JP2002187736A - プラズマ耐食性石英ガラス部材及びその製造方法 - Google Patents

プラズマ耐食性石英ガラス部材及びその製造方法

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JP2002187736A
JP2002187736A JP2000385738A JP2000385738A JP2002187736A JP 2002187736 A JP2002187736 A JP 2002187736A JP 2000385738 A JP2000385738 A JP 2000385738A JP 2000385738 A JP2000385738 A JP 2000385738A JP 2002187736 A JP2002187736 A JP 2002187736A
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plasma
plasma corrosion
treatment
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Tatsuhiro Sato
龍弘 佐藤
Toru Segawa
徹 瀬川
Yoshimasa Yoshida
宜正 吉田
Kyoichi Inagi
恭一 稲木
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Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C2204/08Glass having a rough surface

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 マイクロクラックを完全に消滅させることが
できかつプラズマ耐食性に優れたプラズマ耐食性石英ガ
ラス部材及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融
処理を施して透明平滑化し、該透明平滑化した表面に対
して粗面化処理を施して粗面化を行うようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程、
特にエッチング装置に使用されるプラズマ耐食性石英ガ
ラス部材及びその製造方法に関する。
【0002】
【関連技術】プラズマエッチング用に使用される石英ガ
ラス部材は、いままでバッチ処理で使用されてきた部材
と形状が異なり、単純な平板、筒状のものが多い。これ
らは、殆ど全ての場合、表面を研削加工して所望の形状
に削り出し、その後、サンドブラストを行うなどして、
粗面化する。この際、ガラス表面には、マイクロクラッ
クが形成される。プラズマエッチングされるとマイクロ
クラックの部分がえぐられるように拡大し、剥がれが促
進されパーティクル発生が多発する。また、機械的強度
が低下する。このため、サンドブラスト処理後に化学的
エッチング処理でマイクロクラックを低減する製法が、
特開平10−167760号などで提案されているが、
いまだ完全にマイクロクラックを消滅させることはでき
ないという問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した問
題点に鑑みなされたもので、マイクロクラックを完全に
消滅させることができかつプラズマ耐食性に優れたプラ
ズマ耐食性石英ガラス部材及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0004】また、本発明は、マイクロクラックをかな
り消滅させることができる上プラズマ耐食性に優れ、特
に、窓材や光プラズマ反応処理工程において好適に使用
されるプラズマ耐食性石英ガラス部材及びその製造方法
を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のプラズマ耐食性石英ガラス部材の第1の態
様は、石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融処理を施
して透明平滑化し、該透明平滑化した表面に対して粗面
化処理を施して粗面化したことを特徴とする。
【0006】本発明のプラズマ耐食性石英ガラス部材の
第2の態様は、石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融
処理を施して透明平滑化したことを特徴とする。
【0007】本発明のプラズマ耐食性石英ガラス部材の
製造方法の第1の態様は、石英ガラス部材の表面に対し
て加熱溶融処理を施して透明平滑化する工程と、該透明
平滑化した表面に対して粗面化処理を施して粗面化する
工程と、からなることを特徴とする。
【0008】本発明のプラズマ耐食性石英ガラス部材の
製造方法の第2の態様は、石英ガラス部材の表面に対し
て加熱溶融処理を施して透明平滑化する工程からなるこ
とを特徴とする。
【0009】上記粗面化処理としては化学的エッチング
処理が好適であり、上記加熱溶融処理としてはファイア
ポリッシュが好ましい。
【0010】本発明は、削り出し後に表面部位を電気加
熱或いは、ファイアポリッシュ等の加熱溶融処理によっ
て石英ガラス部材の表面を溶融加熱することによって、
石英ガラス部材の表面部付近に発生するマイクロクラッ
クを消滅させることができるという知見を基としてなさ
れたものである。
【0011】本発明における化学的エッチング処理は、
公知の処理方法を適用すればよく、後述する実施例1に
記載するように、弗化水素、弗化アンモニウム及び酢酸
からなる水溶液に浸ける方法が効果的であるが、弗化水
素(HF)(5〜50wt%)水溶液に浸けるだけでも
充分に効果がある。
【0012】本発明のプラズマ耐食性石英ガラス部材及
びその製造方法のそれぞれの第1の態様においては、後
工程で行う化学的エッチングだけでもマイクロクラック
は、かなり消滅させることが可能であるが、上記溶融加
熱工程を前工程にいれることにより、マイクロクラック
を完全に消滅させることが可能となる。この為、パーテ
ィクル発生の低減と機械的強度も増大した。
【0013】一方、本発明のプラズマ耐食性石英ガラス
部材及びその製造方法の第2の態様は、用途として、窓
材や光プラズマ反応処理工程において使用される場合、
光透過性に対する要求が大きいことに着目してなされた
もので、この態様においては、溶融加熱工程を最終工程
とし、化学的エッチング処理は行なわないことによって
光透過性を維持することができ、特に好適である。
【0014】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明を説明するが、
これらの実施例は限定的に解釈されるべきでないことは
いうまでもない。
【0015】(実施例1)サイズが400mm×400
mm×40mm(厚さ)である石英ガラス固体から、サ
イズ300mmφ×30mm(厚さ)の円盤を削り出
し、その後、プラズマガスに接触する面を酸水素火炎バ
ーナーを用いて溶融し、透明平滑化する。さらに、この
石英ガラス円盤を、15wt%弗化水素、20wt%弗
化アンモニウム、50wt%の酢酸からなる水溶液に漬
けて、表面部位を化学的エッチング処理を施し、乾燥さ
せる。このエッチング面に対して石英ガラス円盤の深さ
方向へ傾き10℃の方向で鏡面研磨し、マイクロクラッ
クの状況を観察したところマイクロクラックの存在は確
認されなかった。また、この円盤をプラズマエッチング
装置に使用したところ、パーティクルの発生が減少し、
使用時間も延長した。
【0016】(実施例2)サイズが400mm×400
mm×40mm(厚さ)である石英ガラス固体から、サ
イズ300mmφ×30mm(厚さ)の円盤を削り出
し、その後、この円盤のプラズマガスに接触する面を酸
水素火炎バーナーを用いて溶融し、透明平滑化する。こ
の透明平滑化面に対して石英ガラス円盤の深さ方向へ傾
き10℃の方向で鏡面研磨し、マイクロクラックの状況
を観察したところマイクロクラックの存在は確認されな
かった。この円盤をプラズマエッチング装置に使用した
ところ、パーティクルの発生が減少し、使用時間も延長
した。
【0017】(比較例1)サイズが400mm×400
mm×40mm(厚さ)の石英ガラス固体から、300
mmφ×30mm(厚さ)の円盤を削り出した。その
後、この円盤のプラズマガスに接触する面に、さらに、
サンドブラストをかけて、平均面粗さは、Raで3.0
μmとした。この石英ガラス円盤を実施例1と同様に使
用したところ、パーティクルの発生が多く、使用後クラ
ックが入るなどして、使用時間が短時間になった。
【0018】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明によれば、マ
イクロクラックを完全に消滅させることができかつプラ
ズマ耐食性に優れたプラズマ耐食性石英ガラス部材を得
ることができ、また、マイクロクラックをかなり消滅さ
せることができる上プラズマ耐食性に優れ、特に、窓材
や光プラズマ反応処理工程において好適に使用されるプ
ラズマ耐食性石英ガラス部材を得ることができるという
効果が達成される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 宜正 福島県郡山市田村町金屋字川久保88番地 信越石英株式会社石英技術研究所内 (72)発明者 稲木 恭一 東京都新宿区西新宿1丁目22番2号 信越 石英株式会社内 Fターム(参考) 4G059 AA06 AA20 AC01 BB01 BB04 BB13 BB16 5F004 AA15 BB29

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融
    処理を施して透明平滑化し、該透明平滑化した表面に対
    して粗面化処理を施して粗面化したことを特徴とするプ
    ラズマ耐食性石英ガラス部材。
  2. 【請求項2】 前記粗面化処理が化学的エッチング処理
    であることを特徴とする請求項1記載のプラズマ耐食性
    石英ガラス部材。
  3. 【請求項3】 前記加熱溶融処理が、ファイアポリッシ
    ュであることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズ
    マ耐食性石英ガラス部材。
  4. 【請求項4】 石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融
    処理を施して透明平滑化したことを特徴とするプラズマ
    耐食性石英ガラス部材。
  5. 【請求項5】 前記加熱溶融処理が、ファイアポリッシ
    ュであることを特徴とする請求項4記載のプラズマ耐食
    性石英ガラス部材。
  6. 【請求項6】 石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融
    処理を施して透明平滑化する工程と、該透明平滑化した
    表面に対して粗面化処理を施して粗面化する工程と、か
    らなることを特徴とするプラズマ耐食性石英ガラス部材
    の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記粗面化処理が化学的エッチング処理
    であることを特徴とする請求項6記載のプラズマ耐食性
    石英ガラス部材の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記加熱溶融処理がファイアポリッシュ
    であることを特徴とする請求項6又は7記載のプラズマ
    耐食性石英ガラス部材の製造方法。
  9. 【請求項9】 石英ガラス部材の表面に対して加熱溶融
    処理を施して透明平滑化する工程からなることを特徴と
    するプラズマ耐食性石英ガラス部材の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記加熱溶融処理がファイアポリッシ
    ュであることを特徴とする請求項9記載のプラズマ耐食
    性石英ガラス部材の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009501452A (ja) * 2005-07-13 2009-01-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 基板処理チャンバ用コンポーネントの局所表面アニーリング
JP2015193527A (ja) * 2014-03-17 2015-11-05 信越化学工業株式会社 片面鏡面の合成石英ガラス基板の加工方法及び合成石英ガラス基板のセンシング方法

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