JP2002188967A - 磁場依存性を有する温度計の磁場校正方法 - Google Patents

磁場依存性を有する温度計の磁場校正方法

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    • G01K15/00Testing or calibrating of thermometers

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁場依存性を有する温度計を、容易に磁場校
正することができる方法を提供する。 【解決手段】 磁場依存性を有しない物性値を有する物
質のこの物性値の温度依存特性を測定し(手順1)、磁
場中の各温度において、物質と磁場校正しようとする磁
場依存性を有する温度計とを同一の温度に保ち(手順
2)、温度計の指示温度を求めると共に、磁場依存性の
ない測定方法によって物性値を測定し(手順3)、この
物性値と物性値の温度依存特性とから温度を求め、この
温度と上記指示温度とから、磁場中の各温度における磁
場依存性を有する温度計の磁場校正値を得る(手順
4)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、磁場依存性を有
する温度計の磁場校正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】極低温、強磁場中での精密な温度測定を
必要とする技術分野、例えば、超伝導体の研究開発分
野、又はその製造分野においては、抵抗温度計が一般に
使用されている。抵抗温度計は、薄膜抵抗値の温度依存
性を利用して、温度を測定するものであるが、形状が小
さいため、複雑な装置の局所及び狭所に取り付けること
ができ、また、温度変化に対する応答が早いため、上記
技術分野においては、必要不可欠な温度計である。この
抵抗温度計では、例えば、薄膜材料として窒化ジルコニ
ウム・オキサイドを使用し、大きさが0.75×1.0
×0.25mmと言った小型のものも市販されている。
【0003】ところで、抵抗温度計の抵抗値は、温度に
よって変化するのみならず、印加する磁場によっても磁
気抵抗効果により変化するので、真の温度を求めるに
は、抵抗温度計の磁場校正値を必要とする。しかしなが
ら、市販の抵抗温度計に添付されている磁場校正値は限
られた温度、限られた磁場強度における校正値でしかな
く、使用目的によっては使用できない。また、使用する
磁場強度が著しく大きい場合には、その様な強磁場での
校正値が知られていない。このような場合、必要とする
強磁場中において、磁場依存性を有しない温度計と抵抗
温度計を同一の温度に保ち、磁場依存性を有しない温度
計の指示温度と抵抗温度計の指示温度との差を磁場校正
値として得ればよいのであるが、極低温から室温まで広
い範囲をカバーできるもので、磁場依存性をもたず、か
つ、十分な精度を有する温度計は存在しない。例えば、
磁場依存性を有しない温度計として、静電容量の温度依
存性を利用するキャパシタンス温度計があるが、この温
度計は、熱ストレスに弱く、室温から極低温の広い範囲
をカバーしつつ精度の高い測定をすることができない。
【0004】このため、超伝導体の研究開発,製造等の
技術分野におけるように、極低温強磁場中において、精
密な温度測定、及び、高速かつ微小な温度変化の検知を
必要とする技術分野において、重大な支障を来してい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題に
鑑み、磁場依存性を有する温度計を容易にかつ高精度に
磁場校正することができる方法を提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の磁場依存性を有する温度計の磁場校正方法
は、磁場依存性を有しない物性値を有する物質の、この
物性値の温度依存特性を測定し、磁場中の各温度におい
て、上記物性値を有する物質と磁場校正しようとする磁
場依存性を有する温度計とを同一の温度に保ち、磁場依
存性を有する温度計の指示温度を求めると共に磁場依存
性のない測定方法によって上記物性値を測定し、この物
性値と上記物性値の温度依存特性とから温度を求め、こ
の温度と磁場依存性を有する温度計の指示温度とから、
磁場中の各温度における磁場依存性を有する温度計の磁
場校正値を得ることを特徴とする。本発明において、磁
場依存性を有しない物性値を有する物質が、非磁性体か
つ非超伝導体物質から成る固体物質であり、磁場依存性
を有しない物性値が、この物質の比熱であることを特徴
とする。また、磁場依存性を有する温度計が、抵抗温度
計であることを特徴とする。さらに、磁場依存性のない
測定方法は、熱緩和時間法による比熱測定法であること
を特徴とする。
【0007】上記構成によれば、固体の比熱が室温以下
の温度において著しい温度依存性を有しているから、比
熱の温度特性を得ることにより、比熱から温度がわか
る。また、非磁性体かつ非超伝導物質から成る固体の比
熱は磁場によって変化しないから、磁場中であっても比
熱が測定できれば温度がわかる。印加する磁場中の各温
度において、磁場依存性を有する抵抗温度計と固体とを
同一の温度に保ち、抵抗温度計の指示温度を求めると共
に、磁場の影響を受けずに比熱が測定できる熱緩和時間
法によって比熱を測定するから、この比熱から温度がわ
かり、この温度とこの温度に対応する抵抗温度計の指示
温度とから、印加磁場中の各温度における磁場校正値を
得ることができる。すなわち、本発明によれば、磁場依
存性を有する抵抗温度計の磁場校正が容易にかつ高精度
にでき、極低温強磁場中での温度測定が可能になる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を好適な実施の形態
に基づいて詳細に説明する。初めに、本実施の形態で使
用する比熱測定用の物質について説明する。図1は、固
体の比熱の温度依存性を示したものである。固体の比熱
Cvは、格子比熱と電子比熱との和から成るが、格子比
熱が支配的である。格子比熱は、量子化された格子振
動、すなわち、フォノンがBose−Einstein
統計に従うことから、図1に示すように室温以下の温度
において、著しい温度依存特性を有している。さらに、
固体を構成する物質が磁性体でなければ、格子比熱の温
度依存特性は磁場に依存せず一定である。また、電子比
熱の温度依存特性は、固体を構成する物質が磁性体、及
び超伝導体でなければ磁場に依存せずに一定である。す
なわち、本実施の形態で使用する比熱測定用の物質は、
非磁性体、かつ、非超伝導物質からなる固体である。
【0009】次に、比熱測定の例として熱緩和時間法に
よる測定法について説明する。図2は、熱緩和時間法に
よる比熱測定装置の概念図である。図2において、非磁
性体、かつ非超伝導物質からなる比熱測定用の固体1
は、、固体1と熱的接触を良好に保ちつつ既値の熱容量
Cs(ジュール/g・K)を有する試料台2に搭載され
る。この試料台2は、温度計4とヒーター5を有し、既
値の熱コンダクタンス(ジュール/sec・K)を有す
る複数の線材3を介して両側に配置した熱浴6に吊され
ている。各熱浴6は、温度計7を有し、熱源8と熱的に
接触している。これらの比熱測定用構成部材は真空容器
9に内包されている。この真空容器9は、試料台2、線
材3、熱浴6とともに非磁性材料で形成されている。な
お、ヒーター5への電力の供給、及び温度計4の信号の
出力は、線材3を介しておこなわれるようになってい
る。また、図示しないが、ヒーター5及び温度計4,7
は、外部に設置する電源及び計測器にそれぞれ接続され
ている。
【0010】この比熱測定装置を用いて熱緩和時間法に
よる比熱測定を行う場合、熱源8を所定の温度に冷却し
た後、試料台2のヒーター5に所定の電力で所定の時
間、通電し、固体1及び試料台2の温度を上昇させる。
熱浴6の温度をTb、試料台2の温度をTとすると、単
位時間当たりの、比熱測定用の固体1及び試料台2から
熱浴6に線材3を介して移動する熱エネルギーは、複数
の線材3の全熱コンダクタンスをKw(ジュール/K・
sec)とすると、 Kw・(T−Tb) (1)式 である。
【0011】一方、固体1及び試料台2の比熱をCv及
びCsとし、また、固体1及び試料台2が、それぞれ単
位質量、すなわち、1g(グラム)であるとし、Δt時
間にΔTの温度降下があったとすれば、単位時間に固体
1及び試料台2が線材3に放出した熱エネルギーの量
は、 (Cv+Cs)・ΔT/Δt (2)式 であり、この量は、(1)式の量と等しいから、任意の
時間、温度において、 (Cv+Cs)・dT/dt=−Kw・(T−Tb) (3)式 の関係が成り立つ。
【0012】(3)式から、試料台2の温度Tは、 T=A・exp(−t/τ)+Tb (4)式 但し:τ=(Cv+Cs)/Kw (5)式 :Aは定数、 に従って緩和することがわかる。従って、温度Tの時間
に対する熱緩和曲線の勾配から時定数を求め、(5)式
と比較することによって、また、Cs及びKwが既知で
あることから、固体1の比熱Cvを求めることができ
る。
【0013】次に、温度計が磁場依存性を有していても
時定数から求める比熱は精度が高いことを説明する。図
3は、時定数から求める比熱の精度を説明する図であ
る。図3において、曲線A,Bは、試料台2のヒーター
5に所定の電力で所定の時間、通電し、固体1及び試料
台2の温度を上昇させた後の熱緩和曲線を示し、Aは真
の熱緩和曲線、Bは磁場依存性を有する温度計4で測定
した熱緩和曲線を示す。なお、縦軸は温度、横軸は時間
を示している。
【0014】試料台2の温度Tを測定する温度計4は、
磁場依存性を有しており、磁場中では真の温度を示さな
い。温度計4が、例えば磁場Hにおいて真の温度T1
2に対し、T1 +δT1 、T2 +δT2 を指示すると
すれば、図3のBの熱緩和曲線が得られる。熱緩和曲線
Bの勾配Kは、図3の時刻t1 、t2 において、 K={(T2 +δT2 )−(T1 +δT1 )}/(t2 −t1 ) ={T2 −T1 +δT2 −δT1 }/(t2 −t1 ) (6)式 となり、温度計4の指示温度の磁場による誤差、δ
1 、δT2 は、δT2 −δT1 として勾配Kに寄与す
る。温度T1 、T2 が十分近接していれば、δT1 、δ
2 は十分近接した値となり、δT2 −δT1 は小さく
できる。すなわち、温度変化に対して十分高感度な温度
計を使用し、十分近接した温度範囲における勾配から時
定数を求め、この時定数から比熱を求めるので、十分な
精度で比熱を求めることができ、この比熱から十分な精
度で温度を求めることができる。
【0015】本実施の形態においては、上記に説明した
ように、磁場に影響されないで比熱を求めることができ
る熱緩和時間法によって比熱を測定し、この比熱から温
度を求め、この温度を用いて、磁場依存性を有する温度
計の磁場校正を行うことを特徴とする。
【0016】次に、本実施の形態における、磁場依存性
を有する抵抗温度計の磁場校正方法の手順を説明する。
図4は、本実施の形態の磁場依存性を有する抵抗温度計
の磁場校正方法の手順を説明する図である。手順1にお
いて、無磁場中において、磁場依存性のない比熱を有す
る物質の比熱を、絶対温度0K〜室温付近までの各温度
において測定し、この物質の比熱の温度依存特性曲線を
求める。
【0017】手順2において、上記磁場依存性のない比
熱を有する物質を熱緩和時間法による比熱測定器の試料
台に取り付けると共に、この比熱計の熱浴に、磁場校正
しようとする抵抗温度計を熱接触良く取り付ける。
【0018】手順3において、上記熱緩和時間法による
比熱測定器の熱源を、絶対温度0K〜室温付近までの各
温度に設定し、各温度において、磁場Hを上記比熱測定
器に印加した状態で、熱緩和時間法により比熱を求め、
同時に、磁場校正しようとする抵抗温度計の指示温度を
求める。
【0019】手順4において、手順3で求めた熱緩和時
間法による比熱と手順1で求めた比熱の温度依存特性曲
線とを対比して、比熱に対応する真の温度を特定し、こ
の真の温度と手順3で同時に求めた抵抗温度計の指示温
度との差から、磁場強度H中における抵抗温度計の磁場
校正値を求める。
【0020】上記手順によれば、無磁場中で、磁場依存
性のない比熱の温度依存特性を測定するから、容易に、
比熱の温度依存特性曲線を得ることができ、この温度依
存特性曲線を利用すれば、比熱から正確な温度がわか
る。熱緩和時間法によって比熱を測定するから磁場中に
おいても正確な比熱がわかる。そして、正確な比熱がわ
かるから、正確な温度がわかり、抵抗温度計の磁場中に
おける指示温度の磁場校正値を得ることができる。この
磁場校正値を用いれば、磁場中においても抵抗温度計で
正確な温度を測定することができる。
【0021】次に、本実施の形態の一実施例を説明す
る。図5は、本発明の磁場依存性を有する温度計の磁場
校正方法により求めた抵抗温度計の磁場校正結果を示す
図である。窒化ジルコニウウム・オキサイド薄膜抵抗で
構成される市販の抵抗温度計を磁場校正した。磁場依存
性を有しない比熱を有する固体として、非磁性体かつ非
超伝導体物質であるアルミナを使用した。印加磁場は1
4T(テスラ)である。図5において、横軸は、この抵
抗温度計の指示温度である。縦軸は、本発明の磁場依存
性を有する温度計の磁場校正方法により求めた、磁場強
度14T(テスラ)中における校正値である。すなわ
ち、この温度計の指示温度(横軸)に、縦軸で示される
校正値を加えることにより、真の温度を求めることがで
きる
【0022】図5において、○は、本発明の方法によっ
て求めた校正値である。●は、同等の窒化ジルコニウウ
ム・オキサイド薄膜抵抗で形成された抵抗温度計を他の
方法(磁場依存性のない温度計としてキャパシタンス温
度計を使用して磁場校正している。Rev.Sci.I
nst.70(1999)104)で求めた校正値であ
り、比較のために掲載している。図中の文献値の縦バー
はばらつきの程度を示している。
【0023】図5から明らかなように、本発明の方法に
よって求めた校正値と文献の比較値は傾向が良く一致し
ており、また、本発明の方法によって求めた校正値は文
献値より細かな温度刻みで構成されている。これは前述
したように、キャパシタンス温度計は熱ストレスに弱い
ため、広範囲に温度を振れないためである。また、キャ
パシタンス温度計を使用する従来の校正法は、熱ストレ
スを避けるため、一定温度のもとで磁場を変化させ、一
定磁場のもとで温度を変化させる必要があり、稠密な温
度間隔で磁場校正を行う場合には、本発明の方法に較べ
遙かに長時間を要する。
【0024】上記説明では、磁場依存性を有しない物性
値の温度依存性として、比熱の温度依存性を利用した
が、比熱に限らず、磁場依存性を有しない物性値であ
り、かつ、温度依存性を有する物性値であれば、同様な
方法で、磁場依存性を有する温度計の磁場校正が可能な
ことは明らかである。また、磁場依存性を有する温度計
として抵抗温度計を例に説明したが、本発明によれば、
抵抗温度計に限らず、各種の温度計の磁場校正が同様に
可能であることは明らかである。
【0025】
【発明の効果】上記説明から理解されるように、本発明
の磁場依存性を有する温度計の校正方法によれば、磁場
依存性を有する温度計を高精度かつ容易に磁場校正する
ことができる。このようにして抵抗温度計の磁場校正値
が得られれば、磁場中でも、抵抗温度計を、局所かつ狭
所の温度測定が可能で、かつ、急激な温度変化が測定で
きる温度計として使用できるようになる。かくして、本
発明法を極低温、かつ、強磁場中の温度測定を必要とす
る技術分野に使用すれば、極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】固体の比熱の温度依存性を示したグラフであ
る。
【図2】熱緩和時間法による比熱測定装置の概念図であ
る。
【図3】時定数から求める比熱の精度を説明するグラフ
である。
【図4】本実施の形態の磁場依存性を有する抵抗温度計
の磁場校正方法の手順を説明する図である。
【図5】本発明の磁場依存性を有する温度計の磁場校正
方法により求めた抵抗温度計の磁場校正結果を示すグラ
フである。
【符号の説明】
1 磁場依存性を有しない比熱を有する物質 2 試料台 3 線材 4 温度計 5 ヒーター 6 熱浴 7 温度計 8 熱源 9 真空容器 N 単位体積当たり原子数 kB ボルツマン定数 K 勾配
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (74)上記1名の復代理人 100082876 弁理士 平山 一幸 (72)発明者 田中 康資 茨城県つくば市梅園1丁目1番4 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 伊豫 彰 茨城県つくば市梅園1丁目1番4 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 白川 直樹 茨城県つくば市梅園1丁目1番4 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 池田 伸一 茨城県つくば市梅園1丁目1番4 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 伊原 英雄 茨城県つくば市梅園1丁目1番4 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 常盤 和靖 千葉県松戸市大金平1−15 ライフピア北 小金305号室 (72)発明者 渡辺 恒夫 東京都小金井市貫井北町2−8−12 (72)発明者 上村 彰 東京都板橋区南常盤台2−21−14 メゾ ン・ド・マドーヌ401号 (72)発明者 ジョン エリス マッカーサー ザ サー ド 埼玉県所沢市大字上新井890−14 Fターム(参考) 2F056 XA07 XA10

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁場依存性を有しない物性値を有する物
    質の該物性値の温度依存特性を測定し、 磁場中の各温度において、上記物質と磁場校正しようと
    する磁場依存性を有する温度計とを同一の温度に保ち、
    上記温度計の指示温度を求めると共に磁場依存性のない
    測定方法によって上記物性値を測定し、この物性値と上
    記物性値の温度依存特性とを対比して温度を求め、 この温度と上記指示温度とから、上記磁場中の各温度に
    おける上記磁場依存性を有する温度計の磁場校正値を得
    ることを特徴とする、磁場依存性を有する温度計の磁場
    校正方法。
  2. 【請求項2】 前記磁場依存性を有しない物性値を有す
    る物質が、非磁性体かつ非超伝導体物質から成る固体物
    質であり、前記磁場依存性を有しない物性値が、上記物
    質の比熱であることを特徴とする、請求項1に記載の磁
    場依存性を有する温度計の磁場校正方法。
  3. 【請求項3】 前記磁場依存性を有する温度計が、抵抗
    温度計であることを特徴とする、請求項1に記載の磁場
    依存性を有する温度計の磁場校正方法。
  4. 【請求項4】 前記磁場依存性のない測定方法は、熱緩
    和時間法による比熱測定法であることを特徴とする、請
    求項1に記載の磁場依存性を有する温度計の磁場校正方
    法。
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