JP2002202518A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2002202518A JP2001335992A JP2001335992A JP2002202518A JP 2002202518 A JP2002202518 A JP 2002202518A JP 2001335992 A JP2001335992 A JP 2001335992A JP 2001335992 A JP2001335992 A JP 2001335992A JP 2002202518 A JP2002202518 A JP 2002202518A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶表示装置において、画素電極の端付近にで
きる等電位線の屈曲を抑えるこにより光漏れ及びディス
クリネーションを低減することを課題とする。 【解決手段】ゲートライン反転駆動を適用する液晶表示
装置においては、画素電極の端部のうち、走査線に沿っ
て設けられた部分を画素電極の主面に対し盛り上げて形
成する。また、画素電極の端部のうち、信号線に沿って
設けられた部分については画素電極の主面と同一の高さ
に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電界効果型トランジ
スタ(FET)、例えば、薄膜トランジスタ(TFT)
で構成された回路を有する半導体装置およびその作製方
法に関する。TFTとは、半導体層、ゲート電極、ソー
ス電極、ドレイン電極を含む半導体素子をいう。
【0002】なお、本明細書中において素子基板とは、
TFTのような半導体素子を形成した基板全般を指す。
【0003】なお、本明細書中において表示装置とは、
電気的な信号の変化により明暗の表示を行う装置全般を
指し、液晶に電気的な信号を印可して表示を行う表示装
置を液晶表示装置という。
【0004】
【従来の技術】近年、絶縁表面を有する基板上に形成さ
れた半導体薄膜(厚さ数〜数百nm程度)を用いてTF
Tを構成する技術が注目されている。TFTはICや半
導体装置のような電子デバイスに広く応用され、特に液
晶表示装置のスイッチング素子として開発が急がれてい
る。
【0005】液晶表示装置には大きく分けてアクティブ
マトリクス型とパッシブマトリクス型の二種類のタイプ
が知られている。アクティブマトリクス型の液晶表示装
置はスイッチング素子としてTFTを用いており、高品
位な画像を得ることができる。アクティブマトリクス型
の用途としてはノート型のパーソナルコンピュータが一
般的であるが、家庭用のテレビ、携帯端末としても用途
も期待されている。
【0006】アクティブマトリクス型の液晶表示装置の
うち、投影型の液晶表示装置は画面をスクリーンに拡大
して大画面の表示を得ることができる。近年、投影型の
液晶表示装置において、液晶パネルを小型にすること
で、光学系を小型化して携帯性を持たせる技術が開発さ
れている。光学系を小型にすることで、光学系のコスト
が低下して、安価に液晶表示装置を提供することもでき
る。
【0007】ところで、アクティブマトリクス型の液晶
表示装置はライン反転駆動をするのが一般的である。ラ
イン反転駆動のうち、例えばソースライン反転駆動と
は、図30の画素部の上面図のようにm列の信号線に接
続した画素TFTに書き込む信号電圧の極性が隣接する
信号線毎に異なる。そして、奇数フレーム(図30
(1))と偶数フレーム(図30(2))とで信号線に
接続した画素TFTに書き込む信号電圧の極性を変えて
いくものである。画素TFTに書き込む信号電圧の極性
を変えて液晶を交流駆動することにより液晶の焼付きを
防止する。ゲートライン反転駆動は、図30の信号線を
走査線に置き換えれば良い。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】アクティブマトリクス
型の液晶表示装置で、液晶のディスクリネーション及び
光漏れが発生する原理を体系的に調べ、光漏れ及びディ
スクリネーションを防止できるような素子構造を提供す
ることが本発明の課題である。
【0009】配向膜の界面では、液晶がその一端を持ち
上げるように配向する。本明細書では、液晶分子の配向
膜の界面に近い一端から、配向膜から持ちあがったとこ
ろにある一端へと向かう方向を基板面に正射影したもの
を「プレチルトの方向」という。さらに、配向膜の界面
と、配向膜の界面近傍にある液晶の長軸とのなす角度を
「プレチルト角」という。プレチルト角はラビングにより
付与されるものと、電界を液晶に印加することにより配
向膜界面近傍の液晶がスイッチングして付与されるもの
がある。
【0010】また、本明細書では、配向膜界面で、近接
する液晶のプレチルトの方向がほぼ逆向きなことから生
じる配向不良を「ディスクリネーション」と称する。ま
た、液晶のプレチルトの方向は同一だが、電界分布、ラ
ビングむらによりプレチルト角が局所的に異なる領域が
ある。このように正規の配向状態でないときに生じる液
晶の配向不良は液晶表示パネル(液晶パネル)に二枚の
偏光板を配置したときに局所的に明度が高く光が漏れた
ように見える。そこで、プレチルトの向きは同じだがプ
レチルト角が局所的に異なる液晶の配向を本明細書では
「光漏れ」と称する。
【0011】アクティブマトリクス方式により液晶表示
装置を駆動するときに、光漏れ及びディスクリネーショ
ンによって表示品質が損なわれる。つまり、ノーマリー
ホワイトモードにおいては、光漏れ及びディスクリネー
ションを隠すために遮光膜が必要であり開口率が低下す
る。
【0012】投影型の液晶表示装置のような微細な画素
が形成されている液晶表示装置においては、ディスクリ
ネーション及び光漏れが発生すると、これらが画素に占
める割合が無視できないくらいに大きい。さらに、遮光
膜のアライメントずれにより、光漏れ及びディスクリネ
ーションが隠しきれないと、黒表示をするときに輝線の
如く光漏れ及びディスクリネーションが視認されてコン
トラストが低下する。つまり、投影型の液晶表示装置に
おいて、光漏れ及びディスクリネーションをいかに抑え
るかが重要となる。
【0013】層構造を有し配向秩序が高いスメクチック
液晶に比べて、ネマチック液晶は画素電極と画素電極の
間にできる電界によりディスクリネーション及び光漏れ
が起こりやすい。このため、特にネマチック液晶を用い
た配向方式において、ディスクリネーション及び光漏れ
を低減するような対策を行う必要がある。
【0014】なぜ、光漏れ及びディスクリネーションが
起こるかを図12の液晶表示装置の画素部の断面を示す
模式図を用いて説明する。図12で互いに隣接する画素
電極において、画素電極101aは+5Vの電位を有
し、画素電極101bは−5Vの電位を有するとする。
対向電極102は0Vの電位とする。画素電極の表面に
対し等電位線103が平行にできる領域ではポジ型の液
晶は画素電極の表面に対し液晶分子108の長軸が垂直
になるように配向する。ポジ型の液晶とは、正の誘電率
異方性を有する液晶をいう。しかし、画素電極の端では
等電位線が屈曲するため液晶分子106が画素電極の表
面に対し斜め方向に配向して配向不良となる。いかに画
素電極の端の等電位線の屈曲を低減するかが、配向不良
を低減する上で重要と考えられる。
【0015】画素電極の端に局所的にプレチルト角の異
なる光漏れの領域104が発生する。等電位線が画素電
極の端部で屈曲をしているため、画素電極の端部では液
晶分子106が画素電極の表面に長軸が垂直になるよう
にスイッチングできないからである。
【0016】また、画素電極の端にできる電界により液
晶のプレチルトの方向が、ラビング方向107により定
められたプレチルトの方向と逆になった領域ができる。
すると、配向膜界面のプレチルト角、プレチルトの向き
が局所的に急激に変化するため、液晶の配向の歪が大き
くなり、ディスクリネーションの発生する領域105が
できる。
【0017】つまり、ディスクリネーション及び光漏れ
は画素電極の表面に平行にできる等電位線が、画素電極
の端部において屈曲してしまうことが一因となってでき
ることがわかる。以下に示す本発明は、等電位線の屈曲
をできるだけ抑え、かつ、等電位線が屈曲したとしても
出来るだけ画素電極の端に近く等電位線が屈曲するよう
に構造的な工夫をしている。
【0018】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために以下の手段を講じた。なお、本明細書において、
画素電極の端部は帯状の第1の端部、第2の端部、第3
の端部及び第4の端部に分類される。また、画素電極の
うち第1の端部、第2の端部、第3の端部及び第4の端
部に囲まれた平坦面を画素電極の主面という。なお、本
明細書で画素電極の端部とは、画素電極の端を含み、画
素電極の端から数μmの帯状に広がる部分である。画素
電極の主面とは画素電極のうち、その面積の20%以上
好ましくは50%以上を占める平坦面をいう。すなわ
ち、画素電極の最大の広さを占める平坦面が、画素電極
の主面である。
【0019】図2の液晶表示装置の画素部の上面図を用
いて本発明の画素の一例を説明すると、ゲートライン反
転駆動をする液晶表示装置において、第1の画素電極2
08の端部のうち、画素電極の第1の端部201は、第
1の走査線207Aに沿って設けられている。第1の画
素電極の第1の端部201と対向する第3の端部203
は、第1の走査線と隣接する第2の走査線207Bに沿
って設けられている。第2の端部202は、第1の信号
線212Aに沿って設けられている。第4の端部204
は第2の信号線212Bに沿って設けられている。第2
の信号線212Bは第1の信号線212Aと隣接してい
る。第1の端部の両端部206A〜206Bはそれぞ
れ、一辺が第1の信号線212A、第2の信号線212
Bに沿って設けられている。第3の端部の両端部205
A〜205Bはそれぞれ、一辺が第1の信号線212
A、第2の信号線212Bに沿って設けられている。
【0020】第1の端部201及び第3の端部203
は、その端部と隣接する画素電極が第1の端部及び第3
の端部と異極性の電位を有する。第2の端部202及び
第4の端部204はその端部と隣接する画素電極が第1
の端部及び第3の端部と同極性の電位を有する。図2を
用いて説明すると、ゲートライン反転駆動をする液晶表
示装置において、第1の画素電極208と第1の走査線
207Aを挟んで隣接する第2の画素電極209があ
る。すると、第1の画素電極208の第1の端部201
と第2の画素電極209の第3の端部203とが隣接し
ている。走査線を挟んで隣接する画素電極において、第
1の画素電極の第1の端部と第2の画素電極の第3の端
部との間には、異極性の電位を有する画素電極が隣接す
ることにより形成される電界がある。
【0021】ソースライン反転駆動をする液晶表示装置
においては、図2の第1の走査線207Aを第1の信号
線に置き換えて、かつ、第2の走査線207Bを第2の
信号線に置き換えれば良い。当然、第1の信号線212
Aを第1の走査線に置き換え、第2の信号線212Bを
第2の走査線に置き換えることが必要である。つまり、
ソースライン反転駆動をする液晶表示装置においても、
第1の画素電極の第1の端部と第2の画素電極の第3の
端部との間には、異極性の画素電極が隣接することによ
り形成される電界があることはゲートライン反転駆動を
する液晶表示装置と変わらない。
【0022】光漏れ及びディスクリネーションは画素電
極の端にできる等電位線の屈曲をおさえることで低減で
きると考えられる。しかし、隣接する画素電極が同極性
か異極性かで画素電極端部での等電位線の屈曲の度合い
がかわる。そこで、隣接する画素電極が異極性か同極性
かを考慮した上で、等電位線の屈曲を抑える構造を提案
する必要があると予測して、下記、のように場合わ
けをして対策を行った。
【0023】[画素電極端部の凸部] 隣接する画素電極が異極性の電位の場合 画素電極の第1の端部及び第3の端部を画素電極の主面
に対して、対向電極に近い高さに設けることで液晶の配
向がどのように変るかをシミュレーションした。シミュ
レーションモデルを図3に示す。図3のシミュレーショ
ンモデルは液晶表示装置の画素部の断面を示す。セルギ
ャップ(d)とは、対向電極の表面から画素電極の主面
までの距離をいう。画素電極の間の距離(s)とは、互
いに隣接する画素電極の形状を画素電極の主面に接する
面に正射影して形成される図形において、行方向に隣接
する画素電極においては表示領域の行方向と平行な方向
で測定した画素電極の端の点から隣接する画素電極の端
までの距離をいう。列方向に隣接する画素電極において
は、画素電極の端の点から表示領域の列方向と平行な方
向で測定した隣接する画素電極の端の点までの距離をい
う。局所的に画素電極の間の距離が異なることもありう
るが、このようなときは、画素電極の間の距離の分布の
うち、最大の割合を占める距離で代表させる。図2の上
面図でゲートライン反転駆動をする液晶表示装置を仮定
すると本シミュレーションにおける画素電極の間の距離
(s)とは、第1の画素電極208と第2の画素電極2
09との間の距離をいう。
【0024】図3において、各電極の電位は、第1の画
素電極303aは+5V、第2の画素電極303bは−
5V、対向電極301は0Vである。液晶302はメル
ク社製の液晶であるZLI4792であり、液晶のプレ
チルト角は6.0°、カイラルピッチは左巻きで70μ
m、ツイスト角が90°である。画素のピッチ(p)は
18μmである。第1の画素電極と第2の画素電極との
間の距離(s)は2.0μmである。セルギャップ(d)
は4.5μmである。画素電極、対向電極は透光性の基
板307上に設けられていると仮定する。図3のシミュ
レーションモデルを一単位として、それが周期的に繰り
返された構造とする。図3にラビング方向305〜30
6を示す。シミュレーションのソフトはシンテック社製
のLCD Masterを用いた。
【0025】そして、凸部304の有無及び第1の端部
の幅(L1)をパラメーターとしてシミュレーションを
した。第1の端部及び第3の端部は平坦面から盛り上が
った高さに形成されている。凸部と画素電極の重なる幅
つまり第1の端部の幅(L1)及び第3の端部の幅
(L2)とは、画素電極の主面に対し、盛り上がった部
分を、画素電極の主面と接する面に正射影して形成され
る多角形において、画素電極の端の各点からその各点と
対向する辺までの最短の長さをいう。なお、凸部上に画
素電極の端部が設けられた構成において、第1の端部の
高さとは画素電極の主面に接する面と第1の端部の最上
端部との距離をいう。第3の端部の高さとは、画素電極
の主面に接する面と第3の端部の最上端部との距離をい
う。第1の端部の高さ及び第3の端部の高さは(h)は
シミュレーションでは0.5μmとする。シミュレーシ
ョンにおいて第1の端部の幅(L1)と第3の端部の幅
(L2)を同じにしてある。また、第1の端部の高さと
第3の端部の高さを同じにしてある。
【0026】シミュレーションの条件において、互いに
異極性の電位を有する第1の画素電極303a及び第2
の画素電極303bが隣接する。つまり、ゲートライン
反転駆動をする液晶表示装置においては、図3のモデル
は第1の画素電極303aと、第1の画素電極と列方向
に隣接する第2の画素電極303bとが互いに異極性の
電位を有していて、第1の画素電極の第1の端部100
1と第2の画素電極の第3の端部1002とが隣接して
いることを示している。
【0027】また、ソースライン反転駆動をする液晶表
示装置においては、第1の画素電極303aと、第1の
画素電極と行方向に隣接する第2の画素電極303bと
が、互いに異極性の電位を有していて、第1の画素電極
の第1の端部1001と第2の画素電極の第3の端部1
002とが隣接していることを示している。
【0028】特徴を示す代表的なシミュレーションの結
果を図13〜図14に示す。図13〜図14は、凸部と
重なる画素電極の幅と透過率との関係を示している。図
13(A)は平坦面上に画素電極が形成されている場
合、図13(B)は画素電極の端(第1の端部、第3の
端部)が凸部上に1.4μm重なって形成されている場
合、図14は画素電極の端(第1の端部、第3の端部)
が凸部上に4.0μm重なって形成されている場合を示
す。透過率が低いほど良質な黒表示が実現されているこ
とを示す。シミュレーションの結果には画素電極、対向
電極、液晶のダイレクタ、等電位線、透過率が示されて
いる。実際のシミュレーションでは、横軸のスケールの
1μm〜16μmの部分に画素電極が設けられ、かつ、
横軸のスケールの19μm〜35μmの部分に画素電極
が設けられている。そして、画素電極同士は、2μmの
間隙をおいて、隣接している。ただし、図13〜図14
においては、画素電極の端の部分でのディスクリネーシ
ョン及び光漏れに注目するため、横軸のスケールの10
μm〜26μmの部分だけを拡大して示している。図1
3(A)のように画素電極が平坦面上にあると、画素電
極の端部で等電位線が屈曲する。しかし、図13(B)
のように第1の画素電極の第1の端部及び第2の画素電
極の第3の端部が画素電極の主面に比べて、対向電極に
近い高さに設けられているときは、第1の画素電極の第
1の端部及び第2の画素電極の第3の端部の近傍では、
画素電極の表面に沿って等電位線ができることから、第
1の画素電極の第1の端部及び第2の画素電極の第3の
端部の近傍での等電位線の屈曲が若干抑えられて、ディ
スクリネーション及び光漏れの低減につながる。しか
し、図14のように、第1の端部の幅及び第3の端部の
幅を広くすると、本来第1の画素電極及び第3の画素電
極が形成された平坦面に平行であった等電位線ですら
も、画素電極の主面に対して盛り上がった第1の端部及
び第3の端部のせいで対向電極の側へと屈曲してしま
い、ディスクリネーション及び光漏れが増加する。つま
り、隣接する画素電極が異極性の電位のときには、第1
の画素電極の第1の端部及び第2の画素電極の第3の端
部を画素電極の主面に対して盛り上げて形成し、対向電
極に近い高さにすると良いが、光漏れ及びディスクリネ
ーションを低減するためには、第1の端部の幅及び第3
の端部の幅は最適値があることがわかった。
【0029】具体的な数値で図13〜図14の結果をま
とめる。光漏れ及びディスクリネーションの幅の和をx
(μm)で示す。 図13(A)のように画素電極が平坦面上にあるとき…
xは9.2μm 図13(B)のように第1の画素電極の第1の端部の幅
が1.4μmであり、第2の画素電極の第3の端部の幅
が1.4μmのとき…xは6.8μm 図14のように第1の画素電極の第1の端部の幅が4.
0μmであり、第2の画素電極の第3の端部の幅が4.
0μmのとき…xは9.3μm つまり、三つのシミュレーション結果を比較すると、第
1の端部の幅及び第3の端部の幅が1.4μmのときは
光漏れ及びディスクリネーションを抑制する効果が高
い。
【0030】図3のモデルにおいて、第1の端部の幅
(L1)と光漏れ及びディスクリネーションの幅の和
(x)との関係をセルギャップ(d)、第1の端部の高
さ(h)、第1の画素電極と第2の画素電極との間の距
離(s)、画素のピッチ(p)を変えてシミュレーショ
ンした結果を図11に示す。図11は、横軸は画素電極
と凸部が重なる幅(第1の端部の幅)を示し、縦軸は光
漏れ及びディスクリネーションの幅の和を示す。光漏れ
及びディスクリネーションの幅の和が少ないほど、黒表
示の質が良いことを示す。図3のモデルで示したよう
に、第1の端部1001の高さと第3の端部1002の
高さは同じにしてシミュレーションを行っている。この
ため、第1の端部の高さが0.5μmであれば、必然的
に第3の端部の高さが0.5μmであることを示す。ま
た、第1の端部の幅(L1)と第2の画素電極の幅
(L2)を同じにして、シミュレーションをしている。
このため、第1の端部の幅が0.5μmであれば、必然
的に第3の端部の幅が0.5μmであることを示す。
【0031】傾向としては、第1の端部及び第3の端部
の高さが低いとディスクリネーション及び光漏れを抑制
する効果が低いため、第1の端部及び第3の端部の高さ
は0.5μm以上ある方が好ましかった。第1の端部及
び第3の端部の高さが0.5μm以上あるときに、セル
ギャップが4.5μm以下であり、画素電極の間の距離
が4.0μm以下のときは、第1の端部の幅及び第3の
端部の幅は画素電極の端から3.0μm以下に抑えない
と、光漏れ及びディスクリネーションの幅の和が、第1
の端部及び第3の端部がないときよりも増加してしまう
ことがわかった。
【0032】図11(A)、図11(B)を比較する
と、第1の端部及び第3の端部を画素電極の主面に対し
て盛り上げ、対向電極に近い高さに設けることの効果は
特にセルギャップが大きくなるほど顕著に現れることが
わかる。セルギャップが大きいと、対向電極と画素電極
との間にできる電界が弱く、画素電極の端部で等電位線
が屈曲しやすい。このように、画素電極の端部での等電
位線の屈曲が大きいときに、第1の端部及び第3の端部
を画素電極の主面に対して盛り上げて形成して、等電位
線の屈曲を抑えることが有効であることがわかる。
【0033】また、画素ピッチ(p)を変えてシミュレ
ーションしたが、18μmピッチの画素においても、4
3μmピッチの画素においても、光漏れ及びディスクリ
ネーションの出方は大きく変わらなかった。これは、デ
ィスクリネーション及び光漏れが画素電極の端部で起こ
る現象だからである(図11(A))。
【0034】同極性の電位を有する画素電極が隣接す
る場合 図2の画素部の上面図に示す画素電極の端部のうち、ゲ
ートライン反転駆動をする液晶表示装置においては、第
1の画素電極208の第4の端部204は、同極性の電
位を有する第3の画素電極210の第2の端部202と
隣接する。そこで、互いに同極性の電位を有して隣接し
合う第2の端部および第4の端部の構造をどのようにす
れば良いかを詳細に説明する。
【0035】図2を用いて説明すると、ゲートライン反
転駆動をする液晶表示装置において、信号線212Bを
挟んで隣接する画素電極が同極性の電位であるときに、
第1の画素電極208の第4の端部204及び第3の画
素電極210の第2の端部202において、第2の端部
及び第4の端部が画素電極の主面に対して盛り上がって
いて、対向電極に近い高さに設けられているか、平坦面
に形成されているかで液晶の配向の変化を比べた。
【0036】図3のシミュレーションモデルにおいて、
第1の画素電極303aと隣接する画素電極を第3の画
素電極303bとする。さらに、第2の端部の幅
(L1)及び第4の端部の幅(L2)は同一の長さとす
る。
【0037】第1の画素電極303a及び第3の画素電
極303bとも+5Vの電位を有すること以外は、[画
素電極端部の凸部]ののシミュレーションの条件と同
じである。つまり、対向電極の電位は0Vであり、第1
の画素電極303aと第3の画素電極303bの間の距
離(s)は2.0μmである。第2の端部の高さ(h)
及び第4の端部の高さ(h)は0.5μmである。セル
ギャップ(d)は4.5μmである。シミュレーション
の液晶の物性値は室温のZLI4792のデータを用い
ている。液晶のプレチルト角は6°、ツイスト角は90
°、ラビング方向は305〜306で示されている。
【0038】シミュレーションの結果を図15及び図1
6に示す。図15、図16は同極性の電位を有する画素
電極が隣接している場合の、画素電極と凸部の重なる幅
による透過率の変化を示す。透過率が低いほど良好な黒
表示がされていることを示す。図15(A)は平坦面上
に画素電極が形成されている場合、図15(B)は画素
電極の端(第1の端部、第3の端部)が凸部上に1.4
μm重なって形成されている場合、図16は画素電極の
端(第1の端部、第3の端部)が凸部上に4.0μm重
なって形成されている場合を示す。実際のシミュレーシ
ョンでは、横軸のスケールの1μm〜16μmの部分に
画素電極が設けられ、かつ、横軸のスケールの19μm
〜35μmの部分に画素電極が設けられている。そし
て、画素電極同士は、2μmの間隙をおいて、隣接して
いる。ただし、図15〜図16においては、画素電極の
端の部分でのディスクリネーション及び光漏れに注目す
るため、横軸のスケールの10μm〜26μmの部分だ
けを拡大して示している。具体的な数値で図15〜図1
6のシミュレーションの結果をまとめる。光漏れの大き
さを光漏れの透過率の最大値(%)で示す。なお、配向
膜の界面でプレチルトの向きが逆になることからできる
ディスクリネーションはなかった。 図15(A)のように画素電極が平坦面上にあるとき…
光漏れの透過率の最大値は0.3% 図15(B)のように第1の画素電極の第2の端部の幅
が1.4μmであり、第3の画素電極の第4の端部の幅
が1.4μmであるとき…光漏れの透過率の最大値は
1.0% 図16のように第1の画素電極の第2の端部の幅が4.
0μmであり、第3の画素電極の第4の端部の幅が4.
0μmであるとき…光漏れの透過率の最大値は1.0%
【0039】隣接する画素電極が同極性の電位のとき
は、等電位線は画素電極が形成された平坦面にほぼ平行
にできる。等電位線が屈曲するのは画素電極の間の領域
である。このため、画素電極の第2の端部及び第4の端
部の下方に凸部がないときは、光漏れはあったとしても
少ない(図15(A))。また、画素電極の第2の端部
及び第4の端部が画素電極の主面に対して盛り上がって
形成され、対向電極に近い高さにあるときは、もともと
画素電極が形成された平坦面に平行であった等電位線が
凸部があるために屈曲してしまい、凸部の両端にあたる
位置に光漏れができる(図15(B))。第2の端部及
び第4の端部の幅が大きくなり、凸部の両端が画素電極
の内側寄りになればなるほど凸部の両端にできる光漏れ
が画素電極の内側にできて、光漏れを隠す遮光膜が広い
幅で必要となる(図16)。このため、互いに隣接する
画素電極が同極性の電位であるときは、画素電極の第2
の端部及び第4の端部は画素電極の主面と同一の高さで
ある方が良好な液晶の配向が得られることがわかった。
つまり、隣接する画素電極が同極性のときにも、画素電
極の第2の端部及び第4の端部において、若干の光漏れ
ができる。しかし、画素電極の端部を盛り上げるような
対策はかえって逆効果であると予測される。
【0040】図17〜18のシミュレーションは、同電
位を有する画素電極が隣接している場合に、画素電極間
の距離を変えて、透過率の変化を調べたものである。画
素電極間の距離を2.0μm、4.0μm、6.0μm
と変えて傾向を調べた。
【0041】図17〜図18のシミュレーションによ
り、画素電極が同電位で隣接するときに、第1の画素電
極と第3の画素電極との間の距離は短ければ短いほど、
等電位線の屈曲が少ないことがわかる。図17〜図18
は隣接する第1の画素電極と第3の画素電極が+5Vと
同極性であり、対向電極が0Vのときの液晶の配向を示
したものである。液晶はZLI4792を用いている。
画素電極は平坦面上に形成されている。図17(A)は
画素電極の間の距離が2.0μmのときの液晶の配向を
示したものである。図17(B)は画素電極の間の距離
が4.0μmのときの液晶の配向を示したものである。
図18は画素電極の間の距離が6.0μmのときの液晶
の配向を示したものである。
【0042】図17〜図18に示されるように同極性で
隣接する画素電極の間の距離が2.0μm以下であれ
ば、等電位線の屈曲はそれほど大きくないことがわか
る。このため、画素電極の間の距離が2.0μm以下の
ときは、特に、画素電極の第2の端部及び第4の端部を
画素電極の主面に対して盛り上げて形成するのは液晶の
配向という点では逆効果であることが予測される。画素
電極の第2の端部及び画素電極の第4の端部は画素電極
の主面と同一の高さにした方が、等電位線を画素電極の
形成された面に平行にでき、液晶の配向が良好になる。
【0043】[本発明の画素部の構成1]以上の解析を
踏まえて、本発明の特徴を図1〜図2及び図4を用いて
説明する。図1(A)に画素電極の上面図を示し、マト
リクス状に配置された画素電極の斜視図を図1(B)に
示す。図2の上面図は図1(A)で示した画素電極を2
×2のマトリクス状に配置したときの信号線、走査線と
画素電極の第1の端部〜第4の端部との位置関係を示
す。図2を鎖線A−A’及び鎖線B−B’で切断した断
面を図4に示す。図1(B)の画素電極の斜視図に示し
た鎖線A−A’及び鎖線B−B’は図2の上面図、図4
の断面図に示したものと対応する。
【0044】本発明の画素部の特徴を図2を用いて説明
する。画素電極は第1の端部201、第2の端部20
2、第3の端部203及び第4の端部204及びそれら
に囲まれた画素電極の主面からなり、前記主面は平坦面
上に設けられている。また、図示してはいないが、前記
画素電極と対向して設けられた対向電極を有する。前記
第1の端部は第1の走査線207Aに沿って設けられ、
前記第3の端部は前記第1の走査線に隣接する第2の走
査線207Bに沿って設けられ、前記第2の端部は第1
の信号線212Aに沿って設けられ、前記第4の端部は
前記第1の信号線に隣接する第2の信号線212Bに沿
って設けられている。前記第1の端部201の両端部2
06A〜206Bは第1の信号線及び前記第2の信号線
に沿って設けられている。前記第3の端部203の両端
部205A〜205Bは第1の信号線及び前記第2の信
号線に沿って設けられている。そして、前記第1の端部
及び前記第3の端部は前記平坦面に対して前記対向電極
に近い高さに設けられており、前記第2の端部及び前記
第4の端部は前記平坦面と同一の高さに設けられている
ことを特徴とする。本発明はゲートライン反転駆動をす
る液晶表示装置に適用することができる。
【0045】また、ゲートライン反転駆動をする液晶表
示装置において、画素電極は、第1の画素電極208と
第1の画素電極と列方向に隣接する第2の画素電極20
9とを有し、第1の画素電極208における第1の端部
201と第2の画素電極における前記第3の端部203
とが隣接することを特徴とする。図1(B)の斜視図を
用いて説明すると、走査線213の上方に、第1の画素
電極208における第1の端部及び第2の画素電極20
9における第3の端部がある。第1の画素電極〜第4の
画素電極における第2の端部及び第4の端部は画素電極
の主面と同一の高さである。
【0046】つまり、ゲートライン反転駆動をするとき
は、図2のように第1の走査線207Aを挟んで互いに
対向する第1の画素電極208と第2の画素電極209
とが互いに異極性の電位となるため、第1の画素電極2
08における第1の端部201及び第2の画素電極にお
ける第3の端部を対向電極に近い高さに設けることで、
第1の画素電極208における第1の端部201及び第
2の画素電極209における第3の端部203において
等電位線の屈曲が抑えられて、ディスクリネーション及
び光漏れを低減する効果がある([画素電極端部の凸
部]参照)。第1の画素電極208における第2の端
部202および第1の画素電極における第4の端部20
4は平坦面上に設けられている。第1の画素電極208
における第4の端部204と隣接する第3の画素電極2
10の第2の端部202とは同極性の電位を有し互いに
隣接する。そこで隣接する画素電極の端部が同極性であ
る第1の画素電極の第2の端部及び第3の画素電極の第
4の端部は平坦面上にある方が、等電位線の不必要な屈
曲が抑えられてディスクリネーション及び光漏れを抑え
る効果がある。特に第1の画素電極と第3の画素電極と
の間の距離が2.0μm以下のときにその効果が大きい
([画素電極端部の凸部]参照)。
【0047】また、本発明において、第1の端部の高さ
及び第3の端部の高さは画素電極の主面に対して、0.
5μm以上ある方が望ましい。換言すれば、第1の端部
の高さ及び第3の端部の高さは画素電極の主面に対し
て、0.5μm以上対向電極に近い高さにあることが望
ましい。このとき、図1(A)に示す第1の端部の幅
(L1)及び第3の端部の幅(L2)は、最適な値があり
長すぎてもディスクリネーション及び光漏れを低減する
効果が得られない。セルギャップが4.5μm以下であ
り、第1の画素電極と第2の画素電極との間の距離が
4.0μm以下のときに、第1の端部及び第2の端部の
幅を画素電極の端から3.0μm以下に抑えないと、第
1の端部及び第3の端部が画素電極の主面と同一の高さ
に形成されたときに比べて光漏れ及びディスクリネーシ
ョンの幅の和が増加してしまう。このことは図11の画
素電極と凸部の重なる幅(第1の端部の幅)と、光漏れ
及びディスクリネーションの幅の和との関係を示したグ
ラフを用いて既に説明した。([画素電極端部の凸部]
参照)。
【0048】図4(A)の異極性の電位を有して隣接す
る画素電極の端部を示す断面図において、第1の端部の
幅(L1)、第3の端部の幅(L2)、第1の端部の高さ
及び第3の端部の高さ(h)がどこを示すかが図示され
ている。第1の端部201及び第3の端部203は画素
電極の主面に対して盛り上がっており、対向電極に近い
高さにある。図4(B)の同極性の電位を有して隣接す
る画素電極の端部を示す断面図において、第2の端部2
02及び第4の端部204が平坦面上に形成されている
ことを示している。
【0049】ソースライン反転駆動をする液晶表示装置
においては、図2及び図1(B)の第1の信号線212
Aを第1の走査線に置き換え、第2の信号線212Bを
第2の走査線に置き換えて画素電極の端部の位置関係を
考えれば良い。当然、第1の走査線207Aは第1の信
号線に置き換え、第2の走査線207Bは第2の信号線
に置き換える。
【0050】つまり、ソースライン反転駆動をする液晶
表示装置において、本発明は、画素電極は帯状の第1の
端部、第2の端部、第3の端部及び第4の端部とそれら
に囲まれた主面からなり、前記主面は平坦面上に設けら
れており、前記画素電極と対向して設けられた対向電極
を有し、前記第1の端部は第1の信号線に沿って設けら
れ、前記第3の端部は前記第1の信号線に隣接する第2
の信号線に沿って設けられ、前記第2の端部は第1の走
査線に沿って設けられ、前記第4の端部は前記第1の走
査線に隣接する第2の走査線に沿って設けられており、
前記第1の端部及び前記第3の端部はその両端部が前記
第1の走査線及び前記第2の走査線に沿って設けられて
おり、前記第1の端部及び前記第3の端部は前記平坦面
に対して前記対向電極に近い高さに設けられており、前
記第2の端部及び前記第4の端部は前記平坦面と同一の
高さに設けられていることを特徴とする液晶表示装置で
ある。
【0051】さらに、前記画素電極は、第1の画素電極
と前記第1の画素電極と行方向に隣接する第2の画素電
極とがあり、前記第1の画素電極の前記第1の端部と前
記第2の画素電極の前記第3の端部とが隣接することを
特徴とする液晶表示装置である。
【0052】そして、前記第1の端部及び前記第3の端
部が前記主面に対して0.5μm以上前記対向電極に近
い高さに設けられており、前記液晶表示装置のセルギャ
ップが4.5μm以下であり、前記第1の画素電極と前
記第2の画素電極との間の距離が4.0μm以下である
ときに、前記第1の端部の幅及び前記第3の端部の幅が
前記画素電極の端から3.0μm以下であることを特徴
とする液晶表示装置である。
【0053】通常のアクティブマトリクス型の液晶表示
装置において、画素電極は画素電極下方の走査線及び信
号線の上方に重なって形成されることが多い。このた
め、画素電極の端部は必然的に画素電極の主面に対し、
盛り上がって対向電極に近い高さに形成されることが多
い。しかし、ただ単に画素電極の端部を画素電極の主面
に対して盛り上げただけでは、ディスクリネーション及
び光漏れを低減する効果は得られない。たとえば、図3
1(A)のマトリクス状に配置された画素電極の斜視図
のように、画素電極の端部のうち走査線3005及び信
号線(図示せず)上方が画素電極の主面に対して盛り上
がるとする。このような単純な構成では、例えば、ゲー
トライン反転駆動をするときに、走査線3005にほぼ
平行に発生するディスクリネーション及び光漏れは画素
電極の端部が画素電極の主面に対して盛り上がっている
ことから抑えられる。しかし、同極性で隣接する画素電
極3006の端部3010及び画素電極3008の端部
が画素電極の主面に対して盛り上がっているため、画素
電極の信号線と平行にディスクリネーション及び光漏れ
が発生するであろう。
【0054】また、画素電極に接続して設けられる画素
TFTを構成するさいに、図31(B)のマトリクス状
に配置された画素電極の斜視図のように、画素TFTに
直列に接続した保持容量や半導体層の厚みで画素電極の
端部が局所的に盛り上がることもありうる。しかし、た
だ単に保持容量の厚みで画素電極の端部が局所的に画素
電極の主面に対して盛り上がっただけでは、ディスクリ
ネーション及び光漏れを低減する効果は得られない。例
えば、ソースライン反転駆動をする液晶表示装置におい
て、走査線3005沿いに画素電極の主面に対して画素
電極の端部を盛り上げても意味がない。つまり、液晶表
示装置の駆動方法がゲートライン反転駆動か、ソースラ
イン反転駆動かによって、第1の端部及び第3の端部の
ように画素電極の主面に対して盛り上がった部分を走査
線に沿って設けるかあるいは信号線に沿って設けるか選
択する必要がある。特に、図1(A)の画素電極の上面
図のように、異極性の画素電極と接し、等電位線が屈曲
しやすい画素電極の第1の端部201の両端部206A
〜206B及び第3の端部の両端部205A〜205B
は、画素電極の主面に対して盛り上げて、対向電極に近
い高さに形成しなければいけない。図31(B)の斜視
図の構成は、画素電極の端部3012に発生する光漏れ
又はディスクリネーションを抑えきれない。
【0055】つまり、本発明の画素部の構成は、隣接す
る画素電極の電位、画素電極の構造に起因する等電位線
を考慮して決定された構造であり、必然的にできてしま
う構造とは全くことなる。また、シミュレーションによ
り等電位線のでき方を体系的に調べて得られた構造であ
るため、従来のディスクリネーション及び光漏れを低減
するための方法に比べてその効果は非常に大きいと考え
られる。
【0056】図3のように、シミュレーションは画素電
極の第1の端部及び第3の端部の下方の凸部304の断
面を矩形状にしている。しかし、本発明は図3のシミュ
レーションモデルにおいて、凸部の側面と画素電極の主
面に接する面とのなす角度(以降、凸部のテーパー角と
称する)が90°以下のものにも適用可能である。図5
(A)の画素電極の端部を示す断面図において凸部30
4のテーパー角が90°未満の場合、凸部の断面が矩形
のときに比べて、凸部の頂点付近での電界の急激な変化
が抑えられる。このようにすると図15(B)のシミュ
レーションの結果にあるような矩形の凸部の頂点で電界
が急激に変わることにより、局所的に透過率が高くなる
現象を防止することができ好ましい。図5(B)の画素
電極の端部を示す上面図のように凸部の断面が曲面のと
きも同様なことが言える。このように画素電極の第1の
端部及び第3の端部の下方にある凸部の断面が矩形でな
くても、第1の端部及び第3の端部の高さ(h)が0.
5μm以上であり、セルギャップが4.5μm以下であ
り、画素電極の間の距離(s)が4.0μm以下のとき
に、画素電極の第1の端部の幅(L1)及び第3の端部
の幅(L2)は3.0μm以下に抑えれば、第1の端部
及び第3の端部があることにより、光漏れ及びディスク
リネーションが逆に増加するようなことはないと予測さ
れる。なお、第1の端部の幅(L1)及び第3の端部の
幅(L2)は画素電極の主面に対して局所的に盛り上が
った部分について適用する。
【0057】[本発明の画素部の構成2]本発明の画素
部の構成を以下に説明する。図13〜図16の隣接する
画素電極が、同極性の電位を有するか、異極性の電位を
有するかによって、光漏れ及びディスクリネーションの
出方を調べたシミュレーション結果を比較すると、等電
位線の屈曲が激しく起こるところでは、画素電極端部の
等電位線の屈曲を抑えるために、画素電極の端部の高さ
を局所的に高くした方がよいと考えられる。
【0058】しかし、画素電極の端部を画素電極の主面
に対してどれだけ高くするかは、互いに隣接する画素電
極により形成される等電位線の屈曲の度合いにより決定
しなければいけない。このことは図13〜図16のシミ
ュレーション結果を比較すればわかる。つまり、等電位
線の屈曲がほとんどないのに、不用意に画素電極の端部
の高さを対向電極に近い高さにすると、かえってディス
クリネーション及び光漏れを増やすことにつながる(図
15〜図16)。しかし、画素電極の端部で等電位線が
顕著に屈曲しているときは、画素電極の端部を画素電極
の主面に対して高くし、対向電極に近い高さにする方が
良い(図13〜図14)。
【0059】さらに、この考えを発展させると、画素電
極の端部において等電位線の屈曲の激しいところほど、
画素電極の端部の高さを高くすれば良いことになる。つ
まり、等電位線の屈曲の度合いに応じて、画素電極の端
部の高さを決定することが光漏れ及びディスクリネーシ
ョンを防止する上で効果的である。
【0060】図6(A)の画素電極の上面図を用いて説
明すると、具体的に等電位線の屈曲の激しいところと言
えば、矩形の画素電極258の場合は、画素電極の頂点
の近傍255A〜255B、256A〜256Bであ
る。異極性の電位を有する二つの画素電極と近接する画
素電極の頂点の近傍255A〜255B、256A〜2
56Bでは、異極性の電位を有する画素電極の影響で等
電位線が激しく屈曲する。矩形の画素電極においては、
画素電極の頂点の近傍例えば、第1の端部251の両端
部256A〜256Bを画素電極の第1の端部251の
中央部263に対して高くなるようにすれば良い。ま
た、画素電極の第3の端部253における両端部255
A〜255Bを第3の端部253の中央部に比べて局所
的に高くする。ここで第1の端部の中央部とは、第1の
端部の両端部256Aに含まれる画素電極の端の上の一
点(A)から画素の行方向に平行に伸びる直線が第1の
端部のもう一方の両端部256Bの端と交点(B)を形
成し、これら二点からなる線分を二等分する位置にあ
る。上述の説明を第1の端部から第3の端部に置き換え
れば、第3の端部の中央部を定義できる。
【0061】図7の画素電極がマトリクス状に配置され
た画素部の上面図を用いて本発明の画素電極の特徴を説
明する。第1の画素電極258〜第4の画素電極261
は2×2のマトリクスで示されている。ゲートライン反
転駆動をするときは、第1の画素電極258に対して極
性の異なる電位を持つ画素電極が第2の画素電極259
及び第4の画素電極261である。つまり、第1の画素
電極の第1の端部251の両端部256A〜256Bの
うち一方の両端部256Aは第1の画素電極と極性の異
なる電位を有する第2の画素電極259及び第4の画素
電極261と近接する。すると、第2の画素電極及び第
4の画素電極と第1の画素電極の第1の端部の両端部2
56Aにより形成される電界の影響で第1の画素電極の
第1の端部の両端部256Aで等電位線が激しく屈曲し
てしまう。
【0062】そこで、図7の上面図に示された第1の画
素電極〜第4の画素電極のうち、第1の端部の両端部2
56A〜256B及び第3の端部の両端部255A〜2
55Bのように、異極性の電位を有する二つの画素電極
に近接している部分はその高さを局所的に高くすること
が望ましい。つまり、画素電極端部での等電位線の屈曲
の度合いに合わせて、画素電極の端部の高さを決定する
と、第1の端部の両端部及び第3の端部の両端部は等電
位線の屈曲が大きいため、必然的に画素電極の主面に対
し盛り上がった位置にする必要がある。換言すれば、第
1の端部の両端部及び第3の端部の両端部が対向電極に
近い位置になるようにする必要がある。
【0063】例えばゲートライン反転駆動をする液晶表
示装置のときは、図6(B)のマトリクス状に配置され
た画素電極を示す斜視図のように、画素電極の端部のう
ち走査線263近傍の第1の端部及び第3の端部の両端
部を局所的に高くするような構造にすれば良い。
【0064】図7を用いて説明すると、本発明はゲート
ライン反転駆動をする液晶表示装置において、画素電極
は帯状の第1の端部251、第2の端部252、第3の
端部253及び第4の端部254とそれらに囲まれた主
面からなり、前記主面は平坦面上に設けられており、前
記画素電極と対向して設けられた対向電極を有する。そ
して、前記第1の端部は第1の走査線257Aに沿って
設けられ、前記第3の端部は前記第1の走査線に隣接す
る第2の走査線257Bに沿って設けられ、前記第2の
端部は第1の信号線262Aに沿って設けられ、前記第
4の端部は前記第1の信号線に隣接する第2の信号線2
62Bに沿って設けられている。前記第1の端部及び前
記第3の端部はその両端部255A〜255B、256
A〜256Bが前記第1の信号線及び前記第2の信号線
に沿って設けられている。前記第1の端部及び前記第3
の端部は前記平坦面に対して前記対向電極に近い高さに
設けられており、前記第2の端部及び前記第4の端部は
前記平坦面と同一の高さに設けられていることを特徴と
する。
【0065】さらに、このような液晶表示装置におい
て、本発明は、前記第1の端部の両端部は前記第1の端
部の中央部に比べて前記対向電極に近い高さに設けられ
ており、前記第3の端部の両端部は前記第3の端部の中
央部に比べて前記対向電極に近い高さに設けられている
ことを特徴とする。
【0066】具体的には、前記第1の端部の両端部は前
記第1の端部の中央部に比べて有意な差として0.2μ
m以上前記対向電極に近い高さに設けられており、前記
第3の端部の両端部は前記第3の端部の中央部に比べて
0.2μm以上前記対向電極に近い高さに設けられてい
ることを特徴とする。
【0067】あるいは、前記第1の端部の両端部は前記
第1の端部の中央部に比べて有意な差として0.5μm
以上前記対向電極に近い高さに設けられており、前記第
3の端部の両端部は前記第3の端部の中央部に比べて
0.5μm以上前記対向電極に近い高さに設けられてい
ることを特徴とする。
【0068】画素電極が0.2μm以上、又は0.5μ
m以上凸状に盛り上がっていれば、等電位線の出方を変
える有意な効果があり、液晶の配向が変わることは、図
11のシミュレーションの結果を示すグラフからわか
る。
【0069】図8の画素電極の断面図に図7の上面図を
鎖線C−C’、鎖線D−D’で切断した断面を示す。図
8(B)に画素電極261の第1の端部及び第3の端部
の高さ(h1)及び第1の端部の幅(L1)が定義されて
いる。本明細書では、第1の端部の高さがh1であるこ
と、つまり、画素電極の主面に接する面と第1の端部の
最上端部との間の距離がh1であることは、同時に画素
電極の第1の端部が対向電極に対しh1近い高さに設け
られていることを意味する。図8(A)に画素電極25
9の第1の端部の両端部が第1の端部の中央部に対して
2の高さで盛り上がっていることを示す。本明細書で
は、第1の端部の中央部に接する面と第1の端部の両端
部の最上端部との距離がh2であることは、同時に、第
1の端部の両端部が中央部に対して、h2だけ対向電極
に近い高さに設けられていることを意味する。
【0070】ソースライン反転駆動をする液晶表示装置
においては、走査線を信号線に置き換え、信号線を走査
線に置き換えて考えれば良い。
【0071】[本発明の適用範囲の例]このように定め
た、本発明の画素部の構造は電界を印加した時の電気力
線を画素電極の形成された平坦面に対して垂直にするも
のであるため、ノーマリーホワイトモード、ノーマリー
ブラックモードの配向方式の両方において液晶の配向不
良を低減する手段として広く用いることができる。
【0072】また、凹凸に起因する液晶の配向欠陥を誘
起しないのであれば、スメクチック液晶を用いた配向方
式に本発明を適用することが可能である。例えば、強誘
電性液晶、反強誘電性液晶を用いた液晶表示装置に本発
明を適用可能である。また、これらのスメクチック液晶
に液晶性高分子を添加して光(例えば紫外線)照射によ
り硬化した材料を用いた液晶表示装置にも適用可能であ
る。
【0073】本発明の画素部の構成は、半導体素子によ
り電圧を調光層に印可して、調光層を光学変調させる表
示装置において、電界分布を調節する手段として広く用
いることができる。
【0074】特に投影型の液晶表示装置においては光漏
れ及びディスクリネーションがレンズ等を用いた光学系
により拡大されてスクリーンに投影される。このため、
本発明は投影型の液晶表示装置において特に有効であ
る。
【0075】本発明の第1の端部、第2の端部、第3の
端部、第4の端部は上面図で図示したように矩形状であ
る必要はない。液晶表示装置を駆動するさいに、等電位
線の屈曲が激しいところは画素電極の端部を画素電極の
主面に比べて盛り上げるという考えに基づいて自由に設
計すれば良い。
【0076】
【発明の実施の形態】液晶表示装置の画素部の開口率を
確保するためには、走査線、信号線、容量電極上に層間
膜を設けて、走査線、信号線、容量電極上に重なって画
素電極の端部を形成することが推奨される方法である。
しかし、本発明の実施の形態で示す上面図においては、
画素電極の特徴的な部分と走査線、信号線との位置関係
をわかりやすくするために、あえて、走査線及び信号線
と画素電極を離して図示している。推奨される液晶表示
装置の作製方法は実施例でもって詳しく説明する。
【0077】図9の上面図は、ソースライン反転駆動を
する液晶表示装置において、信号線206を挟んで互い
に対向する第1の画素電極208の第1の端部201及
び第2の画素電極209の第3の端部203が画素電極
の主面に対して盛り上がって形成されていることを示
す。
【0078】隣接する画素電極が異極性の電位のとき
に、その隣接する画素電極の端部において等電位線が屈
曲しやすい。具体的には第1の画素電極208と第2の
画素電極209の間において等電位線が屈曲しやすい。
このため、等電位線が屈曲しやすい画素電極の第1の端
部201及び第3の端部203を画素電極の主面に対し
て盛り上げて形成すると良い。
【0079】第1の画素電極208と第3の画素電極2
10は同極性の電位である。第1の画素電極208と第
3の画素電極210の間隙において等電位線が屈曲する
が、同電位の画素電極の間隙における等電位線の屈曲は
それほど大きくない。このため、第1の画素電極208
と第3の画素電極210が隣接するときに、その画素電
極の間隙を挟むような位置にある画素電極の第2の端部
及び第4の端部は画素電極の主面と同じ高さに形成する
と良い。
【0080】図10では、画素電極の形状は矩形以上の
頂点を持つ多角形となっている。駆動はゲートライン反
転駆動をすることを仮定している。画素サイズが小さい
液晶表示装置においては、ゲートライン反転駆動をする
方が保持容量に電荷を書き込むときに有利である。
【0081】走査線257を挟んで対向する第1の画素
電極258及び第2の画素電極259の第1の端部25
1及び第3の端部253が画素電極の主面に対して盛り
上がった構造としている。さらに第1の端部の中央部及
び第3の端部の中央部に比べて第1の端部の両端部25
6A〜256B及び第3の端部の両端部255A〜25
5Bは画素電極の主面に対して盛り上がった構造として
いて、等電位線の屈曲の激しい領域において、等電位線
の屈曲を補正できるようにしている。画素電極の第2の
端部及び第4の端部は画素電極の主面と同じ高さに設け
られている。
【0082】第1の端部及び第3の端部の下方には、感
光性有機樹脂膜や有機樹脂膜をフォトリソ工程によりパ
ターニングして形成すると良い。もちろん、酸化珪素
膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜のような無機膜をパタ
ーニングして形成することも可能である。
【0083】第1の端部の両端部を第1の端部の中央部
に比べて局所的に高くするには、感光性樹脂膜を二回に
分けて形成すると良い。また、素子基板の、半導体層、
走査線、信号線等を第1の端部の両端部において形成
し、選択的に画素電極の主面に対して盛り上がった領域
を形成しておいても良い。
【0084】
【実施例】[実施例1]本発明の実施例を図19〜図2
3を用いて説明する。
【0085】図23のように、まず、絶縁表面を有する
基板601上に導電膜を形成し、パターニングを施すこ
とにより、走査線602を形成する。この走査線は後に
形成される活性層を光から保護する遮光膜としても機能
する。ここでは、基板601として石英基板を用い、走
査線602としてポリシリコン膜(膜厚50nm)とタ
ングステンシリサイド(W-Si)膜(膜厚100n
m)の積層構造を用いた。また、ポリシリコン膜はタン
グステンシリサイドから基板への汚染を防止するもので
ある。
【0086】次いで、走査線602を覆う絶縁膜603
を膜厚100〜1000nm(代表的には300〜50
0nm)で形成する。ここでは、CVD法を用いた膜厚
100nmの酸化シリコン膜とLPCVD法を用いた膜
厚280nmの酸化シリコン膜を積層させた。
【0087】次いで、非晶質半導体膜を膜厚10〜10
0nmで形成する。ここでは、膜厚69nmの非晶質シ
リコン膜(アモルファスシリコン膜)をLPCVD法を
用いて形成した。次いで、この非晶質シリコン膜(アモ
ルファスシリコン膜)を結晶化させる技術として特開平
8−78329号記載の技術を用いて結晶化させた。同
公報記載の技術は、非晶質シリコン膜に対して結晶化を
促進する金属元素を選択的に添加し、加熱処理を行うこ
とで添加領域を起点として広がる結晶質シリコン膜を形
成するものである。ここでは結晶化を促進する金属元素
としてニッケルを用い、脱水素化のための加熱処理(4
50℃、1時間)の後、結晶化のための熱処理(600
℃、12時間)を行った。
【0088】次いで、TFTの活性層とする領域からN
iをゲッタリングする。TFTの活性層とする領域をマ
スク(酸化シリコン膜)で覆い、結晶質シリコン膜の一
部に燐(P)を添加して、熱処理(窒素雰囲気下で60
0℃、12時間)を行った。
【0089】次いで、マスクを除去した後、パターニン
グを行い結晶質シリコン膜の不要な部分を除去して、半
導体層604a、604bを形成する。半導体層604
a及び604bは同一の半導体層である。なお、半導体
層を形成した後の画素上面図を図19(A)に示す。走
査線602と半導体層604が図示されている。
【0090】次いで、保持容量を形成するために、レジ
ストを形成して半導体層の一部(保持容量とする領域)
604bに燐をドーピングする。
【0091】次いで、レジストを除去して、半導体層を
覆う絶縁膜を形成する。その後保持容量の容量を大きく
するため、レジストを形成して、保持容量とする領域6
04b上の絶縁膜を除去する。
【0092】次いで、熱酸化を行って絶縁膜(ゲート絶
縁膜)605を形成する。この熱酸化によって最終的な
ゲート絶縁膜の膜厚は80nmとなった。なお、保持容
量とする領域上に他の領域より薄い絶縁膜を形成した。
保持容量とする領域の絶縁膜は膜厚が40〜50nmに
することが望ましい。
【0093】次いで、TFTのチャネル領域となる領域
にp型又はn型の不純物を低濃度に添加するチャネルド
ープを全面または選択的に行った。このチャネルドープ
工程は、TFTしきい値電圧を制御するための工程であ
る。なお、ここでは、ジボラン(B26)を質量分離し
ないでプラズマ励起したイオンドープ法でボロンを添加
した。もちろん、質量分離を行うイオンプランテーショ
ン法を用いても良い。
【0094】次いで、絶縁膜をエッチングして、走査線
に達するコンタクトホールを形成する。
【0095】次いで、導電膜を形成し、パターニングを
行ってゲート電極606a及び容量配線606bを形成
する。ここでは、燐がドープされたシリコン膜(膜厚1
50nm)とタングステンシリサイド(膜厚150n
m)との積層構造を用いた。なお、保持容量は、絶縁膜
605を誘電体として、容量配線と半導体層の一部とで
形成されている。
【0096】なお、ゲート電極及び容量配線を形成した
後の画素の上面図を図19(B)に示す。ゲート電極6
06aはコンタクトホール801により、走査線602
と導通している。半導体層604と容量配線606bが
絶縁膜を挟んで重なる領域が保持容量として機能する。
【0097】次いで、ゲート電極及び容量配線をマスク
として、自己整合的に燐を低濃度に添加する。この低濃
度に添加された領域の燐の濃度が、1×1016〜5×1
18atoms/cm3、代表的には1×1016〜5×
1018atoms/cm3となるように調整する。
【0098】次いで、レジストを形成し、レジストをマ
スクとして燐を高濃度に添加し、ソース領域又はドレイ
ン領域となる高濃度不純物領域を形成する。この高濃度
不純物領域の燐の濃度が1×1020〜1×1021ato
ms/cm3、代表的には2×1020〜5×1020at
oms/cm3となるように調整する。なお、半導体層
のうち、ゲート電極と重なる領域はチャネル領域とな
り、レジストで覆われた領域は低濃度不純物領域となり
LDD領域として機能する。そして、不純物を添加した
後、レジストを除去する。
【0099】次いで、ここでは図示しないが、画素と同
一基板上に形成される駆動回路に用いるpチャネル型T
FTを形成するために、レジストでnチャネル型TFT
となる領域を覆い、ボロンを添加してソース領域または
ドレイン領域を形成する。
【0100】次いで、レジストを除去した後に、ゲート
電極606a及び容量配線606bを覆うパッシベーシ
ョン膜607を形成する。ここでは、酸化シリコン膜を
70nmの膜厚で形成した。次いで、半導体層にそれぞ
れの濃度で添加されたn型又はp型不純物を活性化する
ための熱処理工程を行う。ここでは、950℃、30分
の加熱処理を行った。
【0101】次いで、無機材料からなる層間絶縁膜60
8を形成する。本実施例では、窒化酸化珪素膜を800
nmの膜厚で形成した。
【0102】次いで、半導体層に達するコンタクトホー
ルを形成した後、電極610及び信号線609を形成す
る。本実施例では、電極及び信号線を、Ti膜を60n
m、TiN膜を40nm、Siを含むアルミニウム膜を
300nm、TiN膜100nmをスパッタ法で連続し
て形成した4層構造の積層膜とした。
【0103】なお、電極及び信号線を形成した後の画素
の上面図を図20(A)に示す。信号線609はコンタ
クトホール802を介して半導体層と導通する。電極8
03はコンタクトホール803を介して半導体層と導通
する。
【0104】次いで、350℃、1時間の水素化処理を
行う。
【0105】次いで、有機樹脂材料からなる層間絶縁膜
612を形成する。ここでは、膜厚1.0μmのアクリ
ル樹脂膜を用いた。次いで、層間絶縁膜上に遮光性を有
する導電膜を100nm成膜して、遮光層613を形成
する。
【0106】なお、遮光層613が形成された後の画素
部の上面図を図20(B)に示す。遮光層613は液晶
の光漏れ及びディスクリネーションが視認されないよう
にする役目と、信号線の有する電位により、液晶の配向
が乱れないように、信号線が電位を持つことによりでき
る電界を遮蔽する役目がある。このため、信号線609
の上方を遮光層が重なるようにしている。
【0107】信号線609上方の遮光膜613は後述す
る画素電極と画素電極の間隙に形成されている。このた
め、遮光膜の膜厚による凹凸が信号線に沿った画素電極
の端部には形成されない。信号線に沿った画素電極61
6の端部は平坦面上に形成されている。
【0108】次いで、絶縁膜614を100nmの膜厚
で形成する。絶縁膜は、100nm〜300nmの膜厚
の酸化窒化珪素膜を形成する。
【0109】次いで、感光性樹脂膜を用いて、フォトリ
ソ工程を行い、0.5μmの厚さで、走査線に沿って凸
部615を形成する。感光性樹脂膜は、JSR社製のB
PR−107VLをPGMEA(プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート)で希釈して、粘度を下
げた材料を用いる。
【0110】次いで、電極に達するコンタクトホールを
形成する。次いで、100nmの透明導電膜(ここで
は、酸化インジウム錫(ITO)膜)を形成した後、パ
ターニングして画素電極616を形成する。
【0111】なお、画素電極と遮光膜613を電極とし
て、絶縁膜614を誘電体とする保持容量617を形成
することができる。
【0112】なお、画素電極616を形成した後の画素
の上面図を図21に示す。電極610と画素電極がコン
タクトホール804を介して導通している。走査線に沿
って設けられた凸部615は細長い長方形のパターンで
ある。画素電極と画素電極の間の距離(s)は2.0μ
mであり、画素電極と凸部の重なる幅(L)はそれぞれ
1.0μmである。
【0113】以上の工程で作製される基板を本明細書で
はアクティブマトリクス基板と称する。
【0114】画素部に設けられた電極、配線、半導体層
を示した上面図が図22である。図22の上面図を鎖線
E−E’及び鎖線F−F’で切断した断面図を図23に
示す。
【0115】本実施例は一例であって、本実施例の工程
に限定されないことはいうまでもない。例えば、各導電
膜としては、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、モリ
ブデン(Mo)、タングステン(W)、クロム(C
r)、シリコン(Si)からなる導電膜を用いても良
い。
【0116】本実施例のアクティブマトリクス基板は、
透過型の液晶表示装置に用いることができる。なお、画
素電極として、透明導電膜の代わりに、光を反射する機
能を有する導電膜を用いるときは、本実施例のアクティ
ブマトリクス基板を反射型の液晶表示装置に用いること
ができる。
【0117】[実施例2]本実施例では、実施例1で作製
したアクティブマトリクス基板から、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置を作製する工程を以下に説明する。
説明には図24を用いる。
【0118】まず、実施例1に従い、アクティブマトリ
クス基板を得る。
【0119】次いで、透光性の基板700上に透明導電
膜からなる透明電極701を形成する。以上の構成でな
る基板を本実施例では対向基板と称する。
【0120】次いで、アクティブマトリクス基板及び対
向基板上に配向膜703を形成しラビング処理を行う。
なお、本実施例により作製する液晶表示装置は投影型の
対角0.3インチ〜1.0インチ程度のパネルとする。
このようなパネルは画素のサイズが10μm〜20μm
と小さく、スペーサーによる欠陥が無視できないくらい
に大きい。このため、本実施例においてスペーサーは液
晶表示装置に用いない。
【0121】そして、画素部と駆動回路が形成されたア
クティブマトリクス基板と対向基板とをシール材で貼り
合わせる。シール材にはフィラーが混入されていて、こ
のフィラーによって均一な間隔を持って2枚の基板が貼
り合わせられる。このとき、画素のセルギャップが4.
5μmとなるようにした。
【0122】その後、両基板の間に液晶材料704を注
入し、封止剤(図示せず)によって完全に封止する。液
晶材料704には公知の液晶材料を用いれば良い。この
ようにして図24に示すアクティブマトリクス型液晶表
示装置が完成する。そして、必要があれば、アクティブ
マトリクス基板または対向基板を所望の形状に分断す
る。さらに、公知の技術を用いて偏光板等を適宜設け
た。そして、公知の技術を用いてFPCを貼りつけた。
【0123】実施例1を参照すると、セルギャップが
4.5μm、画素電極の間の距離が2.0μm、凸部の
高さが0.5μmで画素電極と凸部が重なる幅(L)が
1.0μmの液晶表示装置が作製される。凸部がないと
きに比べて光漏れ及びディスクリネーションが低減する
幅の和は図11のグラフより2.2μmの幅と見積もら
れる。
【0124】以上のようにして作製される液晶表示パネ
ルは各種電子機器の表示部として用いることができる。
【0125】[実施例3]上記各実施例1または実施例2
を実施して形成された液晶表示装置は様々な電気光学装
置に用いることができる。即ち、それら電気光学装置を
表示部に組み込んだ電子機器全てに本発明を適用でき
る。
【0126】その様な電子機器としては、ビデオカメ
ラ、デジタルカメラ、プロジェクター、ヘッドマウント
ディスプレイ(ゴーグル型ディスプレイ)、カーナビゲ
ーション、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携
帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話または電
子書籍等)などが挙げられる。それらの一例を図25、
図26及び図27に示す。
【0127】図25(A)はパーソナルコンピュータで
あり、本体2001、画像入力部2002、表示部20
03、キーボード2004等を含む。本発明を表示部2
003に適用することができる。
【0128】図25(B)はビデオカメラであり、本体
2101、表示部2102、音声入力部2103、操作
スイッチ2104、バッテリー2105、受像部210
6等を含む。本発明を表示部2102に適用することが
できる。
【0129】図25(C)はモバイルコンピュータ(モ
ービルコンピュータ)であり、本体2201、カメラ部
2202、受像部2203、操作スイッチ2204、表
示部2205等を含む。本発明は表示部2205に適用
できる。
【0130】図25(D)はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体2301、表示部2302、アーム部230
3等を含む。本発明は表示部2302に適用することが
できる。
【0131】図25(E)はプログラムを記録した記録
媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであ
り、本体2401、表示部2402、スピーカ部240
3、記録媒体2404、操作スイッチ2405等を含
む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてDVD(D
igtial Versatile Disc)、CD
等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネッ
トを行うことができる。本発明は表示部2402に適用
することができる。
【0132】図25(F)はデジタルカメラであり、本
体2501、表示部2502、接眼部2503、操作ス
イッチ2504、受像部(図示しない)等を含む。本発
明を表示部2502に適用することができる。
【0133】図26(A)はフロント型プロジェクター
であり、投射装置2601、スクリーン2602等を含
む。本発明は投射装置2601の一部を構成する液晶表
示装置2808に適用しプロジェクターを完成すること
ができる。
【0134】図26(B)はリア型プロジェクターであ
り、本体2701、投射装置2702、ミラー270
3、スクリーン2704等を含む。本発明は投射装置2
702の一部を構成する液晶表示装置2808に適用し
プロジェクターを完成することができる。
【0135】なお、図26(C)は、図26(A)及び
図26(B)中における投射装置2601、2702の
構造の一例を示した図である。投射装置2601、27
02は、光源光学系2801、ミラー2802、280
4〜2806、ダイクロイックミラー2803、プリズ
ム2807、液晶表示装置2808、位相差板280
9、投射光学系2810で構成される。投射光学系28
10は、投射レンズを含む光学系で構成される。本実施
例は三板式の例を示したが、特に限定されず、例えば単
板式であってもよい。また、図26(C)中において矢
印で示した光路に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機
能を有するフィルムや、位相差を調節するためのフィル
ム、IRフィルム等の光学系を設けてもよい。
【0136】また、図26(D)は、図26(C)中に
おける光源光学系2801の構造の一例を示した図であ
る。本実施例では、光源光学系2801は、リフレクタ
ー2811、光源2812、レンズアレイ2813、2
814、偏光変換素子2815、集光レンズ2816で
構成される。なお、図26(D)に示した光源光学系は
一例であって特に限定されない。例えば、光源光学系に
実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィル
ムや、位相差を調節するフィルム、IRフィルム等の光
学系を設けてもよい。
【0137】ただし、図26に示したプロジェクターに
おいては、透過型の電気光学装置を用いた場合を示して
おり、反射型の電気光学装置での適用例は図示していな
い。
【0138】図27(A)は携帯電話であり、本体29
01、音声出力部2902、音声入力部2903、表示
部2904、操作スイッチ2905、アンテナ2906
等を含む。本発明を表示部2904に適用することがで
きる。
【0139】図27(B)は携帯書籍(電子書籍)であ
り、本体3001、表示部3002、3003、記憶媒
体3004、操作スイッチ3005、アンテナ3006
等を含む。本発明は表示部3002、表示部3003に
適用することができる。
【0140】図27(C)はディスプレイであり、本体
3101、支持台3102、表示部3103等を含む。
本発明は表示部3103に適用することができる。本発
明のディスプレイは特に大画面化した場合において有利
であり、対角10インチ以上(特に30インチ以上)の
ディスプレイには有利である。
【0141】以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広
く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能であ
る。また、本実施例の電子機器は実施例1〜2のどのよ
うな組み合わせからなる構成を用いても実現することが
できる。
【0142】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、黒レベ
ルを表示するときの液晶表示装置のディスクリネーショ
ン及び光漏れといった液晶の配向不良を低減でき、コン
トラストが高く、視認性の良い液晶表示装置を提供する
ことができる。
【0143】図29の断面図に示すように、隣接する画
素電極の極性が異なるときは画素電極901a及び画素
電極901bの端部で等電位線903が屈曲する。対向
電極902は0Vである(図29(A))。画素電極9
01a〜901bの第1の端部の下方に凸部904を設
けると画素電極に沿って等電位線ができるため、画素電
極の端部での等電位線の屈曲が抑えられる(図29
(B))。しかし、画素電極と凸部が重なる幅905を
増やしていくと、もともと画素電極面に平行な等電位線
すらも屈曲してしまう(図29(C))。それにともな
って光漏れ及びディスクリネーションが増加する。この
ため、隣接する画素電極の極性の異なるときは、画素電
極の第1の端部の下方に凸部を設け、画素電極と凸部が
重なる幅を最適化することが好ましい。
【0144】図28の断面図に示すように、隣接する画
素電極の極性が同じときは、画素電極901a及び画素
電極901bの端部で等電位線903が屈曲するがその
屈曲の度合いは少ない(図28(A))。このため、画
素電極の端部の下方に凸部904を設けることは逆に、
等電位線の屈曲を増やして逆効果である(図28
(B))。
【0145】本発明は、このような原理を利用して、画
素電極の端部での等電位線の屈曲を防止して、対向電極
の表面に対し垂直な電界を増加し、ディスクリネーショ
ン及び光漏れの低減を図る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の画素部を示す上面図及び斜視図。
【図2】 本発明の画素部を示す上面図。
【図3】 シミュレーションのモデルを示す断面図。
【図4】 本発明の画素部を示す断面図。
【図5】 本発明の画素部を示す断面図。
【図6】 本発明の画素部を示す上面図及び斜視図。
【図7】 本発明の画素部を示す上面図。
【図8】 本発明の画素部を示す断面図。
【図9】 本発明の画素部の一例を示す上面図。
【図10】 本発明の画素部の一例を示す上面図。
【図11】 第1の端部の幅と光漏れ及びディスクリネ
ーションの幅の和の関係を示す図。
【図12】 光漏れ及びディスクリネーションが発生す
る原理を示す模式図。
【図13】 隣接する画素電極が異極性の電位でのシミ
ュレーション結果を示す断面図。
【図14】 隣接する画素電極が異極性の電位でのシミ
ュレーション結果を示す断面図。
【図15】 隣接する画素電極が同極性の電位でのシミ
ュレーション結果を示す断面図。
【図16】 隣接する画素電極が同極性の電位でのシミ
ュレーション結果を示す断面図。
【図17】 隣接する画素電極が同極性の電位でのシミ
ュレーション結果を示す断面図。
【図18】 隣接する画素電極が同極性の電位でのシミ
ュレーション結果を示す断面図。
【図19】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示
す上面図。
【図20】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示
す上面図。
【図21】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示
す上面図。
【図22】 本発明の画素部の一例を示す上面図。
【図23】 本発明のアクティブマトリクス基板の一例
を示す断面図。
【図24】 液晶表示装置を示す断面図。
【図25】 電子機器の一例を示す斜視図。
【図26】 電子機器の一例を示す斜視図。
【図27】 電子機器の一例を示す斜視図。
【図28】 隣接する画素電極が同極性の電位での等電
位線を示す模式図。
【図29】 隣接する画素電極が異極性の電位での等電
位線を示す模式図。
【図30】 ソースライン反転駆動をするときの画素に
印加される電圧の極性を示す図。
【図31】 本発明に対する比較例を示す斜視図。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】走査線と、信号線と、画素電極と、前記画
    素電極の上方にある対向電極とを有する液晶表示装置で
    あって、前記画素電極は、平坦面上に設けられた主面
    と、前記主面より対向電極に近い側にある第1の面と、
    前記第1の面より前記対向電極に近い側にある第2の面
    とを有し、 前記第1の面は前記走査線に沿って設けられており、 前記第2の面は前記走査線と前記信号線との交差部の近
    傍にあることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】走査線と、信号線と、画素電極と、前記画
    素電極の上方にある対向電極とを有する液晶表示装置で
    あって、 前記画素電極は、主面と、前記主面を囲んで設けられた
    枠状の端部とからなり、 前記枠状の端部は第1の端部、第2の端部、第3の端部
    及び第4の端部とからなり、 前記第1の端部は第1の走査線に沿って設けられてお
    り、 前記第3の端部は前記第1の走査線と隣接する第2の走
    査線に沿って設けられており、 前記第2の端部は第1の信号線に沿って設けられてお
    り、かつ、前記第1の端部と前記第3の端部との間にあ
    り、 前記第4の端部は前記第1の信号線と隣接する第2の信
    号線に沿って設けられており、かつ、前記第1の端部と
    前記第3の端部との間にあり、 前記主面は平坦面上に設けられており、前記第2の端部
    及び前記第4の端部は前記平坦面と同一の高さに設けら
    れており、前記第1の端部及び前記第3の端部は前記平
    坦面より前記対向電極に近い側に設けられており、 前記第1の端部のうち、前記第1の端部の両端は、前記
    第1の端部の中央に比べて、さらに対向電極に近い側に
    設けられており、 前記第3の端部のうち、前記第3の端部の両端は、前記
    第3の端部の中央に比べて、さらに対向電極に近い側に
    設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
  3. 【請求項3】請求項1または請求項2において、 前記液晶表示装置は、ゲートライン反転駆動を行う液晶
    表示装置であることを特徴とする液晶表示装置。
  4. 【請求項4】走査線と、信号線と、画素電極と、前記画
    素電極の上方にある対向電極とを有する液晶表示装置で
    あって、 前記画素電極は、平坦面上に設けられた主面と、前記主
    面より対向電極に近い側にある第1の面と、前記第1の
    面より前記対向電極に近い側にある第2の面とを有し、 前記第1の面は前記信号線に沿って設けられており、 前記第2の面は前記走査線と前記信号線との交差部の近
    傍にあることを特徴とする液晶表示装置。
  5. 【請求項5】走査線と、信号線と、画素電極と、前記画
    素電極の上方にある対向電極とを有する液晶表示装置で
    あって、前記画素電極は、主面と、前記主面を囲んで設
    けられた枠状の端部とからなり、前記枠状の端部は第1
    の端部、第2の端部、第3の端部及び第4の端部とから
    なり、 前記第1の端部は第1の信号線に沿って設けられてお
    り、 前記第3の端部は前記第1の信号線と隣接する第2の信
    号線に沿って設けられており、 前記第2の端部は第1の走査線に沿って設けられてお
    り、かつ、前記第1の端部と前記第3の端部との間にあ
    り、 前記第4の端部は前記第1の走査線と隣接する第2の走
    査線に沿って設けられており、かつ、前記第1の端部と
    前記第3の端部との間にあり、 前記主面は平坦面上に設けられており、前記第2の端部
    及び前記第4の端部は前記平坦面と同一の高さに設けら
    れており、前記第1の端部及び前記第3の端部は前記平
    坦面より前記対向電極に近い側に設けられており、 前記第1の端部のうち、前記第1の端部の両端は、前記
    第1の端部の中央に比べて、さらに対向電極に近い側に
    設けられており、 前記第3の端部のうち、前記第3の端部の両端は、前記
    第3の端部の中央に比べて、さらに対向電極に近い側に
    設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
  6. 【請求項6】請求項4または請求項5において、 前記液晶表示装置は、ソースライン反転駆動を行う液晶
    表示装置であることを特徴とする液晶表示装置。
  7. 【請求項7】請求項2、請求項3、請求項5又は請求項
    6において、 互いに隣接する画素電極を有し、一方の画素電極の前記
    第2の端部と、もう一方の画素電極の前記第4の端部と
    の間の距離が2.0μm以下であることを特徴とする液
    晶表示装置。
  8. 【請求項8】請求項2、請求項3、請求項5又は請求項
    6において、 前記第1の端部の両端部は、前記第1の端部の中央部に
    比べて0.2μm以上、前記対向電極に近い側にあり、 前記第3の端部の両端部は、前記第3の端部の中央部に
    比べて0.2μm以上、前記対向電極に近い側にあるこ
    とを特徴とする液晶表示装置。
  9. 【請求項9】請求項2、請求項3、請求項5又は6にお
    いて、 前記第1の端部の両端部は、前記第1の端部の中央部に
    比べて0.5μm以上、前記対向電極に近い側にあり、 前記第3の端部の両端部は、前記第3の端部の中央部に
    比べて0.5μm以上、前記対向電極に近い側にあるこ
    とを特徴とする液晶表示装置。
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