JP2002193669A - ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法 - Google Patents
ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法Info
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- JP2002193669A JP2002193669A JP2000389739A JP2000389739A JP2002193669A JP 2002193669 A JP2002193669 A JP 2002193669A JP 2000389739 A JP2000389739 A JP 2000389739A JP 2000389739 A JP2000389739 A JP 2000389739A JP 2002193669 A JP2002193669 A JP 2002193669A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】固体酸化物形燃料電池等の電解質部材として利
用可能な、高い酸化物イオン導電性を有するペロブスカ
イト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結
体を、再現性良く低温で短時間に作製可能な方法を提供
する。 【解決手段】特定の一般式で表されるペロブスカイト型
結晶構造を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体の
製造方法であって、該一般式と同様の割合で各元素を含
む複合酸化物粉末を原料とし、加圧下で直流パルス電流
により通電焼結させることを特徴とするペロブスカイト
型結晶構造を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体
の製造方法。
用可能な、高い酸化物イオン導電性を有するペロブスカ
イト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結
体を、再現性良く低温で短時間に作製可能な方法を提供
する。 【解決手段】特定の一般式で表されるペロブスカイト型
結晶構造を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体の
製造方法であって、該一般式と同様の割合で各元素を含
む複合酸化物粉末を原料とし、加圧下で直流パルス電流
により通電焼結させることを特徴とするペロブスカイト
型結晶構造を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体
の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体酸化物形燃料
電池(以下SOFCと称す)、水蒸気電解装置、酸素分
離装置等の電解質部材として利用可能なペロブスカイト
型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体及
びその製造方法に関する。
電池(以下SOFCと称す)、水蒸気電解装置、酸素分
離装置等の電解質部材として利用可能なペロブスカイト
型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体及
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ペロブスカイト型結晶構造を持つ
ランタン系複合酸化物の焼結体は、該焼結体を構成する
金属元素の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を出発
物質として、固相反応法、加水分解法、ゾル−ゲル法、
水熱法、噴霧熱分解法等により複合酸化物粉末を合成し
た後、最終的に電気炉により焼成する方法により作製さ
れている。これら複合酸化物の内、高い酸化物イオン導
電率を持つランタンガレート(LaGaO3)系酸化物
は、SOFC、水蒸気電解装置、酸素分離装置等の電解
質部材として使用可能であるが、実際の適用に際して
は、ガス透過が無い、緻密な焼結体が必要とされる。
ランタン系複合酸化物の焼結体は、該焼結体を構成する
金属元素の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を出発
物質として、固相反応法、加水分解法、ゾル−ゲル法、
水熱法、噴霧熱分解法等により複合酸化物粉末を合成し
た後、最終的に電気炉により焼成する方法により作製さ
れている。これら複合酸化物の内、高い酸化物イオン導
電率を持つランタンガレート(LaGaO3)系酸化物
は、SOFC、水蒸気電解装置、酸素分離装置等の電解
質部材として使用可能であるが、実際の適用に際して
は、ガス透過が無い、緻密な焼結体が必要とされる。
【0003】しかしながら、一般に、ペロブスカイト型
結晶構造を持つランタン系複合酸化物は、焼結性が悪
く、従来の電気炉を用いた焼結体の製造法では、電解質
部材として必要な95%程度以上の相対密度が得られる
組成はランタンガレート(LaGaO3)系酸化物、ラ
ンタンインデート(LaInO3)系酸化物等に限られ
ている。また、これらの酸化物においても、高密度焼結
体を得るためには1500℃程度以上の高温で10時間
以上の焼成が必要であり、焼結体作製に多量のエネルギ
ーが必要とされる。
結晶構造を持つランタン系複合酸化物は、焼結性が悪
く、従来の電気炉を用いた焼結体の製造法では、電解質
部材として必要な95%程度以上の相対密度が得られる
組成はランタンガレート(LaGaO3)系酸化物、ラ
ンタンインデート(LaInO3)系酸化物等に限られ
ている。また、これらの酸化物においても、高密度焼結
体を得るためには1500℃程度以上の高温で10時間
以上の焼成が必要であり、焼結体作製に多量のエネルギ
ーが必要とされる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
SOFC、水蒸気電解装置、酸素分離装置等の電解質部
材として使用可能な、高い酸化物イオン導電性を有する
ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物
高密度焼結体を再現性良く低温で短時間に作製可能な製
造法を提供することである。
SOFC、水蒸気電解装置、酸素分離装置等の電解質部
材として使用可能な、高い酸化物イオン導電性を有する
ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物
高密度焼結体を再現性良く低温で短時間に作製可能な製
造法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な従来技術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定
組成を有するランタン系複合酸化物を、加圧下に直流パ
ルス電流を通電して焼結させる方法によれば、高い酸化
物イオン導電性を有し、ガス透過のない高密度の焼結体
を比較的低温で短時間に製造できることを見出し、本発
明を完成するに至った。
な従来技術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定
組成を有するランタン系複合酸化物を、加圧下に直流パ
ルス電流を通電して焼結させる方法によれば、高い酸化
物イオン導電性を有し、ガス透過のない高密度の焼結体
を比較的低温で短時間に製造できることを見出し、本発
明を完成するに至った。
【0006】即ち、本発明は、下記のペロブスカイト型
結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体及び
その製造方法を提供するものである。 1. 一般式: (AxB1-x)(CyD1-y)O2.8〜3 (1) (式中、Aはランタン、Bはカルシウム及びストロンチ
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるペロブスカイト型結晶構造
を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法
であって、上記一般式(1)におけるA〜Dの元素を、
上記一般式(1)と同様の割合で含む複合酸化物粉末を
原料とし、加圧下で直流パルス電流により通電焼結させ
ることを特徴とするペロブスカイト型結晶構造を有する
ランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法。 2.上記項1の方法で通電焼結させた後、熱処理するこ
とを特徴とするペロブスカイト型結晶構造を有するラン
タン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法。 3.20〜60MPaの加圧下で1000〜1600℃
で通電焼結させる上記項1又は2に記載のペロブスカイ
ト型結晶構造を有するランタン系複合酸化物高密度焼結
体の製造方法。 4.上記項1〜3のいずれかの方法によって得られるペ
ロブスカイト型結晶構造を有するランタン系複合酸化物
高密度焼結体。 5.理論密度に対して95%以上の密度を有する上記項
4に記載のペロブスカイト型結晶構造を有するランタン
系複合酸化物高密度焼結体。
結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体及び
その製造方法を提供するものである。 1. 一般式: (AxB1-x)(CyD1-y)O2.8〜3 (1) (式中、Aはランタン、Bはカルシウム及びストロンチ
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるペロブスカイト型結晶構造
を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法
であって、上記一般式(1)におけるA〜Dの元素を、
上記一般式(1)と同様の割合で含む複合酸化物粉末を
原料とし、加圧下で直流パルス電流により通電焼結させ
ることを特徴とするペロブスカイト型結晶構造を有する
ランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法。 2.上記項1の方法で通電焼結させた後、熱処理するこ
とを特徴とするペロブスカイト型結晶構造を有するラン
タン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法。 3.20〜60MPaの加圧下で1000〜1600℃
で通電焼結させる上記項1又は2に記載のペロブスカイ
ト型結晶構造を有するランタン系複合酸化物高密度焼結
体の製造方法。 4.上記項1〜3のいずれかの方法によって得られるペ
ロブスカイト型結晶構造を有するランタン系複合酸化物
高密度焼結体。 5.理論密度に対して95%以上の密度を有する上記項
4に記載のペロブスカイト型結晶構造を有するランタン
系複合酸化物高密度焼結体。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法によれば、ラン
タン系複合酸化物粉末を原料とし、加圧下で直流パルス
電流により通電焼結させることによって、目的とするペ
ロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高
密度焼結体を得ることができる。
タン系複合酸化物粉末を原料とし、加圧下で直流パルス
電流により通電焼結させることによって、目的とするペ
ロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高
密度焼結体を得ることができる。
【0008】以下、本発明のランタン系複合酸化物焼結
体の製造方法について詳細に説明する。
体の製造方法について詳細に説明する。
【0009】ランタン系複合酸化物粉末 本発明方法では、原料としては、目的とするランタン系
複合酸化物焼結体と同様の割合で金属元素を含む複合酸
化物粉末を用いる。即ち、本発明では、目的物である一
般式: (AxB1-x)(CyD1-y)O2.8〜3 (1) (式中、Aはランタン、Bはカルシウム及びストロンチ
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるランタン系複合酸化物焼結
体におけるA〜Dの元素を、上記一般式(1)と同様の
割合で含む複合酸化物粉末を原料として用いる。
複合酸化物焼結体と同様の割合で金属元素を含む複合酸
化物粉末を用いる。即ち、本発明では、目的物である一
般式: (AxB1-x)(CyD1-y)O2.8〜3 (1) (式中、Aはランタン、Bはカルシウム及びストロンチ
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるランタン系複合酸化物焼結
体におけるA〜Dの元素を、上記一般式(1)と同様の
割合で含む複合酸化物粉末を原料として用いる。
【0010】該複合酸化物粉末の製造方法については特
に限定されるものではなく、例えば、A〜Dの各元素を
単独又は二種以上含む各種化合物を原料として、A〜D
の各元素が所定の割合になるように原料化合物を配合し
て、固相反応法、加水分解法、ゾル−ゲル法、水熱法、
噴霧熱分解法等の各種の公知の合成手法を採用すること
ができる。該複合酸化物粉末は、後述する通電焼結によ
ってペロブスカイト型結晶構造となるので、原料として
用いる際には完全にペロブスカイト型結晶構造を有する
必要はなく、一部又は全体が、その他の結晶構造又は非
晶質構造であってもよい。
に限定されるものではなく、例えば、A〜Dの各元素を
単独又は二種以上含む各種化合物を原料として、A〜D
の各元素が所定の割合になるように原料化合物を配合し
て、固相反応法、加水分解法、ゾル−ゲル法、水熱法、
噴霧熱分解法等の各種の公知の合成手法を採用すること
ができる。該複合酸化物粉末は、後述する通電焼結によ
ってペロブスカイト型結晶構造となるので、原料として
用いる際には完全にペロブスカイト型結晶構造を有する
必要はなく、一部又は全体が、その他の結晶構造又は非
晶質構造であってもよい。
【0011】該複合酸化物粉末の粒径については、特に
限定的ではないが、後述する通電焼結の際の焼結性の点
から、平均粒径10μm程度以下であることが好まし
く、平均粒径5μm程度以下であることがより好まし
く、平均粒径1μm程度以下であることが更に好まし
い。
限定的ではないが、後述する通電焼結の際の焼結性の点
から、平均粒径10μm程度以下であることが好まし
く、平均粒径5μm程度以下であることがより好まし
く、平均粒径1μm程度以下であることが更に好まし
い。
【0012】通電焼結法 本発明方法では、上記した複合酸化物粉末を所定の形状
に成形した後、加圧下で直流パルス電流を通電して焼結
させることによって、ペロブスカイト型結晶構造を有す
るランタン系複合酸化物の高密度焼結体を得ることがで
きる。
に成形した後、加圧下で直流パルス電流を通電して焼結
させることによって、ペロブスカイト型結晶構造を有す
るランタン系複合酸化物の高密度焼結体を得ることがで
きる。
【0013】通電焼結方法としては、例えば、放電プラ
ズマ焼結法、放電焼結法、プラズマ活性化焼結法等の直
流パルス電流を通電する加圧焼結法を採用することがで
きる。具体的には、例えば、所定の形状の治具に原料粉
末を充填し、圧縮して圧粉体とし、この圧粉体を、好ま
しくは20〜60MPa程度、より好ましくは30〜5
0MPa程度で加圧しながら、例えば、パルス幅2〜3
ミリ秒程度、周期3Hz〜300kHz程度、好ましく
は10Hz〜100Hz程度のパルス状のON−OFF
直流電流を通電すればよい。
ズマ焼結法、放電焼結法、プラズマ活性化焼結法等の直
流パルス電流を通電する加圧焼結法を採用することがで
きる。具体的には、例えば、所定の形状の治具に原料粉
末を充填し、圧縮して圧粉体とし、この圧粉体を、好ま
しくは20〜60MPa程度、より好ましくは30〜5
0MPa程度で加圧しながら、例えば、パルス幅2〜3
ミリ秒程度、周期3Hz〜300kHz程度、好ましく
は10Hz〜100Hz程度のパルス状のON−OFF
直流電流を通電すればよい。
【0014】この様な方法で直流パルス電流を通電する
ことによって、充填された原料粉末の粒子間隙に生じる
放電現象を利用して、放電プラズマ、放電衝撃圧力等に
よる粒子表面の浄化活性化作用及び電場により生じる電
界拡散効果やジュール熱による熱拡散効果、加圧による
塑性変形圧力などが焼結の駆動力となって焼結が促進さ
れる。
ことによって、充填された原料粉末の粒子間隙に生じる
放電現象を利用して、放電プラズマ、放電衝撃圧力等に
よる粒子表面の浄化活性化作用及び電場により生じる電
界拡散効果やジュール熱による熱拡散効果、加圧による
塑性変形圧力などが焼結の駆動力となって焼結が促進さ
れる。
【0015】焼結温度は、1000〜1600℃程度と
することが好ましく、1200〜1500℃程度とする
ことがより好ましい。この様な焼結温度の範囲内から、
目的とする複合酸化物焼結体の種類に応じて、適切な温
度範囲を選択すればよい。
することが好ましく、1200〜1500℃程度とする
ことがより好ましい。この様な焼結温度の範囲内から、
目的とする複合酸化物焼結体の種類に応じて、適切な温
度範囲を選択すればよい。
【0016】焼結温度は、直流パルス電流のピーク電流
値によって調整することができ、同一の焼結治具を用い
た場合には、パルス電流のピーク電流値を高くすると焼
結温度が上昇するので、焼結治具の温度をモニターしな
がら電流値を増減させ、所定の温度になるようにピーク
電流値を制御すればよい。通常、上記した範囲の焼結温
度とするためには、800〜1200A程度のピーク電
流値のパルス電流を通電すればよい。
値によって調整することができ、同一の焼結治具を用い
た場合には、パルス電流のピーク電流値を高くすると焼
結温度が上昇するので、焼結治具の温度をモニターしな
がら電流値を増減させ、所定の温度になるようにピーク
電流値を制御すればよい。通常、上記した範囲の焼結温
度とするためには、800〜1200A程度のピーク電
流値のパルス電流を通電すればよい。
【0017】焼結時間については、通常、1分〜30分
程度の範囲とすればよく、3分〜10分程度とすること
がより好ましい。
程度の範囲とすればよく、3分〜10分程度とすること
がより好ましい。
【0018】焼結時の雰囲気については、特に限定的で
はなく、大気中等の酸素含有雰囲気でも良いが、グラフ
ァイト製の焼結治具を用いて1300℃程度以上の高温
度で焼結する場合には、熱の放散やグラファイトの消耗
が激しくなるので、これを避けるために、例えば、10
Pa程度以下、好ましくは7Pa程度以下の減圧雰囲気
下で焼結することが好ましい。
はなく、大気中等の酸素含有雰囲気でも良いが、グラフ
ァイト製の焼結治具を用いて1300℃程度以上の高温
度で焼結する場合には、熱の放散やグラファイトの消耗
が激しくなるので、これを避けるために、例えば、10
Pa程度以下、好ましくは7Pa程度以下の減圧雰囲気
下で焼結することが好ましい。
【0019】上記した通電焼結法によって、目的とする
高密度のペロブスカイト型結晶構造を有する複合酸化物
焼結体を得ることができるが、例えば、グラファイト製
の焼結治具を用いた場合には、得られる焼結体の表面近
傍には、治具の成分である導電性のグラファイトが含ま
れる。この様な焼結体表面近傍に含まれるグラファイト
等の不純物は、焼結体表面を研磨するか、或いは、焼結
体を大気中で500〜1200℃程度、好ましくは50
0〜1000℃程度に30分〜6時間程度保持して熱処
理することにより、容易に取り除くことができる。熱処
理に際しては、特性の変化を防止するために、焼結体を
これと反応しないアルミナなどの容器に収容し、1〜5
0℃/分程度、好ましくは2〜15℃/分程度の速度で
所定の熱処理温度まで昇温し、保持した後、昇温時と同
様の速度で降温することが好ましい。
高密度のペロブスカイト型結晶構造を有する複合酸化物
焼結体を得ることができるが、例えば、グラファイト製
の焼結治具を用いた場合には、得られる焼結体の表面近
傍には、治具の成分である導電性のグラファイトが含ま
れる。この様な焼結体表面近傍に含まれるグラファイト
等の不純物は、焼結体表面を研磨するか、或いは、焼結
体を大気中で500〜1200℃程度、好ましくは50
0〜1000℃程度に30分〜6時間程度保持して熱処
理することにより、容易に取り除くことができる。熱処
理に際しては、特性の変化を防止するために、焼結体を
これと反応しないアルミナなどの容器に収容し、1〜5
0℃/分程度、好ましくは2〜15℃/分程度の速度で
所定の熱処理温度まで昇温し、保持した後、昇温時と同
様の速度で降温することが好ましい。
【0020】また、グラファイト製の焼結治具を用いる
場合には、焼結時に治具中の炭素分によって、焼結体が
一部還元されて、得られた焼結体中の酸素含量が不足す
る場合がある。この様な場合には、更に、得られた焼結
体を大気中などの酸素含有雰囲気中で1000〜130
0℃程度で熱処理して再酸化することによって、目的と
する一般式(1)で表される焼結体を得ることができ
る。熱処理時間については、特に限定的ではないが、通
常、1〜5時間程度とすればよい。
場合には、焼結時に治具中の炭素分によって、焼結体が
一部還元されて、得られた焼結体中の酸素含量が不足す
る場合がある。この様な場合には、更に、得られた焼結
体を大気中などの酸素含有雰囲気中で1000〜130
0℃程度で熱処理して再酸化することによって、目的と
する一般式(1)で表される焼結体を得ることができ
る。熱処理時間については、特に限定的ではないが、通
常、1〜5時間程度とすればよい。
【0021】尚、上記したグラファイト成分を除去する
ための熱処理において、熱処理温度を1000℃程度以
上とすれば、グラファイトの除去と同時に焼結体の再酸
化を行うことができる。
ための熱処理において、熱処理温度を1000℃程度以
上とすれば、グラファイトの除去と同時に焼結体の再酸
化を行うことができる。
【0022】上記した方法によれば、一般式: (AxB1-x)(CyD1-y)O2.8〜3 (1) (式中、Aはランタン、Bはカルシウム及びストロンチ
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるペロブスカイト型結晶構造
を有するランタン系複合酸化物焼結体が得られる。得ら
れる複合酸化物焼結体は、高い酸化物イオン導電率を持
つ焼結体であり、しかも、通常、理論密度の95%以上
という高い密度を有し、ガス透過が無いことから、SO
FC、水蒸気電解装置、酸素分離装置等の電解質部材と
して有効に使用し得るものである。
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるペロブスカイト型結晶構造
を有するランタン系複合酸化物焼結体が得られる。得ら
れる複合酸化物焼結体は、高い酸化物イオン導電率を持
つ焼結体であり、しかも、通常、理論密度の95%以上
という高い密度を有し、ガス透過が無いことから、SO
FC、水蒸気電解装置、酸素分離装置等の電解質部材と
して有効に使用し得るものである。
【0023】
【発明の効果】本発明方法によれば、従来の電気炉等に
よる外熱式焼結法と比べて、より低温で、短時間でラン
タン系複合酸化物の高密度焼結体を安定に作製すること
ができる。本発明方法によって得られる焼結体は、高い
酸化物イオン導電性を有するペロブスカイト型結晶構造
を持つ高密度の焼結体であり、SOFC、水蒸気電解装
置、酸素分離装置等の電解質部材として有効に使用し得
るものである。
よる外熱式焼結法と比べて、より低温で、短時間でラン
タン系複合酸化物の高密度焼結体を安定に作製すること
ができる。本発明方法によって得られる焼結体は、高い
酸化物イオン導電性を有するペロブスカイト型結晶構造
を持つ高密度の焼結体であり、SOFC、水蒸気電解装
置、酸素分離装置等の電解質部材として有効に使用し得
るものである。
【0024】
【実施例】以下、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
【0025】実施例1 酸化ランタン、炭酸ストロンチウム及び酸化スカンジウ
ムを原料として用い、La:Sr:Sc(原子比)=
0.9:0.1:1となるように、各化合物を混合し
た。これらの化合物を混合した後、空気中で1350℃
で10時間仮焼し、乳鉢を用いて1時間粉砕し、更に、
同じ条件で仮焼と粉砕を繰り返すことによって、複合酸
化物粉末を得た。
ムを原料として用い、La:Sr:Sc(原子比)=
0.9:0.1:1となるように、各化合物を混合し
た。これらの化合物を混合した後、空気中で1350℃
で10時間仮焼し、乳鉢を用いて1時間粉砕し、更に、
同じ条件で仮焼と粉砕を繰り返すことによって、複合酸
化物粉末を得た。
【0026】上記した方法で得られた複合酸化物粉末を
出発原料として、以下の方法で通電焼結を行った。
出発原料として、以下の方法で通電焼結を行った。
【0027】通電焼結機としては、(株)イズミテック
製放電プラズマ焼結機SPS−515Sを用いた。焼結
治具としては、グラファイト製で直径1.5cmの円筒
形のものを用いた。この治具に、上記原料粉末約1gを
均一に入れ、約40MPaの圧力を印加し、焼結チャン
バー内を約7Paまで脱気した。次いで、治具に約11
00Aの直流パルス電流を通電して試料周辺を昇温速度
約170℃/分で1400〜1550℃に加熱した。こ
の状態を5分間保持した後、電流及び圧力印加を止め、
試料を室温まで冷却し、焼結チャンバー内を大気圧に戻
した。
製放電プラズマ焼結機SPS−515Sを用いた。焼結
治具としては、グラファイト製で直径1.5cmの円筒
形のものを用いた。この治具に、上記原料粉末約1gを
均一に入れ、約40MPaの圧力を印加し、焼結チャン
バー内を約7Paまで脱気した。次いで、治具に約11
00Aの直流パルス電流を通電して試料周辺を昇温速度
約170℃/分で1400〜1550℃に加熱した。こ
の状態を5分間保持した後、電流及び圧力印加を止め、
試料を室温まで冷却し、焼結チャンバー内を大気圧に戻
した。
【0028】この状態で取り出した焼結体は黒色で電気
伝導性を有し、X線回折から治具のグラファイトが含ま
れていることが分かった。
伝導性を有し、X線回折から治具のグラファイトが含ま
れていることが分かった。
【0029】この焼結体を空気中で1300℃で2時間
熱処理することによって、一般式:La0.9Sr0.1Sc
O2.95で表されるランタンストロンチウムスカンジウム
酸化物(以下、LSSと称す)からなるペロブスカイト
型結晶構造を有する焼結体(以下、SPS焼結体と称す
る)を得た。
熱処理することによって、一般式:La0.9Sr0.1Sc
O2.95で表されるランタンストロンチウムスカンジウム
酸化物(以下、LSSと称す)からなるペロブスカイト
型結晶構造を有する焼結体(以下、SPS焼結体と称す
る)を得た。
【0030】出発原料(a)、SPS焼結体(放電プラ
ズマ焼結法による焼結体)(b)、通常の電気炉を用い
た焼結体(1625℃、10時間焼成)(以下、CS焼
結体と称す)(c)についてのX線回折パターンを図1
に示す。出発原料にはわずかに不純物相が存在するもの
の、SPS焼結体(放電プラズマ焼結法による焼結体)
は、斜方晶のペロブスカイト型結晶構造を持つLSS単
一相であり、その格子定数はa=0.5787(2)n
m(0.5787±0.0002nmを表す。以下同
様)、b=0.8103(2)nm、c=0.5691
(2)nmであった。これらの値は、CS焼結体(電気
炉を用いた焼結体)(a=0.5789(1)nm、b
=0.8106(2)nm、c=0.5689(1)n
m)と良い一致を示した。
ズマ焼結法による焼結体)(b)、通常の電気炉を用い
た焼結体(1625℃、10時間焼成)(以下、CS焼
結体と称す)(c)についてのX線回折パターンを図1
に示す。出発原料にはわずかに不純物相が存在するもの
の、SPS焼結体(放電プラズマ焼結法による焼結体)
は、斜方晶のペロブスカイト型結晶構造を持つLSS単
一相であり、その格子定数はa=0.5787(2)n
m(0.5787±0.0002nmを表す。以下同
様)、b=0.8103(2)nm、c=0.5691
(2)nmであった。これらの値は、CS焼結体(電気
炉を用いた焼結体)(a=0.5789(1)nm、b
=0.8106(2)nm、c=0.5689(1)n
m)と良い一致を示した。
【0031】また、SPS焼結体(放電プラズマ焼結法
による焼結体)とCS焼結体(電気炉を用いた焼結体)
について、焼結温度と相対密度との関係を図2に示す。
図2から判る通り、SPS焼結体の密度は、例えば、1
500℃で5分間焼結して得た焼結体で5.5g/cm
3であり、これは理論密度(5.6g/cm3)の98%
であった。
による焼結体)とCS焼結体(電気炉を用いた焼結体)
について、焼結温度と相対密度との関係を図2に示す。
図2から判る通り、SPS焼結体の密度は、例えば、1
500℃で5分間焼結して得た焼結体で5.5g/cm
3であり、これは理論密度(5.6g/cm3)の98%
であった。
【0032】一方、CS焼結体(電気炉を用いた焼結
体)では、1625℃で10時間焼結した場合の密度
は、4.3g/cm3(理論密度の77%)であった。
体)では、1625℃で10時間焼結した場合の密度
は、4.3g/cm3(理論密度の77%)であった。
【0033】この結果から、放電プラズマ焼結法によれ
ば、通常の電気炉を用いて焼結した場合と比べて、約1
00℃低い温度で極めて短時間で高密度焼結体を得られ
ることが分かる。
ば、通常の電気炉を用いて焼結した場合と比べて、約1
00℃低い温度で極めて短時間で高密度焼結体を得られ
ることが分かる。
【0034】また、放電プラズマ法によって得られたS
PS焼結体(相対密度98%、直径15mm、厚さ0.
89mm)と電気炉を用いて得られたCS焼結体(相対
密度77%、直径15mm、厚さ0.89mm)につい
て、空気−水素(4%H2−N2バランス、30℃H2O
飽和)電池による温度とイオン輸率(全導電率に占める
イオン導電率の割合)との関係を求めた結果を図3に示
す。図3から判るように、SPS焼結体のイオン輸率
は、500℃で0.94、900℃で0.75であり、
CS焼結体(相対密度77%)と比べて、全温度域でイ
オン輸率が0.5程度向上していることが分かる。これ
は、相対密度が77%から98%に向上したことによ
り、電解質を通してのガス透過が無くなったことを意味
する。また、SPS焼結体を用いて作製した電池からは
安定した電流を取り出すことが出来た。
PS焼結体(相対密度98%、直径15mm、厚さ0.
89mm)と電気炉を用いて得られたCS焼結体(相対
密度77%、直径15mm、厚さ0.89mm)につい
て、空気−水素(4%H2−N2バランス、30℃H2O
飽和)電池による温度とイオン輸率(全導電率に占める
イオン導電率の割合)との関係を求めた結果を図3に示
す。図3から判るように、SPS焼結体のイオン輸率
は、500℃で0.94、900℃で0.75であり、
CS焼結体(相対密度77%)と比べて、全温度域でイ
オン輸率が0.5程度向上していることが分かる。これ
は、相対密度が77%から98%に向上したことによ
り、電解質を通してのガス透過が無くなったことを意味
する。また、SPS焼結体を用いて作製した電池からは
安定した電流を取り出すことが出来た。
【0035】このように本発明方法は、SOFC、水蒸
気電解装置、酸素分離装置等に使用可能な高密度電解質
材料を、低温において高速で焼結させる方法として好適
なものである。
気電解装置、酸素分離装置等に使用可能な高密度電解質
材料を、低温において高速で焼結させる方法として好適
なものである。
【図1】実施例1で用いた出発原料(a)、放電プラズ
マ焼結法によって得られた焼結体(SPS焼結体)
(b)、及び通常焼結法により得られた焼結体(CS焼
結体)(c)のX線回折パターンを示す図面。
マ焼結法によって得られた焼結体(SPS焼結体)
(b)、及び通常焼結法により得られた焼結体(CS焼
結体)(c)のX線回折パターンを示す図面。
【図2】放電プラズマ焼結法によって得られた焼結体
(SPS焼結体)、及び通常焼結法により得られた焼結
体(CS焼結体)についての相対密度の焼結温度依存性
を示すグラフ。
(SPS焼結体)、及び通常焼結法により得られた焼結
体(CS焼結体)についての相対密度の焼結温度依存性
を示すグラフ。
【図3】放電プラズマ焼結法によって得られた焼結体
(SPS焼結体)、及び通常焼結法により得られた焼結
体(CS焼結体)の空気−水素(4%H2−N2バラン
ス、30℃H2O加湿)電池によるイオン輸率の温度依
存性を示すグラフ。
(SPS焼結体)、及び通常焼結法により得られた焼結
体(CS焼結体)の空気−水素(4%H2−N2バラン
ス、30℃H2O加湿)電池によるイオン輸率の温度依
存性を示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷本 一美 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 柳田 昌宏 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 松本 一 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 北川 由紀子 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 宮崎 義憲 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 蔭山 博之 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 Fターム(参考) 4G031 AA03 AA04 AA09 AA22 AA27 AA29 BA03 CA01 GA07 GA16
Claims (5)
- 【請求項1】一般式: (AxB1-x)(CyD1-y)O2.8〜3 (1) (式中、Aはランタン、Bはカルシウム及びストロンチ
ウムから選ばれた少なくとも一種、Cはアルミニウム、
ガリウム、スカンジウム及びインジウムから選ばれた少
なくとも一種、Dはマグネシウム及びコバルトから選ば
れた少なくとも一種であり、xは0.8〜1、yは0.
8〜1である。)で表されるペロブスカイト型結晶構造
を有するランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法
であって、上記一般式(1)におけるA〜Dの元素を、
上記一般式(1)と同様の割合で含む複合酸化物粉末を
原料とし、加圧下で直流パルス電流により通電焼結させ
ることを特徴とするペロブスカイト型結晶構造を有する
ランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法。 - 【請求項2】請求項1の方法で通電焼結させた後、熱処
理することを特徴とするペロブスカイト型結晶構造を有
するランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法。 - 【請求項3】20〜60MPaの加圧下で1000〜1
600℃で通電焼結させる請求項1又は2に記載のペロ
ブスカイト型結晶構造を有するランタン系複合酸化物高
密度焼結体の製造方法。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれかの方法によって得
られるペロブスカイト型結晶構造を有するランタン系複
合酸化物高密度焼結体。 - 【請求項5】理論密度に対して95%以上の密度を有す
る請求項4に記載のペロブスカイト型結晶構造を有する
ランタン系複合酸化物高密度焼結体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000389739A JP3564535B2 (ja) | 2000-12-22 | 2000-12-22 | ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000389739A JP3564535B2 (ja) | 2000-12-22 | 2000-12-22 | ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002193669A true JP2002193669A (ja) | 2002-07-10 |
JP3564535B2 JP3564535B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
ID=18856228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000389739A Expired - Lifetime JP3564535B2 (ja) | 2000-12-22 | 2000-12-22 | ペロブスカイト型結晶構造を持つランタン系複合酸化物高密度焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3564535B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005308528A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | New Cosmos Electric Corp | 酸化物イオン伝導体を用いた還元性ガスセンサ |
JP2006083016A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Science Univ Of Tokyo | 強誘電体材料の製造方法(放電プラズマ焼結による一軸配向性強誘電体セラミックスの合成) |
KR101004446B1 (ko) | 2008-10-06 | 2010-12-28 | 삼성전기주식회사 | 연료전지용 전극막조립체 제조방법 |
-
2000
- 2000-12-22 JP JP2000389739A patent/JP3564535B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005308528A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | New Cosmos Electric Corp | 酸化物イオン伝導体を用いた還元性ガスセンサ |
JP4583800B2 (ja) * | 2004-04-21 | 2010-11-17 | 新コスモス電機株式会社 | 酸化物イオン伝導体を用いた水素ガスセンサ |
JP2006083016A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Science Univ Of Tokyo | 強誘電体材料の製造方法(放電プラズマ焼結による一軸配向性強誘電体セラミックスの合成) |
KR101004446B1 (ko) | 2008-10-06 | 2010-12-28 | 삼성전기주식회사 | 연료전지용 전극막조립체 제조방법 |
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---|---|
JP3564535B2 (ja) | 2004-09-15 |
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