、本発明の親水性層と
して好適に用いることができる。
[2-d-4, Thin Film of Metal or Metal Compound Having Hydrophilic Surface] As the thin film of metal or metal compound having a hydrophilic surface used in the hydrophilic layer of the present invention, a thin film having surface hydrophilicity is used. If it is not particularly limited, for example, aluminum, chromium, manganese, tin, tellurium,
Titanium, iron, cobalt, nickel, indium, bismuth, zirconium, zinc, lead, vanadium, silicon,
Metals and alloys of copper and silver, and metal oxides, metal carbides, metal nitrides, metal borides, metal sulfides, and metal halides corresponding to the respective metals. Substantially, the surface of the thin film of the metal and the metal compound is in a highly oxidized state, and works advantageously in terms of hydrophilicity. For this reason, indium tin oxide, tungsten oxide, manganese oxide,
A thin film of a metal oxide such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, and zirconium oxide can be suitably used as the hydrophilic layer of the present invention.

【0126】また、本発明の親水性層に用いる親水性表
面を有する金属又は金属化合物の薄膜形成には、真空蒸
着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などのPV
D法(物理蒸着法)あるいはCVD法(化学蒸着法)な
どが適宜用いられる。例えば真空蒸着法においては、加
熱方式としては、抵抗加熱、高周誘導加熱、電子ビーム
加熱等を用いることができる。また、反応性ガスとし
て、酸素や窒素等を導入したり、オゾン添加、イオンア
シスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いても良い。
For forming a thin film of a metal or a metal compound having a hydrophilic surface used for the hydrophilic layer of the present invention, a PVD method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method and an ion plating method may be used.
Method D (physical vapor deposition) or CVD (chemical vapor deposition) is used as appropriate. For example, in a vacuum evaporation method, resistance heating, high-period induction heating, electron beam heating, or the like can be used as a heating method. In addition, oxygen, nitrogen, or the like may be introduced as a reactive gas, or reactive vapor deposition using means such as ozone addition or ion assist may be used.

【0127】スパッタ法を用いる場合は、ターゲット材
料として純金属または目的とする金属化合物を用いるこ
とができ、純金属を用いる時は反応性ガスとして酸素や
窒素等を導入する。スパッタ電源としては、直流電源、
パルス型直流電源、高周波電源を用いることができる。
When the sputtering method is used, a pure metal or a target metal compound can be used as a target material. When a pure metal is used, oxygen or nitrogen is introduced as a reactive gas. DC power supply,
A pulse DC power supply or a high-frequency power supply can be used.

【0128】上記の方法による薄膜形成に先だって、感
熱層との密着性を向上させるため、基体加熱等による基
体脱ガスや感熱層表面への真空グロー処理を施してもよ
い。例えば、真空グロー処理においては、1〜10mt
orr程度の圧力下で基体に高周波を印加しグロー放電
を形成させ、発生したプラズマによる基板処理を行うこ
とができる。また、印加電圧を上げたり、酸素や窒素な
どの反応性ガスを導入することにより効果を向上させる
ことも可能である。
Prior to the formation of a thin film by the above-described method, in order to improve the adhesion to the heat-sensitive layer, degassing of the substrate by heating the substrate or vacuum glow treatment on the surface of the heat-sensitive layer may be performed. For example, in vacuum glow processing, 1 to 10 mt
A high frequency is applied to the base under a pressure of about orr to form a glow discharge, and the substrate can be processed by the generated plasma. Further, the effect can be improved by increasing the applied voltage or introducing a reactive gas such as oxygen or nitrogen.

【0129】本発明の親水性層に用いる親水性表面を有
する金属又は金属化合物の薄膜の厚みは、10nm〜3
000nmが好ましい。さらに好ましくは20〜150
0nmである。薄すぎると、湿し水の保持性の低下や、
膜強度の低下など好ましくない結果を与え、厚すぎる
と、薄膜形成に時間を要するため製造適性上好ましくな
い。
The thickness of the metal or metal compound thin film having a hydrophilic surface used in the hydrophilic layer of the present invention is 10 nm to 3 nm.
000 nm is preferred. More preferably, 20 to 150
0 nm. If it is too thin, the retention of dampening water will decrease,
An undesired result such as a decrease in film strength is given. If the thickness is too large, it takes a long time to form a thin film, which is not preferable in terms of production suitability.

【0130】3.平版印刷版原版のその他の層 (下塗り層)本発明の平版印刷版原版は、親水性表面を
有する支持体上に本発明の記録層を設けたものである
が、必要に応じてその間に下塗層を設けることができ
る。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、
例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、
アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミ
ノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およ
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基
を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アル
キルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置
換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホ
スフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホス
フィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラ
ニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの
塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等か
ら選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
[0130] 3. Other Layers of Lithographic Printing Plate Precursor (Undercoat Layer) The lithographic printing plate precursor of the present invention comprises a recording layer of the present invention provided on a support having a hydrophilic surface. A coating layer can be provided. Various organic compounds are used as the undercoat layer component,
For example, carboxymethylcellulose, dextrin,
Gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic which may have a substituent Organic phosphonic acids such as acids, phenylphosphoric acid optionally having a substituent, naphthylphosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid optionally having a substituent, naphthylphosphinic acid, Selected from organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as hydrochloride of triethanolamine. You may use it.

【0131】この下塗層は次のような方法で設けること
ができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メ
チルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合
溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウ
ム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。下塗層の被覆量は、2〜
200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100
mg/m2である。
The undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound by immersing the aluminum plate, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. . In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
The immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5 ° C.
0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. The coating amount of the undercoat layer is 2 to
200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg / m 2.
mg / m 2 .

【0132】(オーバーコート層)本発明の平版印刷版
原版には、前記の記録層上に、必要に応じてオーバーコ
ート層を形成することができる。本発明に使用されるオ
ーバーコート層は、印刷前あるいは印刷時に容易に除去
される層であり、フィルム形成可能な高分子化合物を含
有する。さらに、本発明のオーバーコート層は、光熱変
換機能を有しても良く、その場合には、オーバーコート
層中には、光熱変換物質を含有することができる。
(Overcoat Layer) In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an overcoat layer can be formed on the recording layer as required. The overcoat layer used in the present invention is a layer that is easily removed before printing or at the time of printing, and contains a polymer compound capable of forming a film. Further, the overcoat layer of the present invention may have a light-to-heat conversion function. In this case, a light-to-heat conversion substance can be contained in the overcoat layer.

【0133】オーバーコート層を設ける方法としては、
オーバーコート層組成物を含有する塗布溶液を親水性層
上に、直接、塗布、乾燥して設けても良いし、前記塗布
液を別の支持体上に塗布、乾燥した後、親水性層上に圧
着(ラミネート)して設け、その支持体を剥離除去して
設けても良い。オーバーコート層に使用する高分子は、
公知の有機又は無機の樹脂であり、塗布乾燥によってで
きた被膜がフィルム形成能を有するものであり、さら
に、印刷時、エマルジョンインキにより除去する場合に
は、エマルジョンインキの親水性成分、特に、水及び/
又は多価アルコール類に、容易に溶解又は分散するもの
であることが好ましい。このような高分子としては、親
水性高分子を使用することが好ましく、そのような親水
性高分子としては、具体的には、ポリビニル酢酸(但し
加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリル酸及びそ
のアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリアクリル酸共重合
体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタクリ
ル酸及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタク
リル酸共重合体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、
ポリアクリルアミドおよびその共重合体、ポリヒドロキ
シエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン及びその
共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチ
ルエーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アク
リルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸及び
そのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリ−2−アクリル
アミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸共重合体
及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、アラビアガム、
繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルローズ、
カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ等)及
びその変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素
分解エーテル化デキストリン等を挙げることができる。
また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して
用いることもできる。
As a method for providing an overcoat layer,
The coating solution containing the overcoat layer composition may be directly applied and dried on the hydrophilic layer, or the coating solution may be applied on another support and dried, and then applied on the hydrophilic layer. May be provided by pressure bonding (lamination), and the support may be peeled off and provided. The polymer used for the overcoat layer is
It is a known organic or inorganic resin, and a film formed by coating and drying has a film-forming ability. Further, at the time of printing, when it is removed with an emulsion ink, the hydrophilic component of the emulsion ink, particularly water as well as/
Alternatively, it is preferable that the compound be easily dissolved or dispersed in polyhydric alcohols. As such a polymer, it is preferable to use a hydrophilic polymer. Specific examples of such a hydrophilic polymer include polyvinyl acetic acid (having a hydrolysis rate of 65% or more) and polyacryl. Acid and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt,
Polyacrylamide and its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone and its copolymer, polyvinyl methyl ether, polyvinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamide-2-methyl-1-propanesulfone Acid and its alkali metal salt or amine salt, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, gum arabic,
Cellulose derivatives (eg, carboxymethyl cellulose,
(Carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically decomposed etherified dextrin, and the like.
Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination.

【0134】オーバーコート層に光熱変換物質を添加す
ることにより、感熱性記録における感度の向上を図るこ
とができる。ここで用い得る光熱変換物質としては、画
像記録に使用するレーザー光を吸収し、熱に変換できる
光熱変換物質であり、種々の顔料や染料を用いる事がで
きるが、高分子と同様に、印刷時、エマルジョンインキ
により除去する場合には、エマルジョンインキの親水性
成分、特に、水及び/又は多価アルコール類に、容易に
溶解又は分散することが好ましい。記録光源であるレー
ザー光源として、赤外線レーザーを用いる場合、赤外線
吸収色素、赤外線吸収顔料、赤外線吸収性金属、赤外線
吸収金属酸化物など画像記録に使用するレーザー波長の
光を吸収する各種の有機および無機材料が使用可能であ
る。
By adding a light-to-heat conversion substance to the overcoat layer, the sensitivity in heat-sensitive recording can be improved. The photothermal conversion material that can be used here is a photothermal conversion material that can absorb laser light used for image recording and convert it into heat, and various pigments and dyes can be used. When removing with an emulsion ink, it is preferred that it be easily dissolved or dispersed in a hydrophilic component of the emulsion ink, particularly, water and / or a polyhydric alcohol. When an infrared laser is used as the laser light source that is a recording light source, various organic and inorganic materials that absorb light having a laser wavelength used for image recording, such as an infrared absorbing dye, an infrared absorbing pigment, an infrared absorbing metal, and an infrared absorbing metal oxide. Material is available.

【0135】〔平版印刷方法〕本発明の平版印刷方法
は、感熱性平版印刷版原版に画像記録を行う画像記録工
程、及び、その後、特段の湿式現像工程を経ることな
く、印刷機に装着し、エマルジョンインクを用いて印刷
する印刷工程を含む。 1.画像記録工程 本発明の平版印刷方法における感熱性平版印刷版原版の
画像記録工程について説明する。画像記録方法として
は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像様に感熱記
録を施す方法、或いは、波長700〜1200nmの赤
外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザー等によ
り直接画像様に露光し、光熱変換を利用して感熱記録を
施す方法、リスフィルムなどの原稿を介して、キセノン
放電灯などの高照度フラッシュ光や赤外線ランプ露光な
どの光照射により、光熱変換を利用して感熱記録を施す
方法などを用いることができる。本発明においては、デ
ィジタル信号に基づいた走査露光に適するという観点か
ら、特に、書き込み手段としてレーザー光を用いること
が好ましく、レーザー光を用いた画像記録機構として
は、照射されたレーザー光のエネルギーが、感熱性平版
印刷版原版の記録層に含有される光熱変換物質に吸収さ
れて熱エネルギーに変換され、これに起因して発生した
熱により、露光部が画像様に加熱され、画像記録がなさ
れる。
[Lithographic printing method] The lithographic printing method of the present invention comprises a lithographic printing plate which is mounted on a printing machine without going through an image recording step of recording an image on a heat-sensitive lithographic printing plate precursor and thereafter a special wet developing step. And printing using an emulsion ink. 1. Image recording step The image recording step of the heat-sensitive lithographic printing plate precursor in the lithographic printing method of the present invention will be described. As an image recording method, for example, a method of directly performing image-wise thermal recording with a thermal recording head or the like, or a direct image-wise exposure with a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm, and photothermal conversion Method of performing thermal recording by using heat, and method of performing thermal recording by using photothermal conversion by irradiating high-intensity flash light such as a xenon discharge lamp or exposure to an infrared lamp through a document such as a squirrel film Can be used. In the present invention, from the viewpoint of being suitable for scanning exposure based on digital signals, it is particularly preferable to use laser light as the writing means, and as an image recording mechanism using laser light, the energy of the irradiated laser light is The light-to-heat conversion material contained in the recording layer of the heat-sensitive lithographic printing plate precursor is absorbed and converted into thermal energy, and the heat generated due to this heats the exposed portion imagewise to record an image. You.

【0136】本発明において使用されるレーザーは、感
熱性平版印刷版原版に画像記録ができるのに充分な熱を
発生するのに必要な露光量を与えるものであれば特に制
限はなく、Arレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガ
スレーザー、YAGレーザーのような固体レーザー、そ
して半導体レーザーなどが使用できる。通常、出力が5
0mWクラス以上のレーザーが必要となる。保守性、価
格などの実用的な面からは、半導体レーザーおよび半導
体励起の固体レーザー(YAGレーザーなど)が好適に
使用される。これらのレーザーの記録波長は赤外線の波
長領域であり、700nmから1200nmの発振波長
を利用することが多い。また、特開平6−186750
号公報に記載されているイメージング装置を用いて露光
することも可能である。本発明においては、レーザ照射
時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させることを
目的として、レーザ照射工程と印刷工程の間に加熱処理
を行うことができる。好ましい加熱処理の条件は、80
℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間である。
The laser used in the present invention is not particularly limited as long as it provides an exposure amount necessary to generate heat sufficient for image recording on the heat-sensitive lithographic printing plate precursor. A gas laser such as a carbon dioxide laser, a solid laser such as a YAG laser, and a semiconductor laser can be used. Usually the output is 5
A laser of 0 mW class or more is required. Semiconductor lasers and semiconductor-excited solid-state lasers (such as YAG lasers) are preferably used in terms of practicality such as maintainability and price. The recording wavelength of these lasers is in the infrared wavelength range, and an oscillation wavelength of 700 nm to 1200 nm is often used. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-186750
Exposure can also be performed by using an imaging device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-26095. In the present invention, at the time of laser irradiation, a heating process can be performed between the laser irradiation step and the printing step for the purpose of reducing the laser energy required for recording. Preferred heat treatment conditions are 80
C. to 150.degree. C. for 10 seconds to 5 minutes.

【0137】2.印刷工程 本発明の印刷方法に供される感熱性平版印刷版原版は、
画像記録された印刷版原版をそれ以上の処理なしに印刷
機に装着することができる。画像記録された印刷版原版
を、湿式現像処理工程などの現像工程を経ることなく印
刷機に装着し、エマルジョンインキを用いて印刷を開始
すると、記録層の露光部(加熱部)においては、熱によ
り発生したスルホン酸が存在し、版上に供給されたエマ
ルジョンインキの親水性成分により、露光部の記録層が
溶解あるいは分散除去され、その部分において親水性表
面が露出する。未露光部はスルホン酸の発生がなく、そ
のまま存在し、親油性表面を有するインク受容部を形成
する。エマルジョンインキによる印刷によりその親水性
成分は、露出した親水性表面(加熱領域)上に付着し、
油性インキ成分は、非露光部(非加熱領域)の記録層に
着肉し印刷が開始される。
2. Printing stepThe heat-sensitive lithographic printing plate precursor used in the printing method of the present invention is:
The printing plate precursor on which the image has been recorded can be mounted on the printing press without further processing. The printing plate precursor on which the image is recorded is mounted on a printing machine without going through a development process such as a wet development process, and printing is started using the emulsion ink. The recording layer in the exposed area is dissolved or dispersed and removed by the hydrophilic component of the emulsion ink supplied on the plate, and the hydrophilic surface is exposed in that area. The unexposed area is free of sulfonic acid and is present as it is, forming an ink receiving area having a lipophilic surface. By printing with the emulsion ink, the hydrophilic component adheres to the exposed hydrophilic surface (heating area),
The oil-based ink component is deposited on the recording layer in the non-exposed area (non-heated area) and printing is started.

【0138】[0138]

〔実施例1〜10〕[Examples 1 to 10]

(アルミニウム基板の作成)99.5重量%アルミニウ
ムに、銅を0.01重量%、チタンを0.03重量%、
鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%含有するJI
SA1050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板
を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20
重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,10−
ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、よく
水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナトリウム水溶
液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してアルミ
ニウムの溶解量が5g/m2になるようにエッチングし
た後、流水で水洗した。更に、1重量%硝酸で中和し、
次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム0.5重量
%含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧
9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.9
0、特公昭58−5796号公報実施例に記載されてい
る電流波形)を用いて160クローン/dm2の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の1
0重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミ
ニウム溶解量が1g/m2になるようにエッチングした
後、水洗した。次に、50℃、30重量%の硫酸水溶液
中に浸漬し、デスマットした後、水洗した。さらに、3
5℃の硫酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量
%含有)中で直流電流を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形
成処理を行った。即ち電流密度13A/dm2で電解を
行い、電解時間の調節により陽極酸化皮膜重量2.7g
/m2とした。この支持体を水洗後、70℃のケイ酸ナ
トリウムの0.2重量%水溶液に30秒間浸漬処理し、
水洗乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウム
基板は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.30で、中心線平均粗さRaは0.58μm
であった。
(Preparation of Aluminum Substrate) 99.5% by weight of aluminum, 0.01% by weight of copper, 0.03% by weight of titanium,
JI containing 0.3% by weight of iron and 0.1% by weight of silicon
A roll of a 0.24 mm-thick sheet of SA1050 aluminum material was converted to a 400 mesh pumice stone (manufactured by Kyoritsu Ceramics Co., Ltd.).
Weight percent aqueous suspension and a rotating nylon brush (6,10-
(Nylon) and the surface was grained, and then washed well with water. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and washed with running water. Furthermore, neutralize with 1% by weight nitric acid,
Next, in a 0.7% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave alternating waveform voltage (current ratio r = 0.9) having an anode voltage of 10.5 volts and a cathode voltage of 9.3 volts was used.
0, a current waveform described in Examples of Japanese Patent Publication No. 58-5796), and an electrolytic surface roughening treatment was carried out at an anode electricity amount of 160 clones / dm 2 . After washing with water,
It was immersed in a 0% by weight aqueous sodium hydroxide solution, etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and washed with water. Next, it was immersed in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C., desmutted, and washed with water. In addition, 3
A porous anodic oxide film forming treatment was performed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 5 ° C. using a direct current. That is, electrolysis is performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the anodic oxide film weight is 2.7 g by adjusting the electrolysis time.
/ M 2 . After washing the support, the support was immersed in a 0.2% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds.
Washed and dried. The aluminum substrate obtained as described above had a reflection density of 0.30 and a center line average roughness Ra of 0.58 μm as measured by a Macbeth RD920 reflection densitometer.
Met.

【0139】(下塗り層の作成)上記、アルミニウム支
持体上に、下記の下塗り層塗布液を塗布、加熱乾燥(1
00℃,1分)することにより、乾燥塗布量0.05g
/m2の感熱層を形成した。 (下塗り層塗布液) ・アラビアガム 1g ・水 1000g
(Formation of Undercoat Layer) The following undercoat layer coating solution was coated on the aluminum support and dried by heating (1).
00 ° C, 1 minute) to obtain a dry coating amount of 0.05 g
/ M 2 of the thermosensitive layer. (Coating solution for undercoat layer) ・ Arabic gum 1g ・ Water 1000g

【0140】(記録層の形成)次いで、上記下塗り支持
体上に、下記の記録層塗布液を塗布、乾燥(100℃,
2分)することにより、乾燥塗布重量0.6g/m2
記録層を形成して、各々の平版印刷版用原版を得た。
(Formation of Recording Layer) Then, the following recording layer coating solution was coated on the undercoating support and dried (at 100 ° C.,
2 minutes) to form a recording layer having a dry coating weight of 0.6 g / m 2 , thereby obtaining respective lithographic printing plate precursors.

【0141】 (記録層塗布液) ・表1記載のスルホン酸発生型高分子化合物 1.0g ・表1記載の高分子バインダー (表1記載の量) ・表1記載の赤外線吸収剤 0.15g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 0.05g ・フッ素系界面活性剤 (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.06g ・メチルエチルケトン 10g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 10g ・メチルアルコール 7g(Recording layer coating solution) Sulfonic acid generating type polymer compound described in Table 1 1.0 g Polymer binder described in Table 1 (amount described in Table 1) Infrared absorber 0.15 g described in Table 1・ Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.05 g ・ Fluorine-based surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.06 g ・ Methyl ethyl ketone 10 g・ Propylene glycol monomethyl ether 10g ・ Methyl alcohol 7g

【0142】[0142]

【表1】 [Table 1]

【0143】[0143]

【化23】 Embedded image

【0144】(平版印刷版の作成) 1.画像記録工程(レーザー露光) 上記の平版印刷版原版の記録層側からCREO社の40
Wトレンドセッター(40Wの830nm半導体レーザ
ーを搭載プレートセッター)を用い、300mJ/cm
2のエネルギーで露光を行い、画像記録を行った。 2.印刷工程(印刷評価) 次いで、上記の画像記録した平版印刷版原版をなんら処
理することなくそのまま印刷機(ハイデルベルグSOR
−M,ローラー冷却温度15℃)に装着し、下記組成の
エマルジョンインキを用いて印刷したところ、前記の各
実施例ともに、刷り出し初期に、レーザー露光部の記録
層は速やかに印刷機上において版面より除去され、いず
れも2万枚の非画像部の汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。本発明の平版印刷方法によれば、記録層に含まれ
るスルホン酸発生型高分子化合物、バインダー、赤外線
吸収剤の種類に係わらず、良好な印刷物が安定して得ら
れることがわかった。
(Preparation of planographic printing plate) Image recording process (laser exposure) From the recording layer side of the lithographic printing plate precursor, 40
300mJ / cm using W trend setter (plate setter mounted with 830nm semiconductor laser of 40W)
Exposure was performed with energy of 2 , and image recording was performed. 2. Printing Step (Printing Evaluation) Then, the lithographic printing plate precursor on which the image was recorded was directly processed without any processing by a printing machine (Heidelberg SOR).
−M, roller cooling temperature 15 ° C.), and printing was performed using an emulsion ink having the following composition. In each of the above Examples, the recording layer of the laser-exposed portion was promptly placed on a printing machine at the beginning of printing. Good prints were obtained from the plate surface, and all of the non-image areas of 20,000 sheets were free of stains. According to the lithographic printing method of the present invention, it was found that good printed matter was stably obtained irrespective of the types of the sulfonic acid-generating polymer compound, the binder, and the infrared absorber contained in the recording layer.

【0145】 (エマルジョンインキ組成1) [エマルジョンインキの調製] (1)ワニスの調製 (以下、部は、重量部を示す。) ワニスA :マレイン化石油樹脂 (ネオポリマー120:日本石油(株)製) 47部 スピンドル油 53部 ゲルワニスB :ロジン変性フェノール樹脂 (タマノール354:荒川化学工業(株)製) 34部 マシン油 31部 スピンドル油 31部 アルミニウムステアレート 4部 ワニスC :ギルソナイト 25部 マシン油 75部(Emulsion Ink Composition 1) [Preparation of Emulsion Ink] (1) Preparation of Varnish (Hereinafter, parts are by weight.) Varnish A: Maleated petroleum resin (Neopolymer 120: Nippon Oil Co., Ltd.) 47 parts Spindle oil 53 parts Gel varnish B: Rosin-modified phenolic resin (Tamanol 354: manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 34 parts Machine oil 31 parts Spindle oil 31 parts Aluminum stearate 4 parts Varnish C: Gilsonite 25 parts Machine oil 75 parts

【0146】 (2)油性インキ成分の調製: カーボンブラッック 14部 炭酸カルシウム(白艶華DD:白石工業(株)製) 5部 ワニスA 27部 ゲルワニスB 7部 ワニスC 11部 アマニ油 4部 マシン油 6部 スピンドル油 24部 シアニンブルー 1部 (3)親水性成分の調製: 精製水 10部 プロピレングリコール 55部 グリセリン 34部 界面活性剤(ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、 リポノックスNCE:ライオン油脂(株)製) 1部 (2)項の油性インキ成分100重量部と(3)項の親
水性成分70重量部、を攪拌混合してW/O型エマルジ
ョンインキを調製した。
(2) Preparation of oil-based ink component: Carbon black 14 parts Calcium carbonate (White gloss flower DD: manufactured by Shiraishi Industry Co., Ltd.) 5 parts Varnish A 27 parts Gel varnish B 7 parts Varnish C 11 parts Linseed oil 4 parts Machine Oil 6 parts Spindle oil 24 parts Cyanine blue 1 part (3) Preparation of hydrophilic component: Purified water 10 parts Propylene glycol 55 parts Glycerin 34 parts Surfactants (polyoxyethylene alkyl phenyl ether, Liponox NCE: Lion Oil & Fat Co., Ltd. 1) 100 parts by weight of the oil-based ink component of (2) and 70 parts by weight of the hydrophilic component of (3) were stirred and mixed to prepare a W / O emulsion ink.

【0147】〔実施例11〜20〕 (支持体の作成)両面にサンドブラスト処理を施した厚
さ175μmのポリエチレンテレフタレート(中心線平
均粗さRaは0.35μm)の両面に、コロナ処理を施
し、さらに、両面に、下記の塗布液を塗布、加熱乾燥
(180℃、30秒)し、乾燥膜厚0.2g/m2の帯
電防止層を形成した。 (帯電防止層塗布液) ・アクリル樹脂水分散液 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 20g ・酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 (平均粒径:0.1μm、17重量%) 30g ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル (ノニポール100、三洋化成工業(株)製) 0.6g ・アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩水溶液 (サンデットBL、濃度40重量%、三洋化成工業(株)製) 0.6g ・メラミン化合物 0.2g (スミテックスレジンM−3、 有効成分濃度80重量%、住友化学工業(株)製) ・シリカゲル20%水分散液 17g (スノーテックスC(日産化学工業(株)製、平均粒子径約10nm) ・水 42.4g
[Examples 11 to 20] (Preparation of support) Corona treatment was applied to both surfaces of polyethylene terephthalate (center line average roughness Ra: 0.35 μm) having a thickness of 175 μm, both surfaces of which were subjected to sand blasting. Further, the following coating solution was applied to both surfaces and dried by heating (180 ° C., 30 seconds) to form an antistatic layer having a dry film thickness of 0.2 g / m 2 . (Antistatic layer coating solution) Acrylic resin aqueous dispersion (Julima ET-410, solid content 20% by weight, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 20 g tin oxide-antimony oxide aqueous dispersion (average particle size: 0. 1 μm, 17% by weight) 30 g ・ Polyoxyethylene nonylphenyl ether (Nonipol 100, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.6 g ・ Alkyl diphenyl ether disulfonate sodium salt aqueous solution (Sandet BL, concentration: 40% by weight, Sanyo Chemical Industries ( 0.6g-Melamine compound 0.2g (Sumitec Resin M-3, active ingredient concentration 80% by weight, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)-20% silica gel aqueous dispersion 17g (Snowtex C (Nissan) (Manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., average particle size: about 10 nm) 42.4 g of water

【0148】次いで、上記のポリエチレンテレフタレー
トの片側に、下記の塗布液を塗布し、加熱乾燥(100
℃、10分)することにより、乾燥重量1g/m2の親
水性層を形成した。 (親水性層塗布液) ・酸化チタン20%/ポリビニルアルコール10%水分散液 8g (酸化チタン(和光純薬(株)製、ルチル型、平均粒径200nm) /PVA117(クラレ(株)製)=2/1重量比) ・シリカゲル20%水分散液 4g (スノーテックスC(日産化学工業(株)製、平均粒子径約10nm) ・ゾル−ゲル調製液(下記組成) 6g ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル (ノニポール100、三洋化成工業(株)製) 0.05g ・水 20g
Next, the following coating solution was applied to one side of the above polyethylene terephthalate, and dried by heating (100
C. for 10 minutes) to form a hydrophilic layer having a dry weight of 1 g / m 2 . (Hydrophilic layer coating liquid) 8 g of aqueous dispersion of titanium oxide 20% / polyvinyl alcohol 10% (titanium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., rutile type, average particle diameter 200 nm)) / PVA117 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) = 2/1 weight ratio) 4 g of 20% aqueous silica gel dispersion (Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle size about 10 nm)) 6 g of sol-gel preparation liquid (the following composition) 6 g of polyoxyethylene nonyl Phenyl ether (Nonipol 100, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.05 g / water 20 g

【0149】(ゾル−ゲル調製液の作成)下記組成の液
を室温において、1時間熟成してゾル−ゲル調製液を作
成した。 ・テトラエトキシシラン 11.0g ・メタノール 20.7g ・0.1規定 硝酸 4.5g (記録層の作成)上記、ポリエチレンテレフタレート支
持体の親水性層の上に、実施例1〜10において用いた
記録材料と同様にして、乾燥塗布重量1.0g/m2
記録層を形成し、平版印刷版用原版(実施例11〜20
用)を得た。 (画像記録/印刷評価)実施例1と同様にして、画像記
録及び印刷を行ったところ、いずれの平版印刷版原版も
刷り出し初期に、レーザー露光部の記録層は速やかに印
刷機上において版面より除去され、2万枚の非画像部の
汚れのない良好な印刷物が得られた。本発明の方法によ
れば、非導電性の樹脂シートを支持体とした場合におい
ても、アルミニウム支持体と同様の効果が得られること
がわかった。
(Preparation of Sol-Gel Preparation Solution) A solution having the following composition was aged at room temperature for 1 hour to prepare a sol-gel preparation solution. 11.0 g of tetraethoxysilane. 20.7 g of methanol. 4.5 g of 0.1 N nitric acid. (Preparation of recording layer) The recording used in Examples 1 to 10 on the hydrophilic layer of the polyethylene terephthalate support described above. A recording layer having a dry coating weight of 1.0 g / m 2 was formed in the same manner as the material, and a lithographic printing plate precursor (Examples 11 to 20).
For) obtained. (Image Recording / Printing Evaluation) When image recording and printing were performed in the same manner as in Example 1, the recording layer of the laser-exposed portion was promptly printed on a printing machine at the beginning of printing of any lithographic printing plate precursor. As a result, 20,000 good prints without stains on the non-image area were obtained. According to the method of the present invention, it was found that the same effect as that of the aluminum support was obtained even when the non-conductive resin sheet was used as the support.

【0150】〔実施例21〜30〕親水性層の形成を下
記に変える以外は、実施例11〜20と各々同様にし
て、平版印刷用原版を得た。次いで、実施例1と同様に
して、画像記録及び印刷を行ったところ、いずれの平版
印刷版においても、刷り出し初期に、レーザー露光部の
記録層は速やかに印刷機上において、版面より除去さ
れ、2万枚の非画像部の汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。 (親水性層の形成)次いで、感熱層上にバッチ式スパッ
タ成膜装置(芝浦エレテック製 CFS−10−EP7
0)を用い下記条件で厚さ20nmになるよう酸化チタ
ンを成膜し、親水性層を形成した。 ターゲット材:酸化ケイ素 雰囲気 :アルゴン 成膜時圧力 :5mtorr パワー :RF1kW(電源は日本電子製JRF−
3000) なお、成膜前には帯電防止層表面を下記条件でグロー処
理した。
Examples 21 to 30 Except that the formation of the hydrophilic layer was changed as described below, lithographic printing original plates were obtained in the same manner as in Examples 11 to 20, respectively. Next, when image recording and printing were performed in the same manner as in Example 1, in any planographic printing plate, at the initial stage of printing, the recording layer of the laser exposed portion was promptly removed from the plate surface on a printing press. 20,000 good prints without stains on the non-image area were obtained. (Formation of hydrophilic layer) Then, a batch type sputtering film forming apparatus (CFS-10-EP7 manufactured by Shibaura Eletech Co., Ltd.) is formed on the heat-sensitive layer.
Using 0), a titanium oxide film was formed to a thickness of 20 nm under the following conditions to form a hydrophilic layer. Target material: silicon oxide Atmosphere: argon Film formation pressure: 5 mtorr Power: RF1 kW (power supply is JRF- manufactured by JEOL Ltd.)
3000) Before the film formation, the surface of the antistatic layer was glowed under the following conditions.

【0151】雰囲気 :アルゴン 処理時圧力 :5.0mtorr パワー :Rf3kW (電源は日本電子製JRF
−3000) 時間 :2.5分
Atmosphere: Argon Pressure during processing: 5.0 mtorr Power: Rf 3 kW (Power supply is JRF manufactured by JEOL Ltd.)
-3000) Time: 2.5 minutes

【0152】〔実施例31〕エマルジョンインキの組成
を下記に変更した以外は、実施例17と同様にして、印
刷評価したところ、刷り出し初期に、オーバーコート層
及びレーザー露光部の親水性層は速やかに印刷機上にお
いて、版面より除去され、2万枚の非画像部の汚れのな
い良好な印刷物が得られた。本発明の方法によれば、エ
マルジョンインキの組成を変えた場合においても、安定
した印刷が可能であった。
Example 31 The printing was evaluated in the same manner as in Example 17 except that the composition of the emulsion ink was changed as follows. At the beginning of printing, the overcoat layer and the hydrophilic layer in the laser-exposed area were evaluated. Immediately on the printing press, it was removed from the plate surface, and 20,000 sheets of good printed matter without stains on the non-image area were obtained. According to the method of the present invention, stable printing was possible even when the composition of the emulsion ink was changed.

【0153】 (エマルジョンインキ組成2) [エマルジョンインキの調製] (1)ワニスの調製 (以下、部は、重量部を示す。) 以下の配合により、200℃、1時間加熱ゲル化し、ゲルワニスDを得た。 ロジン変性フェノール樹脂 (ヒタノール270T:日立化成(株)製) 42部 低粘度アマニ油重合ワニス(2ポイズ) 30部 スピンドル油 27部 エチルアセトアセト・アルミニウム・ジイソプロピレート 1部 (2)油性インキ成分の調製: ゲルワニスD 66部 フタロシアニンブルー 20部 低粘度アマニ油重合ワニス(2ポイズ) 5部 ポリエチレンワックスコンパウンド 3部 コバルトドライヤ 1部 スピンドル油 5部 (3)親水性成分の調製: エチレングリコール 100部 (2)項の油性インキ成分100重量部と(3)項の親
水性成分45重量部、を攪拌混合してW/O型エマルジ
ョンインキを調製した。
(Emulsion Ink Composition 2) [Preparation of Emulsion Ink] (1) Preparation of Varnish (Hereinafter, parts are by weight.) By the following formulation, gelled by heating at 200 ° C. for 1 hour to prepare gel varnish D Obtained. Rosin-modified phenol resin (Hitanol 270T: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 42 parts Low viscosity linseed oil polymerization varnish (2 poises) 30 parts Spindle oil 27 parts Ethyl acetoaceto aluminum diisopropylate 1 part (2) Oil-based ink component Preparation: Gel Varnish D 66 parts Phthalocyanine Blue 20 parts Low viscosity linseed oil polymerization varnish (2 poise) 5 parts Polyethylene wax compound 3 parts Cobalt dryer 1 part Spindle oil 5 parts (3) Preparation of hydrophilic component: ethylene glycol 100 parts ( A W / O emulsion ink was prepared by stirring and mixing 100 parts by weight of the oily ink component of the item 2) and 45 parts by weight of the hydrophilic component of the item 3).

【0154】〔実施例32〜37〕エマルジョンインキ
の親水性成分を下記表2に記載の組成に変更した以外
は、 実施例31と同様にして、印刷評価したところ、いずれ
の平版印刷版においても、刷り出し初期に、オーバーコ
ート層及びレーザー露光部の親水性層は速やかに印刷機
上において版面より除去され、2万枚の非画像部の汚れ
のない良好な印刷物が得られた。本発明の方法によれ
ば、エマルジョンインキ中に含まれる親水性成分の組成
を変えても、同様の効果が得られることがわかった。
Examples 32 to 37 The printing evaluation was carried out in the same manner as in Example 31 except that the hydrophilic component of the emulsion ink was changed to the composition shown in Table 2 below. At the beginning of printing, the overcoat layer and the hydrophilic layer in the laser-exposed area were promptly removed from the plate surface on a printing machine, and 20,000 sheets of good printed matter free of non-image areas were obtained. According to the method of the present invention, it was found that the same effect was obtained even when the composition of the hydrophilic component contained in the emulsion ink was changed.

【0155】[0155]

【表2】 [Table 2]

【0156】〔比較例1〕印刷時に前記のエマルジョン
インキを用いる代わりに、湿し水不要平版印刷用インキ
であるアクアレスエコー墨LZ(東洋インキ製造(株)
製)を印刷インキとして用いた以外は、実施例17と同
様にして印刷評価を行ったところ、非画像部が汚れ、良
好な印刷物を得ることができなかった。
[Comparative Example 1] Instead of using the above-mentioned emulsion ink at the time of printing, Aqualess Echo Ink LZ (Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.), a lithographic printing ink requiring no dampening solution, was used.
The printing evaluation was performed in the same manner as in Example 17 except for using) as a printing ink. As a result, a non-image portion was stained, and a good printed matter could not be obtained.

【0157】[0157]

【発明の効果】本発明の平版印刷方法によれば、加熱、
または、光熱変換により生じた熱により、高感度で画像
記録ができ、耐刷性や汚れ性等の印刷適性に優れ、さら
に、簡易な印刷機上処理により製版可能な感熱性平版印
刷版原版により、湿し水を用いることなく、簡易に、安
定した印刷物を得ることができる。
According to the lithographic printing method of the present invention, heating,
Alternatively, the heat generated by the light-to-heat conversion enables image recording with high sensitivity, excellent printability such as printing durability and stain resistance, and a heat-sensitive lithographic printing plate precursor that can be made by simple on-press processing. A stable printed matter can be easily obtained without using a dampening solution.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H084 AA14 AA38 AE05 CC06 2H096 AA06 BA16 BA20 CA03 EA04 EA23 GA02 GA60 2H113 AA02 AA03 BA06 BC01 BC02 DA03 DA04 DA07 DA35 DA42 DA53 DA54 FA44 2H114 AA05 AA24 BA01 BA10 DA03 DA04 DA05 DA08 DA27 DA34 DA42 DA52 DA53 EA01 EA03 EA05 EA08 GA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H084 AA14 AA38 AE05 CC06 2H096 AA06 BA16 BA20 CA03 EA04 EA23 GA02 GA60 2H113 AA02 AA03 BA06 BC01 BC02 DA03 DA04 DA07 DA35 DA42 DA53 DA54 FA44 2H114 AA05 AA04 DA03 DA DA34 DA42 DA52 DA53 EA01 EA03 EA05 EA08 GA01

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性表面を有する支持体上に、加熱に
よりスルホン酸を発生させる官能基を有する高分子化合
物を含有する記録層を設けた感熱性平版印刷版原版に、
画像記録を行った後、油性インキ成分に水及び/又は多
価アルコールを主成分とする親水性成分を加え、乳化し
て得られたエマルジョンインキを用いて印刷することを
特徴とする平版印刷の方法。
1. A heat-sensitive lithographic printing plate precursor comprising a support having a hydrophilic surface and a recording layer containing a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid upon heating,
After image recording, a lithographic printing method is characterized in that a hydrophilic component containing water and / or a polyhydric alcohol as a main component is added to an oil-based ink component, and printing is performed using an emulsion ink obtained by emulsification. Method.
【請求項2】 前記加熱によりスルホン酸を発生させる
官能基が、下記一般式(1)、(2)又は(3)で表さ
れる官能基の少なくとも1種であることを特徴とする請
求項1に記載の平版印刷方法。 一般式(1) −L−SO2−O−R1 一般式(2) −L−SO2−SO2−R2 【化1】 (式中、Lは一般式(1)、一般式(2)又は一般式
(3)で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに
必要な非金属原子からなる多価の有機基を表し、R1
アリール基、アルキル基又は環状イミド基を示し、
2、R3はアリール基又はアルキル基を示し、R4はア
リール基、アルキル基又は−SO2−R5を示し、R5
アリール基又はアルキル基を示す。)
2. The functional group which generates sulfonic acid by heating is at least one of functional groups represented by the following general formulas (1), (2) or (3). 2. The lithographic printing method according to 1. General formula (1) -L-SO 2 -OR 1 General formula (2) -L-SO 2 -SO 2 -R 2 (In the formula, L represents a polyvalent organic group comprising a nonmetallic atom necessary for connecting the functional group represented by the general formula (1), (2) or (3) to the polymer skeleton. , R 1 represents an aryl group, an alkyl group or a cyclic imide group,
R 2, R 3 represents an aryl group or an alkyl group, R 4 represents an aryl group, an alkyl group or -SO 2 -R 5, R 5 represents an aryl group or an alkyl group. )
【請求項3】 前記記録層が、光熱変換物質を含有し、
レーザー光による画像露光後、露光部において発生した
スルホン酸により記録層の除去が可能となり、印刷時に
前記エマルジョンインキを版面に供給することにより、
エマルジョンインキの働きで露光部の記録層が除去さ
れ、非画像部が形成されることを特徴とする請求項1に
記載の平版印刷方法。
3. The recording layer contains a photothermal conversion material,
After image exposure by laser light, the recording layer can be removed by the sulfonic acid generated in the exposed area, and by supplying the emulsion ink to the plate surface during printing,
2. The lithographic printing method according to claim 1, wherein the recording layer in the exposed area is removed by the action of the emulsion ink to form a non-image area.
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