JP2002189180A - 走査光学装置及び画像形成装置 - Google Patents
走査光学装置及び画像形成装置Info
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- JP2002189180A JP2002189180A JP2000387810A JP2000387810A JP2002189180A JP 2002189180 A JP2002189180 A JP 2002189180A JP 2000387810 A JP2000387810 A JP 2000387810A JP 2000387810 A JP2000387810 A JP 2000387810A JP 2002189180 A JP2002189180 A JP 2002189180A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源ユニットと同期検知手段とを一体に構成
した走査光学装置において、相手方の光学箱との組付け
公差及び各々の部品公差を緩めることによって部品の加
工や組付けを容易にしてコストを削減し、また、複数の
レーザ光を発するマルチビーム光源ユニットを用いる場
合でも、部品点数の増加や作業の煩雑化もなく副走査方
向のレーザスポット間隔を調整することができコスト的
にも有利な走査光学装置を提供する。 【解決手段】 ポリゴンミラー３１によって偏向されＢ
Ｄセンサに導かれるレーザ光が、検出位置において副走
査方向のスポット径と主走査方向のスポット径との比が
略２：１〜１００：１となる副走査方向に長いスポット
を形成する。
した走査光学装置において、相手方の光学箱との組付け
公差及び各々の部品公差を緩めることによって部品の加
工や組付けを容易にしてコストを削減し、また、複数の
レーザ光を発するマルチビーム光源ユニットを用いる場
合でも、部品点数の増加や作業の煩雑化もなく副走査方
向のレーザスポット間隔を調整することができコスト的
にも有利な走査光学装置を提供する。 【解決手段】 ポリゴンミラー３１によって偏向されＢ
Ｄセンサに導かれるレーザ光が、検出位置において副走
査方向のスポット径と主走査方向のスポット径との比が
略２：１〜１００：１となる副走査方向に長いスポット
を形成する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明はＬＢＰ（レーザビ
ームプリンタ）やデジタル複写機、デジタルＦＡＸ等の
電子写真方式の画像形成装置においてレーザビームを使
用して光書き込みを行う走査光学装置及びこのような走
査光学装置を用いた画像形成装置に関するものである。
ームプリンタ）やデジタル複写機、デジタルＦＡＸ等の
電子写真方式の画像形成装置においてレーザビームを使
用して光書き込みを行う走査光学装置及びこのような走
査光学装置を用いた画像形成装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＢＰ、デジタル複写機やデジタ
ルＦＡＸ等の電子写真方式の画像形成装置において感光
体等に対して光書き込み走査を行う走査光学装置として
の書き込みユニットは図６のように構成されている。半
導体レーザとコリメートレンズおよびレーザ駆動回路等
より成るレーザユニット３０より取り出されたコリメー
ト光は回転するポリゴンミラー３１により反射偏向走査
されながら、順次に走査レンズ３２、折り返しミラー３
３を通過して最終的には感光体ドラム表面（図示せず）
に到達する。
ルＦＡＸ等の電子写真方式の画像形成装置において感光
体等に対して光書き込み走査を行う走査光学装置として
の書き込みユニットは図６のように構成されている。半
導体レーザとコリメートレンズおよびレーザ駆動回路等
より成るレーザユニット３０より取り出されたコリメー
ト光は回転するポリゴンミラー３１により反射偏向走査
されながら、順次に走査レンズ３２、折り返しミラー３
３を通過して最終的には感光体ドラム表面（図示せず）
に到達する。
【０００３】コリメート光は書き込みドラム幅内で最適
に絞り込んだビームとして走査されるように走査レンズ
３２により整形される。また、ポリゴンミラー３１によ
って反射された走査ビームの一部はＢＤ（ビーム検知）
ミラー３４で反射されＢＤユニット３５に入射する。Ｂ
Ｄユニット３５には、感光ドラムへの書き込みの同期検
知を行い主走査方向の書き込み位置ずれを防止するため
に、走査ビームの受光に対応して同期信号を出力するＢ
ＤセンサＩＣが設けられている。また、ポリゴン面の倒
れ誤差による感光体上のビームの上下方向（副走査方
向）の位置ずれを防止するため一般にはシリンダレンズ
３７を用いて、レーザから取り出されたビームをポリゴ
ン面上では副走査方向に圧縮して結像した線像とすると
共にポリゴン面と感光体面上は副走査方向では共役関係
とする構成がとられる。更に、それら構成部材は光学箱
３６に取り付ける際には基準ピンなども用いながら寸法
公差内に入るよう工夫されている。
に絞り込んだビームとして走査されるように走査レンズ
３２により整形される。また、ポリゴンミラー３１によ
って反射された走査ビームの一部はＢＤ（ビーム検知）
ミラー３４で反射されＢＤユニット３５に入射する。Ｂ
Ｄユニット３５には、感光ドラムへの書き込みの同期検
知を行い主走査方向の書き込み位置ずれを防止するため
に、走査ビームの受光に対応して同期信号を出力するＢ
ＤセンサＩＣが設けられている。また、ポリゴン面の倒
れ誤差による感光体上のビームの上下方向（副走査方
向）の位置ずれを防止するため一般にはシリンダレンズ
３７を用いて、レーザから取り出されたビームをポリゴ
ン面上では副走査方向に圧縮して結像した線像とすると
共にポリゴン面と感光体面上は副走査方向では共役関係
とする構成がとられる。更に、それら構成部材は光学箱
３６に取り付ける際には基準ピンなども用いながら寸法
公差内に入るよう工夫されている。
【０００４】これらの構成の中でレーザユニット３０は
図７に示すように内部にコリメートレンズ３８を具備し
た鏡筒４５や半導体レーザ３９が配置されており光軸合
わせやピント調整されて組み付けられている。複数のレ
ーザ光を使用するマルチビーム走査方式のうち特に２つ
のレーザ光を用いる場合においては、図７に示すように
更に半導体レーザ３９内部に２つの発光点４３を有し、
端面発光型のレーザチップ４０からのレーザ光が窓４１
を通してコリメートレンズ３８側に取り出されてコリメ
ートされたレーザビームとなる。一方、レーザチップ４
０からの背面レーザ光はパッケージに内蔵した１つのフ
ォトダイオード４２により検出され、光量を一定に保つ
いわゆるＡＰＣ（Auto Power Control）動作に利用され
る。これらＡＰＣ動作はレーザ駆動電流に対してレーザ
光とがほぼ等価的に変化することを利用するものであっ
て、通常は走査レーザ光による有効書き込み領域外で。
走査回毎の書き込み開始直前に行うか、通紙する頁間隔
の期間にこれら光量調整は行われている。
図７に示すように内部にコリメートレンズ３８を具備し
た鏡筒４５や半導体レーザ３９が配置されており光軸合
わせやピント調整されて組み付けられている。複数のレ
ーザ光を使用するマルチビーム走査方式のうち特に２つ
のレーザ光を用いる場合においては、図７に示すように
更に半導体レーザ３９内部に２つの発光点４３を有し、
端面発光型のレーザチップ４０からのレーザ光が窓４１
を通してコリメートレンズ３８側に取り出されてコリメ
ートされたレーザビームとなる。一方、レーザチップ４
０からの背面レーザ光はパッケージに内蔵した１つのフ
ォトダイオード４２により検出され、光量を一定に保つ
いわゆるＡＰＣ（Auto Power Control）動作に利用され
る。これらＡＰＣ動作はレーザ駆動電流に対してレーザ
光とがほぼ等価的に変化することを利用するものであっ
て、通常は走査レーザ光による有効書き込み領域外で。
走査回毎の書き込み開始直前に行うか、通紙する頁間隔
の期間にこれら光量調整は行われている。
【０００５】この時２つの発光点４３からそれぞれ照射
されるレーザ光の感光体ドラム表面（図示せず）上での
副走査ピッチ間隔を調整する必要があるが、その量はＤ
ＰＩ（ドット/インチ）によって異なる。
されるレーザ光の感光体ドラム表面（図示せず）上での
副走査ピッチ間隔を調整する必要があるが、その量はＤ
ＰＩ（ドット/インチ）によって異なる。
【０００６】このため図８に示すように光学箱３６を電
子写真装置に取り付ける前に、レーザユニット３０を光
学箱３６の嵌合部４９まわりに回転させ傾けて組付け
る。これによってレーザスポット４７間隔の副走査成分
４８のみを抽出して所定の副走査ピッチ間隔を実現し、
取付ネジ４４などの取付手段を用いてレーザユニット３
０の回転調整後の所定の角度を保持している。この時レ
ーザユニット３０の光学箱３６に対する傾け角を抑える
ため、半導体レーザ３９をホルダ４６に対してあらかじ
め傾けて圧入するなどの工夫もなされている。
子写真装置に取り付ける前に、レーザユニット３０を光
学箱３６の嵌合部４９まわりに回転させ傾けて組付け
る。これによってレーザスポット４７間隔の副走査成分
４８のみを抽出して所定の副走査ピッチ間隔を実現し、
取付ネジ４４などの取付手段を用いてレーザユニット３
０の回転調整後の所定の角度を保持している。この時レ
ーザユニット３０の光学箱３６に対する傾け角を抑える
ため、半導体レーザ３９をホルダ４６に対してあらかじ
め傾けて圧入するなどの工夫もなされている。
【０００７】ところで従来、一つのレーザ光を使用する
シングルビーム走査方式においては図９に示すようにさ
らなるコストダウンのために以下のような構成がとられ
工夫されていた。上記のようにポリゴンミラー３１で反
射されたビームをＢＤミラー３４で再度反射して折り返
した後ＢＤユニット３５で光検知するのではなく、ポリ
ゴンミラー３１で反射されたビームを再度反射して折り
返すことなくＢＤレンズ５０で整形集光し、ビームはＢ
Ｄスリット５３を通過した後ＢＤセンサＩＣ５１上の受
光面５２に入射する。この時ＢＤスリット５３はホルダ
４６に一体に構成し、またＢＤセンサＩＣ５１はレーザ
ＰＣＢ（プリント回路基板）５４上に実装する。これに
より半導体レーザ３９とＢＤセンサＩＣ５１の駆動回路
を共通化できることだけでなく、従来別体であったレー
ザユニット３０とＢＤユニット３５を一体に構成するこ
とができる。
シングルビーム走査方式においては図９に示すようにさ
らなるコストダウンのために以下のような構成がとられ
工夫されていた。上記のようにポリゴンミラー３１で反
射されたビームをＢＤミラー３４で再度反射して折り返
した後ＢＤユニット３５で光検知するのではなく、ポリ
ゴンミラー３１で反射されたビームを再度反射して折り
返すことなくＢＤレンズ５０で整形集光し、ビームはＢ
Ｄスリット５３を通過した後ＢＤセンサＩＣ５１上の受
光面５２に入射する。この時ＢＤスリット５３はホルダ
４６に一体に構成し、またＢＤセンサＩＣ５１はレーザ
ＰＣＢ（プリント回路基板）５４上に実装する。これに
より半導体レーザ３９とＢＤセンサＩＣ５１の駆動回路
を共通化できることだけでなく、従来別体であったレー
ザユニット３０とＢＤユニット３５を一体に構成するこ
とができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たようにレーザユニットを光学箱に対し傾けることによ
って感光体ドラム上では所定の副走査ピッチ間隔となる
ようレーザスポット間隔の副走査成分を抽出して調整す
るマルチビーム走査方式の走査光学装置においては、Ｂ
Ｄユニットをレーザユニットとを一体とする構成は以下
の理由により実用化されていなかった。ここで、図１０
は図９において矢印Ａ方向から見た図である。
たようにレーザユニットを光学箱に対し傾けることによ
って感光体ドラム上では所定の副走査ピッチ間隔となる
ようレーザスポット間隔の副走査成分を抽出して調整す
るマルチビーム走査方式の走査光学装置においては、Ｂ
Ｄユニットをレーザユニットとを一体とする構成は以下
の理由により実用化されていなかった。ここで、図１０
は図９において矢印Ａ方向から見た図である。
【０００９】レーザユニットを光学箱に対し傾けること
によって感光体ドラム上では所定の副走査ピッチ間隔と
なるようレーザ間隔の副走査成分を抽出して調整するマ
ルチビーム走査方式を採用した場合には、従来例に示し
たようにＢＤユニット３５を一体に構成したレーザユニ
ット３０を傾けるとＢＤセンサＩＣ５１の受光面５２が
図１０に示す位置まで回転移動する。この時複数のレー
ザビームの光軸（図示せず）の仮想的な中心軸Ｐを嵌合
部４９の軸と一致させるように構成しているために、ポ
リゴンミラー３１によって反射されたビームはレ−ザユ
ニット３０の回転調整前後にかかわらず図１０に示す位
置のレーザスポット４７となる。このため、ＢＤセンサ
ＩＣ５１の受光面５２とレーザスポット４７位置の不一
致のために書き込みの同期検知ができない。また、シン
グルビーム走査方式であっても、ＢＤユニットをレーザ
ユニットと一体に構成した場合、光学箱との組みつけの
際には実際の部品の出来やガタなどによってＢＤユニッ
トの受光面位置がずれることを防ぐために厳しい公差が
必要であった。
によって感光体ドラム上では所定の副走査ピッチ間隔と
なるようレーザ間隔の副走査成分を抽出して調整するマ
ルチビーム走査方式を採用した場合には、従来例に示し
たようにＢＤユニット３５を一体に構成したレーザユニ
ット３０を傾けるとＢＤセンサＩＣ５１の受光面５２が
図１０に示す位置まで回転移動する。この時複数のレー
ザビームの光軸（図示せず）の仮想的な中心軸Ｐを嵌合
部４９の軸と一致させるように構成しているために、ポ
リゴンミラー３１によって反射されたビームはレ−ザユ
ニット３０の回転調整前後にかかわらず図１０に示す位
置のレーザスポット４７となる。このため、ＢＤセンサ
ＩＣ５１の受光面５２とレーザスポット４７位置の不一
致のために書き込みの同期検知ができない。また、シン
グルビーム走査方式であっても、ＢＤユニットをレーザ
ユニットと一体に構成した場合、光学箱との組みつけの
際には実際の部品の出来やガタなどによってＢＤユニッ
トの受光面位置がずれることを防ぐために厳しい公差が
必要であった。
【００１０】本発明はかかる課題を解決を解決するため
になされたものであって、その目的は、光源ユニットと
同期検知手段とを一体に構成した走査光学装置におい
て、相手方の光学箱との組付け公差及び各々の部品公差
を緩めることによって部品の加工や組付けを容易にして
コストを削減し、また、複数のレーザ光を発するマルチ
ビーム光源ユニットを用いる場合でも、部品点数の増加
や作業の煩雑化もなく副走査方向のレーザスポット間隔
を調整することができコスト的にも有利な走査光学装置
を提供することにある。
になされたものであって、その目的は、光源ユニットと
同期検知手段とを一体に構成した走査光学装置におい
て、相手方の光学箱との組付け公差及び各々の部品公差
を緩めることによって部品の加工や組付けを容易にして
コストを削減し、また、複数のレーザ光を発するマルチ
ビーム光源ユニットを用いる場合でも、部品点数の増加
や作業の煩雑化もなく副走査方向のレーザスポット間隔
を調整することができコスト的にも有利な走査光学装置
を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、レーザ光を発する光源ユニットと、前記光
源ユニットからのレーザ光束を偏向走査する偏向手段
と、前記偏向手段により走査されたレーザ光束を被走査
面上に結像する結像光学手段と、前記偏向手段により走
査されたレーザ光束を検知し、該レーザ光束の主走査方
向の同期信号を出力する同期検知手段と、少なくとも前
記偏向手段と前記結像光学手段とを収容する光学箱と、
を有し、前記光源ユニットと前記同期検知手段とを一体
に構成した走査光学装置において、前記レーザ光束を前
記同期検知手段が検知する検知位置における該レーザ光
束の副走査方向のスポット径と主走査方向のスポット径
との比が略２：１〜１００：１となる副走査方向に長い
レーザ光束を形成することを特徴とする。
に本発明は、レーザ光を発する光源ユニットと、前記光
源ユニットからのレーザ光束を偏向走査する偏向手段
と、前記偏向手段により走査されたレーザ光束を被走査
面上に結像する結像光学手段と、前記偏向手段により走
査されたレーザ光束を検知し、該レーザ光束の主走査方
向の同期信号を出力する同期検知手段と、少なくとも前
記偏向手段と前記結像光学手段とを収容する光学箱と、
を有し、前記光源ユニットと前記同期検知手段とを一体
に構成した走査光学装置において、前記レーザ光束を前
記同期検知手段が検知する検知位置における該レーザ光
束の副走査方向のスポット径と主走査方向のスポット径
との比が略２：１〜１００：１となる副走査方向に長い
レーザ光束を形成することを特徴とする。
【００１２】前記光源ユニットにおけるレーザ光の発光
点と前記光検知位置とが主走査方向に共役関係にないよ
うにしてもよい。
点と前記光検知位置とが主走査方向に共役関係にないよ
うにしてもよい。
【００１３】また、本発明は、複数のレーザ光を発する
マルチビーム光源ユニットと、前記マルチビーム光源ユ
ニットからの複数のレーザ光束を偏向走査する偏向手段
と、前記偏向手段により走査されたレーザ光束を被走査
面上に結像する結像光学手段と、前記偏向手段により走
査された複数のレーザ光束を検知し、該複数のレーザ光
束の主走査方向の同期信号を出力する同期検知手段と、
少なくとも前記偏向手段と前記結像光学手段とを収容す
る光学箱と、を有し、前記マルチビーム光源ユニットと
前記同期検知手段とを一体に構成するとともに、前記マ
ルチビーム光源ユニットをその光軸のまわりに回転させ
ることによって、前記被走査面上に走査された複数のレ
ーザ光束の間隔を調整する走査光学装置において、前記
レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検知位置にお
ける該レーザ光束の副走査方向のスポット径と主走査方
向のスポット径との比が略２：１〜１００：１となる副
走査方向に長いレーザ光束を形成することを特徴とす
る。
マルチビーム光源ユニットと、前記マルチビーム光源ユ
ニットからの複数のレーザ光束を偏向走査する偏向手段
と、前記偏向手段により走査されたレーザ光束を被走査
面上に結像する結像光学手段と、前記偏向手段により走
査された複数のレーザ光束を検知し、該複数のレーザ光
束の主走査方向の同期信号を出力する同期検知手段と、
少なくとも前記偏向手段と前記結像光学手段とを収容す
る光学箱と、を有し、前記マルチビーム光源ユニットと
前記同期検知手段とを一体に構成するとともに、前記マ
ルチビーム光源ユニットをその光軸のまわりに回転させ
ることによって、前記被走査面上に走査された複数のレ
ーザ光束の間隔を調整する走査光学装置において、前記
レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検知位置にお
ける該レーザ光束の副走査方向のスポット径と主走査方
向のスポット径との比が略２：１〜１００：１となる副
走査方向に長いレーザ光束を形成することを特徴とす
る。
【００１４】ここで、マルチビーム光源の光軸とは、光
源から出射される複数のレーザ光束の仮想的な中心軸を
指す。
源から出射される複数のレーザ光束の仮想的な中心軸を
指す。
【００１５】前記マルチビーム光源ユニットにおけるレ
ーザ光の発光点と前記光検知位置とが主走査方向に共役
関係にないようにしてもよい。
ーザ光の発光点と前記光検知位置とが主走査方向に共役
関係にないようにしてもよい。
【００１６】また、本発明は、光導電性の像担持体と、
前記像担持体を均一に帯電する帯電手段と、レーザ光を
発する光源ユニットと、前記光源ユニットからのレーザ
光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段により走
査されたレーザ光束を前記像担持体面上に結像する結像
光学手段と、前記偏向手段により走査されたレーザ光束
を検知し、該レーザ光束の主走査方向の同期信号を出力
する同期検知手段と、帯電された前記像担持体面上に前
記レーザ光束を走査することにより形成された静電潜像
を現像する現像手段と、前記現像像を被転写材に転写す
る転写手段と、前記被転写材上に転写された未定着画像
を定着させる定着手段と、を有し、前記光源ユニットと
前記同期検知手段とを一体に構成した画像形成装置にお
いて、前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検
知位置における該レーザ光束の副走査方向のスポット径
と主走査方向のスポット径との比が略２：１〜１００：
１となる副走査方向に長いレーザ光束を形成することを
特徴とする。
前記像担持体を均一に帯電する帯電手段と、レーザ光を
発する光源ユニットと、前記光源ユニットからのレーザ
光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段により走
査されたレーザ光束を前記像担持体面上に結像する結像
光学手段と、前記偏向手段により走査されたレーザ光束
を検知し、該レーザ光束の主走査方向の同期信号を出力
する同期検知手段と、帯電された前記像担持体面上に前
記レーザ光束を走査することにより形成された静電潜像
を現像する現像手段と、前記現像像を被転写材に転写す
る転写手段と、前記被転写材上に転写された未定着画像
を定着させる定着手段と、を有し、前記光源ユニットと
前記同期検知手段とを一体に構成した画像形成装置にお
いて、前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検
知位置における該レーザ光束の副走査方向のスポット径
と主走査方向のスポット径との比が略２：１〜１００：
１となる副走査方向に長いレーザ光束を形成することを
特徴とする。
【００１７】また、本発明は、光導電性の像担持体と、
前記像担持体を均一に帯電する帯電手段と、複数のレー
ザ光を発するマルチビーム光源ユニットと、前記マルチ
ビーム光源ユニットからの複数のレーザ光束を偏向走査
する偏向手段と、前記偏向手段により走査されたレーザ
光束を前記像担持体面上に結像する結像光学手段と、前
記偏向手段により走査された複数のレーザ光束を検知
し、該複数のレーザ光束の主走査方向の同期信号を出力
する同期検知手段と、帯電された前記像担持体面上に前
記レーザ光束を走査することにより形成された静電潜像
を現像する現像手段と、前記現像像を被転写材に転写す
る転写手段と、前記被転写材上に転写された未定着画像
を定着させる定着手段と、を有し、前記マルチビーム光
源ユニットと前記同期検知手段とを一体に構成するとと
もに、前記マルチビーム光源ユニットをその光軸のまわ
りに回転させることによって、前記被走査面上に走査さ
れた複数のレーザ光束の間隔を調整する画像形成装置に
おいて、前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する
検知位置における該レーザ光束の副走査方向のスポット
径と主走査方向のスポット径との比が略２：１〜１０
０：１となる副走査方向に長いレーザ光束を形成するこ
とを特徴とする。
前記像担持体を均一に帯電する帯電手段と、複数のレー
ザ光を発するマルチビーム光源ユニットと、前記マルチ
ビーム光源ユニットからの複数のレーザ光束を偏向走査
する偏向手段と、前記偏向手段により走査されたレーザ
光束を前記像担持体面上に結像する結像光学手段と、前
記偏向手段により走査された複数のレーザ光束を検知
し、該複数のレーザ光束の主走査方向の同期信号を出力
する同期検知手段と、帯電された前記像担持体面上に前
記レーザ光束を走査することにより形成された静電潜像
を現像する現像手段と、前記現像像を被転写材に転写す
る転写手段と、前記被転写材上に転写された未定着画像
を定着させる定着手段と、を有し、前記マルチビーム光
源ユニットと前記同期検知手段とを一体に構成するとと
もに、前記マルチビーム光源ユニットをその光軸のまわ
りに回転させることによって、前記被走査面上に走査さ
れた複数のレーザ光束の間隔を調整する画像形成装置に
おいて、前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する
検知位置における該レーザ光束の副走査方向のスポット
径と主走査方向のスポット径との比が略２：１〜１０
０：１となる副走査方向に長いレーザ光束を形成するこ
とを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図示の実施形態に
従って説明する。
従って説明する。
【００１９】（第１の実施形態）図１は本発明の第１の
実施形態に係る走査光学装置としての書き込みユニット
の全体構成を示す図である。図２は本実施形態の特徴を
説明する図である。従来例と同様の構成については同様
の番号もしくは符号で示し、適宜説明を省略する。
実施形態に係る走査光学装置としての書き込みユニット
の全体構成を示す図である。図２は本実施形態の特徴を
説明する図である。従来例と同様の構成については同様
の番号もしくは符号で示し、適宜説明を省略する。
【００２０】図示しないＢＤセンサを一体に有するレー
ザユニット（（マルチビーム）光源ユニット）３０はレ
ーザＰＣＢ５４上に実装され、ホルダ４６に収容されて
いる。ホルダ４６にはＢＤセンサＩＣの受光面にレーザ
光を導くＢＤスリット５３が形成されるとともに内部に
半導体レーザを備えた鏡筒４５が突設されている。鏡筒
４５の基端部は光学箱４６に組み付ける際に光学箱３６
側に設けられた孔３６ａに嵌合する嵌合部４９が形成さ
れており、先端部側にはコリメータレンズ３８が配置さ
れている。また、光学箱３６には、前記ＢＤスリット５
３にレーザビームを導く開口部３６ｂが設けられてい
る。
ザユニット（（マルチビーム）光源ユニット）３０はレ
ーザＰＣＢ５４上に実装され、ホルダ４６に収容されて
いる。ホルダ４６にはＢＤセンサＩＣの受光面にレーザ
光を導くＢＤスリット５３が形成されるとともに内部に
半導体レーザを備えた鏡筒４５が突設されている。鏡筒
４５の基端部は光学箱４６に組み付ける際に光学箱３６
側に設けられた孔３６ａに嵌合する嵌合部４９が形成さ
れており、先端部側にはコリメータレンズ３８が配置さ
れている。また、光学箱３６には、前記ＢＤスリット５
３にレーザビームを導く開口部３６ｂが設けられてい
る。
【００２１】図示しないＢＤセンサを一体に構成したレ
ーザユニット３０は、嵌合部４９を光学箱３６の孔３６
ａに嵌合させて回転させ、適切な角度となるように調整
され、光学箱３６に組み付けられる。
ーザユニット３０は、嵌合部４９を光学箱３６の孔３６
ａに嵌合させて回転させ、適切な角度となるように調整
され、光学箱３６に組み付けられる。
【００２２】コリメータレンズ３７によってコリメート
されたレーザビームはシリンダレンズ３７によってポリ
ゴンミラー（偏向手段）３１の面上に主走査方向の線像
として結像する。回転するポリゴンミラー３１によって
反射されたレーザ光は偏向され、結像光学手段を構成す
る走査レンズ３２及び折り返しミラー３３を通過して図
示しない感光ドラムに到達し、感光ドラム面に対して光
書き込み走査を行う。また、ポリゴンミラー３１によっ
て反射されたレーザビームは偏向され、同期検知のため
にＢＤミラー５１を介して図示しないＢＤセンサＩＣ
（同期検知手段）に導かれる。レーザビームを受光した
ＢＤセンサＩＣは、感光ドラムへの主走査方向の書き込
み位置を揃えるための同期信号を出力する。
されたレーザビームはシリンダレンズ３７によってポリ
ゴンミラー（偏向手段）３１の面上に主走査方向の線像
として結像する。回転するポリゴンミラー３１によって
反射されたレーザ光は偏向され、結像光学手段を構成す
る走査レンズ３２及び折り返しミラー３３を通過して図
示しない感光ドラムに到達し、感光ドラム面に対して光
書き込み走査を行う。また、ポリゴンミラー３１によっ
て反射されたレーザビームは偏向され、同期検知のため
にＢＤミラー５１を介して図示しないＢＤセンサＩＣ
（同期検知手段）に導かれる。レーザビームを受光した
ＢＤセンサＩＣは、感光ドラムへの主走査方向の書き込
み位置を揃えるための同期信号を出力する。
【００２３】本実施形態では、図２に示すように、ポリ
ゴンミラー３１によって反射偏向され書き込み同期検知
のために光軸方向には光検知位置に相当する位置に到達
したレーザビームが特定条件を満たすアスペクト比を有
するレーザスポット４７を形成することを特徴とする。
ここでアスペクト比とは光検知位置でのレーザスポット
４７の副走査側の径と主走査側の径の比を言うものとす
る。
ゴンミラー３１によって反射偏向され書き込み同期検知
のために光軸方向には光検知位置に相当する位置に到達
したレーザビームが特定条件を満たすアスペクト比を有
するレーザスポット４７を形成することを特徴とする。
ここでアスペクト比とは光検知位置でのレーザスポット
４７の副走査側の径と主走査側の径の比を言うものとす
る。
【００２４】以下、順を追って説明する。
【００２５】コリメータレンズ３８から出射されたレー
ザビームはポリゴンミラー３１の面倒れを補正するため
にシリンダレンズ３７によって副走査方向にのみ集光さ
れポリゴンミラー３１反射面上に線像を形成する。その
後ポリゴンミラー３１によって反射されたレーザビーム
は、書き込みの同期検知に最適な角度姿勢をポリゴンミ
ラー３１がとっている時に、ＢＤレンズ５０を通過した
後、光軸方向には光検知位置に相当する位置において、
特定条件を満たすアスペクト比を有するレーザスポット
４７を形成させる。
ザビームはポリゴンミラー３１の面倒れを補正するため
にシリンダレンズ３７によって副走査方向にのみ集光さ
れポリゴンミラー３１反射面上に線像を形成する。その
後ポリゴンミラー３１によって反射されたレーザビーム
は、書き込みの同期検知に最適な角度姿勢をポリゴンミ
ラー３１がとっている時に、ＢＤレンズ５０を通過した
後、光軸方向には光検知位置に相当する位置において、
特定条件を満たすアスペクト比を有するレーザスポット
４７を形成させる。
【００２６】例えば、マルチビーム走査方式において、
発光点角度は発光点間隔と副走査倍率とＤＰＩによって
定まり光学系次第ではあるが、これを約３°とする。半
導体レーザ３９をホルダ４６に圧入する際にあらかじめ
傾けるなどの工夫もされているため、測定誤差などを考
慮しても３°以上傾くことはないものとする。また、複
数の光束の仮想的な中心軸を光軸と呼ぶこととすると
（以下光軸）から光検知位置までの光軸に垂直な方向の
最短距離は光学系により異なるものの１５ｍｍとする。
この時光検知位置がレーザユニット３０の回転により移
動する量は最大０．８ｍｍ程度である。
発光点角度は発光点間隔と副走査倍率とＤＰＩによって
定まり光学系次第ではあるが、これを約３°とする。半
導体レーザ３９をホルダ４６に圧入する際にあらかじめ
傾けるなどの工夫もされているため、測定誤差などを考
慮しても３°以上傾くことはないものとする。また、複
数の光束の仮想的な中心軸を光軸と呼ぶこととすると
（以下光軸）から光検知位置までの光軸に垂直な方向の
最短距離は光学系により異なるものの１５ｍｍとする。
この時光検知位置がレーザユニット３０の回転により移
動する量は最大０．８ｍｍ程度である。
【００２７】コリメータレンズ３８から取り出されるコ
リメータ光は一般的におよそφ３程度であり、シリンダ
レンズ３７を通過した後ポリゴン面３１上では副走査方
向には圧縮結像されて線像となるが、光検知位置ではＢ
Ｄレンズ５０により結像されて３０μｍ程度のレーザス
ポット４７となることが一般的である。ＢＤレンズ５０
が例えば主走査方向・副走査方向共にシリンダレンズ３
７の副走査方向と同程度の焦点距離・曲率を有する球面
レンズとし、光検知位置では主走査方向には結像すると
すると、主走査方向には３０μｍ程度の径となり、また
副走査方向にはＢＤレンズ５０後は平行光となるために
３ｍｍ程度の径をもつ長円形状のレーザスポット４７に
なる。
リメータ光は一般的におよそφ３程度であり、シリンダ
レンズ３７を通過した後ポリゴン面３１上では副走査方
向には圧縮結像されて線像となるが、光検知位置ではＢ
Ｄレンズ５０により結像されて３０μｍ程度のレーザス
ポット４７となることが一般的である。ＢＤレンズ５０
が例えば主走査方向・副走査方向共にシリンダレンズ３
７の副走査方向と同程度の焦点距離・曲率を有する球面
レンズとし、光検知位置では主走査方向には結像すると
すると、主走査方向には３０μｍ程度の径となり、また
副走査方向にはＢＤレンズ５０後は平行光となるために
３ｍｍ程度の径をもつ長円形状のレーザスポット４７に
なる。
【００２８】このため上記のように光検知位置が０．８
ｍｍ程度ずれてもスポット径が副走査方向に３ｍｍ程度
あり、またＢＤセンサＩＣの受光面５２の面積がφ１程
度であり、実際にはＢＤセンサＩＣの受光面５２の受光
感度特性によるが、おおよそ受光面に充分な光量が入射
することになり光検知が可能となる。またこの例のよう
な構成であればＢＤレンズ５０が球面レンズでよいこと
になりコスト的にも有利である。
ｍｍ程度ずれてもスポット径が副走査方向に３ｍｍ程度
あり、またＢＤセンサＩＣの受光面５２の面積がφ１程
度であり、実際にはＢＤセンサＩＣの受光面５２の受光
感度特性によるが、おおよそ受光面に充分な光量が入射
することになり光検知が可能となる。またこの例のよう
な構成であればＢＤレンズ５０が球面レンズでよいこと
になりコスト的にも有利である。
【００２９】また、マルチビーム走査方式においては図
３に示すようにレーザユニット３０の傾け調整を行った
後の傾き方向が予測可能な際には、ＢＤレンズ５０をあ
らかじめ光軸上から副走査方向にずらして配置してもよ
い。例えば図３においてレーザユニット３０を傾けてい
る方向においてはＢＤレンズ５０をあらかじめ↑Ｂ方向
にずらして配置する。
３に示すようにレーザユニット３０の傾け調整を行った
後の傾き方向が予測可能な際には、ＢＤレンズ５０をあ
らかじめ光軸上から副走査方向にずらして配置してもよ
い。例えば図３においてレーザユニット３０を傾けてい
る方向においてはＢＤレンズ５０をあらかじめ↑Ｂ方向
にずらして配置する。
【００３０】シングルビーム方式においては、前記のよ
うにＢＤセンサＩＣ５１の受光面５２の径がφ１であっ
て、従来光検知位置で主走査方向・副走査方向共に３０
μｍ程度のレーザスポット４７であった。この為、レー
ザスポット４７を確実にφ１の受光面５２内部に追い込
むために部品公差の積み上げ２乗和を副走査方向に０．
５ｍｍ程度に抑えなければならなかったが、上記のよう
なレーザスポット４７とするとレンジで３ｍｍ程度は部
品公差が緩められることになるため、シングルビーム方
式においても有効である。
うにＢＤセンサＩＣ５１の受光面５２の径がφ１であっ
て、従来光検知位置で主走査方向・副走査方向共に３０
μｍ程度のレーザスポット４７であった。この為、レー
ザスポット４７を確実にφ１の受光面５２内部に追い込
むために部品公差の積み上げ２乗和を副走査方向に０．
５ｍｍ程度に抑えなければならなかったが、上記のよう
なレーザスポット４７とするとレンジで３ｍｍ程度は部
品公差が緩められることになるため、シングルビーム方
式においても有効である。
【００３１】上記の例においてレーザスポット４７のア
スペクト比としては副走査方向：主走査方向＝３ｍｍ：
０．０３ｍｍ＝１００：１程度となるが、更なる組付け
公差の緩和や検知光量を加味しておおよそ２：１〜１０
０：１程度がよい。
スペクト比としては副走査方向：主走査方向＝３ｍｍ：
０．０３ｍｍ＝１００：１程度となるが、更なる組付け
公差の緩和や検知光量を加味しておおよそ２：１〜１０
０：１程度がよい。
【００３２】尚、ＢＤレンズ５０は従来、ＢＤレンズ５
０に入射する前は副走査方向には拡散光、主走査方向に
は平行光であったビームを光検知位置では主走査方向・
副走査方向ともに３０μｍ程度のレーザスポット４７形
状とするために、主走査方向と副走査方向で曲率の異な
るアナモルフィックレンズとしていたが、上記アスペク
ト比を満足する限りＢＤレンズ５０は任意であり、アナ
モルフィックレンズでも上記の例の如く球面レンズとし
てもよい。また、ＢＤレンズ５０はシリンダレンズ３７
と一体に構成して複合レンズとしてもよい。
０に入射する前は副走査方向には拡散光、主走査方向に
は平行光であったビームを光検知位置では主走査方向・
副走査方向ともに３０μｍ程度のレーザスポット４７形
状とするために、主走査方向と副走査方向で曲率の異な
るアナモルフィックレンズとしていたが、上記アスペク
ト比を満足する限りＢＤレンズ５０は任意であり、アナ
モルフィックレンズでも上記の例の如く球面レンズとし
てもよい。また、ＢＤレンズ５０はシリンダレンズ３７
と一体に構成して複合レンズとしてもよい。
【００３３】本実施形態によれば、マルチビーム走査方
式の走査光学装置においては、レーザユニット３０の回
転調整後、光学箱３６に対して傾けて固定されても書き
込みの同期検知が可能であり、シングルビーム走査方式
の走査光学装置においては各々の部品の公差等を緩める
ことが可能である。
式の走査光学装置においては、レーザユニット３０の回
転調整後、光学箱３６に対して傾けて固定されても書き
込みの同期検知が可能であり、シングルビーム走査方式
の走査光学装置においては各々の部品の公差等を緩める
ことが可能である。
【００３４】（第２の実施形態）図４は第２の実施形態
の特徴を最もよく表す図である。走査光学装置としての
書き込みユニットの全体構成は第１の実施形態と同様で
ある。第１の実施形態と同様の構成については同様の番
号もしくは符号で示し、適宜説明を省略する。
の特徴を最もよく表す図である。走査光学装置としての
書き込みユニットの全体構成は第１の実施形態と同様で
ある。第１の実施形態と同様の構成については同様の番
号もしくは符号で示し、適宜説明を省略する。
【００３５】本実施形態は第１の実施形態の変形例であ
り、図４に示すようにポリゴンミラー３１によって反射
偏向走査され、レーザビームが書き込み同期検知のため
に、光軸方向には光検知位置に相当する位置に到達する
とき、光検知位置と発光点位置が主走査方向に関して共
役関係になく、光検知位置が必ずしも副走査方向だけで
なく主走査方向にもいわゆるビームウエスト位置でなく
てもよいことを特徴とする。ここで、レーザスポット４
７の主走査側及び副走査側の径の比であるいわゆるアス
ペクト比は第１の実施形態で説明した値と同等とする。
り、図４に示すようにポリゴンミラー３１によって反射
偏向走査され、レーザビームが書き込み同期検知のため
に、光軸方向には光検知位置に相当する位置に到達する
とき、光検知位置と発光点位置が主走査方向に関して共
役関係になく、光検知位置が必ずしも副走査方向だけで
なく主走査方向にもいわゆるビームウエスト位置でなく
てもよいことを特徴とする。ここで、レーザスポット４
７の主走査側及び副走査側の径の比であるいわゆるアス
ペクト比は第１の実施形態で説明した値と同等とする。
【００３６】本実施形態によれば、ＢＤレンズ５０をデ
フォーカスして配置するという簡便な方法によって、マ
ルチビーム走査方式の走査光学装置においては、レーザ
ユニット３０の回転調整後、光学箱に対して傾けて固定
されても書き込みの同期検知が可能であり、シングルビ
ーム走査方式の走査光学装置においては各々の部品の公
差等を緩めることが可能である。
フォーカスして配置するという簡便な方法によって、マ
ルチビーム走査方式の走査光学装置においては、レーザ
ユニット３０の回転調整後、光学箱に対して傾けて固定
されても書き込みの同期検知が可能であり、シングルビ
ーム走査方式の走査光学装置においては各々の部品の公
差等を緩めることが可能である。
【００３７】図５に上記実施形態に係る走査光学装置を
用いた画像形成装置の例を示す。ここでは、画像形成装
置としてＬＢＰについて説明する。
用いた画像形成装置の例を示す。ここでは、画像形成装
置としてＬＢＰについて説明する。
【００３８】走査光学装置１００は、上述した第１及び
第２の実施形態に係る書き込みユニットによって構成さ
れる。像担持体としての光導電性を有する感光ドラム１
０１は、帯電ローラ等の帯電手段１０２によって均一に
帯電される。均一に帯電された感光ドラム１０１の回転
方向(矢印Ｂ)下流側面上に走査光学装置１００から出射
されたレーザビーム１０３が照射される。画像データに
従って変調されたレーザビーム１０３によって感光ドラ
ム１０２表面が露光され、静電潜像が形成される。レー
ザビーム１０３の照射位置の回転方向下流側には、現像
手段１０７が配置され、感光ドラム１０１面上にトナー
を付着させてトナー像を形成することにより、静電潜像
を現像する。感光ドラム１０１のさらに回転方向下流側
には転写ローラ等の転写手段１０８が対向配置されてい
る。用紙カセット１０９に収容された被転写材としての
用紙１１２が給紙ローラ１１０によって給送され、感光
ドラム１０１と転写手段１０８との間に搬送される。感
光ドラム１０１上に形成されたトナー像は用紙１１２に
転写され、未定着のトナー像を担持した用紙１１２は定
着ローラ１１３及びこれに圧接する加圧ローラ１１４の
ニップ部に搬送される。定着ローラの内部には加熱源が
配置されており、定着手段を構成する定着ローラ１１３
と加圧ローラ１１４のニップ部を通過する用紙１１２上
のトナー像が加熱及び加圧されることにより定着され
る。画像が定着された用紙１１２は排紙ローラ対１１６
により装置外に排出される。
第２の実施形態に係る書き込みユニットによって構成さ
れる。像担持体としての光導電性を有する感光ドラム１
０１は、帯電ローラ等の帯電手段１０２によって均一に
帯電される。均一に帯電された感光ドラム１０１の回転
方向(矢印Ｂ)下流側面上に走査光学装置１００から出射
されたレーザビーム１０３が照射される。画像データに
従って変調されたレーザビーム１０３によって感光ドラ
ム１０２表面が露光され、静電潜像が形成される。レー
ザビーム１０３の照射位置の回転方向下流側には、現像
手段１０７が配置され、感光ドラム１０１面上にトナー
を付着させてトナー像を形成することにより、静電潜像
を現像する。感光ドラム１０１のさらに回転方向下流側
には転写ローラ等の転写手段１０８が対向配置されてい
る。用紙カセット１０９に収容された被転写材としての
用紙１１２が給紙ローラ１１０によって給送され、感光
ドラム１０１と転写手段１０８との間に搬送される。感
光ドラム１０１上に形成されたトナー像は用紙１１２に
転写され、未定着のトナー像を担持した用紙１１２は定
着ローラ１１３及びこれに圧接する加圧ローラ１１４の
ニップ部に搬送される。定着ローラの内部には加熱源が
配置されており、定着手段を構成する定着ローラ１１３
と加圧ローラ１１４のニップ部を通過する用紙１１２上
のトナー像が加熱及び加圧されることにより定着され
る。画像が定着された用紙１１２は排紙ローラ対１１６
により装置外に排出される。
【００３９】本実施形態で説明した走査光学装置を備え
る画像形成装置は、上述のＬＢＰに限られず、デジタル
複写機やデジタルＦＡＸ等でもよい。
る画像形成装置は、上述のＬＢＰに限られず、デジタル
複写機やデジタルＦＡＸ等でもよい。
【００４０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光源ユニットと同期検知手段とを一体に構成した走査光
学装置において、相手方の光学箱との組付け公差及び各
々の部品公差を緩めることによって部品の加工や組付け
を容易にしてコストを削減し、また、複数のレーザ光を
発するマルチビーム光源ユニットを用いる場合でも、部
品点数の増加や作業の煩雑化もなく副走査方向のレーザ
スポット間隔を調整することができコスト的にも有利な
走査光学装置を提供することができる。
光源ユニットと同期検知手段とを一体に構成した走査光
学装置において、相手方の光学箱との組付け公差及び各
々の部品公差を緩めることによって部品の加工や組付け
を容易にしてコストを削減し、また、複数のレーザ光を
発するマルチビーム光源ユニットを用いる場合でも、部
品点数の増加や作業の煩雑化もなく副走査方向のレーザ
スポット間隔を調整することができコスト的にも有利な
走査光学装置を提供することができる。
【図１】図１は本発明の第１の実施形態を示す走査光学
装置の全体構成を示す斜視図である。
装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図２は本発明の第１の実施形態に係る走査光学
装置の主要部を示す斜視図である。
装置の主要部を示す斜視図である。
【図３】図３は本発明の第１の実施形態を補足する走査
光学装置の主要部を示す斜視図である。
光学装置の主要部を示す斜視図である。
【図４】図４は本発明の第２の実施形態を示す走査光学
装置の主要部を示す斜視図である。
装置の主要部を示す斜視図である。
【図５】図５は本発明に係る走査光学装置を用いたレー
ザビームプリンタを示す図である。
ザビームプリンタを示す図である。
【図６】図６は従来例に係る走査光学装置を示す斜視図
である。
である。
【図７】図７は従来例に係る半導体レーザの構造図であ
る。
る。
【図８】図８は従来例に係るマルチビーム走査方式の走
査光学装置における組付け模式図である。
査光学装置における組付け模式図である。
【図９】図９は従来例に係る走査光学装置の主要部を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図１０】図１０は従来例に係るレーザユニットまわり
の投影図である。
の投影図である。
３０ レーザユニット ３１ ポリゴンミラー ３２ 走査レンズ ３３ 折り返しミラー ３４ ＢＤミラー ３５ ＢＤユニット ３６ 光学箱 ３７ シリンダレンズ ３８ コリメートレンズ ３９ 半導体レーザ ４０ レーザチップ ４１ 窓 ４２ フォトダイオード ４３ 発光点 ４４ 取付ネジ ４５ 鏡筒 ４６ ホルダー ４７ レーザスポット ４８ 副走査成分 ４９ 嵌合部 ５０ ＢＤレンズ ５１ ＢＤセンサＩＣ ５２ 受光面 ５３ ＢＤスリット ５４ レーザＰＣＢ １００ 走査光学装置 １０１ 感光ドラム １０２ 帯電手段 １０３ レーザビーム １０７ 現像手段 １０８ 転写手段 １０９ 用紙カセット １１０ 給紙ローラ １１２ 用紙 １１３ 定着ローラ １１４ 加圧ローラ １１６ 排出ローラ対
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古沢 浩二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 中島 伸夫 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA37 AA45 AA48 BA61 BA69 BA89 BA90 BB30 BB31 2H045 BA23 BA33 CA88 DA02 5C072 AA03 CA06 DA02 DA21 DA23 HA02 HA13 HB10 HB13 JA07
Claims (6)
- 【請求項１】 レーザ光を発する光源ユニットと、 前記光源ユニットからのレーザ光束を偏向走査する偏向
手段と、 前記偏向手段により走査されたレーザ光束を被走査面上
に結像する結像光学手段と、 前記偏向手段により走査されたレーザ光束を検知し、該
レーザ光束の主走査方向の同期信号を出力する同期検知
手段と、 少なくとも前記偏向手段と前記結像光学手段とを収容す
る光学箱と、 を有し、 前記光源ユニットと前記同期検知手段とを一体に構成し
た走査光学装置において、 前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検知位置
における該レーザ光束の副走査方向のスポット径と主走
査方向のスポット径との比が略２：１〜１００：１とな
る副走査方向に長いレーザ光束を形成することを特徴と
する走査光学装置。 - 【請求項２】 前記光源ユニットにおけるレーザ光の発
光点と前記光検知位置とが主走査方向に共役関係にない
ことを特徴とする請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項３】 複数のレーザ光を発するマルチビーム光
源ユニットと、 前記マルチビーム光源ユニットからの複数のレーザ光束
を偏向走査する偏向手段と、 前記偏向手段により走査されたレーザ光束を被走査面上
に結像する結像光学手段と、 前記偏向手段により走査された複数のレーザ光束を検知
し、該複数のレーザ光束の主走査方向の同期信号を出力
する同期検知手段と、 少なくとも前記偏向手段と前記結像光学手段とを収容す
る光学箱と、 を有し、 前記マルチビーム光源ユニットと前記同期検知手段とを
一体に構成するとともに、前記マルチビーム光源ユニッ
トをその光軸のまわりに回転させることによって、前記
被走査面上に走査された複数のレーザ光束の間隔を調整
する走査光学装置において、 前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検知位置
における該レーザ光束の副走査方向のスポット径と主走
査方向のスポット径との比が略２：１〜１００：１とな
る副走査方向に長いレーザ光束を形成することを特徴と
する走査光学装置。 - 【請求項４】 前記マルチビーム光源ユニットにおける
レーザ光の発光点と前記光検知位置とが主走査方向に共
役関係にないことを特徴とする請求項３記載の走査光学
装置。 - 【請求項５】 光導電性の像担持体と、前記像担持体を
均一に帯電する帯電手段と、 レーザ光を発する光源ユニットと、 前記光源ユニットからのレーザ光束を偏向走査する偏向
手段と、 前記偏向手段により走査されたレーザ光束を前記像担持
体面上に結像する結像光学手段と、 前記偏向手段により走査されたレーザ光束を検知し、該
レーザ光束の主走査方向の同期信号を出力する同期検知
手段と、 帯電された前記像担持体面上に前記レーザ光束を走査す
ることにより形成された静電潜像を現像する現像手段
と、 前記現像像を被転写材に転写する転写手段と、 前記被転写材上に転写された未定着画像を定着させる定
着手段と、 を有し、 前記光源ユニットと前記同期検知手段とを一体に構成し
た画像形成装置において、 前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検知位置
における該レーザ光束の副走査方向のスポット径と主走
査方向のスポット径との比が略２：１〜１００：１とな
る副走査方向に長いレーザ光束を形成することを特徴と
する画像形成装置。 - 【請求項６】 光導電性の像担持体と、 前記像担持体を均一に帯電する帯電手段と、 複数のレーザ光を発するマルチビーム光源ユニットと、 前記マルチビーム光源ユニットからの複数のレーザ光束
を偏向走査する偏向手段と、 前記偏向手段により走査されたレーザ光束を前記像担持
体面上に結像する結像光学手段と、 前記偏向手段により走査された複数のレーザ光束を検知
し、該複数のレーザ光束の主走査方向の同期信号を出力
する同期検知手段と、 帯電された前記像担持体面上に前記レーザ光束を走査す
ることにより形成された静電潜像を現像する現像手段
と、 前記現像像を被転写材に転写する転写手段と、 前記被転写材上に転写された未定着画像を定着させる定
着手段と、 を有し、 前記マルチビーム光源ユニットと前記同期検知手段とを
一体に構成するとともに、前記マルチビーム光源ユニッ
トをその光軸のまわりに回転させることによって、前記
被走査面上に走査された複数のレーザ光束の間隔を調整
する画像形成装置において、 前記レーザ光束を前記同期検知手段が検知する検知位置
における該レーザ光束の副走査方向のスポット径と主走
査方向のスポット径との比が略２：１〜１００：１とな
る副走査方向に長いレーザ光束を形成することを特徴と
する画像形成装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000387810A JP4551560B2 (ja) | 2000-12-20 | 2000-12-20 | 走査光学装置及び画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002189180A true JP2002189180A (ja) | 2002-07-05 |
| JP4551560B2 JP4551560B2 (ja) | 2010-09-29 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000387810A Expired - Fee Related JP4551560B2 (ja) | 2000-12-20 | 2000-12-20 | 走査光学装置及び画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4551560B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6969846B2 (en) | 2002-02-28 | 2005-11-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Light source unit and scanning optical apparatus using the same |
| US7321380B2 (en) | 2003-03-07 | 2008-01-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser emitter and laser scanning device |
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| US8723910B2 (en) | 2011-12-08 | 2014-05-13 | Kyocera Document Solutions Inc. | Optical scanning device and image forming apparatus using same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4551560B2 (ja) | 2010-09-29 |
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