JP2002185731A - 共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバイス、シェーディング評価用デバイスを用いた共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング補正データ生成方法およびシェーディング補正方法ならびにシェーディングを補正可能な共焦点光学系を備えたスキャナ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シェーディングを精度よく評価することがで
きる共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング
評価用デバイスを提供する。 【解決手段】 光学的な平面性を保持して加工可能で、
レーザ光の照射を受けると、蛍光を放出する性質を有す
る色ガラスフィルタ７１上に、クロム膜のマスク７２が
設けられて、それによって、色ガラスフィルタが露出さ
れる多数のスリット７３が規則的に形成されたことを特
徴とする共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェーディ
ング評価用デバイス７０。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、共焦点光学系を備
えたスキャナ用のシェーディング評価用デバイス、シェ
ーディング評価用デバイスを用いた共焦点光学系を備え
たスキャナにおけるシェーディング補正データ生成方法
およびシェーディング補正方法ならびにシェーディング
を補正可能な共焦点光学系を備えたスキャナに関するも
のであり、さらに詳細には、シェーディングを精度よく
評価することができる共焦点光学系を備えたスキャナ用
のシェーディング評価用デバイス、シェーディング評価
用デバイスを用いた共焦点光学系を備えたスキャナにお
けるシェーディング補正データ生成方法およびシェーデ
ィングを精度よく補正することのできるシェーディング
補正方法ならびにシェーディングを精度よく補正するこ
とのできる共焦点光学系を備えたスキャナに関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】放射線が照射されると、放射線のエネル
ギーを吸収して、蓄積、記録し、その後に、特定の波長
域の電磁波を用いて励起すると、照射された放射線のエ
ネルギーの量に応じた光量の輝尽光を発する特性を有す
る輝尽性蛍光体を、放射線の検出材料として用い、放射
性標識を付与した物質を、生物体に投与した後、その生
物体あるいはその生物体の組織の一部をサンプルとし、
このサンプルを、輝尽性蛍光体層が設けられた蓄積性蛍
光体シートと一定時間重ね合わせることにより、放射線
エネルギーを輝尽性蛍光体に、蓄積、記録し、しかる後
に、電磁波によって、輝尽性蛍光体層を走査して、輝尽
性蛍光体を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光
を光電的に検出して、ディジタル画像信号を生成し、画
像処理を施して、クロムＴなどの表示手段上あるいは写
真フイルムなどの記録材料上に、画像を再生するように
構成されたオートラジオグラフィ検出システムが知られ
ている（たとえば、特公平１−６０７８４号公報、特公
平１−６０７８２号公報、特公平４−３９５２号公報な
ど）。

【０００３】蓄積性蛍光体シートを画像の検出材料とし
て使用するオートラジオグラフィ検出システムは、写真
フイルムを用いる場合とは異なり、現像処理という化学
的処理が不必要であるだけでなく、得られた画像データ
に画像処理を施すことによって、所望のように、画像を
再生し、あるいは、コンピュータによる定量解析が可能
になるという利点を有している。

【０００４】他方、オートラジオグラフィシステムにお
ける放射性標識物質に代えて、蛍光物質を標識物質とし
て使用した蛍光検出（fluorescence) システムが知られ
ている。このシステムによれば、蛍光画像を読み取るこ
とによって、遺伝子配列、遺伝子の発現レベル、蛋白質
の分離、同定、あるいは、分子量、特性の評価などをお
こなうことができ、たとえば、電気泳動させるべき複数
のＤＮＡ断片を含む溶液中に、蛍光色素を加えた後に、
複数のＤＮＡ断片をゲル支持体上で電気泳動させ、ある
いは、蛍光色素を含有させたゲル支持体上で、複数のＤ
ＮＡ断片を電気泳動させ、あるいは、複数のＤＮＡ断片
を、ゲル支持体上で、電気泳動させた後に、ゲル支持体
を蛍光色素を含んだ溶液に浸すなどして、電気泳動され
たＤＮＡ断片を標識し、励起光によって、蛍光色素を励
起して、生じた蛍光を検出することによって、画像を生
成し、ゲル支持体上のＤＮＡを分布を検出したり、ある
いは、複数のＤＮＡ断片を、ゲル支持体上で、電気泳動
させた後に、ＤＮＡを変性（denaturation) し、次い
で、サザン・ブロッティング法により、ニトロセルロー
スなどの転写支持体上に、変性ＤＮＡ断片の少なくとも
一部を転写し、目的とするＤＮＡと相補的なＤＮＡもし
くはＲＮＡを蛍光色素で標識して調製したプローブと変
性ＤＮＡ断片とをハイブリダイズさせ、プローブＤＮＡ
もしくはプローブＲＮＡと相補的なＤＮＡ断片のみを選
択的に標識し、励起光によって、蛍光色素を励起して、
生じた蛍光を検出することにより、画像を生成し、転写
支持体上の目的とするＤＮＡを分布を検出したりするこ
とができる。さらに、標識物質により標識した目的とす
る遺伝子を含むＤＮＡと相補的なＤＮＡプローブを調製
して、転写支持体上のＤＮＡとハイブリダイズさせ、酵
素を、標識物質により標識された相補的なＤＮＡと結合
させた後、蛍光基質と接触させて、蛍光基質を蛍光を発
する蛍光物質に変化させ、励起光により、生成された蛍
光物質を励起して、生じた蛍光を検出することによっ
て、画像を生成し、転写支持体上の目的とするＤＮＡの
分布を検出したりすることもできる。この蛍光検出シス
テムは、放射性物質を使用することなく、簡易に、遺伝
子配列などを検出することができるという利点がある。

【０００５】さらに、近年、スライドガラス板やメンブ
レンフィルタなどの担体表面上の異なる位置に、ホルモ
ン類、腫瘍マーカー、酵素、抗体、抗原、アブザイム、
その他のタンパク質、核酸、ｃＤＮＡ、ＤＮＡ、ＲＮＡ
など、生体由来の物質と特異的に結合可能で、かつ、塩
基配列や塩基の長さ、組成などが既知の特異的結合物質
を、スポッター装置を用いて、滴下して、多数の独立し
たスポットを形成し、次いで、ホルモン類、腫瘍マーカ
ー、酵素、抗体、抗原、アブザイム、その他のタンパク
質、核酸、ｃＤＮＡ、ＤＮＡ、ｍＲＮＡなど、抽出、単
離などによって、生体から採取され、あるいは、さら
に、化学的処理、化学修飾などの処理が施された生体由
来の物質であって、蛍光物質、色素などの標識物質によ
って標識された物質をハイブリダイズさせたマイクロア
レイに、励起光を照射して、蛍光物質、色素などの標識
物質から発せられた蛍光などの光を光電的に検出して、
生体由来の物質を解析するマイクロアレイ検出システム
が開発されている。このマイクロアレイ検出システムに
よれば、スライドガラス板やメンブレンフィルタなどの
担体表面上の異なる位置に、数多くの特異的結合物質の
スポットを高密度に形成して、標識物質によって標識さ
れた生体由来の物質をハイブリダイズさせることによっ
て、短時間に、生体由来の物質を解析することが可能に
なるという利点がある。

【０００６】蛍光検出システムもマイクロアレイ検出シ
ステムもともに、サンプルに、励起光を照射して、蛍光
物質などの標識物質を励起し、蛍光物質から放出された
蛍光などを光電的に検出して、標識物質の画像データや
発光量データなどの生化学解析用のデータを生成するも
のであり、これらのシステムのために用いられるデータ
生成装置は、スキャナを用いたものと、二次元センサを
用いたものに大別される。

【０００７】二次元センサを用いる場合に比し、スキャ
ナを用いる場合には、高解像度で、データを生成するこ
とができるという利点がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】スライドガラス板を担
体としたマイクロアレイシステムの場合には、スライド
ガラス板の表面上で、特異的結合物質とハイブリダイズ
した生体由来の物質を標識している蛍光物質を励起し
て、スライドガラス板の表面からの発せられた蛍光を光
電的に検出するものであるため、Ｓ／Ｎ比を向上させる
ために、共焦点光学系を用いたスキャナを用いることが
好ましい。

【０００９】このようなスキャナにあっては、サンプル
を載置するサンプルステージと共焦点光学系を構成する
対物レンズとの距離を、つねに一定に保持して、レーザ
光によって、サンプルを走査することがきわめて困難で
あり、そのため、レーザ光によって、サンプルステージ
に載置されたサンプルを走査し、サンプルから放出され
た蛍光などを検出して生成したデータにシェーディング
が発生することは避けがたいという問題があった。

【００１０】かかるシェーディングを補正するため、支
持体上に、多数の蛍光色素のスポットを、体積が同じに
なるように形成したデバイスを用い、これらの蛍光色素
のスポットをレーザ光により、走査して、蛍光色素から
放出された蛍光を検出して、シェーディングを評価する
ことが考えられるが、サンプルと同様に、平面性を有す
る薄い支持体に、多数の蛍光色素のスポットを、同じ条
件で、形成することは困難であるため、かかるデバイス
を用いて、シェーディングを評価することは困難であ
り、加えて、レーザ光の照射を受けると、蛍光色素が劣
化するため、かかるデバイスは、繰り返し、使用するこ
とができないという問題もあった。

【００１１】したがって、本発明は、シェーディングを
精度よく評価することができる共焦点光学系を備えたス
キャナ用のシェーディング評価用デバイス、シェーディ
ング評価用デバイスを用いた共焦点光学系を備えたスキ
ャナにおけるシェーディング補正データ生成方法および
シェーディングを精度よく補正することのできるシェー
ディング補正方法ならびにシェーディングを精度よく補
正することのできる共焦点光学系を備えたスキャナを提
供することを目的とするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
光学的な平面性を保持して加工可能で、レーザ光の照射
を受けると、蛍光またはフォトルミネッセンスを放出す
る性質を有する支持体上に、金属膜のマスクが設けられ
て、それによって、前記支持体が露出される多数の開口
部が規則的に形成されたことを特徴とする共焦点光学系
を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバイスに
よって達成される。

【００１３】本発明によれば、共焦点光学系を備えたス
キャナ用のシェーディング評価用デバイスは、光学的な
平面性を保持して加工可能で、レーザ光の照射を受ける
と、蛍光またはフォトルミネッセンスを放出する性質を
有する支持体上に、金属膜のマスクが設けられて、それ
によって、支持体が露出される多数の開口部が形成され
ているから、金属膜のマスクを支持体上に設けることに
よって、光学的な平面性を保持するように、支持体を形
成するとともに、支持体が露出される多数の開口部を規
則的に形成することができ、したがって、レーザ光によ
り、規則的に形成された多数の開口部内の支持体を走査
して、開口部内の支持体から放出された蛍光またはフォ
トルミネッセンスを光電的に検出することによって、デ
ータのシェーディングを精度よく評価することが可能に
なる。

【００１４】本発明の好ましい実施態様においては、前
記支持体上に、金属膜のマスクによって、前記支持体が
露出される多数のスリットが規則的に形成されて、前記
開口部が形成されている。

【００１５】本発明の別の好ましい実施態様において
は、前記支持体上に、金属膜のマスクによって、前記支
持体が露出される多数のピンホールが規則的に形成され
て、前記開口部が形成されている。

【００１６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記支持体が、前記レーザ光の照射を受けても、劣
化しない材料によって形成されている。

【００１７】本発明の別の好ましい実施態様によれば、
支持体が、レーザ光の照射を受けても、劣化しない材料
によって形成されているから、スキャナ用のシェーディ
ング評価用デバイスを繰り返し、使用して、データのシ
ェーディングを精度よく評価することが可能になる。

【００１８】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記支持体が、ＩＶ族元素、ＩＩ−ＶＩ族化合物、
ＩＩＩ−Ｖ族化合物およびこれらの複合体よりなる群か
ら選ばれた材料によって形成されている。

【００１９】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、ＩＶ族元素、ＩＩ−ＶＩ族化合物、ＩＩＩ−Ｖ族化
合物およびこれらの複合体よりなる群から選ばれた材料
は、光学的な平面性を保持して加工可能であり、かつ、
レーザ光の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッ
センスを放出する性質を有しているから、光学的な平面
性を保持するように、支持体を形成し、金属膜のマスク
を支持体上に設けることによって、支持体が露出される
多数の開口部を規則的に形成することができ、したがっ
て、レーザ光により、規則的に形成された多数の開口部
内の支持体を、走査して、多数の開口部内の支持体から
放出された蛍光を光電的に検出することによって、デー
タのシェーディングを精度よく評価することが可能にな
る。

【００２０】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および石灰石よりな
る群から選ばれた材料を主成分とするガラスに、ＣｄＳ
−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された色ガラスフ
イルタによって形成されている。

【００２１】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、珪砂、ソーダ灰および石灰石よりなる群から選ばれ
た材料を主成分とするガラスに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固
溶体をドープして形成された色ガラスフイルタは、光学
的な平面性を保持して加工可能であり、かつ、レーザ光
の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッセンスを
放出する性質を有しているから、光学的な平面性を保持
するように、支持体を形成し、金属膜のマスクを支持体
上に設けることによって、支持体が露出される多数の開
口部を規則的に形成することができ、したがって、レー
ザ光により、規則的に形成された多数の開口部内の支持
体を、走査して、多数の開口部内の支持体から放出され
た蛍光を光電的に検出することによって、データのシェ
ーディングを精度よく評価することが可能になる。

【００２２】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および石灰石よ
りなる群から選ばれた材料を主成分とするガラスに、Ｚ
ｎＳ−ＣｄＳの固溶体をドープして形成された色ガラス
フィルタによって形成されている。

【００２３】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、珪砂、ソーダ灰および石灰石よりなる群から選ばれ
た材料を主成分とするガラスに、ＺｎＳ−ＣｄＳの固溶
体をドープして形成された色ガラスフィルタは、光学的
な平面性を保持して加工可能であり、かつ、レーザ光の
照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッセンスを放
出する性質を有しているから、光学的な平面性を保持す
るように、支持体を形成し、金属膜のマスクを支持体上
に設けることによって、支持体が露出される多数の開口
部を規則的に形成することができ、したがって、レーザ
光により、規則的に形成された多数の開口部内の支持体
を、走査して、多数の開口部内の支持体から放出された
蛍光を光電的に検出することによって、データのシェー
ディングを精度よく評価することが可能になる。

【００２４】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、前記支持体が、ＩｎＧａＡｓＰ層と、ＧａＡｓ
層の積層体によって形成され、前記金属膜のマスクが、
前記ＩｎＧａＡｓＰ層上に設けられている。

【００２５】本発明のさらに別の好ましい実施態様によ
れば、ＩｎＧａＡｓＰ層と、ＧａＡｓ層との積層体は、
光学的な平面性を保持して加工可能であり、かつ、レー
ザ光の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッセン
スを放出する性質を有しており、したがって、支持体
を、光学的な平面性を保持するように形成するととも
に、金属膜のマスクを支持体上に設けて、支持体が露出
される多数の開口部を規則的に形成することができるか
ら、レーザ光によって、規則的に形成された多数の開口
部内の支持体を、走査して、多数の開口部内の支持体か
ら放出された蛍光を光電的に検出することによって、デ
ータのシェーディングを精度よく評価することが可能に
なる。

【００２６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜のマスクが、スパッタリング、ＣＶＤお
よび蒸着よりなる群から選ばれる形成方法によって形成
されている。

【００２７】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜が、スパッタリングによって形成されて
いる。

【００２８】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜のマスクが、クロム、アルミニウム、
金、ニッケル−クロム合金およびチタン−ニッケル−ク
ロムよりなる群から選ばれる材料によって形成されてい
る。

【００２９】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜のマスクが、クロムによって形成されて
いる。

【００３０】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、金属膜のマスクが、クロムによって形成されている
から、フォーカス位置決定用デバイスの機械的強度を向
上させることが可能になる。

【００３１】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、レーザ光の走査方向に対する前記開口部の幅が、レ
ーザ光のビーム径の０．５ないし２倍に形成されてい
る。

【００３２】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、レーザ光の走査方向に対する開口部の幅が、レーザ
光のビーム径の０．５ないし２倍に形成されているか
ら、多数の開口部内の支持体のみに、レーザ光を照射し
て、励起し、開口部内の支持体から放出された蛍光また
はフォトルミネッセンスのみを検出することができ、し
たがって、精度よく、データのシェーディングを評価す
ることが可能になる。

【００３３】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記レーザ光の走査方向に対する前記開口部の幅
が、前記レーザ光のビーム径の０．８ないし１．２倍に
形成されている。

【００３４】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、レーザ光の走査方向に対する開口部の幅が、レーザ
光のビーム径の０．８ないし１．２倍に形成されている
から、多数の開口部内の支持体のみに、レーザ光を照射
して、励起し、開口部内の支持体から放出された蛍光ま
たはフォトルミネッセンスのみを検出することができ、
したがって、精度よく、データのシェーディングを評価
することが可能になる。

【００３５】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、レーザ光の走査方向に対する前記開口部の幅が、レ
ーザ光のビーム径とほぼ同等に形成されている。

【００３６】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、レーザ光の走査方向に対する開口部の幅が、レーザ
光のビーム径とほぼ同等に形成されているから、多数の
開口部内の支持体のみに、レーザ光を照射して、励起
し、開口部内の支持体から放出された蛍光またはフォト
ルミネッセンスのみを検出することができ、したがっ
て、精度よく、データのシェーディングを評価すること
が可能になる。

【００３７】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜のマスクが、約１０ミクロン以下の膜厚
を有している。

【００３８】本発明の前記目的はまた、光学的な平面性
を保持して加工可能で、レーザ光の照射を受けると、蛍
光またはフォトルミネッセンスを放出する性質を有する
支持体上に、金属膜のマスクが設けられて、それによっ
て、前記支持体を露出する多数の開口部が規則的に形成
されたシェーディング評価用デバイスを、レーザ光によ
って、走査し、前記開口部を介して、前記支持体を励起
し、前記支持体から放出される蛍光またはフォトルミネ
ッセンスを、前記開口部を介して、光電的に検出し、デ
ィジタル化して、生成されたディジタルデータに基づい
て、前記シェーディング評価用デバイスのディジタルデ
ータを生成し、前記シェーディング評価用デバイスのデ
ィジタルデータに基づき、シェーディング補正データを
生成することを特徴とする共焦点光学系を備えたスキャ
ナにおけるシェーディング補正データ生成方法によって
達成される。

【００３９】本発明によれば、光学的な平面性を保持し
て加工可能で、レーザ光の照射を受けると、蛍光または
フォトルミネッセンスを放出する性質を有する支持体上
に、金属膜のマスクが設けられて、それによって、支持
体を露出する多数の開口部が規則的に形成されたシェー
ディング評価用デバイスを、レーザ光によって、走査
し、露出部を介して、支持体を励起し、支持体から放出
される蛍光またはフォトルミネッセンスを、露出部を介
して、光電的に検出し、ディジタル化して、生成された
ディジタルデータに基づいて、シェーディング評価用デ
バイスのディジタルデータを生成し、シェーディング評
価用デバイスのディジタルデータに基づき、シェーディ
ング補正データを生成するように構成されているから、
光学的な平面性を有する支持体上に、金属膜のマスクを
設けて、多数の開口部を規則的に形成したシェーディン
グ評価用デバイスに、レーザ光を照射して、レーザ光に
より、規則的に形成された多数の開口部内の支持体を、
走査して、多数の開口部内の支持体から放出された蛍光
またはフォトルミネッセンスを光電的に検出することに
よって、シェーディング補正データを生成し、サンプル
のディジタルデータ中のシェーディングを精度よく補正
することが可能になる。

【００４０】本発明の好ましい実施態様においては、前
記ディジタルデータに基づき、前記支持体から放出され
た蛍光またはフォトルミネッセンスを光電的に検出して
生成された信号強度を、前記開口部ごとに積分して、前
記シェーディング評価用デバイスのディジタルデータを
生成するように構成されている。

【００４１】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記開口部が、スリットによって形成されている。

【００４２】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、前記開口部が、ピンホールによって形成されて
いる。

【００４３】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記シェーディング評価用デバイスに規則的に形成
された多数の前記開口部のうち、基準位置に位置する前
記開口部に、共焦点光学系のフォーカスを合致させた後
に、前記シェーディング評価用デバイスを、前記レーザ
光によって、走査し、前記多数の開口部を介して、前記
支持体を励起し、前記支持体から放出される蛍光または
フォトルミネッセンスを、前記多数の開口部を介して、
光電的に検出し、ディジタル化して、前記ディジタルデ
ータを生成するように構成されている。

【００４４】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、基準位置に位置する開口部に対して、共焦点光学系
のフォーカスが最適に調整されているから、基準位置に
位置する開口部内の支持体が励起されて、放出した蛍光
またはフォトルミネッセンスを光電的に検出して得たデ
ィジタルデータの信号強度に比して、基準位置に位置す
る開口部以外の開口部内の支持体が励起されて、放出し
た蛍光またはフォトルミネッセンスを光電的に検出して
得たディジタルデータの信号強度は小さく、したがっ
て、シェーディング評価用デバイスのディジタルデータ
に基づき、基準位置に位置する開口部以外の開口部内の
支持体が励起されて、放出した蛍光またはフォトルミネ
ッセンスを光電的に検出して得たディジタルデータの信
号強度が、基準位置に位置する開口部内の支持体が励起
されて、放出した蛍光またはフォトルミネッセンスを光
電的に検出して得たディジタルデータの信号強度と等し
くなるように、ディジタルデータを補正することのでき
るシェーディング補正データを生成し、こうして生成さ
れたシェーディング補正データを用いて、サンプルのデ
ィジタルデータを補正することによって、サンプルのデ
ィジタルデータのシェーディングを効果的に補正するこ
とが可能になる。

【００４５】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記レーザ光による走査の画素ピッチが、前記レー
ザ光のビーム径とほぼ同等か、または、それ以下に設定
される。

【００４６】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記レーザ光の波長毎に、前記シェーディング補正
データを生成するように構成されている。

【００４７】レーザ光の波長が異なると、共焦点光学系
のフォーカス位置が変化し、ディジタルデータ中に生成
されるシェーディングも変化するが、本発明のさらに好
ましい実施態様によれば、レーザ光の波長毎に、シェー
ディング補正データを生成するように構成されているか
ら、蛍光物質などの標識物質を最も効率的に励起するこ
とのできる波長のレーザ光を、適宜、選択して、サンプ
ルを励起して、サンプルから放出された光を光電的に検
出する場合にも、所望のように、サンプルのディジタル
データのシェーディングを補正することが可能になる。

【００４８】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、さらに、前記シェーディング補正データをメモリに
記憶するように構成されている。

【００４９】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、シェーディング補正データがメモリに記憶されてい
るから、メモリに記憶されているシェーディング補正デ
ータを読み出し、所望のように、サンプルのディジタル
データのシェーディングを補正することが可能になる。

【００５０】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記支持体が、前記レーザ光の照射を受けても、劣
化しない材料によって形成されている。

【００５１】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、支持体が、レーザ光の照射を受けても、劣化しない
材料によって形成されているから、スキャナ用のシェー
ディング評価用デバイスを繰り返し、使用して、データ
のシェーディングを精度よく評価することが可能にな
る。

【００５２】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、ＩＶ族元素、ＩＩ−ＶＩ族化合物、ＩＩＩ−Ｖ族化
合物およびこれらの複合体よりなる群から選ばれた材料
によって形成されている。

【００５３】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、ＩＶ族元素、ＩＩ−ＶＩ族化合物、ＩＩＩ−Ｖ族化
合物およびこれらの複合体よりなる群から選ばれた材料
は、光学的な平面性を保持して加工可能であり、かつ、
レーザ光の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッ
センスを放出する性質を有しており、金属膜のマスクを
支持体上に設けることによって、支持体が露出される多
数の開口部を規則的に形成することができるから、レー
ザ光により、規則的に形成された多数の開口部内の支持
体を、走査して、多数の開口部内の支持体から放出され
た蛍光またはフォトルミネッセンスを光電的に検出する
ことによって、データのシェーディングを精度よく評価
することが可能になる。

【００５４】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および石灰石よりな
る群から選ばれた材料を主成分とするガラスに、ＣｄＳ
−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された色ガラスフ
イルタによって形成されている。

【００５５】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、珪砂、ソーダ灰および石灰石よりなる群から選ばれ
た材料を主成分とするガラスに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固
溶体をドープして形成された色ガラスフイルタは、光学
的な平面性を保持して加工可能であり、かつ、レーザ光
の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッセンスを
放出する性質を有しており、金属膜のマスクを支持体上
に設けることによって、支持体が露出される多数の開口
部を規則的に形成することができるから、レーザ光によ
り、規則的に形成された多数の開口部内の支持体を、走
査して、多数の開口部内の支持体から放出された蛍光ま
たはフォトルミネッセンスを光電的に検出することによ
って、データのシェーディングを精度よく評価すること
が可能になる。

【００５６】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および石灰石よ
りなる群から選ばれた材料を主成分とするガラスに、Ｚ
ｎＳ−ＣｄＳの固溶体をドープして形成された色ガラス
フィルタによって形成されている。

【００５７】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、珪砂、ソーダ灰および石灰石よりなる群から選ばれ
た材料を主成分とするガラスに、ＺｎＳ−ＣｄＳの固溶
体をドープして形成された色ガラスフィルタは、光学的
な平面性を保持して加工可能であり、かつ、レーザ光の
照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッセンスを放
出する性質を有しており、金属膜のマスクを支持体上に
設けることによって、支持体が露出される多数の開口部
を規則的に形成することができるから、レーザ光によ
り、規則的に形成された多数の開口部内の支持体を、走
査して、多数の開口部内の支持体から放出された蛍光ま
たはフォトルミネッセンスを光電的に検出することによ
って、データのシェーディングを精度よく評価すること
が可能になる。

【００５８】本発明のさらに別の好ましい実施態様にお
いては、前記支持体が、ＩｎＧａＡｓＰ層と、ＧａＡｓ
層の積層体によって形成され、前記金属膜のマスクが、
前記ＩｎＧａＡｓＰ層上に設けられている。

【００５９】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、ＩｎＧａＡｓＰ層と、ＧａＡｓ層との積層体は、光
学的な平面性を保持して加工可能であり、かつ、レーザ
光の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッセンス
を放出する性質を有しており、金属膜のマスクを支持体
上に設けることによって、支持体が露出される多数の開
口部を規則的に形成することができるから、レーザ光に
よって、規則的に形成された多数の開口部内の支持体
を、走査して、多数の開口部内の支持体から放出された
蛍光またはフォトルミネッセンスを光電的に検出するこ
とによって、データのシェーディングを精度よく評価す
ることが可能になる。

【００６０】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜が、スパッタリング、ＣＶＤおよび蒸着
よりなる群から選ばれる形成方法によって形成されてい
る。

【００６１】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜が、スパッタリングによって形成されて
いる。

【００６２】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜が、クロム、アルミニウム、金、ニッケ
ル−クロム合金およびチタン−ニッケル−クロムよりな
る群から選ばれる材料によって形成されている。

【００６３】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜が、クロムによって形成されている。

【００６４】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、金属膜が、クロムによって形成されているから、フ
ォーカス位置決定用デバイスの機械的強度を向上させる
ことが可能になる。

【００６５】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記レーザ光の走査方向に対する前記開口部の幅
が、前記レーザ光のビーム径の０．５ないし２倍に形成
されている。

【００６６】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、レーザ光の走査方向に対する開口部の幅が、レーザ
光のビーム径の０．５ないし２倍に形成されているか
ら、多数の開口部内の支持体のみに、レーザ光を照射し
て、励起し、開口部内の支持体から放出された蛍光また
はフォトルミネッセンスのみを検出することができ、し
たがって、精度よく、データのシェーディングを評価す
ることが可能になる。

【００６７】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記レーザ光の走査方向に対する前記開口部の幅
が、前記レーザ光のビーム径の０．８ないし１．２倍に
形成されている。

【００６８】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、レーザ光の走査方向に対する開口部の幅が、レーザ
光のビーム径の０．８ないし１．２倍に形成されている
から、多数の開口部内の支持体のみに、レーザ光を照射
して、励起し、開口部内の支持体から放出された蛍光ま
たはフォトルミネッセンスのみを検出することができ、
したがって、精度よく、データのシェーディングを評価
することが可能になる。

【００６９】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、レーザ光の走査方向に対する前記開口部の幅が、前
記レーザ光のビーム径とほぼ同等に形成されている。

【００７０】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、レーザ光の走査方向に対する開口部の幅が、レーザ
光のビーム径とほぼ同等に形成されているから、多数の
開口部内の支持体のみに、レーザ光を照射して、励起
し、開口部内の支持体から放出された蛍光またはフォト
ルミネッセンスのみを検出することができ、したがっ
て、精度よく、データのシェーディングを評価すること
が可能になる。

【００７１】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記金属膜のマスクが、約１０ミクロン以下の膜厚
を有している。

【００７２】本発明の前記目的はまた、サンプルを、レ
ーザ光によって走査し、前記サンプルから放出された光
を光電的に検出して、アナログデータを生成し、前記ア
ナログデータをディジタル化して、前記サンプルのディ
ジタルデータを生成し、前記サンプルのディジタルデー
タを、上述のシェーディング補正データ生成方法によっ
て生成され、前記メモリに記憶された前記シェーディン
グ補正データに基づいて、補正することを特徴とする共
焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング補
正方法によって達成される。

【００７３】本発明によれば、光学的な平面性を保持し
て加工可能で、レーザ光の照射を受けると、蛍光または
フォトルミネッセンスを放出する性質を有する支持体上
に、金属膜のマスクが設けられて、それによって、支持
体を露出する多数の開口部が規則的に形成されたシェー
ディング評価用デバイスを、レーザ光によって、走査
し、露出部を介して、支持体を励起し、支持体から放出
される蛍光またはフォトルミネッセンスを、露出部を介
して、光電的に検出し、ディジタル化して、生成された
ディジタルデータに基づいて、シェーディング評価用デ
バイスのディジタルデータを生成し、シェーディング評
価用デバイスのディジタルデータに基づき、シェーディ
ング補正データを生成して、メモリに記憶させ、メモリ
に記憶されたシェーディング補正データに基づいて、サ
ンプルのディジタルデータを補正するように構成されて
いるから、サンプルのディジタルデータ中のシェーディ
ングを精度よく補正することが可能になる。

【００７４】本発明の前記目的はまた、レーザ光を発す
る少なくとも１つのレーザ励起光源と、サンプルを載置
するサンプルステージと、前記少なくとも１つのレーザ
励起光源から発せられたレーザ光によって、前記サンプ
ルステージに載置された前記サンプルを走査可能なよう
に、前記サンプルステージを移動させる走査手段と、共
焦点光学系と、光を光電的に検出する光検出器と、メモ
リと、前記サンプルのディジタルデータ中のシェーディ
ングを補正するシェーディング補正手段を備えたスキャ
ナであって、前記メモリに、上述のシェーディング補正
データ生成方法によって生成された前記シェーディング
補正データが記憶され、前記シェーディング補正手段
が、前記メモリに記憶された前記シェーディング補正デ
ータに基づいて、前記サンプルのディジタルデータを補
正するように構成されたことを特徴とするスキャナによ
って達成される。

【００７５】本発明によれば、スキャナは、レーザ光を
発する少なくとも１つのレーザ励起光源と、サンプルを
載置するサンプルステージと、少なくとも１つのレーザ
励起光源から発せられたレーザ光によって、サンプルス
テージに載置されたサンプルを走査可能なように、サン
プルステージを移動させる走査手段と、共焦点光学系
と、光を光電的に検出する光検出器と、メモリと、サン
プルのディジタルデータ中のシェーディングを補正する
シェーディング補正手段を備え、メモリに、シェーディ
ング補正データ生成方法によって生成されたシェーディ
ング補正データが記憶され、シェーディング補正手段
が、メモリに記憶されたシェーディング補正データに基
づいて、サンプルのディジタルデータを補正するように
構成されているから、サンプルのディジタルデータ中の
シェーディングを精度よく補正することが可能になる。

【００７６】本発明の好ましい実施態様においては、前
記走査手段が、前記サンプルステージを、前記少なくと
も１つのレーザ励起光源から発せられたレーザ光のビー
ム径とほぼ同等か、または、それ以下の画素ピッチで、
移動させるように構成されている。

【００７７】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記メモリが、２以上の異なる波長の前記レーザ光
毎に、シェーディング補正データを記憶している。

【００７８】レーザ光の波長が異なると、共焦点光学系
のフォーカス位置が変化し、ディジタルデータ中に生成
されるシェーディングも変化するが、本発明のさらに好
ましい実施態様によれば、メモリが、２以上の異なる波
長のレーザ光毎に、シェーディング補正データを記憶す
るように構成されているから、蛍光物質などの標識物質
を最も効率的に励起することのできる波長のレーザ光
を、適宜、選択して、サンプルを励起して、サンプルか
ら放出された光を光電的に検出する場合にも、所望のよ
うに、サンプルのディジタルデータのシェーディングを
補正することが可能になる。

【００７９】

【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて、本発
明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。

【００８０】図１は、本発明の好ましい実施態様にかか
るシェーディング補正方法により、シェーディングが補
正される共焦点光学系を備えたスキャナの略斜視図であ
り、本実施態様にかかる共焦点光学系を備えたスキャナ
は、サンプルに含まれた標識物質を励起し、標識物質か
ら放出された光を検出して、生化学解析用のデータを生
成するように構成されている。

【００８１】図１に示されるように、本実施態様にかか
るスキャナは、６４０ｎｍの波長のレーザ光４を発する
第１のレーザ励起光源１と、５３２ｎｍの波長のレーザ
光４を発する第２のレーザ励起光源２と、４７３ｎｍの
波長のレーザ光４を発する第３のレーザ励起光源３とを
備えている。本実施態様においては、第１のレーザ励起
光源は、半導体レーザ光源によって構成され、第２のレ
ーザ励起光源２および第３のレーザ励起光源３は、第二
高調波生成（Second Harmonic Generation) 素子によっ
て構成されている。

【００８２】第１のレーザ励起光源１により発生された
レーザ光４は、コリメータレンズ５により、平行光とさ
れた後、ミラー６によって反射される。第１のレーザ励
起光源１から発せられ、ミラー６によって反射されたレ
ーザ光４の光路には、６４０ｎｍのレーザ光４を透過
し、５３２ｎｍの波長の光を反射する第１のダイクロイ
ックミラー７および５３２ｎｍ以上の波長の光を透過
し、４７３ｎｍの波長の光を反射する第２のダイクロイ
ックミラー８が設けられており、第１のレーザ励起光源
１により発生されたレーザ光４は、第１のダイクロイッ
クミラー７および第２のダイクロイックミラー８を透過
して、光学ヘッド１５に入射する。

【００８３】他方、第２のレーザ励起光源２より発生さ
れたレーザ光４は、コリメータレンズ９により、平行光
とされた後、第１のダイクロイックミラー７によって反
射されて、その向きが９０度変えられて、第２のダイク
ロイックミラー８を透過し、光学ヘッド１５に入射す
る。

【００８４】また、第３のレーザ励起光源３から発生さ
れたレーザ光４は、コリメータレンズ１０によって、平
行光とされた後、第２のダイクロイックミラー８により
反射されて、その向きが９０度変えられた後、光学ヘッ
ド１５に入射する。

【００８５】光学ヘッド１５は、ミラー１６と、その中
央部に、穴１７が形成された穴明きミラー１８と、レン
ズ１９を備えており、光学ヘッド１５に入射したレーザ
光４は、ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１
８に形成された穴１７およびレンズ１９を通過して、サ
ンプルステージ２０にセットされたサンプルキャリア２
１上に入射する。ここに、サンプルステージ２０は、走
査機構（図１においては、図示せず）によって、図１に
おいて、Ｘ方向およびＹ方向に移動可能に構成されてい
る。

【００８６】本実施態様にかかるスキャナは、スライド
ガラス板を担体とし、蛍光色素によって選択的に標識さ
れた試料の数多くのスポットが、スライドガラス板上に
形成されているマイクロアレイを、レーザ光４によって
走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された
蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデータを生成
可能に構成され、さらに、蛍光色素によって、選択的に
標識された変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍
光サンプルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素
を励起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出
して、生化学解析用のデータを生成可能に構成されると
ともに、放射性標識物質によって選択的に標識された試
料の数多くのスポットが形成されたメンブレンフィルタ
などの担体を、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が形
成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍光
体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記録さ
れた蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レーザ光
４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽性蛍
光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生化学
解析用のデータを生成可能に構成されている。

【００８７】レーザ光４が、光学ヘッド１５から、サン
プル２２上に入射すると、サンプル２２が、マイクロア
レイや蛍光サンプルの場合には、レーザ光４によって、
蛍光物質が励起されて、蛍光が発せられ、また、サンプ
ル２２が、蓄積性蛍光体シートの場合には、輝尽性蛍光
体層に含まれた輝尽性蛍光体が励起され、輝尽光が発せ
られる。

【００８８】サンプル２２から発せられた蛍光または輝
尽光２５は、光学ヘッド１５のレンズ１９によって、平
行な光にされ、穴明きミラー１７によって反射されて、
４枚のフィルタ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄを備え
たフィルタユニット２７のいずれかのフィルタ２８ａ、
２８ｂ、２８ｃ、２８ｄに入射する。

【００８９】フィルタユニット２７は、モータ（図示せ
ず）によって、図１において、左右方向に移動可能に構
成され、使用されるレーザ励起光源の種類によって、所
定のフィルタ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄが、蛍光
または輝尽光２５の光路に位置するように構成されてい
る。

【００９０】ここに、フィルタ２８ａは、第１のレーザ
励起光源１を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光
物質を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィル
タであり、６４０ｎｍの波長の光をカットし、６４０ｎ
ｍよりも波長の長い光を透過する性質を有している。

【００９１】また、フィルタ２８ｂは、第２のレーザ励
起光源２を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光色
素を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィルタ
であり、５３２ｎｍの波長の光をカットし、５３２ｎｍ
よりも波長の長い光を透過する性質を有している。

【００９２】さらに、フィルタ２８ｃは、第３のレーザ
励起光源３を用いて、サンプル２２に含まれている蛍光
色素を励起し、蛍光を読み取るときに使用されるフィル
タであり、４７３ｎｍの波長の光をカットし、４７３ｎ
ｍよりも波長の長い光を透過する性質を有している。

【００９３】また、フィルタ２８ｄは、サンプル２２が
蓄積性蛍光体シートである場合に、第１のレーザ励起光
源１を用いて、蓄積性蛍光体シートに含まれた輝尽性蛍
光体を励起し、輝尽性蛍光体から発せられた輝尽光を読
み取るときに使用されるフィルタであり、輝尽性蛍光体
から発光される輝尽光の波長域の光のみを透過し、６４
０ｎｍの波長の光をカットする性質を有している。

【００９４】したがって、使用すべきレーザ励起光源の
種類、すなわち、サンプルの種類、試料を標識している
蛍光物質の種類に応じて、これらのフィルタ２８ａ、２
８ｂ、２８ｃ、２８ｄを選択的に使用することによて、
ノイズとなる波長域の光をカットすることが可能にな
る。

【００９５】フィルタユニット２７のフィルタ２８ａ、
２８ｂ、２８ｃを透過して、所定の波長域の光がカット
された後、蛍光または輝尽光２５は、ミラー２９に入射
し、反射されて、レンズ３０によって、集光される。

【００９６】レンズ１９とレンズ３０は、共焦点光学系
を構成している。このように、共焦点光学系を採用して
いるのは、サンプル２２が、スライドガラス板を担体と
したマイクロアレイの場合に、スライドガラス板上に形
成された微小なスポット状試料から放出された蛍光を、
高いＳ／Ｎ比で読み取ることができるようにするためで
ある。

【００９７】レンズ３０の焦点の位置には、共焦点切り
換え部材３１が設けられている。

【００９８】図２は、共焦点切り換え部材３１の略正面
図である。

【００９９】図２に示されるように、共焦点切り換え部
材３１は、板状をなし、径の異なる３つのピンホール３
２ａ、３２ｂ、３２ｃが形成されている。

【０１００】最も径の小さいピンホール３２ａは、サン
プル２２が、スライドガラス板を担体としたマイクロア
レイの場合に、マイクロアレイから放出された蛍光の光
路に配置されるものであり、最も径の大きいピンホール
３２ｃは、サンプル２２が、転写支持体を担体とした蛍
光サンプルの場合に、転写支持体から放出された蛍光の
光路に配置されるものである。

【０１０１】また、中間の径を有するピンホール３２ｂ
は、サンプル２２が、蓄積性蛍光体シートである場合
に、輝尽性蛍光体層から放出された輝尽光の光路に配置
されるものである。

【０１０２】このように、レンズ３０の焦点の位置に、
共焦点切り換え部材３１を設けて、サンプル２２が、ス
ライドガラス板を担体としたマイクロアレイの場合に、
最も径の小さいピンホール３２ａを蛍光の光路に位置さ
せているのは、サンプル２２が、スライドガラス板を担
体としたマイクロアレイの場合には、レーザ光４によっ
て、蛍光色素を励起した結果、蛍光はスライドガラス板
の表面から放出され、発光点は深さ方向にほぼ一定であ
るため、共焦点光学系を用いて、径の小さいピンホール
３２ａに結像させることがＳ／Ｎ比を向上させる上で望
ましいからである。

【０１０３】これに対して、サンプル２２が、転写支持
体を担体とした蛍光サンプルの場合に、最も径の大きい
ピンホール３２ｃを蛍光の光路に位置させているのは、
サンプル２２が、転写支持体を担体とした蛍光サンプル
の場合には、レーザ光４によって、蛍光色素を励起した
ときに、蛍光色素はゲル支持体の深さ方向に分布してお
り、しかも、発光点が深さ方向に変動するので、共焦点
光学系によって、径の小さいピンホールに結像させるこ
とができず、径の小さいピンホールを用いると、試料か
ら放出された蛍光がカットされ、蛍光を光電的に検出し
たときに、十分な信号強度が得られないため、径の大き
いピンホール３２ｃを用いる必要があるからである。

【０１０４】他方、サンプル２２が蓄積性蛍光体シート
である場合に、中間の径を有するピンホール３２ｂを輝
尽光の光路に位置させているのは、レーザ光４によっ
て、輝尽性蛍光体層に含まれた輝尽性蛍光体を励起した
ときは、輝尽光の発光点は輝尽性蛍光体層の深さ方向に
分布し、発光点は深さ方向に変動するので、共焦点光学
系によって、径の小さいピンホールに結像させることが
できず、径の小さいピンホールを用いると、試料から放
出された輝尽光がカットされ、輝尽光を光電的に検出し
たときに、十分な信号強度が得られないが、発光点の深
さ方向における分布も、発光点の深さ方向の変動も、ゲ
ル支持体を担体としたマイクロアレイほどではないた
め、中間の径を有するピンホール３２ｂを用いることが
望ましいからである。

【０１０５】共焦点切り換え部材３１を通過した蛍光あ
るいは輝尽光は、フォトマルチプライア３３によって光
電的に検出され、アナログデータが生成される。

【０１０６】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
る。

【０１０７】図３は、サンプルステージ２０の走査機構
のうち、主走査機構の詳細を示す略斜視図である。

【０１０８】図３に示されるように、副走査用モータ
（図示せず）により、図３において、矢印Ｙで示される
副走査方向に移動可能な可動基板４０上には、一対のガ
イドレール４１、４１が固定されており、サンプルステ
ージ２０は、一対のガイドレール４１、４１に、スライ
ド可能に取り付けられた３つのスライド部材４２、４２
（図３においては、２つのみ図示されている。）に固定
されている。

【０１０９】図３に示されるように、可動基板４０上に
は、主走査用モータ４３が固定されており、主走査用モ
ータ４３の出力軸４３ａには、プーリ４４に巻回された
タイミングベルト４５が巻回されるとともに、ロータリ
ーエンコーダ４６が取り付けられている。

【０１１０】したがって、主走査用モータ４３を駆動す
ることによって、サンプルステージ２０を、一対のガイ
ドレール４１、４１に沿って、図３において、矢印Ｘで
示される主走査方向に往復移動させ、一方、副走査用モ
ータ（図示せず）によって、可動基板４０を副走査方向
に移動させることによって、サンプルステージ２０を二
次元的に移動させ、サンプルステージ２０にセットされ
たサンプル２２の全面を、レーザ光４によって、走査す
ることが可能になる。

【０１１１】本実施態様においては、サンプルステージ
２０は、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、主走査方向に移動されるように構成されている。

【０１１２】ここに、サンプルステージ２０の位置は、
ロータリーエンコーダ４６により、モニターすることが
できるように構成されている。

【０１１３】図４は、スキャナの検出系、駆動系、入力
系および制御系を示すブロックダイアグラムである。

【０１１４】図４に示されるように、スキャナの制御系
は、コントロールユニット５０と、ＲＡＭ５１と、ＥＰ
ＲＯＭ５２と、データ処理装置３５を備えている。

【０１１５】図４に示されるように、スキャナの検出系
は、ロータリーエンコーダ４６と、サンプルステージ２
０にセットされたサンプル２２を把持するキャリアの種
類を検出するキャリアセンサ５３を備えている。

【０１１６】図４に示されるように、スキャナの駆動系
は、フィルタユニット２７を移動させるフィルタユニッ
トモータ５４と、共焦点切り換え部材３１を移動させる
切り換え部材モータ５５と、サンプルステージ２０を主
走査方向に移動させる主走査用モータ４３と、サンプル
ステージ２０を副走査方向に移動させる副走査用モータ
４７と、サンプルステージ２０に対して、光学ヘッド１
５のレンズ１９を、蛍光あるいは輝尽光２５の光路に沿
って移動させるステッピングモータ５６を備えている。

【０１１７】また、図４に示されるように、スキャナの
入力系は、キーボード５７を備えている。

【０１１８】以上のように構成された共焦点光学系を備
えたスキャナにおいては、サンプル２２へのレーザ光４
の照射に先立って、まず、フォーカス位置決定用デバイ
スを用いて、共焦点光学系のフォーカスが調整される。

【０１１９】図５は、共焦点光学系のフォーカスを調整
するためのフォーカス位置決定用デバイスの略縦断面図
である。

【０１２０】図５に示されるように、共焦点光学系のフ
ォーカスを調整するためのフォーカス位置決定用デバイ
ス６０は、レーザ光４が照射されると、蛍光を放出し、
その一方で、レーザ光４の照射を受けても、劣化しない
性質を有する色ガラスフィルタ６１と、その表面に形成
されたクロムの蒸着膜６２のマスクを備え、クロムの蒸
着膜６２によって、レーザ光４の走査方向に対する幅
が、レーザ光４のビーム径とほぼ同等のスリット６３
が、フォーカス位置決定用デバイス６０のほぼ中央部
に、形成されている。

【０１２１】本実施態様においては、色ガラスフィルタ
６１は、ほぼ矩形状をなし、珪砂、ソーダ灰および石灰
石などを主成分とするガラスに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固
溶体をドープして形成され、スリット６３は、色ガラス
フィルタ６１のほぼ中央部に形成されている。

【０１２２】本実施態様においては、レーザ光４のビー
ム径は１０ミクロンに調整されており、したがって、レ
ーザ光４の走査方向に対する幅が、約１０ミクロンにな
るように、スリット６３が形成されている。

【０１２３】また、本実施態様においては、クロムの蒸
着膜６２は、１０ミクロン以下の膜厚を有するように形
成されている。

【０１２４】本実施態様においては、フォーカス位置決
定用デバイス６０を用いて、以下のようにして、スキャ
ナの共焦点光学系のフォーカスが調整される。

【０１２５】共焦点光学系のフォーカス位置決定にあた
っては、まず、フォーカス位置決定用デバイス６０のほ
ぼ中央部に形成されているスリット６３が、サンプルス
テージ２０のほぼ中央部に位置するように、フォーカス
位置決定用デバイス６０がサンプルステージ２０に載置
される。

【０１２６】次いで、オペレータによって、フォーカス
位置決定信号が、キーボード５７に入力されると、フォ
ーカス位置決定信号は、コントロールユニット５０に出
力される。

【０１２７】フォーカス位置決定信号が入力されると、
コントロールユニット５０は、光学ヘッド１５のレンズ
１９の位置を検出して、ゼロ位置として、ＲＡＭ５１に
記憶させる。

【０１２８】さらに、コントロールユニット５０は、切
り換え部材モータ７２に駆動信号を出力して、共焦点切
り換え部材３１を、最も径の小さいピンホール３２ａが
光路内に位置するように、移動させる。

【０１２９】次いで、コントロールユニット５０は、フ
ィルタユニットモータ７１に駆動信号を出力して、フィ
ルタユニット２７を移動させ、６４０ｎｍの波長の光を
カットし、６４０ｎｍよりも波長の長い光を透過する性
質を有するフィルタ２８ａを光路内に位置させるととも
に、第１のレーザ励起光源１を起動させる。

【０１３０】その結果、第１のレーザ励起光源１から、
６４０ｎｍの波長のレーザ光４が発せられ、レーザ光４
は、コリメータレンズ５によって、平行な光とされた
後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロイック
ミラー７および第２のダイクロイックミラー８を透過し
て、光学ヘッド１５に入射する。

【０１３１】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０に載置されて、セットされた
フォーカス位置決定用デバイス６０に入射する。

【０１３２】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画
素ピッチで、において、矢印Ｘで示される主走査方向に
移動されるとともに、副走査用モータ４７により、図３
において、矢印Ｙで示される副走査方向に移動されるた
め、６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって、サンプル
ステージ２０に載置されたフォーカス位置決定用デバイ
ス６０の全面が走査される。

【０１３３】スリット６３を介して、レーザ光４の照射
を受けると、フォーカス位置決定用デバイス６０の色ガ
ラスフィルタ６１が励起されて、蛍光が放出される。

【０１３４】色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光
２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明き
ミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７に
入射する。

【０１３５】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ａ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５は、６４０ｎｍの波長の光をカットし、６４０ｎｍよ
りも波長の長い光を透過させる性質を有するフィルタ２
８ａに入射する。

【０１３６】ここに、蛍光の波長は、励起光であるレー
ザ光４の波長よりも長いため、レーザ光４がカットさ
れ、色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５のみ
が、フィルタ２８ａを透過する。

【０１３７】フィルタ２８ａを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、最も
径の小さいピンホール３２ａ上に集光され、フォトマル
チプライア３３によって、光電的に検出されて、アナロ
グデータが生成される。

【０１３８】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４により、ディジ
タルデータに変換されて、データ処理装置３５に送られ
る。

【０１３９】図６は、データ処理装置のブロックダイア
グラムである。

【０１４０】図６に示されるように、データ処理装置３
５は、Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタル化されたデ
ィジタルデータを記憶するデータ記憶部６５と、データ
処理を実行するデータ処理部６６と、データ処理部６６
により生成されたシェーディング補正データを記憶する
シェーディング補正データ記憶部６７を備えている。

【０１４１】Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタルデー
タに変換され、データ処理装置３５に出力されたディジ
タルデータは、データ記憶部６５に記憶される。

【０１４２】フォーカス位置決定用デバイス６０の全面
が、６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって走査され、
色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５が、フォ
トマルチプライア３３によって光電的に検出され、Ａ／
Ｄ変換器３４によってディジタル化されたディジタルデ
ータが、データ記憶部６５に記憶されると、コントロー
ルユニット５０は、第１のレーザ励起光源１をオフし、
データ処理部６６に、ディジタルデータを、データ記憶
部６５から読み出させる。

【０１４３】データ処理部６６は、データ記憶部６５か
ら読み出したディジタルデータの信号強度を積分し、蛍
光２５の信号強度の積分値を、コントロールユニット５
０に出力する。

【０１４４】コントロールユニット５０は、データ処理
装置３５のデータ処理部６６から入力された蛍光２５の
信号強度の積分値を、光学ヘッド１５のレンズ１９の位
置、すなわち、光学ヘッド１５のレンズ１９を移動させ
るステッピングモータ５６に与えた駆動パルスと関連づ
けて、ＲＡＭ５１に記憶させる。この時点では、まだ、
ステッピングモータ５６に、駆動パルスを与えていない
ため、ゼロ位置が、蛍光２５の信号強度の積分値ととも
に、ＲＡＭ５１に記憶される。

【０１４５】データ処理装置３５のデータ処理部６６か
ら、蛍光２５の信号強度の積分値が入力され、ＲＡＭ５
１に記憶させると、コントロールユニット５０は、ステ
ッピングモータ５６に、駆動パルス信号を出力して、光
学ヘッド１５のレンズ１９を、蛍光あるいは輝尽光２５
の光路に沿って、サンプルステージ２０に対し、１０ミ
クロンだけ、移動させ、再び、第１のレーザ励起光源１
を起動する。

【０１４６】フォーカス位置決定用デバイス６０の全面
が、６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって走査され、
色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５が、フォ
トマルチプライア３３によって光電的に検出され、Ａ／
Ｄ変換器３４によってディジタル化されたディジタルデ
ータが、データ記憶部６５に記憶されると、コントロー
ルユニット５０は、第１のレーザ励起光源１をオフし、
データ処理部６６に、ディジタルデータを、データ記憶
部６５から読み出させる。

【０１４７】データ処理部６６は、データ記憶部６５か
ら読み出したディジタルデータの信号強度を積分し、蛍
光２５の信号強度の積分値を、コントロールユニット５
０に出力する。

【０１４８】コントロールユニット５０は、データ処理
装置３５のデータ処理部６６から入力された蛍光２５の
信号強度の積分値を、光学ヘッド１５のレンズ１９の位
置、すなわち、光学ヘッド１５のレンズ１９を移動させ
るステッピングモータ５６に与えた駆動パルスと関連づ
けて、ＲＡＭ５１に記憶させる。

【０１４９】データ処理装置３５のデータ処理部６６か
ら、蛍光２５の信号強度の積分値が入力され、ＲＡＭ５
１に記憶させると、コントロールユニット５０は、ステ
ッピングモータ５６に、駆動パルス信号を出力して、光
学ヘッド１５のレンズ１９を、蛍光あるいは輝尽光２５
の光路に沿って、サンプルステージ２０に対し、１０ミ
クロンだけ、移動させ、再び、第１のレーザ励起光源１
を起動する。

【０１５０】６４０ｎｍの波長のレーザ光４による色ガ
ラスフィルタ６１の励起、蛍光２５の検出、ディジタル
データ生成、蛍光２５の信号強度の積分値の算出および
ＲＡＭ５１への記憶のサイクルを、所定の回数にわたっ
て、繰り返した後、コントロールユニット５０は、ＲＡ
Ｍ５１に記憶されている蛍光２５の信号強度の積分値
と、光学ヘッド１５のレンズ１９の位置に基づき、蛍光
２５の信号強度の積分値の最大値が生成されたレンズ１
９の位置を、光学ヘッド１５のレンズ１９を、ゼロ位置
から移動させるために、ステッピングモータ５６に与え
た駆動パルス数の形で求め、第１のレーザ励起光源１を
用いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置データとし
て、ＥＰＲＯＭ５２に記憶させる。

【０１５１】こうして、第１のレーザ励起光源１を用い
た場合の共焦点光学系のフォーカス位置が決定されて、
ステッピングモータ５６に与えた駆動パルスの形で、Ｒ
ＡＭ５１に記憶されると、コントロールユニット５０
は、ステッピングモータ５６に駆動信号を出力して、光
学ヘッド１５のレンズ１９を元の位置に復帰させ、その
位置をゼロ位置として、ＲＡＭ５１に記憶させる。

【０１５２】次いで、最も径の小さいピンホール３２ａ
が光路内に位置させたまま、共焦点切り換え部材３１を
保持しつつ、コントロールユニット５０は、フィルタユ
ニットモータ７１に駆動信号を出力して、フィルタユニ
ット２７を移動させ、５３２ｎｍの波長の光をカット
し、５３２ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質を有
するフィルタ２８ｂを光路内に位置させるとともに、第
２のレーザ励起光源２を起動させる。

【０１５３】第２のレーザ励起光源２から発せられた５
３２ｎｍの波長のレーザ光４は、コリメータレンズ９に
よって、平行な光とされた後、第１のダイクロイックミ
ラー７に入射して、反射される。

【０１５４】第１のダイクロイックミラー７によって反
射されたレーザ光４は、第２のダイクロイックミラー８
を透過し、光学ヘッド１５に入射する。

【０１５５】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０に載置されて、セットされた
フォーカス位置決定用デバイス６０に入射する。

【０１５６】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動されるとともに、副走査用モータ４７により、
図３において、矢印Ｙで示される副走査方向に移動され
るため、５３２ｎｍの波長のレーザ光４によって、サン
プルステージ２０に載置されたフォーカス位置決定用デ
バイス６０の全面が走査される。

【０１５７】スリット６３を介して、レーザ光４の照射
を受けると、フォーカス位置決定用デバイス６０の色ガ
ラスフィルタ６１が励起されて、蛍光が放出される。

【０１５８】色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光
２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明き
ミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７に
入射する。

【０１５９】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｂ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５は、５３２ｎｍの波長の光をカットし、５３２ｎｍよ
りも波長の長い光を透過させる性質を有するフィルタ２
８ｂに入射する。

【０１６０】ここに、蛍光の波長は、励起光であるレー
ザ光４の波長よりも長いため、レーザ光４がカットさ
れ、色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５のみ
が、フィルタ２８ｂを透過する。

【０１６１】フィルタ２８ｂを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、最も
径の小さいピンホール３２ａ上に集光され、フォトマル
チプライア３３によって、光電的に検出されて、アナロ
グデータが生成される。

【０１６２】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４により、ディジ
タルデータに変換されて、データ処理装置３５に送られ
る。

【０１６３】Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタルデー
タに変換され、データ処理装置３５に出力されたディジ
タルデータは、データ記憶部６５に記憶される。

【０１６４】フォーカス位置決定用デバイス６０の全面
が、５３２ｎｍの波長のレーザ光４によって走査され、
色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５が、フォ
トマルチプライア３３によって光電的に検出され、Ａ／
Ｄ変換器３４によってディジタル化されたディジタルデ
ータが、データ記憶部６５に記憶されると、コントロー
ルユニット５０は、第２のレーザ励起光源２をオフし、
データ処理部６６に、ディジタルデータを、データ記憶
部６５から読み出させる。

【０１６５】データ処理部６６は、データ記憶部６５か
ら読み出したディジタルデータの信号強度を積分し、蛍
光２５の信号強度の積分値を、コントロールユニット５
０に出力する。

【０１６６】コントロールユニット５０は、データ処理
装置３５のデータ処理部６６から入力された蛍光２５の
信号強度の積分値を、光学ヘッド１５のレンズ１９の位
置、すなわち、光学ヘッド１５のレンズ１９を移動させ
るステッピングモータ５６に与えた駆動パルスと関連づ
けて、ＲＡＭ５１に記憶させる。この時点では、まだ、
ステッピングモータ５６に、駆動パルスを与えていない
ため、ゼロ位置が、蛍光２５の信号強度の積分値ととも
に、ＲＡＭ５１に記憶される。

【０１６７】データ処理装置３５のデータ処理部６６か
ら、蛍光２５の信号強度の積分値が入力され、ＲＡＭ５
１に記憶させると、コントロールユニット５０は、ステ
ッピングモータ５６に、駆動パルス信号を出力して、光
学ヘッド１５のレンズ１９を、蛍光あるいは輝尽光２５
の光路に沿って、サンプルステージ２０に対し、１０ミ
クロンだけ、移動させ、再び、第２のレーザ励起光源２
を起動する。

【０１６８】こうして、第１のレーザ励起光源１を用い
た場合と全く同様に、５３２ｎｍの波長のレーザ光４に
よる色ガラスフィルタ６１の励起、蛍光２５の検出、デ
ィジタルデータ生成、蛍光２５の信号強度の積分値の算
出およびＲＡＭ５１への記憶のサイクルを、所定の回数
にわたって、繰り返した後、コントロールユニット５０
は、ＲＡＭ５１に記憶されている蛍光２５の信号強度の
積分値と、光学ヘッド１５のレンズ１９の位置に基づ
き、蛍光２５の信号強度の積分値の最大値が生成された
レンズ１９の位置を、光学ヘッド１５のレンズ１９を、
ゼロ位置から移動させるために、ステッピングモータ５
６に与えた駆動パルス数の形で求め、第２のレーザ励起
光源２を用いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置デ
ータとして、ＥＰＲＯＭ５２に記憶させる。

【０１６９】以上のようにして、第２のレーザ励起光源
２を用いた場合における共焦点光学系のフォーカス位置
が決定されて、ステッピングモータ５６に与えた駆動パ
ルスの形で、ＲＡＭ５１に記憶されると、コントロール
ユニット５０は、ステッピングモータ５６に駆動信号を
出力して、光学ヘッド１５のレンズ１９を元の位置に復
帰させ、その位置をゼロ位置として、ＲＡＭ５１に記憶
させる。

【０１７０】次いで、最も径の小さいピンホール３２ａ
が光路内に位置させたまま、共焦点切り換え部材３１を
保持しつつ、コントロールユニット５０は、フィルタユ
ニットモータ７１に駆動信号を出力して、フィルタユニ
ット２７を移動させ、４７３ｎｍの波長の光をカット
し、４７３ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質を有
するフィルタ２８ｃを光路内に位置させるとともに、第
３のレーザ励起光源３を起動させる。

【０１７１】第３のレーザ励起光源３から発せられた４
７３ｎｍの波長のレーザ光４は、第２のダイクロイック
ミラー８によって、反射され、光学ヘッド１５に入射す
る。

【０１７２】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０に載置されて、セットされた
フォーカス位置決定用デバイス６０に入射する。

【０１７３】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動されるとともに、副走査用モータ４７により、
図３において、矢印Ｙで示される副走査方向に移動され
るため、４７３ｎｍの波長のレーザ光４によって、サン
プルステージ２０に載置されたフォーカス位置決定用デ
バイス６０の全面が走査される。

【０１７４】スリット６３を介して、レーザ光４の照射
を受けると、フォーカス位置決定用デバイス６０の色ガ
ラスフィルタ６１が励起されて、蛍光が放出される。

【０１７５】色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光
２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明き
ミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７に
入射する。

【０１７６】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｃ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５は、４７３ｎｍの波長の光をカットし、４７３ｎｍよ
りも波長の長い光を透過させる性質を有するフィルタ２
８ｂに入射する。

【０１７７】ここに、蛍光の波長は、励起光であるレー
ザ光４の波長よりも長いため、レーザ光４がカットさ
れ、色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５のみ
が、フィルタ２８ｃを透過する。

【０１７８】フィルタ２８ｃを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、最も
径の小さいピンホール３２ａ上に集光され、フォトマル
チプライア３３によって、光電的に検出されて、アナロ
グデータが生成される。

【０１７９】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４により、ディジ
タルデータに変換されて、データ処理装置３５に送られ
る。

【０１８０】Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタルデー
タに変換され、データ処理装置３５に出力されたディジ
タルデータは、データ記憶部６５に記憶される。

【０１８１】フォーカス位置決定用デバイス６０の全面
が、４７３ｎｍの波長のレーザ光４によって走査され、
色ガラスフィルタ６１から放出された蛍光２５が、フォ
トマルチプライア３３によって光電的に検出され、Ａ／
Ｄ変換器３４によってディジタル化されたディジタルデ
ータが、データ記憶部６５に記憶されると、コントロー
ルユニット５０は、第３のレーザ励起光源３をオフし、
データ処理部６６に、ディジタルデータを、データ記憶
部６５から読み出させる。

【０１８２】データ処理部６６は、データ記憶部６５か
ら読み出したディジタルデータの信号強度を積分し、蛍
光２５の信号強度の積分値を、コントロールユニット５
０に出力する。

【０１８３】コントロールユニット５０は、データ処理
装置３５のデータ処理部６６から入力された蛍光２５の
信号強度の積分値を、光学ヘッド１５のレンズ１９の位
置、すなわち、光学ヘッド１５のレンズ１９を移動させ
るステッピングモータ５６に与えた駆動パルスと関連づ
けて、ＲＡＭ５１に記憶させる。この時点では、まだ、
ステッピングモータ５６に、駆動パルスを与えていない
ため、ゼロ位置が、蛍光２５の信号強度の積分値ととも
に、ＲＡＭ５１に記憶される。

【０１８４】データ処理装置３５のデータ処理部６６か
ら、蛍光２５の信号強度の積分値が入力され、ＲＡＭ５
１に記憶させると、コントロールユニット５０は、ステ
ッピングモータ５６に、駆動パルス信号を出力して、光
学ヘッド１５のレンズ１９を、蛍光あるいは輝尽光２５
の光路に沿って、サンプルステージ２０に対し、１０ミ
クロンだけ、移動させ、再び、第３のレーザ励起光源３
を起動する。

【０１８５】こうして、第１のレーザ励起光源１を用い
た場合と全く同様に、４７３ｎｍの波長のレーザ光４に
よる色ガラスフィルタ６１の励起、蛍光２５の検出、デ
ィジタルデータ生成、蛍光２５の信号強度の積分値の算
出およびＲＡＭ５１への記憶のサイクルを、所定の回数
にわたって、繰り返した後、コントロールユニット５０
は、ＲＡＭ５１に記憶されている蛍光２５の信号強度の
積分値と、光学ヘッド１５のレンズ１９の位置に基づ
き、蛍光２５の信号強度の積分値の最大値が生成された
レンズ１９の位置を、光学ヘッド１５のレンズ１９を、
ゼロ位置から移動させるために、ステッピングモータ５
６に与えた駆動パルス数の形で求め、第３のレーザ励起
光源３を用いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置デ
ータとして、ＥＰＲＯＭ５２に記憶させる。

【０１８６】図７は、以上のようにして、ステッピング
モータ５６により、光学ヘッド１５のレンズ１９の位置
を変えつつ、フォーカス位置決定用デバイス６０を、６
４０ｎｍの波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長のレー
ザ光４および４７３ｎｍの波長のレーザ光４によって、
走査し、フォトマルチプライア３３によって、色ガラス
フィルタ６１から放出された蛍光２５を光電的に検出
し、Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタル化したディジ
タルデータの信号強度の積分値をプロットしたグラフで
ある。

【０１８７】図７において、Ａで示されるプロットデー
タは、６４０ｎｍの波長のレーザ光４を用いた場合のデ
ィジタルデータの信号強度の積分値のプロットデータで
あり、Ｂで示されるプロットデータは、５３２ｎｍの波
長のレーザ光４を用いた場合のディジタルデータの信号
強度の積分値のプロットデータ、Ｃで示されるプロット
データは、４７３ｎｍの波長のレーザ光４を用いた場合
のディジタルデータの信号強度の積分値のプロットデー
タである。レーザ光４の波長によって、共焦点光学系の
フォーカスの位置は異なるため、レーザ光４の波長によ
り、それぞれ、異なるプロットデータが得られている。

【０１８８】レンズ１９の焦点に、フォーカス位置決定
用デバイス６０の色ガラスフィルタ６１が位置している
ときに、蛍光２５の集光効率が最も大きいため、図７に
示されるように、各波長のレーザ光４を用いた場合に、
フォトマルチプライア３３によって検出された蛍光２５
の信号強度の積分値のプロットデータは、フォーカス位
置決定用デバイス６０の色ガラスフィルタ６１が、レン
ズ１９の焦点、すなわち、フォーカス位置に位置してい
たときに、ピークを有している。

【０１８９】ここに、色ガラスフィルタ６１は、レーザ
光４に照射を受けても、劣化することがないため、こう
して得られた蛍光２５の信号強度の積分値のプロットデ
ータに基づき、蛍光２５の信号強度の積分値のプロット
データのピークの位置に対応するレンズ１９の位置を検
出することによって、共焦点光学系のフォーカス位置を
決定することが可能になる。

【０１９０】以上のようにして、共焦点光学系のフォー
カス位置データが決定され、ＥＰＲＯＭ５２に記憶され
たスキャナは、以下のようにして、シェーディング評価
用デバイスを用いて、スキャナによって生成されたディ
ジタルデータのシェーディングが評価されて、シェーデ
ィング補正データが生成される。

【０１９１】図８は、本発明の好ましい実施態様にかか
るシェーディング評価用デバイスの略平面図であり、図
９は、その略縦断面図である。

【０１９２】図８および図９に示されるように、本実施
態様にかかるシェーディング評価用デバイス７０は、光
学的な平面性を保持するように加工が可能な色ガラスフ
ィルタ７１と、色ガラスフィルタ７１の表面に、クロム
をスパッタリングして形成されたマスク７２を備え、マ
スク７２によって、多数のスリット７３が、規則的に形
成されている。

【０１９３】本実施態様においては、色ガラスフィルタ
７１は、ほぼ矩形状をなし、珪砂、ソーダ灰および石灰
石などを主成分とするガラスに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固
溶体をドープして形成されている。

【０１９４】スリット７３は、それぞれ、レーザ光４の
走査方向に対する幅が、レーザ光４のビーム径とほぼ同
等になるように形成され、本実施態様においては、レー
ザ光４のビーム径は１０ミクロンに調整されており、し
たがって、レーザ光４の走査方向に対する幅が、約１０
ミクロンになるように、スリット７３が形成されてい
る。

【０１９５】本実施態様において、マスク７２は、クロ
ムをスパッタリングすることによって、１０ミクロン以
下の膜厚を有するように形成されている。

【０１９６】本実施態様においては、シェーディング評
価用デバイス７０を用いて、以下のようにして、スキャ
ナによって生成されたディジタルデータのシェーディン
グが評価されて、シェーディング補正データが生成され
る。

【０１９７】まず、シェーディング評価用デバイス７０
の多数のスリット７３のうち、中央部に形成されたスリ
ット７３が、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置
するように、シェーディング評価用デバイス７０がサン
プルステージ２０に載置されて、セットされる。

【０１９８】次いで、オペレータによって、シェーディ
ングデータ生成信号が、キーボード５７に入力される
と、シェーディングデータ生成信号は、コントロールユ
ニット５０に出力される。

【０１９９】シェーディングデータ生成信号を受ける
と、コントロールユニット５０は、フィルタユニットモ
ータ５４に駆動信号を出力して、フィルタユニット２７
を移動させ、６４０ｎｍの波長の光をカットし、６４０
ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質を有するフィル
タ２８ａを光路内に位置させるとともに、ＥＰＲＯＭ５
２に記憶された第１のレーザ励起光源１を用いた場合の
共焦点光学系のフォーカス位置データを読み出し、読み
出したフォーカス位置データにしたがって、所定の駆動
パルスの駆動信号を、ステッピングモータ５６に出力
し、光学ヘッド１５のレンズ１９を所定の位置に移動さ
せて、その位置に保持させる。

【０２００】ここに、共焦点光学系のフォーカス位置デ
ータは、フォーカス位置決定用デバイス６０のほぼ中央
部に形成され、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位
置させられたスリット６３を介して、色ガラスフィルタ
６１を励起し、色ガラスフィルタ６１から放出された蛍
光２５を検出して生成されたものであり、シェーディン
グ評価用デバイス７０の多数のスリット７３のうち、中
央部に形成されたスリット７３が、サンプルステージ２
０のほぼ中央部に位置するように、シェーディング評価
用デバイス７０はサンプルステージ２０に載置されてい
るので、フォーカス位置データにしたがって、光学ヘッ
ド１５のレンズ１９の位置を調整した結果、シェーディ
ング評価用デバイス７０のほぼ中央部においては、共焦
点光学系のフォーカスが、所望のように、調整されてい
るが、シェーディング評価用デバイス７０のそれ以外の
部分においては、共焦点光学系のフォーカスは調整され
ていない。

【０２０１】次いで、コントロールユニット５０は、第
１のレーザ励起光源１に駆動信号を出力して、オンさせ
る。

【０２０２】第１のレーザ励起光源１から発せられたレ
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。

【０２０３】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたシェーディン
グ評価用デバイス７０に入射する。

【０２０４】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動されるとともに、副走査用モータ４７により、
図３において、矢印Ｙで示される副走査方向に移動され
るため、６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって、サン
プルステージ２０に載置されたシェーディング評価用デ
バイス７０の全面が走査される。

【０２０５】規則的に形成された多数のスリット７３を
介して、レーザ光４の照射を受けると、シェーディング
評価用デバイス７０の色ガラスフィルタ７１が励起され
て、蛍光２５が放出される。

【０２０６】色ガラスフィルタ７１から放出された蛍光
２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明き
ミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７に
入射する。

【０２０７】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ａ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５は、６４０ｎｍの波長の光をカットし、６４０ｎｍよ
りも波長の長い光を透過させる性質を有するフィルタ２
８ａに入射する。

【０２０８】ここに、蛍光の波長は、励起光であるレー
ザ光４の波長よりも長いため、レーザ光４がカットさ
れ、色ガラスフィルタ７１から放出された蛍光２５のみ
が、フィルタ２８ａを透過する。

【０２０９】フィルタ２８ａを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、最も
径の小さいピンホール３２ａ上に集光され、フォトマル
チプライア３３によって、光電的に検出されて、アナロ
グデータが生成される。

【０２１０】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４により、ディジ
タルデータに変換されて、データ処理装置３５に送られ
る。

【０２１１】Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタル化さ
れ、データ処理装置３５に送られたディジタルデータ
は、データ記憶部６５に記憶される。

【０２１２】サンプルステージ２０に載置されたシェー
ディング評価用デバイス７０の全面が、第１のレーザ励
起光源１から発せられた６４０ｎｍの波長のレーザ光４
によって走査され、ディジタルデータが生成されて、デ
ータ記憶部６５に記憶されると、コントロールユニット
５０は、第１のレーザ励起光源１をオフする。

【０２１３】データ記憶部６５に記憶されたディジタル
データは、データ処理部６６によって読み出される。

【０２１４】データ処理部６６は、データ記憶部６５か
ら読み出したディジタルデータに基づき、蛍光２５の信
号強度を、各スリット７３ごとに、積分して、シェーデ
ィング評価用デバイス７０のディジタルデータを生成す
る。

【０２１５】ここに、共焦点光学系のフォーカスは、フ
ォーカス位置決定用デバイス６０のほぼ中央部に形成さ
れ、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置させれた
スリット６３に、５３２ｎｍの波長のレーザ光４を照射
して調整され、シェーディング評価用デバイス７０の多
数のスリット７３のうち、中央部に形成されたスリット
７３が、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置する
ように、シェーディング評価用デバイス７０がサンプル
ステージ２０に載置されているので、シェーディング評
価用デバイス７０のほぼ中央部のみに対して、共焦点光
学系のフォーカスが調整されているにすぎず、その他の
部分に対しては、共焦点光学系のフォーカスが調整され
ていない。

【０２１６】したがって、このようにして生成され、デ
ータ処理部６６によって読み出されたシェーディング評
価用デバイス７０のディジタルデータには、光学ヘッド
１５のレンズ１９と、シェーディング評価用デバイス７
０に規則的に形成された多数のスリット７３内の色ガラ
スフィルタ７１との距離が、走査面内で、一定でないこ
とに起因して、シェーディングが発生し、シェーディン
グ評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度に比して、シェーディング評価用デバイス７０に形成
された他のスリット７３を介して、レーザ光４を色ガラ
スフィルタ７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光
２５を検出して得たディジタルデータの信号強度は小さ
くなっている。

【０２１７】しかるに、色ガラスフィルタ７１は、光学
的な平面性を保持するように加工がされているので、こ
うして得られたシェーディング評価用デバイス７０のデ
ィジタルデータに基づいて、シェーディング評価用デバ
イス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３以外の
スリット７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ
７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出
して得たディジタルデータの信号強度が、シェーディン
グ評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度と等しくなるように補正するシェーディング補正デー
タを生成して、シェーディング補正データ記憶部６７に
記憶させておけば、シェーディング補正データ記憶部６
７に記憶されたシェーディング補正データを用いて、サ
ンプル２２に基づいて生成されたディジタルデータを補
正することによって、サンプル２２のディジタルデータ
のシェーディングを打ち消すことが可能になる。

【０２１８】そこで、データ処理部６６は、こうして得
られたシェーディング評価用デバイス７０のディジタル
データに基づき、シェーディング評価用デバイス７０の
ほぼ中央部に形成されたスリット７３以外のスリット７
３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射
し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出して得たデ
ィジタルデータの信号強度が、シェーディング評価用デ
バイス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３を介
して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射し、ほ
ぼ中央部に形成されたスリット７３を介して、蛍光２５
を検出して得たディジタルデータの信号強度と等しくな
るように、シェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータを補正することのできるシェーディング補正
データを生成して、第１のレーザ励起光源１を用いた場
合のシェーディング補正データとして、シェーディング
補正データ記憶部６７に記憶させる。

【０２１９】こうして、第１のレーザ励起光源１から発
せられた６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって、シェ
ーディング評価用デバイス７０の全面を走査して、色ガ
ラスフィルタ７１から放出された蛍光２５を検出して生
成されたシェーディング評価用デバイス７０のディジタ
ルデータに基づいて、第１のレーザ励起光源１を用いた
場合のシェーディング補正データが生成され、シェーデ
ィング補正データ記憶部６７に記憶されると、コントロ
ールユニット５０は、ステッピングモータ５６に駆動信
号を出力して、光学ヘッド１５のレンズ１９を元の位置
に復帰させ、最も径の小さいピンホール３２ａが光路内
に位置させたまま、共焦点切り換え部材３１を保持しつ
つ、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第２のレーザ励起光源
２を用いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置データ
を読み出し、読み出したフォーカス位置データにしたが
って、所定の駆動パルスの駆動信号を、ステッピングモ
ータ５６に出力し、光学ヘッド１５のレンズ１９を所定
の位置に移動させて、その位置に保持させる。

【０２２０】次いで、コントロールユニット５０は、フ
ィルタユニットモータ７１に駆動信号を出力して、フィ
ルタユニット２７を移動させ、５３２ｎｍの波長の光を
カットし、５３２ｎｍよりも波長の長い光を透過する性
質を有するフィルタ２８ｂを光路内に位置させるととも
に、第２のレーザ励起光源２を起動させる。

【０２２１】第２のレーザ励起光源２から発せられた５
３２ｎｍの波長のレーザ光４は、コリメータレンズ９に
よって、平行な光とされた後、第１のダイクロイックミ
ラー７に入射して、反射される。

【０２２２】第１のダイクロイックミラー７によって反
射されたレーザ光４は、第２のダイクロイックミラー８
を透過し、光学ヘッド１５に入射する。

【０２２３】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０に載置されて、セットされた
シェーディング評価用デバイス７０に入射する。

【０２２４】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動されるとともに、副走査用モータ４７により、
図３において、矢印Ｙで示される副走査方向に移動され
るため、５３２ｎｍの波長のレーザ光４によって、サン
プルステージ２０に載置されたシェーディング評価用デ
バイス７０の全面が走査される。

【０２２５】規則的に形成された多数のスリット７３を
介して、レーザ光４の照射を受けると、シェーディング
評価用デバイス７０の色ガラスフィルタ７１が励起され
て、蛍光が放出される。

【０２２６】色ガラスフィルタ７１から放出された蛍光
２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明き
ミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７に
入射する。

【０２２７】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｂ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５は、５３２ｎｍの波長の光をカットし、５３２ｎｍよ
りも波長の長い光を透過させる性質を有するフィルタ２
８ｂに入射する。

【０２２８】ここに、蛍光の波長は、励起光であるレー
ザ光４の波長よりも長いため、レーザ光４がカットさ
れ、色ガラスフィルタ７１から放出された蛍光２５のみ
が、フィルタ２８ｂを透過する。

【０２２９】フィルタ２８ｂを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、最も
径の小さいピンホール３２ａ上に集光され、フォトマル
チプライア３３によって、光電的に検出されて、アナロ
グデータが生成される。

【０２３０】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４により、ディジ
タルデータに変換されて、データ処理装置３５に送られ
る。

【０２３１】Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタル化さ
れ、データ処理装置３５に送られたディジタルデータ
は、データ記憶部６５に記憶される。

【０２３２】サンプルステージ２０に載置されたシェー
ディング評価用デバイス７０の全面が、第２のレーザ励
起光源２から発せられた５３２ｎｍの波長のレーザ光４
によって走査され、ディジタルデータが生成されて、デ
ータ記憶部６５に記憶されると、コントロールユニット
５０は、第２のレーザ励起光源２をオフする。

【０２３３】データ記憶部６５に記憶されたディジタル
データは、データ処理部６６によって読み出される。

【０２３４】データ処理部６６は、メモリ６５から読み
出したディジタルデータに基づき、蛍光２５の信号強度
を、各スリット７３ごとに、積分して、シェーディング
評価用デバイス７０のディジタルデータを生成する。

【０２３５】ここに、共焦点光学系のフォーカスは、フ
ォーカス位置決定用デバイス６０のほぼ中央部に形成さ
れ、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置させれた
スリット６３に、５３２ｎｍの波長のレーザ光４を照射
して調整され、シェーディング評価用デバイス７０の多
数のスリット７３のうち、中央部に形成されたスリット
７３が、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置する
ように、シェーディング評価用デバイス７０がサンプル
ステージ２０に載置されているので、シェーディング評
価用デバイス７０のほぼ中央部のみに対して、共焦点光
学系のフォーカスが調整されているにすぎず、その他の
部分に対しては、共焦点光学系のフォーカスが調整され
ていない。

【０２３６】したがって、このようにして生成され、デ
ータ処理部６６によって読み出されたシェーディング評
価用デバイス７０のディジタルデータには、光学ヘッド
１５のレンズ１９と、シェーディング評価用デバイス７
０に規則的に形成された多数のスリット７３内の色ガラ
スフィルタ７１との距離が、走査面内で、一定でないこ
とに起因して、シェーディングが発生し、シェーディン
グ評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度に比して、シェーディング評価用デバイス７０に形成
された他のスリット７３を介して、レーザ光４を色ガラ
スフィルタ７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光
２５を検出して得たディジタルデータの信号強度は小さ
くなっている。

【０２３７】しかるに、色ガラスフィルタ７１は、光学
的な平面性を保持するように加工がされているので、こ
うして得られたシェーディング評価用デバイス７０のデ
ィジタルデータに基づいて、シェーディング評価用デバ
イス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３以外の
スリット７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ
７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出
して得たディジタルデータの信号強度が、シェーディン
グ評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度と等しくなるように補正するシェーディング補正デー
タを生成して、シェーディング補正データ記憶部６７に
記憶させておけば、シェーディング補正データ記憶部６
７に記憶されたシェーディング補正データを用いて、サ
ンプル２２に基づいて生成されたディジタルデータを補
正することによって、サンプル２２のディジタルデータ
のシェーディングを打ち消すことが可能になる。

【０２３８】ただ、レーザ光４の波長によって、共焦点
光学系のフォーカス位置が異なるため、５３２ｎｍの波
長のレーザ光４を発する第２のレーザ励起光源２を用い
て生成されたシェーディング評価用デバイス７０のディ
ジタルデータ中のシェーディングは、６４０ｎｍの波長
のレーザ光４を発する第１のレーザ励起光源１を用いて
生成されたシェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータのシェーディングとは異なっている。

【０２３９】そこで、データ処理部６６は、こうして得
られたシェーディング評価用デバイス７０のディジタル
データに基づき、シェーディング評価用デバイス７０の
ほぼ中央部に形成されたスリット７３以外のスリット７
３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射
し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出して得たデ
ィジタルデータの信号強度が、シェーディング評価用デ
バイス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３を介
して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射し、ほ
ぼ中央部に形成されたスリット７３を介して、蛍光２５
を検出して得たディジタルデータの信号強度と等しくな
るように、シェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータを補正することのできるディジタルデータシ
ェーディング補正データを生成して、第２のレーザ励起
光源２を用いた場合のシェーディング補正データとし
て、シェーディング補正データ記憶部６７に記憶させ
る。

【０２４０】こうして、第２のレーザ励起光源２から発
せられた５３２ｎｍの波長のレーザ光４によって、シェ
ーディング評価用デバイス７０の全面を走査して、色ガ
ラスフィルタ７１から放出された蛍光２５を検出して生
成されたシェーディング評価用デバイス７０のディジタ
ルデータに基づいて、第２のレーザ励起光源２を用いた
場合のシェーディング補正データが生成され、シェーデ
ィング補正データ記憶部６７に記憶されると、コントロ
ールユニット５０は、ステッピングモータ５６に駆動信
号を出力して、光学ヘッド１５のレンズ１９を元の位置
に復帰させ、最も径の小さいピンホール３２ａが光路内
に位置させたまま、共焦点切り換え部材３１を保持しつ
つ、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第３のレーザ励起光源
３を用いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置データ
を読み出し、読み出したフォーカス位置データにしたが
って、所定の駆動パルスの駆動信号を、ステッピングモ
ータ５６に出力し、光学ヘッド１５のレンズ１９を所定
の位置に移動させて、その位置に保持させる。

【０２４１】次いで、コントロールユニット５０は、フ
ィルタユニットモータ７１に駆動信号を出力して、フィ
ルタユニット２７を移動させ、４７３ｎｍの波長の光を
カットし、４７３ｎｍよりも波長の長い光を透過する性
質を有するフィルタ２８ｃを光路内に位置させるととも
に、第３のレーザ励起光源３を起動させる。

【０２４２】第３のレーザ励起光源３から発せられた４
７３ｎｍの波長のレーザ光４は、コリメータレンズ１０
によって、平行な光とされた後、第２のダイクロイック
ミラー８によって反射され、光学ヘッド１５に入射す
る。

【０２４３】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０に載置されて、セットされた
シェーディング評価用デバイス７０に入射する。

【０２４４】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動されるとともに、副走査用モータ４７により、
図３において、矢印Ｙで示される副走査方向に移動され
るため、４７３ｎｍの波長のレーザ光４によって、サン
プルステージ２０に載置されたシェーディング評価用デ
バイス７０の全面が走査される。

【０２４５】規則的に形成された多数のスリット７３を
介して、レーザ光４の照射を受けると、シェーディング
評価用デバイス７０の色ガラスフィルタ７１が励起され
て、蛍光が放出される。

【０２４６】色ガラスフィルタ７１から放出された蛍光
２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明き
ミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７に
入射する。

【０２４７】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｃ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５は、４７３ｎｍの波長の光をカットし、４７３ｎｍよ
りも波長の長い光を透過させる性質を有するフィルタ２
８ｃに入射する。

【０２４８】ここに、蛍光の波長は、励起光であるレー
ザ光４の波長よりも長いため、レーザ光４がカットさ
れ、色ガラスフィルタ７１から放出された蛍光２５のみ
が、フィルタ２８ｃを透過する。

【０２４９】フィルタ２８ｃを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、最も
径の小さいピンホール３２ａ上に集光され、フォトマル
チプライア３３によって、光電的に検出されて、アナロ
グデータが生成される。

【０２５０】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４により、ディジ
タルデータに変換されて、データ処理装置３５に送られ
る。

【０２５１】Ａ／Ｄ変換器３４により、ディジタル化さ
れ、データ処理装置３５に送られたディジタルデータ
は、データ記憶部６５に記憶される。

【０２５２】サンプルステージ２０に載置されたシェー
ディング評価用デバイス７０の全面が、第３のレーザ励
起光源３から発せられた４７３ｎｍの波長のレーザ光４
によって走査され、ディジタルデータが生成されて、デ
ータ記憶部６５に記憶されると、コントロールユニット
５０は、第３のレーザ励起光源３をオフする。

【０２５３】データ記憶部６５に記憶されたディジタル
データは、データ処理部６６によって読み出される。

【０２５４】データ処理部６６は、メモリ６５から読み
出したディジタルデータに基づき、蛍光２５の信号強度
を、各スリット７３ごとに、積分して、シェーディング
評価用デバイス７０のディジタルデータを生成する。

【０２５５】ここに、共焦点光学系のフォーカスは、フ
ォーカス位置決定用デバイス６０のほぼ中央部に形成さ
れ、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置させれた
スリット６３に、４７３ｎｍの波長のレーザ光４を照射
して調整され、シェーディング評価用デバイス７０の多
数のスリット７３のうち、中央部に形成されたスリット
７３が、サンプルステージ２０のほぼ中央部に位置する
ように、シェーディング評価用デバイス７０がサンプル
ステージ２０に載置されているので、シェーディング評
価用デバイス７０のほぼ中央部のみに対して、共焦点光
学系のフォーカスが調整されているにすぎず、その他の
部分に対しては、共焦点光学系のフォーカスが調整され
ていない。

【０２５６】したがって、このようにして生成され、デ
ータ処理部６６によって読み出されたシェーディング評
価用デバイス７０のディジタルデータには、光学ヘッド
１５のレンズ１９と、シェーディング評価用デバイス７
０に規則的に形成された多数のスリット７３内の色ガラ
スフィルタ７１との距離が、走査面内で、一定でないこ
とに起因して、シェーディングが発生し、シェーディン
グ評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度に比して、シェーディング評価用デバイス７０に形成
された他のスリット７３を介して、レーザ光４を色ガラ
スフィルタ７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光
２５を検出して得たディジタルデータの信号強度は小さ
くなっている。

【０２５７】しかるに、色ガラスフィルタ７１は、光学
的な平面性を保持するように加工がされているので、こ
うして得られたシェーディング評価用デバイス７０のデ
ィジタルデータに基づいて、シェーディング評価用デバ
イス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３以外の
スリット７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ
７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出
して得たディジタルデータの信号強度が、シェーディン
グ評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度と等しくなるように補正するシェーディング補正デー
タを生成して、シェーディング補正データ記憶部６７に
記憶させておけば、シェーディング補正データ記憶部６
７に記憶されたシェーディング補正データを用いて、サ
ンプル２２に基づいて生成されたディジタルデータを補
正することによって、サンプル２２のディジタルデータ
のシェーディングを打ち消すことが可能になる。

【０２５８】ただ、レーザ光４の波長によって、共焦点
光学系のフォーカス位置が異なるため、４７３ｎｍの波
長のレーザ光４を発する第３のレーザ励起光源３を用い
て生成されたシェーディング評価用デバイス７０のディ
ジタルデータ中のシェーディングは、６４０ｎｍの波長
のレーザ光４を発する第１のレーザ励起光源１を用いて
生成されたシェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータのシェーディングとも、５３２ｎｍの波長の
レーザ光４を発する第２のレーザ励起光源２を用いて生
成されたシェーディング評価用デバイス７０のディジタ
ルデータのシェーディングとも異なっている。

【０２５９】そこで、データ処理部６６は、こうして得
られたシェーディング評価用デバイス７０のディジタル
データに基づき、シェーディング評価用デバイス７０の
ほぼ中央部に形成されたスリット７３以外のスリット７
３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射
し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出して得たデ
ィジタルデータの信号強度が、シェーディング評価用デ
バイス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３を介
して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射し、ほ
ぼ中央部に形成されたスリット７３を介して、蛍光２５
を検出して得たディジタルデータの信号強度と等しくな
るように、シェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータを補正することのできるシェーディング補正
データを生成して、第３のレーザ励起光源３を用いた場
合のシェーディング補正データとして、シェーディング
補正データ記憶部６７に記憶させる。

【０２６０】以上のようにして、６４０ｎｍの波長のレ
ーザ光４、５３２ｎｍの波長のレーザ光４および４７３
ｎｍの波長のレーザ光４に対する共焦点光学系のフォー
カス位置データが決定されて、ＥＰＲＯＭ５２に記憶さ
れ、６４０ｎｍの波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長
のレーザ光４および４７３ｎｍの波長のレーザ光４に対
するシェーディング補正データが生成されて、データ処
理装置３５のシェーディング補正データ記憶部６７に記
憶されたスキャナは、以下のようにして、スライドガラ
ス板を担体とし、蛍光色素によって選択的に標識された
試料の数多くのスポットが、スライドガラス板上に形成
されているマイクロアレイを、レーザ光４によって、走
査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された蛍
光を光電的に検出して、生化学解析用のデータを生成す
る。

【０２６１】まず、サンプルステージ２０に、サンプル
２２であるマイクロアレイを保持したサンプルキャリア
２１がセットされると、キャリアセンサ５３によって、
サンプルキャリア２１の種類が検出され、キャリア検出
信号がコントロールユニット５０に出力される。

【０２６２】キャリアセンサ５３からキャリア検出信号
を受けると、コントロールユニット５０は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ５５に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、最も径の小さい
ピンホール３２ａが光路内に位置するように、移動させ
る。

【０２６３】次いで、ユーザーによって、標識物質であ
る蛍光物質の種類およびスタート信号が、キーボード５
７に入力されると、キーボード５７から指示信号がコン
トロールユニット５０に出力される。

【０２６４】たとえば、蛍光物質の種類として、Ｃｙ−
５（登録商標）が入力されると、コントロールユニット
５０は、入力された指示信号にしたがって、フィルタユ
ニットモータ５４に駆動信号を出力して、フィルタユニ
ット２７を移動させ、６４０ｎｍの波長の光をカット
し、６４０ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質を有
するフィルタ２８ａを光路内に位置させるとともに、Ｅ
ＰＲＯＭ５２に記憶された第１のレーザ励起光源１を用
いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置データにした
がって、所定の駆動パルスの駆動信号を、ステッピング
モータ５６に出力し、光学ヘッド１５のレンズ１９を所
定の位置に移動させて、その位置に保持させる。

【０２６５】次いで、コントロールユニット５０は、第
１のレーザ励起光源１に駆動信号を出力して、オンさせ
る。

【０２６６】第１のレーザ励起光源１から発せられたレ
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。

【０２６７】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
であるマイクロアレイに入射する。

【０２６８】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動され、副走査用モータ４７によって、図３にお
いて、矢印Ｙで示される副走査方向に移動されるため、
レーザ光４によって、サンプルキャリア２１にセットさ
れたサンプル２２であるマイクロアレイ２２の全面が走
査される。

【０２６９】レーザ光４の照射を受けると、プローブＤ
ＮＡを標識している蛍光色素、たとえば、Ｃｙ−５が励
起され、蛍光２５が放出される。マイクロアレイの担体
として、スライドガラス板が用いられている場合には、
蛍光色素はスライドガラス板の表面にのみ分布している
ので、蛍光２５もスライドガラス板の表面からのみ、発
せられる。

【０２７０】スライドガラス板の表面から発せられた蛍
光２５は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明
きミラー１８によって反射され、フィルタユニット２７
に入射する。

【０２７１】ここに、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第１
のレーザ励起光源１を用いた場合の共焦点光学系のフォ
ーカス位置データに基づいて、光学ヘッド１５のレンズ
１９は、その焦点が、サンプル２２の表面に一致する位
置に保持されているので、スライドガラス板の表面に分
布している蛍光色素から放出された蛍光２５を最も効率
的に集光することが可能になる。

【０２７２】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ａ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５はフィルタ２８ａに入射し、６４０ｎｍの波長の光が
カットされ、６４０ｎｍよりも波長の長い光のみが透過
される。

【０２７３】フィルタ２８ａを透過した蛍光２５は、ミ
ラー２９によって反射され、レンズ３０によって、結像
される。

【０２７４】レーザ光４の照射に先立って、共焦点切り
換え部材３１が、最も径の小さいピンホール３２ａが光
路内に位置するように移動されているため、蛍光２５が
ピンホール３２ａ上に結像され、フォトマルチプライア
３３によって、光電的に検出されて、アナログデータが
生成される。

【０２７５】このように、共焦点光学系を用いて、スラ
イドガラス板の表面の蛍光色素から発せられた蛍光２５
をフォトマルチプライア３３に導いて、光電的に検出し
ているので、データ中のノイズを最小に抑えることが可
能になる。

【０２７６】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
て、データ記憶部６５に記憶される。

【０２７７】サンプルステージ２０に載置されたマイク
ロアレイ２２の全面が、第１のレーザ励起光源１から発
せられた６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって走査さ
れ、マイクロアレイ２２に含まれている蛍光色素のディ
ジタルデータがデータ記憶部６５に記憶されると、コン
トロールユニット５０は、第１のレーザ励起光源１をオ
フする。

【０２７８】データ記憶部６５に記憶されたマイクロア
レイ２２に含まれている蛍光色素のディジタルデータ
は、データ処理部６６によって読み出される。

【０２７９】ここに、スライドガラス板を担体としたマ
イクロアレイ２２のほぼ中央部のみに対して、共焦点光
学系のフォーカスが調整されているにすぎず、その他の
部分に対しては、共焦点光学系のフォーカスが調整され
ていないため、以上のようにして生成され、データ処理
部６６によって読み出されたマイクロアレイ２２に含ま
れている蛍光色素のディジタルデータには、光学ヘッド
１５のレンズ１９と、マイクロアレイ２２との距離が、
走査面内で、一定でないことに起因して、シェーディン
グが発生している。

【０２８０】そこで、データ処理部６６は、シェーディ
ング補正データ記憶部６７に記憶されている第１のレー
ザ励起光源１を用いた場合のシェーディング補正データ
を読み出し、読み出したシェーディング補正データに基
づいて、データ記憶部６５から入力されたマイクロアレ
イ２２に含まれている蛍光色素のディジタルデータを補
正する。

【０２８１】こうして、シェーディング補正データに基
づいて、シェーディングが補正されたマイクロアレイ２
２に含まれている蛍光色素のディジタルデータは、デー
タ記憶手段（図示せず）に出力され、必要に応じて、デ
ータ処理が施され、ＣＲＴの画面などの表示手段に、表
示される。

【０２８２】一方、蛍光色素によって、選択的に標識さ
れた変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍光サン
プルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素を励起
し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出して、
生化学解析用のデータを生成する場合には、蛍光色素に
よって、選択的に標識された変性ＤＮＡを含む転写支持
体を担体とした蛍光サンプル２２が保持されたサンプル
キャリア２１が、サンプルステージ２０にセットされ
る。

【０２８３】こうして、蛍光サンプル２２が保持された
サンプルキャリア２１が、サンプルステージ２０にセッ
トされると、キャリアセンサ５３によって、サンプルキ
ャリア２１の種類が検出され、キャリア検出信号がコン
トロールユニット５０に出力される。

【０２８４】キャリアセンサ５３からキャリア検出信号
を受けると、コントロールユニット５０は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ５５に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、最も径の大きい
ピンホール３２ｃが光路内に位置するように、移動させ
る。

【０２８５】次いで、オペレータによって、標識物質で
ある蛍光物質の種類およびスタート信号が、キーボード
５７に入力されると、キーボード５７から指示信号がコ
ントロールユニット５０に出力される。

【０２８６】たとえば、試料がローダミンによって標識
されているときは、ローダミンは、５３２ｎｍの波長の
レーザによって、最も効率的に励起することができるか
ら、コントロールユニット５０は第２のレーザ励起光源
２を選択するとともに、フィルタ３２ｂを選択し、フィ
ルタユニットモータ５４に駆動信号を出力して、フィル
タユニット２７を移動させ、５３２ｎｍの波長の光をカ
ットし、５３２ｎｍよりも波長の長い光を透過する性質
を有するフィルタ２８ｂを、蛍光２５の光路内に位置さ
せるとともに、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第２のレー
ザ励起光源２を用いた場合の共焦点光学系のフォーカス
位置データにしたがって、所定の駆動パルスの駆動信号
を、ステッピングモータ５６に出力し、光学ヘッド１５
のレンズ１９を所定の位置に移動させて、その位置に保
持させる。

【０２８７】次いで、コントロールユニット５０は、第
２のレーザ励起光源２に駆動信号を出力して、オンさせ
る。

【０２８８】第２のレーザ励起光源２から発せられた５
３２ｎｍの波長のレーザ光４は、コリメータレンズ９に
よって、平行な光とされた後、第１のダイクロイックミ
ラー７に入射して、反射される。

【０２８９】第１のダイクロイックミラー７によって反
射されたレーザ光４は、第２のダイクロイックミラー８
を透過し、光学ヘッド１５に入射する。

【０２９０】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされた蛍光サンプル
２２に入射する。

【０２９１】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動され、副走査用モータ４７によって、図３にお
いて、矢印Ｙで示される副走査方向に移動されるため、
レーザ光４によって、サンプルキャリア２１にセットさ
れた蛍光サンプル２２の全面が走査される。

【０２９２】レーザ光４の照射を受けると、試料を標識
している蛍光色素、たとえば、ローダミンが励起され、
蛍光２５が放出される。蛍光サンプル２２の担体とし
て、転写支持体が用いられている場合には、蛍光色素
は、転写支持体の深さ方向に分布しているため、転写支
持体の深さ方向の所定の範囲から、蛍光２５が発せら
れ、発光点の深さ方向の位置も変動する。

【０２９３】転写支持体を担体とした蛍光サンプル２２
から発せられた蛍光２５は、レンズ１９によって、平行
な光とされ、穴明きミラー１８によって反射され、フィ
ルタユニット２７に入射する。

【０２９４】ここに、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第２
のレーザ励起光源２を用いた場合の共焦点光学系のフォ
ーカス位置データに基づいて、光学ヘッド１５のレンズ
１９は、その焦点が、サンプル２２の表面に一致する位
置に保持されているので、転写支持体に含まれている蛍
光色素から放出された蛍光２５を最も効率的に集光する
ことが可能になる。

【０２９５】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｂ
が光路内に位置するように移動されているため、蛍光２
５はフィルタ２８ｂに入射し、５３２ｎｍの波長の光が
カットされ、５３２ｎｍよりも波長の長い光のみが透過
される。

【０２９６】フィルタ２８ｂを透過した蛍光は、ミラー
２９によって反射され、レンズ３０によって、集光され
るが、蛍光２５は、転写支持体の深さ方向の所定の範囲
から発せられているため、結像はしない。

【０２９７】レーザ光４の照射に先立って、共焦点切り
換え部材３１が、最も径の大きいピンホール３２ｃが光
路内に位置するように移動されているため、蛍光２５は
最も径の大きいピンホール３２ｃを通過して、フォトマ
ルチプライア３３によって、光電的に検出されて、アナ
ログデータが生成される。したがって、スライドガラス
板を担体としたマイクロアレイの表面の蛍光色素から発
せられた蛍光２５を、高いＳ／Ｎ比で、検出するため
に、共焦点光学系を用いているにもかかわらず、転写支
持体の深さ方向の所定の範囲から発せられた蛍光２５も
高い信号強度で検出することが可能になる。

【０２９８】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
て、データ記憶部６５に記憶される。

【０２９９】サンプルステージ２０に載置された蛍光サ
ンプル２２の全面が、第２のレーザ励起光源２から発せ
られた５３２ｎｍの波長のレーザ光４によって走査さ
れ、蛍光サンプル２２に含まれている蛍光色素のディジ
タルデータがデータ記憶部６５に記憶されると、コント
ロールユニット５０は、第２のレーザ励起光源２をオフ
する。

【０３００】データ記憶部６５に記憶された蛍光サンプ
ル２２に含まれている蛍光色素のディジタルデータは、
データ処理部６６によって読み出される。

【０３０１】ここに、蛍光サンプル２２のほぼ中央部の
みに対して、共焦点光学系のフォーカスが調整されてい
るにすぎず、その他の部分に対しては、共焦点光学系の
フォーカスが調整されていないため、以上のようにして
生成され、データ処理部６６によって読み出された転写
支持体を担体とした蛍光サンプル２２に含まれている蛍
光色素のディジタルデータには、光学ヘッド１５のレン
ズ１９と蛍光サンプル２２との距離が、走査面内で、一
定でないことに起因して、シェーディングが発生してい
る。

【０３０２】そこで、データ処理部６６は、シェーディ
ング補正データ記憶部６７に記憶されている第２のレー
ザ励起光源２を用いた場合のシェーディング補正データ
を読み出し、読み出したシェーディング補正データに基
づいて、データ記憶部６５から入力された蛍光サンプル
２２に含まれている蛍光色素のディジタルデータを補正
する。

【０３０３】こうして、シェーディング補正データに基
づいて、シェーディングが補正された蛍光サンプル２２
のディジタルデータは、データ記憶手段（図示せず）に
出力され、必要に応じて、データ処理が施され、ＣＲＴ
の画面などの表示手段に、表示される。

【０３０４】これに対して、放射性標識物質によって選
択的に標識された試料の数多くのスポットが形成された
メンブレンフィルタなどの担体を、輝尽性蛍光体を含む
輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートと密着
させて、輝尽性蛍光体層を露光して得た放射性標識物質
の位置情報が記録された蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍
光体層を、レーザ光４によって走査して、輝尽性蛍光体
を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光を光電的
に検出して、生化学解析用のデータを生成する場合に
は、輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートを
保持したサンプルキャリア２１が、サンプルステージ２
０にセットされる。

【０３０５】輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体
シートを保持したサンプルキャリア２１が、サンプルス
テージ２０にセットされると、キャリアセンサ５３によ
って、サンプルキャリア２１の種類が検出され、キャリ
ア検出信号がコントロールユニット５０に出力される。

【０３０６】キャリアセンサ７０からキャリア検出信号
を受けると、コントロールユニット５０は、キャリア検
出信号に基づき、切り換え部材モータ７２に駆動信号を
出力して、共焦点切り換え部材３１を、中間の径を有す
るピンホール３２ｂが光路内に位置するように、移動さ
せる。

【０３０７】さらに、コントロールユニット５０は、入
力された指示信号にしたがって、フィルタユニットモー
タ７１に駆動信号を出力して、フィルタユニット２７を
移動させ、輝尽性蛍光体から発光される輝尽光の波長域
の光のみを透過し、６４０ｎｍの波長の光をカットする
性質を有するフィルタ２８ｄを光路内に位置させるとと
もに、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第１のレーザ励起光
源１を用いた場合の共焦点光学系のフォーカス位置デー
タにしたがって、所定の駆動パルスの駆動信号を、ステ
ッピングモータ５６に出力し、光学ヘッド１５のレンズ
１９を所定の位置に移動させて、その位置に保持させ
る。

【０３０８】次いで、コントロールユニット５０は、第
１のレーザ励起光源１に駆動信号を出力して、オンさせ
る。

【０３０９】第１のレーザ励起光源１から発せられたレ
ーザ光４は、コリメータレンズ５によって、平行な光と
された後、ミラー６によって反射され、第１のダイクロ
イックミラー７および第２のダイクロイックミラー８を
透過して、光学ヘッド１５に入射する。

【０３１０】光学ヘッド１５に入射したレーザ光４は、
ミラー１６によって反射され、穴明きミラー１８に形成
された穴１７を通過して、レンズ１９によって集光さ
れ、サンプルステージ２０にセットされたサンプル２２
である蓄積性蛍光体シートに入射する。

【０３１１】サンプルステージ２０は、主走査用モータ
４３によって、図３において、矢印Ｘで示される主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、移動され、副走査用モータ４７によって、図３にお
いて、矢印Ｙで示される副走査方向に移動されるため、
レーザ光４によって、サンプルキャリア２１にセットさ
れたサンプル２２である蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍
光体層の全面が走査される。

【０３１２】レーザ光４の照射を受けると、輝尽性蛍光
体層に含まれている輝尽性蛍光体が励起され、輝尽光２
５が放出される。蓄積性蛍光体シートの場合には、輝尽
性蛍光体は輝尽性蛍光体層中に含まれており、ある程
度、輝尽性蛍光体層の深さ方向に分布しているため、輝
尽性蛍光体層の深さ方向の所定の範囲から、輝尽光が発
せられ、発光点の深さ方向の位置も変動する。しかしな
がら、輝尽性蛍光体層は薄いため、転写支持体の場合ほ
ど、発光点は深さ方向に分布してはいない。

【０３１３】輝尽性蛍光体層から放出された輝尽光２５
は、レンズ１９によって、平行な光とされ、穴明きミラ
ー１８によって反射されて、フィルタユニット２７に入
射する。

【０３１４】ここに、ＥＰＲＯＭ５２に記憶された第１
のレーザ励起光源１を用いた場合の共焦点光学系のフォ
ーカス位置データに基づいて、光学ヘッド１５のレンズ
１９は、その焦点が、サンプル２２の表面に一致する位
置に保持されているので、輝尽性蛍光体層に含まれた輝
尽性蛍光体から放出された輝尽光２５を最も効率的に集
光することが可能になる。

【０３１５】フィルタユニット２７は、フィルタ２８ｄ
が光路内に位置するように移動されているため、輝尽光
２５はフィルタ２８ｄに入射し、６４０ｎｍの波長の光
がカットされ、輝尽性蛍光体から発光される輝尽光の波
長域の光のみが透過される。

【０３１６】フィルタ２８ｄを透過した輝尽光２５は、
ミラー２９によって反射され、レンズ３０によって、集
光されるが、輝尽光は、蓄積性蛍光体シートに形成され
た輝尽性蛍光体層の深さ方向の所定の範囲から発せられ
ているため、結像はしない。

【０３１７】レーザ光４の照射に先立って、共焦点切り
換え部材３１が、中間の径を有するピンホール３２ｂが
光路内に位置するように移動されているため、輝尽光は
中間の径を有するピンホール３２ｂを通過して、フォト
マルチプライア３３により、光電的に検出されて、アナ
ログデータが生成される。したがって、スライドガラス
板を担体としたマイクロアレイの表面の蛍光色素から発
せられた蛍光２５を、高いＳ／Ｎ比で、検出するため
に、共焦点光学系を用いているにもかかわらず、蓄積性
蛍光体シートに形成された輝尽性蛍光体層の深さ方向の
所定の範囲から発せられた輝尽光２５も高い信号強度で
検出することが可能になる。

【０３１８】フォトマルチプライア３３によって生成さ
れたアナログデータはＡ／Ｄ変換器３４によって、ディ
ジタルデータに変換され、データ処理装置３５に送られ
て、データ記憶部６５に記憶される。

【０３１９】サンプルステージ２０に載置された蓄積性
蛍光体シートの輝尽性蛍光体層の全面が、第１のレーザ
励起光源１から発せられた６４０ｎｍの波長のレーザ光
４によって走査され、輝尽性蛍光体層に含まれた放射性
標識物質のディジタルデータがデータ記憶部６５に記憶
されると、コントロールユニット５０は、第１のレーザ
励起光源１をオフする。

【０３２０】データ記憶部６５に記憶された輝尽性蛍光
体層に含まれた放射性標識物質のディジタルデータは、
データ処理部６６によって読み出される。

【０３２１】ここに、蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光
体層のほぼ中央部のみに対して、共焦点光学系のフォー
カスが調整されているにすぎず、その他の部分に対して
は、共焦点光学系のフォーカスが調整されていないた
め、以上のようにして生成されて、データ処理部６６に
よって読み出された輝尽性蛍光体層に含まれた放射性標
識物質のディジタルデータには、光学ヘッド１５のレン
ズ１９と、蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層との距
離が、走査面内で、一定でないことに起因して、シェー
ディングが発生している。

【０３２２】そこで、データ処理部６６は、シェーディ
ング補正データ記憶部６７に記憶されている第１のレー
ザ励起光源１を用いた場合のシェーディング補正データ
を読み出し、読み出したシェーディング補正データに基
づいて、データ記憶部６５から入力された輝尽性蛍光体
層に含まれた放射性標識物質のディジタルデータを補正
する。

【０３２３】こうして、シェーディング補正データに基
づいて、シェーディングが補正された輝尽性蛍光体層に
含まれた放射性標識物質のディジタルデータは、データ
記憶手段（図示せず）に出力され、必要に応じて、デー
タ処理が施され、ＣＲＴの画面などの表示手段に、表示
される。

【０３２４】本実施態様においては、光学的な平面性を
保持するように加工された色ガラスフィルタ７１と、色
ガラスフィルタ７１の表面に、クロムを蒸着して形成さ
れたマスク７２を備え、マスク７２によって、多数のス
リット７３が、規則的に形成されているシェーディング
評価用デバイス７０を、シェーディング評価用デバイス
７０の多数のスリット７３のうち、中央部に形成された
スリット７３が、サンプルステージ２０のほぼ中央部に
位置するように、サンプルステージ２０に載置して、Ｅ
ＰＲＯＭ５２に記憶された共焦点光学系のフォーカス位
置データを読み出し、読み出したフォーカス位置データ
にしたがって、所定の駆動パルスの駆動信号を、ステッ
ピングモータ５６に出力して、光学ヘッド１５のレンズ
１９を所定の位置に移動させて、シェーディング評価用
デバイス７０のほぼ中央部に対して、共焦点光学系のフ
ォーカスを調整した後、第１のレーザ励起光源１から発
せられる６４０ｎｍの波長のレーザ光４によって、シェ
ーディング評価用デバイス７０を走査し、フォトマルチ
プライア３３により、色ガラスフィルタ６１から放出さ
れた蛍光が、光電的に検出され、Ａ／Ｄ変換器３４によ
ってディジタル化されて、生成されたディジタルデータ
に基づいて、蛍光２５の信号強度が、各スリット７３ご
とに、積分され、シェーディング評価用デバイス７０の
ディジタルデータが生成され、こうして生成されたシェ
ーディング評価用デバイス７０のディジタルデータに基
づき、シェーディング評価用デバイス７０のほぼ中央部
に形成されたスリット７３以外のスリット７３を介し
て、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射し、スリ
ット７３を介して、蛍光２５を検出して得たディジタル
データの信号強度が、シェーディング評価用デバイス７
０のほぼ中央部に形成されたスリット７３を介して、レ
ーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射し、ほぼ中央部
に形成されたスリット７３を介して、蛍光２５を検出し
て得たディジタルデータの信号強度と等しくなるよう
に、シェーディング評価用デバイス７０のディジタルデ
ータを補正することのできるディジタルデータを生成
し、第１のレーザ励起光源１から発せられる６４０ｎｍ
の波長のレーザ光４に対するシェーディング補正データ
として、データ処理装置３５のシェーディング補正デー
タ記憶部６７に記憶させ、同様にして、第２のレーザ励
起光源２から発せられる５３２ｎｍのレーザ光４に対す
るシェーディング補正データおよび第３のレーザ励起光
源３から発せられる４７３ｎｍのレーザ光４に対するシ
ェーディング補正データを生成して、それぞれ、データ
処理装置３５のシェーディング補正データ記憶部６７に
記憶させ、サンプル２２を、レーザ光４によって走査
し、標識物質から放出された光が、フォトマルチプライ
ア３３によって光電的に検出され、Ａ／Ｄ変換器３４に
よってディジタル化されて、生成されたサンプル２２の
ディジタルデータのシェーディングを補正している。

【０３２５】したがって、本実施態様によれば、色ガラ
スフィルタ７１は、光学的な平面性を保持するように加
工されているので、第１のレーザ励起光源１から発せら
れた６４０ｎｍの波長のレーザ光４、第２のレーザ励起
光源２から発せられた５３２ｎｍの波長のレーザ光４お
よび第３のレーザ励起光源３から発せられた４７３ｎｍ
のレーザ光４を用いて生成されたシェーディング評価用
デバイス７０のディジタルデータに基づいて生成され、
シェーディング補正データ記憶部６７に記憶されたシェ
ーディング補正データを用いて、第１のレーザ励起光源
１、第２のレーザ励起光源２および第３のレーザ励起光
源３のそれぞれを用いて生成されたサンプルのディジタ
ルデータ中のシェーディングを補正することが可能にな
る。

【０３２６】また、本実施態様によれば、レーザ光４に
よって、シェーディング評価用デバイス７０の色ガラス
フィルタ７１を走査して、励起し、色ガラスフィルタ７
１から放出された蛍光２５を検出して、シェーディング
補正データを生成しており、色ガラスフィルタ７１は、
レーザ光４によって励起しても劣化することがないか
ら、シェーディング評価用デバイス７０を、繰り返し、
使用して、シェーディング補正データを生成することが
可能になる。

【０３２７】図１０は、本発明の他の好ましい実施態様
にかかるシェーディング評価用デバイスの略縦断面図で
ある。

【０３２８】図１０に示されるように、本実施態様にか
かるシェーディング評価用デバイス８０は、ＩｎＧａＡ
ｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２とが積層されたほぼ矩形
状の積層体８３を備え、ＩｎＧａＡｓＰ層８１の表面に
は、クロムのＣＶＤ膜によって、マスク８４が形成さ
れ、それによって、多数のピンホール８５が、規則的に
形成されている。

【０３２９】ピンホール８５は、それぞれ、径が、レー
ザ光４のビーム径とほぼ同等になるように形成され、本
実施態様においては、レーザ光４のビーム径は１０ミク
ロンに調整されており、したがって、径が約１０ミクロ
ンになるように、ピンホール８５が形成されている。

【０３３０】ＩｎＧａＡｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２
との積層体８３は、光学的な平面性を保持するように加
工可能であり、また、レーザ光４の照射を受けると、蛍
光を放出する性質を有し、レーザ光の照射を受けても、
劣化をすることがない。

【０３３１】したがって、図８に示された色ガラスフィ
ルタ７１を備えたシェーディング評価用デバイス７０に
代えて、ＩｎＧａＡｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との
積層体８３を備え、多数の規則的に形成されたスリット
７３に代えて、多数のピンホール８５が規則的に形成さ
れたシェーディング評価用デバイス８０を用いて、前記
実施態様と全く同様にして、第１のレーザ励起光源１か
ら発せられた６４０ｎｍの波長のレーザ光４、第２のレ
ーザ励起光源２から発せられた５３２ｎｍの波長のレー
ザ光４および第３のレーザ励起光源３から発せられた４
７３ｎｍのレーザ光４に対するシェーディング補正デー
タを生成して、シェーディング補正データ記憶部６７に
記憶させ、サンプル２２のディジタルデータ中のシェー
ディングを補正することが可能になる。

【０３３２】本発明は、以上の実施態様に限定されるこ
となく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種
々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含
されるものであることはいうまでもない。

【０３３３】たとえば、前記実施態様においては、色ガ
ラスフィルタ７１およびＩｎＧａＡｓＰ層８１と、Ｇａ
Ａｓ層８２との積層体８３は、ほぼ矩形状をなすように
形成されているが、色ガラスフィルタ７１およびＩｎＧ
ａＡｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との積層体８３の形
状は、任意に決定することができ、矩形状に限られるも
のではない。

【０３３４】さらに、図８に示された実施態様において
は、シェーディング補正用デバイス７０は、珪砂、ソー
ダ灰および石灰石などを主成分とするガラスに、ＣｄＳ
−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された色ガラスフ
ィルタ７１を備えているが、色ガラスフイルタとして、
珪砂、ソーダ灰および石灰石などを主成分とするガラス
に、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された
色ガラスフイルタ７１に代えて、珪砂、ソーダ灰および
石灰石などを主成分とするガラスに、ＺｎＳ−ＣｄＳの
固溶体をドープして形成された色ガラスフィルタを用い
るようにしてもよく、さらには、色ガラスフイルタ７１
に代えて、図１０に示された実施態様と同様に、ＩｎＧ
ａＡｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との積層体８３を用
いることもできる。

【０３３５】また、図１０に示された実施態様において
は、シェーディング補正用デバイス８０は、ＩｎＧａＡ
ｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との積層体８３を備えて
いるが、ＩｎＧａＡｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との
積層体８３に代えて、図８に示された実施態様と同様
に、珪砂、ソーダ灰および石灰石などを主成分とするガ
ラスに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成さ
れた色ガラスフイルタ７１を用いてもよく、さらには、
珪砂、ソーダ灰および石灰石などを主成分とするガラス
に、ＺｎＳ−ＣｄＳの固溶体をドープして形成された色
ガラスフィルタを用いることもできる。

【０３３６】さらに、図８に示された実施態様において
は、シェーディング補正用デバイス７０は、珪砂、ソー
ダ灰および石灰石などを主成分とするガラスに、ＣｄＳ
−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された色ガラスフ
ィルタ７１を備え、図１０に示された実施態様において
は、シェーディング補正用デバイス８０は、ＩｎＧａＡ
ｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との積層体８３を備えて
いるが、シェーディング補正用デバイス７０、８０は、
たとえば、ＩＶ族元素、ＩＩ−ＶＩ族化合物、ＩＩＩ−
Ｖ族化合物およびこれらの複合体よりなる群から選ばれ
た材料など、光学的な平面性を保持するように加工可能
で、レーザ光４の照射を受けると、蛍光またはフォトル
ミネッセンスを放出する性質を有し、レーザ光の照射を
受けても、劣化をすることがない性質を有する材料によ
って構成されていればよく、色ガラスフィルタ７１、Ｉ
ｎＧａＡｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との積層体８３
を備えていることは必ずしも必要でない。

【０３３７】さらに、図８に示された実施態様において
は、シェーディング補正用デバイス７０の色ガラスフィ
ルタ７１には、クロムのスパッタリング膜によって、マ
スク７２が形成され、図１０に示された実施態様におい
ては、シェーディング補正用デバイス８０のＩｎＧａＡ
ｓＰ層８１と、ＧａＡｓ層８２との積層体８３に、クロ
ムのＣＶＤ膜によって、マスク８４が形成されて、それ
ぞれ、スリット７３、ピンホール８５が形成されている
が、マスク７２、８４の材料はクロムに限定されるもの
ではなく、アルミニウム、金、ニッケル−クロム合金お
よびチタン−ニッケル−クロムなどの材料によって、マ
スク７２、８４を形成することもでき、また、形成方法
もスパッタリング、ＣＶＤに限定されるものではなく、
蒸着によって、マスク７２、８４を形成して、スリット
６３、ピンホール８５を生成することもできる。

【０３３８】また、図８および図９に示された実施態様
においては、シェーディング補正用デバイス７０には、
クロムをスパッタリングして形成したマスク７２によっ
て、多数のスリット７３が規則的に形成され、他方、図
１０に示された実施態様においては、シェーディング補
正用デバイス８０には、クロムのＣＶＤ膜のマスク８４
によって、多数のピンホール８５が規則的に形成されて
いるが、シェーディング補正用デバイス７０に、スリッ
ト７３に代えて、ピンホールを形成してもよく、シェー
ディング補正用デバイス８０に、ピンホール８５に代え
て、スリットを形成するようにしてもよい。

【０３３９】さらに、前記実施態様においては、珪砂、
ソーダ灰および石灰石などを主成分とするガラスに、Ｃ
ｄＳ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成され、レーザ
光４が照射されると、励起されて、蛍光またはフォトル
ミネッセンスを放出し、その一方で、レーザ光４の照射
を受けても、劣化しない性質を有する色ガラスフィルタ
６１と、その表面に形成されたクロムの蒸着膜６２のマ
スクを備え、クロムの蒸着膜６２により、レーザ光４の
走査方向に対する幅が、レーザ光４のビーム径とほぼ同
等のスリット６３が、そのほぼ中央部に形成されている
フォーカス位置決定用デバイス６０を用いて、６４０ｎ
ｍの波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長のレーザ光４
および４７３ｎｍの波長のレーザ光４に対する共焦点光
学系のフォーカス位置を決定しているが、珪砂、ソーダ
灰および石灰石などを主成分とするガラスに、ＣｄＳ−
ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された色ガラス６１
に代えて、珪砂、ソーダ灰および石灰石などを主成分と
するガラスに、ＺｎＳ−ＣｄＳの固溶体をドープして形
成された色ガラスフィルタを用いるようにしてもよく、
さらには、図１０に示されるＩｎＧａＡｓＰ層７１と、
ＧａＡｓ層７２との積層体７３を用いて、形成されたフ
ォーカス位置決定用デバイス６０によって、各波長のレ
ーザ光４に対する共焦点光学系のフォーカス位置を決定
することもできる。

【０３４０】さらに、前記実施態様においては、レーザ
光４のビーム径は１０ミクロンに調整され、レーザ光４
の走査方向に対する幅が、約１０ミクロンになるよう
に、スリット６３、７３が形成され、径が、約１０ミク
ロンになるように、ピンホール８５が形成されている
が、レーザ光４のビーム径を１０ミクロンに調整するこ
とも、スリット６３、７３を、レーザ光４の走査方向に
対する幅が、約１０ミクロンになるように、形成するこ
とも、ピンホール８５を、その径が、約１０ミクロンに
なるように、形成することも、必ずしも必要ではなく、
スリット６３、７３を、レーザ光４の走査方向に対する
幅が、レーザ光４のビーム径の０．５ないし２倍、好ま
しくは、０．８ないし１．２倍となるように、形成すれ
ばよく、また、ピンホール８５も、その径が、レーザ光
４のビーム径の０．５ないし２倍、好ましくは、０．８
ないし１．２倍となるように、形成すればよい。

【０３４１】さらに、前記実施態様においては、サンプ
ルステージ２０は、主走査用モータ４３により、主走査
方向に、レーザ光４のビーム径とほぼ同等の画素ピッチ
で、高速で往復移動されるように構成されているが、サ
ンプルステージ２０が、主走査方向に、レーザ光４のビ
ーム径とほぼ同等の画素ピッチで、移動されるように構
成されることは必ずしも必要でなく、レーザ光４のビー
ム径以下の画素ピッチで、サンプルステージ２０が、主
走査方向に移動されるように構成することもできる。

【０３４２】さらに、前記実施態様においては、クロム
の蒸着膜、クロムのスパッタリング膜、クロムのＣＶＤ
膜によって、それぞれ、マスク６２、７２、８４が１０
ミクロン以下の膜厚を有するように形成されているが、
マスク６２、７２、８４の膜厚は、光学ヘッド１５のレ
ンズ１９の焦点距離に応じて、任意に決定することがで
き、好ましくは、ステッピングモータ５６により、レン
ズ１９を移動させるピッチ以下に、設定される。

【０３４３】また、前記実施態様においては、光学ヘッ
ド１５のレンズ１９が、ステッピングモータ５６によっ
て、１０ミクロン単位で移動されるように構成されてい
るが、光学ヘッド１５のレンズ１９を、１０ミクロン単
位で移動させることは必ずしも必要でなく、光学ヘッド
１５のレンズ１９の焦点距離に応じて、任意のピッチ
で、光学ヘッド１５のレンズ１９を移動させることがで
きる。

【０３４４】さらに、前記実施態様においては、ステッ
ピングモータ５６を用いて、光学ヘッド１５のレンズ１
９を移動させているが、他の駆動手段を用いて、光学ヘ
ッド１５のレンズ１９を移動させるようにしてもよい。

【０３４５】また、前記実施態様においては、珪砂、ソ
ーダ灰および石灰石などを主成分とするガラスに、Ｃｄ
Ｓ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成され、レーザ光
４が照射されると、励起されて、蛍光またはフォトルミ
ネッセンスを放出し、その一方で、レーザ光４の照射を
受けても、劣化しない性質を有する色ガラスフィルタ６
１と、その表面に形成されたクロムの蒸着膜６２のマス
クを備え、レーザ光４の走査方向に対する幅が、レーザ
光４のビーム径とほぼ同等のスリット６３が、クロムの
蒸着膜６２によって、そのほぼ中央部に形成されている
フォーカス位置決定用デバイス６０を用いて、６４０ｎ
ｍの波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長のレーザ光４
および４７３ｎｍの波長のレーザ光４に対する共焦点光
学系のフォーカス位置を決定し、シェーディング評価用
デバイス７０のほぼ中央部において、共焦点光学系のフ
ォーカスが最適となるように、共焦点光学系のフォーカ
ス位置を調整し、シェーディング評価用デバイス７０の
ディジタルデータに基づいて、シェーディング評価用デ
バイス７０のほぼ中央部に形成されたスリット７３以外
のスリット７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィル
タ７１に照射し、スリット７３を介して、蛍光２５を検
出して得たディジタルデータの信号強度が、シェーディ
ング評価用デバイス７０のほぼ中央部に形成されたスリ
ット７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１
に照射し、ほぼ中央部に形成されたスリット７３を介し
て、蛍光２５を検出して得たディジタルデータの信号強
度と等しくなるように、シェーディング評価用デバイス
７０のディジタルデータを補正することのできるディジ
タルデータを、６４０ｎｍの波長のレーザ光４、５３２
ｎｍの波長のレーザ光４および４７３ｎｍの波長のレー
ザ光４のそれぞれにつき、生成して、サンプル２２のデ
ィジタルデータを補正するように構成されているが、フ
ォーカス位置決定用デバイス６０のスリット６３が、ほ
ぼ中央部に形成されている必要はなく、中央部以外の基
準位置に、スリット６３が形成されたフォーカス位置決
定用デバイス６０を用いて、共焦点光学系のフォーカス
位置を決定することもでき、フォーカス位置決定用デバ
イス６０のスリット６３が形成された基準位置に対応す
るシェーディング評価用デバイス７０の基準位置に形成
されたスリット７３において、共焦点光学系のフォーカ
スが最適となるように、共焦点光学系のフォーカス位置
を調整し、シェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータに基づいて、シェーディング評価用デバイス
７０の基準位置に形成されたスリット７３以外のスリッ
ト７３を介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に
照射し、スリット７３を介して、蛍光２５を検出して得
たディジタルデータの信号強度が、シェーディング評価
用デバイス７０の基準位置に形成されたスリット７３を
介して、レーザ光４を色ガラスフィルタ７１に照射し、
基準位置に形成されたスリット７３を介して、蛍光２５
を検出して得たディジタルデータの信号強度と等しくな
るように、シェーディング評価用デバイス７０のディジ
タルデータを補正することのできるディジタルデータ
を、６４０ｎｍの波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長
のレーザ光４および４７３ｎｍの波長のレーザ光４のそ
れぞれにつき、生成して、サンプル２２のディジタルデ
ータを補正するように構成することもできる。

【０３４６】また、前記実施態様においては、珪砂、ソ
ーダ灰および石灰石などを主成分とするガラスに、Ｃｄ
Ｓ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成され、レーザ光
４が照射されると、励起されて、蛍光またはフォトルミ
ネッセンスを放出し、その一方で、レーザ光４の照射を
受けても、劣化しない性質を有する色ガラスフィルタ６
１と、その表面に形成されたクロムの蒸着膜６２のマス
クを備え、クロムの蒸着膜６２により、レーザ光４の走
査方向に対する幅が、レーザ光４のビーム径とほぼ同等
のスリット６３が、そのほぼ中央部に形成されているフ
ォーカス位置決定用デバイス６０を用いて、６４０ｎｍ
の波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長のレーザ光４お
よび４７３ｎｍの波長のレーザ光４に対する共焦点光学
系のフォーカス位置を決定しているが、フォーカス位置
決定用デバイス６０に代えて、シェーディング補正用デ
バイス７０を、サンプルステージ２０上に載置し、フォ
ーカス位置決定用デバイス６０を用いた場合と同様にし
て、６４０ｎｍの波長のレーザ光４、５３２ｎｍの波長
のレーザ光４および４７３ｎｍの波長のレーザ光４によ
って、それぞれ、シェーディング補正用デバイス７０の
基準位置に形成されたスリット７３を走査して、共焦点
光学系のフォーカス位置データを算出して、ＥＰＲＯＭ
５２に記憶させ、シェーディング補正データを生成する
際に、ＥＰＲＯＭ５２から読み出して、共焦点光学系の
フォーカスを調整しても、また、シェーディング補正デ
ータの生成に先立って、シェーディング補正用デバイス
７０を用いて、共焦点光学系のフォーカス位置データを
算出し、共焦点光学系のフォーカスを調整するようにし
てもよく、共焦点光学系のフォーカス位置の決定方法は
任意であり、珪砂、ソーダ灰および石灰石などを主成分
とするガラスに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固溶体をドープし
て形成された色ガラスフィルタ６１と、その表面に形成
されたクロムの蒸着膜６２のマスクを備え、クロムの蒸
着膜６２により、レーザ光４の走査方向に対する幅が、
レーザ光４のビーム径とほぼ同等のスリット６３が形成
されているフォーカス位置決定用デバイス６０を用い
て、各波長のレーザ光４に対する共焦点光学系のフォー
カス位置を決定することは必ずしも必要でない。

【０３４７】さらに、前記実施態様においては、スキャ
ナは、第１のレーザ励起光源１、第２のレーザ励起光源
２および第３のレーザ励起光源３を備えているが、３つ
のレーザ励起光源を備えていることは必ずしも必要な
い。

【０３４８】また、前記実施態様においては、第１のレ
ーザ励起光源１として、６４０ｎｍの波長のレーザ光４
を発する半導体レーザ光源を用いているが、６４０ｎｍ
の波長のレーザ光４を発する半導体レーザ光源に代え
て、６３３ｎｍの波長を有するレーザ光４を発するＨｅ
−Ｎｅレーザ光源あるいは６３５ｎｍのレーザ光４を発
する半導体レーザ光源を用いてもよい。

【０３４９】さらに、前記実施態様においては、第２の
レーザ励起光源２として、５３２ｎｍのレーザ光を発す
るレーザ光源を用い、第３のレーザ励起光源３として、
４７３ｎｍのレーザ光を発するレーザ光源を用いている
が、励起する蛍光物質の種類に応じて、第２のレーザ励
起光源２として、５３０ないし５４０ｎｍのレーザ光を
発するレーザ光源を、第３のレーザ励起光源３として、
４７０ないし４９０ｎｍのレーザ光を発するレーザ光源
を、それぞれ、用いることもできる。

【０３５０】また、前記実施態様においては、スキャナ
は、６４０ｎｍの波長を有するレーザ光４を発する第１
のレーザ励起光源１、５３２ｎｍの波長を有するレーザ
光４を発する第２のレーザ励起光源２および４７３ｎｍ
の波長を有するレーザ光４を発する第３のレーザ励起光
源３を備え、したがって、６４０ｎｍの波長を有するレ
ーザ光４を発する第１のレーザ励起光源１、５３２ｎｍ
の波長を有するレーザ光４を発する第２のレーザ励起光
源２および４７３ｎｍの波長を有するレーザ光４を発す
る第３のレーザ励起光源３を用いた場合のそれぞれにつ
き、共焦点光学系のフォーカス位置を決定し、フォーカ
ス位置データをＥＰＲＯＭ５２に記憶させているが、レ
ーザ光４の波長は任意であり、使用するレーザ光４の波
長に応じて、共焦点光学系のフォーカス位置を決定し、
フォーカス位置データをＥＰＲＯＭ５２に記憶させ、フ
ォーカス位置データを用いて、光学ヘッド１５のレンズ
１９の位置を調整すればよく、６４０ｎｍの波長を有す
るレーザ光４を発する第１のレーザ励起光源１、５３２
ｎｍの波長を有するレーザ光４を発する第２のレーザ励
起光源２および４７３ｎｍの波長を有するレーザ光４を
発する第３のレーザ励起光源３を用いた場合のそれぞれ
につき、共焦点光学系のフォーカス位置を決定し、フォ
ーカス位置データをＥＰＲＯＭ５２に記憶させておくこ
とは必ずしも必要でない。

【０３５１】また、前記実施態様においては、共焦点切
り換え部材３１には、３つの径の異なるピンホール３２
ａ、３２ｂ、３２ｃが形成され、蛍光色素によって選択
的に標識された試料の数多くのスポットが、スライドガ
ラス板上に形成されているマイクロアレイを、レーザ光
４によって走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から
放出された蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデ
ータを生成するときには、ピンホール３２ａが、輝尽性
蛍光体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記
録された蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レー
ザ光４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽
性蛍光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生
化学解析用のデータを生成するときには、ピンホール３
２ｂが、転写支持体を担体とする蛍光サンプルを、レー
ザ光４によって走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素
から放出された蛍光を光電的に検出して、生化学解析用
のデータを生成するときには、ピンホール３２ｃが、そ
れぞれ、用いられているが、共焦点切り換え部材３１
に、ピンホール３２ａ、３２ｂのみを形成し、蛍光色素
によって選択的に標識された試料の数多くのスポット
が、スライドガラス板上に形成されているマイクロアレ
イを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素を励起
し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出して、
生化学解析用のデータを生成するときには、ピンホール
３２ａを介して、蛍光２５を受光し、輝尽性蛍光体層か
ら放出された輝尽光２５を光電的に検出して、生化学解
析用のデータを生成するときには、ピンホール３２ｂを
介して、輝尽光を受光し、転写支持体を担体とした蛍光
サンプルから放出された蛍光２５を光電的に検出して、
生化学解析用のデータを生成するときには、共焦点切り
換え部材３１を、蛍光２５の光路から退避させ、フォト
マルチプライア３３の受光光量が増大するように構成す
ることもできるし、また、共焦点切り換え部材３１に、
ピンホール３２ａのみを形成し、蛍光色素によって選択
的に標識された試料の数多くのスポットが、スライドガ
ラス板上に形成されているマイクロアレイを、レーザ光
４によって走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から
放出された蛍光を光電的に検出して、生化学解析用のデ
ータを生成するときにのみ、ピンホール３２ａを介し
て、蛍光２５を受光し、輝尽性蛍光体層から放出された
輝尽光２５を光電的に検出して、生化学解析用のデータ
を生成するときおよび転写支持体を担体とした蛍光サン
プルから放出された蛍光２５を光電的に検出して、生化
学解析用のデータを生成するときには、共焦点切り換え
部材３１を、蛍光２５の光路から退避させ、フォトマル
チプライア３３の受光光量が増大するように構成するこ
ともできる。

【０３５２】さらに、前記実施態様においては、スキャ
ナは、スライドガラス板を担体とし、蛍光色素によって
選択的に標識された試料の数多くのスポットが、スライ
ドガラス板上に形成されているマイクロアレイを、レー
ザ光４によって走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素
から放出された蛍光を光電的に検出して、生化学解析用
の画像データを生成可能に構成され、さらに、蛍光色素
によって、選択的に標識された変性ＤＮＡを含む転写支
持体を担体とした蛍光サンプルを、レーザ光４によって
走査して、蛍光色素を励起し、蛍光色素から放出された
蛍光を光電的に検出して、生化学解析用の画像データを
生成可能に構成されるとともに、放射性標識物質によっ
て選択的に標識された試料の数多くのスポットが形成さ
れたメンブレンフィルタなどの担体を、輝尽性蛍光体を
含む輝尽性蛍光体層が形成された蓄積性蛍光体シートと
密着させて、輝尽性蛍光体層を露光して得た放射性標識
物質の位置情報が記録された蓄積性蛍光体シートの輝尽
性蛍光体層を、レーザ光４によって走査して、輝尽性蛍
光体を励起し、輝尽性蛍光体から放出された輝尽光を光
電的に検出して、生化学解析用の画像データを生成可能
に構成されているが、スライドガラス板を担体とし、蛍
光色素によって選択的に標識された試料の数多くのスポ
ットが、スライドガラス板上に形成されているマイクロ
アレイを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素を励
起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出し
て、生化学解析用の画像データを生成可能に構成されて
いればよく、さらに、蛍光色素によって、選択的に標識
された変性ＤＮＡを含む転写支持体を担体とした蛍光サ
ンプルを、レーザ光４によって走査して、蛍光色素を励
起し、蛍光色素から放出された蛍光を光電的に検出し
て、生化学解析用の画像データを生成可能に構成される
とともに、放射性標識物質によって選択的に標識された
試料の数多くのスポットが形成されたメンブレンフィル
タなどの担体を、輝尽性蛍光体を含む輝尽性蛍光体層が
形成された蓄積性蛍光体シートと密着させて、輝尽性蛍
光体層を露光して得た放射性標識物質の位置情報が記録
された蓄積性蛍光体シートの輝尽性蛍光体層を、レーザ
光４によって走査して、輝尽性蛍光体を励起し、輝尽性
蛍光体から放出された輝尽光を光電的に検出して、生化
学解析用の画像データを生成可能に構成されていること
は、必ずしも必要でない。

【０３５３】

【発明の効果】本発明によれば、シェーディングを精度
よく評価することができる共焦点光学系を備えたスキャ
ナ用のシェーディング評価用デバイス、シェーディング
評価用デバイスを用いた共焦点光学系を備えたスキャナ
におけるシェーディング補正データ生成方法およびシェ
ーディングを精度よく補正することのできるシェーディ
ング補正方法ならびにシェーディングを精度よく補正す
ることのできる共焦点光学系を備えたスキャナを提供す
ることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかるシ
ェーディング補正方法により、シェーディングが補正さ
れる共焦点光学系を備えたスキャナの略斜視図である。

【図２】図２は、共焦点切り換え部材の略正面図であ
る。

【図３】図３は、サンプルステージの走査機構のうち、
主走査機構の詳細を示す略斜視図である。

【図４】図４は、スキャナの検出系、駆動系、入力系お
よび制御系を示すブロックダイアグラムである。

【図５】図５は、共焦点光学系のフォーカスを調整する
ためのフォーカス位置決定用デバイスの略縦断面図であ
る。

【図６】図６は、データ処理装置のブロックダイアグラ
ムである。

【図７】図７は、レンズの位置を変えつつ、フォーカス
位置決定用デバイスを、６４０ｎｍの波長のレーザ光、
５３２ｎｍの波長のレーザ光および４７３ｎｍの波長の
レーザ４によって、走査して、得たディジタルデータの
信号強度の積分値をプロットしたグラフである。

【図８】図８は、本発明の好ましい実施態様にかかるシ
ェーディング評価用デバイスの略平面図である。

【図９】図９は、本発明の好ましい実施態様にかかるシ
ェーディング評価用デバイスの略縦断面図である。

【図１０】図１０は、本発明の他の好ましい実施態様に
かかるシェーディング評価用デバイスの略縦断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 第１のレーザ励起光源 ２ 第２のレーザ励起光源 ３ 第３のレーザ励起光源 ４ レーザ光 ５ コリメータレンズ ６ ミラー ７ 第１のダイクロイックミラー ８ 第２のダイクロイックミラー ９ コリメータレンズ １０ コリメータレンズ １５ 光学ヘッド １６ ミラー １７ 穴 １８ 穴明きミラー １９ レンズ ２０ サンプルステージ ２１ サンプルキャリア ２２ サンプル ２３ 滴下されたｃＤＮＡ ２５ 蛍光または輝尽光 ２７ フィルタユニット ２８ａ、２８ｂ、２８ｃ、２８ｄ フィルタ ２９ ミラー ３０ レンズ ３１ 共焦点切り換え部材 ３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄ、３２ｅ ピンホール ３３ フォトマルチプライア ３４ Ａ／Ｄ変換器 ３５ データ処理装置 ４０ 可動基板 ４１、４１ 一対のガイドレール ４２ スライド部材 ４３ 主走査用モータ ４３ａ 主走査用モータの出力軸 ４４ プーリ ４５ タイミングベルト ４６ ロータリーエンコーダ ４７ 副走査用モータ ５０ コントロールユニット ５１ ＲＡＭ ５２ ＥＰＲＯＭ ５３ キャリアセンサ ５４ フィルタユニットモータ ５５ 切り換え部材モータ ５６ ステッピングモータ ５７ キーボード ６０ フォーカス位置決定用デバイス ６１ 色ガラスフィルタ ６２ クロムの蒸着膜 ６３ スリット ６５ データ記憶部 ６６ データ処理部 ６７ シェーディング補正データ記憶部 ７０ シェーディング評価用デバイス ７１ 色ガラスフィルタ ７２ マスク ７３ スリット ８０ シェーディング評価用デバイス ８１ ＩｎＧａＡｓＰ層 ８２ ＧａＡｓ層 ８３ 積層体 ８４ マスク ８５ ピンホール

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G043 AA03 BA16 CA03 DA02 EA01 EA19 FA01 FA06 GA04 GA07 GB01 GB18 GB19 HA01 JA03 LA01 NA06 2H052 AA07 AA08 AC04 AC14 AC15 AC27 AC34 AD16 AD20 AD34 AE03 AE05 AE10 5B047 AA17 AB02 BA02 BB02 BC05 BC07 BC09 BC11 BC14 DA04 DC06 EA01 5C072 AA01 BA04 BA08 CA06 DA02 DA04 DA09 DA21 EA02 FB12 RA15 RA20 UA02 UA11 VA01 (54)【発明の名称】 共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバイス、シェーディング評価用デバ イスを用いた共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング補正データ生成方法および シェーディング補正方法ならびにシェーディングを補正可能な共焦点光学系を備えたスキャナ

Claims (41)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学的な平面性を保持して加工可能で、
   レーザ光の照射を受けると、蛍光またはフォトルミネッ
   センスを放出する性質を有する支持体上に、金属膜のマ
   スクが設けられて、それによって、前記支持体が露出さ
   れる多数の開口部が規則的に形成されたことを特徴とす
   る共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評
   価用デバイス。
2. 【請求項２】 前記支持体上に、金属膜のマスクによっ
   て、前記支持体が露出される多数のスリットが規則的に
   形成されたことを特徴とする請求項１に記載の共焦点光
   学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバイ
   ス。
3. 【請求項３】 前記支持体上に、金属膜のマスクによっ
   て、前記支持体が露出される多数のピンホールが規則的
   に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の共焦点
   光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバ
   イス。
4. 【請求項４】 前記支持体が、前記レーザ光の照射を受
   けても、劣化しない材料によって形成されたことを特徴
   とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の共焦点
   光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバ
   イス。
5. 【請求項５】 前記支持体が、ＩＶ族元素、ＩＩ−ＶＩ
   族化合物、ＩＩＩ−Ｖ族化合物およびこれらの複合体よ
   りなる群から選ばれた材料によって形成されたことを特
   徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の共焦
   点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デ
   バイス。
6. 【請求項６】 前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および石
   灰石よりなる群から選ばれた材料を主成分とするガラス
   に、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成された
   色ガラスフイルタによって形成されたことを特徴とする
   請求項５に記載の共焦点光学系を備えたスキャナ用のシ
   ェーディング評価用デバイス。
7. 【請求項７】 前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および石
   灰石よりなる群から選ばれた材料を主成分とするガラス
   に、ＺｎＳ−ＣｄＳの固溶体をドープして形成された色
   ガラスフィルタによって形成されたことを特徴とする請
   求項５に記載の共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェ
   ーディング評価用デバイス。
8. 【請求項８】 前記支持体が、ＩｎＧａＡｓＰ層と、Ｇ
   ａＡｓ層の積層体によって形成され、前記金属膜のマス
   クが、前記ＩｎＧａＡｓＰ層上に設けられたことを特徴
   とする請求項５に記載の共焦点光学系を備えたスキャナ
   用のシェーディング評価用デバイス。
9. 【請求項９】 前記金属膜が、スパッタリング、ＣＶＤ
   および蒸着よりなる群から選ばれる形成方法によって形
   成されたことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか
   １項に記載の共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェー
   ディング評価用デバイス。
10. 【請求項１０】 前記金属膜が、スパッタリングによっ
    て形成されたことを特徴とする請求項９に記載の共焦点
    光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバ
    イス。
11. 【請求項１１】 前記金属膜のマスクが、クロム、アル
    ミニウム、金、ニッケル−クロム合金およびチタン−ニ
    ッケル−クロムよりなる群から選ばれる材料によって形
    成されたことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれ
    か１項に記載の共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェ
    ーディング評価用デバイス。
12. 【請求項１２】 前記金属膜のマスクが、クロムによっ
    て形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の共焦
    点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デ
    バイス。
13. 【請求項１３】 前記レーザ光の走査方向に対する前記
    の開口部の幅が、前記レーザ光のビーム径の０．５ない
    し２倍に形成されたことを特徴とする請求項１ないし１
    ２のいずれか１項に記載の共焦点光学系を備えたスキャ
    ナ用のシェーディング評価用デバイス。
14. 【請求項１４】 前記レーザ光の走査方向に対する前記
    開口部の幅が、前記レーザ光のビーム径の０．８ないし
    １．２倍に形成されたことを特徴とする請求項１３に記
    載の共焦点光学系を備えたスキャナ用のシェーディング
    評価用デバイス。
15. 【請求項１５】 前記レーザ光の走査方向に対する前記
    開口部の幅が、前記レーザ光のビーム径とほぼ同等に形
    成されたことを特徴とする請求項１４に記載の共焦点光
    学系を備えたスキャナ用のシェーディング評価用デバイ
    ス。
16. 【請求項１６】 前記金属膜のマスクが、約１０ミクロ
    ン以下の膜厚を有していることを特徴とする請求項１な
    いし１５のいずれか１項に記載の共焦点光学系を備えた
    スキャナ用のシェーディング評価用デバイス。
17. 【請求項１７】 光学的な平面性を保持して加工可能
    で、レーザ光の照射を受けると、蛍光またはフォトルミ
    ネッセンスを放出する性質を有する支持体上に、金属膜
    のマスクが設けられて、それによって、前記支持体を露
    出する多数の開口部が規則的に形成されたシェーディン
    グ評価用デバイスを、レーザ光によって、走査し、前記
    開口部を介して、前記支持体を励起し、前記支持体から
    放出される蛍光またはフォトルミネッセンスを、前記開
    口部を介して、光電的に検出し、ディジタル化して、生
    成されたディジタルデータに基づいて、前記シェーディ
    ング評価用デバイスのディジタルデータを生成し、前記
    シェーディング評価用デバイスのディジタルデータに基
    づき、シェーディング補正データを生成することを特徴
    とする共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーデ
    ィング補正データ生成方法。
18. 【請求項１８】 前記ディジタルデータに基づき、前記
    支持体から放出された蛍光またはフォトルミネッセンス
    を光電的に検出して生成された信号強度を、前記開口部
    ごとに積分して、前記シェーディング評価用デバイスの
    ディジタルデータを生成することを特徴とする請求項１
    ７に記載の共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェ
    ーディング補正データ生成方法。
19. 【請求項１９】 前記開口部が、スリットによって形成
    されたことを特徴とする請求項１７または１８に記載の
    共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング
    補正データ生成方法。
20. 【請求項２０】 前記開口部が、ピンホールによって形
    成されたことを特徴とする請求項１７または１８に記載
    の共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディン
    グ補正データ生成方法。
21. 【請求項２１】 前記シェーディング評価用デバイスに
    規則的に形成された多数の前記開口部のうち、基準位置
    に位置する前記開口部に、共焦点光学系のフォーカスを
    合致させた後に、前記シェーディング評価用デバイス
    を、前記レーザ光によって、走査し、前記多数の開口部
    を介して、前記支持体を励起し、前記支持体から放出さ
    れる蛍光またはフォトルミネッセンスを、前記多数の開
    口部を介して、光電的に検出し、ディジタル化して、前
    記ディジタルデータを生成することを特徴とする請求項
    １７ないし２０のいずれか１項に記載の共焦点光学系を
    備えたスキャナにおけるシェーディング補正データ生成
    方法。
22. 【請求項２２】 前記レーザ光による走査の画素ピッチ
    が、前記レーザ光のビーム径とほぼ同等か、または、そ
    れ以下であることを特徴とする請求項１７ないし２１の
    いずれか１項に記載の共焦点光学系を備えたスキャナに
    おけるシェーディング補正データ生成方法。
23. 【請求項２３】 前記レーザ光の波長毎に、前記シェー
    ディング補正データを生成することを特徴とする請求項
    １７ないし２２のいずれか１項に記載の共焦点光学系を
    備えたスキャナにおけるシェーディング補正データ生成
    方法。
24. 【請求項２４】 さらに、前記シェーディング補正デー
    タをメモリに記憶することを特徴とする請求項１７ない
    し２３のいずれか１項に記載の共焦点光学系を備えたス
    キャナにおけるシェーディング補正データ生成方法。
25. 【請求項２５】 前記支持体が、前記レーザ光の照射を
    受けても、劣化しない材料によって形成されたことを特
    徴とする請求項１７ないし２４のいずれか１項に記載の
    共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング
    補正データ生成方法。
26. 【請求項２６】 前記支持体が、ＩＶ族元素、ＩＩ−Ｖ
    Ｉ族化合物、ＩＩＩ−Ｖ族化合物およびこれらの複合体
    よりなる群から選ばれた材料によって形成されたことを
    特徴とする請求項１７ないし２５のいずれか１項に記載
    の共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディン
    グ補正データ生成方法。
27. 【請求項２７】 前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および
    石灰石よりなる群から選ばれた材料を主成分とするガラ
    スに、ＣｄＳ−ＣｄＳｅの固溶体をドープして形成され
    た色ガラスフイルタによって形成されたことを特徴とす
    る請求項２６に記載の共焦点光学系を備えたスキャナに
    おけるシェーディング補正データ生成方法。
28. 【請求項２８】 前記支持体が、珪砂、ソーダ灰および
    石灰石よりなる群から選ばれた材料を主成分とするガラ
    スに、ＺｎＳ−ＣｄＳの固溶体をドープして形成された
    色ガラスフィルタによって形成されたことを特徴とする
    請求項２６に記載の共焦点光学系を備えたスキャナにお
    けるシェーディング補正データ生成方法。
29. 【請求項２９】 前記支持体が、ＩｎＧａＡｓＰ層と、
    ＧａＡｓ層の積層体によって形成され、前記金属膜のマ
    スクが、前記ＩｎＧａＡｓＰ層上に設けられたことを特
    徴とする請求項２６に記載の共焦点光学系を備えたスキ
    ャナにおけるシェーディング補正データ生成方法。
30. 【請求項３０】 前記金属膜が、スパッタリング、ＣＶ
    Ｄおよび蒸着よりなる群から選ばれる形成方法によって
    形成されたことを特徴とする請求項１７ないし２９のい
    ずれか１項に記載の共焦点光学系を備えたスキャナにお
    けるシェーディング補正データ生成方法。
31. 【請求項３１】 前記金属膜が、スパッタリングによっ
    て形成されたことを特徴とする請求項３０に記載の共焦
    点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング補正
    データ生成方法。
32. 【請求項３２】 前記金属膜のマスクが、クロム、アル
    ミニウム、金、ニッケル−クロム合金およびチタン−ニ
    ッケル−クロムよりなる群から選ばれる材料によって形
    成されたことを特徴とする請求項１７ないし３１のいず
    れか１項に記載の共焦点光学系を備えたスキャナにおけ
    るシェーディング補正データ生成方法。
33. 【請求項３３】 前記金属膜のマスクが、クロムによっ
    て形成されたことを特徴とする請求項３２に記載の共焦
    点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング補正
    データ生成方法。
34. 【請求項３４】 前記レーザ光の走査方向に対する前記
    支持体の開口部の幅が、前記レーザ光のビーム径の０．
    ５ないし２倍に形成されたことを特徴とする請求項１７
    ないし３３のいずれか１項に記載の共焦点光学系を備え
    たスキャナにおけるシェーディング補正データ生成方
    法。
35. 【請求項３５】 前記レーザ光の走査方向に対する前記
    支持体の開口部の幅が、前記レーザ光のビーム径の０．
    ８ないし１．２倍に形成されたことを特徴とする請求項
    ３４に記載の共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシ
    ェーディング補正データ生成方法。
36. 【請求項３６】 前記レーザ光の走査方向に対する前記
    支持体の開口部の幅が、前記レーザ光のビーム径とほぼ
    同等に形成されたことを特徴とする請求項３５に記載の
    共焦点光学系を備えたスキャナにおけるシェーディング
    補正データ生成方法。
37. 【請求項３７】 前記金属膜のマスクが、約１０ミクロ
    ン以下の膜厚を有していることを特徴とする請求項１７
    ないし３６のいずれか１項に記載の共焦点光学系を備え
    たスキャナにおけるシェーディング補正データ生成方
    法。
38. 【請求項３８】 サンプルを、レーザ光によって走査
    し、前記サンプルから放出された光を光電的に検出し
    て、アナログデータを生成し、前記アナログデータをデ
    ィジタル化して、前記サンプルのディジタルデータを生
    成し、前記サンプルのディジタルデータを、請求項２４
    ないし３７のいずれか１項に記載されたシェーディング
    補正データ生成方法によって生成され、前記メモリに記
    憶された前記シェーディング補正データに基づいて、補
    正することを特徴とする共焦点光学系を備えたスキャナ
    におけるシェーディング補正方法。
39. 【請求項３９】 レーザ光を発する少なくとも１つのレ
    ーザ励起光源と、サンプルを載置するサンプルステージ
    と、前記少なくとも１つのレーザ励起光源から発せられ
    たレーザ光によって、前記サンプルステージに載置され
    た前記サンプルを走査可能なように、前記サンプルステ
    ージを移動させる走査手段と、共焦点光学系と、光を光
    電的に検出する光検出器と、メモリと、前記サンプルの
    ディジタルデータ中のシェーディングを補正するシェー
    ディング補正手段を備えたスキャナであって、前記メモ
    リに、請求項１７ないし３７のいずれか１項に記載され
    たシェーディング補正データ生成方法によって生成され
    た前記シェーディング補正データが記憶され、前記シェ
    ーディング補正手段が、前記メモリに記憶された前記シ
    ェーディング補正データに基づいて、前記サンプルのデ
    ィジタルデータを補正するように構成されたことを特徴
    とするスキャナ。
40. 【請求項４０】 前記走査手段が、前記サンプルステー
    ジを、前記少なくとも１つのレーザ励起光源から発せら
    れたレーザ光のビーム径とほぼ同等か、または、それ以
    下の画素ピッチで、移動させるように構成されたことを
    特徴とする請求項３９に記載のスキャナ。
41. 【請求項４１】 前記メモリが、２以上の異なる波長の
    前記レーザ光毎に、シェーディング補正データを記憶し
    ていることを特徴とする請求項３９または４０に記載の
    スキャナ。