JP2002195881A - ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法および装置 - Google Patents
ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法および装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビーム状の光の射出位置および光軸の角度
を、作業効率よく、しかも、精度よく、調整し、位置決
めすることのできるビーム状の光の光軸調整・位置決め
方法を提供する。 【解決手段】 光源１、２、３から発せられたビーム状
の光４を、光源からの距離が異なる２つの位置Ａ、Ｂ
で、光を光電的に受光可能な少なくとも１つの二次元的
位置センサ６０によって、光電的に受光して、それぞ
れ、ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データ
を生成し、生成された受光位置データに基づいて、光源
から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位
置を調整し、位置決めすることを特徴とするビーム状の
光の光軸調整・位置決め方法。
を、作業効率よく、しかも、精度よく、調整し、位置決
めすることのできるビーム状の光の光軸調整・位置決め
方法を提供する。 【解決手段】 光源１、２、３から発せられたビーム状
の光４を、光源からの距離が異なる２つの位置Ａ、Ｂ
で、光を光電的に受光可能な少なくとも１つの二次元的
位置センサ６０によって、光電的に受光して、それぞ
れ、ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データ
を生成し、生成された受光位置データに基づいて、光源
から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位
置を調整し、位置決めすることを特徴とするビーム状の
光の光軸調整・位置決め方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビーム状の光の光
軸調整・位置決め方法および装置に関するものであり、
さらに詳細には、ビーム状の光の射出位置および光軸の
角度を、作業効率よく、しかも、精度よく、調整し、位
置決めすることのできるビーム状の光の光軸調整・位置
決め方法および装置に関するものである。
軸調整・位置決め方法および装置に関するものであり、
さらに詳細には、ビーム状の光の射出位置および光軸の
角度を、作業効率よく、しかも、精度よく、調整し、位
置決めすることのできるビーム状の光の光軸調整・位置
決め方法および装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】放射線が照射されると、放射線のエネル
ギーを吸収して、蓄積、記録し、その後に、特定の波長
域の電磁波を用いて励起すると、照射された放射線のエ
ネルギーの量に応じた光量の輝尽光を発する特性を有す
る輝尽性蛍光体を、放射線の検出材料として用い、放射
性標識を付与した物質を、生物体に投与した後、その生
物体あるいはその生物体の組織の一部をサンプルとし、
このサンプルを、輝尽性蛍光体層が設けられた蓄積性蛍
光体シートと一定時間重ね合わせることにより、放射線
エネルギーを輝尽性蛍光体に、蓄積、記録し、しかる後
に、電磁波によって、輝尽性蛍光体層を走査して、輝尽
性蛍光体を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光
を光電的に検出して、ディジタル画像信号を生成し、画
像処理を施して、ＣＲＴなどの表示手段上あるいは写真
フイルムなどの記録材料上に、画像を再生するように構
成されたオートラジオグラフィ検出システムが知られて
いる（たとえば、特公平１−６０７８４号公報、特公平
１−６０７８２号公報、特公平４−３９５２号公報な
ど）。
ギーを吸収して、蓄積、記録し、その後に、特定の波長
域の電磁波を用いて励起すると、照射された放射線のエ
ネルギーの量に応じた光量の輝尽光を発する特性を有す
る輝尽性蛍光体を、放射線の検出材料として用い、放射
性標識を付与した物質を、生物体に投与した後、その生
物体あるいはその生物体の組織の一部をサンプルとし、
このサンプルを、輝尽性蛍光体層が設けられた蓄積性蛍
光体シートと一定時間重ね合わせることにより、放射線
エネルギーを輝尽性蛍光体に、蓄積、記録し、しかる後
に、電磁波によって、輝尽性蛍光体層を走査して、輝尽
性蛍光体を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光
を光電的に検出して、ディジタル画像信号を生成し、画
像処理を施して、ＣＲＴなどの表示手段上あるいは写真
フイルムなどの記録材料上に、画像を再生するように構
成されたオートラジオグラフィ検出システムが知られて
いる（たとえば、特公平１−６０７８４号公報、特公平
１−６０７８２号公報、特公平４−３９５２号公報な
ど）。
【０００３】蓄積性蛍光体シートを画像の検出材料とし
て使用するオートラジオグラフィ検出システムは、写真
フイルムを用いる場合とは異なり、現像処理という化学
的処理が不必要であるだけでなく、得られた画像データ
に画像処理を施すことによって、所望のように、画像を
再生し、あるいは、コンピュータによる定量解析が可能
になるという利点を有している。
て使用するオートラジオグラフィ検出システムは、写真
フイルムを用いる場合とは異なり、現像処理という化学
的処理が不必要であるだけでなく、得られた画像データ
に画像処理を施すことによって、所望のように、画像を
再生し、あるいは、コンピュータによる定量解析が可能
になるという利点を有している。
【０００４】他方、オートラジオグラフィシステムにお
ける放射性標識物質に代えて、蛍光物質を標識物質とし
て使用した蛍光検出（fluorescence) システムが知られ
ている。このシステムによれば、蛍光画像を読み取るこ
とによって、遺伝子配列、遺伝子の発現レベル、蛋白質
の分離、同定、あるいは、分子量、特性の評価などをお
こなうことができ、たとえば、電気泳動させるべき複数
のＤＮＡ断片を含む溶液中に、蛍光色素を加えた後に、
複数のＤＮＡ断片をゲル支持体上で電気泳動させ、ある
いは、蛍光色素を含有させたゲル支持体上で、複数のＤ
ＮＡ断片を電気泳動させ、あるいは、複数のＤＮＡ断片
を、ゲル支持体上で、電気泳動させた後に、ゲル支持体
を蛍光色素を含んだ溶液に浸すなどして、電気泳動され
たＤＮＡ断片を標識し、励起光によって、蛍光色素を励
起して、生じた蛍光を検出することによって、画像を生
成し、ゲル支持体上のＤＮＡを分布を検出したり、ある
いは、複数のＤＮＡ断片を、ゲル支持体上で、電気泳動
させた後に、ＤＮＡを変性（denaturation) し、次い
で、サザン・ブロッティング法により、ニトロセルロー
スなどの転写支持体上に、変性ＤＮＡ断片の少なくとも
一部を転写し、目的とするＤＮＡと相補的なＤＮＡもし
くはＲＮＡを蛍光色素で標識して調製したプローブと変
性ＤＮＡ断片とをハイブリダイズさせ、プローブＤＮＡ
もしくはプローブＲＮＡと相補的なＤＮＡ断片のみを選
択的に標識し、励起光によって、蛍光色素を励起して、
生じた蛍光を検出することにより、画像を生成し、転写
支持体上の目的とするＤＮＡを分布を検出したりするこ
とができる。さらに、標識物質により標識した目的とす
る遺伝子を含むＤＮＡと相補的なＤＮＡプローブを調製
して、転写支持体上のＤＮＡとハイブリダイズさせ、酵
素を、標識物質により標識された相補的なＤＮＡと結合
させた後、蛍光基質と接触させて、蛍光基質を蛍光を発
する蛍光物質に変化させ、励起光により、生成された蛍
光物質を励起して、生じた蛍光を検出することによっ
て、画像を生成し、転写支持体上の目的とするＤＮＡの
分布を検出したりすることもできる。この蛍光検出シス
テムは、放射性物質を使用することなく、簡易に、遺伝
子配列などを検出することができるという利点がある。
ける放射性標識物質に代えて、蛍光物質を標識物質とし
て使用した蛍光検出（fluorescence) システムが知られ
ている。このシステムによれば、蛍光画像を読み取るこ
とによって、遺伝子配列、遺伝子の発現レベル、蛋白質
の分離、同定、あるいは、分子量、特性の評価などをお
こなうことができ、たとえば、電気泳動させるべき複数
のＤＮＡ断片を含む溶液中に、蛍光色素を加えた後に、
複数のＤＮＡ断片をゲル支持体上で電気泳動させ、ある
いは、蛍光色素を含有させたゲル支持体上で、複数のＤ
ＮＡ断片を電気泳動させ、あるいは、複数のＤＮＡ断片
を、ゲル支持体上で、電気泳動させた後に、ゲル支持体
を蛍光色素を含んだ溶液に浸すなどして、電気泳動され
たＤＮＡ断片を標識し、励起光によって、蛍光色素を励
起して、生じた蛍光を検出することによって、画像を生
成し、ゲル支持体上のＤＮＡを分布を検出したり、ある
いは、複数のＤＮＡ断片を、ゲル支持体上で、電気泳動
させた後に、ＤＮＡを変性（denaturation) し、次い
で、サザン・ブロッティング法により、ニトロセルロー
スなどの転写支持体上に、変性ＤＮＡ断片の少なくとも
一部を転写し、目的とするＤＮＡと相補的なＤＮＡもし
くはＲＮＡを蛍光色素で標識して調製したプローブと変
性ＤＮＡ断片とをハイブリダイズさせ、プローブＤＮＡ
もしくはプローブＲＮＡと相補的なＤＮＡ断片のみを選
択的に標識し、励起光によって、蛍光色素を励起して、
生じた蛍光を検出することにより、画像を生成し、転写
支持体上の目的とするＤＮＡを分布を検出したりするこ
とができる。さらに、標識物質により標識した目的とす
る遺伝子を含むＤＮＡと相補的なＤＮＡプローブを調製
して、転写支持体上のＤＮＡとハイブリダイズさせ、酵
素を、標識物質により標識された相補的なＤＮＡと結合
させた後、蛍光基質と接触させて、蛍光基質を蛍光を発
する蛍光物質に変化させ、励起光により、生成された蛍
光物質を励起して、生じた蛍光を検出することによっ
て、画像を生成し、転写支持体上の目的とするＤＮＡの
分布を検出したりすることもできる。この蛍光検出シス
テムは、放射性物質を使用することなく、簡易に、遺伝
子配列などを検出することができるという利点がある。
【０００５】さらに、近年、スライドガラス板やメンブ
レンフィルタ、ゲル支持体などの担体表面上の異なる位
置に、ホルモン類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、
アブザイム、その他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、Ｄ
ＮＡ、ＲＮＡなど、生体由来の物質と特異的に結合可能
で、かつ、塩基配列や塩基の長さ、組成などが既知の特
異的結合物質を、スポッター装置を用いて、滴下して、
多数の独立したスポットを形成し、次いで、ホルモン
類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、アブザイム、そ
の他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、ＤＮＡ、ｍＲＮＡ
など、抽出、単離などによって、生体から採取され、あ
るいは、さらに、化学的処理、化学修飾などの処理が施
された生体由来の物質であって、蛍光物質、色素などの
標識物質によって標識された物質をハイブリダイズさせ
たマイクロアレイに、励起光を照射して、蛍光物質、色
素などの標識物質から発せられた蛍光などの光を光電的
に検出して、生体由来の物質を解析するマイクロアレイ
検出システムが開発されている。このマイクロアレイ検
出システムによれば、スライドガラス板やメンブレンフ
ィルタなどの担体表面上の異なる位置に、数多くの特異
的結合物質のスポットを高密度に形成して、標識物質に
よって標識された生体由来の物質をハイブリダイズさせ
ることによって、短時間に、生体由来の物質を解析する
ことが可能になるという利点がある。
レンフィルタ、ゲル支持体などの担体表面上の異なる位
置に、ホルモン類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、
アブザイム、その他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、Ｄ
ＮＡ、ＲＮＡなど、生体由来の物質と特異的に結合可能
で、かつ、塩基配列や塩基の長さ、組成などが既知の特
異的結合物質を、スポッター装置を用いて、滴下して、
多数の独立したスポットを形成し、次いで、ホルモン
類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、アブザイム、そ
の他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、ＤＮＡ、ｍＲＮＡ
など、抽出、単離などによって、生体から採取され、あ
るいは、さらに、化学的処理、化学修飾などの処理が施
された生体由来の物質であって、蛍光物質、色素などの
標識物質によって標識された物質をハイブリダイズさせ
たマイクロアレイに、励起光を照射して、蛍光物質、色
素などの標識物質から発せられた蛍光などの光を光電的
に検出して、生体由来の物質を解析するマイクロアレイ
検出システムが開発されている。このマイクロアレイ検
出システムによれば、スライドガラス板やメンブレンフ
ィルタなどの担体表面上の異なる位置に、数多くの特異
的結合物質のスポットを高密度に形成して、標識物質に
よって標識された生体由来の物質をハイブリダイズさせ
ることによって、短時間に、生体由来の物質を解析する
ことが可能になるという利点がある。
【０００６】また、メンブレンフィルタなどの担体表面
上の異なる位置に、ホルモン類、腫瘍マーカー、酵素、
抗体、抗原、アブザイム、その他のタンパク質、核酸、
ｃＤＮＡ、ＤＮＡ、ＲＮＡなど、生体由来の物質と特異
的に結合可能で、かつ、塩基配列や塩基の長さ、組成な
どが既知の特異的結合物質を、スポッター装置を用い
て、滴下して、多数の独立したスポットを形成し、次い
で、ホルモン類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、ア
ブザイム、その他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、ＤＮ
Ａ、ｍＲＮＡなど、抽出、単離などによって、生体から
採取され、あるいは、さらに、化学的処理、化学修飾な
どの処理が施された生体由来の物質であって、放射性標
識物質によって標識された物質をハイブリダイズさせた
マクロアレイを、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が
形成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍
光体層を露光し、しかる後に、輝尽性蛍光体層に励起光
を照射し、輝尽性蛍光体層から発せられた輝尽光を光電
的に検出して、生体由来の物質を解析する放射性標識物
質を用いたマクロアレイ検出システムも開発されてい
る。
上の異なる位置に、ホルモン類、腫瘍マーカー、酵素、
抗体、抗原、アブザイム、その他のタンパク質、核酸、
ｃＤＮＡ、ＤＮＡ、ＲＮＡなど、生体由来の物質と特異
的に結合可能で、かつ、塩基配列や塩基の長さ、組成な
どが既知の特異的結合物質を、スポッター装置を用い
て、滴下して、多数の独立したスポットを形成し、次い
で、ホルモン類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、ア
ブザイム、その他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、ＤＮ
Ａ、ｍＲＮＡなど、抽出、単離などによって、生体から
採取され、あるいは、さらに、化学的処理、化学修飾な
どの処理が施された生体由来の物質であって、放射性標
識物質によって標識された物質をハイブリダイズさせた
マクロアレイを、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が
形成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍
光体層を露光し、しかる後に、輝尽性蛍光体層に励起光
を照射し、輝尽性蛍光体層から発せられた輝尽光を光電
的に検出して、生体由来の物質を解析する放射性標識物
質を用いたマクロアレイ検出システムも開発されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】これらのシステムにお
いて用いられる画像読み取り装置や発光量データなどの
生化学解析用のデータを生成するデータ生成装置として
は、スキャナを用いたものと、二次元センサを用いたも
のとがあるが、二次元センサを用いる場合に比して、ス
キャナを用いる場合には、高解像度で、データを生成す
ることができるという利点がある。
いて用いられる画像読み取り装置や発光量データなどの
生化学解析用のデータを生成するデータ生成装置として
は、スキャナを用いたものと、二次元センサを用いたも
のとがあるが、二次元センサを用いる場合に比して、ス
キャナを用いる場合には、高解像度で、データを生成す
ることができるという利点がある。
【０００８】これらのシステムにおいて用いられる画像
読み取り装置や発光量データなどの生化学解析用のデー
タを生成するデータ生成装置として用いられるスキャナ
は、サンプルを、レーザ光によって走査し、レーザ光に
よって、サンプルに含まれる蛍光色素などの標識物質が
励起されて、放出する蛍光などの光を光電的に検出する
ように構成されており、そのために、レーザ光の射出位
置および光軸の角度を調整し、所望のように、位置決め
することが要求されている。
読み取り装置や発光量データなどの生化学解析用のデー
タを生成するデータ生成装置として用いられるスキャナ
は、サンプルを、レーザ光によって走査し、レーザ光に
よって、サンプルに含まれる蛍光色素などの標識物質が
励起されて、放出する蛍光などの光を光電的に検出する
ように構成されており、そのために、レーザ光の射出位
置および光軸の角度を調整し、所望のように、位置決め
することが要求されている。
【０００９】このような場合、従来、レーザ光の射出位
置および光軸の角度の調整にあたっては、レーザ光源か
ら発せられたレーザ光が、レーザ光源のレーザ射出位置
から異なる位置に配置された２つのピンホール部材のピ
ンホールを通るように、レーザ光源を動かして、レーザ
光の射出位置および光軸の角度を調整していたが、かか
る方法は、目視によって、レーザ光の射出位置および光
軸の角度を調整するものであるため、作業性が悪く、正
確な調整が困難であり、また、ピンホールのサイズによ
って、調整精度が決定され、精度を向上させるために
は、２つの距離を大きくする必要があり、より一層、作
業性が悪化するという問題を有していた。
置および光軸の角度の調整にあたっては、レーザ光源か
ら発せられたレーザ光が、レーザ光源のレーザ射出位置
から異なる位置に配置された２つのピンホール部材のピ
ンホールを通るように、レーザ光源を動かして、レーザ
光の射出位置および光軸の角度を調整していたが、かか
る方法は、目視によって、レーザ光の射出位置および光
軸の角度を調整するものであるため、作業性が悪く、正
確な調整が困難であり、また、ピンホールのサイズによ
って、調整精度が決定され、精度を向上させるために
は、２つの距離を大きくする必要があり、より一層、作
業性が悪化するという問題を有していた。
【００１０】ことに、マイクロアレイ検出システムにお
いては、きわめて高い精度で、レーザ光の射出位置およ
び光軸の角度が調整されることが要求されるため、深刻
な問題となっていた。
いては、きわめて高い精度で、レーザ光の射出位置およ
び光軸の角度が調整されることが要求されるため、深刻
な問題となっていた。
【００１１】これらのシステムにおいて用いられる画像
読み取り装置や発光量データなどの生化学解析用のデー
タを生成するデータ生成装置のレーザ光の射出位置およ
び光軸の角度を調整する場合だけでなく、ビーム状の光
の射出位置および光軸の角度を、精度よく調整すること
が要求される場合には、同様の問題があった。
読み取り装置や発光量データなどの生化学解析用のデー
タを生成するデータ生成装置のレーザ光の射出位置およ
び光軸の角度を調整する場合だけでなく、ビーム状の光
の射出位置および光軸の角度を、精度よく調整すること
が要求される場合には、同様の問題があった。
【００１２】したがって、本発明は、ビーム状の光の射
出位置および光軸の角度を、作業効率よく、しかも、精
度よく、調整し、位置決めすることのできるビーム状の
光の光軸調整・位置決め方法および装置を提供すること
を目的とするものである。
出位置および光軸の角度を、作業効率よく、しかも、精
度よく、調整し、位置決めすることのできるビーム状の
光の光軸調整・位置決め方法および装置を提供すること
を目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
光源から発せられたビーム状の光を、前記光源からの距
離が異なる２つの位置で、光を光電的に受光可能な少な
くとも１つの二次元的位置センサによって、光電的に受
光して、それぞれ、前記ビーム状の光の受光位置に対応
する受光位置データを生成し、生成された前記受光位置
データに基づいて、前記光源から発せられる前記ビーム
状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決め
することを特徴とするビーム状の光の光軸調整・位置決
め方法によって達成される。
光源から発せられたビーム状の光を、前記光源からの距
離が異なる２つの位置で、光を光電的に受光可能な少な
くとも１つの二次元的位置センサによって、光電的に受
光して、それぞれ、前記ビーム状の光の受光位置に対応
する受光位置データを生成し、生成された前記受光位置
データに基づいて、前記光源から発せられる前記ビーム
状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決め
することを特徴とするビーム状の光の光軸調整・位置決
め方法によって達成される。
【００１４】本発明によれば、光源から発せられたビー
ム状の光を、光源からの距離が異なる２つの位置で、光
を光電的にに受光可能な二次元的位置センサによって、
光電的に受光して、それぞれ、ビーム状の光の受光位置
に対応する受光位置データを生成し、生成された受光位
置データに基づいて、光源から発せられるビーム状の光
の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めするよ
うに構成されているから、受光位置データに基づいて、
二次元位置センサが受光したビーム状の光の受光位置
を、ＣＲＴなどの表示手段に表示することができ、した
がって、光源から発せられたビーム状の光が、光源の光
の射出位置から異なる位置に配置された２つのピンホー
ル部材のピンホールを通るように、光源を動かして、ビ
ーム状の光の射出位置および光軸の角度を調整する従来
の方法に比して、作業効率よく、しかも、精度よく、光
源から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出
位置を調整し、位置決めすることが可能になる。
ム状の光を、光源からの距離が異なる２つの位置で、光
を光電的にに受光可能な二次元的位置センサによって、
光電的に受光して、それぞれ、ビーム状の光の受光位置
に対応する受光位置データを生成し、生成された受光位
置データに基づいて、光源から発せられるビーム状の光
の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めするよ
うに構成されているから、受光位置データに基づいて、
二次元位置センサが受光したビーム状の光の受光位置
を、ＣＲＴなどの表示手段に表示することができ、した
がって、光源から発せられたビーム状の光が、光源の光
の射出位置から異なる位置に配置された２つのピンホー
ル部材のピンホールを通るように、光源を動かして、ビ
ーム状の光の射出位置および光軸の角度を調整する従来
の方法に比して、作業効率よく、しかも、精度よく、光
源から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出
位置を調整し、位置決めすることが可能になる。
【００１５】本発明の好ましい実施態様においては、前
記少なくとも１つの二次元的位置センサが、単一の二次
元的位置センサよりなり、前記二次元的位置センサを、
前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内の前
記光源からの距離がＤ１の第一の位置と、前記光源から
発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光源からの
距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位置とに移動さ
せて、それぞれ、前記光源から発せられたビーム状の光
を受光させ、前記ビーム状の光の受光位置に対応する受
光位置データを生成させて、生成された前記受光位置デ
ータに基づいて、前記光源から発せられる前記ビーム状
の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めす
るように構成されている。
記少なくとも１つの二次元的位置センサが、単一の二次
元的位置センサよりなり、前記二次元的位置センサを、
前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内の前
記光源からの距離がＤ１の第一の位置と、前記光源から
発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光源からの
距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位置とに移動さ
せて、それぞれ、前記光源から発せられたビーム状の光
を受光させ、前記ビーム状の光の受光位置に対応する受
光位置データを生成させて、生成された前記受光位置デ
ータに基づいて、前記光源から発せられる前記ビーム状
の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めす
るように構成されている。
【００１６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第一の位置において、前記二次元的位置センサ
が前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成した前記
受光位置データおよび前記第二の位置において、前記位
置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成
した前記受光位置データに基づいて、それぞれ、表示手
段上に、前記位置センサが受光した前記ビーム状の光の
受光位置を表示し、前記表示手段上に表示された前記ビ
ーム状の光の受光位置に基づいて、前記光源から発せら
れる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整し、位置決めするように構成されている。
は、前記第一の位置において、前記二次元的位置センサ
が前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成した前記
受光位置データおよび前記第二の位置において、前記位
置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成
した前記受光位置データに基づいて、それぞれ、表示手
段上に、前記位置センサが受光した前記ビーム状の光の
受光位置を表示し、前記表示手段上に表示された前記ビ
ーム状の光の受光位置に基づいて、前記光源から発せら
れる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整し、位置決めするように構成されている。
【００１７】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、第一の位置において、二次元的位置センサがビーム
状の光を光電的に受光して、生成した受光位置データお
よび第二の位置において、位置センサがビーム状の光を
光電的に受光して、生成した受光位置データに基づい
て、それぞれ、表示手段上に、位置センサが受光したビ
ーム状の光の受光位置を表示し、表示手段上に表示され
たビーム状の光の受光位置に基づいて、光源から発せら
れるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整
し、位置決めするように構成されているから、オペレー
タは、表示手段によって、ビーム状の光の受光位置を視
覚的に認識することができ、したがって、光源から発せ
られたビーム状の光が、光源の光の射出位置から異なる
位置に配置された２つのピンホール部材のピンホールを
通るように、光源を動かして、ビーム状の光の射出位置
および光軸の角度を調整する従来の方法に比して、作業
効率よく、しかも、精度よく、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決
めすることが可能になる。
ば、第一の位置において、二次元的位置センサがビーム
状の光を光電的に受光して、生成した受光位置データお
よび第二の位置において、位置センサがビーム状の光を
光電的に受光して、生成した受光位置データに基づい
て、それぞれ、表示手段上に、位置センサが受光したビ
ーム状の光の受光位置を表示し、表示手段上に表示され
たビーム状の光の受光位置に基づいて、光源から発せら
れるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整
し、位置決めするように構成されているから、オペレー
タは、表示手段によって、ビーム状の光の受光位置を視
覚的に認識することができ、したがって、光源から発せ
られたビーム状の光が、光源の光の射出位置から異なる
位置に配置された２つのピンホール部材のピンホールを
通るように、光源を動かして、ビーム状の光の射出位置
および光軸の角度を調整する従来の方法に比して、作業
効率よく、しかも、精度よく、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決
めすることが可能になる。
【００１８】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第一の位置において、前記二次元的位置センサ
が前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成した前記
受光位置データおよび前記第二の位置において、前記位
置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成
した前記受光位置データに基づいて、前記光源から発せ
られる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を
調整すべき調整値を算出し、算出された調整値にしたが
って、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を調整し、位置決めするように構
成されている。
は、前記第一の位置において、前記二次元的位置センサ
が前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成した前記
受光位置データおよび前記第二の位置において、前記位
置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成
した前記受光位置データに基づいて、前記光源から発せ
られる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を
調整すべき調整値を算出し、算出された調整値にしたが
って、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を調整し、位置決めするように構
成されている。
【００１９】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、第一の位置において、二次元的位置センサがビーム
状の光を光電的に受光して、生成した受光位置データお
よび第二の位置において、位置センサがビーム状の光を
光電的に受光して、生成した受光位置データに基づい
て、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整すべき調整値を算出し、算出された調
整値にしたがって、光源から発せられるビーム状の光の
光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めするよう
に構成されているから、きわめて簡易に、しかも、精度
よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を調整し、位置決めすることが可能になる
とともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置の調整を自動化することが可能にな
る。
ば、第一の位置において、二次元的位置センサがビーム
状の光を光電的に受光して、生成した受光位置データお
よび第二の位置において、位置センサがビーム状の光を
光電的に受光して、生成した受光位置データに基づい
て、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整すべき調整値を算出し、算出された調
整値にしたがって、光源から発せられるビーム状の光の
光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めするよう
に構成されているから、きわめて簡易に、しかも、精度
よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を調整し、位置決めすることが可能になる
とともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置の調整を自動化することが可能にな
る。
【００２０】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記調整値にしたがって、前記光源から発せられる
前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を、自動
的に、調整し、位置決めするように構成されている。
は、前記調整値にしたがって、前記光源から発せられる
前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を、自動
的に、調整し、位置決めするように構成されている。
【００２１】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、ステッピングモータを用いて、前記調整値にしたが
って、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決め
するように構成されている。
は、ステッピングモータを用いて、前記調整値にしたが
って、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決め
するように構成されている。
【００２２】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、算出された調整値にしたがって、ステッピングモー
タを用いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めす
るように構成されているから、きわめて簡易に、しか
も、精度よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を調整し、位置決めすることが可
能になるとともに、光源から発せられるビーム状の光の
光軸の角度および射出位置の調整を自動化することが可
能になる。
ば、算出された調整値にしたがって、ステッピングモー
タを用いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めす
るように構成されているから、きわめて簡易に、しか
も、精度よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を調整し、位置決めすることが可
能になるとともに、光源から発せられるビーム状の光の
光軸の角度および射出位置の調整を自動化することが可
能になる。
【００２３】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、サーボモータを用いて、前記調整値にしたがっ
て、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めす
るように構成されている。
いては、サーボモータを用いて、前記調整値にしたがっ
て、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めす
るように構成されている。
【００２４】本発明のさらに別の好ましい実施態様によ
れば、算出された調整値にしたがって、サーボモータを
用いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度
および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めするよ
うに構成されているから、きわめて簡易に、しかも、精
度よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度
および射出位置を調整し、位置決めすることが可能にな
るとともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸の
角度および射出位置の調整を自動化することが可能にな
る。
れば、算出された調整値にしたがって、サーボモータを
用いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度
および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めするよ
うに構成されているから、きわめて簡易に、しかも、精
度よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度
および射出位置を調整し、位置決めすることが可能にな
るとともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸の
角度および射出位置の調整を自動化することが可能にな
る。
【００２５】本発明の別の好ましい実施態様において
は、前記少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一
の二次元的位置センサと第二の二次元的位置センサより
なり、前記第一の二次元的位置センサを、前記光源から
発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光源からの
距離がＤ１の第一の位置に位置させ、前記光源から発せ
られた前記ビーム状の光の光路内に、ビームスプリッタ
を設けるとともに、前記光源から発せられた前記ビーム
状の光の光路外に位置し、前記ビームスプリッタに対し
て、前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内
の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二
の位置と光学的に共役関係にある第三の位置に、前記第
二の二次元的位置センサを位置させて、それぞれ、前記
光源から発せられたビーム状の光を受光させ、前記ビー
ム状の光の受光位置に対応する受光位置データを生成さ
せて、生成された前記受光位置データに基づいて、前記
光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整し、位置決めするように構成されてい
る。
は、前記少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一
の二次元的位置センサと第二の二次元的位置センサより
なり、前記第一の二次元的位置センサを、前記光源から
発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光源からの
距離がＤ１の第一の位置に位置させ、前記光源から発せ
られた前記ビーム状の光の光路内に、ビームスプリッタ
を設けるとともに、前記光源から発せられた前記ビーム
状の光の光路外に位置し、前記ビームスプリッタに対し
て、前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内
の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二
の位置と光学的に共役関係にある第三の位置に、前記第
二の二次元的位置センサを位置させて、それぞれ、前記
光源から発せられたビーム状の光を受光させ、前記ビー
ム状の光の受光位置に対応する受光位置データを生成さ
せて、生成された前記受光位置データに基づいて、前記
光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整し、位置決めするように構成されてい
る。
【００２６】本発明の別の好ましい実施態様によれば、
少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一の二次元
的位置センサと第二の二次元的位置センサよりなり、第
一の二次元的位置センサを、光源から発せられたビーム
状の光の光路内の光源からの距離がＤ１の第一の位置に
位置させ、光源から発せられたビーム状の光の光路内
に、ビームスプリッタを設けるとともに、光源から発せ
られたビーム状の光の光路外に位置し、ビームスプリッ
タに対して、光源から発せられたビーム状の光の光路内
の光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位
置と光学的に共役関係にある第三の位置に、第二の二次
元的位置センサを位置させて、それぞれ、光源から発せ
られたビーム状の光を受光させ、ビーム状の光の受光位
置に対応する受光位置データを生成させて、生成された
受光位置データに基づいて、光源から発せられるビーム
状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決め
するように構成されており、第一の二次元的位置センサ
によって受光されたビーム状の光の受光位置と、第二の
二次元的位置センサによって受光されたビーム状の光の
受光位置とを、同時に、しかも、リアルタイムに、ＣＲ
Ｔなどの表示手段に表示することができるから、オペレ
ータは、表示手段に表示された第一の二次元的位置セン
サによって受光されたビーム状の光の受光位置および第
二の二次元的位置センサによって受光されたビーム状の
光の受光位置を観察しつつ、所望のように、光源から発
せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整することができ、したがって、光源から発せられたビ
ーム状の光が、光源の光の射出位置から異なる位置に配
置された２つのピンホール部材のピンホールを通るよう
に、光源を動かして、ビーム状の光の射出位置および光
軸の角度を調整する従来の方法に比して、きわめて高い
作業効率で、しかも、きわめて精度よく、光源から発せ
られるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整
し、位置決めすることが可能になる。
少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一の二次元
的位置センサと第二の二次元的位置センサよりなり、第
一の二次元的位置センサを、光源から発せられたビーム
状の光の光路内の光源からの距離がＤ１の第一の位置に
位置させ、光源から発せられたビーム状の光の光路内
に、ビームスプリッタを設けるとともに、光源から発せ
られたビーム状の光の光路外に位置し、ビームスプリッ
タに対して、光源から発せられたビーム状の光の光路内
の光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位
置と光学的に共役関係にある第三の位置に、第二の二次
元的位置センサを位置させて、それぞれ、光源から発せ
られたビーム状の光を受光させ、ビーム状の光の受光位
置に対応する受光位置データを生成させて、生成された
受光位置データに基づいて、光源から発せられるビーム
状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決め
するように構成されており、第一の二次元的位置センサ
によって受光されたビーム状の光の受光位置と、第二の
二次元的位置センサによって受光されたビーム状の光の
受光位置とを、同時に、しかも、リアルタイムに、ＣＲ
Ｔなどの表示手段に表示することができるから、オペレ
ータは、表示手段に表示された第一の二次元的位置セン
サによって受光されたビーム状の光の受光位置および第
二の二次元的位置センサによって受光されたビーム状の
光の受光位置を観察しつつ、所望のように、光源から発
せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整することができ、したがって、光源から発せられたビ
ーム状の光が、光源の光の射出位置から異なる位置に配
置された２つのピンホール部材のピンホールを通るよう
に、光源を動かして、ビーム状の光の射出位置および光
軸の角度を調整する従来の方法に比して、きわめて高い
作業効率で、しかも、きわめて精度よく、光源から発せ
られるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整
し、位置決めすることが可能になる。
【００２７】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第一の位置において、前記第一の二次元的位置
センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成し
た前記受光位置データおよび前記第三の位置において、
前記第二の二次元的位置センサが前記ビーム状の光を光
電的に受光して、生成した前記受光位置データに基づい
て、それぞれ、表示手段上に、前記位置センサが受光し
た前記ビーム状の光の受光位置を表示し、前記表示手段
上に表示された前記ビーム状の光の受光位置に基づい
て、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を調整し、位置決めするように構成
されている。
は、前記第一の位置において、前記第一の二次元的位置
センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成し
た前記受光位置データおよび前記第三の位置において、
前記第二の二次元的位置センサが前記ビーム状の光を光
電的に受光して、生成した前記受光位置データに基づい
て、それぞれ、表示手段上に、前記位置センサが受光し
た前記ビーム状の光の受光位置を表示し、前記表示手段
上に表示された前記ビーム状の光の受光位置に基づい
て、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を調整し、位置決めするように構成
されている。
【００２８】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、第一の位置において、第一の二次元的位置センサが
ビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光位置デ
ータおよび第三の位置において、第二の二次元的位置セ
ンサがビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光
位置データに基づいて、それぞれ、表示手段上に、位置
センサが受光したビーム状の光の受光位置を表示し、表
示手段上に表示されたビーム状の光の受光位置に基づい
て、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整し、位置決めするように構成されてい
るから、オペレータは、表示手段に表示された第一の二
次元的位置センサによって受光されたビーム状の光の受
光位置および第二の二次元的位置センサによって受光さ
れたビーム状の光の受光位置を観察しつつ、所望のよう
に、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整することができ、したがって、きわめ
て高い作業効率で、しかも、きわめて精度よく、光源か
ら発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置
を調整し、位置決めすることが可能になる。
ば、第一の位置において、第一の二次元的位置センサが
ビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光位置デ
ータおよび第三の位置において、第二の二次元的位置セ
ンサがビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光
位置データに基づいて、それぞれ、表示手段上に、位置
センサが受光したビーム状の光の受光位置を表示し、表
示手段上に表示されたビーム状の光の受光位置に基づい
て、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整し、位置決めするように構成されてい
るから、オペレータは、表示手段に表示された第一の二
次元的位置センサによって受光されたビーム状の光の受
光位置および第二の二次元的位置センサによって受光さ
れたビーム状の光の受光位置を観察しつつ、所望のよう
に、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度およ
び射出位置を調整することができ、したがって、きわめ
て高い作業効率で、しかも、きわめて精度よく、光源か
ら発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置
を調整し、位置決めすることが可能になる。
【００２９】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第一の位置において、前記第一の二次元的位置
センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成し
た前記受光位置データおよび前記第三の位置において、
前記第二の二次元的位置センサが前記ビーム状の光を光
電的に受光して、生成した前記受光位置データに基づい
て、前記ビーム状の光の光軸の角度を調整すべき調整値
および前記光源からの射出位置を調整すべき調整値を算
出し、算出された調整値にしたがって、前記光源から発
せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置
を調整し、位置決めするように構成されている。
は、前記第一の位置において、前記第一の二次元的位置
センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生成し
た前記受光位置データおよび前記第三の位置において、
前記第二の二次元的位置センサが前記ビーム状の光を光
電的に受光して、生成した前記受光位置データに基づい
て、前記ビーム状の光の光軸の角度を調整すべき調整値
および前記光源からの射出位置を調整すべき調整値を算
出し、算出された調整値にしたがって、前記光源から発
せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置
を調整し、位置決めするように構成されている。
【００３０】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、第一の位置において、第一の二次元的位置センサが
ビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光位置デ
ータおよび第三の位置において、第二の二次元的位置セ
ンサがビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光
位置データに基づいて、ビーム状の光の光軸の角度を調
整すべき調整値および光源からの射出位置を調整すべき
調整値を算出し、算出された調整値にしたがって、光源
から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位
置を調整し、位置決めするように構成されているから、
きわめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、
位置決めすることが可能になるとともに、光源から発せ
られるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整
を自動化することが可能になる。
ば、第一の位置において、第一の二次元的位置センサが
ビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光位置デ
ータおよび第三の位置において、第二の二次元的位置セ
ンサがビーム状の光を光電的に受光して、生成した受光
位置データに基づいて、ビーム状の光の光軸の角度を調
整すべき調整値および光源からの射出位置を調整すべき
調整値を算出し、算出された調整値にしたがって、光源
から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位
置を調整し、位置決めするように構成されているから、
きわめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、
位置決めすることが可能になるとともに、光源から発せ
られるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整
を自動化することが可能になる。
【００３１】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記調整値にしたがって、前記光源から発せられる
前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を、自動
的に、調整し、位置決めするように構成されている。
は、前記調整値にしたがって、前記光源から発せられる
前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を、自動
的に、調整し、位置決めするように構成されている。
【００３２】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、ステッピングモータを用いて、前記調整値にしたが
って、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決め
するように構成されている。
は、ステッピングモータを用いて、前記調整値にしたが
って、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決め
するように構成されている。
【００３３】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、算出した調整値にしたがって、ステッピングモータ
を用いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めする
ように構成されているから、きわめて簡易に、しかも、
精度よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置を調整し、位置決めすることが可能に
なるとともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸
の角度および射出位置の調整を自動化することが可能に
なる。
ば、算出した調整値にしたがって、ステッピングモータ
を用いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めする
ように構成されているから、きわめて簡易に、しかも、
精度よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置を調整し、位置決めすることが可能に
なるとともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸
の角度および射出位置の調整を自動化することが可能に
なる。
【００３４】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、サーボモータを用いて、前記調整値にしたがっ
て、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めす
るように構成されている。
いては、サーボモータを用いて、前記調整値にしたがっ
て、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置決めす
るように構成されている。
【００３５】本発明のさらに別の好ましい実施態様によ
れば、算出した調整値にしたがって、サーボモータを用
いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を、自動的に、調整し、位置決めするよう
に構成されているから、きわめて簡易に、しかも、精度
よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を調整し、位置決めすることが可能になる
とともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置の調整を自動化することが可能にな
る。
れば、算出した調整値にしたがって、サーボモータを用
いて、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を、自動的に、調整し、位置決めするよう
に構成されているから、きわめて簡易に、しかも、精度
よく、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を調整し、位置決めすることが可能になる
とともに、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角
度および射出位置の調整を自動化することが可能にな
る。
【００３６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、あらかじめ、前記第二の二次元的位置センサを、前
記第三の位置に位置させるとともに、前記第一の二次元
的位置センサを、前記第二の位置に位置させ、それぞ
れ、前記光源から発せられたビーム状の光を受光させ
て、前記ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置デ
ータを生成させ、生成された前記受光位置データに基づ
いて、前記第二の二次元的位置センサが受光した前記ビ
ーム状の光の受光位置の前記第一の二次元的位置センサ
が受光した前記ビーム状の光の受光位置のずれを求め
て、補正データを生成し、前記第二の二次元的位置セン
サが生成する受光位置データを補正するように構成され
ている。
は、あらかじめ、前記第二の二次元的位置センサを、前
記第三の位置に位置させるとともに、前記第一の二次元
的位置センサを、前記第二の位置に位置させ、それぞ
れ、前記光源から発せられたビーム状の光を受光させ
て、前記ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置デ
ータを生成させ、生成された前記受光位置データに基づ
いて、前記第二の二次元的位置センサが受光した前記ビ
ーム状の光の受光位置の前記第一の二次元的位置センサ
が受光した前記ビーム状の光の受光位置のずれを求め
て、補正データを生成し、前記第二の二次元的位置セン
サが生成する受光位置データを補正するように構成され
ている。
【００３７】ビームスプリッタを用いて、光を分割する
場合には、光の光軸がずれる場合があるが、本発明のさ
らに好ましい実施態様によれば、あらかじめ、第二の二
次元的位置センサを、第三の位置に位置させるととも
に、第一の二次元的位置センサを、第二の位置に位置さ
せ、それぞれ、光源から発せられたビーム状の光を受光
させて、ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置デ
ータを生成させ、生成された受光位置データに基づい
て、第二の二次元的位置センサが受光したビーム状の光
の受光位置の第一の二次元的位置センサが受光したビー
ム状の光の受光位置のずれを求めて、補正データを生成
し、第二の二次元的位置センサが生成する受光位置デー
タを補正するように構成されているから、ビームスプリ
ッタを用いたため、光の光軸がずれた場合にも、きわめ
て簡易に、かつ、きわめて精度よく、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、
位置決めすることが可能になる。
場合には、光の光軸がずれる場合があるが、本発明のさ
らに好ましい実施態様によれば、あらかじめ、第二の二
次元的位置センサを、第三の位置に位置させるととも
に、第一の二次元的位置センサを、第二の位置に位置さ
せ、それぞれ、光源から発せられたビーム状の光を受光
させて、ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置デ
ータを生成させ、生成された受光位置データに基づい
て、第二の二次元的位置センサが受光したビーム状の光
の受光位置の第一の二次元的位置センサが受光したビー
ム状の光の受光位置のずれを求めて、補正データを生成
し、第二の二次元的位置センサが生成する受光位置デー
タを補正するように構成されているから、ビームスプリ
ッタを用いたため、光の光軸がずれた場合にも、きわめ
て簡易に、かつ、きわめて精度よく、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、
位置決めすることが可能になる。
【００３８】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記二次元的位置センサが、位置検出ダイオードに
よって構成されている。
は、前記二次元的位置センサが、位置検出ダイオードに
よって構成されている。
【００３９】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記ビーム状の光が、レーザ光によって構成されて
いる。
は、前記ビーム状の光が、レーザ光によって構成されて
いる。
【００４０】本発明の前記目的はまた、ビーム状の光を
発する光源と、前記光源からの距離が異なる２つの位置
で、光を光電的に受光可能な少なくとも１つの二次元的
位置センサと、表示手段と、前記少なくとも１つの位置
センサによって生成された受光位置データに基づいて、
前記少なくとも１つの二次元的位置センサが受光した前
記ビーム状の光の受光位置を、前記表示手段に表示する
データ処理手段と、前記光源の位置を調整する光源位置
調整手段を備えたことを特徴とするビーム状の光の光軸
調整・位置決め装置によって達成される。
発する光源と、前記光源からの距離が異なる２つの位置
で、光を光電的に受光可能な少なくとも１つの二次元的
位置センサと、表示手段と、前記少なくとも１つの位置
センサによって生成された受光位置データに基づいて、
前記少なくとも１つの二次元的位置センサが受光した前
記ビーム状の光の受光位置を、前記表示手段に表示する
データ処理手段と、前記光源の位置を調整する光源位置
調整手段を備えたことを特徴とするビーム状の光の光軸
調整・位置決め装置によって達成される。
【００４１】本発明によれば、ビーム状の光の光軸調整
・位置決め装置は、ビーム状の光を発する光源と、光源
からの距離が異なる２つの位置で、光を光電的に受光可
能な少なくとも１つの二次元的位置センサと、表示手段
と、少なくとも１つの位置センサによって生成された受
光位置データに基づいて、少なくとも１つの二次元的位
置センサが受光したビーム状の光の受光位置を、表示手
段に表示するデータ処理手段と、光源の位置を調整する
光源位置調整手段を備えているから、受光位置データに
基づいて、二次元位置センサが受光したビーム状の光の
受光位置を、表示手段に表示して、光源位置調整手段に
よって、光源の位置を調整し、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決
めすることができ、したがって、光源から発せられたビ
ーム状の光が、光源の光の射出位置から異なる位置に配
置された２つのピンホール部材のピンホールを通るよう
に、光源を動かして、ビーム状の光の射出位置および光
軸の角度を調整する従来の方法に比して、作業効率よ
く、しかも、精度よく、光源から発せられるビーム状の
光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めする
ことが可能になる。
・位置決め装置は、ビーム状の光を発する光源と、光源
からの距離が異なる２つの位置で、光を光電的に受光可
能な少なくとも１つの二次元的位置センサと、表示手段
と、少なくとも１つの位置センサによって生成された受
光位置データに基づいて、少なくとも１つの二次元的位
置センサが受光したビーム状の光の受光位置を、表示手
段に表示するデータ処理手段と、光源の位置を調整する
光源位置調整手段を備えているから、受光位置データに
基づいて、二次元位置センサが受光したビーム状の光の
受光位置を、表示手段に表示して、光源位置調整手段に
よって、光源の位置を調整し、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決
めすることができ、したがって、光源から発せられたビ
ーム状の光が、光源の光の射出位置から異なる位置に配
置された２つのピンホール部材のピンホールを通るよう
に、光源を動かして、ビーム状の光の射出位置および光
軸の角度を調整する従来の方法に比して、作業効率よ
く、しかも、精度よく、光源から発せられるビーム状の
光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めする
ことが可能になる。
【００４２】本発明の好ましい実施態様においては、ビ
ーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さらに、ガイ
ド部材を備え、前記少なくとも１つの二次元的位置セン
サが、前記ガイド部材に沿って、移動可能な単一の二次
元的位置センサよりなり、前記データ処理手段が、前記
光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光
源からの距離がＤ１の第一の位置に位置する前記二次元
的位置センサが、前記光源から発せられたビーム状の光
を受光して、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対
応する受光位置データと、前記光源から発せられた前記
ビーム状の光の光路内の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ
２はＤ１未満）の第二の位置する前記二次元的位置セン
サが、前記光源から発せられたビーム状の光を受光し
て、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対応する受
光位置データとに基づき、前記第一の位置に位置した前
記二次元的位置センサが受光した前記光源から発せられ
たビーム状の光の受光位置および前記第二の位置に位置
した前記二次元的位置センサが受光した前記光源から発
せられたビーム状の光の受光位置を、前記表示手段に表
示するように構成されている。
ーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さらに、ガイ
ド部材を備え、前記少なくとも１つの二次元的位置セン
サが、前記ガイド部材に沿って、移動可能な単一の二次
元的位置センサよりなり、前記データ処理手段が、前記
光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光
源からの距離がＤ１の第一の位置に位置する前記二次元
的位置センサが、前記光源から発せられたビーム状の光
を受光して、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対
応する受光位置データと、前記光源から発せられた前記
ビーム状の光の光路内の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ
２はＤ１未満）の第二の位置する前記二次元的位置セン
サが、前記光源から発せられたビーム状の光を受光し
て、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対応する受
光位置データとに基づき、前記第一の位置に位置した前
記二次元的位置センサが受光した前記光源から発せられ
たビーム状の光の受光位置および前記第二の位置に位置
した前記二次元的位置センサが受光した前記光源から発
せられたビーム状の光の受光位置を、前記表示手段に表
示するように構成されている。
【００４３】本発明の好ましい実施態様によれば、ビー
ム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さらに、ガイド
部材を備え、少なくとも１つの二次元的位置センサが、
ガイド部材に沿って、移動可能な単一の二次元的位置セ
ンサよりなり、データ処理手段が、光源から発せられた
ビーム状の光の光路内の光源からの距離がＤ１の第一の
位置に位置する二次元的位置センサが、光源から発せら
れたビーム状の光を受光して、生成したビーム状の光の
受光位置に対応する受光位置データと、光源から発せら
れたビーム状の光の光路内の光源からの距離がＤ２（Ｄ
２はＤ１未満）の第二の位置する二次元的位置センサ
が、光源から発せられたビーム状の光を受光して、生成
したビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データ
とに基づいて、第一の位置に位置した二次元的位置セン
サが受光した光源から発せられたビーム状の光の受光位
置および第二の位置に位置した二次元的位置センサが受
光した光源から発せられたビーム状の光の受光位置を、
表示手段に表示するように構成されているから、オペレ
ータは、表示手段によって、ビーム状の光の受光位置を
視覚的に認識することができ、したがって、光源から発
せられたビーム状の光が、光源の光の射出位置から異な
る位置に配置された２つのピンホール部材のピンホール
を通るように、光源を動かして、ビーム状の光の射出位
置および光軸の角度を調整する従来の方法に比して、作
業効率よく、しかも、精度よく、光源から発せられるビ
ーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置
決めすることが可能になる。
ム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さらに、ガイド
部材を備え、少なくとも１つの二次元的位置センサが、
ガイド部材に沿って、移動可能な単一の二次元的位置セ
ンサよりなり、データ処理手段が、光源から発せられた
ビーム状の光の光路内の光源からの距離がＤ１の第一の
位置に位置する二次元的位置センサが、光源から発せら
れたビーム状の光を受光して、生成したビーム状の光の
受光位置に対応する受光位置データと、光源から発せら
れたビーム状の光の光路内の光源からの距離がＤ２（Ｄ
２はＤ１未満）の第二の位置する二次元的位置センサ
が、光源から発せられたビーム状の光を受光して、生成
したビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データ
とに基づいて、第一の位置に位置した二次元的位置セン
サが受光した光源から発せられたビーム状の光の受光位
置および第二の位置に位置した二次元的位置センサが受
光した光源から発せられたビーム状の光の受光位置を、
表示手段に表示するように構成されているから、オペレ
ータは、表示手段によって、ビーム状の光の受光位置を
視覚的に認識することができ、したがって、光源から発
せられたビーム状の光が、光源の光の射出位置から異な
る位置に配置された２つのピンホール部材のピンホール
を通るように、光源を動かして、ビーム状の光の射出位
置および光軸の角度を調整する従来の方法に比して、作
業効率よく、しかも、精度よく、光源から発せられるビ
ーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置
決めすることが可能になる。
【００４４】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記データ処理手段が、前記第一の位置に位置する
前記二次元的位置センサが、前記光源から発せられたビ
ーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光の受
光位置に対応する受光位置データと、前記第二の位置す
る前記二次元的位置センサが、前記光源から発せられた
ビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光の
受光位置に対応する受光位置データとに基づき、前記光
源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および
射出位置を調整すべき調整値を算出するように構成され
ている。
は、前記データ処理手段が、前記第一の位置に位置する
前記二次元的位置センサが、前記光源から発せられたビ
ーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光の受
光位置に対応する受光位置データと、前記第二の位置す
る前記二次元的位置センサが、前記光源から発せられた
ビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光の
受光位置に対応する受光位置データとに基づき、前記光
源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および
射出位置を調整すべき調整値を算出するように構成され
ている。
【００４５】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、データ処理手段が、第一の位置に位置する二次元的
位置センサが、光源から発せられたビーム状の光を受光
して、生成したビーム状の光の受光位置に対応する受光
位置データと、第二の位置する二次元的位置センサが、
光源から発せられたビーム状の光を受光して、生成した
ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに
基づき、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度
および射出位置を調整すべき調整値を算出するように構
成されているから、算出された調整値にしたがって、光
源位置調整手段を操作することにより、きわめて簡易
に、しかも、精度よく、光源から発せられるビーム状の
光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めする
ことが可能になるとともに、光源から発せられるビーム
状の光の光軸の角度および射出位置の調整を自動化する
ことが可能になる。
ば、データ処理手段が、第一の位置に位置する二次元的
位置センサが、光源から発せられたビーム状の光を受光
して、生成したビーム状の光の受光位置に対応する受光
位置データと、第二の位置する二次元的位置センサが、
光源から発せられたビーム状の光を受光して、生成した
ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに
基づき、光源から発せられるビーム状の光の光軸の角度
および射出位置を調整すべき調整値を算出するように構
成されているから、算出された調整値にしたがって、光
源位置調整手段を操作することにより、きわめて簡易
に、しかも、精度よく、光源から発せられるビーム状の
光の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めする
ことが可能になるとともに、光源から発せられるビーム
状の光の光軸の角度および射出位置の調整を自動化する
ことが可能になる。
【００４６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、前記光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つ
のステッピングモータを備え、算出した前記調整値に基
づき、前記データ処理手段が、前記少なくとも１つのス
テッピングモータを駆動して、前記光源位置調整手段を
操作させ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の
光軸の角度および射出位置が、自動的に、調整され、位
置決めされるように構成されている。
は、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、前記光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つ
のステッピングモータを備え、算出した前記調整値に基
づき、前記データ処理手段が、前記少なくとも１つのス
テッピングモータを駆動して、前記光源位置調整手段を
操作させ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の
光軸の角度および射出位置が、自動的に、調整され、位
置決めされるように構成されている。
【００４７】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つのス
テッピングモータを備え、算出した調整値に基づき、デ
ータ処理手段が、少なくとも１つのステッピングモータ
を駆動して、光源位置調整手段を操作させ、光源から発
せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置が、
自動的に、調整され、位置決めされるように構成されて
いるから、きわめて簡易に、しかも、精度よく、光源か
ら発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置
を調整し、位置決めすることが可能になるとともに、光
源から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出
位置の調整を自動化することが可能になる。
ば、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つのス
テッピングモータを備え、算出した調整値に基づき、デ
ータ処理手段が、少なくとも１つのステッピングモータ
を駆動して、光源位置調整手段を操作させ、光源から発
せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置が、
自動的に、調整され、位置決めされるように構成されて
いるから、きわめて簡易に、しかも、精度よく、光源か
ら発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置
を調整し、位置決めすることが可能になるとともに、光
源から発せられるビーム状の光の光軸の角度および射出
位置の調整を自動化することが可能になる。
【００４８】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さ
らに、前記光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１
つのサーボモータを備え、算出した前記調整値に基づ
き、前記データ処理手段が、前記少なくとも１つのサー
ボモータを駆動して、前記光源位置調整手段を操作さ
せ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置が、自動的に、調整され、位置決め
されるように構成されている。
いては、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さ
らに、前記光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１
つのサーボモータを備え、算出した前記調整値に基づ
き、前記データ処理手段が、前記少なくとも１つのサー
ボモータを駆動して、前記光源位置調整手段を操作さ
せ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置が、自動的に、調整され、位置決め
されるように構成されている。
【００４９】本発明のさらに別の好ましい実施態様によ
れば、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つのサ
ーボモータを備え、算出した調整値に基づき、データ処
理手段が、少なくとも１つのサーボモータを駆動して、
光源位置調整手段を操作させ、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置が、自動的に、調
整され、位置決めされるように構成されているから、き
わめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられる
ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位
置決めすることが可能になるとともに、光源から発せら
れるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整を
自動化することが可能になる。
れば、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つのサ
ーボモータを備え、算出した調整値に基づき、データ処
理手段が、少なくとも１つのサーボモータを駆動して、
光源位置調整手段を操作させ、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置が、自動的に、調
整され、位置決めされるように構成されているから、き
わめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられる
ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位
置決めすることが可能になるとともに、光源から発せら
れるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整を
自動化することが可能になる。
【００５０】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一
の二次元的位置センサと第二の二次元的位置センサより
なり、さらに、前記光源から発せられた前記ビーム状の
光の光路内に、ビームスプリッタを備え、前記第一の二
次元的位置センサが、前記光源から発せられた前記ビー
ム状の光の光路内の前記光源からの距離がＤ１の第一の
位置に位置させられ、前記第二の二次元的位置センサ
が、前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路外
に位置し、前記ビームスプリッタに対して、前記光源か
ら発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光源から
の距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位置と光学的
に共役関係にある第三の位置に固定され、前記データ処
理手段が、前記第一の位置に位置する前記第一の二次元
的位置センサが、前記光源から発せられたビーム状の光
を受光して、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対
応する受光位置データと、前記第三の位置に位置する前
記第三の二次元的位置センサが、前記光源から発せられ
たビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光
の受光位置に対応する受光位置データとに基づいて、前
記第一の二次元的位置センサが受光した前記光源から発
せられたビーム状の光の受光位置および前記第二の二次
元的位置センサが受光した前記光源から発せられたビー
ム状の光の受光位置を、前記表示手段に表示するように
構成されている。
は、前記少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一
の二次元的位置センサと第二の二次元的位置センサより
なり、さらに、前記光源から発せられた前記ビーム状の
光の光路内に、ビームスプリッタを備え、前記第一の二
次元的位置センサが、前記光源から発せられた前記ビー
ム状の光の光路内の前記光源からの距離がＤ１の第一の
位置に位置させられ、前記第二の二次元的位置センサ
が、前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路外
に位置し、前記ビームスプリッタに対して、前記光源か
ら発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記光源から
の距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位置と光学的
に共役関係にある第三の位置に固定され、前記データ処
理手段が、前記第一の位置に位置する前記第一の二次元
的位置センサが、前記光源から発せられたビーム状の光
を受光して、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対
応する受光位置データと、前記第三の位置に位置する前
記第三の二次元的位置センサが、前記光源から発せられ
たビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光
の受光位置に対応する受光位置データとに基づいて、前
記第一の二次元的位置センサが受光した前記光源から発
せられたビーム状の光の受光位置および前記第二の二次
元的位置センサが受光した前記光源から発せられたビー
ム状の光の受光位置を、前記表示手段に表示するように
構成されている。
【００５１】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一の二
次元的位置センサと第二の二次元的位置センサよりな
り、さらに、光源から発せられたビーム状の光の光路内
に、ビームスプリッタを備え、第一の二次元的位置セン
サが、光源から発せられたビーム状の光の光路内の光源
からの距離がＤ１の第一の位置に位置させられ、第二の
二次元的位置センサが、光源から発せられたビーム状の
光の光路外に位置し、ビームスプリッタに対して、光源
から発せられたビーム状の光の光路内の光源からの距離
がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位置と光学的に共役
関係にある第三の位置に固定され、データ処理手段が、
第一の位置に位置する第一の二次元的位置センサが、光
源から発せられたビーム状の光を受光して、生成したビ
ーム状の光の受光位置に対応する受光位置データと、第
三の位置に位置する第三の二次元的位置センサが、光源
から発せられたビーム状の光を受光して、生成したビー
ム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基づ
いて、第一の二次元的位置センサが受光した光源から発
せられたビーム状の光の受光位置および第二の二次元的
位置センサが受光した光源から発せられたビーム状の光
の受光位置を、表示手段に表示するように構成されてお
り、第一の二次元的位置センサによって受光されたビー
ム状の光の受光位置と、第二の二次元的位置センサによ
って受光されたビーム状の光の受光位置とを、同時に、
しかも、リアルタイムに、表示手段に表示することがで
きるから、オペレータは、表示手段に表示された第一の
二次元的位置センサによって受光されたビーム状の光の
受光位置および第二の二次元的位置センサによって受光
されたビーム状の光の受光位置を観察しつつ、光源位置
調整手段を操作して、所望のように、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整する
ことができ、したがって、光源から発せられたビーム状
の光が、光源の光の射出位置から異なる位置に配置され
た２つのピンホール部材のピンホールを通るように、光
源を動かして、ビーム状の光の射出位置および光軸の角
度を調整する従来の方法に比して、きわめて高い作業効
率で、しかも、きわめて精度よく、光源から発せられる
ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位
置決めすることが可能になる。
ば、少なくとも１つの二次元的位置センサが、第一の二
次元的位置センサと第二の二次元的位置センサよりな
り、さらに、光源から発せられたビーム状の光の光路内
に、ビームスプリッタを備え、第一の二次元的位置セン
サが、光源から発せられたビーム状の光の光路内の光源
からの距離がＤ１の第一の位置に位置させられ、第二の
二次元的位置センサが、光源から発せられたビーム状の
光の光路外に位置し、ビームスプリッタに対して、光源
から発せられたビーム状の光の光路内の光源からの距離
がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位置と光学的に共役
関係にある第三の位置に固定され、データ処理手段が、
第一の位置に位置する第一の二次元的位置センサが、光
源から発せられたビーム状の光を受光して、生成したビ
ーム状の光の受光位置に対応する受光位置データと、第
三の位置に位置する第三の二次元的位置センサが、光源
から発せられたビーム状の光を受光して、生成したビー
ム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基づ
いて、第一の二次元的位置センサが受光した光源から発
せられたビーム状の光の受光位置および第二の二次元的
位置センサが受光した光源から発せられたビーム状の光
の受光位置を、表示手段に表示するように構成されてお
り、第一の二次元的位置センサによって受光されたビー
ム状の光の受光位置と、第二の二次元的位置センサによ
って受光されたビーム状の光の受光位置とを、同時に、
しかも、リアルタイムに、表示手段に表示することがで
きるから、オペレータは、表示手段に表示された第一の
二次元的位置センサによって受光されたビーム状の光の
受光位置および第二の二次元的位置センサによって受光
されたビーム状の光の受光位置を観察しつつ、光源位置
調整手段を操作して、所望のように、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整する
ことができ、したがって、光源から発せられたビーム状
の光が、光源の光の射出位置から異なる位置に配置され
た２つのピンホール部材のピンホールを通るように、光
源を動かして、ビーム状の光の射出位置および光軸の角
度を調整する従来の方法に比して、きわめて高い作業効
率で、しかも、きわめて精度よく、光源から発せられる
ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位
置決めすることが可能になる。
【００５２】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記データ処理手段が、前記第一の位置に位置する
前記第一の二次元的位置センサが、前記光源から発せら
れたビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の
光の受光位置に対応する受光位置データと、前記第二の
位置する前記第二の二次元的位置センサが、前記光源か
ら発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記ビ
ーム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基
づいて、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光
軸の角度および射出位置を調整すべき調整値を算出する
ように構成されている。
は、前記データ処理手段が、前記第一の位置に位置する
前記第一の二次元的位置センサが、前記光源から発せら
れたビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の
光の受光位置に対応する受光位置データと、前記第二の
位置する前記第二の二次元的位置センサが、前記光源か
ら発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記ビ
ーム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基
づいて、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光
軸の角度および射出位置を調整すべき調整値を算出する
ように構成されている。
【００５３】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、データ処理手段が、第一の位置に位置する第一の二
次元的位置センサが、光源から発せられたビーム状の光
を受光して、生成したビーム状の光の受光位置に対応す
る受光位置データと、第二の位置する第二の二次元的位
置センサが、光源から発せられたビーム状の光を受光し
て、生成したビーム状の光の受光位置に対応する受光位
置データとに基づいて、光源から発せられるビーム状の
光の光軸の角度および射出位置を調整すべき調整値を算
出するように構成されているから、算出された調整値に
したがって、光源位置調整手段を操作することにより、
きわめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、
位置決めすることが可能になるとともに、光源から発せ
られるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整
を自動化することが可能になる。
ば、データ処理手段が、第一の位置に位置する第一の二
次元的位置センサが、光源から発せられたビーム状の光
を受光して、生成したビーム状の光の受光位置に対応す
る受光位置データと、第二の位置する第二の二次元的位
置センサが、光源から発せられたビーム状の光を受光し
て、生成したビーム状の光の受光位置に対応する受光位
置データとに基づいて、光源から発せられるビーム状の
光の光軸の角度および射出位置を調整すべき調整値を算
出するように構成されているから、算出された調整値に
したがって、光源位置調整手段を操作することにより、
きわめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられ
るビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、
位置決めすることが可能になるとともに、光源から発せ
られるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整
を自動化することが可能になる。
【００５４】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さ
らに、前記光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１
つのサーボモータを備え、算出した前記調整値に基づ
き、前記データ処理手段が、前記少なくとも１つのサー
ボモータを駆動して、前記光源位置調整手段を操作さ
せ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置が、自動的に、調整され、位置決め
されるように構成されている。
いては、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さ
らに、前記光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１
つのサーボモータを備え、算出した前記調整値に基づ
き、前記データ処理手段が、前記少なくとも１つのサー
ボモータを駆動して、前記光源位置調整手段を操作さ
せ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の
角度および射出位置が、自動的に、調整され、位置決め
されるように構成されている。
【００５５】本発明のさらに別の好ましい実施態様によ
れば、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つのサ
ーボモータを備え、算出した調整値に基づき、データ処
理手段が、少なくとも１つのサーボモータを駆動して、
光源位置調整手段を操作させ、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置が、自動的に、調
整され、位置決めされるように構成されているから、き
わめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられる
ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位
置決めすることが可能になるとともに、光源から発せら
れるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整を
自動化することが可能になる。
れば、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、光源位置調整手段を操作可能な少なくとも１つのサ
ーボモータを備え、算出した調整値に基づき、データ処
理手段が、少なくとも１つのサーボモータを駆動して、
光源位置調整手段を操作させ、光源から発せられるビー
ム状の光の光軸の角度および射出位置が、自動的に、調
整され、位置決めされるように構成されているから、き
わめて簡易に、しかも、精度よく、光源から発せられる
ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整し、位
置決めすることが可能になるとともに、光源から発せら
れるビーム状の光の光軸の角度および射出位置の調整を
自動化することが可能になる。
【００５６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、メモリとガイド部材を備え、前記第一の二次元的位
置センサが、前記ガイド部材に沿って、移動可能に構成
され、前記データ処理手段が、前記第二の位置に位置す
る前記第一の二次元的位置センサおよび前記第三の位置
に位置する前記第二の二次元的位置センサが、前記光源
から発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記
ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データに基
づいて、前記第二の二次元的位置センサが受光した前記
ビーム状の光の受光位置の前記第一の二次元的位置セン
サが受光した前記ビーム状の光の受光位置のずれを求
め、補正データを生成して、前記メモリに記憶させ、前
記第二の二次元的位置センサが生成する受光位置データ
を、前記メモリに記憶された前記補正データにしたがっ
て、補正するように構成されている。
は、ビーム状の光の光軸調整・位置決め装置は、さら
に、メモリとガイド部材を備え、前記第一の二次元的位
置センサが、前記ガイド部材に沿って、移動可能に構成
され、前記データ処理手段が、前記第二の位置に位置す
る前記第一の二次元的位置センサおよび前記第三の位置
に位置する前記第二の二次元的位置センサが、前記光源
から発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記
ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データに基
づいて、前記第二の二次元的位置センサが受光した前記
ビーム状の光の受光位置の前記第一の二次元的位置セン
サが受光した前記ビーム状の光の受光位置のずれを求
め、補正データを生成して、前記メモリに記憶させ、前
記第二の二次元的位置センサが生成する受光位置データ
を、前記メモリに記憶された前記補正データにしたがっ
て、補正するように構成されている。
【００５７】ビームスプリッタを用いて、光を分割する
場合には、光の光軸がずれる場合があるが、本発明のさ
らに好ましい実施態様によれば、ビーム状の光の光軸調
整・位置決め装置は、さらに、メモリとガイド部材を備
え、第一の二次元的位置センサが、ガイド部材に沿っ
て、移動可能に構成され、データ処理手段が、第二の位
置に位置する第一の二次元的位置センサおよび第三の位
置に位置する第二の二次元的位置センサが、光源から発
せられたビーム状の光を受光して、生成したビーム状の
光の受光位置に対応する受光位置データに基づいて、第
二の二次元的位置センサが受光したビーム状の光の受光
位置の第一の二次元的位置センサが受光したビーム状の
光の受光位置のずれを求め、補正データを生成して、メ
モリに記憶させ、第二の二次元的位置センサが生成する
受光位置データを、メモリに記憶された補正データにし
たがって、補正するように構成されているから、ビーム
スプリッタを用いたため、光の光軸がずれた場合にも、
きわめて簡易に、かつ、きわめて精度よく、光源から発
せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整し、位置決めすることが可能になる。
場合には、光の光軸がずれる場合があるが、本発明のさ
らに好ましい実施態様によれば、ビーム状の光の光軸調
整・位置決め装置は、さらに、メモリとガイド部材を備
え、第一の二次元的位置センサが、ガイド部材に沿っ
て、移動可能に構成され、データ処理手段が、第二の位
置に位置する第一の二次元的位置センサおよび第三の位
置に位置する第二の二次元的位置センサが、光源から発
せられたビーム状の光を受光して、生成したビーム状の
光の受光位置に対応する受光位置データに基づいて、第
二の二次元的位置センサが受光したビーム状の光の受光
位置の第一の二次元的位置センサが受光したビーム状の
光の受光位置のずれを求め、補正データを生成して、メ
モリに記憶させ、第二の二次元的位置センサが生成する
受光位置データを、メモリに記憶された補正データにし
たがって、補正するように構成されているから、ビーム
スプリッタを用いたため、光の光軸がずれた場合にも、
きわめて簡易に、かつ、きわめて精度よく、光源から発
せられるビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整し、位置決めすることが可能になる。
【００５８】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記二次元的位置センサが、位置検出ダイオードに
よって構成されている。
は、前記二次元的位置センサが、位置検出ダイオードに
よって構成されている。
【００５９】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記ビーム状の光が、レーザ光によって構成されて
いる。
は、前記ビーム状の光が、レーザ光によって構成されて
いる。
【００６０】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて、本発
明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００６１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め方法を用いて、レーザ
光の射出位置および光軸の角度が位置決めされたスキャ
ナの略斜視図である。
るレーザ光の光軸調整・位置決め方法を用いて、レーザ
光の射出位置および光軸の角度が位置決めされたスキャ
ナの略斜視図である。
【００６２】図１に示されるように、スキャナは、６４
０ｎｍの波長のレーザ光４を発する第１のレーザ励起光
源１と、５３２ｎｍの波長のレーザ光４を発する第２の
レーザ励起光源２と、４７３ｎｍの波長のレーザ光４を
発する第３のレーザ励起光源３とを備えている。本実施
態様においては、第１のレーザ励起光源は、半導体レー
ザ光源によって構成され、第２のレーザ励起光源２およ
び第３のレーザ励起光源３は、第二高調波生成（Second
Harmonic Generation) 素子によって構成されている。
０ｎｍの波長のレーザ光４を発する第１のレーザ励起光
源１と、５３２ｎｍの波長のレーザ光４を発する第２の
レーザ励起光源２と、４７３ｎｍの波長のレーザ光４を
発する第３のレーザ励起光源３とを備えている。本実施
態様においては、第１のレーザ励起光源は、半導体レー
ザ光源によって構成され、第２のレーザ励起光源２およ
び第３のレーザ励起光源３は、第二高調波生成（Second
Harmonic Generation) 素子によって構成されている。
【００６３】第１のレーザ励起光源１により発生された
レーザ光４は、コリメータレンズ５により、平行光とさ
れた後、ミラー６によって反射される。第１のレーザ励
起光源１から発せられ、ミラー６によって反射されたレ
ーザ光４の光路には、６４０ｎｍのレーザ光４を透過
し、５３２ｎｍの波長の光を反射する第１のダイクロイ
ックミラー７および５３２ｎｍ以上の波長の光を透過
し、４７３ｎｍの波長の光を反射する第２のダイクロイ
ックミラー８が設けられており、第１のレーザ励起光源
１により発生されたレーザ光４は、第１のダイクロイッ
クミラー７および第２のダイクロイックミラー８を透過
して、光学ヘッド１５に入射する。
レーザ光４は、コリメータレンズ５により、平行光とさ
れた後、ミラー６によって反射される。第１のレーザ励
起光源１から発せられ、ミラー６によって反射されたレ
ーザ光４の光路には、６４０ｎｍのレーザ光４を透過
し、５３２ｎｍの波長の光を反射する第１のダイクロイ
ックミラー７および５３２ｎｍ以上の波長の光を透過
し、４７３ｎｍの波長の光を反射する第２のダイクロイ
ックミラー８が設けられており、第１のレーザ励起光源
１により発生されたレーザ光４は、第１のダイクロイッ
クミラー７および第２のダイクロイックミラー８を透過
して、光学ヘッド１５に入射する。
【００６４】他方、第２のレーザ励起光源２より発生さ
れたレーザ光４は、コリメータレンズ９により、平行光
とされた後、第１のダイクロイックミラー７によって反
射されて、その向きが９０度変えられて、第２のダイク
ロイックミラー８を透過し、光学ヘッド１５に入射す
る。
れたレーザ光４は、コリメータレンズ９により、平行光
とされた後、第１のダイクロイックミラー７によって反
射されて、その向きが９０度変えられて、第２のダイク
ロイックミラー８を透過し、光学ヘッド１５に入射す
る。
【００６５】また、第３のレーザ励起光源３から発生さ
れたレーザ光４は、コリメータレンズ１０によって、平
行光とされた後、第２のダイクロイックミラー８により
反射されて、その向きが９０度変えられた後、光学ヘッ
ド１５に入射する。
れたレーザ光４は、コリメータレンズ１０によって、平
行光とされた後、第２のダイクロイックミラー８により
反射されて、その向きが９０度変えられた後、光学ヘッ
ド１５に入射する。
【００６６】光学ヘッド１５は、ミラー１６と、その中
央部に穴１７が形成された穴明きミラー１８と、レンズ
１９を備えており、光学ヘッド１５に入射したレーザ光
４は、ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８
に形成された穴１７およびレンズ１９を通過して、サン
プルステージ２０にセットされたサンプルキャリア２１
上に入射する。サンプルステージ２０は、走査機構（図
示せず）によって、図１において、Ｘ−Ｙ方向に移動可
能に構成されている。
央部に穴１７が形成された穴明きミラー１８と、レンズ
１９を備えており、光学ヘッド１５に入射したレーザ光
４は、ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８
に形成された穴１７およびレンズ１９を通過して、サン
プルステージ２０にセットされたサンプルキャリア２１
上に入射する。サンプルステージ２０は、走査機構（図
示せず）によって、図１において、Ｘ−Ｙ方向に移動可
能に構成されている。
【００６７】本実施態様にかかるスキャナは、スライド
ガラス板を担体とし、蛍光色素によって選択的に標識さ
れた試料の数多くのスポットが、スライドガラス板上に
形成されているマイクロアレイを、レーザ光４によって
走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された
蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデータを生成
可能に構成され、さらに、蛍光色素によって、選択的に
標識された変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍
光サンプルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素
を励起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出
して、生化学解析用のデータを生成可能に構成されると
ともに、放射性標識物質によって選択的に標識された試
料の数多くのスポットが形成されたメンブレンフィルタ
などの担体を、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が形
成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍光
体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記録さ
れた蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レーザ光
４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽性蛍
光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生化学
解析用のデータを生成可能に構成されている。
ガラス板を担体とし、蛍光色素によって選択的に標識さ
れた試料の数多くのスポットが、スライドガラス板上に
形成されているマイクロアレイを、レーザ光４によって
走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された
蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデータを生成
可能に構成され、さらに、蛍光色素によって、選択的に
標識された変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍
光サンプルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素
を励起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出
して、生化学解析用のデータを生成可能に構成されると
ともに、放射性標識物質によって選択的に標識された試
料の数多くのスポットが形成されたメンブレンフィルタ
などの担体を、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が形
成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍光
体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記録さ
れた蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レーザ光
４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽性蛍
光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生化学
解析用のデータを生成可能に構成されている。
【００６８】スライドガラス板を担体として用いたマイ
クロアレイは、たとえば、以下のようにして、生成され
る。
クロアレイは、たとえば、以下のようにして、生成され
る。
【００６９】まず、スライドガラス板の表面を、ポリ−
Ｌ−リジン溶液などによって、前処理し、次いで、スラ
イドガラス板の表面上の所定の位置に、塩基配列が既知
の互いに異なった複数の特異的結合物質であるｃＤＮＡ
を、スポッター装置を使用して、滴下する。
Ｌ−リジン溶液などによって、前処理し、次いで、スラ
イドガラス板の表面上の所定の位置に、塩基配列が既知
の互いに異なった複数の特異的結合物質であるｃＤＮＡ
を、スポッター装置を使用して、滴下する。
【００７０】他方、検体であるｍＲＮＡを生体細胞から
抽出し、さらに、ｍＲＮＡから３’末端にポリＡを有す
るＲＮＡを抽出する。こうして抽出したポリＡを末端に
有するＲＮＡからｃＤＮＡを合成する際に、標識物質で
あるＣｙ−５（登録商標）を存在させて、Ｃｙ−５によ
って標識されたプローブＤＮＡを生成する。
抽出し、さらに、ｍＲＮＡから３’末端にポリＡを有す
るＲＮＡを抽出する。こうして抽出したポリＡを末端に
有するＲＮＡからｃＤＮＡを合成する際に、標識物質で
あるＣｙ−５（登録商標）を存在させて、Ｃｙ−５によ
って標識されたプローブＤＮＡを生成する。
【００７１】こうして得たＣｙ−５によって標識された
プローブＤＮＡを所定の溶液に調製し、特異的結合物質
であるｃＤＮＡが滴下されたスライドガラスの表面上に
静かに載せて、ハイブリダイズさせる。
プローブＤＮＡを所定の溶液に調製し、特異的結合物質
であるｃＤＮＡが滴下されたスライドガラスの表面上に
静かに載せて、ハイブリダイズさせる。
【００７２】図２は、こうして得られたマイクロアレイ
２２の略斜視図であり、図２において、２３は、滴下さ
れたｃＤＮＡを示している。
２２の略斜視図であり、図２において、２３は、滴下さ
れたｃＤＮＡを示している。
【００７３】他方、蛍光色素によって標識された変性Ｄ
ＮＡの電気泳動画像は、たとえば、次のようにして、転
写支持体に記録される。
ＮＡの電気泳動画像は、たとえば、次のようにして、転
写支持体に記録される。
【００７４】すなわち、まず、目的とする遺伝子からな
るＤＮＡ断片を含む複数のＤＮＡ断片を、ゲル支持媒体
上で、電気泳動させることにより、分離展開し、アルカ
リ処理によって変性（denaturation) して、一本鎖のＤ
ＮＡとする。
るＤＮＡ断片を含む複数のＤＮＡ断片を、ゲル支持媒体
上で、電気泳動させることにより、分離展開し、アルカ
リ処理によって変性（denaturation) して、一本鎖のＤ
ＮＡとする。
【００７５】次いで、公知のサザン・ブロッティング法
により、このゲル支持媒体と転写支持体とを重ね合わ
せ、転写支持体上に、変性ＤＮＡ断片の少なくとも一部
を転写して、加温処理および紫外線照射によって、固定
する。
により、このゲル支持媒体と転写支持体とを重ね合わ
せ、転写支持体上に、変性ＤＮＡ断片の少なくとも一部
を転写して、加温処理および紫外線照射によって、固定
する。
【００７６】その後、目的とする遺伝子のＤＮＡと相補
的なＤＮＡあるいはＲＮＡを蛍光色素で標識して調製し
たプローブと転写支持体１２上の変性ＤＮＡ断片とを、
加温処理によって、ハイブリタイズさせ、二本鎖のＤＮ
Ａの形成（renaturation)またはＤＮＡ・ＲＮＡ結合体
の形成をおこなう。次いで、たとえば、フルオレセイ
ン、ローダミン、Ｃｙ−５ などの蛍光色素を用いて、
それぞれ、目的とする遺伝子のＤＮＡと相補的なＤＮＡ
あるいはＲＮＡを標識して、プローブが調製される。こ
のとき、転写支持体上の変性ＤＮＡ断片は固定されてい
るので、プローブＤＮＡまたはプローブＲＮＡと相補的
なＤＮＡ断片のみがハイブリタイズして、蛍光標識プロ
ーブを捕獲する。しかる後に、適当な溶液で、ハイブリ
ッドを形成しなかったプローブを洗い流すことにより、
転写支持体上では、目的遺伝子を有するＤＮＡ断片のみ
が、蛍光標識が付与されたＤＮＡまたはＲＮＡとハイブ
リッドを形成し、蛍光標識が付与される。こうして、得
られた転写支持体に、蛍光色素により標識された変性Ｄ
ＮＡの電気泳動画像が記録される。
的なＤＮＡあるいはＲＮＡを蛍光色素で標識して調製し
たプローブと転写支持体１２上の変性ＤＮＡ断片とを、
加温処理によって、ハイブリタイズさせ、二本鎖のＤＮ
Ａの形成（renaturation)またはＤＮＡ・ＲＮＡ結合体
の形成をおこなう。次いで、たとえば、フルオレセイ
ン、ローダミン、Ｃｙ−５ などの蛍光色素を用いて、
それぞれ、目的とする遺伝子のＤＮＡと相補的なＤＮＡ
あるいはＲＮＡを標識して、プローブが調製される。こ
のとき、転写支持体上の変性ＤＮＡ断片は固定されてい
るので、プローブＤＮＡまたはプローブＲＮＡと相補的
なＤＮＡ断片のみがハイブリタイズして、蛍光標識プロ
ーブを捕獲する。しかる後に、適当な溶液で、ハイブリ
ッドを形成しなかったプローブを洗い流すことにより、
転写支持体上では、目的遺伝子を有するＤＮＡ断片のみ
が、蛍光標識が付与されたＤＮＡまたはＲＮＡとハイブ
リッドを形成し、蛍光標識が付与される。こうして、得
られた転写支持体に、蛍光色素により標識された変性Ｄ
ＮＡの電気泳動画像が記録される。
【００７７】一方、蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体
層には、たとえば、以下のようにして、放射性標識物質
の位置情報が記録される。
層には、たとえば、以下のようにして、放射性標識物質
の位置情報が記録される。
【００７８】メンブレンフィルタなどの担体表面を前処
理し、次いで、メンブレンフィルタなどの担体表面上の
所定の位置に、塩基配列が既知の互いに異なった複数の
特異的結合物質であるｃＤＮＡを、スポッター装置を使
用して、滴下する。
理し、次いで、メンブレンフィルタなどの担体表面上の
所定の位置に、塩基配列が既知の互いに異なった複数の
特異的結合物質であるｃＤＮＡを、スポッター装置を使
用して、滴下する。
【００７９】他方、検体であるＲＮＡを生体細胞から抽
出し、さらに、ＲＮＡから３’末端にポリＡを有するｍ
ＲＮＡを抽出する。こうして抽出したポリＡを末端に有
するｍＲＮＡからｃＤＮＡを合成する際に、放射性標識
物質を存在させて、放射性標識物質によって標識された
プローブＤＮＡを生成する。
出し、さらに、ＲＮＡから３’末端にポリＡを有するｍ
ＲＮＡを抽出する。こうして抽出したポリＡを末端に有
するｍＲＮＡからｃＤＮＡを合成する際に、放射性標識
物質を存在させて、放射性標識物質によって標識された
プローブＤＮＡを生成する。
【００８０】こうして得た放射性標識物質によって標識
されたプローブＤＮＡを所定の溶液に調整し、特異的結
合物質であるｃＤＮＡが滴下されたメンブレンフィルタ
などの担体表面上に静かに載せて、ハイブリダイズさせ
る。
されたプローブＤＮＡを所定の溶液に調整し、特異的結
合物質であるｃＤＮＡが滴下されたメンブレンフィルタ
などの担体表面上に静かに載せて、ハイブリダイズさせ
る。
【００８１】次いで、ハイブリダイズされた試料が形成
されたメンブレンフィルタなどの担体表面に、蓄積性蛍
光体シートに形成された輝尽性蛍光体層を重ね合わせ
て、所定時間にわたって、密着状態に保持することによ
って、メンブレンフィルタなどの担体上の放射性標識物
質から放出される放射線の少なくとも一部が、蓄積性蛍
光体シートに形成された輝尽性蛍光体層に吸収され、放
射性標識物質の位置情報が、輝尽性蛍光体層に記録され
る。
されたメンブレンフィルタなどの担体表面に、蓄積性蛍
光体シートに形成された輝尽性蛍光体層を重ね合わせ
て、所定時間にわたって、密着状態に保持することによ
って、メンブレンフィルタなどの担体上の放射性標識物
質から放出される放射線の少なくとも一部が、蓄積性蛍
光体シートに形成された輝尽性蛍光体層に吸収され、放
射性標識物質の位置情報が、輝尽性蛍光体層に記録され
る。
【００８２】レーザ光４が、光学ヘッド１５から、サン
プル２２上に入射すると、サンプル２２が、マイクロア
レイや蛍光サンプルの場合には、レーザ光４によって、
蛍光物質が励起されて、蛍光が発せられ、また、サンプ
ル２２が、蓄積性蛍光体シートの場合には、輝尽性蛍光
体層に含まれた輝尽性蛍光体が励起され、輝尽光が発せ
られる。
プル２２上に入射すると、サンプル２２が、マイクロア
レイや蛍光サンプルの場合には、レーザ光４によって、
蛍光物質が励起されて、蛍光が発せられ、また、サンプ
ル２２が、蓄積性蛍光体シートの場合には、輝尽性蛍光
体層に含まれた輝尽性蛍光体が励起され、輝尽光が発せ
られる。
【００８３】サンプル２２から発せられた蛍光または輝
尽光２５は、光学ヘッド１５のレンズ１９によって、平
行な光にされ、穴明きミラー１８によって反射されて、
４枚のフィルタ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄを備え
たフィルタユニット２７のいずれかのフィルタ２８ａ、
２８ｂ、２８ｃ、２８ｄに入射する。
尽光２５は、光学ヘッド１５のレンズ１９によって、平
行な光にされ、穴明きミラー１８によって反射されて、
４枚のフィルタ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄを備え
たフィルタユニット２７のいずれかのフィルタ２８ａ、
２８ｂ、２８ｃ、２８ｄに入射する。
【００８４】フィルタユニット２７は、モータ（図示せ
ず）によって、図１において、左右方向に移動可能に構
成され、使用されるレーザ励起光源の種類によって、所
定のフィルタ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄが、蛍光
または輝尽光２５の光路に位置するように構成されてい
る。
ず）によって、図１において、左右方向に移動可能に構
成され、使用されるレーザ励起光源の種類によって、所
定のフィルタ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄが、蛍光
または輝尽光２５の光路に位置するように構成されてい
る。
【００８５】ここに、フィルタ２８ａは、第１のレーザ
励起光源１を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光
物質を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィル
タであり、６４０ｎｍの波長の光をカットし、６４０ｎ
ｍよりも波長の長い光を透過する性質を有している。
励起光源１を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光
物質を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィル
タであり、６４０ｎｍの波長の光をカットし、６４０ｎ
ｍよりも波長の長い光を透過する性質を有している。
【００８６】また、フィルタ２８ｂは、第２のレーザ励
起光源２を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光色
素を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィルタ
であり、５３２ｎｍの波長の光をカットし、５３２ｎｍ
よりも波長の長い光を透過する性質を有している。
起光源２を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光色
素を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィルタ
であり、５３２ｎｍの波長の光をカットし、５３２ｎｍ
よりも波長の長い光を透過する性質を有している。
【００８７】さらに、フィルタ２８ｃは、第３のレーザ
励起光源３を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光
色素を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィル
タであり、４７３ｎｍの波長の光をカットし、４７３ｎ
ｍよりも波長の長い光を透過する性質を有している。
励起光源３を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光
色素を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィル
タであり、４７３ｎｍの波長の光をカットし、４７３ｎ
ｍよりも波長の長い光を透過する性質を有している。
【００８８】また、フィルタ２８ｄは、サンプル２２が
蓄積性蛍光体シートである場合に、第１のレーザ励起光
源１を用いて、蓄積性蛍光体シートに含まれた輝尽性蛍
光体を励起し、輝尽性蛍光体から発せられた輝尽光を読
み取るときに使用されるフィルタであり、輝尽性蛍光体
から発光される輝尽光の波長域の光のみを透過し、６４
０ｎｍの波長の光をカットする性質を有している。
蓄積性蛍光体シートである場合に、第１のレーザ励起光
源１を用いて、蓄積性蛍光体シートに含まれた輝尽性蛍
光体を励起し、輝尽性蛍光体から発せられた輝尽光を読
み取るときに使用されるフィルタであり、輝尽性蛍光体
から発光される輝尽光の波長域の光のみを透過し、６４
０ｎｍの波長の光をカットする性質を有している。
【００８９】したがって、使用すべきレーザ励起光源の
種類、すなわち、サンプルの種類、試料を標識している
蛍光物質の種類に応じて、これらのフィルタ２８ａ、２
８ｂ、２８ｃ、２８ｄを選択的に使用することによっ
て、ノイズとなる波長域の光をカットすることが可能に
なる。
種類、すなわち、サンプルの種類、試料を標識している
蛍光物質の種類に応じて、これらのフィルタ２８ａ、２
８ｂ、２８ｃ、２８ｄを選択的に使用することによっ
て、ノイズとなる波長域の光をカットすることが可能に
なる。
【００９０】フィルタユニット２７のフィルタ２８ａ、
２８ｂ、２８ｃを透過して、所定の波長域の光がカット
された後、蛍光または輝尽光２５は、ミラー２９に入射
し、反射されて、レンズ３０によって、集光される。
２８ｂ、２８ｃを透過して、所定の波長域の光がカット
された後、蛍光または輝尽光２５は、ミラー２９に入射
し、反射されて、レンズ３０によって、集光される。
【００９１】レンズ１９とレンズ３０は、共焦点光学系
を構成している。このように、共焦点光学系を採用して
いるのは、サンプル２２が、スライドガラス板を担体と
したマイクロアレイの場合に、スライドガラス板上に形
成された微小なスポット状試料から放出された蛍光を、
高いＳ／Ｎ比で読み取ることができるようにするためで
ある。
を構成している。このように、共焦点光学系を採用して
いるのは、サンプル２２が、スライドガラス板を担体と
したマイクロアレイの場合に、スライドガラス板上に形
成された微小なスポット状試料から放出された蛍光を、
高いＳ／Ｎ比で読み取ることができるようにするためで
ある。
【００９２】レンズ３０の焦点の位置には、共焦点切り
換え部材３１が設けられている。
換え部材３１が設けられている。
【００９３】図３は、共焦点切り換え部材３１の略正面
図である。
図である。
【００９４】図３に示されるように、共焦点切り換え部
材３１は、板状をなし、径の異なる３つのピンホール３
２ａ、３２ｂ、３２ｃが形成されている。
材３１は、板状をなし、径の異なる３つのピンホール３
２ａ、３２ｂ、３２ｃが形成されている。
【００９５】最も径の小さいピンホール３２ａは、サン
プル２２が、スライドガラス板を担体としたマイクロア
レイの場合に、マイクロアレイから放出された蛍光の光
路に配置されるものであり、最も径の大きいピンホール
３２ｃは、サンプル２２が、転写支持体を担体とした蛍
光サンプルの場合に、転写支持体から放出された蛍光の
光路に配置されるものである。
プル２２が、スライドガラス板を担体としたマイクロア
レイの場合に、マイクロアレイから放出された蛍光の光
路に配置されるものであり、最も径の大きいピンホール
３２ｃは、サンプル２２が、転写支持体を担体とした蛍
光サンプルの場合に、転写支持体から放出された蛍光の
光路に配置されるものである。
【００９６】また、中間の径を有するピンホール３２ｂ
は、サンプル２２が、蓄積性蛍光体シートである場合
に、輝尽性蛍光体層から放出された輝尽光の光路に配置
されるものである。
は、サンプル２２が、蓄積性蛍光体シートである場合
に、輝尽性蛍光体層から放出された輝尽光の光路に配置
されるものである。
【００９７】このように、レンズ３０の焦点の位置に、
共焦点切り換え部材３１を設けて、サンプル２２が、ス
ライドガラス板を担体としたマイクロアレイの場合に、
最も径の小さいピンホール３２ａを蛍光の光路に位置さ
せているのは、サンプル２２が、スライドガラス板を担
体としたマイクロアレイの場合には、レーザ光４によっ
て、蛍光色素を励起した結果、蛍光はスライドガラス板
の表面から放出され、発光点は深さ方向にほぼ一定であ
るため、共焦点光学系を用いて、径の小さいピンホール
３２ａに結像させることがＳ／Ｎ比を向上させる上で望
ましいからである。
共焦点切り換え部材３１を設けて、サンプル２２が、ス
ライドガラス板を担体としたマイクロアレイの場合に、
最も径の小さいピンホール３２ａを蛍光の光路に位置さ
せているのは、サンプル２２が、スライドガラス板を担
体としたマイクロアレイの場合には、レーザ光４によっ
て、蛍光色素を励起した結果、蛍光はスライドガラス板
の表面から放出され、発光点は深さ方向にほぼ一定であ
るため、共焦点光学系を用いて、径の小さいピンホール
３２ａに結像させることがＳ／Ｎ比を向上させる上で望
ましいからである。
【００９８】これに対して、サンプル２２が、転写支持
体を担体とした蛍光サンプルの場合に、最も径の大きい
ピンホール３２ｃを蛍光の光路に位置させているのは、
サンプル２２が、転写支持体を担体とした蛍光サンプル
の場合には、レーザ光４によって、蛍光色素を励起した
ときに、蛍光色素はゲル支持体の深さ方向に分布してお
り、しかも、発光点が深さ方向に変動するので、共焦点
光学系によって、径の小さいピンホールに結像させるこ
とができず、径の小さいピンホールを用いると、試料か
ら放出された蛍光がカットされ、蛍光を光電的に検出し
たときに、十分な信号強度が得られないため、径の大き
いピンホール３２ｃを用いる必要があるからである。
体を担体とした蛍光サンプルの場合に、最も径の大きい
ピンホール３２ｃを蛍光の光路に位置させているのは、
サンプル２２が、転写支持体を担体とした蛍光サンプル
の場合には、レーザ光４によって、蛍光色素を励起した
ときに、蛍光色素はゲル支持体の深さ方向に分布してお
り、しかも、発光点が深さ方向に変動するので、共焦点
光学系によって、径の小さいピンホールに結像させるこ
とができず、径の小さいピンホールを用いると、試料か
ら放出された蛍光がカットされ、蛍光を光電的に検出し
たときに、十分な信号強度が得られないため、径の大き
いピンホール３２ｃを用いる必要があるからである。
【００９９】他方、サンプル２２が蓄積性蛍光体シート
である場合に、中間の径を有するピンホール３２ｂを輝
尽光の光路に位置させているのは、レーザ光４によっ
て、輝尽性蛍光体層に含まれた輝尽性蛍光体を励起した
ときは、輝尽光の発光点は輝尽性蛍光体層の深さ方向に
分布し、発光点は深さ方向に変動するので、共焦点光学
系によって、径の小さいピンホールに結像させることが
できず、径の小さいピンホールを用いると、試料から放
出された輝尽光がカットされ、輝尽光を光電的に検出し
たときに、十分な信号強度が得られないが、発光点の深
さ方向における分布も、発光点の深さ方向の変動も、ゲ
ル支持体を担体としたマイクロアレイほどではないた
め、中間の径を有するピンホール３２ｂを用いることが
望ましいからである。
である場合に、中間の径を有するピンホール３２ｂを輝
尽光の光路に位置させているのは、レーザ光４によっ
て、輝尽性蛍光体層に含まれた輝尽性蛍光体を励起した
ときは、輝尽光の発光点は輝尽性蛍光体層の深さ方向に
分布し、発光点は深さ方向に変動するので、共焦点光学
系によって、径の小さいピンホールに結像させることが
できず、径の小さいピンホールを用いると、試料から放
出された輝尽光がカットされ、輝尽光を光電的に検出し
たときに、十分な信号強度が得られないが、発光点の深
さ方向における分布も、発光点の深さ方向の変動も、ゲ
ル支持体を担体としたマイクロアレイほどではないた
め、中間の径を有するピンホール３２ｂを用いることが
望ましいからである。
【０１００】共焦点切り換え部材３１を通過した蛍光あ
るいは輝尽光は、フォトマルチプライア３３によって光
電的に検出され、アナログデータが生成される。
るいは輝尽光は、フォトマルチプライア３３によって光
電的に検出され、アナログデータが生成される。
【０１０１】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
【０１０２】図４は、スキャナの検出系、駆動系、入力
系および制御系を示すブロックダイアグラムである。
系および制御系を示すブロックダイアグラムである。
【０１０３】図４に示されるように、スキャナの検出系
は、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
を把持するキャリアの種類を検出するキャリアセンサ４
０を備え、スキャナの駆動系は、フィルタユニット２７
を移動させるフィルタユニットモータ４１と、共焦点切
り換え部材３１を移動させる切り換え部材モータ４２を
備えている。
は、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
を把持するキャリアの種類を検出するキャリアセンサ４
０を備え、スキャナの駆動系は、フィルタユニット２７
を移動させるフィルタユニットモータ４１と、共焦点切
り換え部材３１を移動させる切り換え部材モータ４２を
備えている。
【０１０４】また、スキャナの入力系は、キーボード４
３を備えており、スキャナの制御系は、コントロールユ
ニット４５を備えている。
３を備えており、スキャナの制御系は、コントロールユ
ニット４５を備えている。
【０１０５】図５は、本発明の好ましい実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の略斜視図であ
る。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の略斜視図であ
る。
【０１０６】図５に示されるように、本実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置５０は、互いに連
結された第一の基板５１および第二の基板５２を備え、
上方に位置する第一の基板５１上には、レーザ光源１、
２または３が取り付けられたレーザ光源基板５３と、基
体５４を備えたレーザ光源ユニット５５が取り付けられ
ている。レーザ光源基板５３は、基体５４に対して、相
対的に移動可能に取り付けられている。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置５０は、互いに連
結された第一の基板５１および第二の基板５２を備え、
上方に位置する第一の基板５１上には、レーザ光源１、
２または３が取り付けられたレーザ光源基板５３と、基
体５４を備えたレーザ光源ユニット５５が取り付けられ
ている。レーザ光源基板５３は、基体５４に対して、相
対的に移動可能に取り付けられている。
【０１０７】図５に示されるように、下方に位置する第
二の基板５２には、第一の基板５１上に形成された孔
（図示せず）を介して、レーザ光源１、２または３が取
り付けられたレーザ光源基板５３を、レーザ光源ユニッ
ト５５の基体５４に対して、図６において、ｘ方向、ｚ
方向、θ方向およびφ方向に相対的に移動可能な操作部
材（図示せず）を備えたレーザ光源移動機構５６が設け
られている。ここに、θは、ｚ軸まわりの角度を示し、
φは、ｘ軸まわりの角度を示している。
二の基板５２には、第一の基板５１上に形成された孔
（図示せず）を介して、レーザ光源１、２または３が取
り付けられたレーザ光源基板５３を、レーザ光源ユニッ
ト５５の基体５４に対して、図６において、ｘ方向、ｚ
方向、θ方向およびφ方向に相対的に移動可能な操作部
材（図示せず）を備えたレーザ光源移動機構５６が設け
られている。ここに、θは、ｚ軸まわりの角度を示し、
φは、ｘ軸まわりの角度を示している。
【０１０８】図５に示されるように、レーザ光源移動機
構５６は、レーザ光源基板５３を、レーザ光源ユニット
５５の基体５４に対して、図６において、ｘ方向に相対
的に移動させる操作部材（図示せず）を操作するための
ｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向に相対的に移動させる
操作部材（図示せず）を操作するためのｚ方向位置調整
部材６６、θ方向に相対的に回転させる操作部材（図示
せず）を操作するためのθ方向回転調整部材６７および
φ方向に相対的に回転させる操作部材（図示せず）を操
作するためのφ方向回転調整部材６８を備えている。ｘ
方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方
向回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材６８は、
それぞれ、ステッピングモータ（図５においては、図示
されていない）によって、駆動されるように構成されて
いる。
構５６は、レーザ光源基板５３を、レーザ光源ユニット
５５の基体５４に対して、図６において、ｘ方向に相対
的に移動させる操作部材（図示せず）を操作するための
ｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向に相対的に移動させる
操作部材（図示せず）を操作するためのｚ方向位置調整
部材６６、θ方向に相対的に回転させる操作部材（図示
せず）を操作するためのθ方向回転調整部材６７および
φ方向に相対的に回転させる操作部材（図示せず）を操
作するためのφ方向回転調整部材６８を備えている。ｘ
方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方
向回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材６８は、
それぞれ、ステッピングモータ（図５においては、図示
されていない）によって、駆動されるように構成されて
いる。
【０１０９】図５に示されるように、一方、第一の基板
５１上には、スライドレール５７が設けられ、スライド
レール５７には、位置検出ダイオード６０がスライド可
能に取り付けられている。
５１上には、スライドレール５７が設けられ、スライド
レール５７には、位置検出ダイオード６０がスライド可
能に取り付けられている。
【０１１０】図５に示されるように、レーザ光源ユニッ
ト５５の基体５４には、ミラー６１が固定されており、
レーザ光源１、２または３から発せられたレーザ光４
は、ミラー６１によって反射されて、その向きがほぼ４
５度変えられ、位置検出ダイオード６０に入射するよう
に構成されている。図６においては、説明の便宜上、ミ
ラー６１は省略され、レーザ光４は、ミラー６１によっ
て反射されることなく、位置検出ダイオード５７に入射
するように、描かれている。
ト５５の基体５４には、ミラー６１が固定されており、
レーザ光源１、２または３から発せられたレーザ光４
は、ミラー６１によって反射されて、その向きがほぼ４
５度変えられ、位置検出ダイオード６０に入射するよう
に構成されている。図６においては、説明の便宜上、ミ
ラー６１は省略され、レーザ光４は、ミラー６１によっ
て反射されることなく、位置検出ダイオード５７に入射
するように、描かれている。
【０１１１】図６は、本発明の好ましい実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系のブロックダイアグラ
ムである。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系のブロックダイアグラ
ムである。
【０１１２】図６に示されるように、本実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系は、位置
検出ダイオード６０を備えている。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系は、位置
検出ダイオード６０を備えている。
【０１１３】また、図６に示されるように、本実施態様
にかかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の制御系
は、Ａ／Ｄ変換器７０と、データ処理手段７１と、メモ
リ７２とを備えている。
にかかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の制御系
は、Ａ／Ｄ変換器７０と、データ処理手段７１と、メモ
リ７２とを備えている。
【０１１４】図６に示されるように、本実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の駆動系は、レー
ザ光源移動機構５６と、レーザ光源移動機構５６のｘ方
向位置調整部材６５を駆動する第一のステッピングモー
タ７５と、ｚ方向位置調整部材６６を駆動する第二のス
テッピングモータ７６と、θ方向回転調整部材６７を駆
動する第三のステッピングモータ７７と、φ方向回転調
整部材６８を駆動する第四のステッピングモータ７８と
を備えている。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の駆動系は、レー
ザ光源移動機構５６と、レーザ光源移動機構５６のｘ方
向位置調整部材６５を駆動する第一のステッピングモー
タ７５と、ｚ方向位置調整部材６６を駆動する第二のス
テッピングモータ７６と、θ方向回転調整部材６７を駆
動する第三のステッピングモータ７７と、φ方向回転調
整部材６８を駆動する第四のステッピングモータ７８と
を備えている。
【０１１５】また、図６に示されるように、本実施態様
にかかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の入力系
は、キーボード６９を備え、レーザ光の光軸調整・位置
決め装置の表示系は、ＣＲＴ８０を備えている。
にかかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の入力系
は、キーボード６９を備え、レーザ光の光軸調整・位置
決め装置の表示系は、ＣＲＴ８０を備えている。
【０１１６】以上のように構成された本実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置においては、以下
のようにして、レーザ励起光源１、２または３の光軸の
角度およびレーザ光の射出位置が調整され、位置決めさ
れる。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置においては、以下
のようにして、レーザ励起光源１、２または３の光軸の
角度およびレーザ光の射出位置が調整され、位置決めさ
れる。
【０１１７】まず、図５および図６に示されるｘｙｚ座
標が（ｘ２、ｙ２、ｚ２）の位置Ａに、位置検出ダイオ
ード６０が位置決めされた後、レーザ光源基板５３に取
り付けられたレーザ励起光源１、２または３がオンさ
れ、レーザ光４が発せられる。
標が（ｘ２、ｙ２、ｚ２）の位置Ａに、位置検出ダイオ
ード６０が位置決めされた後、レーザ光源基板５３に取
り付けられたレーザ励起光源１、２または３がオンさ
れ、レーザ光４が発せられる。
【０１１８】レーザ光４は、ミラー６１によって反射さ
れて、位置Ａに位置している位置検出ダイオード６０に
よって受光され、レーザ光４の受光位置に対応するアナ
ログ受光位置座標データが生成される。
れて、位置Ａに位置している位置検出ダイオード６０に
よって受光され、レーザ光４の受光位置に対応するアナ
ログ受光位置座標データが生成される。
【０１１９】位置検出ダイオード５０によって生成され
たアナログ受光位置座標データは、Ａ／Ｄ変換器７０に
よって、ディジタル化されて、データ処理手段７１に入
力される。
たアナログ受光位置座標データは、Ａ／Ｄ変換器７０に
よって、ディジタル化されて、データ処理手段７１に入
力される。
【０１２０】データ処理手段７１は、Ａ／Ｄ変換器３４
から入力されたディジタル受光位置座標データをメモリ
７２に記憶するとともに、入力されたディジタル受光位
置座標データに基づいて、位置検出ダイオード６０が受
光したレーザ光４の受光位置を、ＣＲＴ８０の画面上に
表示させる。
から入力されたディジタル受光位置座標データをメモリ
７２に記憶するとともに、入力されたディジタル受光位
置座標データに基づいて、位置検出ダイオード６０が受
光したレーザ光４の受光位置を、ＣＲＴ８０の画面上に
表示させる。
【０１２１】これによって、オペレータは、レーザ光４
の光軸の偏倚を視覚的に認識することができる。
の光軸の偏倚を視覚的に認識することができる。
【０１２２】次いで、レーザ励起光源１、２または３が
オフされ、位置検出ダイオード６０が、ミラー６１に向
け、スライドレール５７に沿って、スライドされ、ｘｙ
ｚ座標が（ｘ１、ｙ１、ｚ１）となる位置Ｂに、位置決
めされる。
オフされ、位置検出ダイオード６０が、ミラー６１に向
け、スライドレール５７に沿って、スライドされ、ｘｙ
ｚ座標が（ｘ１、ｙ１、ｚ１）となる位置Ｂに、位置決
めされる。
【０１２３】位置検出ダイオード６０が、位置Ｂに位置
決めされると、再度、レーザ光源基板５３に取り付けら
れたレーザ励起光源１、２または３がオンされ、レーザ
光４が発せられる。
決めされると、再度、レーザ光源基板５３に取り付けら
れたレーザ励起光源１、２または３がオンされ、レーザ
光４が発せられる。
【０１２４】レーザ光４は、ミラー６１によって反射さ
れて、位置Ｂに位置している位置検出ダイオード６０に
よって受光され、レーザ光４の受光位置に対応するアナ
ログ受光位置座標データが生成される。
れて、位置Ｂに位置している位置検出ダイオード６０に
よって受光され、レーザ光４の受光位置に対応するアナ
ログ受光位置座標データが生成される。
【０１２５】位置検出ダイオード５０によって生成され
たアナログ受光位置座標データは、Ａ／Ｄ変換器７０に
よって、ディジタル化されて、データ処理手段７１に入
力される。
たアナログ受光位置座標データは、Ａ／Ｄ変換器７０に
よって、ディジタル化されて、データ処理手段７１に入
力される。
【０１２６】データ処理手段７１は、Ａ／Ｄ変換器３４
から入力されたディジタル受光位置座標データに基づい
て、位置検出ダイオード６０が受光したレーザ光４の受
光位置を、ＣＲＴ８０の画面上に表示させる。
から入力されたディジタル受光位置座標データに基づい
て、位置検出ダイオード６０が受光したレーザ光４の受
光位置を、ＣＲＴ８０の画面上に表示させる。
【０１２７】これによって、オペレータは、レーザ光４
の光軸の偏倚を視覚的に認識することができる。
の光軸の偏倚を視覚的に認識することができる。
【０１２８】位置Ｂに位置している位置検出ダイオード
６０によって生成されたディジタル受光位置座標データ
が入力されると、データ処理手段７１は、メモリ７２に
記憶されている位置Ｂに位置した位置検出ダイオード６
０によって生成されたディジタル受光位置座標データを
読み出し、次式（１）、（２）、（３）および（４）に
したがって、レーザ光４の射出位置のｘ方向における調
整値Δｘ、レーザ光４の射出位置のｚ方向における調整
値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ方向における調整角度Δ
θおよびレーザ光４の光軸のφ方向における調整角度Δ
φを算出し、さらに、メモリ７２に記憶された変換テー
ブルにしたがって、Δｘだけ、レーザ光４の射出位置を
ｘ方向に調整するために、第一のステッピングモータ７
５に与えるべき駆動パルス数Ｐ（ｘ）、Δｚだけ、レー
ザ光４の射出位置をｚ方向に調整するために、第二のス
テッピングモータ７６に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（ｚ）、Δθだけ、レーザ光４の光軸をθ方向に回転さ
せるために、第三のステッピングモータ７７に与えるべ
き駆動パルス数Ｐ（θ）およびΔφだけ、レーザ光４の
光軸をφ方向に回転させるために、第四のステッピング
モータ７８に与えるべき駆動パルス数Ｐ（φ）を算出す
る。
６０によって生成されたディジタル受光位置座標データ
が入力されると、データ処理手段７１は、メモリ７２に
記憶されている位置Ｂに位置した位置検出ダイオード６
０によって生成されたディジタル受光位置座標データを
読み出し、次式（１）、（２）、（３）および（４）に
したがって、レーザ光４の射出位置のｘ方向における調
整値Δｘ、レーザ光４の射出位置のｚ方向における調整
値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ方向における調整角度Δ
θおよびレーザ光４の光軸のφ方向における調整角度Δ
φを算出し、さらに、メモリ７２に記憶された変換テー
ブルにしたがって、Δｘだけ、レーザ光４の射出位置を
ｘ方向に調整するために、第一のステッピングモータ７
５に与えるべき駆動パルス数Ｐ（ｘ）、Δｚだけ、レー
ザ光４の射出位置をｚ方向に調整するために、第二のス
テッピングモータ７６に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（ｚ）、Δθだけ、レーザ光４の光軸をθ方向に回転さ
せるために、第三のステッピングモータ７７に与えるべ
き駆動パルス数Ｐ（θ）およびΔφだけ、レーザ光４の
光軸をφ方向に回転させるために、第四のステッピング
モータ７８に与えるべき駆動パルス数Ｐ（φ）を算出す
る。
【０１２９】 Δｘ＝ｘ１−（ｙ１−ｙ０）＊ｔａｎθ （１） Δｚ＝ｙ２−（ｙ１−ｙ０）＊ｔａｎφ （２） θ＝Ａｒｃｔａｎ｛（ｘ２−ｘ１）／（ｙ２−ｙ１）｝ （３） φ＝Ａｒｃｔａｎ｛（ｙ２−ｙ１）／（ｙ２−ｙ１）｝ （４） ここに、（ｘ０、ｙ０、ｚ０）は、レーザ励起光源１、
２または３から発せられたレーザ光４が、ミラー６１に
よって反射される位置のｘｙｚ座標である。
２または３から発せられたレーザ光４が、ミラー６１に
よって反射される位置のｘｙｚ座標である。
【０１３０】次いで、データ処理手段７１は、こうして
算出した第一のステッピングモータ７５に与えるべき駆
動パルス数Ｐ（ｘ）、第二のステッピングモータ７６に
与えるべき駆動パルス数Ｐ（ｚ）、第三のステッピング
モータ７７に与えるべき駆動パルス数Ｐ（θ）および第
四のステッピングモータ７８に与えるべき駆動パルス数
Ｐ（φ）に基づき、駆動信号を生成して、それぞれ、第
一のステッピングモータ７５、第二のステッピングモー
タ７６、第三のステッピングモータ７７および第四のス
テッピングモータ７８に出力する。
算出した第一のステッピングモータ７５に与えるべき駆
動パルス数Ｐ（ｘ）、第二のステッピングモータ７６に
与えるべき駆動パルス数Ｐ（ｚ）、第三のステッピング
モータ７７に与えるべき駆動パルス数Ｐ（θ）および第
四のステッピングモータ７８に与えるべき駆動パルス数
Ｐ（φ）に基づき、駆動信号を生成して、それぞれ、第
一のステッピングモータ７５、第二のステッピングモー
タ７６、第三のステッピングモータ７７および第四のス
テッピングモータ７８に出力する。
【０１３１】その結果、第一のステッピングモータ７
５、第二のステッピングモータ７６、第三のステッピン
グモータ７７および第四のステッピングモータ７８によ
って、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６
５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７
およびφ方向回転調整部材６８が、それぞれ、駆動され
て、レーザ光源ユニット５５の基体５４に対するレーザ
光源基板５３の位置が調整され、レーザ光源基板５３に
取り付けられたレーザ励起光源１、２または３の光軸の
角度および射出位置が、所望のように、決定される。
５、第二のステッピングモータ７６、第三のステッピン
グモータ７７および第四のステッピングモータ７８によ
って、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６
５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７
およびφ方向回転調整部材６８が、それぞれ、駆動され
て、レーザ光源ユニット５５の基体５４に対するレーザ
光源基板５３の位置が調整され、レーザ光源基板５３に
取り付けられたレーザ励起光源１、２または３の光軸の
角度および射出位置が、所望のように、決定される。
【０１３２】こうして、レーザ励起光源１、２または３
の光軸の角度および射出位置が、所望のように、決定さ
れると、レーザ光源基板５３が、ねじ（図示せず）など
によって、レーザ光源ユニット５５の基体５４に固定さ
れ、レーザ光源ユニット５５が、スキャナにセットされ
る。ここに、スキャナおよびレーザ光源ユニット５５に
は、基準ピン（図示せず）などが設けられ、スキャナに
対して、レーザ光源ユニット５５がつねに同一の位置に
セットされるように構成されているから、所望のよう
に、レーザ光４の光軸の角度および射出位置を調整し、
所望のように、位置決めすることが可能になる。
の光軸の角度および射出位置が、所望のように、決定さ
れると、レーザ光源基板５３が、ねじ（図示せず）など
によって、レーザ光源ユニット５５の基体５４に固定さ
れ、レーザ光源ユニット５５が、スキャナにセットされ
る。ここに、スキャナおよびレーザ光源ユニット５５に
は、基準ピン（図示せず）などが設けられ、スキャナに
対して、レーザ光源ユニット５５がつねに同一の位置に
セットされるように構成されているから、所望のよう
に、レーザ光４の光軸の角度および射出位置を調整し、
所望のように、位置決めすることが可能になる。
【０１３３】本実施態様によれば、位置検出ダイオード
６０を位置Ａに位置させ、レーザ光４を受光させて、生
成したディジタル受光位置座標データと、位置検出ダイ
オード６０を位置Ｂに位置させ、レーザ光４を受光させ
て、生成したディジタル受光位置座標データに基づき、
データ処理手段７１によって、レーザ光４の射出位置の
ｘ方向における調整値Δｘ、レーザ光４の射出位置のｚ
方向における調整値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ方向に
おける調整角度Δθおよびレーザ光４の光軸のφ方向に
おける調整角度Δφが算出され、さらに、調整値Δｘ、
Δｚ、ΔθおよびΔφが、それぞれ、第一のステッピン
グモータ７５に与えるべき駆動パルス数Ｐ（ｘ）、第二
のステッピングモータ７６に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（ｚ）、第三のステッピングモータ７７に与えるべき駆
動パルス数Ｐ（θ）および第四のステッピングモータ７
８に与えるべき駆動パルス数Ｐ（φ）に変換されて、第
一のステッピングモータ７５、第二のステッピングモー
タ７６、第三のステッピングモータ７７および第四のス
テッピングモータ７８に出力されるべき駆動信号が生成
され、第一のステッピングモータ７５、第二のステッピ
ングモータ７６、第三のステッピングモータ７７および
第四のステッピングモータ７８に出力され、第一のステ
ッピングモータ７５、第二のステッピングモータ７６、
第三のステッピングモータ７７および第四のステッピン
グモータ７８によって、レーザ光源移動機構５６のｘ方
向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向
回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材６８が、そ
れぞれ、駆動されて、レーザ光源ユニット５５の基体５
４に対するレーザ光源基板５３の位置が調整され、レー
ザ光源基板５３に取り付けられたレーザ励起光源１、２
または３の光軸の角度および射出位置が、所望のよう
に、決定されるから、レーザ光が、レーザ光源のレーザ
射出位置から異なる位置に配置された２つのピンホール
部材のピンホールを通るように、レーザ光源を動かし
て、レーザ光の射出位置および光軸の角度を調整する従
来の方法のように、目視によって、レーザ光の射出位置
および光軸の角度を調整する必要がなく、したがって、
きわめて容易に、レーザ光４の光軸の角度および射出位
置を調整し、所望のように、位置決めすることが可能に
なり、作業性および調整精度を大幅に向上させることが
可能になる。
６０を位置Ａに位置させ、レーザ光４を受光させて、生
成したディジタル受光位置座標データと、位置検出ダイ
オード６０を位置Ｂに位置させ、レーザ光４を受光させ
て、生成したディジタル受光位置座標データに基づき、
データ処理手段７１によって、レーザ光４の射出位置の
ｘ方向における調整値Δｘ、レーザ光４の射出位置のｚ
方向における調整値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ方向に
おける調整角度Δθおよびレーザ光４の光軸のφ方向に
おける調整角度Δφが算出され、さらに、調整値Δｘ、
Δｚ、ΔθおよびΔφが、それぞれ、第一のステッピン
グモータ７５に与えるべき駆動パルス数Ｐ（ｘ）、第二
のステッピングモータ７６に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（ｚ）、第三のステッピングモータ７７に与えるべき駆
動パルス数Ｐ（θ）および第四のステッピングモータ７
８に与えるべき駆動パルス数Ｐ（φ）に変換されて、第
一のステッピングモータ７５、第二のステッピングモー
タ７６、第三のステッピングモータ７７および第四のス
テッピングモータ７８に出力されるべき駆動信号が生成
され、第一のステッピングモータ７５、第二のステッピ
ングモータ７６、第三のステッピングモータ７７および
第四のステッピングモータ７８に出力され、第一のステ
ッピングモータ７５、第二のステッピングモータ７６、
第三のステッピングモータ７７および第四のステッピン
グモータ７８によって、レーザ光源移動機構５６のｘ方
向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向
回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材６８が、そ
れぞれ、駆動されて、レーザ光源ユニット５５の基体５
４に対するレーザ光源基板５３の位置が調整され、レー
ザ光源基板５３に取り付けられたレーザ励起光源１、２
または３の光軸の角度および射出位置が、所望のよう
に、決定されるから、レーザ光が、レーザ光源のレーザ
射出位置から異なる位置に配置された２つのピンホール
部材のピンホールを通るように、レーザ光源を動かし
て、レーザ光の射出位置および光軸の角度を調整する従
来の方法のように、目視によって、レーザ光の射出位置
および光軸の角度を調整する必要がなく、したがって、
きわめて容易に、レーザ光４の光軸の角度および射出位
置を調整し、所望のように、位置決めすることが可能に
なり、作業性および調整精度を大幅に向上させることが
可能になる。
【０１３４】図７は、本発明の他の好ましい実施態様に
かかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の略上面図で
ある。
かかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の略上面図で
ある。
【０１３５】図７に示されるように、本実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置は、さらに、入射
したレーザ光４の一部を透過し、一部を反射するビーム
スプリッタ８５と、ビームスプリッタ８５によって反射
されたレーザ光４の光路上の第一の基板５１上に配置さ
れた位置検出ダイオード９０とを備えている点を除い
て、図５に示されたレーザ光の光軸調整・位置決め装置
と同一の構成を有している。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置は、さらに、入射
したレーザ光４の一部を透過し、一部を反射するビーム
スプリッタ８５と、ビームスプリッタ８５によって反射
されたレーザ光４の光路上の第一の基板５１上に配置さ
れた位置検出ダイオード９０とを備えている点を除い
て、図５に示されたレーザ光の光軸調整・位置決め装置
と同一の構成を有している。
【０１３６】図８は、本発明の他の好ましい実施態様に
かかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制
御系、駆動系、入力系および表示系のブロックダイアグ
ラムである。
かかるレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制
御系、駆動系、入力系および表示系のブロックダイアグ
ラムである。
【０１３７】図８に示されるように、本実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系は、位置検出ダイオー
ド６０に加えて、位置検出ダイオード９０が設けられ、
第一のステッピングモータ７５、第二のステッピングモ
ータ７６、第三のステッピングモータ７７および第四の
ステッピングモータ７８が設けられておらず、レーザ光
源移動機構５６が、手動によって操作されるように構成
されている点を除いて、図６に示された実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系と同様の構成を有して
いる。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系は、位置検出ダイオー
ド６０に加えて、位置検出ダイオード９０が設けられ、
第一のステッピングモータ７５、第二のステッピングモ
ータ７６、第三のステッピングモータ７７および第四の
ステッピングモータ７８が設けられておらず、レーザ光
源移動機構５６が、手動によって操作されるように構成
されている点を除いて、図６に示された実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系と同様の構成を有して
いる。
【０１３８】図７に示されるように、位置検出ダイオー
ド９０は、ビームスプリッタ８５に対して、図５に示さ
れた実施態様における位置Ｂに位置する位置検出ダイオ
ード６０と光学的に共役な位置Ｃに設けられている。
ド９０は、ビームスプリッタ８５に対して、図５に示さ
れた実施態様における位置Ｂに位置する位置検出ダイオ
ード６０と光学的に共役な位置Ｃに設けられている。
【０１３９】したがって、位置検出ダイオード６０は、
位置Ａに固定され、位置検出ダイオード９０は、位置Ｃ
に固定されているから、位置検出ダイオード６０によっ
て受光され、ＣＲＴ８０の画面上に表示されたレーザ光
４の受光位置と、位置検出ダイオード９０によって受光
され、ＣＲＴ８０の画面上に表示されたレーザ光４の受
光位置とを観察しつつ、手動により、レーザ光源移動機
構５６を操作することによって、きわめて容易に、位置
検出ダイオード６０により受光されたレーザ光４の受光
位置を、位置検出ダイオード６０の中心と合致させると
ともに、位置検出ダイオード９０により受光されたレー
ザ光４の受光位置を、位置検出ダイオード９０の中心と
合致させて、レーザ光４の光軸の角度および射出位置を
調整し、位置決めすることが可能になる。
位置Ａに固定され、位置検出ダイオード９０は、位置Ｃ
に固定されているから、位置検出ダイオード６０によっ
て受光され、ＣＲＴ８０の画面上に表示されたレーザ光
４の受光位置と、位置検出ダイオード９０によって受光
され、ＣＲＴ８０の画面上に表示されたレーザ光４の受
光位置とを観察しつつ、手動により、レーザ光源移動機
構５６を操作することによって、きわめて容易に、位置
検出ダイオード６０により受光されたレーザ光４の受光
位置を、位置検出ダイオード６０の中心と合致させると
ともに、位置検出ダイオード９０により受光されたレー
ザ光４の受光位置を、位置検出ダイオード９０の中心と
合致させて、レーザ光４の光軸の角度および射出位置を
調整し、位置決めすることが可能になる。
【０１４０】しかしながら、ビームスプリッタ８５が介
在することによって、レーザ光４の光軸がずれることが
あり、したがって、位置検出ダイオード９０を、ビーム
スプリッタ８５に対して、図５に示された実施態様にお
ける位置Ｂに位置する位置検出ダイオード６０と光学的
に共役な位置Ｃに固定した場合にも、位置Ｂに位置する
位置検出ダイオード６０が受光するレーザ光４の受光位
置と、位置検出ダイオード９０が受光するレーザ光４の
受光位置とが合致しない場合がある。
在することによって、レーザ光４の光軸がずれることが
あり、したがって、位置検出ダイオード９０を、ビーム
スプリッタ８５に対して、図５に示された実施態様にお
ける位置Ｂに位置する位置検出ダイオード６０と光学的
に共役な位置Ｃに固定した場合にも、位置Ｂに位置する
位置検出ダイオード６０が受光するレーザ光４の受光位
置と、位置検出ダイオード９０が受光するレーザ光４の
受光位置とが合致しない場合がある。
【０１４１】そこで、本実施態様においては、あらかじ
め、位置検出ダイオード６０が、ミラー６１に向け、ス
ライドレール５７に沿って、スライドされ、ｚ軸座標が
ｚ１となる位置Ｂに位置決めされた後、レーザ光源基板
５３に取り付けられたレーザ励起光源１、２または３が
オンされる。
め、位置検出ダイオード６０が、ミラー６１に向け、ス
ライドレール５７に沿って、スライドされ、ｚ軸座標が
ｚ１となる位置Ｂに位置決めされた後、レーザ光源基板
５３に取り付けられたレーザ励起光源１、２または３が
オンされる。
【０１４２】レーザ励起光源１、２または３から発せら
れたレーザ光４は、ミラー６１によって反射されて、ビ
ームスプリッタ８５に入射し、その一部は、ビームスプ
リッタ８５によって反射されて、位置Ｃに位置している
位置検出ダイオード９０によって受光され、一部は、ビ
ームスプリッタ８５を透過して、位置Ｂに位置している
位置検出ダイオード６０によって受光されて、それぞ
れ、アナログ受光位置座標データが生成される。
れたレーザ光４は、ミラー６１によって反射されて、ビ
ームスプリッタ８５に入射し、その一部は、ビームスプ
リッタ８５によって反射されて、位置Ｃに位置している
位置検出ダイオード９０によって受光され、一部は、ビ
ームスプリッタ８５を透過して、位置Ｂに位置している
位置検出ダイオード６０によって受光されて、それぞ
れ、アナログ受光位置座標データが生成される。
【０１４３】位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０によって生成されたアナログ受光位置座標
データは、Ａ／Ｄ変換器７０によって、それぞれ、ディ
ジタル化され、データ処理手段７１に入力される。
イオード９０によって生成されたアナログ受光位置座標
データは、Ａ／Ｄ変換器７０によって、それぞれ、ディ
ジタル化され、データ処理手段７１に入力される。
【０１４４】位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０によって生成されたディジタル受光位置座
標データが入力されると、データ処理手段７１は、入力
されたディジタル受光位置座標データに基づいて、位置
検出ダイオード６０および位置検出ダイオード９０によ
って受光されたレーザ光４の受光位置を、ＣＲＴ８０の
画面上に表示するとともに、位置検出ダイオード６０に
よって生成されたディジタル受光位置座標データのθ方
向におけるθ０、レーザ光４の光軸のφ方向における角
度φ０、レーザ光４の射出位置のｘ座標値ｘ０およびレ
ーザ光４の射出位置のｚ座標値ｚ０に対する位置検出ダ
イオード９０によって生成されたディジタル受光位置座
標データのθ方向におけるθ１、レーザ光４の光軸のφ
方向における角度φ１、レーザ光４の射出位置のｘ座標
値ｘ１およびレーザ光４の射出位置のｚ座標値ｚ１の偏
倚をδθ、δφ、δｘおよびδｚを、それぞれ、算出
し、ディジタル受光位置座標補正データとして、メモリ
７２に記憶させる。
イオード９０によって生成されたディジタル受光位置座
標データが入力されると、データ処理手段７１は、入力
されたディジタル受光位置座標データに基づいて、位置
検出ダイオード６０および位置検出ダイオード９０によ
って受光されたレーザ光４の受光位置を、ＣＲＴ８０の
画面上に表示するとともに、位置検出ダイオード６０に
よって生成されたディジタル受光位置座標データのθ方
向におけるθ０、レーザ光４の光軸のφ方向における角
度φ０、レーザ光４の射出位置のｘ座標値ｘ０およびレ
ーザ光４の射出位置のｚ座標値ｚ０に対する位置検出ダ
イオード９０によって生成されたディジタル受光位置座
標データのθ方向におけるθ１、レーザ光４の光軸のφ
方向における角度φ１、レーザ光４の射出位置のｘ座標
値ｘ１およびレーザ光４の射出位置のｚ座標値ｚ１の偏
倚をδθ、δφ、δｘおよびδｚを、それぞれ、算出
し、ディジタル受光位置座標補正データとして、メモリ
７２に記憶させる。
【０１４５】こうして、ディジタル受光位置座標補正デ
ータが算出され、メモリ７２に記憶されると、レーザ励
起光源１、２または３がオフされ、位置検出ダイオード
６０が、ミラー６１から離間する方向に、スライドレー
ル５７に沿って、スライドされ、ｚ軸座標がｚ２となる
位置Ａに固定される。
ータが算出され、メモリ７２に記憶されると、レーザ励
起光源１、２または３がオフされ、位置検出ダイオード
６０が、ミラー６１から離間する方向に、スライドレー
ル５７に沿って、スライドされ、ｚ軸座標がｚ２となる
位置Ａに固定される。
【０１４６】位置検出ダイオード６０が位置Ａに固定さ
れると、再び、レーザ励起光源１、２または３がオンさ
れ、レーザ光４が発せられる。
れると、再び、レーザ励起光源１、２または３がオンさ
れ、レーザ光４が発せられる。
【０１４７】レーザ光４は、ミラー６１によって反射さ
れて、ビームスプリッタ８５に入射し、その一部は、ビ
ームスプリッタ８５によって反射されて、位置Ｃに位置
している位置検出ダイオード９０によって受光され、一
部は、ビームスプリッタ８５を透過し、位置Ａに位置し
ている位置検出ダイオード６０によって受光されて、そ
れぞれ、アナログ受光位置座標データが生成される。
れて、ビームスプリッタ８５に入射し、その一部は、ビ
ームスプリッタ８５によって反射されて、位置Ｃに位置
している位置検出ダイオード９０によって受光され、一
部は、ビームスプリッタ８５を透過し、位置Ａに位置し
ている位置検出ダイオード６０によって受光されて、そ
れぞれ、アナログ受光位置座標データが生成される。
【０１４８】位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０によって生成されたアナログ受光位置座標
データは、Ａ／Ｄ変換器７０によって、それぞれ、ディ
ジタル化され、データ処理手段７１に入力される。
イオード９０によって生成されたアナログ受光位置座標
データは、Ａ／Ｄ変換器７０によって、それぞれ、ディ
ジタル化され、データ処理手段７１に入力される。
【０１４９】位置検出ダイオード６０によって生成され
たディジタル受光位置座標データおよび位置検出ダイオ
ード９０によって生成されたディジタル受光位置座標デ
ータが入力されると、データ処理手段７１は、メモリ７
２に記憶されているディジタル受光位置座標補正データ
を読み出して、位置検出ダイオード９０によって生成さ
れたディジタル受光位置座標データを補正し、位置検出
ダイオード６０によって生成されたディジタル受光位置
座標データおよび位置検出ダイオード９０によって生成
され、補正されたディジタル受光位置座標データに基づ
いて、位置検出ダイオード６０および位置検出ダイオー
ド９０によって受光されたレーザ光４の受光位置を、そ
れぞれ、ＣＲＴ８０の画面上に表示する。
たディジタル受光位置座標データおよび位置検出ダイオ
ード９０によって生成されたディジタル受光位置座標デ
ータが入力されると、データ処理手段７１は、メモリ７
２に記憶されているディジタル受光位置座標補正データ
を読み出して、位置検出ダイオード９０によって生成さ
れたディジタル受光位置座標データを補正し、位置検出
ダイオード６０によって生成されたディジタル受光位置
座標データおよび位置検出ダイオード９０によって生成
され、補正されたディジタル受光位置座標データに基づ
いて、位置検出ダイオード６０および位置検出ダイオー
ド９０によって受光されたレーザ光４の受光位置を、そ
れぞれ、ＣＲＴ８０の画面上に表示する。
【０１５０】こうして、ＣＲＴ８０の画面上に、位置検
出ダイオード６０および位置検出ダイオード９０によっ
て受光されたレーザ光４の受光位置が、それぞれ表示さ
れると、オペレータにより、レーザ光源移動機構５６の
ｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ
方向回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材６８が
マニュアル操作されて、レーザ光源ユニット５５の基体
５４に対するレーザ光源基板５３の位置が調整される。
出ダイオード６０および位置検出ダイオード９０によっ
て受光されたレーザ光４の受光位置が、それぞれ表示さ
れると、オペレータにより、レーザ光源移動機構５６の
ｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ
方向回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材６８が
マニュアル操作されて、レーザ光源ユニット５５の基体
５４に対するレーザ光源基板５３の位置が調整される。
【０１５１】オペレータによって、レーザ光源移動機構
５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６
６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材
６８がマニュアルが操作されると、レーザ励起光源１、
２または３の異なる射出位置から、異なる光軸角度で、
レーザ光４は発せられ、ミラー６１およびビームスプリ
ッタ８５を介して、位置Ａに位置している位置検出ダイ
オード６０および位置Ｃに位置している位置検出ダイオ
ード９０によって、同時に受光され、Ａ／Ｄ変換器７０
によってディジタル化されて、ディジタル受光位置座標
データが生成され、データ処理手段７１によって、ディ
ジタル受光位置座標データに基づき、位置検出ダイオー
ド６０および位置検出ダイオード９０によって受光され
たレーザ光４の受光位置が、それぞれ、ＣＲＴ８０の画
面上に表示される。
５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６
６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向回転調整部材
６８がマニュアルが操作されると、レーザ励起光源１、
２または３の異なる射出位置から、異なる光軸角度で、
レーザ光４は発せられ、ミラー６１およびビームスプリ
ッタ８５を介して、位置Ａに位置している位置検出ダイ
オード６０および位置Ｃに位置している位置検出ダイオ
ード９０によって、同時に受光され、Ａ／Ｄ変換器７０
によってディジタル化されて、ディジタル受光位置座標
データが生成され、データ処理手段７１によって、ディ
ジタル受光位置座標データに基づき、位置検出ダイオー
ド６０および位置検出ダイオード９０によって受光され
たレーザ光４の受光位置が、それぞれ、ＣＲＴ８０の画
面上に表示される。
【０１５２】したがって、オペレータは、ＣＲＴ８０の
画面上に表示された位置検出ダイオード６０および位置
検出ダイオード９０によって受光されたレーザ光４の受
光位置を観察しつつ、リアルタイムに、レーザ光４の射
出位置および光軸の角度を調整することができる。
画面上に表示された位置検出ダイオード６０および位置
検出ダイオード９０によって受光されたレーザ光４の受
光位置を観察しつつ、リアルタイムに、レーザ光４の射
出位置および光軸の角度を調整することができる。
【０１５３】こうして、ＣＲＴ８０の画面上に表示され
た位置検出ダイオード６０および位置検出ダイオード９
０によって受光されたレーザ光４の受光位置が、それぞ
れ、位置検出ダイオード６０および位置検出ダイオード
９０の中心に合致すると、レーザ光４の射出位置および
光軸の角度の調整が完了し、レーザ光４の射出位置およ
び光軸の角度が決定される。
た位置検出ダイオード６０および位置検出ダイオード９
０によって受光されたレーザ光４の受光位置が、それぞ
れ、位置検出ダイオード６０および位置検出ダイオード
９０の中心に合致すると、レーザ光４の射出位置および
光軸の角度の調整が完了し、レーザ光４の射出位置およ
び光軸の角度が決定される。
【０１５４】こうして、レーザ励起光源１、２または３
の光軸の角度および射出位置が決定されると、レーザ光
源基板５３が、ねじ（図示せず）などにより、レーザ光
源ユニット５５の基体５４に固定され、レーザ光源ユニ
ット５５が、スキャナにセットされる。ここに、スキャ
ナおよびレーザ光源ユニット５５には、基準ピン（図示
せず）などが設けられ、スキャナに対して、レーザ光源
ユニット５５がつねに同一の位置にセットされるように
構成されているから、所望のように、レーザ光４の光軸
の角度および射出位置を調整し、位置決めすることが可
能になる。
の光軸の角度および射出位置が決定されると、レーザ光
源基板５３が、ねじ（図示せず）などにより、レーザ光
源ユニット５５の基体５４に固定され、レーザ光源ユニ
ット５５が、スキャナにセットされる。ここに、スキャ
ナおよびレーザ光源ユニット５５には、基準ピン（図示
せず）などが設けられ、スキャナに対して、レーザ光源
ユニット５５がつねに同一の位置にセットされるように
構成されているから、所望のように、レーザ光４の光軸
の角度および射出位置を調整し、位置決めすることが可
能になる。
【０１５５】本実施態様によれば、ビームスプリッタ８
５に対して、位置Ｂに位置する位置検出ダイオード６０
と光学的に共役な位置Ｃに、位置検出ダイオード９０を
固定し、位置検出ダイオード６０を位置Ａに固定してい
るから、位置検出ダイオード９０および位置Ａに位置す
る位置検出ダイオード６０によって、レーザ光４を同時
に受光して、位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０が受光したレーザ光４の受光位置を、リア
ルタイムに、ＣＲＴ８０の画面上に表示することがで
き、したがって、し、オペレータは、ＣＲＴ８０の画面
上に表示された位置検出ダイオード６０および位置検出
ダイオード９０が受光したレーザ光４の受光位置を観察
しつつ、レーザ光４の射出位置および光軸の角度を調整
することが可能になるから、レーザ光が、レーザ光源の
レーザ射出位置から異なる位置に配置された２つのピン
ホール部材のピンホールを通るように、レーザ光源を動
かして、レーザ光の射出位置および光軸の角度を調整す
る従来の方法のように、目視によって、レーザ光の射出
位置および光軸の角度を調整する必要がなく、したがっ
て、きわめて容易に、レーザ光４の光軸の角度および射
出位置を調整し、位置決めすることが可能になり、作業
性および調整精度を大幅に向上させることが可能にな
る。
５に対して、位置Ｂに位置する位置検出ダイオード６０
と光学的に共役な位置Ｃに、位置検出ダイオード９０を
固定し、位置検出ダイオード６０を位置Ａに固定してい
るから、位置検出ダイオード９０および位置Ａに位置す
る位置検出ダイオード６０によって、レーザ光４を同時
に受光して、位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０が受光したレーザ光４の受光位置を、リア
ルタイムに、ＣＲＴ８０の画面上に表示することがで
き、したがって、し、オペレータは、ＣＲＴ８０の画面
上に表示された位置検出ダイオード６０および位置検出
ダイオード９０が受光したレーザ光４の受光位置を観察
しつつ、レーザ光４の射出位置および光軸の角度を調整
することが可能になるから、レーザ光が、レーザ光源の
レーザ射出位置から異なる位置に配置された２つのピン
ホール部材のピンホールを通るように、レーザ光源を動
かして、レーザ光の射出位置および光軸の角度を調整す
る従来の方法のように、目視によって、レーザ光の射出
位置および光軸の角度を調整する必要がなく、したがっ
て、きわめて容易に、レーザ光４の光軸の角度および射
出位置を調整し、位置決めすることが可能になり、作業
性および調整精度を大幅に向上させることが可能にな
る。
【０１５６】また、ビームスプリッタ８５が介在するこ
とによって、レーザ光４の光軸がずれ、したがって、位
置検出ダイオード９０を、ビームスプリッタ８５に対し
て、位置Ｂに位置する位置検出ダイオード６０と光学的
に共役な位置Ｃに固定した場合にも、位置Ｂに位置する
位置検出ダイオード６０が受光するレーザ光４の受光位
置と、位置検出ダイオード９０が受光するレーザ光４の
受光位置とが合致しない場合があるが、本実施態様によ
れば、あらかじめ、位置検出ダイオード６０を位置Ｂに
位置させて、位置Ｂに位置している位置検出ダイオード
６０および位置Ｃに位置している位置検出ダイオード９
０によって、レーザ光４を受光させ、Ａ／Ｄ変換器７０
によりディジタル化して、ディジタル受光位置座標デー
タを生成し、位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０によって生成されたディジタル受光位置座
標データに基づいて、位置検出ダイオード６０によって
生成されたディジタル受光位置座標データのθ方向にお
けるθ０、レーザ光４の光軸のφ方向における角度φ
０、レーザ光４の射出位置のｘ座標値ｘ０およびレーザ
光４の射出位置のｚ座標値ｚ０に対する位置検出ダイオ
ード９０によって生成されたディジタル受光位置座標デ
ータのθ方向におけるθ１、レーザ光４の光軸のφ方向
における角度φ１、レーザ光４の射出位置のｘ座標値ｘ
１およびレーザ光４の射出位置のｚ座標値ｚ１の偏倚を
δθ、δφ、δｘおよびδｚを、それぞれ算出し、ディ
ジタル受光位置座標補正データとして、メモリ７２に記
憶させ、レーザ光４の光軸の角度および射出位置を調整
する際に、位置Ｃに位置している位置検出ダイオード９
０によって生成されたディジタル受光位置座標データ
を、メモリ７２に記憶されたディジタル受光位置座標補
正データを用いて、補正し、補正されたディジタル受光
位置座標データに基づき、位置検出ダイオード９０が受
光したレーザ光４の受光位置を、ＣＲＴ８０の画面上に
表示するように構成されているから、きわめて簡易に、
かつ、効率的に、しかも、きわめて高い精度で、所望の
ように、レーザ光４の射出位置および光軸の角度を調整
し、位置決めすることが可能になる。
とによって、レーザ光４の光軸がずれ、したがって、位
置検出ダイオード９０を、ビームスプリッタ８５に対し
て、位置Ｂに位置する位置検出ダイオード６０と光学的
に共役な位置Ｃに固定した場合にも、位置Ｂに位置する
位置検出ダイオード６０が受光するレーザ光４の受光位
置と、位置検出ダイオード９０が受光するレーザ光４の
受光位置とが合致しない場合があるが、本実施態様によ
れば、あらかじめ、位置検出ダイオード６０を位置Ｂに
位置させて、位置Ｂに位置している位置検出ダイオード
６０および位置Ｃに位置している位置検出ダイオード９
０によって、レーザ光４を受光させ、Ａ／Ｄ変換器７０
によりディジタル化して、ディジタル受光位置座標デー
タを生成し、位置検出ダイオード６０および位置検出ダ
イオード９０によって生成されたディジタル受光位置座
標データに基づいて、位置検出ダイオード６０によって
生成されたディジタル受光位置座標データのθ方向にお
けるθ０、レーザ光４の光軸のφ方向における角度φ
０、レーザ光４の射出位置のｘ座標値ｘ０およびレーザ
光４の射出位置のｚ座標値ｚ０に対する位置検出ダイオ
ード９０によって生成されたディジタル受光位置座標デ
ータのθ方向におけるθ１、レーザ光４の光軸のφ方向
における角度φ１、レーザ光４の射出位置のｘ座標値ｘ
１およびレーザ光４の射出位置のｚ座標値ｚ１の偏倚を
δθ、δφ、δｘおよびδｚを、それぞれ算出し、ディ
ジタル受光位置座標補正データとして、メモリ７２に記
憶させ、レーザ光４の光軸の角度および射出位置を調整
する際に、位置Ｃに位置している位置検出ダイオード９
０によって生成されたディジタル受光位置座標データ
を、メモリ７２に記憶されたディジタル受光位置座標補
正データを用いて、補正し、補正されたディジタル受光
位置座標データに基づき、位置検出ダイオード９０が受
光したレーザ光４の受光位置を、ＣＲＴ８０の画面上に
表示するように構成されているから、きわめて簡易に、
かつ、効率的に、しかも、きわめて高い精度で、所望の
ように、レーザ光４の射出位置および光軸の角度を調整
し、位置決めすることが可能になる。
【０１５７】以上のようにして、レーザ励起光源１、
２、３のレーザ光を発する射出位置および光軸が調整さ
れ、位置決めされたスキャナは、サンプル２２が、スラ
イドガラス板を担体として用いたマイクロアレイの場合
には、以下のようにして、レーザ光４によって、サンプ
ル２２の全面を走査して、試料を選択的に標識している
蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された蛍光２５を
光電的に検出して、生化学解析用のディジタル画像デー
タを生成する。
２、３のレーザ光を発する射出位置および光軸が調整さ
れ、位置決めされたスキャナは、サンプル２２が、スラ
イドガラス板を担体として用いたマイクロアレイの場合
には、以下のようにして、レーザ光４によって、サンプ
ル２２の全面を走査して、試料を選択的に標識している
蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された蛍光２５を
光電的に検出して、生化学解析用のディジタル画像デー
タを生成する。
【０１５８】サンプル２２であるマイクロアレイを保持
したサンプルキャリア２１が、サンプルステージ２０に
載置されると、キャリアセンサ４０によって、サンプル
キャリア２１の種類が検出され、キャリア検出信号がコ
ントロールユニット４５に出力される。
したサンプルキャリア２１が、サンプルステージ２０に
載置されると、キャリアセンサ４０によって、サンプル
キャリア２１の種類が検出され、キャリア検出信号がコ
ントロールユニット４５に出力される。
【０１５９】キャリアセンサ４０からキャリア検出信号
を受けると、コントロールユニット４５は、切り換え部
材モータ４２に駆動信号を出力して、共焦点切り換え部
材３１を、キャリア検出信号にしたがって、最も径の小
さいピンホール３２ａが光路内に位置するように、移動
させる。
を受けると、コントロールユニット４５は、切り換え部
材モータ４２に駆動信号を出力して、共焦点切り換え部
材３１を、キャリア検出信号にしたがって、最も径の小
さいピンホール３２ａが光路内に位置するように、移動
させる。
【０１６０】次いで、オペレータによって、標識物質で
ある蛍光物質の種類およびスタート信号が、キーボード
４３に入力されると、キーボード４３から指示信号がコ
ントロールユニット４５に出力される。
ある蛍光物質の種類およびスタート信号が、キーボード
４３に入力されると、キーボード４３から指示信号がコ
ントロールユニット４５に出力される。
【０１６１】たとえば、蛍光物質の種類として、Ｃｙ−
５（登録商標）が入力されると、コントロールユニット
４５は、入力された指示信号にしたがって、フィルタユ
ニットモータ４１に駆動信号を出力して、フィルタユニ
ット２７を移動させ、６４０ｎｍの波長の光をカット
し、６４０ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質を有
するフィルタ２８ａを光路内に位置させるとともに、第
１のレーザ励起光源１に駆動信号をオンさせる。
５（登録商標）が入力されると、コントロールユニット
４５は、入力された指示信号にしたがって、フィルタユ
ニットモータ４１に駆動信号を出力して、フィルタユニ
ット２７を移動させ、６４０ｎｍの波長の光をカット
し、６４０ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質を有
するフィルタ２８ａを光路内に位置させるとともに、第
１のレーザ励起光源１に駆動信号をオンさせる。
【０１６２】第１のレーザ励起光源１から発せられたレ
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。
【０１６３】ここに、サンプル２２がマイクロアレイの
場合には、第１のレーザ励起光源１から発せられるレー
ザ光４の光軸の角度および射出位置を、きわめて高精度
に位置決めすることが要求されるが、スキャナの第１の
レーザ励起光源１から発せられるレーザ光４の光軸の角
度および射出位置は、位置検出ダイオード６０、７１を
用いて、調整され、位置決めされているので、レーザ光
４は、第１のレーザ励起光源１から、所望の光路に沿っ
て、光学ヘッド１５に導かれる。
場合には、第１のレーザ励起光源１から発せられるレー
ザ光４の光軸の角度および射出位置を、きわめて高精度
に位置決めすることが要求されるが、スキャナの第１の
レーザ励起光源１から発せられるレーザ光４の光軸の角
度および射出位置は、位置検出ダイオード６０、７１を
用いて、調整され、位置決めされているので、レーザ光
４は、第１のレーザ励起光源１から、所望の光路に沿っ
て、光学ヘッド１５に導かれる。
【０１６４】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
であるマイクロアレイに入射する。
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
であるマイクロアレイに入射する。
【０１６５】サンプルステージ２０は、走査機構（図示
せず）により、図１において、Ｘ方向およびＹ方向に移
動されるため、レーザ光４によって、サンプルキャリア
２１にセットされたマイクロアレイの全面が走査され
る。
せず）により、図１において、Ｘ方向およびＹ方向に移
動されるため、レーザ光４によって、サンプルキャリア
２１にセットされたマイクロアレイの全面が走査され
る。
【０１６６】レーザ光４の照射を受けると、プローブＤ
ＮＡを標識している蛍光色素、たとえば、Ｃｙ−５が励
起され、蛍光２５が放出される。マイクロアレイの担体
として、スライドガラス板が用いられている場合には、
蛍光色素はスライドガラス板の表面にのみ分布している
ので、蛍光２５もスライドガラス板の表面からのみ、発
せられる。
ＮＡを標識している蛍光色素、たとえば、Ｃｙ−５が励
起され、蛍光２５が放出される。マイクロアレイの担体
として、スライドガラス板が用いられている場合には、
蛍光色素はスライドガラス板の表面にのみ分布している
ので、蛍光２５もスライドガラス板の表面からのみ、発
せられる。
【０１６７】スライドガラス板の表面から発せられた蛍
光２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明
きミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７
に入射する。
光２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明
きミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７
に入射する。
【０１６８】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ａ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５はフィルタ２８ａに入射し、６４０ｎｍの波長の光が
カットされ、６４０ｎｍよりも波長の長い光のみが透過
される。
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５はフィルタ２８ａに入射し、６４０ｎｍの波長の光が
カットされ、６４０ｎｍよりも波長の長い光のみが透過
される。
【０１６９】フィルタ２８ａを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、結像
される。
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、結像
される。
【０１７０】レーザ光４の照射に先立って、共焦点切り
換え部材３１が、最も径の小さいピンホール３２ａが光
路内に位置するように移動されており、ピンホール３２
ａの設定位置は、位置検出ダイオード５０が検出した６
４０ｎｍの波長のレーザ光４の受光位置６１、５３２ｎ
ｍの波長のレーザ光４の受光位置６２および４７３ｎｍ
の波長のレーザ光４の受光位置６３の中央に相当する中
央位置６５が、ピンホール３２ａの中心と合致するよう
に設定されているため、蛍光２５はピンホール３２ａ上
に結像され、フォトマルチプライア３３によって、光電
的に検出されて、アナログデータが生成される。
換え部材３１が、最も径の小さいピンホール３２ａが光
路内に位置するように移動されており、ピンホール３２
ａの設定位置は、位置検出ダイオード５０が検出した６
４０ｎｍの波長のレーザ光４の受光位置６１、５３２ｎ
ｍの波長のレーザ光４の受光位置６２および４７３ｎｍ
の波長のレーザ光４の受光位置６３の中央に相当する中
央位置６５が、ピンホール３２ａの中心と合致するよう
に設定されているため、蛍光２５はピンホール３２ａ上
に結像され、フォトマルチプライア３３によって、光電
的に検出されて、アナログデータが生成される。
【０１７１】このように、共焦点光学系を用いて、スラ
イドガラス板の表面の蛍光色素から発せられた蛍光２５
をフォトマルチプライア３３に導いて、光電的に検出し
ているので、データ中のノイズを最小に抑えることが可
能になる。
イドガラス板の表面の蛍光色素から発せられた蛍光２５
をフォトマルチプライア３３に導いて、光電的に検出し
ているので、データ中のノイズを最小に抑えることが可
能になる。
【０１７２】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
【０１７３】一方、蛍光色素によって、選択的に標識さ
れた変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍光サン
プルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素を励起
し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出して、
生化学解析用のデータを生成する場合には、蛍光色素に
よって、選択的に標識された変性ＤＮＡを含む転写支持
体を担体とした蛍光サンプル２２が保持されたサンプル
キャリア２１が、サンプルステージ２０にセットされ
る。
れた変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍光サン
プルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素を励起
し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出して、
生化学解析用のデータを生成する場合には、蛍光色素に
よって、選択的に標識された変性ＤＮＡを含む転写支持
体を担体とした蛍光サンプル２２が保持されたサンプル
キャリア２１が、サンプルステージ２０にセットされ
る。
【０１７４】こうして、蛍光サンプル２２が保持された
サンプルキャリア２１が、サンプルステージ２０にセッ
トされると、キャリアセンサ４０によって、サンプルキ
ャリア２１の種類が検出され、キャリア検出信号がコン
トロールユニット４５に出力される。
サンプルキャリア２１が、サンプルステージ２０にセッ
トされると、キャリアセンサ４０によって、サンプルキ
ャリア２１の種類が検出され、キャリア検出信号がコン
トロールユニット４５に出力される。
【０１７５】キャリアセンサ４０からキャリア検出信号
を受けると、コントロールユニット４５は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ４２に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、最も径の大きい
ピンホール３２ｃが光路内に位置するように、移動させ
る。
を受けると、コントロールユニット４５は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ４２に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、最も径の大きい
ピンホール３２ｃが光路内に位置するように、移動させ
る。
【０１７６】次いで、オペレータによって、標識物質で
ある蛍光物質の種類およびスタート信号が、キーボード
４３に入力されると、キーボード４３から指示信号がコ
ントロールユニット４５に出力される。
ある蛍光物質の種類およびスタート信号が、キーボード
４３に入力されると、キーボード４３から指示信号がコ
ントロールユニット４５に出力される。
【０１７７】たとえば、試料がローダミンによって標識
されているときは、ローダミンは、５３２ｎｍの波長の
レーザによって、最も効率的に励起することができるか
ら、コントロールユニット４５は第２のレーザ励起光源
２を選択するとともに、フィルタ３２ｂを選択し、フィ
ルタユニットモータ４１に駆動信号を出力して、フィル
タユニット２７を移動させ、５３２ｎｍの波長の光をカ
ットし、５３２ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質
を有するフィルタ２８ｂを、蛍光２５の光路内に位置さ
せる。
されているときは、ローダミンは、５３２ｎｍの波長の
レーザによって、最も効率的に励起することができるか
ら、コントロールユニット４５は第２のレーザ励起光源
２を選択するとともに、フィルタ３２ｂを選択し、フィ
ルタユニットモータ４１に駆動信号を出力して、フィル
タユニット２７を移動させ、５３２ｎｍの波長の光をカ
ットし、５３２ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質
を有するフィルタ２８ｂを、蛍光２５の光路内に位置さ
せる。
【０１７８】次いで、コントロールユニット４５は、第
２のレーザ励起光源２に駆動信号を出力して、オンさせ
る。
２のレーザ励起光源２に駆動信号を出力して、オンさせ
る。
【０１７９】第２のレーザ励起光源２から発せられた５
３２ｎｍの波長のレーザ光４は、コリメータレンズ９に
よって、平行な光とされた後、第１のダイクロイックミ
ラー７に入射して、反射される。
３２ｎｍの波長のレーザ光４は、コリメータレンズ９に
よって、平行な光とされた後、第１のダイクロイックミ
ラー７に入射して、反射される。
【０１８０】第１のダイクロイックミラー７によって反
射されたレーザ光４は、第２のダイクロイックミラー８
を透過し、光学ヘッド１５に入射する。
射されたレーザ光４は、第２のダイクロイックミラー８
を透過し、光学ヘッド１５に入射する。
【０１８１】ここに、スキャナの第２のレーザ励起光源
２から発せられるレーザ光４の光軸の角度および射出位
置は、位置検出ダイオード６０、７１を用いて、調整さ
れ、位置決めされているので、レーザ光４は、第２のレ
ーザ励起光源２から、所望の光路に沿って、光学ヘッド
１５に導かれる。
２から発せられるレーザ光４の光軸の角度および射出位
置は、位置検出ダイオード６０、７１を用いて、調整さ
れ、位置決めされているので、レーザ光４は、第２のレ
ーザ励起光源２から、所望の光路に沿って、光学ヘッド
１５に導かれる。
【０１８２】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされた蛍光サンプル
２２に入射する。
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされた蛍光サンプル
２２に入射する。
【０１８３】サンプルステージ２０は、走査機構（図示
せず）により、図１において、Ｘ方向およびＹ方向に移
動されるため、レーザ光４によって、サンプルキャリア
２１にセットされた蛍光サンプル２２の全面が走査され
る。
せず）により、図１において、Ｘ方向およびＹ方向に移
動されるため、レーザ光４によって、サンプルキャリア
２１にセットされた蛍光サンプル２２の全面が走査され
る。
【０１８４】レーザ光４の照射を受けると、試料を標識
している蛍光色素、たとえば、ローダミンが励起され、
蛍光２５が放出される。蛍光サンプル２２の担体とし
て、転写支持体が用いられている場合には、蛍光色素
は、転写支持体の深さ方向に分布しているため、転写支
持体の深さ方向の所定の範囲から、蛍光２５が発せら
れ、発光点の深さ方向の位置も変動する。
している蛍光色素、たとえば、ローダミンが励起され、
蛍光２５が放出される。蛍光サンプル２２の担体とし
て、転写支持体が用いられている場合には、蛍光色素
は、転写支持体の深さ方向に分布しているため、転写支
持体の深さ方向の所定の範囲から、蛍光２５が発せら
れ、発光点の深さ方向の位置も変動する。
【０１８５】転写支持体を担体とした蛍光サンプル２２
から発せられた蛍光２５は、レンズ１９によって、平行
な光とされ、穴明きミラー１８によって反射され、フィ
ルタユニット２７に入射する。
から発せられた蛍光２５は、レンズ１９によって、平行
な光とされ、穴明きミラー１８によって反射され、フィ
ルタユニット２７に入射する。
【０１８６】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｂ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５はフィルタ２８ｂに入射し、５３２ｎｍの波長の光が
カットされ、５３２ｎｍよりも波長の長い光のみが透過
される。
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５はフィルタ２８ｂに入射し、５３２ｎｍの波長の光が
カットされ、５３２ｎｍよりも波長の長い光のみが透過
される。
【０１８７】フィルタ２８ｂを透過した蛍光は、ミラー
２９によって反射され、レンズ３０によって、集光され
るが、蛍光２５は、転写支持体の深さ方向の所定の範囲
から発せられているため、結像はしない。
２９によって反射され、レンズ３０によって、集光され
るが、蛍光２５は、転写支持体の深さ方向の所定の範囲
から発せられているため、結像はしない。
【０１８８】レーザ光４の照射に先立って、共焦点切り
換え部材３１が、最も径の大きいピンホール３２ｃが光
路内に位置するように移動されているため、蛍光２５は
最も径の大きいピンホール３２ｃを通過して、フォトマ
ルチプライア３３によって、光電的に検出されて、アナ
ログデータが生成される。したがって、スライドガラス
板を担体としたマイクロアレイの表面の蛍光色素から発
せられた蛍光２５を、高いＳ／Ｎ比で、検出するため
に、共焦点光学系を用いているにもかかわらず、転写支
持体の深さ方向の所定の範囲から発せられた蛍光２５も
高い信号強度で検出することが可能になる。
換え部材３１が、最も径の大きいピンホール３２ｃが光
路内に位置するように移動されているため、蛍光２５は
最も径の大きいピンホール３２ｃを通過して、フォトマ
ルチプライア３３によって、光電的に検出されて、アナ
ログデータが生成される。したがって、スライドガラス
板を担体としたマイクロアレイの表面の蛍光色素から発
せられた蛍光２５を、高いＳ／Ｎ比で、検出するため
に、共焦点光学系を用いているにもかかわらず、転写支
持体の深さ方向の所定の範囲から発せられた蛍光２５も
高い信号強度で検出することが可能になる。
【０１８９】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
【０１９０】これに対して、放射性標識物質によって選
択的に標識された試料の数多くのスポットが形成された
メンブレンフィルタなどの担体を、輝尽性蛍光体を含む
輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートと密着
させて、輝尽性蛍光体層を露光して得た放射性標識物質
の位置情報が記録された蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍
光体層を、レーザ光４によって走査して、輝尽性蛍光体
を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光を光電的
に検出して、生化学解析用のデータを生成する場合に
は、輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートを
保持したサンプルキャリア２１が、サンプルステージ２
０にセットされる。
択的に標識された試料の数多くのスポットが形成された
メンブレンフィルタなどの担体を、輝尽性蛍光体を含む
輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートと密着
させて、輝尽性蛍光体層を露光して得た放射性標識物質
の位置情報が記録された蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍
光体層を、レーザ光４によって走査して、輝尽性蛍光体
を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光を光電的
に検出して、生化学解析用のデータを生成する場合に
は、輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートを
保持したサンプルキャリア２１が、サンプルステージ２
０にセットされる。
【０１９１】輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体
シートを保持したサンプルキャリア２１が、サンプルス
テージ２０にセットされると、キャリアセンサ４０によ
り、サンプルキャリア２１の種類が検出され、キャリア
検出信号がコントロールユニット４５に出力される。
シートを保持したサンプルキャリア２１が、サンプルス
テージ２０にセットされると、キャリアセンサ４０によ
り、サンプルキャリア２１の種類が検出され、キャリア
検出信号がコントロールユニット４５に出力される。
【０１９２】キャリアセンサ４０からキャリア検出信号
を受けると、コントロールユニット４５は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ４２に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、中間の径を有す
るピンホール３２ｂが光路内に位置するように、移動さ
せる。
を受けると、コントロールユニット４５は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ４２に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、中間の径を有す
るピンホール３２ｂが光路内に位置するように、移動さ
せる。
【０１９３】さらに、コントロールユニット４５は、入
力された指示信号にしたがって、フィルタユニットモー
タ４１に駆動信号を出力して、フィルタユニット２７を
移動させ、輝尽性蛍光体から発光される輝尽光の波長域
の光のみを透過し、６４０ｎｍの波長の光をカットする
性質を有するフィルタ２８ｄを光路内に位置させる。
力された指示信号にしたがって、フィルタユニットモー
タ４１に駆動信号を出力して、フィルタユニット２７を
移動させ、輝尽性蛍光体から発光される輝尽光の波長域
の光のみを透過し、６４０ｎｍの波長の光をカットする
性質を有するフィルタ２８ｄを光路内に位置させる。
【０１９４】次いで、コントロールユニット４５は、第
１のレーザ励起光源１に駆動信号を出力して、オンさせ
る。
１のレーザ励起光源１に駆動信号を出力して、オンさせ
る。
【０１９５】第１のレーザ励起光源１から発せられたレ
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。
【０１９６】ここに、スキャナの第１のレーザ励起光源
１から発せられるレーザ光４の光軸の角度および射出位
置は、位置検出ダイオード６０、７１を用いて、調整さ
れ、位置決めされているので、レーザ光４は、第１のレ
ーザ励起光源１から、所望の光路に沿って、光学ヘッド
１５に導かれる。
１から発せられるレーザ光４の光軸の角度および射出位
置は、位置検出ダイオード６０、７１を用いて、調整さ
れ、位置決めされているので、レーザ光４は、第１のレ
ーザ励起光源１から、所望の光路に沿って、光学ヘッド
１５に導かれる。
【０１９７】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
である蓄積性蛍光体シートに入射する。
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
である蓄積性蛍光体シートに入射する。
【０１９８】サンプルステージ２０は、走査機構（図示
せず）により、図１において、Ｘ方向およびＹ方向に移
動されるため、レーザ光４によって、サンプルキャリア
２１にセットされたサンプル２２である蓄積性蛍光体シ
ートの輝尽性蛍光体層の全面が走査される。
せず）により、図１において、Ｘ方向およびＹ方向に移
動されるため、レーザ光４によって、サンプルキャリア
２１にセットされたサンプル２２である蓄積性蛍光体シ
ートの輝尽性蛍光体層の全面が走査される。
【０１９９】レーザ光４の照射を受けると、輝尽性蛍光
体層に含まれている輝尽性蛍光体が励起され、輝尽光２
５が放出される。蓄積性蛍光体シートの場合には、輝尽
性蛍光体は輝尽性蛍光体層中に含まれており、ある程
度、輝尽性蛍光体層の深さ方向に分布しているため、輝
尽性蛍光体層の深さ方向の所定の範囲から、輝尽光が発
せられ、発光点の深さ方向の位置も変動する。しかしな
がら、輝尽性蛍光体層は薄いため、転写支持体の場合ほ
ど、発光点は深さ方向に分布してはいない。
体層に含まれている輝尽性蛍光体が励起され、輝尽光２
５が放出される。蓄積性蛍光体シートの場合には、輝尽
性蛍光体は輝尽性蛍光体層中に含まれており、ある程
度、輝尽性蛍光体層の深さ方向に分布しているため、輝
尽性蛍光体層の深さ方向の所定の範囲から、輝尽光が発
せられ、発光点の深さ方向の位置も変動する。しかしな
がら、輝尽性蛍光体層は薄いため、転写支持体の場合ほ
ど、発光点は深さ方向に分布してはいない。
【０２００】輝尽性蛍光体層から放出された輝尽光２５
は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明きミラ
ー１８によって反射されて、フィルタユニット２７に入
射する。
は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明きミラ
ー１８によって反射されて、フィルタユニット２７に入
射する。
【０２０１】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｄ
が光路内に位置するように移動されているため、輝尽光
２５はフィルタ２８ｄに入射し、６４０ｎｍの波長の光
がカットされ、輝尽性蛍光体から発光される輝尽光の波
長域の光のみが透過される。
が光路内に位置するように移動されているため、輝尽光
２５はフィルタ２８ｄに入射し、６４０ｎｍの波長の光
がカットされ、輝尽性蛍光体から発光される輝尽光の波
長域の光のみが透過される。
【０２０２】フィルタ２８ｄを透過した輝尽光２５は、
ミラー２９によって反射され、レンズ３０によって、集
光されるが、輝尽光は、蓄積性蛍光体シートに形成され
た輝尽性蛍光体層の深さ方向の所定の範囲から発せられ
ているため、結像はしない。
ミラー２９によって反射され、レンズ３０によって、集
光されるが、輝尽光は、蓄積性蛍光体シートに形成され
た輝尽性蛍光体層の深さ方向の所定の範囲から発せられ
ているため、結像はしない。
【０２０３】レーザ光４の照射に先立って、共焦点切り
換え部材３１が、中間の径を有するピンホール３２ｂが
光路内に位置するように移動されているため、輝尽光は
中間の径を有するピンホール３２ｂを通過して、フォト
マルチプライア３３により、光電的に検出されて、アナ
ログデータが生成される。したがって、スライドガラス
板を担体としたマイクロアレイの表面の蛍光色素から発
せられた蛍光２５を、高いＳ／Ｎ比で、検出するため
に、共焦点光学系を用いているにもかかわらず、蓄積性
蛍光体シートに形成された輝尽性蛍光体層の深さ方向の
所定の範囲から発せられた輝尽光２５も高い信号強度で
検出することが可能になる。
換え部材３１が、中間の径を有するピンホール３２ｂが
光路内に位置するように移動されているため、輝尽光は
中間の径を有するピンホール３２ｂを通過して、フォト
マルチプライア３３により、光電的に検出されて、アナ
ログデータが生成される。したがって、スライドガラス
板を担体としたマイクロアレイの表面の蛍光色素から発
せられた蛍光２５を、高いＳ／Ｎ比で、検出するため
に、共焦点光学系を用いているにもかかわらず、蓄積性
蛍光体シートに形成された輝尽性蛍光体層の深さ方向の
所定の範囲から発せられた輝尽光２５も高い信号強度で
検出することが可能になる。
【０２０４】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。
【０２０５】本発明は、以上の実施態様に限定されるこ
となく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種
々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含
されるものであることはいうまでもない。
となく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種
々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含
されるものであることはいうまでもない。
【０２０６】たとえば、図５に示された実施態様におい
ては、データ処理手段７１により、レーザ光４の射出位
置のｘ方向における調整値Δｘ、レーザ光４の射出位置
のｚ方向における調整値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ方
向における調整角度Δθおよびレーザ光４の光軸のφ方
向における調整角度Δφが算出され、さらに、こうして
算出された調整値Δｘ、Δｚ、ΔθおよびΔφが、それ
ぞれ、第一のステッピングモータ７５に与えるべき駆動
パルス数Ｐ（ｘ）、第二のステッピングモータ７６に与
えるべき駆動パルス数Ｐ（ｚ）、第三のステッピングモ
ータ７７に与えるべき駆動パルス数Ｐ（θ）および第四
のステッピングモータ７８に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（φ）に変換されて、第一のステッピングモータ７５、
第二のステッピングモータ７６、第三のステッピングモ
ータ７７および第四のステッピングモータ７８に出力さ
れるべき駆動信号が生成され、第一のステッピングモー
タ７５、第二のステッピングモータ７６、第三のステッ
ピングモータ７７および第四のステッピングモータ７８
に出力され、第一のステッピングモータ７５、第二のス
テッピングモータ７６、第三のステッピングモータ７７
および第四のステッピングモータ７８によって、レーザ
光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位
置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向
回転調整部材６８が、それぞれ、駆動されて、レーザ光
源ユニット５５の基体５４に対するレーザ光源基板５３
の位置が調整され、レーザ光源基板５３に取り付けられ
たレーザ励起光源１、２または３の光軸の角度および射
出位置が自動的に決定されるように構成されているが、
データ処理手段７１によって算出されたレーザ光４の光
軸のθ方向における調整角度Δθ、レーザ光４の光軸の
φ方向における調整角度Δφ、レーザ光４の射出位置の
ｘ方向における調整値Δｘおよびレーザ光４の射出位置
のｚ方向における調整値Δｚを、ＣＲＴ８０の画面上に
表示させ、ＣＲＴ８０の画面上に表示されたレーザ光４
の光軸のθ方向における調整角度Δθ、レーザ光４の光
軸のφ方向における調整角度Δφ、レーザ光４の射出位
置のｘ方向における調整値Δｘおよびレーザ光４の射出
位置のｚ方向における調整値Δｚに基づき、マニュアル
で、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６
５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７
およびφ方向回転調整部材６８を操作し、レーザ励起光
源１、２または３から発せられるレーザ光４の射出位置
および光軸の角度を調整するように構成することもでき
る。
ては、データ処理手段７１により、レーザ光４の射出位
置のｘ方向における調整値Δｘ、レーザ光４の射出位置
のｚ方向における調整値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ方
向における調整角度Δθおよびレーザ光４の光軸のφ方
向における調整角度Δφが算出され、さらに、こうして
算出された調整値Δｘ、Δｚ、ΔθおよびΔφが、それ
ぞれ、第一のステッピングモータ７５に与えるべき駆動
パルス数Ｐ（ｘ）、第二のステッピングモータ７６に与
えるべき駆動パルス数Ｐ（ｚ）、第三のステッピングモ
ータ７７に与えるべき駆動パルス数Ｐ（θ）および第四
のステッピングモータ７８に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（φ）に変換されて、第一のステッピングモータ７５、
第二のステッピングモータ７６、第三のステッピングモ
ータ７７および第四のステッピングモータ７８に出力さ
れるべき駆動信号が生成され、第一のステッピングモー
タ７５、第二のステッピングモータ７６、第三のステッ
ピングモータ７７および第四のステッピングモータ７８
に出力され、第一のステッピングモータ７５、第二のス
テッピングモータ７６、第三のステッピングモータ７７
および第四のステッピングモータ７８によって、レーザ
光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位
置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向
回転調整部材６８が、それぞれ、駆動されて、レーザ光
源ユニット５５の基体５４に対するレーザ光源基板５３
の位置が調整され、レーザ光源基板５３に取り付けられ
たレーザ励起光源１、２または３の光軸の角度および射
出位置が自動的に決定されるように構成されているが、
データ処理手段７１によって算出されたレーザ光４の光
軸のθ方向における調整角度Δθ、レーザ光４の光軸の
φ方向における調整角度Δφ、レーザ光４の射出位置の
ｘ方向における調整値Δｘおよびレーザ光４の射出位置
のｚ方向における調整値Δｚを、ＣＲＴ８０の画面上に
表示させ、ＣＲＴ８０の画面上に表示されたレーザ光４
の光軸のθ方向における調整角度Δθ、レーザ光４の光
軸のφ方向における調整角度Δφ、レーザ光４の射出位
置のｘ方向における調整値Δｘおよびレーザ光４の射出
位置のｚ方向における調整値Δｚに基づき、マニュアル
で、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６
５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７
およびφ方向回転調整部材６８を操作し、レーザ励起光
源１、２または３から発せられるレーザ光４の射出位置
および光軸の角度を調整するように構成することもでき
る。
【０２０７】また、図７に示された実施態様において
は、位置検出ダイオード６０が受光したレーザ光４の受
光位置および位置検出ダイオード９０が受光したレーザ
光４の受光位置が表示され、オペレータが、マニュアル
で、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６
５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７
およびφ方向回転調整部材６８を操作し、レーザ励起光
源１、２または３から発せられるレーザ光４の射出位置
および光軸の角度を調整するように構成されているが、
図５に示された実施態様と同様に、第一のステッピング
モータ７５、第二のステッピングモータ７６、第三のス
テッピングモータ７７および第四のステッピングモータ
７８を設け、データ処理手段７１が、レーザ光４の射出
位置のｘ方向における調整値Δｘ、レーザ光４の射出位
置のｚ方向における調整値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ
方向における調整角度Δθおよびレーザ光４の光軸のφ
方向における調整角度Δφが算出して、さらに、こうし
て算出した調整値Δｘ、Δｚ、ΔθおよびΔφを、それ
ぞれ、第一のステッピングモータ７５に与えるべき駆動
パルス数Ｐ（ｘ）、第二のステッピングモータ７６に与
えるべき駆動パルス数Ｐ（ｚ）、第三のステッピングモ
ータ７７に与えるべき駆動パルス数Ｐ（θ）および第四
のステッピングモータ７８に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（φ）に変換し、第一のステッピングモータ７５、第二
のステッピングモータ７６、第三のステッピングモータ
７７および第四のステッピングモータ７８に出力される
べき駆動信号を生成し、第一のステッピングモータ７
５、第二のステッピングモータ７６、第三のステッピン
グモータ７７および第四のステッピングモータ７８に出
力して、第一のステッピングモータ７５、第二のステッ
ピングモータ７６、第三のステッピングモータ７７およ
び第四のステッピングモータ７８によって、レーザ光源
移動機構５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調
整部材６６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向回転
調整部材６８を、それぞれ、駆動し、レーザ光源ユニッ
ト５５の基体５４に対するレーザ光源基板５３の位置を
調整し、レーザ光源基板５３に取り付けられたレーザ励
起光源１、２または３の光軸の角度および射出位置を自
動的に決定するように構成することもできる。
は、位置検出ダイオード６０が受光したレーザ光４の受
光位置および位置検出ダイオード９０が受光したレーザ
光４の受光位置が表示され、オペレータが、マニュアル
で、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置調整部材６
５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調整部材６７
およびφ方向回転調整部材６８を操作し、レーザ励起光
源１、２または３から発せられるレーザ光４の射出位置
および光軸の角度を調整するように構成されているが、
図５に示された実施態様と同様に、第一のステッピング
モータ７５、第二のステッピングモータ７６、第三のス
テッピングモータ７７および第四のステッピングモータ
７８を設け、データ処理手段７１が、レーザ光４の射出
位置のｘ方向における調整値Δｘ、レーザ光４の射出位
置のｚ方向における調整値Δｚ、レーザ光４の光軸のθ
方向における調整角度Δθおよびレーザ光４の光軸のφ
方向における調整角度Δφが算出して、さらに、こうし
て算出した調整値Δｘ、Δｚ、ΔθおよびΔφを、それ
ぞれ、第一のステッピングモータ７５に与えるべき駆動
パルス数Ｐ（ｘ）、第二のステッピングモータ７６に与
えるべき駆動パルス数Ｐ（ｚ）、第三のステッピングモ
ータ７７に与えるべき駆動パルス数Ｐ（θ）および第四
のステッピングモータ７８に与えるべき駆動パルス数Ｐ
（φ）に変換し、第一のステッピングモータ７５、第二
のステッピングモータ７６、第三のステッピングモータ
７７および第四のステッピングモータ７８に出力される
べき駆動信号を生成し、第一のステッピングモータ７
５、第二のステッピングモータ７６、第三のステッピン
グモータ７７および第四のステッピングモータ７８に出
力して、第一のステッピングモータ７５、第二のステッ
ピングモータ７６、第三のステッピングモータ７７およ
び第四のステッピングモータ７８によって、レーザ光源
移動機構５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調
整部材６６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向回転
調整部材６８を、それぞれ、駆動し、レーザ光源ユニッ
ト５５の基体５４に対するレーザ光源基板５３の位置を
調整し、レーザ光源基板５３に取り付けられたレーザ励
起光源１、２または３の光軸の角度および射出位置を自
動的に決定するように構成することもできる。
【０２０８】さらに、前記実施態様においては、位置検
出ダイオード６０、９０が用いられているが、光を光電
的に受光して、二次元的な受光位置を検出することが可
能であれば、位置検出ダイオード６０、９０以外の光検
出器を用いることもでき、たとえば、ＣＣＤエリアセン
サなどを用いることもできる。
出ダイオード６０、９０が用いられているが、光を光電
的に受光して、二次元的な受光位置を検出することが可
能であれば、位置検出ダイオード６０、９０以外の光検
出器を用いることもでき、たとえば、ＣＣＤエリアセン
サなどを用いることもできる。
【０２０９】また、図５に示された実施態様において
は、第一のステッピングモータ７５、第二のステッピン
グモータ７６、第三のステッピングモータ７７および第
四のステッピングモータ７８を用いて、レーザ光源移動
機構５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部
材６６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向回転調整
部材６８を、それぞれ、駆動するように構成されている
が、第一のステッピングモータ７５、第二のステッピン
グモータ７６、第三のステッピングモータ７７および第
四のステッピングモータ７８に代えて、それぞれ、サー
ボモータと用い、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置
調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調
整部材６７およびφ方向回転調整部材６８を駆動するよ
うに構成することもできる。
は、第一のステッピングモータ７５、第二のステッピン
グモータ７６、第三のステッピングモータ７７および第
四のステッピングモータ７８を用いて、レーザ光源移動
機構５６のｘ方向位置調整部材６５、ｚ方向位置調整部
材６６、θ方向回転調整部材６７およびφ方向回転調整
部材６８を、それぞれ、駆動するように構成されている
が、第一のステッピングモータ７５、第二のステッピン
グモータ７６、第三のステッピングモータ７７および第
四のステッピングモータ７８に代えて、それぞれ、サー
ボモータと用い、レーザ光源移動機構５６のｘ方向位置
調整部材６５、ｚ方向位置調整部材６６、θ方向回転調
整部材６７およびφ方向回転調整部材６８を駆動するよ
うに構成することもできる。
【０２１０】さらに、前記実施態様においては、位置検
出ダイオード６０が受光したレーザ光４の受光位置およ
び位置検出ダイオード９０が受光したレーザ光４の受光
位置が、ＣＲＴ８０の画面上に表示されるように構成さ
れているが、ＣＲＴ８０に代えて、液晶ディスプレイパ
ネルや有機ＥＬディスプレイパネルなどのフラットディ
スプレイパネルを用いることもでき、表示手段はとくに
限定されるものではない。
出ダイオード６０が受光したレーザ光４の受光位置およ
び位置検出ダイオード９０が受光したレーザ光４の受光
位置が、ＣＲＴ８０の画面上に表示されるように構成さ
れているが、ＣＲＴ８０に代えて、液晶ディスプレイパ
ネルや有機ＥＬディスプレイパネルなどのフラットディ
スプレイパネルを用いることもでき、表示手段はとくに
限定されるものではない。
【０２１１】また、前記実施態様においては、スライド
ガラス板を担体とし、蛍光色素によって選択的に標識さ
れた試料の数多くのスポットが、スライドガラス板上に
形成されているマイクロアレイを、レーザ光４によって
走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された
蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデータを生成
可能に構成され、さらに、蛍光色素によって、選択的に
標識された変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍
光サンプルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素
を励起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出
して、生化学解析用のデータを生成可能に構成されると
ともに、放射性標識物質によって選択的に標識された試
料の数多くのスポットが形成されたメンブレンフィルタ
などの担体を、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が形
成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍光
体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記録さ
れた蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レーザ光
４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽性蛍
光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生化学
解析用のデータを生成可能に構成されているスキャナの
第１のレーザ励起光源１、第２のレーザ励起光源２およ
び第３のレーザ励起光源３はら発せられるレーザ光４の
射出位置および光軸の角度を調整し、位置決めする場合
につき、説明を加えているが、本発明は、かかるスキャ
ナにおけるレーザ励起光源から発せられるレーザ光４の
射出位置および光軸の角度を調整し、位置決めする場合
に限らず、レーザ光の射出位置および光軸の角度を調整
し、位置決めする場合に広く適用することができ、さら
には、レーザ光に限定されることなく、広く、ビーム状
の光の射出位置および光軸の角度を調整し、位置決めす
る場合に適用することができる。
ガラス板を担体とし、蛍光色素によって選択的に標識さ
れた試料の数多くのスポットが、スライドガラス板上に
形成されているマイクロアレイを、レーザ光４によって
走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された
蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデータを生成
可能に構成され、さらに、蛍光色素によって、選択的に
標識された変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍
光サンプルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素
を励起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出
して、生化学解析用のデータを生成可能に構成されると
ともに、放射性標識物質によって選択的に標識された試
料の数多くのスポットが形成されたメンブレンフィルタ
などの担体を、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が形
成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍光
体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記録さ
れた蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レーザ光
４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽性蛍
光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生化学
解析用のデータを生成可能に構成されているスキャナの
第１のレーザ励起光源１、第２のレーザ励起光源２およ
び第３のレーザ励起光源３はら発せられるレーザ光４の
射出位置および光軸の角度を調整し、位置決めする場合
につき、説明を加えているが、本発明は、かかるスキャ
ナにおけるレーザ励起光源から発せられるレーザ光４の
射出位置および光軸の角度を調整し、位置決めする場合
に限らず、レーザ光の射出位置および光軸の角度を調整
し、位置決めする場合に広く適用することができ、さら
には、レーザ光に限定されることなく、広く、ビーム状
の光の射出位置および光軸の角度を調整し、位置決めす
る場合に適用することができる。
【０２１２】
【発明の効果】本発明によれば、ビーム状の光の射出位
置および光軸の角度を、作業効率よく、しかも、精度よ
く、調整し、位置決めすることのできるビーム状の光の
光軸調整・位置決め方法および装置を提供することが可
能になる。
置および光軸の角度を、作業効率よく、しかも、精度よ
く、調整し、位置決めすることのできるビーム状の光の
光軸調整・位置決め方法および装置を提供することが可
能になる。
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかるレ
ーザ光の光軸調整・位置決め方法を用いて、レーザ光の
射出位置および光軸の角度が位置決めされたスキャナの
略斜視図である。
ーザ光の光軸調整・位置決め方法を用いて、レーザ光の
射出位置および光軸の角度が位置決めされたスキャナの
略斜視図である。
【図２】図２は、マイクロアレイの略斜視図である。
【図３】図３は、共焦点切り換え部材の略正面図であ
る。
る。
【図４】図４は、スキャナの検出系、駆動系、入力系お
よび制御系を示すブロックダイアグラムである。
よび制御系を示すブロックダイアグラムである。
【図５】図５は、本発明の好ましい実施態様にかかるレ
ーザ光の光軸調整・位置決め装置の略斜視図である。
ーザ光の光軸調整・位置決め装置の略斜視図である。
【図６】図６は、本発明の好ましい実施態様にかかるレ
ーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御系、駆
動系、入力系および表示系のブロックダイアグラムであ
る。
ーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御系、駆
動系、入力系および表示系のブロックダイアグラムであ
る。
【図７】図７は、本発明の他の好ましい実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の略上面図であ
る。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の略上面図であ
る。
【図８】図８は、本発明の他の好ましい実施態様にかか
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系のブロックダイアグラ
ムである。
るレーザ光の光軸調整・位置決め装置の検出系、制御
系、駆動系、入力系および表示系のブロックダイアグラ
ムである。
１ 第１のレーザ励起光源 ２ 第２のレーザ励起光源 ３ 第３のレーザ励起光源 ４ レーザ光 ５ コリメータレンズ ６ ミラー ７ 第１のダイクロイックミラー ８ 第２のダイクロイックミラー ９ コリメータレンズ １０ コリメータレンズ １５ 光学ヘッド １６ ミラー １７ 穴 １８ 穴明きミラー １９ レンズ ２０ サンプルステージ ２１ サンプルキャリア ２２ サンプル ２３ 滴下されたｃＤＮＡ ２５ 蛍光または輝尽光 ２７ フィルタユニット ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄ フィルタ ２９ ミラー ３０ レンズ ３１ 共焦点切り換え部材 ３２ａ、３２ｂ、３２ｃ ピンホール ３３ フォトマルチプライア ３４ Ａ／Ｄ変換器 ３５ データ処理装置 ４０ キャリアセンサ ４１ フィルタユニットモータ ４２ 切り換え部材モータ ４３ キーボード ４５ コントロールユニット ５０ レーザ光の光軸調整・位置決め装置 ５１ 第一の基板 ５２ 第二の基板 ５３ レーザ光源基板 ５４ 基体 ５５ レーザ光源ユニット ５６ レーザ光源位置調整機構 ５７ スライドレール ６０ 位置検出ダイオード ６１ ミラー ６５ ｘ方向位置調整部材 ６６ ｚ方向位置調整部材 ６７ θ方向回転調整部材 ６８ φ方向回転調整部材 ６９ キーボード ７０ Ａ／Ｄ変換器 ７１ データ処理手段 ７２ メモリ ７５ 第一のステッピングモータ ７６ 第二のステッピングモータ７６ ７７ 第三のステッピングモータ ７８ 第四のステッピングモータ ８０ ＣＲＴ ８５ ビームスプリッタ ９０ 位置検出ダイオード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA01 AA31 FF44 GG04 GG12 GG22 HH04 JJ02 JJ05 JJ25 LL12 LL30 PP12 UU01 UU02 2G065 AA18 AB09 BA02 BB44 DA10 2H013 AC04
Claims (28)
- 【請求項１】 光源から発せられたビーム状の光を、前
記光源からの距離が異なる２つの位置で、光を光電的に
受光可能な少なくとも１つの二次元的位置センサによっ
て、光電的に受光して、それぞれ、前記ビーム状の光の
受光位置に対応する受光位置データを生成し、生成され
た前記受光位置データに基づいて、前記光源から発せら
れる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整し、位置決めすることを特徴とするビーム状の光の光
軸調整・位置決め方法。 - 【請求項２】 前記少なくとも１つの二次元的位置セン
サが、単一の二次元的位置センサよりなり、前記二次元
的位置センサを、前記光源から発せられた前記ビーム状
の光の光路内の前記光源からの距離がＤ１の第一の位置
と、前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内
の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二
の位置とに移動させて、それぞれ、前記光源から発せら
れたビーム状の光を受光させ、前記ビーム状の光の受光
位置に対応する受光位置データを生成させて、生成され
た前記受光位置データに基づいて、前記光源から発せら
れる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位置を調
整し、位置決めすることを特徴とする請求項１に記載の
ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法。 - 【請求項３】 前記第一の位置において、前記二次元的
位置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生
成した前記受光位置データおよび前記第二の位置におい
て、前記位置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光
して、生成した前記受光位置データに基づいて、それぞ
れ、表示手段上に、前記位置センサが受光した前記ビー
ム状の光の受光位置を表示し、前記表示手段上に表示さ
れた前記ビーム状の光の受光位置に基づいて、前記光源
から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および射
出位置を調整し、位置決めすることを特徴とする請求項
１または２に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決め
方法。 - 【請求項４】 前記第一の位置において、前記二次元的
位置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光して、生
成した前記受光位置データおよび前記第二の位置におい
て、前記位置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光
して、生成した前記受光位置データに基づいて、前記光
源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および
射出位置を調整すべき調整値を算出し、算出された調整
値にしたがって、前記ビーム状の光の光軸の角度および
前記光源からの射出位置を調整し、位置決めすることを
特徴とする請求項２または３に記載のビーム状の光の光
軸調整・位置決め方法。 - 【請求項５】 前記調整値にしたがって、前記光源から
発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出位
置を、自動的に、調整し、位置決めすることを特徴とす
る請求項４に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決め
方法。 - 【請求項６】 ステッピングモータを用いて、前記調整
値にしたがって、前記光源から発せられる前記ビーム状
の光の光軸の角度および射出位置を、自動的に、調整
し、位置決めすることを特徴とする請求項５に記載のビ
ーム状の光の光軸調整・位置決め方法。 - 【請求項７】 サーボモータを用いて、前記調整値にし
たがって、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の
光軸の角度および射出位置を、自動的に、調整し、位置
決めすることを特徴とする請求項５に記載のビーム状の
光の光軸調整・位置決め方法。 - 【請求項８】 前記少なくとも１つの二次元的位置セン
サが、第一の二次元的位置センサと第二の二次元的位置
センサよりなり、前記第一の二次元的位置センサを、前
記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内の前記
光源からの距離がＤ１の第一の位置に位置させ、前記光
源から発せられた前記ビーム状の光の光路内に、ビーム
スプリッタを設けるとともに、前記光源から発せられた
前記ビーム状の光の光路外に位置し、前記ビームスプリ
ッタに対して、前記光源から発せられた前記ビーム状の
光の光路内の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未
満）の第二の位置と光学的に共役関係にある第三の位置
に、前記第二の二次元的位置センサを位置させて、それ
ぞれ、前記光源から発せられたビーム状の光を受光さ
せ、前記ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置デ
ータを生成させて、生成された前記受光位置データに基
づいて、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光
軸の角度および射出位置を調整し、位置決めすることを
特徴とする請求項１に記載のビーム状の光の光軸調整・
位置決め方法。 - 【請求項９】 前記第一の位置において、前記第一の二
次元的位置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光し
て、生成した前記受光位置データおよび前記第三の位置
において、前記第二の二次元的位置センサが前記ビーム
状の光を光電的に受光して、生成した前記受光位置デー
タに基づいて、それぞれ、表示手段上に、前記位置セン
サが受光した前記ビーム状の光の受光位置を表示し、前
記表示手段上に表示された前記ビーム状の光の受光位置
に基づいて、前記光源から発せられる前記ビーム状の光
の光軸の角度および射出位置を調整し、位置決めするこ
とを特徴とする請求項８に記載のビーム状の光の光軸調
整・位置決め方法。 - 【請求項１０】 前記第一の位置において、前記第一の
二次元的位置センサが前記ビーム状の光を光電的に受光
して、生成した前記受光位置データおよび前記第三の位
置において、前記第二の二次元的位置センサが前記ビー
ム状の光を光電的に受光して、生成した前記受光位置デ
ータに基づいて、前記ビーム状の光の光軸の角度を調整
すべき調整値および前記光源からの射出位置を調整すべ
き調整値を算出し、算出された調整値にしたがって、前
記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度お
よび射出位置を調整し、位置決めすることを特徴とする
請求項８または９に記載のビーム状の光の光軸調整・位
置決め方法。 - 【請求項１１】 前記調整値にしたがって、前記光源か
ら発せられる前記ビーム状の光の光軸の角度および射出
位置を、自動的に、調整し、位置決めすることを特徴と
する請求項１０に記載のビーム状の光の光軸調整・位置
決め方法。 - 【請求項１２】 ステッピングモータを用いて、前記調
整値にしたがって、前記光源から発せられる前記ビーム
状の光の光軸の角度および射出位置を、自動的に、調整
し、位置決めすることを特徴とする請求項１１に記載の
ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法。 - 【請求項１３】 サーボモータを用いて、前記調整値に
したがって、前記光源から発せられる前記ビーム状の光
の光軸の角度および射出位置を、自動的に、調整し、位
置決めすることを特徴とする請求項１１に記載のビーム
状の光の光軸調整・位置決め方法。 - 【請求項１４】 あらかじめ、前記第二の二次元的位置
センサを、前記第三の位置に位置させるとともに、前記
第一の二次元的位置センサを、前記第二の位置に位置さ
せ、それぞれ、前記光源から発せられたビーム状の光を
受光させて、前記ビーム状の光の受光位置に対応する受
光位置データを生成させ、生成された前記受光位置デー
タに基づいて、前記第二の二次元的位置センサが受光し
た前記ビーム状の光の受光位置の前記第一の二次元的位
置センサが受光した前記ビーム状の光の受光位置のずれ
を求めて、補正データを生成し、前記第二の二次元的位
置センサが生成する受光位置データを補正することを特
徴とする請求項８ないし１３に記載のビーム状の光の光
軸調整・位置決め方法。 - 【請求項１５】 前記二次元的位置センサが、位置検出
ダイオードによって構成されたことを特徴とする請求項
１ないし１４のいずれか１項に記載のビーム状の光の光
軸調整・位置決め方法。 - 【請求項１６】 前記ビーム状の光が、レーザ光によっ
て構成されたことを特徴とする請求項１ないし１５のい
ずれか１項に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決め
方法。 - 【請求項１７】 ビーム状の光を発する光源と、前記光
源からの距離が異なる２つの位置で、光を光電的に受光
可能な少なくとも１つの二次元的位置センサと、表示手
段と、前記少なくとも１つの位置センサによって生成さ
れた受光位置データに基づいて、前記少なくとも１つの
二次元的位置センサが受光した前記ビーム状の光の受光
位置を、前記表示手段に表示するデータ処理手段と、前
記光源の位置を調整する光源位置調整手段を備えたこと
を特徴とするビーム状の光の光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項１８】 さらに、ガイド部材を備え、前記少な
くとも１つの二次元的位置センサが、前記ガイド部材に
沿って、移動可能な単一の二次元的位置センサよりな
り、前記データ処理手段が、前記光源から発せられた前
記ビーム状の光の光路内の前記光源からの距離がＤ１の
第一の位置に位置する前記二次元的位置センサが、前記
光源から発せられたビーム状の光を受光して、生成した
前記ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データ
と、前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内
の前記光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二
の位置する前記二次元的位置センサが、前記光源から発
せられたビーム状の光を受光して、生成した前記ビーム
状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基づ
き、前記第一の位置に位置した前記二次元的位置センサ
が受光した前記光源から発せられたビーム状の光の受光
位置および前記第二の位置に位置した前記二次元的位置
センサが受光した前記光源から発せられたビーム状の光
の受光位置を、前記表示手段に表示するように構成され
たことを特徴とする請求項１７に記載のビーム状の光の
光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項１９】 前記データ処理手段が、前記第一の位
置に位置する前記二次元的位置センサが、前記光源から
発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記ビー
ム状の光の受光位置に対応する受光位置データと、前記
第二の位置する前記二次元的位置センサが、前記光源か
ら発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記ビ
ーム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基
づき、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の光軸
の角度および射出位置を調整すべき調整値を算出するよ
うに構成されたことを特徴とする請求項１８に記載のビ
ーム状の光の光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項２０】 さらに、前記光源位置調整手段を操作
可能な少なくとも１つのステッピングモータを備え、前
記データ処理手段が、前記調整値に基づき、前記少なく
とも１つのステッピングモータを駆動して、前記光源位
置調整手段を操作させ、前記光源から発せられる前記ビ
ーム状の光の光軸の角度および射出位置が、自動的に、
調整され、位置決めされるように構成されたことを特徴
とする請求項１９に記載のビーム状の光の光軸調整・位
置決め装置。 - 【請求項２１】 さらに、前記光源位置調整手段を操作
可能な少なくとも１つのサーボモータを備え、前記デー
タ処理手段が、前記調整値に基づき、前記少なくとも１
つのサーボモータを駆動して、前記光源位置調整手段を
操作させ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の
光軸の角度および射出位置が、自動的に、調整され、位
置決めされるように構成されたことを特徴とする請求項
１９に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項２２】 前記少なくとも１つの二次元的位置セ
ンサが、第一の二次元的位置センサと第二の二次元的位
置センサよりなり、さらに、前記光源から発せられた前
記ビーム状の光の光路内に、ビームスプリッタを備え、
前記第一の二次元的位置センサが、前記光源から発せら
れた前記ビーム状の光の光路内の前記光源からの距離が
Ｄ１の第一の位置に位置させられ、前記第二の二次元的
位置センサが、前記光源から発せられた前記ビーム状の
光の光路外に位置し、前記ビームスプリッタに対して、
前記光源から発せられた前記ビーム状の光の光路内の前
記光源からの距離がＤ２（Ｄ２はＤ１未満）の第二の位
置と光学的に共役関係にある第三の位置に固定され、前
記データ処理手段が、前記第一の位置に位置する前記第
一の二次元的位置センサが、前記光源から発せられたビ
ーム状の光を受光して、生成した前記ビーム状の光の受
光位置に対応する受光位置データと、前記第三の位置に
位置する前記第三の二次元的位置センサが、前記光源か
ら発せられたビーム状の光を受光して、生成した前記ビ
ーム状の光の受光位置に対応する受光位置データとに基
づいて、前記第一の二次元的位置センサが受光した前記
光源から発せられたビーム状の光の受光位置および前記
第二の二次元的位置センサが受光した前記光源から発せ
られたビーム状の光の受光位置を、前記表示手段に表示
するように構成されたことを特徴とする請求項１７に記
載のビーム状の光の光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項２３】 前記データ処理手段が、前記第一の位
置に位置する前記第一の二次元的位置センサが、前記光
源から発せられたビーム状の光を受光して、生成した前
記ビーム状の光の受光位置に対応する受光位置データ
と、前記第二の位置する前記第二の二次元的位置センサ
が、前記光源から発せられたビーム状の光を受光して、
生成した前記ビーム状の光の受光位置に対応する受光位
置データとに基づいて、前記光源から発せられる前記ビ
ーム状の光の光軸の角度および射出位置を調整すべき調
整値を算出するように構成されたことを特徴とする請求
項２２に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決め装
置。 - 【請求項２４】 さらに、前記光源位置調整手段を操作
可能な少なくとも１つのステッピングモータを備え、前
記データ処理手段が、前記調整値に基づき、前記少なく
とも１つのステッピングモータを駆動して、前記光源位
置調整手段を操作させ、前記光源から発せられる前記ビ
ーム状の光の光軸の角度および射出位置が、自動的に、
調整され、位置決めされるように構成されたことを特徴
とする請求項２３に記載のビーム状の光の光軸調整・位
置決め装置。 - 【請求項２５】 さらに、前記光源位置調整手段を操作
可能な少なくとも１つのサーボモータを備え、前記デー
タ処理手段が、前記調整値に基づき、前記少なくとも１
つのサーボモータを駆動して、前記光源位置調整手段を
操作させ、前記光源から発せられる前記ビーム状の光の
光軸の角度および射出位置が、自動的に、調整され、位
置決めされるように構成されたことを特徴とする請求項
２３に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項２６】 さらに、メモリとガイド部材を備え、
前記第一の二次元的位置センサが、前記ガイド部材に沿
って、移動可能に構成され、前記データ処理手段が、前
記第二の位置に位置する前記第一の二次元的位置センサ
および前記第三の位置に位置する前記第二の二次元的位
置センサが、前記光源から発せられたビーム状の光を受
光して、生成した前記ビーム状の光の受光位置に対応す
る受光位置データに基づいて、前記第二の二次元的位置
センサが受光した前記ビーム状の光の受光位置の前記第
一の二次元的位置センサが受光した前記ビーム状の光の
受光位置のずれを求め、補正データを生成して、前記メ
モリに記憶させ、前記第二の二次元的位置センサが生成
する受光位置データを、前記メモリに記憶された前記補
正データにしたがって、補正するように構成されたこと
を特徴とする請求項１７ないし２５のいずれか１項に記
載のビーム状の光の光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項２７】 前記二次元的位置センサが、位置検出
ダイオードによって構成されたことを特徴とする請求項
１７ないし２６のいずれか１項に記載のビーム状の光の
光軸調整・位置決め装置。 - 【請求項２８】 前記ビーム状の光が、レーザ光によっ
て構成されたことを特徴とする請求項１７ないし２６の
いずれか１項に記載のビーム状の光の光軸調整・位置決
め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000393152A JP2002195881A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法および装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000393152A JP2002195881A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法および装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002195881A true JP2002195881A (ja) | 2002-07-10 |
Family
ID=18859017
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000393152A Pending JP2002195881A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | ビーム状の光の光軸調整・位置決め方法および装置 |
Country Status (1)
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2000
- 2000-12-25 JP JP2000393152A patent/JP2002195881A/ja active Pending
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