JP2002191983A - 可視光線応答型光触媒 - Google Patents
可視光線応答型光触媒Info
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- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 69
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 69
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 38
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- -1 C eO2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N SnO2 Inorganic materials O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims 1
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 141
- 239000010408 film Substances 0.000 description 62
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 25
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 21
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 16
- 239000010705 motor oil Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 6
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 229910003089 Ti–OH Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004298 light response Effects 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003077 Ti−O Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、可視光線領域の光も利用できる優
れた光触媒性を有する可視光線応答型光触媒を得ること
を目的とする。また、この可視光線応答型光触媒層を基
材表面に設けることによって、セルフクリーニング性を
有するとともに、長期間親水性を保ち続けることができ
る透明性の高い被膜を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明の可視光線応答型光触媒1は、基
材2上に、酸化チタン層3、チタンとは異なる異種の金
属の酸化物を含む金属酸化物層4、および酸化ケイ素層
5とが順に積層された構成のものであり、特に好ましい
金属酸化物としてはTa2O5などがあげられる。
れた光触媒性を有する可視光線応答型光触媒を得ること
を目的とする。また、この可視光線応答型光触媒層を基
材表面に設けることによって、セルフクリーニング性を
有するとともに、長期間親水性を保ち続けることができ
る透明性の高い被膜を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明の可視光線応答型光触媒1は、基
材2上に、酸化チタン層3、チタンとは異なる異種の金
属の酸化物を含む金属酸化物層4、および酸化ケイ素層
5とが順に積層された構成のものであり、特に好ましい
金属酸化物としてはTa2O5などがあげられる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、可視光線応答型光
触媒に関する。また、本発明は、基材表面に可視光線応
答型光触媒層を形成することにより、可視光域の光によ
り光触媒性を示し、これによりセルフクリーニング性と
長期間親水性が保持できる性質とを基材に付与できる被
膜と、これらの被膜を設けた応用製品に関する。
触媒に関する。また、本発明は、基材表面に可視光線応
答型光触媒層を形成することにより、可視光域の光によ
り光触媒性を示し、これによりセルフクリーニング性と
長期間親水性が保持できる性質とを基材に付与できる被
膜と、これらの被膜を設けた応用製品に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、光触媒としては、アナターゼ型の
酸化チタンが注目されており、このものに380nmよ
りも波長の短い紫外線を照射すると、例えば水の分解反
応などの酸化還元反応を起こすことは「本多−藤嶋効
果」として知られている。また、この効果に基づき、基
材表面に酸化チタン被膜あるいは薄膜を設けた種々の応
用製品も試みられ、一部は実用化されている。
酸化チタンが注目されており、このものに380nmよ
りも波長の短い紫外線を照射すると、例えば水の分解反
応などの酸化還元反応を起こすことは「本多−藤嶋効
果」として知られている。また、この効果に基づき、基
材表面に酸化チタン被膜あるいは薄膜を設けた種々の応
用製品も試みられ、一部は実用化されている。
【0003】しかしながら、この酸化チタンの光触媒性
は、太陽光などの自然光に含まれる僅かな紫外線を吸収
して酸化分解反応を誘起できるものではあるが、利用で
きる光の波長は酸化チタンのバンドギャップ(約3.2
eV)に基づく約380nm以下の波長の紫外線に限ら
れる。
は、太陽光などの自然光に含まれる僅かな紫外線を吸収
して酸化分解反応を誘起できるものではあるが、利用で
きる光の波長は酸化チタンのバンドギャップ(約3.2
eV)に基づく約380nm以下の波長の紫外線に限ら
れる。
【0004】従って、この利用できる光の波長を可視光
域にも広げることができれば、紫外線を含まない光線
(例えば、紫外線カットガラスが設置された室内や蛍光
灯下)でも光触媒機能を有し、肉眼で明るい場所であれ
ば利用可能となることから、可視光線応答型光触媒の作
製が試みられている。
域にも広げることができれば、紫外線を含まない光線
(例えば、紫外線カットガラスが設置された室内や蛍光
灯下)でも光触媒機能を有し、肉眼で明るい場所であれ
ば利用可能となることから、可視光線応答型光触媒の作
製が試みられている。
【0005】このようなものとしては、酸化チタンなど
の酸化物半導体に水素イオンやアルカリ金属イオンをイ
オン注入し、酸化チタンの酸素を欠損させた可視光線応
答型の光触媒がある(特開2000−1023647号
公報)が、この可視光線応答型は酸化チタンを成膜後イ
オン注入して作製するため透明性が低く、透明性が必要
なガラスやミラーに適用するには不向きである。また、
そのほかにも、TiO 2へのCrイオンドーピング法や
イオン注入法などが研究され、発表されているが、現在
のところ技術的に確立されているものではない(例え
ば、表面科学、20巻、2号、60〜65頁(199
9)など)。
の酸化物半導体に水素イオンやアルカリ金属イオンをイ
オン注入し、酸化チタンの酸素を欠損させた可視光線応
答型の光触媒がある(特開2000−1023647号
公報)が、この可視光線応答型は酸化チタンを成膜後イ
オン注入して作製するため透明性が低く、透明性が必要
なガラスやミラーに適用するには不向きである。また、
そのほかにも、TiO 2へのCrイオンドーピング法や
イオン注入法などが研究され、発表されているが、現在
のところ技術的に確立されているものではない(例え
ば、表面科学、20巻、2号、60〜65頁(199
9)など)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、可
視光線領域の光も利用できる優れた光触媒性を有する可
視光線応答型光触媒を提供することを目的とする。
視光線領域の光も利用できる優れた光触媒性を有する可
視光線応答型光触媒を提供することを目的とする。
【0007】また、本発明は、この可視光線応答型光触
媒層を基材表面に設けることによって、基材に、可視光
線により光分解性を発揮し、セルフクリーニング性を有
するとともに、長期間親水性を保ち続けることができる
特性を付与する、可視光に対する透明性が高い被膜を提
供することを目的とする。
媒層を基材表面に設けることによって、基材に、可視光
線により光分解性を発揮し、セルフクリーニング性を有
するとともに、長期間親水性を保ち続けることができる
特性を付与する、可視光に対する透明性が高い被膜を提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者は酸化チタンの
光吸収領域を可視光線領域まで広げることについて鋭意
研究を重ねた結果、酸化チタン上に金属酸化物層を設け
ることにより上記課題を達成できることを見出し、この
知見に基づいて本発明をなすに至った。
光吸収領域を可視光線領域まで広げることについて鋭意
研究を重ねた結果、酸化チタン上に金属酸化物層を設け
ることにより上記課題を達成できることを見出し、この
知見に基づいて本発明をなすに至った。
【0009】すなわち、本発明の可視光線応答型光触媒
は、光触媒機能を有する酸化チタン上に、チタン以外の
金属の酸化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層
とが順に積層されていることを特徴とし、また、本発明
のセルフクリーニング性を有する親水性被膜は、基材上
に光触媒機能を有する酸化チタン層、チタン以外の金属
の酸化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とが
順に積層されていることを特徴とするものである。
は、光触媒機能を有する酸化チタン上に、チタン以外の
金属の酸化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層
とが順に積層されていることを特徴とし、また、本発明
のセルフクリーニング性を有する親水性被膜は、基材上
に光触媒機能を有する酸化チタン層、チタン以外の金属
の酸化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とが
順に積層されていることを特徴とするものである。
【0010】さらに、本発明の可視光線応答型光触媒お
よび親水性被膜は、上記金属酸化物層の厚さが、2〜5
0nm、好ましくは5〜30nmであり、上記酸化ケイ
素層の厚が5〜50nm、好ましくは10〜30nmで
あることも特徴とする。
よび親水性被膜は、上記金属酸化物層の厚さが、2〜5
0nm、好ましくは5〜30nmであり、上記酸化ケイ
素層の厚が5〜50nm、好ましくは10〜30nmで
あることも特徴とする。
【0011】なお、上記の親水性被膜は膜厚により制限
されるものでははなく、一般に、膜厚が1μm以下のい
わゆる薄膜と称されるものや、膜厚が数μm以上の塗膜
あるいはコーティング膜と称されるものも包含される概
念である。
されるものでははなく、一般に、膜厚が1μm以下のい
わゆる薄膜と称されるものや、膜厚が数μm以上の塗膜
あるいはコーティング膜と称されるものも包含される概
念である。
【0012】本発明の金属酸化物層は、チタン以外の異
種の金属元素の酸化物により形成された層であり、金属
酸化物層は1種類の金属酸化物により構成されていても
よく、2種類以上の金属酸化物の混合酸化物により構成
されていてもよい。
種の金属元素の酸化物により形成された層であり、金属
酸化物層は1種類の金属酸化物により構成されていても
よく、2種類以上の金属酸化物の混合酸化物により構成
されていてもよい。
【0013】本発明は、酸化チタン上にチタンとは異な
る金属の酸化物が積層され、酸化チタン層との間で界面
を形成することが基本となるもので、界面が存在すれば
よく、これにより酸化チタン触媒の可視光線応答化が達
成されるもので、金属酸化物層の膜厚には制限を受ける
ものではない。しかしながら、現実に酸化チタン層上に
異種金属酸化物層を積層する場合には、酸化チタンの表
面構造や実際的な成膜操作の面からみると、10nm程
度以上の膜厚とすることによって、ほぼ完全に酸化チタ
ン層上を金属酸化物層で覆うことができる場合が多い。
本発明では、この異種金属酸化物層の厚さとしては、一
般には、2〜50nm、好ましくは、5〜30nm程度
の膜厚とすることが、成膜操作面および触媒性能の面か
ら好ましい結果が得られる。
る金属の酸化物が積層され、酸化チタン層との間で界面
を形成することが基本となるもので、界面が存在すれば
よく、これにより酸化チタン触媒の可視光線応答化が達
成されるもので、金属酸化物層の膜厚には制限を受ける
ものではない。しかしながら、現実に酸化チタン層上に
異種金属酸化物層を積層する場合には、酸化チタンの表
面構造や実際的な成膜操作の面からみると、10nm程
度以上の膜厚とすることによって、ほぼ完全に酸化チタ
ン層上を金属酸化物層で覆うことができる場合が多い。
本発明では、この異種金属酸化物層の厚さとしては、一
般には、2〜50nm、好ましくは、5〜30nm程度
の膜厚とすることが、成膜操作面および触媒性能の面か
ら好ましい結果が得られる。
【0014】このような構成により得られる可視光線応
答型光触媒は、酸化チタン層の上に、チタンとは異なる
異種の金属酸化物層を積層することにより、この金属酸
化物層と酸化チタン層との界面に電位勾配(ショットキ
ーバリヤー)のゆがみを生じる。その結果可視光線(4
00〜500nm程度)で励起可能なエネルギー準位が
形成された結果であると考えられる。
答型光触媒は、酸化チタン層の上に、チタンとは異なる
異種の金属酸化物層を積層することにより、この金属酸
化物層と酸化チタン層との界面に電位勾配(ショットキ
ーバリヤー)のゆがみを生じる。その結果可視光線(4
00〜500nm程度)で励起可能なエネルギー準位が
形成された結果であると考えられる。
【0015】以上のようなメカニズムにより空間電位が
生じた結果、可視光線領域の光を吸収し、励起された酸
化チタンにより発生した正孔(h+)が酸化ケイ素層中
を拡散し、最表面の水と反応することによりヒドロキシ
ルラジカル(OH・)を生じ、最表面に付着した有機物
などを酸化分解することになる。
生じた結果、可視光線領域の光を吸収し、励起された酸
化チタンにより発生した正孔(h+)が酸化ケイ素層中
を拡散し、最表面の水と反応することによりヒドロキシ
ルラジカル(OH・)を生じ、最表面に付着した有機物
などを酸化分解することになる。
【0016】従って、光触媒機能には、最上層の酸化ケ
イ素層はほとんど寄与していない可能性があるが、金属
酸化物が露出していると、金属酸化物の種類によっては
耐摩耗性、耐汚染性、耐水性、耐薬品性などに問題があ
ることがあり、実用的見地からみて表面に酸化ケイ素層
を設け、これらの諸問題を改善することが好ましい。な
お、最上層に設ける酸化ケイ素のバンドギャップは5e
V以上であり、可視光ないし紫外光に対して透明であ
り、本発明の可視光線応答型光触媒の光吸収性には影響
を与えることはないが、酸化チタンから生じる正孔の拡
散性を考慮すると、この酸化ケイ素層はあまり厚くない
方が好ましく、一般に、5〜50nm程度、好ましく
は、10〜30nm程度の膜厚である。
イ素層はほとんど寄与していない可能性があるが、金属
酸化物が露出していると、金属酸化物の種類によっては
耐摩耗性、耐汚染性、耐水性、耐薬品性などに問題があ
ることがあり、実用的見地からみて表面に酸化ケイ素層
を設け、これらの諸問題を改善することが好ましい。な
お、最上層に設ける酸化ケイ素のバンドギャップは5e
V以上であり、可視光ないし紫外光に対して透明であ
り、本発明の可視光線応答型光触媒の光吸収性には影響
を与えることはないが、酸化チタンから生じる正孔の拡
散性を考慮すると、この酸化ケイ素層はあまり厚くない
方が好ましく、一般に、5〜50nm程度、好ましく
は、10〜30nm程度の膜厚である。
【0017】以上のように表面の酸化ケイ素層は可視光
線応答型光触媒機能に直接関与するものではないが、本
発明の可視光線応答型光触媒を用いて親水性被膜を形成
する場合には、表面に酸化ケイ素層を有することが好ま
しいものである。これは、正孔による水の酸化で生じた
ヒドロキシルラジカルは、有機物の酸化分解ばかりでな
く、被膜表面では、TiやSiと結合し、「Ti−O
H」や「Si−OH」のような状態で存在し、これらの
ヒドロキシ化された状態が親水性付与に深く寄与してい
るものと考えられる。そして、これらの親水性に寄与す
る「Ti−OH」と「Si−OH」との安定性を比較す
ると「Si−OH」の安定性が格段に高い。
線応答型光触媒機能に直接関与するものではないが、本
発明の可視光線応答型光触媒を用いて親水性被膜を形成
する場合には、表面に酸化ケイ素層を有することが好ま
しいものである。これは、正孔による水の酸化で生じた
ヒドロキシルラジカルは、有機物の酸化分解ばかりでな
く、被膜表面では、TiやSiと結合し、「Ti−O
H」や「Si−OH」のような状態で存在し、これらの
ヒドロキシ化された状態が親水性付与に深く寄与してい
るものと考えられる。そして、これらの親水性に寄与す
る「Ti−OH」と「Si−OH」との安定性を比較す
ると「Si−OH」の安定性が格段に高い。
【0018】従って、一旦「Si−OH」が生じると、
長期間この状態のままで存在し、基材表面の親水性維持
できるが、これに対して「Ti−OH」の場合には、短
期間のうちに消失してしまい基材表面の親水性も得られ
なくなり、基材表面の親水性を回復するためには、再度
光を照射して「Ti−OH」を形成してやることが必要
となる。つまり、酸化ケイ素の表面層を設けることは、
仮に光が当たらない状態に長期間おかれたとしても、親
水性を長期間維持できる被膜が得られるという点で好ま
しいものとなる。
長期間この状態のままで存在し、基材表面の親水性維持
できるが、これに対して「Ti−OH」の場合には、短
期間のうちに消失してしまい基材表面の親水性も得られ
なくなり、基材表面の親水性を回復するためには、再度
光を照射して「Ti−OH」を形成してやることが必要
となる。つまり、酸化ケイ素の表面層を設けることは、
仮に光が当たらない状態に長期間おかれたとしても、親
水性を長期間維持できる被膜が得られるという点で好ま
しいものとなる。
【0019】本発明に用いる光触媒機能を有する酸化チ
タンはアナターゼ型が好ましく、このような結晶系の酸
化チタンは比較的低温(100〜850℃)で酸化チタ
ン層を形成することにより得られ、アナターゼ型の酸化
チタンであることは、X線回折などにより2θ=25.
3°に表れる(101)面からのピークの存在により確
認することができる。このようなアナターゼ型酸化チタ
ンを含む多結晶層から構成される酸化チタン層の厚みは
特に制限はないが、油脂などの有機物の分解性など触媒
性能を考慮すると100nm以上の膜厚であることが好
ましく、被膜を形成する場合の実用性の面からいえば、
一般に150nm〜1000nm程度であることが好ま
しい。
タンはアナターゼ型が好ましく、このような結晶系の酸
化チタンは比較的低温(100〜850℃)で酸化チタ
ン層を形成することにより得られ、アナターゼ型の酸化
チタンであることは、X線回折などにより2θ=25.
3°に表れる(101)面からのピークの存在により確
認することができる。このようなアナターゼ型酸化チタ
ンを含む多結晶層から構成される酸化チタン層の厚みは
特に制限はないが、油脂などの有機物の分解性など触媒
性能を考慮すると100nm以上の膜厚であることが好
ましく、被膜を形成する場合の実用性の面からいえば、
一般に150nm〜1000nm程度であることが好ま
しい。
【0020】また、被膜を形成する基材としては、特に
制限はなくガラス、セラミックス、磁器、金属、樹脂
(耐熱性有するものが好ましい)などがあり、これらの
基材表面に本発明の、「酸化チタン/金属酸化物/酸化
ケイ素」被膜を形成することにより可視光線による光触
媒活性を付与することができ、セルフクリーニング性を
有し、親水性の透明性が高い被膜が形成されたものが得
られる。
制限はなくガラス、セラミックス、磁器、金属、樹脂
(耐熱性有するものが好ましい)などがあり、これらの
基材表面に本発明の、「酸化チタン/金属酸化物/酸化
ケイ素」被膜を形成することにより可視光線による光触
媒活性を付与することができ、セルフクリーニング性を
有し、親水性の透明性が高い被膜が形成されたものが得
られる。
【0021】本発明の被膜が適用される製品としては、
例えば車両関連製品としては、車両用バックミラーやヘ
ッドランプのレンズやリフレクター、光源(バルブ)な
どがあり、その他エアコンフィルター、空気清浄機、蛍
光灯室内、照明器具を始め建材用ガラス、外壁など種々
のものがあるが、これらには限定されない。
例えば車両関連製品としては、車両用バックミラーやヘ
ッドランプのレンズやリフレクター、光源(バルブ)な
どがあり、その他エアコンフィルター、空気清浄機、蛍
光灯室内、照明器具を始め建材用ガラス、外壁など種々
のものがあるが、これらには限定されない。
【0022】なお、基材として一般のガラス(ソーダラ
イムガラス)を用いる場合には、約400℃以上の成膜
中にガラス中のナトリウムイオンが酸化チタン膜中に拡
散して、NaxTiyOz層を形成し、この層が電子−
正孔対の再結合中心として作用し、光触媒活性が損なわ
れる場合がある。これを防止するには、特に、基材とな
るガラスと酸化チタン層の間に酸化ケイ素層などのバリ
ヤー層を介在させることが好ましい。
イムガラス)を用いる場合には、約400℃以上の成膜
中にガラス中のナトリウムイオンが酸化チタン膜中に拡
散して、NaxTiyOz層を形成し、この層が電子−
正孔対の再結合中心として作用し、光触媒活性が損なわ
れる場合がある。これを防止するには、特に、基材とな
るガラスと酸化チタン層の間に酸化ケイ素層などのバリ
ヤー層を介在させることが好ましい。
【0023】一方、本発明で酸化チタン層上に積層され
る金属酸化物層を構成する金属酸化物としては、チタン
以外の金属の酸化物がその構成成分の一部として含まれ
ていればよく、チタン以外の一種類の金属の酸化物で構
成されても、あるいは、二種類以上の金属の酸化物で構
成された混合酸化物であってもよい。なお、チタン以外
の金属の酸化物が金属酸化物層の構成成分の一部として
含まれるのであれば、この金属酸化物層を構成する酸化
物として、酸化チタンを含む混合酸化物であってもよ
い。
る金属酸化物層を構成する金属酸化物としては、チタン
以外の金属の酸化物がその構成成分の一部として含まれ
ていればよく、チタン以外の一種類の金属の酸化物で構
成されても、あるいは、二種類以上の金属の酸化物で構
成された混合酸化物であってもよい。なお、チタン以外
の金属の酸化物が金属酸化物層の構成成分の一部として
含まれるのであれば、この金属酸化物層を構成する酸化
物として、酸化チタンを含む混合酸化物であってもよ
い。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明の可視光線応答型光触媒
は、酸化チタン上に、チタンとは異なる異種の金属の酸
化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とを順に
積層したものであるが、種々の方法で製造することがで
きる。このような製造法としては、真空蒸着やスパッタ
リングのようなPVD法、有機金属化合物などを用いる
CVD法、アルコキシ体などを用いたゾル−ゲル法、あ
るいはEDTAなど錯体のアルキルアンモニウム塩溶液
を含むコーティング液によるコーティング法などがあ
り、これらのいずれかの方法により、まず基板上に酸化
チタン層(膜)を形成し、次いで酸化チタンと酸化ケイ
素とを含む混合層(膜)を酸化チタン層(膜)の上に積
層し、その後その混合層(膜)上に酸化ケイ素層(膜)
を積層することにより製造することができる。図1に、
このようにして得られた可視光線応答型光触媒を模式的
に示した。本発明の可視光線応答型光触媒1は、基板2
上に、TiO2層3、金属酸化物層4、SiO2層5が
順に積層されたものである。
は、酸化チタン上に、チタンとは異なる異種の金属の酸
化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とを順に
積層したものであるが、種々の方法で製造することがで
きる。このような製造法としては、真空蒸着やスパッタ
リングのようなPVD法、有機金属化合物などを用いる
CVD法、アルコキシ体などを用いたゾル−ゲル法、あ
るいはEDTAなど錯体のアルキルアンモニウム塩溶液
を含むコーティング液によるコーティング法などがあ
り、これらのいずれかの方法により、まず基板上に酸化
チタン層(膜)を形成し、次いで酸化チタンと酸化ケイ
素とを含む混合層(膜)を酸化チタン層(膜)の上に積
層し、その後その混合層(膜)上に酸化ケイ素層(膜)
を積層することにより製造することができる。図1に、
このようにして得られた可視光線応答型光触媒を模式的
に示した。本発明の可視光線応答型光触媒1は、基板2
上に、TiO2層3、金属酸化物層4、SiO2層5が
順に積層されたものである。
【0025】本発明では、酸化チタン層(膜)の上に異
種の金属酸化物層(膜)を積層することが重要であり、
この金属酸化物層(膜)には少なくとも一種以上のチタ
ン以外の金属の酸化物が含まれている。このような金属
酸化物層(膜)積層するには、一種類の金属成分を単独
で、あるいは二種以上の金属成分が同時に含まれるよう
な状態で成膜すればよく、例えば、真空蒸着では、装置
内で金属(例えば、Ta、Zr、Ce、Nd、Al、S
nなど)あるいは金属酸化物(Ta2O5、ZrO2、
Nd2O3、CeO2、Al2O3、SnO2)を蒸発
させ、基板上に蒸着させるか、スパッタリング法では、
ターゲットとしてこれらの金属(例えば、Ta、Zr、
Ce、Nd、Al、Snなど)あるいは金属酸化物(T
a2O5、ZrO2、Nd2O3、CeO2、Al2O
3、SnO2)を用いて気化させ基板上に堆積させるこ
とにより得ることができる。
種の金属酸化物層(膜)を積層することが重要であり、
この金属酸化物層(膜)には少なくとも一種以上のチタ
ン以外の金属の酸化物が含まれている。このような金属
酸化物層(膜)積層するには、一種類の金属成分を単独
で、あるいは二種以上の金属成分が同時に含まれるよう
な状態で成膜すればよく、例えば、真空蒸着では、装置
内で金属(例えば、Ta、Zr、Ce、Nd、Al、S
nなど)あるいは金属酸化物(Ta2O5、ZrO2、
Nd2O3、CeO2、Al2O3、SnO2)を蒸発
させ、基板上に蒸着させるか、スパッタリング法では、
ターゲットとしてこれらの金属(例えば、Ta、Zr、
Ce、Nd、Al、Snなど)あるいは金属酸化物(T
a2O5、ZrO2、Nd2O3、CeO2、Al2O
3、SnO2)を用いて気化させ基板上に堆積させるこ
とにより得ることができる。
【0026】一方、二種以上の金属酸化物を含有する混
合酸化物層とするには、真空蒸着の際に、二種以上の金
属あるいは金属酸化物を用いて同時に蒸発させ基板上に
蒸着させるかるか、あるいはスパッタリングの際にター
ゲットとして二種以上の金属あるいは金属酸化物を用い
て気化させ基板上に堆積させることにより得ることがで
きる。このような混合酸化物層内における、各金属元素
の存在割合は、各金属あるいは金属酸化物に対して、真
空蒸着の際の蒸発量を変えることにより、また、スパッ
タリングの際の気化量を変えることにより、任意に調整
できる。混合酸化物層内の各金属酸化物の存在割合は、
単独の金属酸化物による場合に比べて、混合酸化物とし
た場合の効果が認められる範囲に調整することが好まし
い。
合酸化物層とするには、真空蒸着の際に、二種以上の金
属あるいは金属酸化物を用いて同時に蒸発させ基板上に
蒸着させるかるか、あるいはスパッタリングの際にター
ゲットとして二種以上の金属あるいは金属酸化物を用い
て気化させ基板上に堆積させることにより得ることがで
きる。このような混合酸化物層内における、各金属元素
の存在割合は、各金属あるいは金属酸化物に対して、真
空蒸着の際の蒸発量を変えることにより、また、スパッ
タリングの際の気化量を変えることにより、任意に調整
できる。混合酸化物層内の各金属酸化物の存在割合は、
単独の金属酸化物による場合に比べて、混合酸化物とし
た場合の効果が認められる範囲に調整することが好まし
い。
【0027】また、CVD法を用い基板上に1種もしく
は2種以上の金属成分を供給し反応させることにより、
さらに、ゾル−ゲル法やコーテイング法などを用い、基
板に塗布する液に1種もしくは2種以上の金属成分をむ
含む液を用いて成膜することにより金属酸化物層を形成
することもできる。
は2種以上の金属成分を供給し反応させることにより、
さらに、ゾル−ゲル法やコーテイング法などを用い、基
板に塗布する液に1種もしくは2種以上の金属成分をむ
含む液を用いて成膜することにより金属酸化物層を形成
することもできる。
【0028】次に、具体例として真空蒸着法について示
す。まず、複数の蒸発源を備える真空蒸着装置内に、蒸
着材料である酸化チタン、酸化ケイ素および金属酸化物
層を形成するための金属あるいは金属酸化物をセットす
る(混合酸化物層を形成する場合には、二種類以上の金
属あるいは金属酸化物をそれぞれセットする)とともに
ガラス基板をセットし、真空槽内の圧力を真空ポンプで
3×10−3Pa程度まで排気し、それと同時にガラス
基板を所定の設定温度にヒーターで加熱する。圧力と温
度条件が整った後、酸化チタンにエレクトロンビームを
照射し、酸化チタンを加熱し、シャッターを開け蒸着を
開始する。蒸着膜厚は光学式膜厚計または水晶式膜厚計
などにより監視し、設定膜厚となったところでシャッタ
ーを閉じ蒸着を終了し、酸化チタン層を形成する。
す。まず、複数の蒸発源を備える真空蒸着装置内に、蒸
着材料である酸化チタン、酸化ケイ素および金属酸化物
層を形成するための金属あるいは金属酸化物をセットす
る(混合酸化物層を形成する場合には、二種類以上の金
属あるいは金属酸化物をそれぞれセットする)とともに
ガラス基板をセットし、真空槽内の圧力を真空ポンプで
3×10−3Pa程度まで排気し、それと同時にガラス
基板を所定の設定温度にヒーターで加熱する。圧力と温
度条件が整った後、酸化チタンにエレクトロンビームを
照射し、酸化チタンを加熱し、シャッターを開け蒸着を
開始する。蒸着膜厚は光学式膜厚計または水晶式膜厚計
などにより監視し、設定膜厚となったところでシャッタ
ーを閉じ蒸着を終了し、酸化チタン層を形成する。
【0029】その後、金属酸化物層を形成するための金
属あるいは金属酸化物に(混合酸化物層を形成する場合
には、セットしたそれぞれの金属あるいは金属酸化物の
両方に、または、これらの金属あるいは金属酸化物を混
合した混合物に)エレクトロンビームを照射し、既に形
成されている酸化チタン層の上に金属酸化物を(あるい
は二種類以上の金属酸化物を同時に)蒸着し、金属酸化
物層を形成する。次いで、同様にして酸化ケイ素のみに
エレクトロンビームを照射し、酸化ケイ素を加熱し、金
属酸化物層の上に酸化ケイ素層を形成することにより、
得ることができる。
属あるいは金属酸化物に(混合酸化物層を形成する場合
には、セットしたそれぞれの金属あるいは金属酸化物の
両方に、または、これらの金属あるいは金属酸化物を混
合した混合物に)エレクトロンビームを照射し、既に形
成されている酸化チタン層の上に金属酸化物を(あるい
は二種類以上の金属酸化物を同時に)蒸着し、金属酸化
物層を形成する。次いで、同様にして酸化ケイ素のみに
エレクトロンビームを照射し、酸化ケイ素を加熱し、金
属酸化物層の上に酸化ケイ素層を形成することにより、
得ることができる。
【0030】本発明の可視光線応答型光触媒または親水
性被膜は上述のようにして得られるが、これを種々の基
材に適用することにより、各種の応用製品が得られる。
その一例として、車両搭載用のミラーの場合について説
明する。
性被膜は上述のようにして得られるが、これを種々の基
材に適用することにより、各種の応用製品が得られる。
その一例として、車両搭載用のミラーの場合について説
明する。
【0031】車両搭載用のミラーは、ミラー表面に本発
明の親水性被膜を形成することにより得られるもので、
まず、ガラス表面にCrなどの金属を蒸着あるいはスパ
ッタリングし反射面を形成し、次いで、このCr層の上
に本発明の親水性被膜を設けるか、あるいは、Cr層を
形成した面とは逆のガラス表面上に本発明の親水性被膜
を設けることにより製造することができる。なお、後者
の場合、ガラス基材として、一般のガラス(ソーダライ
ムガラス)を用いる場合には、ガラス基板上に酸化ケイ
素などのバリヤー層を設け、その上に本発明の親水性被
膜を設けることが、ソーダライムガラス中のNaによる
光触媒活性の失活を防止する上で好ましい。
明の親水性被膜を形成することにより得られるもので、
まず、ガラス表面にCrなどの金属を蒸着あるいはスパ
ッタリングし反射面を形成し、次いで、このCr層の上
に本発明の親水性被膜を設けるか、あるいは、Cr層を
形成した面とは逆のガラス表面上に本発明の親水性被膜
を設けることにより製造することができる。なお、後者
の場合、ガラス基材として、一般のガラス(ソーダライ
ムガラス)を用いる場合には、ガラス基板上に酸化ケイ
素などのバリヤー層を設け、その上に本発明の親水性被
膜を設けることが、ソーダライムガラス中のNaによる
光触媒活性の失活を防止する上で好ましい。
【0032】なお、他の製品、例えば、車両用のヘッド
ランプのレンズやリフレクター、光源(バルブ)をはじ
めとする種々の製品、エアコンフィルター、空気清浄
機、蛍光灯室内、照明器具を始め建材用ガラス、外壁な
どの場合も同様に基材表面に本発明の親水性被膜を形成
することにより製造することができる。
ランプのレンズやリフレクター、光源(バルブ)をはじ
めとする種々の製品、エアコンフィルター、空気清浄
機、蛍光灯室内、照明器具を始め建材用ガラス、外壁な
どの場合も同様に基材表面に本発明の親水性被膜を形成
することにより製造することができる。
【0033】次に、本発明を実施例によってさらに詳し
く説明する。
く説明する。
【0034】
【実施例】本発明の可視光線対応型光触媒をガラス基板
上に形成し、得られた触媒被膜について、可視光線によ
る光触媒活性を、被膜と水との接触角を測定することに
より評価した。
上に形成し、得られた触媒被膜について、可視光線によ
る光触媒活性を、被膜と水との接触角を測定することに
より評価した。
【0035】(1)可視光線対応型光触媒の調製 実施例1 以下の手順に従い、可視光線応答型光触媒を作製した。
【0036】(1) 真空蒸着装置内に、蒸着材料となるT
iO2、Ta2O5およびSiO2とをセットするとと
もに、ガラス基板をセットした。
iO2、Ta2O5およびSiO2とをセットするとと
もに、ガラス基板をセットした。
【0037】(2) 真空蒸着装置の扉を閉じ、真空槽内を
真空ポンプで3×10−3Paまで排気するとともに、
ガラス基板をヒーターで250℃に加熱した。
真空ポンプで3×10−3Paまで排気するとともに、
ガラス基板をヒーターで250℃に加熱した。
【0038】(3) 圧力と温度条件が整った後、真空槽内
に酸素(O2)ガスを2.6×10− 2Paまで導入し
た。
に酸素(O2)ガスを2.6×10− 2Paまで導入し
た。
【0039】(4) TiO2にエレクトロンビーム(E
B)を照射し、加熱した後、シャッターを開き蒸着を開
始し、300nmに達した時点でシャッターを閉じた。
B)を照射し、加熱した後、シャッターを開き蒸着を開
始し、300nmに達した時点でシャッターを閉じた。
【0040】(5) 蒸着材料をTa2O5に代えて、この
材料にEBを照射し、加熱した後、シャッターを開きT
iO2層の上にTa2O5層を成膜した。膜厚が10n
mに達した時点でシャッターを閉じ、O2ガスの導入を
停止した。
材料にEBを照射し、加熱した後、シャッターを開きT
iO2層の上にTa2O5層を成膜した。膜厚が10n
mに達した時点でシャッターを閉じ、O2ガスの導入を
停止した。
【0041】(6) 蒸着材料をSiO2に代えて、この材
料にEBを照射し、加熱した後、シャッターを開き、T
a2O5層の上にSiO2層を成膜した。膜厚は15n
mとした。
料にEBを照射し、加熱した後、シャッターを開き、T
a2O5層の上にSiO2層を成膜した。膜厚は15n
mとした。
【0042】得られた可視光線対応型光触媒は、「Ti
O2(300nm)/Ta2O5(10nm)/SiO
2(15nm)」という構成のものである。
O2(300nm)/Ta2O5(10nm)/SiO
2(15nm)」という構成のものである。
【0043】比較例1 実施例1の(1)〜(4)と同様にして、ガラス基板上にTi
O2層のみ300nmを成膜した。
O2層のみ300nmを成膜した。
【0044】比較例2 実施例1の(1)〜(5)と同様にして、ガラス基板上にTi
O2層300nmとTa2O5層10nmとを成膜し
た。
O2層300nmとTa2O5層10nmとを成膜し
た。
【0045】比較例3 実施例1の(6)と同様にして、ガラス基板上にSiO2
層のみ15nmを成膜した。
層のみ15nmを成膜した。
【0046】比較例4 実施例1の(1)〜(4)および(6)と同様にして、ガラス基
板上にTiO2層300nmとSiO2層15nmを成
膜した。
板上にTiO2層300nmとSiO2層15nmを成
膜した。
【0047】(2)可視光線応答型光触媒能の評価 次に、得られた可視光線応答型光触媒の活性および得ら
れた被膜の親水性を、エンジンオイルを塗布した可視光
線応答型光触媒膜上で水滴が形成する接触角により、評
価した。接触角は固体と液体の濡れ性の程度を示す指標
であり、接触角が小さいほど、固体表面は濡れやすく、
親水性を有していることになる。そして、光照射により
触媒膜上に塗布したエンジンオイルが分解されれば、エ
ンジンオイルに起因する触媒膜上の撥水性が消失するこ
とになり接触角は減少することから、光触媒活性を評価
することができる。
れた被膜の親水性を、エンジンオイルを塗布した可視光
線応答型光触媒膜上で水滴が形成する接触角により、評
価した。接触角は固体と液体の濡れ性の程度を示す指標
であり、接触角が小さいほど、固体表面は濡れやすく、
親水性を有していることになる。そして、光照射により
触媒膜上に塗布したエンジンオイルが分解されれば、エ
ンジンオイルに起因する触媒膜上の撥水性が消失するこ
とになり接触角は減少することから、光触媒活性を評価
することができる。
【0048】1.紫外線照射での光触媒能の検証 まず、上記実施例および比較例で得られた可視光線応答
型光触媒が、通常のTiO2触媒と同様に紫外線照射に
より光触媒性を有することを確かめるため、以下の実験
を行った。
型光触媒が、通常のTiO2触媒と同様に紫外線照射に
より光触媒性を有することを確かめるため、以下の実験
を行った。
【0049】すなわち、実施例1および比較例1〜4で
得られた各試料(光触媒膜)の表面にエンジンオイル
(キャッスルモーターオイル)0.1wt%ジクロロメ
タン溶液を塗布した後、ブラックライト(フナコシ社
製、UVL−56)を用いて24時間照射(紫外線量、
1mW/cm2)し、成膜後と、エンジンオイル塗布時
(初期値)と、および照射後との接触角を接触角計(協
和界面科学社製、CA−X)を用いてそれぞれ測定し、
紫外線に対する触媒活性を評価した。結果を表1に示し
た。
得られた各試料(光触媒膜)の表面にエンジンオイル
(キャッスルモーターオイル)0.1wt%ジクロロメ
タン溶液を塗布した後、ブラックライト(フナコシ社
製、UVL−56)を用いて24時間照射(紫外線量、
1mW/cm2)し、成膜後と、エンジンオイル塗布時
(初期値)と、および照射後との接触角を接触角計(協
和界面科学社製、CA−X)を用いてそれぞれ測定し、
紫外線に対する触媒活性を評価した。結果を表1に示し
た。
【0050】
【表1】 表1によれば、次のことがわかる。
【0051】(i)成膜後のすべての試料は水との接触角
が10°以下であり親水性を示している。
が10°以下であり親水性を示している。
【0052】(ii)表面がSiO2層で覆われている試料
(実施例1および比較例3、4)は、TiO2層あるい
はTa2O5層が露出している試料(比較例1、2)に
比べ、エンジンオイル塗布後の接触角が小さく防汚性を
有している。
(実施例1および比較例3、4)は、TiO2層あるい
はTa2O5層が露出している試料(比較例1、2)に
比べ、エンジンオイル塗布後の接触角が小さく防汚性を
有している。
【0053】(iii)紫外線照射後の接触角は、TiO2
層を有する試料(実施例1および比較例1、2、4)で
低下し、光触媒活性による触媒表面の親水性化が確認さ
れた。
層を有する試料(実施例1および比較例1、2、4)で
低下し、光触媒活性による触媒表面の親水性化が確認さ
れた。
【0054】(iv)SiO2層のみの試料(比較例3)
は、成膜後の接触角は5°以下であり、極めて親水性の
表面であるが、一旦、その表面が汚染されると、SiO
2は光触媒活性を有しないため、紫外線照射によって親
水性の表面となることはなかった。
は、成膜後の接触角は5°以下であり、極めて親水性の
表面であるが、一旦、その表面が汚染されると、SiO
2は光触媒活性を有しないため、紫外線照射によって親
水性の表面となることはなかった。
【0055】以上により、TiO2層を有する試料が光
触媒として機能することがわかる。
触媒として機能することがわかる。
【0056】2.可視光線照射での光触媒能の検証 次に、可視光線照射による光触媒能を、以下のようにし
て評価した。
て評価した。
【0057】(1) 紫外線照射による光触媒活性を検証し
た上記試料のうち、比較例3を除く各試料に高圧水銀灯
を用いて紫外線を照射し、水との接触角を5°以下の接
触角計の測定限界以下まで低下させ、各試料表面の汚れ
を分解除去した。
た上記試料のうち、比較例3を除く各試料に高圧水銀灯
を用いて紫外線を照射し、水との接触角を5°以下の接
触角計の測定限界以下まで低下させ、各試料表面の汚れ
を分解除去した。
【0058】(2) 上記処理した各試料に、再度エンジン
オイル(キャッスルモーターオイル)0.1wt%ジク
ロロメタン溶液を塗布した。
オイル(キャッスルモーターオイル)0.1wt%ジク
ロロメタン溶液を塗布した。
【0059】(3) 可視光線照射は、光源として、蛍光灯
(ナショナルパルック 18W、昼光色)の光を紫外線
カットガラス(ラミレックスUV FL3+FL3、セ
ントラルガラス社製)を介して3cmの距離をおいて、
各試料に照射した。なお、比較例3の試料は、紫外線照
射処理をせずに、エンジンオイルが塗布された状態のも
のをそのまま使用した。
(ナショナルパルック 18W、昼光色)の光を紫外線
カットガラス(ラミレックスUV FL3+FL3、セ
ントラルガラス社製)を介して3cmの距離をおいて、
各試料に照射した。なお、比較例3の試料は、紫外線照
射処理をせずに、エンジンオイルが塗布された状態のも
のをそのまま使用した。
【0060】(4) 蛍光灯の光を照射を開始してから、経
時的に接触角を測定した。なお、各試料表面における紫
外線量を、紫外線線量計UVR−1(受光部UVR−3
6、トプコン社製)を用いて測定し、紫外線量が0mW
/cm2であることを確認した。接触角の測定結果を、
表2および図2に示した。
時的に接触角を測定した。なお、各試料表面における紫
外線量を、紫外線線量計UVR−1(受光部UVR−3
6、トプコン社製)を用いて測定し、紫外線量が0mW
/cm2であることを確認した。接触角の測定結果を、
表2および図2に示した。
【0061】
【表2】 表2および図2によると、次のことがわかる。
【0062】(i)実施例1の試料は、可視光線の照射に
より、比較例1〜4の試料に比べ大幅に接触角が低下
し、可視光線応答型の光触媒作用を有するとともに、最
終的に接触角は10°以下の値を示し、触媒表面が親水
性となっている。
より、比較例1〜4の試料に比べ大幅に接触角が低下
し、可視光線応答型の光触媒作用を有するとともに、最
終的に接触角は10°以下の値を示し、触媒表面が親水
性となっている。
【0063】(ii)TiO2層のみの試料(比較例1)で
も接触角の低下が認められるが、これは、真空蒸着で成
膜したTiO2層が多結晶体であることや、構造欠陥を
有することなどを考慮すると、TiO2結晶体本来のバ
ンドギャップ3.2eV(約380nm)は部分的に小
さくなり、短波長の可視光線に若干応答し、可視光線照
射の初期の段階で膜表面の水との接触角をある程度低下
させてはいるが、この作用は長くは続かず、可視光線応
答型の光触媒能は極めて低い。
も接触角の低下が認められるが、これは、真空蒸着で成
膜したTiO2層が多結晶体であることや、構造欠陥を
有することなどを考慮すると、TiO2結晶体本来のバ
ンドギャップ3.2eV(約380nm)は部分的に小
さくなり、短波長の可視光線に若干応答し、可視光線照
射の初期の段階で膜表面の水との接触角をある程度低下
させてはいるが、この作用は長くは続かず、可視光線応
答型の光触媒能は極めて低い。
【0064】(iii)TiO2層上にTa2O5層を設け
た試料(比較例2)における接触角の低下は、TiO2
層とTa2O5層との界面で電位勾配(ショットキーバ
リヤー)のゆがみを生じ、これにより可視光線で励起可
能なエネルギー準位が作られたことによるもので、本件
発明の可視光線応答型の光触媒能を有してことがわか
る。しかしながら、接触角自体の値は大きく、膜表面へ
の親水性付与という点からは不充分である。
た試料(比較例2)における接触角の低下は、TiO2
層とTa2O5層との界面で電位勾配(ショットキーバ
リヤー)のゆがみを生じ、これにより可視光線で励起可
能なエネルギー準位が作られたことによるもので、本件
発明の可視光線応答型の光触媒能を有してことがわか
る。しかしながら、接触角自体の値は大きく、膜表面へ
の親水性付与という点からは不充分である。
【0065】(iv)TiO2層上にSiO2層を設けた試
料(比較例4)でも、Ta2O5の場合と同様な効果が
認められ、接触角は低下しているが、その値は大きく、
膜表面への親水性付与という点からは不充分である。
料(比較例4)でも、Ta2O5の場合と同様な効果が
認められ、接触角は低下しているが、その値は大きく、
膜表面への親水性付与という点からは不充分である。
【0066】(v)TiO2層上に設けたTa2O5層を
有する実施例1と比較例2の試料を比較すると、最終的
に実施例1の試料が小さい接触角の値を示してる。これ
は、Ta2O5層上の設けたSiO2層に起因するもの
で、可視光線の励起により生じた正孔が水と反応して生
じるヒドロキシルラジカルが、触媒最表層のSiO2と
結合し、水と親和性のある安定なシラノール基(Si−
OH)を形成したことに起因すると思われる。
有する実施例1と比較例2の試料を比較すると、最終的
に実施例1の試料が小さい接触角の値を示してる。これ
は、Ta2O5層上の設けたSiO2層に起因するもの
で、可視光線の励起により生じた正孔が水と反応して生
じるヒドロキシルラジカルが、触媒最表層のSiO2と
結合し、水と親和性のある安定なシラノール基(Si−
OH)を形成したことに起因すると思われる。
【0067】以上のことから、本発明の可視光線応答型
光触媒は、TiO2層上にTaなどの金属酸化物層を設
けることにより、TiO2光触媒の吸収波長が可視光線
域まで拡張した結果、可視光線の照射により光触媒とし
て機能し、触媒(被膜)表面上のエンジンオイルを分解
し、清浄な表面を形成するとともに、最上層に設けられ
たSiO2層により触媒(被膜)表面の親水性が高めら
れていることがわかる。なお、本評価で使用したよう
に、汚染後再生した触媒であっても、何ら問題なく使用
できるものであることもわかる。
光触媒は、TiO2層上にTaなどの金属酸化物層を設
けることにより、TiO2光触媒の吸収波長が可視光線
域まで拡張した結果、可視光線の照射により光触媒とし
て機能し、触媒(被膜)表面上のエンジンオイルを分解
し、清浄な表面を形成するとともに、最上層に設けられ
たSiO2層により触媒(被膜)表面の親水性が高めら
れていることがわかる。なお、本評価で使用したよう
に、汚染後再生した触媒であっても、何ら問題なく使用
できるものであることもわかる。
【0068】3.親水性維持性の評価 次に、触媒(被膜)表面の親水性の維持機能について、
評価した。
評価した。
【0069】(1) 新たに調製した実施例1、比較例1〜
4の各試料に高圧水銀灯により光を照射し、表面の汚れ
を完全に除去した。得られた各試料の接触角を測定した
ところ、比較例3を除いてすべて5°以下の接触角計の
測定限界以下の値(初期値)を示した。
4の各試料に高圧水銀灯により光を照射し、表面の汚れ
を完全に除去した。得られた各試料の接触角を測定した
ところ、比較例3を除いてすべて5°以下の接触角計の
測定限界以下の値(初期値)を示した。
【0070】(2) 上記の各試料を、窓のない恒温槽中
に、暗所、無風の状態で室温で30日間静置した後、接
触角を測定した。結果を、表3に示した。
に、暗所、無風の状態で室温で30日間静置した後、接
触角を測定した。結果を、表3に示した。
【0071】
【表3】 表3によると、次のことがわかる。
【0072】(i)触媒(被膜)表面が完全にSiO2層
で覆われている試料(実施例1および比較例3、4)
は、暗所で長期間放置した場合であっても、初期の親水
性を維持している。これに対し、(ii)触媒(被膜)表面
にTiO2またはTa2O5が露出している試料(比較
例1、2)では、親水性の維持機能がなく、撥水性の表
面に変化してしまう。
で覆われている試料(実施例1および比較例3、4)
は、暗所で長期間放置した場合であっても、初期の親水
性を維持している。これに対し、(ii)触媒(被膜)表面
にTiO2またはTa2O5が露出している試料(比較
例1、2)では、親水性の維持機能がなく、撥水性の表
面に変化してしまう。
【0073】以上のことより、親水性の維持には、最表
面にあるSiO2層が重要で、前述のようにSiO2表
面に形成されるシラノール基(Si−OH)が親水性の
維持に大きく寄与していることがわかる。すなわち、金
属酸化物層の上にSiO2層を形成することにより、光
のない暗所であっても長期間親水性が維持される、セル
フクリーニング性を有する親水性被膜が得られることが
わかる。
面にあるSiO2層が重要で、前述のようにSiO2表
面に形成されるシラノール基(Si−OH)が親水性の
維持に大きく寄与していることがわかる。すなわち、金
属酸化物層の上にSiO2層を形成することにより、光
のない暗所であっても長期間親水性が維持される、セル
フクリーニング性を有する親水性被膜が得られることが
わかる。
【0074】4.Ta2O5層の膜厚の検討 次に、金属酸化物層の厚さと可視光線による光触媒活性
能との関係を、Ta2O5層の膜厚を変えた試料を作製
し、以下のように検討した。
能との関係を、Ta2O5層の膜厚を変えた試料を作製
し、以下のように検討した。
【0075】実施例2〜6 (1) 実施例1において、Ta2O5層成膜時のXTC計
測膜厚値を変えて、Ta 2O5層の膜厚を変えた試料を
作製した。TiO2層およびSiO2層の厚さは、実施
例1と同様、それぞれ300nm、15nmとした。
測膜厚値を変えて、Ta 2O5層の膜厚を変えた試料を
作製した。TiO2層およびSiO2層の厚さは、実施
例1と同様、それぞれ300nm、15nmとした。
【0076】(2) 得られた各試料に高圧水銀灯の光を照
射し、接触角が5°以下であることを確認した後、エン
ジンオイル(キャッスルモーターオイル)0.05wt
%ジクロロメタン溶液を塗布し、前述のように紫外線を
カットした蛍光灯を用い、3cmの距離をおいて各試料
に可視光線を照射し、接触角を経時的に測定した。照射
時間150時間の場合について表4に結果を示した。
射し、接触角が5°以下であることを確認した後、エン
ジンオイル(キャッスルモーターオイル)0.05wt
%ジクロロメタン溶液を塗布し、前述のように紫外線を
カットした蛍光灯を用い、3cmの距離をおいて各試料
に可視光線を照射し、接触角を経時的に測定した。照射
時間150時間の場合について表4に結果を示した。
【0077】
【表4】 表4により、Ta2O5層の膜厚は2〜50nm程度が
好ましく、特に好ましいTa2O5層の膜厚としては5
〜30nmであることがわかる。
好ましく、特に好ましいTa2O5層の膜厚としては5
〜30nmであることがわかる。
【0078】次に、上記の検討が終了した各試料に、高
圧水銀灯の光を照射することにより、水との接触角が5
°以下の接触角計の測定限界以下とした後、これらの試
料を窓のない恒温槽中に、暗所、無風の状態で室温で3
0日間静置した後、接触角を測定したところ、いずれの
試料も5°以下であり、長期間親水性を保持しているこ
とが確認された。
圧水銀灯の光を照射することにより、水との接触角が5
°以下の接触角計の測定限界以下とした後、これらの試
料を窓のない恒温槽中に、暗所、無風の状態で室温で3
0日間静置した後、接触角を測定したところ、いずれの
試料も5°以下であり、長期間親水性を保持しているこ
とが確認された。
【0079】5.他の金属酸化物の検討 実施例7〜11 実施例1において、蒸着材料として用いたTa2O5に
代えて、他の金属酸化物(ZrO2、CeO2、Nd2
O3、Al2O3、SnO2)を用いて、実施例1と同
様の操作により、可視光線応答型光触媒を製造した。T
iO2層、金属酸化物層およびSiO2層の膜厚は、そ
れぞれ300nm、10nm、および15nmとした。
代えて、他の金属酸化物(ZrO2、CeO2、Nd2
O3、Al2O3、SnO2)を用いて、実施例1と同
様の操作により、可視光線応答型光触媒を製造した。T
iO2層、金属酸化物層およびSiO2層の膜厚は、そ
れぞれ300nm、10nm、および15nmとした。
【0080】得られた可視光線応答型光触媒の可視光線
応答性を、Taの場合と同様にして、紫外線をカットし
た蛍光灯の光を照射し、経時的に接触角を測定すること
により評価した。照射時間90時間の場合について表5
に結果を示した。
応答性を、Taの場合と同様にして、紫外線をカットし
た蛍光灯の光を照射し、経時的に接触角を測定すること
により評価した。照射時間90時間の場合について表5
に結果を示した。
【0081】
【表5】 表5により、TiO2層に積層する金属酸化物層として
は、Ta2O5に比べ、活性はやや小さいものの、Zr
O2、CeO2、Nd2O3、Al2O3、SnO2な
どの金属酸化物も同様にTiO2触媒の光吸収波長を可
視光側に拡大し、可視光線応答型の光触媒となることが
わかる。なお、これらの試料も長期間親水性を保持して
いることが、Ta2O5の場合と同様確認されている。
は、Ta2O5に比べ、活性はやや小さいものの、Zr
O2、CeO2、Nd2O3、Al2O3、SnO2な
どの金属酸化物も同様にTiO2触媒の光吸収波長を可
視光側に拡大し、可視光線応答型の光触媒となることが
わかる。なお、これらの試料も長期間親水性を保持して
いることが、Ta2O5の場合と同様確認されている。
【0082】
【発明の効果】通常の酸化チタン光触媒が約380nm
以下の紫外光しか利用出来なかったのに対し、本発明の
光触媒は酸化チタン層、チタン以外の金属の酸化物を含
む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とを順に積層する
ことにより、吸収域が可視光域にまで拡がった可視光線
応答型光触媒が得られた。
以下の紫外光しか利用出来なかったのに対し、本発明の
光触媒は酸化チタン層、チタン以外の金属の酸化物を含
む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とを順に積層する
ことにより、吸収域が可視光域にまで拡がった可視光線
応答型光触媒が得られた。
【0083】また、本発明の可視光線応答型光触媒で形
成した被膜は、セルフクリーニング性を有し、長期間親
水性を維持できるという優れた効果を奏するものであっ
た。
成した被膜は、セルフクリーニング性を有し、長期間親
水性を維持できるという優れた効果を奏するものであっ
た。
【0084】すなわち、本発明の可視光線応答型光触媒
を利用すると、紫外線が無い所(例えば、紫外線カット
ガラス付きの車両室内や、室内の蛍光灯下)でも光触媒
機能を発現できるため、肉眼で明るい場所であれば利用
可能となる。また、本発明の可視光線応答型光触媒は、
本来の紫外線での光触媒機能も併せ持つので、その応用
範囲は極めて広いものとなる。
を利用すると、紫外線が無い所(例えば、紫外線カット
ガラス付きの車両室内や、室内の蛍光灯下)でも光触媒
機能を発現できるため、肉眼で明るい場所であれば利用
可能となる。また、本発明の可視光線応答型光触媒は、
本来の紫外線での光触媒機能も併せ持つので、その応用
範囲は極めて広いものとなる。
【図1】本発明の可視光線応答型光触媒の構成を模式的
に示した図である。
に示した図である。
【図2】本発明の可視光線応答型光触媒の可視光線によ
るエンジンオイルの酸化分解能および触媒(被膜)表面
の親水性の程度を、水に対する接触角を指標として示す
グラフである。図中、○は実施例1、●は比較例1、△
は比較例2、■は比較例3、および、□は比較例4をそ
れぞれ示す。
るエンジンオイルの酸化分解能および触媒(被膜)表面
の親水性の程度を、水に対する接触角を指標として示す
グラフである。図中、○は実施例1、●は比較例1、△
は比較例2、■は比較例3、および、□は比較例4をそ
れぞれ示す。
1 可視光線応答型光触媒 2 基材 3 TiO2層 4 金属酸化物層 5 SiO2層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成13年2月15日(2001.2.1
5)
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】
【発明の実施の形態】本発明の可視光線応答型光触媒
は、酸化チタン上に、チタンとは異なる異種の金属の酸
化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とを順に
積層したものであるが、種々の方法で製造することがで
きる。このような製造法としては、真空蒸着やスパッタ
リングのようなPVD法、有機金属化合物などを用いる
CVD法、アルコキシ体などを用いたゾル−ゲル法、あ
るいはEDTAなど錯体のアルキルアンモニウム塩溶液
を含むコーティング液によるコーティング法などがあ
り、これらのいずれかの方法により、まず基板上に酸化
チタン層(膜)を形成し、次いでチタンとは異なる異種
の金属の酸化物を含む金属酸化物層(膜)を酸化チタン
層(膜)の上に積層し、その後その金属酸化物層(膜)
上に酸化ケイ素層(膜)を積層することにより製造する
ことができる。図1に、このようにして得られた可視光
線応答型光触媒を模式的に示した。本発明の可視光線応
答型光触媒1は、基板2上に、TiO2層3、金属酸化
物層4、SiO2層5が順に積層されたものである。
は、酸化チタン上に、チタンとは異なる異種の金属の酸
化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とを順に
積層したものであるが、種々の方法で製造することがで
きる。このような製造法としては、真空蒸着やスパッタ
リングのようなPVD法、有機金属化合物などを用いる
CVD法、アルコキシ体などを用いたゾル−ゲル法、あ
るいはEDTAなど錯体のアルキルアンモニウム塩溶液
を含むコーティング液によるコーティング法などがあ
り、これらのいずれかの方法により、まず基板上に酸化
チタン層(膜)を形成し、次いでチタンとは異なる異種
の金属の酸化物を含む金属酸化物層(膜)を酸化チタン
層(膜)の上に積層し、その後その金属酸化物層(膜)
上に酸化ケイ素層(膜)を積層することにより製造する
ことができる。図1に、このようにして得られた可視光
線応答型光触媒を模式的に示した。本発明の可視光線応
答型光触媒1は、基板2上に、TiO2層3、金属酸化
物層4、SiO2層5が順に積層されたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 榎本 實 神奈川県伊勢原市板戸80番地 市光工業株 式会社伊勢原製造所内 (72)発明者 宮下 喜好 群馬県前橋市鳥羽町190番地 群馬県工業 試験場内 Fターム(参考) 4F100 AA17B AA19B AA20B AA21B AA27B AA28B AG00A AT00A BA02 DD32B EH66 GB07 GB31 JB05 JB05B JL00 JL06 4G069 BA01A BA02A BA02B BA04A BA04B BA05A BA48A BB04A BB04B BC22A BC43A BC44A BC56A CA07 CA10 EA08 EB15X EB15Y ED02 ED04 EE06 EE09
Claims (12)
- 【請求項1】 酸化チタン上に、チタン以外の金属の酸
化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層とが順に
積層された可視光線応答型光触媒。 - 【請求項2】 前記金属酸化物層の厚さが2〜50nm
である請求項1に記載の可視光線応答型光触媒。 - 【請求項3】 前記酸化ケイ素層の厚さが5〜50nm
である請求項1または請求項2に記載の可視光線応答型
光触媒。 - 【請求項4】 前記チタン以外の金属で構成される金属
の酸化物が、Ta2O5、ZrO2、Nd2O3、Ce
O2、Al2O3、SnO2のいずれかである請求項1
〜請求項3のいずれかに記載の可視光線応答型光触媒。 - 【請求項5】 前記チタン以外の金属で構成される金属
の酸化物が、Ta2O5である請求項4記載の可視光線
応答型光触媒。 - 【請求項6】 前記金属酸化物層がTa2O5である請
求項1〜請求項3のいずれかに記載の可視光線応答型光
触媒。 - 【請求項7】 基材上に、酸化チタン層、チタン以外の
金属の酸化物を含む金属酸化物層、および酸化ケイ素層
とを順に積層してなるセルフクリーニング性を有する親
水性被膜。 - 【請求項8】 前記金属酸化物層の厚さが2〜50nm
である請求項7に記載のセルフクリーニング性を有する
親水性被膜。 - 【請求項9】 前記酸化ケイ素層の厚さが5〜50nm
である請求項7または請求項8に記載のセルフクリーニ
ング性を有する親水性被膜。 - 【請求項10】 前記チタン以外の金属で構成される金
属の酸化物が、Ta 2O5、ZrO2、Nd2O3、C
eO2、Al2O3、SnO2のいずれかである請求項
7〜請求項9のいずれかに記載のセルフクリーニング性
を有する親水性被膜。 - 【請求項11】 前記チタン以外の金属で構成される金
属の酸化物が、Ta 2O5である請求項10記載のセル
フクリーニング性を有する親水性被膜。 - 【請求項12】 前記金属酸化物層がTa2O5である
請求項7〜請求項9のいずれかに記載のセルフクリーニ
ング性を有する親水性被膜。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000393406A JP2002191983A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | 可視光線応答型光触媒 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000393406A JP2002191983A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | 可視光線応答型光触媒 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002191983A true JP2002191983A (ja) | 2002-07-10 |
Family
ID=18859218
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000393406A Pending JP2002191983A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | 可視光線応答型光触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2002191983A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2000
- 2000-12-25 JP JP2000393406A patent/JP2002191983A/ja active Pending
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