JP2002200700A - 金属蒸着積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡潔な方法でプラスチックフィルム等の基材
表面と金属蒸着層との間の密着力を充分なものとした金
属蒸着積層体を提供する。 【解決手段】 基材表面上に、第１金属蒸着層と、第２
金属蒸着層と、をこの順番に積層した金属蒸着積層体で
あって、前記第１金属蒸着層は、例えばクロム又はクロ
ム系合金を真空蒸着法によって前記基材表面の表面上に
形成してなり、前記第２金属蒸着層は、アルミニウム、
インジウム、スズ、銀、の中から選ばれた１種類以上の
金属を真空蒸着法によって前記第１金属蒸着層の表面上
に形成する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願発明は、層間密着力の増
した金属蒸着積層体に関するものであり、特に基材表面
へ金属蒸着層を形成する時の基材表面と金属蒸着層との
密着力を増加させた金属蒸着積層体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば様々な基材の表面に対して
金属蒸着層を蒸着により形成する時において金属蒸着層
を基材表面に密着させやすくする為に、一般的には、基
材表面に対して予め表面処理を施した後に、その上に金
属蒸着層を設ける、という方法が用いられる。例えば、
耐熱性等に優れたフッ素フィルムや低吸水性等に優れた
シクロオレフィン系フィルムなどのプラスチックフィル
ム表面にアルミニウム等の金属を蒸着させて金属蒸着層
を設ける場合には、まず最初に、大気中での放電を利用
して表面改質を行うコロナ放電処理や、同じく真空中で
の放電を利用して表面改質を行うグロー放電処理を行う
ことにより、フィルム表面を易接着化し、次いで上記の
処理が済んだプラスチックフィルム表面に対して金属蒸
着層を設けることが一般に行われている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述したよう
なコロナ放電処理やグロー放電処理によってプラスチッ
クフィルムの表面改質を行った後にプラスチックフィル
ムの表面に金属蒸着層を設けようとしても、プラスチッ
クフィルムと金属蒸着層との間には必ずしも所望する充
分な密着力は生じなかった。特にシクロオレフィン系フ
ィルムであれば、その構造上極性基が存在しておらず、
そのため、コロナ放電やグロー放電処理を行っても密着
力の向上はなかなか容易には実現できなかった。そこ
で、密着力を改善するという観点から、特開平８−２６
７６４５号公報では、グロー放電下において特定厚さの
アンカー蒸着層を設けることで密着力を増す、という発
明が開示されている。しかしこの方法ではグロー放電と
金属蒸着を同時に行う必要があり、そのため作業工程は
困難であり、ひいては製造コストがかかってしまう、と
いう問題点があった。

【０００４】本願発明はこのような問題点に鑑みて為さ
れたものであり、その目的は、簡潔な方法でプラスチッ
クフィルム等の基材表面と金属蒸着層との間の密着力を
充分なものとした金属蒸着積層体を提供することであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願発明の請求項１に記載の発明は、基材表面上
に、第１金属蒸着層と、第２金属蒸着層と、を積層した
金属蒸着積層体であって、前記第１金属蒸着層は、前記
基材表面と結合しやすく、かつ前記第２金属蒸着層との
合金層を形成できる金属又は該金属系合金の蒸着膜を真
空蒸着法によって前記基材表面上に形成したものであ
り、前記第２金属蒸着層は、アルミニウム、インジウ
ム、スズ、銀、の中から選ばれた１種類以上の金属の蒸
着膜を真空蒸着法によって前記第１金属蒸着層の表面上
に形成したものであること、を特徴とする。

【０００６】本願発明の請求項２に記載の発明は、請求
項１に記載の金属蒸着積層体において、前記基材がフィ
ルム状であること、又はシート状であること、又は成形
物であること、を特徴とする。

【０００７】本願発明の請求項３に記載の発明は、請求
項１に記載の金属蒸着積層体において、前記基材がフッ
素系フィルム、もしくはシクロオレフィン系フィルムで
あること、を特徴とする。

【０００８】本願発明の請求項４に記載の発明は、請求
項１ないし請求項３に記載の金属蒸着積層体において、
前記第１金属蒸着層を形成する金属又は該金属系合金
は、クロム又はクロム系合金、ニッケル又はニッケル系
合金、チタン又はチタン系合金、亜鉛又は亜鉛系合金、
のいずれか１種類以上の金属又は該金属系合金であるこ
と、を特徴とする。

【０００９】本願発明の請求項５に記載の発明は、請求
項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の金属蒸着積
層体において、前記第１金属蒸着層の層厚が０．１ｎｍ
〜１０ｎｍであって、前記第２金属蒸着層の層厚が１０
ｎｍ〜３００ｎｍであること、を特徴とする。

【００１０】本願発明の請求項６に記載の発明は、請求
項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の金属蒸着積
層体において、前記フッ素系フィルムが、エチレン−テ
トラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テトラフ
ルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体
（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロア
ルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテトラ
フルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、の中から選ばれた１種
以上のフッ素系樹脂を主成分とするフィルムであるこ
と、を特徴とする。

【００１１】本願発明の請求項７に記載の発明は、請求
項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の金属蒸着積
層体において、前記シクロオレフィン系フィルムが、ジ
シクロペンタジエンを原料として高分子化させたシクロ
オレフィン系樹脂を主成分とするフィルムであること、
を特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも
一例であって、必すしもこの実施の形態に限定されるも
のではない。

【００１３】（実施の形態１）本願発明に係る金属蒸着
積層体を第１の実施の形態として、説明する。この金属
蒸着積層体は、基材であるプラスチックフィルムの表面
上に、第１金属蒸着層と、第２金属蒸着層と、をこの順
番に積層してなる金属蒸着積層体である。尚、以下の説
明では基材をプラスチックフィルムとするが、必ずしも
これに限定されず、たとえばこれがフィルム状、又はシ
ート状、又は成形物であっても構わない。これらは、例
えばジエン系物質から作り出されるものであることが考
えられ、また、例えばトリアクリルセルロース（ＴＡ
Ｃ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフ
ェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、トリシクロデカン、
アルキルエステル、等を用いた物質などであることも考
えられるが、ここではこれ以上は特に限定はしない。ま
たこの基材の密着性についても、改めて説明するまでも
無く、密着性の向上が望まれるにもかかわらず、それ単
体では密着レベルの低いものであることが考えられる。
さらにプラスチックフィルムの片面上に順次積層して
も、両面に積層しても、いずれであっても構わないがこ
こでは片面上に順次積層したものとする。

【００１４】まず第１金属蒸着層について説明する。第
１金属蒸着層は、プラスチックフィルムの表面と結合し
やすく、かつ後述する第２金属蒸着層との合金層を形成
できる金属又は該金属系合金の蒸着膜を真空蒸着法によ
ってプラスチックフィルムの面上に形成したものであ
る。この第１金属蒸着層を形成する金属又は該金属系合
金について特に限定はしないが、クロム又はクロム系合
金、ニッケル又はニッケル系合金、チタン又はチタン系
合金、亜鉛又は亜鉛系合金、のいずれか１種類以上の金
属又は該金属系合金であることが好ましい。これは上述
の通り、これらの金属であればプラスチックフィルム表
面と結合しやすく、かつ第２金属蒸着層との合金層を形
成しやすいからである。以下の説明においては、クロム
又はクロム系合金を用いたものするが、これ以外の上述
の物質であっても同様である。

【００１５】この第１金属蒸着層を形成するために用い
られる真空蒸着法としてはスパッタリング法、又はイオ
ンプレーティング法、又は抵抗加熱蒸着、高周波誘導加
熱蒸着、電子ビーム加熱蒸着などの一般的な真空蒸着
法、などがあるが、本実施の形態において第１金属蒸着
層を設けるのにはスパッタリング法を用いることが好ま
しい。これは、この方法であれば極めて薄い膜を均一に
かつ収率よく形成できるからである。尚、スパッタリン
グ法には２極スパッタ、多極スパッタ、高周波スパッ
タ、マグネトロンスパッタなどがあるが、特にこれらの
方法を限定するものではない。

【００１６】また、クロム又はクロム系合金などで形成
される第１金属蒸着層の膜厚については特に限定される
ものではないが、０．１ｎｍ〜３０ｎｍであることが望
ましく、０．１ｎｍ〜１０ｎｍであればより好適なもの
となる。これは、膜厚が３０ｎｍを超えてしまうと密着
力は殆ど向上しなくなり、むしろ第１金属蒸着層がひび
割れを起こしやすくなる、厚みが出るということはそれ
だけ材料を消費することとなり、即ちコスト的に得策で
ない、という現象が生じ、また膜厚が０．１ｎｍ未満で
あると、密着力向上に関する効果が殆ど望めない、とい
う現象が生じるからである。

【００１７】尚、第１金属蒸着層を上記の膜厚とし、か
つクロム又はクロム系合金でこれを形成する場合、クロ
ム又はクロム系合金の一部又は全部が酸化してしまう場
合もあり得るが、この場合であっても本実施の形態の目
的は達成出来る。

【００１８】次に第２金属蒸着層について説明する。こ
れは、アルミニウム、インジウム、スズ、銀、の中から
選ばれた１種類以上の金属を第１金属蒸着層の表面上に
形成したものである。これらの金属は蒸着しやすく、ま
た生産性も高いため本実施の形態においては好適である
と言えるが、特に経済的、密着性向上効果、金属光沢性
等の点から、アルミニウムを用いることが最も好適であ
ると言える。

【００１９】真空蒸着法としてはスパッタリング法、又
はイオンプレーティング法、又は抵抗加熱蒸着、高周波
誘導加熱蒸着、電子ビーム加熱蒸着などの一般的な真空
蒸着法、などがあるが本実施の形態において第２金属蒸
着層を設けるのに、抵抗加熱蒸着、高周波誘導加熱蒸
着、電子ビーム加熱蒸着などの一般的な真空蒸着法を用
いて構わない。これは、スパッタリング法に比べて、一
般的な真空蒸着法の方が生産性が高いからである。

【００２０】第２金属蒸着層の膜厚については特に限定
されるものではないが、５ｎｍ〜５００ｎｍであること
が望ましく、１０ｎｍ〜３００ｎｍであればより好適な
ものとなる。これは、膜厚が５００ｎｍを超えてしまう
と金属光沢を得る、等のような金属を蒸着させることに
より得られる固有の機能が向上しなくなり、またコスト
的にも得策ではない、という現象が生じ、また膜厚が５
ｎｍ未満であると、金属光沢を得る、等のような金属を
蒸着させることにより得られる固有の機能をフィルムに
付与できない、という現象が生じるからである。

【００２１】尚、第２金属蒸着層を上記の膜厚とし、か
つアルミニウム、インジウム、スズ、銀、の中から選ば
れた１種類以上の金属でこれを形成する場合、公知のよ
うに金属の表面において酸化された状態となる場合も考
えられるが、この場合であっても本実施の形態の目的は
達成出来る。

【００２２】これら第１金属蒸着層及び第２金属蒸着層
を設けるプラスチックフィルムについては特に限定する
ものではないが、本実施の形態においてはフッ素系フィ
ルム又はシクロオレフィン系フィルム等を用いることが
望ましい。これは、フッ素系フィルムは、たとえば消防
服等の用途に、またシクロオレフィン系フィルムは、液
晶表示装置用の半透明・半反射材の用途に、それぞれよ
く用いられる材質であり、昨今これらのフィルムに対し
て、フィルムを利用する目的を達成するために、密着力
の向上が強く求められているからである。

【００２３】またフッ素系フィルムであれば、エチレン
−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テト
ラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合
体（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテト
ラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、の中から選ばれた１
種以上のフッ素系樹脂を主成分とするフィルムであるこ
とが好適であるが、これらを主成分とするフッ素系フィ
ルムであれば、バリア性や耐熱性の点において大変好適
な性質を得ることが出来る。

【００２４】またシクロオレフィン系フィルムであれ
ば、ジシクロペンタジエンを原料として高分子化させた
シクロオレフィン系樹脂を主成分とするフィルムである
ことが好適であるが、これであれば低吸水性であるこ
と、加水分解などが起きないために廃棄・燃焼時におけ
る環境問題をひきおこさないこと、という点において大
変好適な性質を得ることが出来る。尚詳述はしないが、
シクロオレフィン系フィルムに用いる樹脂としては、上
記以外にも、例えばポリエチレン（ＰＥ）、又はポリプ
ロピレン（ＰＰ）、のいずれか又は双方のポリオレフィ
ンであって、分子骨格中に脂環構造を持たせたシクロオ
レフィン系樹脂を用いることも考えられる。

【００２５】さらにフッ素系フィルム又はシクロオレフ
ィン系フィルムの厚さは、４μｍから２００μｍのもの
であることが好ましい。この範囲内にあることで、ハン
ドリング性が好適なものとなるからである。

【００２６】本発明に係る実施の形態は、上述したよう
な構成としているので、従来層間密着力を得にくいフィ
ルムであったフッ素系フィルム又はシクロオレフィン系
フィルムであっても容易に層間密着力を増すことが可能
となり、またとくに詳述はしていないがこれら以外の基
材に対しても同様の手法をもって層間密着力を増加させ
ることが可能となる。さらにまた、これらのフィルムと
第２金属蒸着層との密着力及び耐食性を大幅に改善する
ことが可能となったので、本発明に係る金属蒸着積層体
を、例えば自動車用モール部材、金属色を有する難燃用
糸、消防服の素材、液晶表示装置のための部材、等の分
野に対して広く利用することが可能となる。

【００２７】尚、本願発明及び本実施の形態における基
材とその表面上に形成された第２金属蒸着層との間に生
じる充分な密着力とは、後述する方法で評価されるラミ
ネート強度におけるドライ密着強度が１００ｇ／１５ｍ
ｍ以上のものを言い、特に１５０ｇ／１５ｍｍ以上のも
のであれば好ましく、更には２００ｇ／１５ｍｍ以上の
ものであればなおより一層好適である。

【００２８】

【実施例】以下、実施例により本願発明をより具体的に
説明するが、必ずしも本願発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。また、以下の実施例では第１金属蒸
着層としてクロム又はクロム系合金を用いたものについ
て説明し、特にニッケル又はニッケル系合金、チタン又
はチタン系合金、亜鉛又は亜鉛系合金を用いた場合につ
いては実施例を示しての説明を省略する。尚、以下の実
施例における評価等については、次のように行った。

【００２９】（１） ラミネート強度 金属蒸着層面に、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体接着
剤を固形分で３μｍ相当をコートし、この塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体接着剤を介して、厚さ２００μｍの
軟質塩ビフィルムと重ね合わせる。そしてこれに対し
て、１２５℃下で２．０ｋｇ／ｃｍ^２の圧力をかけて２
秒間圧着し、２５℃の雰囲気で２４時間エージングを行
う。エージング終了後、これを１５ｍｍ×２００ｍｍの
寸法に切り出し、卓上形精密万能試験機（株式会社島津
製作所製 島津オートグラフＡＧＳ−１００）により、
Ａｌ蒸着層と接着剤層との間を引張速度２００ｍｍ／ｍ
ｉｎで９０°剥離する。この剥離時の強度を密着強度と
して評価測定した（以下、これを「ドライ密着強度」と
呼ぶ）。また、上記と同様の方法で引っ張り始めた時に
剥離面に蒸留水を２〜３滴滴下したものについて、剥離
時の強度を密着強度として評価測定した（以下、これを
「ウェット密着強度」と呼ぶ）。

【００３０】（２） 第２金属蒸着層の膜厚 段差・表面粗さ形状測定器（Ｔｅｎｃｏｒ Ｉｎｓｔｒ
ｕｍｅｎｔｓ社製 Ｐ−１０）を用いて、フィルム表面
上に存在する、第２金属蒸着層形成部分と第２金属蒸着
層未形成部分との段差につき測定し、これを第２金属蒸
着層の膜厚とした。

【００３１】（３） 耐食性 第２金属蒸着層表面にアクリル樹脂の保護層を１μｍコ
ートし、これを４０℃の純水に２４時間浸漬した後の、
第２金属蒸着層の状態を観察した。

【００３２】（実施例１−１〜１−３）フッ素系フィル
ム（ダイキン工業株式会社製 ネオフロンフィルム 膜
厚５０μｍ）表面上に直流（ＤＣ）マグネトロンスパッ
タリングによって第１金属蒸着層であるクロム薄膜を形
成した。この際の条件は下記条件１に記載した通りであ
る。そしてその後ロール・ツー・ロール方式の真空蒸着
機を用いてアルミニウムの真空蒸着を行った。この際の
条件は下記条件２に記載した通りである。 （条件１） 真空到達度 ５．０×１０^−３ Ｐａ 作業真空度 ６．７×１０^−１ Ｐａ 放電ガス アルゴン（Ａｒ） 電力密度 ２Ｗ／ｃｍ^２ （条件２） 巻き取り速度 ３００ｍ／ｍｉｎ 作業真空度 １．３×１０^−２ Ｐａ Ａｌ膜厚 ５０ｎｍ ここで、 実施例１−１におけるクロム膜厚 １ｎｍ 実施例１−２におけるクロム膜厚 ５ｎｍ 実施例１−３におけるクロム膜厚 １０ｎｍ とした。

【００３３】そしてこのようにして得られた実施例１−
１〜実施例１−３における金属蒸着積層体のラミネート
強度はドライ密着強度、ウェット密着強度共に、全て３
００ｇ／１５ｎｍ以上であり、耐食性に関しては全く変
化は見られなかった。

【００３４】（実施例１−４〜１−５）フッ素系フィル
ム（ダイキン工業株式会社製 ネオフロンフィルム 膜
厚５０μｍ）表面上に直流（ＤＣ）マグネトロンスパッ
タリングによって第１金属蒸着層であるクロム系合金の
薄膜を形成した。この際の条件は上記の条件１に記載し
た通りである。そしてその後ロール・ツー・ロール方式
の真空蒸着機を用いてアルミニウムの真空蒸着を行っ
た。この際の条件は上記の条件２に記載した通りであ
る。ここで、 実施例１−４におけるクロム系合金 Ｎｉ−５０％Ｃｒ 実施例１−５におけるクロム系合金 Ｎｉ− ７％Ｃｒ を、それぞれ用いた。また実施例１−４及び実施例１−
５におけるクロム系合金膜厚 ５ｎｍとした。

【００３５】そしてこのようにして得られた実施例１−
４〜実施例１−５における金属蒸着積層体のラミネート
強度は、ドライ密着強度、ウェット密着強度共に、全て
３００ｇ／１５ｎｍ以上であり、耐食性に関しては実施
例４及び実施例５共にわずか微小域での変化が見られる
程度であった。

【００３６】（比較例１）フッ素系フィルム（ダイキン
工業株式会社製 ネオフロンフィルム 膜厚５０μｍ）
表面上に対して、ロール・ツー・ロール方式の真空蒸着
機を用いてアルミニウムの真空蒸着を行った。即ち、実
施例１〜実施例５のサンプルにおいて第１金属蒸着層で
あるクロム又はクロム合金蒸着層が存在しない金属蒸着
積層体を作成した。尚、この際の条件は上記条件２に記
載した通りである。

【００３７】そしてこのようにして得られた比較例１に
おける金属蒸着積層体のラミネート強度は、 ドライ密着強度 ９０ｇ／１５ｍｍ ウェット密着強度 ２０ｇ／１５ｍｍ であり、耐食性に関してはサンプル端部におけるアルミ
ニウム抜けが見られる等、大きな変化が見られた。

【００３８】（実施例２−１〜２−３）シクロオレフィ
ン系フィルム（日本ゼオン株式会社製 商品名：ＺＥＯ
ＮＯＲ膜厚５０μｍ）表面上に直流（ＤＣ）マグネトロ
ンスパッタリングによって第１金属蒸着層であるクロム
薄膜を形成した。この際の条件は上記条件１に記載した
通りである。そしてその後ロール・ツー・ロール方式の
真空蒸着機を用いてアルミニウムの真空蒸着を行った。
この際の条件は上記条件２に記載した通りである。 ここで、 実施例２−１におけるクロム膜厚 １ｎｍ 実施例２−２におけるクロム膜厚 ５ｎｍ 実施例２−３におけるクロム膜厚 １０ｎｍ とした。

【００３９】そしてこのようにして得られた実施例２−
１〜実施例２−３における金属蒸着積層体のラミネート
強度はドライ密着強度、ウェット密着強度共に、全て３
１０ｇ／１５ｎｍ以上であり、耐食性に関しては全く変
化は見られなかった。

【００４０】（実施例２−４〜２−５）シクロオレフィ
ン系フィルム（日本ゼオン株式会社製 商品名：ＺＥＯ
ＮＯＲ膜厚５０μｍ）表面上に直流（ＤＣ）マグネトロ
ンスパッタリングによって第１金属蒸着層であるクロム
系合金の薄膜を形成した。この際の条件は上記の条件１
に記載した通りである。そしてその後ロール・ツー・ロ
ール方式の真空蒸着機を用いてアルミニウムの真空蒸着
を行った。この際の条件は上記の条件２に記載した通り
である。ここで、 実施例２−４におけるクロム系合金 Ｎｉ−２０％Ｃｒ 実施例２−５におけるクロム系合金 Ｎｉ− ７％Ｃｒ を、それぞれ用いた。また実施例２−４及び実施例２−
５におけるクロム系合金膜厚 ５ｎｍとした。

【００４１】そしてこのようにして得られた実施例２−
４〜実施例２−５における金属蒸着積層体のラミネート
強度は、ドライ密着強度、ウェット密着強度共に、全て
３１０ｇ／１５ｎｍ以上であり、耐食性に関しては実施
例４及び実施例５共にわずか微小域での変化が見られる
程度であった。

【００４２】（比較例２）シクロオレフィン系フィルム
（日本ゼオン株式会社製 商品名：ＺＥＯＮＯＲ膜厚５
０μｍ）表面上に対して、ロール・ツー・ロール方式の
真空蒸着機を用いてアルミニウムの真空蒸着を行った。
即ち、実施例２−１〜実施例２−５のサンプルにおいて
第１金属蒸着層であるクロム又はクロム合金蒸着層が存
在しない金属蒸着積層体を作成した。尚、この際の条件
は上記条件２に記載した通りである。

【００４３】そしてこのようにして得られた比較例１に
おける金属蒸着積層体のラミネート強度は、 ドライ密着強度 １０ｇ／１５ｍｍ ウェット密着強度 ５ｇ／１５ｍｍ であり、耐食性に関してはサンプル端部におけるアルミ
ニウム抜けが見られる等、大きな変化が見られた。

【００４４】以上の実施例及び比較例からわかるよう
に、本願発明に係るように第１金属蒸着層を設けること
によって、ラミネート強度も増加し、また耐食性につい
ても好ましい金属蒸着積層体を得ることが出来る。

【００４５】

【発明の効果】以上のように、本願発明の請求項１に記
載の金属蒸着積層体によれば、基材表面と結合しやす
く、かつ第２金属蒸着層との合金層を形成できる金属又
は該金属系合金の蒸着膜を真空蒸着法によって基材表面
上に形成し、第２金属蒸着層を、アルミニウム、インジ
ウム、スズ、銀、の中から選ばれた１種類以上の金属の
蒸着膜を真空蒸着法によって第１金属蒸着層の表面上に
形成したもの、としたことで、基材と第２金属蒸着層と
の間に生じる密着力が強い金属蒸着積層体を得ることが
出来る。

【００４６】本願発明の請求項２に記載の金属蒸着積層
体によれば、基材がフィルム状であること、又はシート
状であること、又は成形物であること、としたので、い
わゆるコーティングが望まれる分野において密着力の強
い積層体を形成することが出来る。

【００４７】本願発明の請求項３に記載の金属蒸着積層
体によれば、基材をフッ素系フィルム、もしくはシクロ
オレフィン系フィルム、としたことで、例えば消防服や
液晶表示装置等に用いられる材料であって、非常によく
基材に密着した金属蒸着層が望まれる製品において、大
変密着力に優れたフィルムを提供することが出来る。

【００４８】本願発明の請求項４に記載の金属蒸着積層
体によれば、第１金属蒸着層を形成する金属又は該金属
系合金を、クロム又はクロム系合金、ニッケル又はニッ
ケル系合金、チタン又はチタン系合金、のいずれか１種
類以上の金属又は該金属系合金としたことので、これら
の金属又は該金属系合金であれば基材表面と結合しやす
く、かつ第２金属蒸着層と合金層を作りやすいので、大
変密着力に優れた金属蒸着積層体を得ることが出来る。

【００４９】本願発明の請求項５に記載の金属蒸着積層
体によれば、第１金属蒸着層の層厚が０．１ｎｍ〜１０
ｎｍであって、第２金属蒸着層の層厚が１０ｎｍ〜３０
０ｎｍであること、としたので、コスト的にも好適であ
り、また所望の密着力を得やすくなる。

【００５０】本願発明の請求項６に記載の金属蒸着積層
体によれば、フッ素系フィルムが、エチレン−テトラフ
ルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テトラフルオロ
エチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥ
Ｐ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキル
ビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオ
ロエチレン（ＰＴＦＥ）、の中から選ばれた１種以上の
フッ素系樹脂を主成分とするフィルムであること、とし
たので、

【００５１】本願発明の請求項７に記載の金属蒸着積層
体によれば、シクロオレフィン系フィルムが、シクロオ
レフィン系フィルムが、ジシクロペンタジエンを原料と
して高分子化させたシクロオレフィン系樹脂を主成分と
するフィルムであることとしたので環境問題の観点から
好ましいものとできる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AB01B AB01C AB10C AB12B AB13B AB16B AB18B AB21C AB24C AB31B AB31C AB40C AK02A AK17A AR00B AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C EH66 EH66B EH66C EH662 GB32 GB72 JL11 4K029 AA11 AA25 BA03 BA04 BA07 BA10 BA15 BA17 BA18 BA21 BA25 BB02 EA01

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材表面上に、第１金属蒸着層と、第２
   金属蒸着層と、を積層した金属蒸着積層体であって、 前記第１金属蒸着層は、前記基材表面と結合しやすく、
   かつ前記第２金属蒸着層との合金層を形成できる金属又
   は該金属系合金の蒸着膜を真空蒸着法によって前記基材
   表面上に形成したものであり、 前記第２金属蒸着層は、アルミニウム、インジウム、ス
   ズ、銀、の中から選ばれた１種類以上の金属の蒸着膜を
   真空蒸着法によって前記第１金属蒸着層の表面上に形成
   したものであること、 を特徴とする、金属蒸着積層体。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の金属蒸着積層体におい
   て、 前記基材がフィルム状であること、又はシート状である
   こと、又は成形物であること、 を特徴とする、金属蒸着積層体。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の金属蒸着積層体におい
   て、 前記基材がフッ素系フィルム、もしくはシクロオレフィ
   ン系フィルムであること、 を特徴とする、金属蒸着積層体。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３に記載の金属蒸
   着積層体において、 前記第１金属蒸着層を形成する金属又は該金属系合金
   は、クロム又はクロム系合金、ニッケル又はニッケル系
   合金、チタン又はチタン系合金、亜鉛又は亜鉛系合金、
   のいずれか１種類以上の金属又は該金属系合金であるこ
   と、 を特徴とする、金属蒸着積層体。
5. 【請求項５】 請求項１ないし請求項４のいずれか１項
   に記載の金属蒸着積層体において、 前記第１金属蒸着層の層厚が０．１ｎｍ〜１０ｎｍであ
   って、 前記第２金属蒸着層の層厚が１０ｎｍ〜３００ｎｍであ
   ること、 を特徴とする、金属蒸着積層体。
6. 【請求項６】 請求項１ないし請求項５のいずれか１項
   に記載の金属蒸着積層体において、 前記フッ素系フィルムが、エチレン−テトラフルオロエ
   チレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン
   −ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テト
   ラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエー
   テル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオロエチレン
   （ＰＴＦＥ）、の中から選ばれた１種以上のフッ素系樹
   脂を主成分とするフィルムであること、 を特徴とする、金属蒸着積層体。
7. 【請求項７】 請求項１ないし請求項６のいずれか１項
   に記載の金属蒸着積層体において、 前記シクロオレフィン系フィルムが、ジシクロペンタジ
   エンを原料として高分子化させたシクロオレフィン系樹
   脂を主成分とするフィルムであること、 を特徴とする、金属蒸着積層体。