JP2002194121A

JP2002194121A - プリプレグ及び金属箔張り積層板

Info

Publication number: JP2002194121A
Application number: JP2000394206A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Hizume; 雅博日詰; Takaaki Kogashiwa; 尊明小柏; Ken Nagai; 憲永井
Original assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Current assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date: 2000-12-26
Filing date: 2000-12-26
Publication date: 2002-07-10

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザー加工性が良好で、誘電率や誘電正接
の小さい、耐熱性に優れた高密度用プリント配線材料用
のプリプレグ、及び積層板を提供する。【解決手段】重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６０％、Ｂ₂
Ｏ₃：１５〜３０％、Ａｌ ₂Ｏ₃：８〜２０％を必須成分
として含有するガラスパウダー（Ａ）とシアン酸エステ
ル樹脂（Ｂ）を必須成分として含有する組成物を、基材
に含浸または塗布することを特徴とするプリプレグ、並
びに該プリプレグを硬化して得られるプリント配線材料
用の積層板、または金属箔張り積層板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー加工性や
誘電特性に優れる、プリント配線材料用のプリプレグ及
び積層板に関する。本発明で用いる樹脂組成物から得ら
れる硬化物は、レーザー加工性が良好で、誘電率や誘電
正接が小さく、耐熱性に優れていることから、高密度用
プリント配線材料用途への使用に好適である。

【０００２】

【従来の技術】電子機器用のプリント配線板材料とし
て、ガラスクロスに、エポキシ樹脂系、ＢＴ（ビスマレ
イミド−トリアジン）樹脂系等の熱硬化性樹脂を、含
浸、加熱乾燥して得られるプリプレグ、該プリプレグ
を、加熱硬化した積層板、該積層板と該プリプレグとを
組み合わせ、加熱硬化した多層板が広く使用されてい
る。近年、電子機器における高密度化の進展に伴い、配
線パターンの細密化やスルーホールの小径化、信号伝播
速度の高速化と信号の高周波化等に対応するため、プリ
ント配線材料では、低誘電率化及び低誘電正接化や、耐
熱性の向上が不可欠となり、更なる小径化を目的に、レ
ーザーによるスルーホール加工やブラインドビアホール
（ＢＶＨ）加工も検討されている。

【０００３】低誘電率と高耐熱性を有するプリント配線
板材料としては、ＢＴ樹脂、不飽和基含有ポリフェニレ
ンエーテル樹脂、マレイミド樹脂等が実用化されている
が、これらの既存製品では、レーザー加工性が十分では
なく、また、熱硬化性樹脂に無機充填剤を配合すること
で、レーザー加工性を向上させる手法が、特開平11−22
0243、同11−330310に開示されているが、レーザー加工
性は向上するものの、誘電率の増大は避けられず、更な
る改善が必要であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】現状のプリント配線板
材料では、低誘電率や高耐熱性を有する材料は知られて
いるが、同時にレーザー加工性に優れる材料は、ほとん
ど見当たらない。本発明は、レーザー加工性や誘電特性
に優れた高密度用プリント配線板材料の提供を目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定のガ
ラスパウダーとシアン酸エステル樹脂を必須成分とする
組成物から得られる硬化物は、レーザー加工性や誘電特
性に優れ、プリント配線板材料用途への使用に好適であ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本
発明は、重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃：
１５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃：８〜２０％を必須成分として
含有するガラスパウダー（Ａ）とシアン酸エステル樹脂
（Ｂ）を必須成分として含有する組成物を、基材に含浸
または塗布することを特徴とするプリプレグ、並びに該
プリプレグを硬化して得られる電気絶縁材料用の積層
板、または金属箔張り積層板である。

【０００６】

【発明実施の形態】本発明において使用されるガラスパ
ウダー（Ａ）とは、重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６０
％、Ｂ₂Ｏ₃：１５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃：８〜２０％を必
須成分として含有する粉末状の物質であれば、特に限定
されるものではない。上記以外のガラスパウダー
（Ａ）の成分としては、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＴｉＯ_2、Ｌｉ
₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏなどが例示され、各々０〜１０％
程度（ＣａＯ：０〜１５％程度）含有させることが可能
である。ガラスパウダー（Ａ）の具体例としては、日東
紡からＮＥパウダーとして市販されているガラスパウダ
ーなどが挙げられる。ガラスパウダー（Ａ）の平均粒子
径は、０.２〜２０μｍ、好ましくは０.５〜１０μｍの
範囲であり、粒度分布や平均粒子径を変化させたもの
を、適宜組み合わせて使用することも可能である。

【０００７】本発明のガラスパウダー（Ａ）は、シラン
カップリング剤などの表面処理剤で、カップリング処理
を施したものが好適である。これらの表面処理剤は、周
知であり、一般に使用されているものであれば、特に限
定はされるものではない。表面処理剤の代表例として
は、有機シラン系、有機チタネート系、有機アルミニウ
ム系などが挙げられ、1種もしくは２種以上を適宜組み
合わせて使用することも可能である。ガラスパウダー
（Ａ）の配合量は、シアン酸エステル樹脂（Ｂ）とエポ
キシ樹脂（Ｃ）の合計量１００重量部に対し、１０〜
１２０重量部、好ましくは、２０〜１００重量部であ
り、上記の下限未満では、レーザー加工性の改善効果が
乏しく、上限を超えると基材への塗布性が低下する。

【０００８】本発明において使用されるシアン酸エステ
ル樹脂（Ｂ）とは、１分子中に２個以上のシアネート基
を有する化合物であれば、特に限定されるものではな
い。その具体例としては、1,3-又は1,4-ジシアネートベ
ンゼン、1,3,5-トリシアネートベンゼン、1,3-、1,4-、
1,6-、1,8-、2,6-又は2,7-ジシアネートナフタレン、1,
3,6-トリシアネートナフタレン、4,4'-ジシアネートビ
フェニル、ビス(4-ジシアネートフェニル)メタン、2,2-
ビス(4-シアネートフェニル)プロパン、4,4'-メチレン
ビス(2,6ジメチルフェニルシアネート)、2,2-ビス(3,5-
ジブロモー4-シアネートフェニル)プロパン、ビス(4-シ
アネートフェニル)エーテル、ビス(4-シアネートフェニ
ル)チオエーテル、ビス(4-シアネートフェニル)スルホ
ン、トリス(4-シアネートフェニル)ホスファイト、トリ
ス(4-シアネートフェニル)ホスフェート、テトラメチル
ビフェニルシアネート、ヘキサメチルビフェニルシアネ
ート；ノボラックやリン含有ノボラック、熱可塑性樹脂
のオリゴマー（例えばポリフェニレンエーテル、ヒドロ
キシポリスチレンなど）などとハロゲン化シアンとの反
応により得られるシアネート類などが挙げられ、１種も
しくは２種以上を適宜混合して使用することも可能であ
る。

【０００９】また、これらシアン酸エステル化合物のシ
アネート基の三量化によって形成されるトリアジン環を
有する重量平均分子量500〜5000 のプレポリマーが好適
に使用される。プレポリマーの製法としては、上記のシ
アン酸エステルモノマーを、例えば鉱酸、ルイス酸等の
酸類;ナトリウムアルコラートなど、第三級アミン類な
どの塩、炭酸ナトリウムなどの塩類などを触媒として重
合させることにより得られる。本発明のシアン酸エステ
ル樹脂（Ｂ）には、必要に応じて、シアン酸エステル樹
脂（Ｂ）の硬化剤、硬化促進剤を併用することが可能で
ある。これらは、シアン酸エステル樹脂（Ｂ）の硬化
剤、硬化促進剤に一般に使用されるものであれば、特に
限定されるものではない。これらの代表例としては有機
金属塩、イミダゾール類、第３級アミンなどが挙げられ
る。

【００１０】本発明における好ましい態様であるエポキ
シ樹脂（Ｃ）とは、１分子中に２個以上のエポキシ基を
有する化合物であれば、特に限定されるものではない。
その代表例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、
多官能フェノール型エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ナフタレ
ン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、シクロ
ペンタジエン型エポキシ樹脂、イソシアネート変性エポ
キシ樹脂;ブタジエンなどの二重結合をエポキシ化した
ポリエポキシ化合物、水酸基含有シリコーン樹脂類とエ
ピクロロヒドリンとの反応によって得られるポリグリシ
ジル化合物などが挙げられ、1種もしくは２種以上を適
宜混合して使用することも可能である。本発明のエポキ
シ樹脂（Ｃ）には、必要に応じて、エポキシ樹脂（Ｃ）
の硬化剤、硬化促進剤を併用することが可能である。こ
れらは、エポキシ樹脂（Ｃ）の硬化剤、硬化促進剤に一
般に使用されるものであれば、特に限定されるものでは
ない。これらの代表例としては、アミン化合物、フェノ
ール化合物、酸無水物、イミダゾール類、第３級アミン
などが例示される。

【００１１】本発明の組成物には、所期の特性が損なわ
れない範囲において、所望に応じ、種々の化合物を配合
することも可能である。これらは、周知であり、一般に
使用されているものであれば、特に限定されるものでは
ない。化合物の代表例としては、マレイミド樹脂、不飽
和ポリエステルなどの重合性二重結合含有モノマー類及
びそのプレポリマー類、ポリブタジエン、エポキシ化ブ
タジエン、マレイン化ブタジエン、ブタジエン-アクリ
ロニトリル共重合体、ポリクロロプレン、ブタジエン-
スチレン共重合体、ポリイソプレン、スチレン-イソプ
レンゴム、ブチルゴム、フッ素ゴム、天然ゴムなどの低
分子量液状〜高分子量のエラストマー類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ-4-メチルペン
テン、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹
脂、ポリエチレン-プロピレン共重合体、4-フッ化エチ
レン-6-フッ化エチレン共重合体類;ポリカーボネート、
ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエステ
ル、ポリフェニレンサルファイドなどの高分子量プレポ
リマー若しくはオリゴマー、ポリウレタン、シリコーン
系化合物等が例示され、所望により、適宜組み合わせて
使用することも可能であり、反応基を有する化合物の場
合は、必要に応じて、硬化剤や硬化促進剤を、適宜配合
することも可能である。

【００１２】本発明の組成物には、所期の特性が損なわ
れない範囲において、難燃剤、充填剤、添加剤などの併
用も可能である。これらは、周知であり、一般に使用さ
れているものであれば、特に限定されるものではない。
難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシ
ウムなどの水和物、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛
などのモリブデン化合物、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛などの
無機物、リン酸エステル、リン酸メラミンなどのリン化
合物、メラミンやベンゾグアナミン変性などの窒素含有
化合物などが、充填剤としては、天然シリカ、焼成シリ
カ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、酸化チタ
ン、カオリン、クレー、タルク、焼成カオリン、焼成ク
レー、焼成タルク、ウオラストナイト、天然マイカ、合
成マイカ、アルミナ、ガラス短繊維、ガラス微粉末、中
空ガラスなどが例示され、その他添加剤としては、ベン
ゾトリアゾールなどの紫外線吸収剤、ヒンダートフェノ
ール、スチレン化フエノールなどの酸化防止剤、チオキ
サントン系などの光重合開始剤、スチルベン誘導体など
の蛍光増白剤、光増感剤、染料、顔料、増粘剤、滑剤、
消泡剤、分散剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤、
チクソ性付与剤などを、所望に応じて、適宜組み合わせ
て使用することも可能である。

【００１３】本発明において、必要に応じて、有機溶剤
を使用するが、その種類としては、シアン酸エステル樹
脂（Ｂ）と相溶するものであれば、特に限定されるもの
ではない。その具体例としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミドなど
が挙げられる。単独もしくは２種以上を適宜混合して使
用することも可能である。基材への含浸性を重視する場
合は、沸点１２０〜２００℃程度の溶剤を併用すること
が好適である。

【００１４】本発明の基材としては、各種のプリント配
線材料用積層板に用いられている周知のものを使用する
ことが可能である。基材に使用する繊維の代表例として
は、Ｅガラス，Ｄガラス，Ｓガラス、ＮＥガラス、クォ
ーツなどの無機繊維、ポリイミド、ポリアミド、ポリエ
ステルなどの有機繊維などが例示され、目的とする成形
物の用途や性能により適宜選択され、単独もしくは、２
種類以上を組み合わせて使用することも可能である。よ
り好適な繊維としては、重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６
０％、Ｂ₂Ｏ₃：１５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃：８〜２０％を
必須成分として含有するガラス繊維が挙げられる。該
ガラス繊維の他の成分としては、ＴｉＯ_2、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎ
ａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏなどが例示され、各々０〜１０％程度
（ＣａＯ：０〜１５％程度）含有させることが可能であ
る。基材の形状としては、織布（クロス）、不織布、ロ
ービング、チョプドストランドマット、サーフェシング
マットなどが例示され、より好適な形状としては、織布
（クロス）が挙げられる。基材の厚みについては、特に
制限はないが、通常０.０２〜０.５ｍｍ程度を使用す
る。またガラスパウダー（Ａ）と同様に、シランカップ
リング剤などの表面処理剤で、カップリング処理を施し
たものが好適である。

【００１５】本発明の好適な態様であるガラスクロス
（Ｄ）とは、重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６０％、Ｂ₂Ｏ
₃：１５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃：８〜２０％を必須成分と
して含有するガラスクロスであれば、特に限定されるも
のではない。上記以外のガラスクロス（Ｄ）の成分とし
ては、ＴｉＯ_2、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏなどが例示さ
れ、各々０〜１０％程度（ＣａＯ：０〜１５％程度）含
有させることが可能である。ガラスクロス（Ｄ）の具体
例としては、日東紡からＮＥクロスとして市販されてい
るガラスクロスなどが挙げられる。また、本発明のガラ
スクロス（Ｄ）については、物理的に開繊処理されたも
のが、得られる積層材料の、吸湿耐熱性、耐マイグレー
ション性、電気絶縁信頼性などの面で、好適である。開
繊処理の手法としては、ガラスクロスメーカーで、一般
に行われている方法であれば、特に限定はされるもので
はない。具体的には、超音波加工、高圧水加工、機械加
工などが例示される。

【００１６】本発明のガラスクロス（Ｄ）は、シランカ
ップリング剤などの表面処理剤で、カップリング処理を
施したものが好適である。これらの表面処理剤は、周知
であり、一般に使用されているものであれば、特に限定
はされるものではない。カップリング剤の代表例として
は、有機シラン系では、γ―アミノプロピルトリエトシ
キシラン、Ｎ―β―（アミノエチル）―γ―アミノプロ
ピルトリメトシキシランなどのアミノシラン系、γ―グ
リシドキシプロピルトリメトシキシラン,β―（３,４エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなど
のエポキシシラン系、γ―メタアクリロキシプロピルト
リメトシキシラン、ビニルートリ（β―メトキシエトキ
シ）シランなどのビニルシラン系、Ｎ―β―（Ｎ―ビニ
ルベンジルアミノエチル）―γ―アミノプロピルトリメ
トシキシラン塩酸塩などのカチオニックシラン系、フェ
ニルシラン系などが例示され、他に有機チタネート系や
有機アルミニウム系などが挙げられ、1種もしくは２種
以上を適宜組み合わせて使用することも可能である。

【００１７】本発明のガラスパウダー（Ａ）とシアン酸
エステル樹脂（Ｂ）を必須成分とする組成物を、基材に
含浸または塗布させた後、通常１００〜２００℃の乾燥
機中で、１〜３０分加熱させる方法などにより、半硬化
（Ｂステージ化）して、本発明のプリプレグを製造す
る。基材に対する組成物の付着量は、プリプレグの樹脂
含有率（ガラスパウダー等無機充填剤を含む）で２０〜
９０重量％の範囲である。

【００１８】本発明の金属箔張り積層板は、前述の本発
明のプリプレグを用いて積層成形したものである。具体
的には本発明のプリプレグを適宜、１枚ないし複数枚以
上を重ね、所望によりその片面もしくは両面に、銅やア
ルミニウムなどの金属箔を配置した構成で、積層成形す
ることにより製造する。使用する金属箔は、電気絶縁材
料用途に用いられているものであれば特に限定はされる
ものではない。成形条件としては、通常のプリント配線
材料用積層板及び多層板の手法が適用できる。例えば、
多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレー
ブ成形機などを使用し、温度：１００〜３００℃、圧
力：２〜１００kg/cm² ，加熱時間：０.０５〜５時間の
範囲が一般的である。また、本発明のプリプレグと別途
作成した内層用の配線板を組み合わせ、積層成形するこ
とにより、多層板を製造することができる。以下に、実
施例、比較例を示し、本発明を詳細に説明する。

【００１９】

【実施例】実施例１２,２-ビス(４-シアネートフェニル)プロパン６０重量
部、ビス(４-マレイミドフェニル)メタン４０重量部を
１５０℃で、４時間反応し、プレポリマー化を行った
後、メチルエチルケトンとジメチルホルムアミドの混合
溶剤に溶解後、ＮＥパウダー（ＰＦＮ４・ＥＱ８００、
平均粒子径：３.５μｍ、日東紡製）３０重量部、オク
チル酸亜鉛０.０４重量部を混合してワニスを得た。こ
のワニスをメチルエチルケトンで希釈し、厚さ０.１ｍ
ｍのＥガラスクロス（２５１ＡＳ４５０ＡＷ、重量：１
０４ｇ/ｍ²、旭シェーベル製）に含浸塗工し、１６０℃
で加熱乾燥して、樹脂含有量（無機充填剤を含む、以下
同様）４６重量％のプリプレグを得た。このプリプレグ
を４枚重ね、この上下に、厚さ１２μｍの電解銅箔を配
置し、圧力３０kg/cm²、温度２００℃で、１２０分間プ
レスを行い、厚さ０.４ｍｍの銅張積層板を得た。

【００２０】実施例２２,２-ビス(４-シアネートフェニル)プロパンのプレポ
リマー（ＢＴ２０７０、重量平均分子量：２１００、三
菱ガス化学製）４０重量部、ビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂（エピコート１００１、エポキシ当量：４８０、
油化シェルエポキシ製）３０重量部、フェノールノボラ
ックエポキシ樹脂（エピコート１５４、エポキシ当量：
１７８、油化シェルエポキシ製）３０重量部をメチルエ
チルケトンに溶解後、ＮＥパウダー（ＰＦＮ４・ＥＱ８
００）５０重量部、２−メチルー４―メチルイミダゾー
ル０.０２重量部を混合してワニスを得た。このワニス
をメチルエチルケトンで希釈し、厚さ０.１ｍｍのＮＥ
クロス（ＮＥＡ２１１６Ｓ１０１、重量：９５ｇ/ｍ²、
日東紡製）に含浸塗工し、１４０℃で加熱乾燥して、樹
脂含有量４６重量％のプリプレグを得た。このプリプ
レグを４枚重ね、実施例１と同様にして、厚さ０.４ｍ
ｍの銅張積層板を得た。

【００２１】実施例３クレゾールノボラックとクロルシアンから得られるノボ
ラックシアネートのプレポリマー（ＣＴ−９０、重量平
均分子量：２８００、ロンザ製）３０重量部、ビス(４-
マレイミドフェニル)メタン２０重量部、ビフェニル型
エポキシ樹脂（ＹＸ４０００、エポキシ当量：１９５、
油化シェルエポキシ製）３０重量部、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂（ＥＳＣＮ２２０Ｈ、エポキシ当
量：２１２、住友化学製）２０重量部をメチルエチルケ
トンとジメチルホルムアミドの混合溶剤に溶解後、ＮＥ
パウダー（ＰＦＮ４・ＥＱ８００）８０重量部、オクチ
ル酸亜鉛０.０２重量部を混合してワニスを得た。この
ワニスをメチルエチルケトンで希釈し、厚さ０.１ｍｍ
のＮＥクロス（ＮＥＡ２１１６Ｓ１０１）に含浸塗工
し、１５０℃で加熱乾燥して、樹脂含有量４７重量％
のプリプレグを得た。このプリプレグを４枚重ね、実施
例１と同様にして、厚さ０.４ｍｍの銅張積層板を得
た。

【００２２】実施例４２,２-ビス(４-シアネートフェニル)プロパンとノボラ
ックシアネート（ＰＴ−３０、ロンザ製）のプレポリマ
ー（配合比１：１、重量平均分子量：２４００）３０重
量部、リン含有エポキシ樹脂（ＦＸ２７９Ｂ、エポキシ
当量：３０８、東都化成製）７０重量部をキシレンに溶
解後、ＮＥパウダー（ＰＦＮ４・ＥＱ８００）４０重量
部、水酸化アルミニウム（ＣＬ３０３、平均粒子径：３
μｍ、住友化学製）１０重量部、ジメチルベンジルアミ
ン０.０１重量部を混合してワニスを得た。このワニス
をメチルエチルケトンで希釈し、厚さ０.１ｍｍのＮＥ
クロス（ＮＥＡ２１１６Ｓ１０１）に含浸塗工し、１４
０℃で加熱乾燥して、樹脂含有量４８重量％のプリプ
レグを得た。このプリプレグを４枚重ね、実施例１と同
様にして、厚さ０.４ｍｍの銅張積層板を得た。

【００２３】実施例５２,２-ビス(４-シアネートフェニル)プロパンのプレポ
リマー（ＢＴ２０７０）４０重量部、ビス（３−エチル
ー５−メチルー４−マレイミドフェニル）メタン１０重
量部、ブロム化ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂(エピ
クロン１５２、エポキシ当量：３６０、大日本インキ
製)３５重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
（ＥＳＣＮ２２０Ｈ）１５重量部をメチルエチルケトン
に溶解後、ＮＥパウダー（ＰＦＮ４・ＥＱ８００）５０
重量部、オクチル酸亜鉛０.０２重量部を混合してワニ
スを得た。このワニスを、メチルエチルケトンで希釈
し、厚さ０.１ｍｍのＮＥクロス（ＮＥＡ２１１６Ｓ１
０１）に含浸塗工し、１５０℃で加熱乾燥して、樹脂含
有量４８重量％のプリプレグを得た。このプリプレグ
を３枚重ね、実施例１と同様にして、厚さ０.４ｍｍの
銅張積層板を得た。

【００２４】比較例１実施例２において、ＮＥパウダーを使用せず、それ以外
は、実施例２と同様に行い、樹脂含有量４４重量％の
プリプレグを得た。このプリプレグを４枚使用し、実施
例１と同様にして、厚さ０.４ｍｍの銅張積層板を得
た。

【００２５】比較例２実施例３において、ＮＥパウダーの替わりに水酸化アル
ミニウム（ＣＬ３０３）を使用する以外は、実施例３と
同様に行い、樹脂含有量４６重量％のプリプレグを得
た。このプリプレグを４枚使用し、実施例１と同様にし
て、厚さ０.４ｍｍの銅張積層板を得た。

【００２６】比較例３ブロム化ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂（エピコート
５０４６、エポキシ当量：４８０、油化シェルエポキシ
製）９０重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
（ＥＳＣＮ２２０Ｈ）１０重量部、ジシアンジアミド
３重量部をメチルエチルケトンとジメチルホルムアミド
の混合溶剤に溶解し、ＮＥパウダー（ＰＦＮ４・ＥＱ８
００）５０重量部、２−メチルー４―メチルイミダゾー
ル０.０６重量部を混合してワニスを得た。このワニス
をメチルエチルケトンで希釈し、厚さ０.１ｍｍのＥガ
ラスクロス（２５１ＡＳ４５０ＡＷ）に含浸塗工し、１
６０℃で加熱処理を行い、樹脂含有量４８重量％のプ
リプレグを得た。このプリプレグを４枚重ね、この上下
に、厚さ１２μｍの電解銅箔を配置し、１７０℃、３０
Kg/cm²で９０分間積層成形し、厚さ０.４ｍｍの銅張
積層板を得た。実施例、及び比較例で得られた積層板の
評価結果を下記の表に示した。

【００２７】

【表１】

【００２８】（評価方法）・半田耐熱性：ＪＩＳＣ６４８１に準拠・誘電率、誘電正接：ＪＩＳＣ６４８１（パターンブ
リッジ法）に準拠・Ｔｇ：ＪＩＳＣ６４８１に準拠・レーザー加工性：銅張り積層板の表裏面に、レーザ
ーシート(ＬＳＥ３０、ＬＳＥ９０、三菱ガス化学製)を
貼りつけ、炭酸ガスレーザーを使用し、孔径０.１ｍｍ
のスルーホール孔加工を実施、発生する銅箔のバリを除
去するため、ソフトエッチング処理法にて、銅箔厚みが
３μｍになるまでエッチング後、メッキ処理を行い、２
０孔について断面観察を実施した際の、孔形状、並びに
最大孔径の平均値（四捨五入）。

【００２９】

【発明の効果】本発明による特定のガラスパウダーとシ
アン酸エステル樹脂を必須成分とする組成物から得られ
るプリプレグ、並びに該プリプレグを硬化した金属張り
積層板は、レーザー加工性が良好で、誘電率や誘電正接
が小さく、耐熱性に優れていることから、高密度用プリ
ント配線材料用途への使用に好適であり、工業的な実用
性は、極めて高いものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０５Ｋ 1/03 ６１０Ｈ０５Ｋ 1/03 ６１０Ｔ６１０Ｌ // Ｃ０８Ｌ 79:00 Ｃ０８Ｌ 79:00 Ｆターム(参考） 4F072 AB09 AB30 AC06 AD11 AD23 AG03 AL09 AL13 4G062 AA05 AA10 AA18 BB05 CC01 DA06 DB03 DB04 DC04 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EA10 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EG01 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM40 NN29 NN40

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６０％、Ｂ₂
Ｏ₃：１５〜３０％、Ａｌ ₂Ｏ₃：８〜２０％を必須成分
として含有するガラスパウダー（Ａ）とシアン酸エステ
ル樹脂（Ｂ）を必須成分として含有する組成物を、基材
に含浸または塗布することを特徴とするプリプレグ。
【請求項２】該基材の繊維として、重量％で、ＳｉＯ
₂：５０〜６０％、Ｂ₂Ｏ ₃：１５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃：
８〜２０％を必須成分として含有するガラス繊維を含有
することを特徴とする、請求項１記載のプリプレグ。
【請求項３】該基材が、重量％で、ＳｉＯ₂：５０〜６
０％、Ｂ₂Ｏ₃：１５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃：８〜２０％を
必須成分として含有するガラスクロス（Ｄ）であること
を特徴とする、請求項１記載のプリプレグ。
【請求項４】該ガラスクロス（Ｄ）が、物理的に開繊
処理を施し、かつシランカップリング剤で表面処理され
たものであることを特徴とする、請求項３記載のプリプ
レグ。
【請求項５】該組成物に、エポキシ樹脂（Ｃ）を含有
することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載
のプリプレグ。
【請求項６】該ガラスパウダー（Ａ）の配合量が、シ
アン酸エステル樹脂（Ｂ）とエポキシ樹脂（Ｃ）の合計
量１００重量部に対し、１０〜１２０重量部であるこ
とを特徴とする、請求項５に記載のプリプレグ。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載のプリプ
レグを硬化して得られることを特徴とするプリント配線
材料用の積層板、または金属箔張り積層板。