JP2002189183A

JP2002189183A - マルチビーム光走査装置

Info

Publication number: JP2002189183A
Application number: JP2000360249A
Authority: JP
Inventors: Koji Sakai; 浩司酒井
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-10-10
Filing date: 2000-11-27
Publication date: 2002-07-05

Abstract

(57)【要約】【課題】汎用の半導体レーザを複数用いたマルチビー
ム光源装置において、温度変化による光源装置そのもの
に姿勢変化、変形、捻れ等が生じ、画像の劣化を招いて
しまう事態を防止する。【解決手段】光源装置１０１より射出された光ビーム
は、第１結像手段を構成するレンズ１０２とレンズ１０
３を透過し、副走査方向に集光させられ、回転多面鏡１
０４の偏向反射面１０４ａ上に主走査方向に長い線像と
して結像する。ヤング率が１０×１０¹⁰（Ｎ／ｍ²）以
上の材料で半導体レーザの保持部材を形成すれば、光源
装置に歪みを生じ難く、被走査面上の光スポットの副走
査方向間隔の変動を抑えることができ、確実で安定な画
像再現性が確保できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル複写機、
レーザプリンタ、レーザファクシミリ等の記録装置の書
込系に用いられる光走査装置に係わり、特に複数の光ビ
ームにより感光体等の被走査面上を同時に走査して記録
速度を著しく向上させたマルチビーム光走査装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】レーザプリンタ、レーザファクシミリ等
の記録装置の書込系に用いられる光走査装置において、
記録速度を向上させる手段としては、例えば光偏向器と
しての回転多面鏡（ポリゴンミラー）の回転速度を上げ
る方法がある。しかし、この方法ではモータの耐久性や
騒音、振動及び半導体レーザの変調スピード等が問題と
なり記録速度に限界がある。そこで、一度に複数の光ビ
ームを走査して複数ラインを同時に記録することにより
記録速度を向上したマルチビーム光走査装置が提案され
ている。一例として、特開昭５６−４２２４８号公報に
開示されているように複数の発光部がアレイ状に配列さ
れた半導体レーザアレイを用いた方法がある。半導体レ
ーザアレイは、発光部が複数であるものの出力を検出す
るセンサは共通であるため、通常の半導体レーザのよう
に実時間での光出力のフィードバックができないにもか
かわらず発光部が近接していることにより、そのクロス
トークで出力が変動しやすく高精度な光量制御ができな
い。また、その特殊性から高価であるという欠点を持
つ。これらの欠点は発光部数が多くなるに従い不利な要
素となって現れる。これに対し複数個の汎用の半導体レ
ーザを用い、光ビームを合成する方法が種々提案されて
いる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、複数個
の汎用の半導体レーザを用いて光ビームを合成する方法
は、半導体レーザアレイの抱えるような欠点はないが、
環境安定性が非常に低いという欠点を有する。特に、光
源装置の構造が複雑になると、温度変化による光源装置
そのものに姿勢変化、変形、捻れ等が生じ、被走査面上
の光スポットの副走査方向間隔が所望の間隔から大きく
ずれ、画像の劣化を招いてしまう。本発明は前記に鑑み
てなされたものであり、汎用の半導体レーザを複数用い
たマルチビーム光源装置において、確実で安定な画像再
現性が確保できるマルチビーム光走査装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、請求項１記載の発明は、マルチビーム光源装置から
出射されたｎ本（ｎ≧２）の光ビームを走査光学手段で
被走査面上に集光させ主走査方向に走査するマルチビー
ム光走査装置において、前記マルチビーム光源装置は、
ｍ個（ｎ≧ｍ≧２）の半導体レーザ及び／又は半導体レ
ーザアレイからなるレーザ光源と、前記レーザ光源を保
持する保持部材とを少なくとも備え、前記保持部材のヤ
ング率EがE≧１０×１０¹⁰（N／ｍ²）を満足することを
特徴とする。また、請求項２記載の発明は、請求項１記
載のマルチビーム光走査装置において、前記走査光学手
段は、ｎ本の光ビームを副走査方向に集光させて、主走
査方向に長いｎ本の線像として結像させる第１結像手段
と、前記ｎ本の線像の結像位置近傍に偏向反射面を有
し、前記ｎ本の光ビームを偏向させる光偏向器と、前記
偏向されたｎ本の光ビームを、前記被走査面を走査する
ｎ個の光スポットとして被走査面上に集光させる第２結
像手段からなり、前記第２結像手段は、結像位置の変動
を生ずる特性を有し、前記第１結像手段を構成する少な
くとも１つの光学部品を前記結像位置の変動に基づいて
光軸方向に移動可能に構成したことを特徴とする。ま
た、請求項３記載の発明は、請求項１記載のマルチビー
ム光走査装置において、前記走査光学手段は、ｎ本の光
ビームを副走査方向に集光させて、主走査方向に長いｎ
本の線像として結像させる第１結像手段と、前記ｎ本の
線像の結像位置近傍に偏向反射面を有し、前記ｎ本の光
ビームを偏向させる光偏向器と、前記偏向されたｎ本の
光ビームを、前記被走査面を走査するｎ個の光スポット
として被走査面上に集光させる第２結像手段からなり、
前記第２結像手段は、結像位置の変動を生ずる特性を有
し、前記第１結像手段は、前記第２結像手段による結像
位置の変動を補正するようにその特性が設定されること
を特徴とする。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示した実施の形
態に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の第１の実
施の形態にかかるマルチビーム光走査装置の全体構成を
示す外観斜視図である。図１において、符号１０１はマ
ルチビーム光源装置である。マルチビーム光源装置は一
般に、複数の半導体レーザおよびコリメートレンズその
他の関連する光学部品が相対的に位置決めされ、かつ保
持部材を兼ねるホルダにより一体的に保持され収容され
る。この光源装置１０１では、詳細は後述するが、４つ
の半導体レーザ１０１ａが一対をなし支持部材１０１ｂ
によって所定の位置関係で支持され、支持部材１０１ｂ
はホルダ１０１ｃにねじ等で締結されることによって固
着しており、支持部材１０１ｂおよびホルダ１０１ｃが
前記保持部材としての役割をなす。この光源装置１０１
より射出された光ビームは、第１結像手段を構成するレ
ンズ１０２とレンズ１０３を透過し、副走査方向に集光
させられ、回転多面鏡１０４の偏向反射面１０４ａ上に
主走査方向に長い線像として結像する。第２結像手段
は、シリンダ面、トロイダル面、特殊トロイダル面（主
・副走査方向の断面形状が非円弧なトロイダル面）等、
主走査方向と副走査方向のパワーが互いに異なるアナモ
フィックな面を少なくとも１面有しており、本実施例で
は、主走査断面内に負のパワーを持つ凹シリンドリカル
レンズ１０２と、副走査断面内に正のパワーを持つ凸シ
リンドリカルレンズ１０３から構成されている。偏向反
射面１０４ａにより反射された光ビームは、回転多面鏡
１０４が等速回転すると等角速度的に偏向し、第２結像
手段を構成するレンズ１０５とレンズ１０６の作用で、
「被走査面」の実体をなす光導電性の感光体１０７上に
光スポットとして集光する。

【０００６】図２は光源装置１０１の具体的な構成を示
したものである。図２（ａ）は、２つの半導体レーザか
らなる光源２０１，２０２、２つのカップリングレンズ
２０３，２０４、１／２波長板２０５、ビーム合成プリ
ズム２０６、１／４波長板２０７を有し、ケーシング２
０８の内部に相対的に位置決めされて実質的に一体化さ
れている。ここではケーシング２０８が各光学部品を保
持する保持部材としても機能している。半導体レーザ２
０１、２０２から放射された光ビームは、共に直線偏光
でその偏光方向が互いに平行である。この半導体レーザ
２０１、２０２からの光ビームは、それぞれカップリン
グレンズ２０３、２０４を通過し、所望の光ビーム形状
に変換される。カップリングレンズ２０４からの光ビー
ムは、ビーム合成プリズム２０６のミラー面２０６ａに
より反射されてビーム合成プリズム２０６の偏光ビーム
スプリッタ面２０６ｂにより反射され、１／４波長板２
０７により円偏光に変換されて光源装置２００から射出
される。一方、カップリングレンズ２０３からの光ビー
ムは、１／２波長板２０５により偏光方向が９０度旋回
されてビーム合成プリズム２０６の偏光ビームスプリッ
タ面２０６ｂを透過し、１／４波長板２０７により円偏
光に変換されて光源装置２００から射出される。図２
（ｂ）は光源装置の他の構成例であり、この光源装置２
１１は、互いに直交する方向に光ビームを放射する半導
体レーザ２１２、２１３と、１／２波長板２１４と、ビ
ームスプリッタ２１５と、カップリングレンズ２１６と
で構成されている。半導体レーザ２１２から放射された
光ビームは、ビームスプリッタ２１５を通過して直進
し、カップリングレンズ２１６によって所望の光ビーム
形状に変換される。半導体レーザ２１３から放射された
光ビームは、１／２波長板２１４を透過すると共にビー
ムスプリッタ２１５で９０度に反射され、カップリング
レンズ２１６によって所望のビーム形状に変換される。
２つの光ビームはビームスプリッタ２１５で互いに副走
査方向に微小な間隔で近接して同一方向に結合される。

【０００７】図２（ｃ）は、汎用の半導体レーザを合計
４個用いて構成されている。半導体レーザ２２１、２２
２はアルミダイキャスト製の支持部材２２３の裏側に主
走査方向に所定間隔で並列して形成された嵌合穴に各々
圧入され支持される（図１の半導体レーザを参照）。ま
た、カップリングレンズ２２４、２２５は各々の半導体
レーザの発散光束が所望の光束状態となるようにＸ位置
を、また所定のビーム射出方向となるようにＹ、Ｚ位置
を合わせて、半導体レーザと対に形成したＵ字状の支持
部２２３−１、２２３−２の隙間にＵＶ硬化接着剤を充
填し固定され、第１の光源部とする。半導体レーザとカ
ップリングレンズとは対称中心ａ１に対してほぼ対称に
配置される。第２の光源部についても同様に構成され、
半導体レーザとカップリングレンズとは対称中心ａ２に
対してほぼ対称に配置される。２２６はプリズムであ
り、第２の光源部からのビームを第１の光源部からの光
ビームに副走査方向に近接させて射出する。プリズム２
２６はその他の必要な光学部品とともに図示を省略する
ホルダ内に収容され、このホルダに半導体レーザが圧入
された状態の支持部材がねじ等により締結される（図１
の光源装置１を参照）。この図２（ｃ）において、第１
の光源部のみで構成されたマルチビーム光源装置が図２
（ｄ）である。図２（ｄ）は最も簡単なマルチビーム光
源装置として半導体レーザを合計２個用いて構成されて
いる。以上は複数個の汎用の半導体レーザを用いて光ビ
ームを合成する光源装置の一例であって、他にも特開平
１１−１６０６３９号公報、特開平１１−３１１７４９
号公報、特開平１１−２９５６２６号公報、特開平１０
−１４８７７６号公報、特開平１０−１４８７８０号公
報、特開平１０−１６１０４８号公報、特開平７−２５
６９２６号公報などに開示されるように、種々のマルチ
ビーム光源装置の構成がある。このように、複数個の汎
用の半導体レーザを用い、光ビームを合成する光源装置
は、概してその構造が複雑であり、部品点数が多くなる
ため締結箇所も多くなる。締結部分が多くなると、締結
に伴う応力により、光源装置に歪みを生じ、被走査面上
の光スポットの副走査方向間隔が所望の間隔から大きく
ずれ、画像の劣化を招いてしまう。また、温度変化によ
る姿勢変化、変形、捻れ等が生じ易くなる。仮に温度変
化による姿勢変化、変形、捻れ等が、各半導体レーザに
対して同量同方向であれば、さほど問題にはならない。
しかし、図２のような構成の場合、温度変化による姿勢
変化、変形、捻れ等が、各半導体レーザに対して独立で
あり、高密度化に伴いビームスポット径が小径化されて
いくと、それを何らかの方法で制御するのは困難であ
る。このような温度変化による姿勢変化、変形、捻れ等
が生じると被走査面上の光スポットの副走査方向間隔が
所望の間隔から大きくずれ、画像の劣化を招いてしま
う。

【０００８】ところで、画像上、被走査面上の光スポッ
トの副走査方向間隔の変動は、略±５μｍ以内に抑える
ことにより人の目の分解能で判別がつかないとされてい
る。実験によれば、図３に示すようにヤング率が１０×
１０¹⁰（Ｎ／ｍ²）以上の材料で半導体レーザの保持部
材を形成すれば、光源装置に歪みを生じ難く、被走査面
上の光スポットの副走査方向間隔の変動を５μｍ以下に
抑えることができることが分かった。また、ヤング率が
大きい材質は、一般に線膨張係数が小さく、そのため温
度変化による姿勢変化、変形、捻れ等が小さくなり、温
度変化による被走査面上の光スポットの副走査方向間隔
の変動も５μｍ以下に抑えることができる。具体的に
は、図４（ｂ）に半導体レーザの保持部材の材料を鉄
（Ｅ＝１５．２３×１０¹⁰Ｎ／ｍ²）にしたときの被走
査面上の光スポットの副走査方向間隔の変動を、図４
（ａ）に半導体レーザの保持部材の材料をアルミ（Ｅ＝
７．０３×１０¹⁰Ｎ／ｍ²）にしたときの被走査面上の
光スポットの副走査方向間隔の変動を示す。これによれ
ば、鉄を用いたのときの光スポットの副走査方向間隔の
変動はアルミのときに比べて極めて小さいことが分か
る。

【０００９】次に、第２の実施の形態について説明す
る。一般に、剛性を高くすると線膨張係数は小さくな
り、温度変化による変形は小さくなる。一方で、光源装
置の設計では、特許第２７３６９８４号にあるように、
半導体レーザの保持部材の温度変化による結像位置変動
と半導体レーザの後段に設置されるカップリングレンズ
系の結像位置変動を相殺するように、その保持部材の線
膨張係数を決めて設計するのが好ましいとされている。
しかし、第１の実施の形態で剛性を高めたマルチビーム
光源装置は、上述のように一般にはカップリング系の結
像位置変動を相殺しない。図５（ａ）（ｂ）はこのよう
な剛性を高めたマルチビーム光源装置において、被走査
面に対する結像位置の変動を示す図であり、（ａ）は常
温時、（ｂ）は温度変化後のものを示している。Ｘ軸は
被走査面に垂直な方向（光源方向）、Ｙ軸は被走査面
（主走査方向）を示している。破線は主走査方向への結
像位置変動を示しており、この変動が大きい場合は主走
査方向のビームスポット径の変動を与える。また実線は
副走査方向への結像位置変動を示しており、この変動が
大きい場合は副走査方向のビームスポット径の変動を与
える。図５によれば、（ｂ）の温度変化後における副走
査方向の結像位置変動は、（ａ）の常温時に比べて大幅
に変動する。そのため、ビームピッチの変動は抑えられ
ても、ビームウェスト位置は温度変化により変動してし
まい、被走査面上におけるビームスポット径の太りを発
生してしまう。そこで、第２の実施の形態では、温度変
化によるビームウェスト位置の変動を補正する一つの方
法を示す。図６はこの第２の実施の形態にかかるマルチ
ビーム光走査装置の全体構成を示す上面図である。図６
の符号６０２，６０３は第１結像手段を構成するレンズ
であり、図１に示されたレンズ１０２，１０３と同じで
あるが、変位機構６１１，６１２により光軸方向に移動
可能な構造になっている点で異なる。また、符号６０
５，６０６は第２結像手段を構成するレンズであり、そ
の少なくとも１つは結像位置変動を生じさせる樹脂製の
レンズで構成されている。図６の符号６０８はビームス
ポット検出手段であり、感光体６０７の感光面と略等価
な位置に設けられ、感光体６０７の光走査に先立って、
もしくは感光体６０７の光走査後に、光ビームを受光す
る。ビームスポット検出手段６０８は、説明中の実施の
形態においては例えば「２次元ＣＣＤセンサ」であり、
ＣＣＤセンサの出力により、ビームスポットの２次元的
な光強度分布を得る。この光強度分布から、主走査方向
及び副走査方向のビームスポット径を検出することがで
きる。温度・湿度等の環境変動により、光ビームに経時
的なビームウェスト位置のずれが生じた場合、ビームス
ポット検出手段６０８により検出されたビームスポット
径に応じて、光ビームのビームウェスト位置のずれ量が
分かるので、このように知られたビームウェスト位置の
ずれ量を補正するように制御部６１３は変位機構６１
１、６１２を制御してレンズ６０２及び／又はレンズ６
０３を光軸方向に変位させるので、被走査面上における
ビームスポット径（主走査方向径及び／又は副走査方向
径）を適切な径に補正することができる。制御部６１３
はマイクロコンピュータ等で構成でき、前記制御をプロ
グラム制御として実行することができる。また、別の方
式としては、各温度でビームスポット径がどの程度変化
し、それに伴いレンズ６０２、６０３を光軸方向にどれ
だけ移動させるかを予めシミュレーション等で求めてお
き、そのマトリックスを制御部６１３に内蔵させておけ
ば、「２次元ＣＣＤセンサ」の替わりに「温度センサ」
を設け温度を検出することにより、被走査面上における
ビームスポット径（主走査方向径及び／又は副走査方向
径）を適切な径に補正することもできる。

【００１０】次に、第３の実施の形態について説明す
る。第２の実施の形態では、温度変化によるビームウェ
スト位置変動を補正する方法として、レンズ６０２、６
０３を光軸方向に移動するという方法を採ったが、この
方法は駆動源などを必要とするため、コスト的にも高く
なりレイアウト的にも制約を受けやすい。そこで、これ
に代わる方式として、第２結像手段を構成している樹脂
製レンズの温度変化に伴う結像位置変動を補正させる機
能を、第１結像手段に持たせる方法がある。図７は第３
の実施の形態にかかるマルチビーム光走査装置の構成を
説明するための図である。図７において、符号７０１は
マルチビーム光源、７０２はコリメートレンズである。
第１結像手段は、主走査方向、副走査方向ともに負のパ
ワーを持つアナモフィック面を有する樹脂製のレンズ７
０３と、少なくとも副走査方向に正のパワーを持つアナ
モフィック面を有するガラスレンズ７０４とから構成さ
れている。第２結像手段は図示を省略するが回転多面鏡
７０５の後段に配置され、第２の実施の形態と同様に構
成され、その少なくとも１つは樹脂製レンズで構成され
温度変化により結像位置変動を生じさせる。ここで第１
結像手段の樹脂製レンズ７０３は、第２結像手段を構成
している樹脂製レンズの温度変化に伴う結像位置変動を
補正するべく、アナモフィック面の曲率、線膨張係数、
屈折率の温度依存特性が最適に定められている。したが
って、第２結像手段による結像位置変動と第１結像手段
による結像位置変動が相殺され、主走査方向に沿って被
走査面上に適切な径の光スポットが集光される。なお上
述した実施の形態では、複数個の汎用の半導体レーザを
用いて光ビームを合成する方法を示したが、これに限る
ものではなく、更なる高速化のために、半導体レーザア
レイを複数個用いて合成する方法も考えられる。また、
汎用の半導体レーザと半導体レーザアレイを組み合わせ
て用いて合成する方法も考えられる。この場合も、第１
〜３の実施の形態までの説明と同様にして、光スポット
の副走査方向の間隔の変動とビームウェスト位置の変動
を小さく抑え、確実で安定な画像再現性が確保できるマ
ルチビーム光走査装置が実現できる。

【００１１】

【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、マルチビーム光源装置から出射されたｎ本（ｎ≧
２）の光ビームを走査光学手段で被走査面上に集光させ
主走査方向に走査するマルチビーム光走査装置におい
て、前記マルチビーム光源装置は、ｍ個（ｎ≧ｍ≧２）
の半導体レーザ及び／又は半導体レーザアレイからなる
レーザ光源と、前記レーザ光源を保持する保持部材とを
少なくとも備え、前記保持部材のヤング率EがE≧１０×
１０¹⁰（N／ｍ²）を満足するようにしたので、被走査面
上の光スポットの副走査方向間隔の変動を極めて小さく
することができ、確実で安定な画像再現性が確保でき
る。また、請求項２記載の発明では、請求項１記載のマ
ルチビーム光走査装置において、前記走査光学手段は、
ｎ本の光ビームを副走査方向に集光させて、主走査方向
に長いｎ本の線像として結像させる第１結像手段と、前
記ｎ本の線像の結像位置近傍に偏向反射面を有し、前記
ｎ本の光ビームを偏向させる光偏向器と、前記偏向され
たｎ本の光ビームを、前記被走査面を走査するｎ個の光
スポットとして被走査面上に集光させる第２結像手段か
らなり、前記第２結像手段は、結像位置の変動を生ずる
特性を有し、前記第１結像手段を構成する少なくとも１
つの光学部品が光軸方向に移動可能であるので、被走査
面上の光スポットの副走査方向間隔の変動を極めて小さ
くすることができ、さらに被走査面上におけるビームス
ポット径を適切な径に補正することができ、確実で安定
な画像再現性が確保できる。また、請求項３記載の発明
では、請求項１記載のマルチビーム光走査装置におい
て、前記走査光学手段は、ｎ本の光ビームを副走査方向
に集光させて、主走査方向に長いｎ本の線像として結像
させる第１結像手段と、前記ｎ本の線像の結像位置近傍
に偏向反射面を有し、前記ｎ本の光ビームを偏向させる
光偏向器と、前記偏向されたｎ本の光ビームを、前記被
走査面を走査するｎ個の光スポットとして被走査面上に
集光させる第２結像手段からなり、前記第２結像手段
は、結像位置の変動を生ずる特性を有し、前記第１結像
手段は、前記第２結像手段による結像位置の変動を補正
するようにその特性が設定されるので、被走査面上の光
スポットの副走査方向間隔の変動を極めて小さくするこ
とができ、さらに第１結像手段を光軸方向に移動させる
ための駆動源などを不要としつつ被走査面上におけるビ
ームスポット径を適切な径に補正することができ、確実
で安定な画像再現性が確保できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態にかかるマルチビー
ム光走査装置の全体構成を示す外観斜視図である。

【図２】（ａ）ないし（ｄ）はマルチビーム光源装置の
具体的構成を示した図である。

【図３】ヤング率の変化に対する被走査面上の光スポッ
トの副走査方向間隔の変動を示す図である。

【図４】（ａ）は半導体レーザの保持部材の材料を鉄に
したときの被走査面上の光スポットの副走査方向間隔の
変動を示す図、（ｂ）は半導体レーザの保持部材の材料
をアルミにしたときの被走査面上の光スポットの副走査
方向間隔の変動を示す図である。

【図５】（ａ）（ｂ）は剛性を高めたマルチビーム光源
装置において、被走査面に対する結像位置の変動を示す
図である。

【図６】第２の実施の形態にかかるマルチビーム光走査
装置の全体構成を示す上面図である。

【図７】図７は第３の実施の形態にかかるマルチビーム
光走査装置の構成を説明するための図である。

【符号の説明】

１０１マルチビーム光源装置１０１ａ半導体レーザ１０１ｂ支持部材１０１ｃホルダ１０２凹シリンドリカルレンズ１０３凸シリンドリカルレンズ１０４回転多面鏡１０４ａ偏向反射面１０５，１０６レンズ１０７感光体２０１，２０２光源２０３，２０４カップリングレンズ２０５１／２波長板２０６ビーム合成プリズム２０７１／４波長板２０８ケーシング２０８２０６ａビーム合成プリズム２０６のミラー面２０６ｂ偏光ビームスプリッタ面２１２，２１３半導体レーザ２１４１／２波長板２１５ビームスプリッタ２１６カップリングレンズ２２１，２２２半導体レーザ２２３支持部材２２４，２２５カップリングレンズ２２６プリズム６０２，６０３第１結像手段を構成するレンズ６１１，６１２変位機構６０５，６０６第２結像手段を構成するレンズ６０８ビームスポット検出手段６１３制御部７０１マルチビーム光源７０２コリメートレンズ７０３樹脂製のレンズ７０４ガラスレンズ７０５回転多面鏡

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マルチビーム光源装置から出射されたｎ
本（ｎ≧２）の光ビームを走査光学手段で被走査面上に
集光させ主走査方向に走査するマルチビーム光走査装置
において、前記マルチビーム光源装置は、ｍ個（ｎ≧ｍ≧２）の半
導体レーザ及び／又は半導体レーザアレイからなるレー
ザ光源と、前記レーザ光源を保持する保持部材とを少な
くとも備え、前記保持部材のヤング率Eが E≧１０×１０¹⁰（N／ｍ²）を満足することを特徴とするマルチビーム光走査装置。
【請求項２】請求項１記載のマルチビーム光走査装置
において、前記走査光学手段は、ｎ本の光ビームを副走査方向に集光させて、主走査方向
に長いｎ本の線像として結像させる第１結像手段と、前記ｎ本の線像の結像位置近傍に偏向反射面を有し、前
記ｎ本の光ビームを偏向させる光偏向器と、前記偏向されたｎ本の光ビームを、前記被走査面を走査
するｎ個の光スポットとして被走査面上に集光させる第
２結像手段からなり、前記第２結像手段は、結像位置の変動を生ずる特性を有
し、前記第１結像手段を構成する少なくとも１つの光学部品
を前記結像位置の変動に基づいて光軸方向に移動可能に
構成したことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
【請求項３】請求項１記載のマルチビーム光走査装置
において、前記走査光学手段は、ｎ本の光ビームを副走査方向に集光させて、主走査方向
に長いｎ本の線像として結像させる第１結像手段と、前記ｎ本の線像の結像位置近傍に偏向反射面を有し、前
記ｎ本の光ビームを偏向させる光偏向器と、前記偏向されたｎ本の光ビームを、前記被走査面を走査
するｎ個の光スポットとして被走査面上に集光させる第
２結像手段からなり、前記第２結像手段は、結像位置の変動を生ずる特性を有
し、前記第１結像手段は、前記第２結像手段による結像位置
の変動を補正するようにその特性が設定されることを特
徴とするマルチビーム光走査装置。