JP2002187874A - 新しいジ−第四級アンモニウム化合物 - Google Patents

新しいジ−第四級アンモニウム化合物

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JP2002187874A JP2001287663A JP2001287663A JP2002187874A JP 2002187874 A JP2002187874 A JP 2002187874A JP 2001287663 A JP2001287663 A JP 2001287663A JP 2001287663 A JP2001287663 A JP 2001287663A JP 2002187874 A JP2002187874 A JP 2002187874A
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Fernand Hoffstetter
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 抗菌剤、消毒薬及び保存料として用い得る新
規なジ−第四級アンモニウム化合物を提供する事であ
る。 【解決手段】 式(1): 【化14】 (式中、R1はC5〜C16アルキル等であり、R4はC4
16アルキル等であり、R2、R3、R5及びR6は独立に
1〜C4アルキルであり、そしてAは1価のアニオンで
ある)で示されるジ−第四級アンモニウム化合物、その
製造方法、並びに抗菌剤、消毒薬及び保存料としてのそ
の使用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新しいジ−第四級
アンモニウム化合物、その製造方法、グラム陽性及びグ
ラム陰性細菌、酵母、真菌及び藻類に対する抗菌剤とし
てのその使用、消毒薬及び保存料としてのその使用、並
びに工業的使用、化粧品用途及び衛生上の用途のための
処方の調製におけるその使用に関する。
【0002】
【発明の説明】本発明のジ−第四級アンモニウム化合物
は、式(1):
【0003】
【化7】
【0004】〔式中、R1は、C5〜C16アルキル、フェ
ニル又はフェニル−C1〜C10アルキルであり、R4は、
4〜C16アルキル、フェニル又はフェニル−C1〜C10
アルキルであり、R2、R3、R5及びR6は、それぞれ他
と独立に、C1〜C4アルキルであり、そしてAは、1価
のアニオンである(ただし、R1及びR4が、ベンジルで
あり、そしてR2、R3、R5及びR6が、同一であり、か
つメチル又はn−プロピルであるとき、Aは、Br-
はI-ではない)〕に対応する。
【0005】C4〜C16アルキル基は、非分岐又は分岐
のアルキル基、例えば、n−ブチル、sec−ブチル、ter
t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、
ドデシル又はヘキサデシルである。
【0006】C5〜C16アルキル基は、非分岐又は分岐
のアルキル基、例えば、ペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル、ドデシル又はヘキサデシルである。
【0007】フェニル−C1〜C10アルキルは、例え
ば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、フェニ
ルイソプロピル、フェニルブチル、フェニル−sec−ブ
チル、フェニル−tert−ブチル又はフェニルデシルであ
る。
【0008】C1〜C4アルキル基は、非分岐又は分岐の
アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、sec−ブチル又はtert−ブチル
である。
【0009】Aは、1価のアニオン、例えば、F-、C
-、Br-若しくはI-のようなハロゲン化物アニオ
ン、又は無機若しくは有機基、例えば、炭酸水素塩、硝
酸塩、硫酸水素塩、塩素酸塩、リン酸二水素塩、ギ酸
塩、酢酸塩、若しくは硫酸水素p−トルエン塩から形成
され得る基である。ハロゲン化物アニオンとして好まし
いのは、Cl-である。
【0010】置換基R1、R2、R3、R4、R5及びR
6は、それぞれ他と独立であってよく、かつ上記の意味
を有する。好ましいものは、式(1′):
【0011】
【化8】
【0012】で示される、R1とR4、R2とR5、及びR
3とR6が、同一である、ジ−第四級アンモニウム化合物
である。
【0013】重要なものは、R1が、C5〜C16アルキ
ル、好ましくは非分岐のC5〜C16アルキル、そして特
にC6−、C8−、C12−又はC16−アルキルである、式
(1′)の化合物である。
【0014】また、R2及びR3が、それぞれ他と独立
に、非分岐のC1〜C4アルキル、特にCH3基である、
式(1′)の化合物も重要である。
【0015】特に重要なものは、Aが、ハロゲン化物ア
ニオン、特にCl-である、式(1′)の上記化合物、
好ましくは下記の式(2)、(3)、(4)及び
(5):
【0016】
【化9】
【0017】で示される化合物である。
【0018】式(1)及び(1′)のジ−第四級アンモ
ニウム化合物の調製のための本発明のプロセスは、式
(6):
【0019】
【化10】
【0020】〔式中、Xは、フッ素、塩素、臭素若しく
はヨウ素のようなハロゲン、又は1価の無機若しくは有
機アニオン形成性脱離基、例えば、−CO3H、−N
3、−SO4H、−ClO3、−PO42、−COO
H、−COOCH3若しくは−SO3(C64)CH3
ある〕で示されるビフェニル化合物と、式(7):
【0021】
【化11】
【0022】〔式中、R1、R2及びR3は、それぞれ他
と独立に、上記と同義である〕で示されるアミノ化合
物、及び式(8):
【0023】
【化12】
【0024】〔式中、R4、R5及びR6は、それぞれ他
と独立に、上記と同義である〕で示される更に別のアミ
ノ化合物との第四級化反応を含むことを特徴とする。
【0025】式(1)のジ−第四級アンモニウム化合物
の調製のための一般的プロセスにおいて、ビフェニル化
合物(6)の反応は、二つの異なるアミノ化合物(7)
及び(8)と行われ、それによって、三種までの異なる
生成物の混合物が得られるが、これらは、所望であれ
ば、例えば、クロマトグラフィー法により、分離するこ
とができる。
【0026】式(1′)のジ−第四級アンモニウム化合
物の製造プロセスにおいて、ビフェニル化合物(6)
の、例えば式(7)のアミノ化合物との反応は、好まし
くは極性溶媒中で、加熱しながら行われるが、溶媒とし
ては、例えば、水、アルコール(例えば、メタノール、
エタノール又はイソプロパノール)、ケトン(例えば、
アセトン)、若しくはDMF、DMSO、又は二種以上
のこのような溶媒の混合物が可能である。アミノ化合物
(7)は、好ましくはビフェニル化合物(6)に対して
化学量論比で又は化学量論過剰に使用される。特に適切
な式(7)のアミノ化合物は、R1が、非分岐のC5〜C
16アルキルであり、そしてR2及びR3が、それぞれCH
3基である化合物である。例えば、N,N′−ジメチル
ヘキシルアミンを水に導入し、そして約60〜90℃ま
で加熱する。適切な溶媒、例えば、イソプロパノール中
の、Xが、好ましくはハロゲンであり、そして特に−C
lである、式(6)のビフェニル化合物、例えば、ビス
(クロロメチル)ビフェニルを、約40〜80分のうち
に、計量しながら供給する。比較的長期間(例えば約2
時間)撹拌後、イソプロパノールを約80〜110℃で
留去し、それと同時に水を滴下によりこの混合物に加え
る。濃縮後、残渣を真空で乾燥させることにより、ジ−
第四級アンモニウムを得るが、これは、上記の例では、
式(2)に対応する。本発明の製造プロセスに関する更
なる詳細は、対応する実施例で与えられる。
【0027】製造プロセスにおいて使用される式(6)
のビフェニル化合物は、既知であるか、又はそれ自体既
知の方法で調製することができる;例えばこれらは、Z
nCl2の存在下のビフェニル、ホルムアルデヒド、及
びHClからのブラン(Blanc)のクロロメチル化反応
により調製することができる(例えば、DE-A-1,793,48
2)。
【0028】本発明はまた、式(1):
【0029】
【化13】
【0030】〔式中、R1及びR4は、それぞれ他と独立
に、C4〜C16アルキル、フェニル又はフェニル−C1
10アルキルであり、R2、R3、R5及びR6は、それぞ
れ他と独立に、C1〜C4アルキルであり、そしてAは、
1価のアニオンである〕で示されるジ−第四級アンモニ
ウム化合物の、抗菌剤、消毒薬及び保存料としての使用
に関する。
【0031】このジ−第四級アンモニウム化合物は、特
にグラム陽性及びグラム陰性細菌に対して、皮膚微生物
叢の細菌に対して、酵母及びかびに対して、更には藻類
に対しても、顕著な抗菌作用を示す。よってこれらは、
抗菌剤として、消毒薬として及び保存料として適してい
る。
【0032】これらは、特に皮膚、粘膜及び毛の、消
毒、脱臭並びに一般的及び抗菌的処理に、とりわけ、
手、傷及び喉の消毒に適している。更には、低濃度であ
ってもなお、抗菌活性が保証されることが証明されてい
る。
【0033】これらはまた、パーソナルケア用調製品、
シャンプー、浴用添加剤、ヘアケア用調製品、化粧用及
び医薬用石鹸、ローション、クリーム、脱臭薬、又はク
レンジング液のような、固体又は液体処方における使用
に;洗浄液又は濯ぎ液(例えば、家庭内及び衛生領域、
例えば、病院、退職者ホーム又は医者の手術における経
口使用のための)に;並びに家庭内、産業及び衛生領域
(hygiene sector)における表面用の清浄化及び消毒用
調製品における使用に適している。
【0034】これらは更に、冷却システム、紙処理機及
びスイミングプールのような工業的設備に抗菌性を付与
するのに、並びに細菌、真菌及び藻類の増殖を減少させ
る目的の抗菌性水処理に、及びスライムを制御するのに
適している。更に、これらは、材料、例えば、空気及び
水フィルターのフィルター材料;繊維材料、例えば、セ
ルロース繊維、木綿、絹、羊毛、ポリアミド繊維;プラ
スチック、例えば、包帯材料、カテーテル及びシリンジ
の保存に、並びに紙、木、革、塗料及び表面コーティン
グの保存に適している。これらは更に、食料又は飲料、
例えば、ビールの保存に適している。
【0035】処方の調製のための前記応用をいくつか下
記に列挙する:手用の消毒用調製品は、例えば、下記の
組成を有する:0.01〜0.5重量%の式(1)の化
合物 60重量%のイソプロパノール 0.1重量%の香油、及び100%までの水。
【0036】パーソナルケア用調製品は、例えば、組成
物の総重量に基づき、0.01〜15重量%、好ましく
は0.1〜10重量%の式(1)のジ−第四級アンモニ
ウム化合物及び化粧品として許容しうる補助剤を含む。
【0037】パーソナルケア調製品の形態に応じて、こ
の調製品は、式(1)のジ−第四級アンモニウム化合物
に加えて、金属イオン封鎖剤、着色料、香油、増粘剤又
は凝固剤(粘稠度調節剤)、皮膚軟化剤(emollien
t)、UV吸収剤、皮膚保護剤、抗酸化剤、ジカルボン
酸及び/又はC14〜C22脂肪酸のアルミニウム、亜鉛、
カルシウム若しくはマグネシウム塩のような機械的性質
を改善する添加剤、並びに場合により保存料のような、
更に別の構成成分を含む。
【0038】パーソナルケア調製品は、油中水型若しく
は水中油型エマルション、アルコール性若しくはアルコ
ール含有処方、イオン性若しくは非イオン性両親媒性脂
質の小胞分散液、ゲル、固体スティック又はエーロゾル
処方の形態であってよい。
【0039】油中水型又は水中油型エマルションとし
て、化粧品として許容しうる補助剤は、好ましくは5〜
50%の油相、5〜20%の乳化剤及び30〜90%の
水を含む。油相は、化粧品処方に適切な任意の油、例え
ば、一種以上の炭化水素油、ロウ、天然油、シリコーン
油、脂肪酸エステル又は脂肪アルコールを含んでもよ
い。好ましいモノ−又はポリ−オールは、エタノール、
イソプロパノール、プロピレングリコール、ヘキシレン
グリコール、グリセリン及びソルビトールである。
【0040】化粧品処方は、種々の分野において使用す
ることができる。例えば、特に下記調製品が考慮され
る: ・スキンケア調製品、例えば、錠剤型若しくは液体石
鹸、合成洗剤又は洗浄ペーストの形態の皮膚洗浄及びク
レンジング調製品、 ・浴用調製品、例えば、液体(泡風呂、ミルク、シャワ
ー用調製品)又は固体浴用調製品、例えばバスキューブ
及びバスソルト; ・スキンケア用調製品、例えば、皮膚用エマルション、
多層エマルション又は皮膚用オイル; ・化粧品パーソナルケア調製品、例えば、デイクリーム
又はパウダークリームの形態の顔用メークアップ、フェ
イスパウダー(ルース又は固形)、紅又はクリーム状メ
ークアップ、アイケア調製品、例えば、アイシャドウ調
製品、マスカラ、アイライナー、アイクリーム又はアイ
フィックス(eye-fix)クリーム;リップケア調製品、
例えば、口紅、リップグロス、リップ輪郭ペンシル;マ
ニキュア、マニキュア除光液、爪硬化剤又は甘皮リムー
バーのようなネールケア調製品; ・下着用衛生調製品、例えば、下着用洗浄ローション又
は下着用スプレー;・フットケア調製品、例えば、足
浴、足用パウダー、フットクリーム又は足用バルサム、
足専用脱臭薬及び制汗薬又はたこ除去用調製品; ・サンミルク、ローション、クリーム若しくはオイル、
日焼け止め又はトロピカル(オイル)のような光保護調
製品、日焼け前用調製品又は日焼け後用調製品; ・サンタン用調製品、例えば、自己サンタン(self-tan
ning)クリーム; ・脱色用調製品、例えば、皮膚を漂白するための調製品
又は皮膚ライトニング用(skin-lightening)調製品; ・防虫薬、例えば、防虫オイル、ローション、スプレー
又はスティック; ・脱臭性スプレー、ポンプ式スプレー、脱臭性ゲル、ス
ティック又はロールオンのような脱臭薬; ・制汗薬、例えば、制汗性スティック、クリーム又はロ
ールオン; ・吹き出物のある皮膚のクレンジング及び手入れ用調製
品、例えば、合成洗剤(固体又は液体)、ピーリング若
しくはスクラブ用調製品又はピーリングマスク; ・化学的な除毛用調製品(脱毛)、例えば、除毛パウダ
ー、液体除毛用調製品、クリーム−若しくはペースト状
除毛用調製品、ゲル状若しくはエーロゾル泡状の除毛用
調製品; ・ひげ剃り用調製品、例えば、ひげ剃り用石鹸、発泡性
シェービングクリーム、非発泡性シェービングクリー
ム、フォーム及びゲル、ドライシェービング用プレシェ
ーブ調製品、アフターシェーブ又はアフターシェーブロ
ーション; ・芳香性調製品、例えば、香水(オーデコロン、オード
トワレ、オードパルファム、パルファムドトワレ、香
水)、香油又は芳香クリーム; ・歯のケア、義歯のケア及び口腔のケア用調製品、例え
ば、練り歯磨き、ゲル状歯磨き、歯磨き粉、洗口濃縮
液、抗プラーク性洗口液、義歯用洗浄剤又は義歯用固定
剤; ・化粧品毛用調製品、例えば、シャンプー及びコンディ
ショナーの形態の毛洗浄用調製品、ヘアケア用調製品、
例えば、前処理用調製品、ヘアートニック、スタイリン
グクリーム、スタイリングゲル、ポマード、ヘアーリン
ス、トリートメントパック、集中的ヘアートリートメン
ト、毛組織化調製品、例えば、パーマネントウェーブ用
ヘアーウェーブ用調製品(ホットウェーブ、マイルドウ
ェーブ、コールドウェーブ)、直毛化調製品、液体ヘア
ーセット用調製品、ヘアーフォーム、ヘアースプレー、
漂白用調製品、例えば、過酸化水素溶液、ライトニング
シャンプー、漂白クリーム、漂白パウダー、漂白ペース
ト若しくはオイル、一時的、半耐久性若しくは耐久性毛
着色料、自己酸化性染料を含む調製品、又はヘンナ若し
くはカモミールのような天然毛着色料。
【0041】抗菌性石鹸は、例えば、下記の組成を有す
る:0.01〜5重量%の式(1)の化合物 0.3〜1重量%の二酸化チタン、1〜10重量%のス
テアリン酸、100%までの石鹸基剤、例えば、獣脂脂
肪酸若しくはココナツ脂肪酸のナトリウム塩、又はグリ
セリン。
【0042】シャンプーは、例えば、下記の組成を有す
る:0.01〜5重量%の式(1)の化合物、12.0
重量%のラウレス−2硫酸ナトリウム、4.0重量%の
ココアミドプロピルベタイン、3.0重量%のNaCl
及び100%までの水。
【0043】脱臭薬は、例えば、下記の組成を有する:
0.01〜5重量%の式(1)の化合物、60重量%の
エタノール、0.3重量%の香油、及び100%までの
水。
【0044】経口組成物は、例えば、組成物の総重量に
基づき、0.01〜15重量%の式(1)の化合物、及
び経口的に許容しうる補助剤を含む。
【0045】経口組成物の例:10重量%のソルビトー
ル、10重量%のグリセリン、15重量%のエタノー
ル、15重量%のプロピレングリコール、0.5重量%
のラウリル硫酸ナトリウム、0.25重量%のナトリウ
ムメチルココイルタウラート、0.25重量%のポリオ
キシプロピレン/ポリオキシエチレンブロックコポリマ
ー、0.10重量%のペパーミント香料、0.1〜0.
5重量%の式(1)の化合物、及び48.6重量%の
水。
【0046】経口組成物は、例えば、ゲル、ペースト、
クリーム又は水性調製品(洗口液)の形態であってよ
い。
【0047】経口組成物はまた、う蝕の形成に対して有
効なフッ化物イオンを放出する化合物、例えば、無機フ
ッ化物塩、例えばフッ化ナトリウム、フッ化カリウム、
フッ化アンモニウム若しくはフッ化カルシウム、又は有
機フッ化物塩、例えばアミンフッ化物を有してもよい。
【0048】本化合物は、特に清浄化及び消毒のため
の、及び硬質表面の消毒のための、家庭内及び汎用の洗
浄剤中に使用することができる。
【0049】清浄化調製品は、例えば、下記の組成を有
する:0.01〜5重量%の式(1)の化合物 3.0重量%のオクチルアルコール4EO 1.3重量%の脂肪アルコールC8〜C10ポリグルコシ
ド 3.0重量%のイソプロパノール 100%までの水。
【0050】汎用洗浄剤は、例えば、下記の組成を有す
る:0.01〜5重量%の式(1)の化合物 2.9重量%のココアミドプロピルベタイン 3.0重量%のラウリルジメチルアミンオキシド 4.2重量%のラウリル硫酸ナトリウム 4.0重量%のクエン酸ナトリウム 3.0重量%の炭酸ナトリウム 3.0重量%のエタノール 100%までの水。
【0051】万能洗浄剤は、例えば、下記の組成を有す
る:0.1〜5重量%の式(1)の化合物 2.0重量%のココアミドプロピルベタイン 3.0重量%のラウリルジメチルアミンオキシド 6.0重量%のラウリルアルコール9EO 4.0重量%のクエン酸ナトリウム 3.0重量%の炭酸ナトリウム 5.0重量%のクメンスルホン酸ナトリウム 3.0重量%のエタノール 100%までの水。
【0052】浴室洗浄剤は、例えば、下記の組成を有す
る:0.01〜5重量%の式(1)の化合物 1.7重量%のオクチルアルコール4EO 3.5重量%の脂肪アルコールC8〜C10ポリグルコシ
ド 4.8重量%のクエン酸 4.0重量%の酢酸100%までの水。
【0053】食器用洗剤は、例えば、下記の組成を有す
る:0.1〜5重量%の式(1)の化合物 15.0重量%の脂肪アルコールC8〜C10ポリグルコ
シド 7.0重量%のラウリルアルコール9EO 5.0重量%のクメンスルホン酸ナトリウム 3.0重量%のクエン酸 1.0重量%の塩化ナトリウム 3.5重量%の硫酸ナトリウム 100%までの水。
【0054】別の食器用洗剤は、例えば、下記の組成を
有する:0.01〜5重量%の式(1)の化合物 10.0重量%のC14〜C17アルキル−sec−スルホン
酸ナトリウム 20.0重量%の脂肪アルコールC8〜C10ポリグルコ
シド 3.0重量%のラウリルアルコール9EO 5.0重量%のクメンスルホン酸ナトリウム 3.0重量%のクエン酸 100%までの水。
【0055】
【実施例】下記の実施例により本発明を例示する。他に
記載がなければ、部は重量部である。
【0056】式(2)〜(4)のジ−第四級アンモニウ
ム化合物の合成の実施例:
【0057】実施例1:4,4′−ビス(N,N−ジメ
チル−N−ヘキシル−アンモニウムメチル)ビフェニル
ジクロリド(2) N,N′−ジメチルヘキシルアミン25.85g(0.
208mol)を、水約50mlに乳化して、このエマルシ
ョンを約75℃に加熱した。次にイソプロパノール15
0ml中の4,4′−ビス(クロロメチル)ビフェニル2
5.1g(0.1mol)の懸濁液を、1時間のうちに、
計量しながら供給した(この間、混合物のpH値は、当初
の9.4から7.3に下がった)。混合物を約75〜8
1℃で約2時間撹拌して、次にイソプロパノールを約8
1〜100℃で加熱しながら留去して、同時に水300
mlをこの混合物に連続的に滴下した。この帯黄色の溶液
を、水の添加により510gの重量に調整した(10%
溶液に相当する)。溶液の半量を、濃縮後に真空で乾燥
させた。残渣を微粉砕することにより、帯白色の粉末2
6.6gを得た。
【0058】元素分析により、C30502Cl2に関し
て下記の値を得た: Cl 2 計算値: 70.42% 10.24% 5.47% 13.86% - 実測値: 67.4 % 9.9 % 5.2 % 13.7 % 3.4%
【0059】実施例2:4,4′−ビス(N,N−ジメ
チル−N−オクチル−アンモニウムメチル)ビフェニル
ジクロリド(3):N,N′−ジメチルヘキシルアミ
ンの代わりにN,N′−ジメチルオクチルアミンを等モ
ル量使用して、実施例1に記載されるように進行させ
た。
【0060】実施例3:4,4′−ビス(N,N−ジメ
チル−N−ドデシル−アンモニウムメチル)ビフェニル
ジクロリド(4):N,N′−ジメチルヘキシルアミ
ンの代わりにN,N′−ジメチルドデシルアミンを等モ
ル量使用して、実施例1に記載されるように進行させ
た。
【0061】実施例4:4,4′−ビス(N,N−ジメ
チル−N−ヘキサデシル−アンモニウムメチル)ビフェ
ニル ジクロリド(5):N,N′−ジメチルヘキシル
アミンの代わりにN,N′−ジメチルヘキサデシルアミ
ンを等モル量使用して、実施例1に記載されるように進
行させた。
【0062】4つの実施例のそれぞれにおいて帯白色の
粉末を得た。
【0063】最小阻止濃度(MIC値)の測定 本発明の化合物の抗菌活性を測定するための手順は以下
のとおりとした:
【0064】栄養: ・試験細菌及び酵母の前培養物の調製のためのカゼイン
/ダイズ粉ペプトンブイヨン。 ・アスペルギルス・ニガー(Aspergillus niger)の前
培養物のためのサブロー寒天。 ・細菌のMIC値を測定するためのミュラー・ヒントン
寒天。 ・アスペルギルス・ニガー及びカンジダ・アルビカンス
(Candida albicans)のMIC値を測定するためのサブ
ロー寒天。 ・溶媒としての脱イオン水又はエタノール。
【0065】試験生物の例 細菌:スタヒロコッカス・ホミニス(Staphylococcus h
ominis)DSM20328 大腸菌(Escherichia coli)NCTC8196 酵母:カンジダ・アルビカンスATCC10231 かび:アスペルギルス・ニガーATCC6275
【0066】手順:試験物質は、脱イオン水又はエタノ
ールに前もって溶解して、47〜50℃に加温した寒天
中に希釈系列として組み入れた。
【0067】かびは、サブロー寒天で培養して、0.0
1%トリトンX−100を含む0.85%塩化ナトリウ
ム溶液で濯いだ。
【0068】細菌及び酵母は、カゼイン/ダイズ粉ペプ
トンブイヨン中で37℃で18〜24時間インキュベー
トした。
【0069】全ての試験生物は、0.85%塩化ナトリ
ウム溶液を使用して106〜107CFU/mlの生物数に調整
した。
【0070】生物懸濁液は、それぞれピペットで10μ
lの量を、試験物質を含む寒天プレートに移した。次に
試験バッチを37℃で2日間(細菌及び酵母)又は28
℃で3日間(アスペルギルス・ニガー)インキュベート
した。使用した溶媒(脱イオン水、エタノール)の影響
をチェックするために、他に生物懸濁液を試験物質を含
まない寒天プレート(対照プレート)でインキュベート
した。
【0071】インキュベーション後、試験物質上での微
生物の増殖を対照プレートと比較した。最小阻止濃度
(MIC値)は、(対照プレートと比較して)試験生物
の増殖の明白な阻害が確認される物質の濃度である。
【0072】確認された微生物学的データを表1にまと
めた。
【0073】
【表1】
【0074】EN1276によるヨーロッパ標準の殺菌
作用を測定するための懸濁試験 試験生物:黄色ブドウ球菌(Staphylococcus aureus)
ATCC6538。 試験物質:滅菌脱イオン水中の式(2)及び(3)の化
合物の2000ppmの溶液。 接触時間: 20℃(±1℃)で5分間。 接触時間後の不活化培地:D/E中和溶液(デイ・エン
グレイ(Dey-Engley)、0.1%チオグリコール酸ナト
リウム、0.6%チオ硫酸ナトリウム、0.5%トゥイ
ーン80、及び更に0.7%レシチン、並びに100%
までの滅菌脱イオン水からなる)。 栄養培地:不活化剤としてレシチン、L−ヒスチジン、
及びトゥイーン80を含む、カゼイン/ダイズ粉ペプト
ン寒天(メルコプレート(Merckoplate)18360
番、メルク(Merck)、ダルムシュタット)。 試験プレートのインキュベーション: 37℃で24〜48時間。 前培養物の調製:細菌培養物は、カゼイン/ダイズ粉ペ
プトン斜面寒天で培養して、37℃で18〜24時間イ
ンキュベートした。次にこれらを水で濯いで、1.5×
108〜5×108CFU/mlの細菌数に調整した。
【0075】手順 試験に必要な全ての試薬を最初に20℃(±1℃)で平
衡化した。0.3%ウシ血清アルブミン(脱イオン水
中)1.0mlを試験管に導入した。細菌懸濁液(1.5
×108〜5×108CFU/ml)1.0mlの添加後、溶液を
混合して、20℃で2分間(±10秒間)維持した。次
に試験物質(水中の2000ppm溶液)8.0mlを加え
た。混合物を20℃(±1℃)で5分間インキュベート
した。次に、各例において混合物1.0mlを、不活化培
地(D/E中和溶液)8.0ml及び脱イオン水1.0ml
を含む小管に導入した。次に混合物を20℃(±1℃)
で5分間(±10秒間)維持し、次にその1.0mlをペ
トリ皿に移して、3%トゥイーン80、0.3%レシチ
ン及び0.1% L−ヒスチジンを含む溶融カゼイン/
ダイズ粉ペプトン寒天15mlと混合した。この寒天プレ
ートを37℃(±1℃)で24〜48時間インキュベー
トした。インキュベーション時間の後、コロニーの数を
数えて、細菌の対数換算(log10)として記録し
た。結果は、表2にまとめた。
【0076】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61P 17/00 101 A61P 17/00 101 C02F 1/50 510 C02F 1/50 510A 510C 510D 520 520K 520L 532 532E 532H 540 540B C07C 209/12 C07C 209/12 (72)発明者 ディートマー オックス ドイツ国 79650 ショップハイム ヴェ ーバーガッセ 11ゲー (72)発明者 ハンスペーター ザウター ドイツ国 79650 ショップハイム ヴェ ルダーシュトラーセ 3 (72)発明者 フェルナン オフステテ フランス国 68730 ランスパッシュ ル バ リュ ドゥ ベルフォール 18 Fターム(参考) 4C083 AC691 AC692 CC02 CC31 CC41 DD23 EE11 EE31 4C206 AA01 AA02 AA03 AA04 FA41 MA01 MA04 MA36 MA72 MA83 ZA90 ZB35 4H006 AA01 AA02 AB03 AC52 4H011 AA02 BA01 BB04 BC03 BC04 BC06 BC07 BC08 BC18 BC19 DA13 DA17 DH03

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(1): 【化1】 〔式中、 R1は、C5〜C16アルキル、フェニル又はフェニル−C
    1〜C10アルキルであり、 R4は、C4〜C16アルキル、フェニル又はフェニル−C
    1〜C10アルキルであり、 R2、R3、R5及びR6は、それぞれ他と独立に、C1
    4アルキルであり、そしてAは、1価のアニオンであ
    る(ただし、R1及びR4が、ベンジルであり、そしてR
    2、R3、R5及びR6が、同一であり、かつメチル又はn
    −プロピルであるとき、Aは、Br-又はI-ではな
    い)〕で示されるジ−第四級アンモニウム化合物。
  2. 【請求項2】 R1とR4、R2とR5、及びR3とR6が、
    同一であり、そしてAが、ハロゲン化物アニオン又は無
    機若しくは有機アニオン基である、請求項1記載のジ−
    第四級アンモニウム化合物。
  3. 【請求項3】 R1が、C5〜C16アルキルである、請求
    項2記載のジ−第四級アンモニウム化合物。
  4. 【請求項4】 R1が、非分岐のC5〜C16アルキル、好
    ましくは非分岐のC 6−、C8−、C12−又はC16−アル
    キルである、請求項2又は請求項3記載のジ−第四級ア
    ンモニウム化合物。
  5. 【請求項5】 R2及びR3が、それぞれ他と独立に、非
    分岐のC1〜C4アルキルである、請求項2〜4のいずれ
    か1項記載のジ−第四級アンモニウム化合物。
  6. 【請求項6】 Aが、〔Cl〕-である、請求項2〜5
    のいずれか1項記載のジ−第四級アンモニウム化合物。
  7. 【請求項7】 式(2)、(3)、(4)又は(5): 【化2】 で示される、請求項5又は請求項6記載のジ−第四級ア
    ンモニウム化合物。
  8. 【請求項8】 請求項1記載のジ−第四級アンモニウム
    化合物の製造方法であって、式(6): 【化3】 〔式中、Xは、ハロゲン又は1価の無機若しくは有機ア
    ニオン形成基である〕で示されるビフェニル化合物を、
    第四級化反応において、式(7): 【化4】 〔式中、R1、R2及びR3は、それぞれ他と独立に、請
    求項1と同義である〕で示されるアミノ化合物、及び式
    (8): 【化5】 〔式中、R4、R5及びR6は、それぞれ他と独立に、請
    求項1と同義である〕で示される更に別のアミノ化合物
    と反応させる方法。
  9. 【請求項9】 式(1): 【化6】 〔式中、R1及びR4は、それぞれ他と独立に、C4〜C
    16アルキル、フェニル又はフェニル−C1〜C10アルキ
    ルであり、 R2、R3、R5及びR6は、それぞれ他と独立に、C1
    4アルキルであり、そしてAは、1価のアニオンであ
    る〕で示されるジ−第四級アンモニウム化合物の、抗菌
    剤、消毒薬又は保存料としての使用。
  10. 【請求項10】 皮膚、粘膜又は毛の抗菌処理、脱臭又
    は消毒のための、請求項9記載の使用。
  11. 【請求項11】 水処理、特に冷却システム、紙処理機
    若しくはスイミングプール用の、又は物質、特に食料若
    しくは飲料の保存用の、工業的設備に抗菌性を付与する
    ための、請求項9記載の使用。
  12. 【請求項12】 工業的用途、化粧品用途又は衛生上の
    用途用の処方の調製のための、請求項9記載の使用。
  13. 【請求項13】 経口使用用の液体処方の調製のため
    の、請求項9記載の使用。
  14. 【請求項14】 化粧品における使用、又は家庭内、工
    業用若しくは衛生領域の清浄化若しくは消毒用調製品に
    おける使用のための、請求項12記載の使用。
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