JP2002185132A - Dry film for multilayer printed circuit board, method for manufacturing multilayer printed circuit board using the same, and the multilayer printed circuit board - Google Patents

Dry film for multilayer printed circuit board, method for manufacturing multilayer printed circuit board using the same, and the multilayer printed circuit board

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JP2002185132A
JP2002185132A JP2000377943A JP2000377943A JP2002185132A JP 2002185132 A JP2002185132 A JP 2002185132A JP 2000377943 A JP2000377943 A JP 2000377943A JP 2000377943 A JP2000377943 A JP 2000377943A JP 2002185132 A JP2002185132 A JP 2002185132A
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insulating resin
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裕一 釜萢
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the adhesion between a conductive circuit and an insulation resin layer of a multiplayer printed circuit board in which the conductive circuit is formed by soldering, and to prevent shortcircuit among circuits for higher reliability. SOLUTION: This dry film for multiplayer printed circuit board is provided with an insulation resin layer 3 which is made of dry substance of photoresist and/or thermosetting resin compound and is laminated on an irregular surface of a first protection film 1 in which an irregular surface 2, where the center line roughness of the irregular part (Ra) is 1 μm<=Ra<=5 μm, the count (n) of irregular average height (Rc) of a roughness curve at the surface length of 2.5 mm is 200 or more at 1 μm<=Rc<=10 μm and 2000 or more at 0.1 μm<=Rc<=1 μm, is formed on one surface. The dry film is thermally press-fitted onto a substrate 5 in which a conductive circuit 6 is formed in a manner that the insulation resin layer may be adhered. Next, fixation of shape of the irregular surface of the transferred insulation resin layer, peeling of the first protection film 1, formation of a via hole, covering of a plating layer 8, and formation of a conductor circuit are performed in sequence.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【本発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配
線板用ドライフィルム、特に電子機器,コンピュータ,
通信機に用いられる多層プリント配線板用のドライフィ
ルム、それを用いた多層プリント配線板の製造方法及び
それによって得られる多層プリント配線板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry film for a multilayer printed wiring board, and more particularly to an electronic device, a computer,
The present invention relates to a dry film for a multilayer printed wiring board used in a communication device, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board using the same, and a multilayer printed wiring board obtained by the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の絶縁層の上にめっきにより付加的
に導体回路を形成する多層プリント配線板の製造方法に
ついて添付図面を参照しながら説明すると、その一つの
方法は、まず、図5(a)に示すように、基板5上に導
体回路6を形成する。次に、図5(b)に示すように、
導体回路6が形成された基板5上に、絶縁層として、酸
に可溶性の微粉末粒子の入った微粉末入り絶縁樹脂層9
を形成し、硬化させる。次に、図5(c)に示すよう
に、表面の微粉末粒子を酸処理にて除去し、微粉末入り
絶縁樹脂層9の表面に凹部10を形成して凹凸面とし、
後に形成するめっき層との密着性を向上させるようにす
る。次に、図5(d)に示すように、化学めっきを行な
い、めっき層8を形成する。一般に、上記の酸に可溶性
の微粉末としては炭酸カルシウムが用いられている(特
開平2−252293号公報,特開昭57−11108
号公報参照)。
2. Description of the Related Art A conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which a conductive circuit is additionally formed by plating on an insulating layer will be described with reference to the accompanying drawings. As shown in a), a conductor circuit 6 is formed on a substrate 5. Next, as shown in FIG.
On the substrate 5 on which the conductive circuit 6 is formed, as an insulating layer, an insulating resin layer 9 containing fine powder containing fine powder particles soluble in acid.
Is formed and cured. Next, as shown in FIG. 5 (c), the fine powder particles on the surface are removed by an acid treatment, and a concave portion 10 is formed on the surface of the insulating resin layer 9 containing the fine powder to form an uneven surface.
The adhesiveness with a plating layer to be formed later is improved. Next, as shown in FIG. 5D, chemical plating is performed to form a plating layer 8. In general, calcium carbonate is used as the fine powder soluble in the above-mentioned acids (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-252293 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-11108).
Reference).

【0003】一方、図6は他の方法を示し、まず、導体
回路6が形成された基板5上に、図6(a)に示すよう
に、硬化処理によりクロム酸水溶液に難溶性となる耐熱
性エポキシ樹脂液を塗布し、液状の絶縁樹脂層12を形
成する。次に、図6(b)に示すように、耐熱性エポキ
シ樹脂液に難溶でかつクロム酸水溶液に可溶なエポキシ
樹脂粉末13を圧縮空気により液状の絶縁樹脂層12の
上に散布する。次に、図6(c)に示すように、基板5
を静置することにより、絶縁樹脂層12上に散布された
エポキシ樹脂粉末13を、両者の比重と液体の表面張力
の関係により表面部に浮遊させる。次に、この状態で絶
縁樹脂層12を加熱乾燥して硬化させた後、クロム酸水
溶液で表面を粗化すると同時にエポキシ樹脂粉末13を
溶解して、図6(d)に示すように、硬化した絶縁樹脂
層12表面に多数の凹部10を形成する。次に、図6
(e)に示すように、表面に化学めっきによりめっき層
8を形成する(特開平4−212496号公報参照)。
On the other hand, FIG. 6 shows another method. First, as shown in FIG. 6 (a), a heat-resistant material which becomes hardly soluble in a chromic acid aqueous solution by a curing treatment is placed on a substrate 5 on which a conductor circuit 6 is formed. A liquid epoxy resin liquid is applied to form a liquid insulating resin layer 12. Next, as shown in FIG. 6B, an epoxy resin powder 13 that is hardly soluble in the heat-resistant epoxy resin liquid and soluble in the chromic acid aqueous solution is sprayed on the liquid insulating resin layer 12 by compressed air. Next, as shown in FIG.
Is allowed to stand, so that the epoxy resin powder 13 sprayed on the insulating resin layer 12 floats on the surface due to the relationship between the specific gravity of the two and the surface tension of the liquid. Next, in this state, the insulating resin layer 12 is heated and dried to be cured, and then the surface is roughened with a chromic acid aqueous solution and, at the same time, the epoxy resin powder 13 is dissolved, as shown in FIG. A large number of concave portions 10 are formed on the surface of the insulating resin layer 12 thus formed. Next, FIG.
As shown in (e), a plating layer 8 is formed on the surface by chemical plating (see JP-A-4-212496).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前記したような従来の
微粉末入り絶縁樹脂層を用いる方法では、酸に可溶性の
微粉末の凝集した部分が生じた場合に、図5(c)に示
すように、酸処理後にピンホール11が発生し、この状
態でめっき層8により導体回路を形成した場合、図5
(d)に示すように、めっき層8により形成した導体回
路が下地の導体回路6と導通し、ショートするという絶
縁性に問題があった。一方、耐熱性エポキシ樹脂液から
なる液状の絶縁樹脂層12上にエポキシ樹脂粉末13を
散布し、両者の比重と液体の表面張力の関係によりエポ
キシ樹脂粉末を表面部に浮遊させる方法では、絶縁樹脂
層12が薄い場合に同様の問題が生ずる。
In the conventional method using the insulating resin layer containing fine powder as described above, when an agglomerated portion of fine powder soluble in acid is formed, as shown in FIG. In the case where a pinhole 11 is generated after the acid treatment and a conductive circuit is formed by the plating layer 8 in this state, FIG.
As shown in (d), there is a problem in the insulation property that the conductor circuit formed by the plating layer 8 conducts with the underlying conductor circuit 6 and is short-circuited. On the other hand, in a method in which an epoxy resin powder 13 is sprayed on a liquid insulating resin layer 12 made of a heat-resistant epoxy resin liquid, and the epoxy resin powder is floated on a surface portion due to the relationship between the specific gravity of the two and the surface tension of the liquid, A similar problem occurs when layer 12 is thin.

【0005】従って、本発明の目的は、絶縁樹脂層とそ
の上にめっきして形成する導体回路との密着性がよく、
導体回路間のショートがなく信頼性の高い多層プリント
配線板を製造するのに好適に用い得るドライフィルムを
提供することにあり、さらに、このようなドライフィル
ムを用いて高品質、高信頼性の多層プリント配線板を製
造でき、しかも従来の方法に比べて製造工程を短縮でき
る方法及びそれによって得られる高品質、高信頼性の多
層プリント配線板を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide good adhesion between an insulating resin layer and a conductor circuit formed by plating on the insulating resin layer,
The purpose of the present invention is to provide a dry film that can be suitably used for manufacturing a highly reliable multilayer printed wiring board without a short circuit between conductor circuits, and further, by using such a dry film, high quality and high reliability. It is an object of the present invention to provide a method capable of manufacturing a multilayer printed wiring board and shortening the manufacturing process as compared with the conventional method, and a high quality and highly reliable multilayer printed wiring board obtained by the method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の第一の側面によれば、一方の表面に、凹凸
部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm≦Ra≦5μmで
あり、且つ表面の2.5mmの長さにおける粗さ曲線の
凹凸の平均高さ(Rc)のカウント値(n)が、1μm
≦Rc≦10μmにおいて200個以上、0.1μm≦
Rc≦1μmにおいて2000個以上の凹凸面が形成さ
れている第1の保護フィルムと、該第1の保護フィルム
の凹凸面上に積層された光硬化性及び/又は熱硬化性樹
脂組成物の乾燥物からなる絶縁樹脂層と、該樹脂絶縁層
上に積層された第2の保護フィルムとからなることを特
徴とする多層プリント配線板用ドライフィルムが提供さ
れる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided, on one surface, a center line average roughness (Ra) of an uneven portion of 1 μm ≦ Ra ≦ 5 μm. And the count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at a length of 2.5 mm on the surface is 1 μm
≦ Rc ≦ 200 μm or more at 10 μm, 0.1 μm ≦
A first protective film on which at least 2000 uneven surfaces are formed when Rc ≦ 1 μm, and drying of a photocurable and / or thermosetting resin composition laminated on the uneven surface of the first protective film; A dry film for a multilayer printed wiring board, comprising: an insulating resin layer made of a product; and a second protective film laminated on the resin insulating layer.

【0007】ここで、中心線平均粗さ(Ra)とは、J
IS B0601で規定されるもので、粗さ曲線からそ
の中心線の方向に測定長さ(L)の部分を抜き取り、こ
の抜き取り部分の中心線をX軸、縦軸方向をY軸とし、
粗さ曲線をy=f(x)で表わしたときに、次の式
(1)によって求められる値をマイクロメートル(μ
m)で表わしたものをいう。
Here, the center line average roughness (Ra) is J
A part of the measured length (L) is extracted from the roughness curve in the direction of the center line thereof, and the center line of the extracted part is defined as the X axis, and the ordinate direction is defined as the Y axis.
When the roughness curve is represented by y = f (x), the value obtained by the following equation (1) is expressed in micrometers (μ).
m).

【数1】 (Equation 1)

【0008】また、粗さ曲線の凹凸の平均高さ(Rc)
とは、JIS B0660で規定されるもので、粗さ曲
線の山頂の高さ(中心線からの距離)の絶対値(yp
の平均値と、粗さ曲線の谷底の深さ(中心線からの距
離)の絶対値(yv)の平均値との和であり、下記式
(2)で求められる値をマイクロメートル(μm)で表
わしたものをいう。
Further, the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve
And it is intended to be defined by JIS B0660, the summit height of the roughness curve absolute value of (distance from the center line) (y p)
And the average value of the absolute value (y v ) of the depth (distance from the center line) of the valley bottom of the roughness curve, and the value obtained by the following equation (2) is expressed in micrometers (μm). ).

【数2】 上記式(2)において、nは、基準長さ(測定長さ)内
にある粗さ曲線の山と谷のそれぞれの数であり、本明細
書でいう「粗さ曲線の凹凸の平均高さ(Rc)のカウン
ト値」を意味する。上記第1の保護フィルムの凹凸面
は、サンドブラスト法によって保護フィルムを直接加工
する方法や、サンドブラスト法によって加工した金属ロ
ールとゴムロールの間にフィルムを通過させてフィルム
を加工する方法等によって極めて簡単に形成することが
できる。
(Equation 2) In the above equation (2), n is the number of each of the peaks and valleys of the roughness curve within the reference length (measured length), and is referred to as “the average height of the unevenness of the roughness curve” in this specification. (Rc) count value ”. The uneven surface of the first protective film can be extremely easily formed by a method of directly processing the protective film by a sand blast method or a method of processing a film by passing a film between a metal roll and a rubber roll processed by a sand blast method. Can be formed.

【0009】また、本発明の第二の側面によれば、多層
プリント配線板の製造方法も提供され、その第一の態様
は、前記多層プリント配線板用ドライフィルムの第2の
保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂層の面が密着するよ
うに、導体回路を形成した基板上に熱圧着する工程と、
レジストパターンを有するフィルムを第1の保護フィル
ム面に密着させ露光した後、第1の保護フィルムを剥ぎ
取り、現像を行なってフォトビアホールを形成する工程
と、絶縁樹脂層を加熱硬化する工程と、加熱硬化した絶
縁樹脂層の表面にめっき層を被覆した後、所定のパター
ンに従ってエッチングして導体回路を形成する工程とを
含むことを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is also provided a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, the first aspect of which includes peeling off a second protective film of the dry film for a multilayer printed wiring board. Taking and thermocompression bonding on the substrate on which the conductor circuit is formed, so that the surface of the insulating resin layer is in close contact with the substrate,
After the film having the resist pattern is brought into close contact with the first protective film surface and exposed, the first protective film is peeled off, and a step of forming a photo via hole by performing development, and a step of heating and curing the insulating resin layer, Forming a conductor circuit by coating the surface of the heat-cured insulating resin layer with a plating layer, and then etching according to a predetermined pattern.

【0010】本発明の多層プリント配線板の製造方法の
第二の態様は、前記多層プリント配線板用ドライフィル
ムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂層の面が
密着するように、導体回路を形成した基板上に熱圧着す
る工程と、冷却するか又は全面露光した後、第1の保護
フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂層を加熱するか又は全面
露光して硬化する工程と、硬化した絶縁樹脂層にレーザ
ー光を選択的に照射してバイアホールを形成する工程
と、バイアホールを形成した絶縁樹脂層の表面にめっき
層を被覆した後、所定のパターンに従ってエッチングし
て導体回路を形成する工程とを含むことを特徴としてい
る。
In a second aspect of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the second protective film of the dry film for a multilayer printed wiring board is peeled off, and the conductor is so formed that the surface of the insulating resin layer adheres. A step of thermocompression bonding on a circuit-formed substrate, a step of cooling or exposing the entire surface, and then peeling off the first protective film, and a step of heating or exposing the entire surface of the insulating resin layer to cure; Forming a via hole by selectively irradiating the insulating resin layer with a laser beam, and coating the surface of the insulating resin layer with the via hole with a plating layer and then etching according to a predetermined pattern to form a conductor circuit And the step of performing

【0011】さらに、本発明の多層プリント配線板の製
造方法の第三の態様は、前記多層プリント配線板用ドラ
イフィルムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂
層の面が密着するように、導体回路を形成した基板上に
熱圧着する工程と、絶縁樹脂層を加熱するか又は全面露
光して硬化する工程と、第1の保護フィルムを剥ぎ取
り、硬化した絶縁樹脂層にレーザー光を選択的に照射し
てバイアホールを形成する工程と、バイアホールを形成
した絶縁樹脂層の表面にめっき層を被覆した後、所定の
パターンに従ってエッチングして導体回路を形成する工
程とを含むことを特徴としている。
Further, in a third aspect of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the second protective film of the dry film for a multilayer printed wiring board is peeled off so that the surface of the insulating resin layer adheres. A step of thermocompression bonding on a substrate on which a conductive circuit is formed, a step of heating or curing the insulating resin layer by exposing the entire surface, and a step of peeling off the first protective film and applying a laser beam to the cured insulating resin layer. Forming a via hole by selectively irradiating, and covering the surface of the insulating resin layer on which the via hole is formed with a plating layer, and then etching according to a predetermined pattern to form a conductive circuit. Features.

【0012】また、本発明の多層プリント配線板の製造
方法の第四の態様は、前記多層プリント配線板用ドライ
フィルムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂層
の面が密着するように、導体回路を形成した基板上に熱
圧着する工程と、第1の保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁
樹脂層を加熱硬化する工程と、加熱硬化した絶縁樹脂層
にレーザー光を選択的に照射してバイアホールを形成す
る工程と、バイアホールを形成した絶縁樹脂層の表面に
めっき層を被覆した後、所定のパターンに従ってエッチ
ングして導体回路を形成する工程とを含むことを特徴と
している。
In a fourth aspect of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the second protective film of the dry film for a multilayer printed wiring board is peeled off so that the surface of the insulating resin layer adheres. A step of thermocompression bonding on a substrate on which a conductive circuit is formed, a step of peeling off the first protective film, and a step of heat-curing the insulating resin layer; and selectively irradiating the heat-cured insulating resin layer with laser light. The method is characterized by including a step of forming a via hole and a step of forming a conductive circuit by coating a plating layer on the surface of the insulating resin layer in which the via hole is formed and then etching it according to a predetermined pattern.

【0013】さらにまた、本発明の第三の側面によれ
ば、配線基板上に、絶縁樹脂層を介して導体回路が形成
された多層プリント配線板において、前記したような方
法により、上記絶縁樹脂層の少なくとも配線基板と反対
側の面に、凹凸部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm≦
Ra≦5μmであり、且つ表面の2.5mmの長さにお
ける粗さ曲線の凹凸の平均高さ(Rc)のカウント値
(n)が、1μm≦Rc≦10μmにおいて200個以
上、0.1μm≦Rc≦1μmにおいて2000個以上
の凹凸面が形成され、該凹凸面上に導体回路が積層され
ていることを特徴とする多層プリント配線板も提供され
る。
Still further, according to a third aspect of the present invention, there is provided a multilayer printed wiring board having a conductive circuit formed on a wiring board via an insulating resin layer by the method as described above. At least the surface of the layer opposite to the wiring substrate has a center line average roughness (Ra) of 1 μm ≦
Ra ≦ 5 μm, and the count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at a length of 2.5 mm on the surface is 200 or more at 0.1 μm ≦ Rc ≦ 10 μm, and 0.1 μm ≦ There is also provided a multilayer printed wiring board characterized in that 2000 or more uneven surfaces are formed when Rc ≦ 1 μm, and a conductor circuit is laminated on the uneven surface.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明による多層プリント配線板
の製造方法においては、一方の表面に、凹凸部の中心線
平均粗さ(Ra)が1μm≦Ra≦5μmであり、且つ
表面の2.5mmの長さにおける粗さ曲線の凹凸の平均
高さ(Rc)のカウント値(n)が、1μm≦Rc≦1
0μmにおいて200個以上、0.1μm≦Rc≦1μ
mにおいて2000個以上の凹凸面が形成されている第
1の保護フィルムと、該第1の保護フィルムの凹凸面上
に積層された光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物の
乾燥物からなる絶縁樹脂層と、該樹脂絶縁層上に積層さ
れた第2の保護フィルムとからなることを特徴とする多
層プリント配線板用ドライフィルムを用いる。このドラ
イフィルムの第1の保護フィルムの凹凸面と接触してい
る絶縁樹脂層の表面は、第1の保護フィルムの凹凸面を
忠実に転写した凹凸面となっている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the center line average roughness (Ra) of one of the surfaces is 1 μm ≦ Ra ≦ 5 μm, and 2. The count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at a length of 5 mm is 1 μm ≦ Rc ≦ 1
200 or more at 0 μm, 0.1 μm ≦ Rc ≦ 1 μm
a first protective film in which at least 2,000 uneven surfaces are formed at m, and a dried photo-curable and / or thermosetting resin composition laminated on the uneven surface of the first protective film. A dry film for a multilayer printed wiring board, comprising: an insulating resin layer formed on the substrate; and a second protective film laminated on the resin insulating layer. The surface of the insulating resin layer in contact with the uneven surface of the first protective film of the dry film is an uneven surface that faithfully transfers the uneven surface of the first protective film.

【0015】すなわち、従来のように絶縁樹脂層自体の
粗面化処理によるものではなく、予め第1の保護フィル
ムの一方の表面をサンドブラスト処理等によって凹凸面
としておくことによって、この第1の保護フィルムの凹
凸面に光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物を塗布・
乾燥することにより、極めて簡単に凹凸面を付与するこ
とができ、多層プリント配線板の製造段階において従来
のような粗面化処理を省略することができる。なお、第
2の保護フイルムの絶縁樹脂層と接触する面もサンドブ
ラスト処理等により凹凸面が形成されていれば、絶縁樹
脂層の両面が凹凸面となり、導体回路を形成した基板上
に熱圧着する際に導体回路隅底部への追従性がさらに良
くなるので、エアー溜まりを生じることなく密着性良く
圧着できる。
That is, the first protective film is not made by roughening the insulating resin layer itself as in the prior art, but by forming one surface of the first protective film in advance as an uneven surface by sandblasting or the like. Apply a photo-curable and / or thermosetting resin composition to the uneven surface of the film.
By drying, the uneven surface can be provided very easily, and the conventional roughening treatment can be omitted in the stage of manufacturing the multilayer printed wiring board. If the surface of the second protective film that is in contact with the insulating resin layer is also formed with an uneven surface by sandblasting or the like, both surfaces of the insulating resin layer become uneven, and are thermocompression-bonded to the substrate on which the conductive circuit is formed. In this case, the followability to the bottom of the corner of the conductor circuit is further improved, so that it is possible to perform pressure bonding with good adhesion without generating air pockets.

【0016】上記ドライフィルムを使用するに際して
は、上記第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂層の
面が密着するように、導体回路を形成した基板上に熱圧
着する。この段階では、絶縁樹脂層は高温状態にあり、
第1の保護フィルムを剥ぎ取るとその凹凸面から転写さ
れた絶縁樹脂層の凹凸が崩れる恐れがあるため、転写さ
れた凹凸面を定着(絶縁樹脂層表面の凹凸を固定)する
必要がある。この定着の方法としては、用いる絶縁樹脂
層の材料に応じて、以下のような選択的パターン露光に
よる硬化又は全面露光による硬化、熱硬化あるいは冷却
による固定方法がある。
When the dry film is used, the second protective film is peeled off, and is thermocompression-bonded onto a substrate on which a conductive circuit is formed so that the surface of the insulating resin layer is in close contact. At this stage, the insulating resin layer is in a high temperature state,
If the first protective film is peeled off, the irregularities of the insulating resin layer transferred from the uneven surface may be destroyed. Therefore, it is necessary to fix the transferred uneven surface (fix the unevenness of the insulating resin layer surface). Depending on the material of the insulating resin layer to be used, there are the following fixing methods such as curing by selective pattern exposure or curing by overall exposure, heat curing, or cooling.

【0017】本発明の第一の態様は、絶縁樹脂層の材料
として光硬化性及び熱硬化性の樹脂組成物を用いる方法
であり、レジストパターンを有するフィルムを第1の保
護フィルム面に密着させ、露光し、これによって露光部
の絶縁樹脂層表面に転写された凹凸面を定着する。露光
可能なように第1の保護フィルムは光透過性である必要
があるが、その露出表面は平坦面であるため、フィルム
をぴったりと密着させることができ、高精度な露光が可
能となる。その後、第1の保護フィルムを剥ぎ取り、現
像を行なってフォトビアホールを形成し、絶縁樹脂層を
加熱硬化する。この状態の絶縁樹脂層表面は、第1の保
護フィルムの凹凸面から転写された凹凸面となっている
ため、この凹凸面がアンカー部として作用し、その表面
に被覆されるめっき層との密着性が著しく向上する。し
かも、従来のように粗面化処理によって表面から可溶性
微粒子を溶解・除去するものではないため、ピンホール
を生じることもなく、導体回路間のショートを防止でき
る。さらに、露光・現像によってフォトビアホールを比
較的簡単に高精度に形成することができる。
The first aspect of the present invention is a method using a photocurable and thermosetting resin composition as a material for an insulating resin layer, wherein a film having a resist pattern is brought into close contact with the first protective film surface. Exposure, thereby fixing the uneven surface transferred to the surface of the insulating resin layer at the exposed portion. The first protective film needs to be light-transmitting so that exposure can be performed. However, since the exposed surface is a flat surface, the film can be brought into close contact with the first protective film, and high-precision exposure can be performed. Thereafter, the first protective film is peeled off, development is performed to form a photo via hole, and the insulating resin layer is cured by heating. Since the surface of the insulating resin layer in this state is an uneven surface transferred from the uneven surface of the first protective film, the uneven surface acts as an anchor portion and adheres to the plating layer coated on the surface. The properties are significantly improved. In addition, since the soluble fine particles are not dissolved and removed from the surface by the surface roughening treatment as in the related art, a short circuit between the conductor circuits can be prevented without generating a pinhole. Furthermore, photovia holes can be relatively easily formed with high precision by exposure and development.

【0018】また、第二の態様によれば、前記のように
絶縁樹脂層を基板上に熱圧着した後、冷却、好ましくは
室温まで冷却するか、又は全面露光し、これによって露
光部の絶縁樹脂層表面に転写された凹凸面を定着する。
その後、第1の保護フィルムを剥ぎ取り、次いで、絶縁
樹脂層を加熱するか又は全面露光して硬化する。一方、
第三の態様では、絶縁樹脂層を加熱するか又は全面露光
して硬化し、絶縁樹脂層表面に転写された凹凸面を定着
した後、第1の保護フイルムを剥ぎ取る。第二の態様
は、絶縁樹脂層の材料として熱硬化性樹脂組成物、光硬
化性樹脂組成物又は光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を用
いた場合に適用でき、一方、第三の態様は、熱硬化性樹
脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いた場合に適用で
きる。他方、第四の態様は、絶縁樹脂層の材料として熱
硬化性樹脂組成物を用いた場合に適用できる方法であ
り、前記のように絶縁樹脂層を基板上に熱圧着した段階
で絶縁樹脂層表面に転写された凹凸面は定着するので、
これに続けて第1の保護フイルムを剥ぎ取った後、絶縁
樹脂層を加熱硬化する。前記第二乃至第四の態様におい
ては、その後、レーザー光の選択的照射による直接描画
でバイアホール形成する。この状態の絶縁樹脂層表面
も、前述した第一態様と同様に第1の保護フィルムの凹
凸面から転写された凹凸面となっているため、同様の作
用・効果を有している。
Further, according to the second aspect, after the insulating resin layer is thermocompression-bonded to the substrate as described above, it is cooled, preferably cooled to room temperature, or is exposed to the entire surface. The uneven surface transferred to the resin layer surface is fixed.
Thereafter, the first protective film is peeled off, and then the insulating resin layer is cured by heating or by exposing the entire surface. on the other hand,
In the third embodiment, the first protective film is peeled off after the insulating resin layer is heated or entirely exposed and cured to fix the uneven surface transferred to the insulating resin layer surface. The second aspect can be applied when a thermosetting resin composition, a photocurable resin composition or a photocurable / thermosetting resin composition is used as the material of the insulating resin layer, while the third aspect is applicable. Is applicable when a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition is used. On the other hand, the fourth aspect is a method applicable when a thermosetting resin composition is used as a material of the insulating resin layer, and the insulating resin layer is thermocompressed on the substrate as described above. Since the uneven surface transferred to the surface is fixed,
Subsequently, after the first protective film is peeled off, the insulating resin layer is cured by heating. In the second to fourth aspects, via holes are formed by direct writing by selective irradiation of laser light thereafter. Since the surface of the insulating resin layer in this state also has an uneven surface transferred from the uneven surface of the first protective film, similarly to the above-described first embodiment, it has the same operation and effect.

【0019】従って、前記何れの態様を用いても、その
後常法に従って、めっき層を形成した後、所定のパター
ン通りにエッチングして導体回路を形成することによ
り、高品質・高信頼性の多層プリント配線板を製造でき
る。
Therefore, in any of the above-mentioned embodiments, a high-quality, high-reliability multilayer is formed by forming a plating layer and then etching according to a predetermined pattern to form a conductor circuit in accordance with a conventional method. Printed wiring boards can be manufactured.

【0020】[0020]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。図1(a)〜(c)は本発明の多層プ
リント配線板用ドライフィルムの製造工程を工程順に概
略的に示した部分断面図である。まず、図1(a)に示
すように、第1の保護フィルム1の一方の表面に、凹凸
部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm≦Ra≦5μmで
あり、且つ表面の2.5mmの長さにおける粗さ曲線の
凹凸の平均高さ(Rc)のカウント値(n)が、1μm
≦Rc≦10μmにおいて200個以上、好ましくは5
00個以上、0.1μm≦Rc≦1μmにおいて200
0個以上、好ましくは2500個以上となるように、サ
ンドブラスト法で無数の凹凸を形成し、凹凸面2とす
る。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIGS. 1A to 1C are partial cross-sectional views schematically showing the steps of manufacturing a dry film for a multilayer printed wiring board according to the present invention in the order of steps. First, as shown in FIG. 1 (a), on one surface of the first protective film 1, the center line average roughness (Ra) of the uneven portion is 1 μm ≦ Ra ≦ 5 μm, and the surface is 2.5 mm. The count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at the length of 1 μm is 1 μm
200 or more, preferably 5 when ≦ Rc ≦ 10 μm
00 or more, 200 when 0.1 μm ≦ Rc ≦ 1 μm
Numerous irregularities are formed by sandblasting so as to have 0 or more, and preferably 2500 or more, to form the irregular surface 2.

【0021】第1の保護フィルム1は、光硬化性及び/
又は熱硬化性樹脂組成物を塗布して得られる絶縁樹脂層
3を支持するものであり、適度な可撓性を有する必要が
ある。一般に、厚さが10〜200μmのポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルムが用いられるが、こ
のほかにポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリ塩化ビニル等の合成樹脂フィルム等も好適に
使用される。凹凸面2の微小凹凸は、後述するように絶
縁樹脂層3に凹凸を付与するために必要であり、上記の
範囲において、絶縁樹脂層3に転写された凹凸面とめっ
き層8との接合面積が大きく増大し、これによりめっき
層8との高い接着強度が得られる。
The first protective film 1 has a photo-curing property and / or
Alternatively, it supports the insulating resin layer 3 obtained by applying the thermosetting resin composition, and needs to have appropriate flexibility. Generally, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 10 to 200 μm is used. In addition, a synthetic resin film such as polyethylene, polypropylene, polycarbonate, and polyvinyl chloride is preferably used. The minute unevenness of the uneven surface 2 is necessary for providing unevenness to the insulating resin layer 3 as described later, and within the above range, the bonding area between the uneven surface transferred to the insulating resin layer 3 and the plating layer 8 Is greatly increased, whereby a high adhesive strength with the plating layer 8 is obtained.

【0022】尚、前記第1の保護フィルム1の凹凸面2
は、その凹凸部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm>R
aとなると、充分なアンカー効果が得られず、絶縁樹脂
層3に転写された凹凸面とめっき層8との接着強度が低
下し、一方、Ra>5μmとなると、上面に形成される
めっき層8を薄膜配線導体に微細加工できなくなる。従
って、絶縁樹脂層3に転写される第1の保護フィルム1
の凹凸面2(従って、転写された絶縁樹脂層3の凹凸
面)は、その凹凸部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm
≦Ra≦5μmの範囲となるようにすることが必要であ
る。
The uneven surface 2 of the first protective film 1
Is that the center line average roughness (Ra) of the uneven portion is 1 μm> R
If a> a, a sufficient anchor effect cannot be obtained, and the adhesive strength between the uneven surface transferred to the insulating resin layer 3 and the plating layer 8 decreases, while if Ra> 5 μm, the plating layer formed on the upper surface 8 cannot be finely processed into a thin film wiring conductor. Therefore, the first protective film 1 transferred to the insulating resin layer 3
The uneven surface 2 (accordingly, the uneven surface of the transferred insulating resin layer 3) has a center line average roughness (Ra) of 1 μm.
It is necessary to satisfy the range of ≦ Ra ≦ 5 μm.

【0023】また、絶縁樹脂層3に転写される第1の保
護フィルム1の凹凸面2は、その表面の2.5mmの長
さにおける粗さ曲線の凹凸の平均高さ(Rc)のカウン
ト値(n)が、1μm≦Rc≦10μmにおいて200
個未満、0.1μm≦Rc≦1μmにおいて2000個
未満となると、絶縁樹脂層に転写された凹凸面とめっき
層8との接着強度が低下してしまう。従って、絶縁樹脂
層3に転写される第1の保護フィルム1の凹凸面2(従
って、転写された絶縁樹脂層3の凹凸面)は、その表面
の2.5mmの長さにおける粗さ曲線の凹凸の平均高さ
(Rc)のカウント値(n)が、1μm≦Rc≦10μ
mにおいて200個以上、0.1μm≦Rc≦1μmに
おいて2000個以上の範囲となるようにする必要があ
る。
The uneven surface 2 of the first protective film 1 transferred to the insulating resin layer 3 has a count value of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at a length of 2.5 mm on the surface. (N) is 200 when 1 μm ≦ Rc ≦ 10 μm
If the number is less than 2,000 and less than 2,000 in 0.1 μm ≦ Rc ≦ 1 μm, the adhesive strength between the uneven surface transferred to the insulating resin layer and the plating layer 8 is reduced. Therefore, the uneven surface 2 of the first protective film 1 transferred to the insulating resin layer 3 (accordingly, the transferred uneven surface of the insulating resin layer 3) has a roughness curve of 2.5 mm on the surface. The count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness is 1 μm ≦ Rc ≦ 10 μ
It is necessary to set the range to be 200 or more in m and 2000 or more in 0.1 μm ≦ Rc ≦ 1 μm.

【0024】尚、絶縁樹脂層3に転写された凹凸面の中
心線平均粗さ(Ra)及び表面の2.5mmの長さにお
ける粗さ曲線の凹凸の平均高さ(Rc)のカウント値
(n)は、絶縁樹脂層3の表面を原子間顕微鏡(AF
M:オリンパス(株)製、NV3000)で50μm走
査させ、AC(共振)モードて測定した結果により各々
の数値を出した。
The count value of the center line average roughness (Ra) of the uneven surface transferred to the insulating resin layer 3 and the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at a length of 2.5 mm of the surface (Rc). n) shows the surface of the insulating resin layer 3 as an atomic force microscope (AF).
M: Scanned by Olympus Corporation, NV3000) at 50 μm, and each numerical value was obtained based on the result of measurement in AC (resonance) mode.

【0025】次に、図1(b)に示すように、第1の保
護フィルムの凹凸面2上に、光硬化性及び/又は熱硬化
性樹脂組成物を均一に塗布し、乾燥させて絶縁樹脂層3
を形成する。塗布方式としては、アプリケーター、バー
コーター、ロールコーター、カーテンフローコーター等
が挙げられるが、これらの方法に限られるものではな
い。乾燥膜厚は、導電導体回路厚に応じて10〜100
μmになるように塗布することが好ましい。
Next, as shown in FIG. 1 (b), a photocurable and / or thermosetting resin composition is uniformly applied onto the uneven surface 2 of the first protective film, and dried to form an insulating material. Resin layer 3
To form Examples of the coating method include an applicator, a bar coater, a roll coater, and a curtain flow coater, but are not limited to these methods. The dry film thickness is 10 to 100 depending on the thickness of the conductive circuit.
It is preferable to apply so that the thickness becomes μm.

【0026】次いで、図1(c)に示すように、絶縁樹
脂層3の上に第2の保護フィルム4を貼り合わせて多層
プリント配線板用ドライフィルムを形成する。ここで用
いる第2の保護フィルムは、ドライフィルム未使用時に
は光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物の乾燥物から
なる絶縁樹脂層3を安定的に保護するためのもので、使
用時には剥ぎ取られる。従って、ドライフィルム未使用
時には剥がれ難く、使用に際しては容易に剥がすことの
できる適度な離型性を有する必要がある。このような条
件を満たす材料として、シリコーンをコーティング、特
に焼き付けコーティングした膜厚10〜200μmのP
ETフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン
フィルム等が好適に用いられる。この離型性は、同様の
理由で第1の保護フィルム1にも適用することが好まし
い。
Next, as shown in FIG. 1C, a second protective film 4 is laminated on the insulating resin layer 3 to form a dry film for a multilayer printed wiring board. The second protective film used here is for stably protecting the insulating resin layer 3 made of a dried product of the photocurable and / or thermosetting resin composition when the dry film is not used. Taken. Therefore, it is necessary to have an appropriate releasability that is difficult to peel off when the dry film is not used and that can be easily peeled off when used. As a material that satisfies such conditions, silicone is coated, in particular, baking-coated P having a thickness of 10 to 200 μm.
An ET film, a polyethylene film, a polypropylene film and the like are preferably used. This releasability is preferably applied to the first protective film 1 for the same reason.

【0027】前記光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成
物において、フォトビアホールを形成する現像型のもの
としては、環境問題への配慮から、現像液として希アル
カリ水溶液を用いるアルカリ現像タイプの光硬化性及び
熱硬化性樹脂組成物が好ましい。このような光硬化性及
び熱硬化性樹脂組成物としては、例えば、ノボラック型
エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の反応生成物に酸無水
物を付加して得られるカルボキシル基含有感光性樹脂を
用いた組成物(特開昭61−243869号公報参
照)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂とジメチロ
ールプロピオン酸とアクリル酸の反応生成物にテトラヒ
ドロフタル酸無水物を反応させて得られるカルボキシル
基含有感光性樹脂を用いた組成物(特開平6−3244
90号公報参照)、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂とアクリル酸とp−ヒドロキシフェネチルアルコール
の反応生成物にテトラヒドロフタル酸無水物を反応させ
て得られるカルボキシル基含有感光性樹脂を用いた組成
物(特開平11−288091号公報参照)などがあ
る。
In the photo-curable and / or thermosetting resin composition, as a developing type for forming a photo via hole, an alkali developing type light using a dilute alkaline aqueous solution as a developing solution in consideration of environmental problems. Curable and thermosetting resin compositions are preferred. As such a photocurable and thermosetting resin composition, for example, a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an acid anhydride to a reaction product of a novolak type epoxy compound and an unsaturated monobasic acid is used. (See JP-A-61-243869), a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting tetrahydrophthalic anhydride with a reaction product of a cresol novolak type epoxy resin, dimethylolpropionic acid and acrylic acid. (JP-A-6-3244)
No. 90), a composition using a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting tetrahydrophthalic anhydride with a reaction product of a cresol novolac epoxy resin, acrylic acid and p-hydroxyphenethyl alcohol. 11-288091).

【0028】また、レーザー光の選択的照射によってバ
イアホールを形成する光硬化性及び熱硬化性樹脂組成物
としては、例えば、紫外線硬化性モノマー又はオリゴマ
ーとエポキシ樹脂の混合物からなる組成物(特開平5−
186729号公報)のように、光硬化性成分と熱硬化
性成分を含有してなる組成物の他、カチオン重合触媒及
びカチオン重合性を有する基を有する樹脂、エポキシ樹
脂やオキセタン化合物を含有する組成物などがある。
Examples of the photocurable and thermosetting resin composition which forms a via hole by selective irradiation with a laser beam include, for example, a composition comprising a mixture of an ultraviolet-curable monomer or oligomer and an epoxy resin (Japanese Patent Laid-Open No. 5-
186729), in addition to a composition containing a photocurable component and a thermosetting component, a composition containing a cationic polymerization catalyst and a resin having a cationically polymerizable group, an epoxy resin and an oxetane compound. There are things.

【0029】さらに、レーザー光の選択的照射によって
バイアホールを形成する熱硬化性樹脂組成物としては、
熱硬化型のソルダーレジスト組成物に用いられているエ
ポキシ樹脂組成物やオキセタン化合物含有組成物などを
用いることができる。さらに、前記熱硬化型のソルダー
レジスト組成物に用いられているエポキシ樹脂組成物や
オキセタン化合物含有組成物に熱可塑性樹脂を配合して
なる組成物を用いることもできる。
Further, as a thermosetting resin composition which forms a via hole by selective irradiation with a laser beam,
An epoxy resin composition or an oxetane compound-containing composition used for a thermosetting solder resist composition can be used. Furthermore, a composition obtained by blending a thermoplastic resin with the epoxy resin composition or the oxetane compound-containing composition used in the thermosetting solder resist composition can also be used.

【0030】次に、図2を参照しながら本発明の第一の
態様の多層プリント配線板の製造方法の一例について説
明するが、下記方法に限定されるものでないことは言う
までもなく、本発明の多層プリント配線板用ドライフィ
ルムは、用いる絶縁樹脂層の材料に応じて、従来公知の
種々の多層プリント配線板の製造方法に適用できる。ま
ず、銅張り積層板をエッチングして、図2(a)に示す
ような基板5上に導体回路6を形成した片面プリント配
線板を準備する。次に、前記図1(c)に示す多層プリ
ント配線板用ドライフィルムの第2の保護フィルム4を
剥ぎ取り、図2(b)に示すように、上記導体回路6を
形成した基板5上に絶縁樹脂層3の面が密着するように
熱圧着する。その後、レジストパターンを有するネガフ
ィルムを第1の保護フィルム1の表面に密着させ、紫外
線露光装置を用いて、紫外線を照射する。次いで、第1
の保護フィルム1を剥ぎ取り、現像し、未露光部分を溶
解除去し、図2(c)に示すようなフォトビアホール7
を形成する。その後、加熱硬化を行ない、表面に上記第
1の保護フィルム1の凹凸面2が転写された凹凸面を有
する所定のパターンの硬化皮膜からなる絶縁樹脂層3を
形成する。
Next, an example of a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2, but it is needless to say that the present invention is not limited to the following method. The dry film for a multilayer printed wiring board can be applied to various conventionally known methods for manufacturing a multilayer printed wiring board, depending on the material of the insulating resin layer to be used. First, a copper-clad laminate is etched to prepare a single-sided printed wiring board having a conductor circuit 6 formed on a substrate 5 as shown in FIG. Next, the second protective film 4 of the dry film for a multilayer printed wiring board shown in FIG. 1C is peeled off, and as shown in FIG. Thermocompression bonding is performed so that the surface of the insulating resin layer 3 is in close contact. Thereafter, a negative film having a resist pattern is brought into close contact with the surface of the first protective film 1 and irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet exposure device. Then the first
The protective film 1 is peeled off, developed, and unexposed portions are dissolved and removed, and the photo via hole 7 as shown in FIG.
To form Thereafter, heat curing is performed to form an insulating resin layer 3 made of a cured film of a predetermined pattern having an uneven surface on which the uneven surface 2 of the first protective film 1 is transferred.

【0031】次に、図2(d)に示すように、絶縁樹脂
層3の凹凸面上に化学めっき、電気めっきを施し、めっ
き層8を被覆し、常法に従って所定のパターン通りにエ
ッチングし、第2層の導体回路を形成する。本発明の多
層プリント配線板の製造方法によれば、従来方法のよう
な粗化工程がないため、図5(b)に示すような微粉末
粒子及び図6(c)に示すようなエポキシ樹脂粉末に起
因するピンホールによって発生する各層間の導体回路6
のショートを確実に防止できる。なお、本例では、片面
プリント配線板を用いた例について説明したが、両面基
板を用いても同様に適用できる。また、前記した各工程
を繰り返すことによって、さらに多層のプリント配線板
を製造できることは言うまでもない。
Next, as shown in FIG. 2D, the uneven surface of the insulating resin layer 3 is subjected to chemical plating and electroplating to cover the plating layer 8, and is etched according to a predetermined pattern according to a conventional method. To form a second-layer conductive circuit. According to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, since there is no roughening step as in the conventional method, fine powder particles as shown in FIG. 5B and epoxy resin as shown in FIG. Conductive circuit 6 between layers caused by pinholes caused by powder
Can be reliably prevented. In this example, an example using a single-sided printed wiring board has been described. However, the present invention can be similarly applied using a double-sided board. Needless to say, by repeating the above steps, a multilayer printed wiring board can be manufactured.

【0032】以下、本発明の効果を具体的に確認した一
実施例についてさらに具体的に説明するが、本発明が下
記実施例に限定されるものでないことはもとよりであ
る。
Hereinafter, an example in which the effects of the present invention have been specifically confirmed will be described more specifically. However, it goes without saying that the present invention is not limited to the following examples.

【0033】実施例1 まず、図1(a)に示すように、シリコーンを焼き付け
コーティングした厚さが50μmのPETフィルムの一
方の面に、凹凸部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm≦
Ra≦5μmであり、且つ表面の2.5mmの長さにお
ける粗さ曲線の凹凸の平均高さ(Rc)のカウント値
(n)が、1μm≦Rc≦10μmにおいて500個以
上、0.1μm≦Rc≦1μmにおいて2500個以上
となるように、サンドブラスト法によって凹凸加工を施
した。このようにして凹凸面2を形成したフィルムに、
図1(b)に示すように、上記凹凸面2上に光硬化性及
び熱硬化性樹脂組成物(太陽インキ製造(株)製、PV
I−500/SA−50)をアプリケーターにて50μ
mの厚さに塗布し、熱風乾燥器にて80℃で15分間乾
燥させ、絶縁樹脂層3を形成した。次いで、シリコーン
を焼き付けコーティングした厚さが50μmのPETフ
ィルムを第2の保護フィルムとして、絶縁樹脂層3に貼
り合わせて図1(c)に示すような多層プリント配線板
用アルカリ現像型ドライフィルムを作製した。
Example 1 First, as shown in FIG. 1 (a), the center line average roughness (Ra) of the uneven portion was 1 μm ≦
Ra ≦ 5 μm, and the count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at a length of 2.5 mm on the surface is 500 or more when 0.1 μm ≦ Rc ≦ 10 μm, and 0.1 μm ≦ Irregularity processing was performed by the sandblasting method so that the number of pieces was 2500 or more when Rc ≦ 1 μm. In the film having the uneven surface 2 formed in this way,
As shown in FIG. 1B, a photo-curable and thermo-curable resin composition (manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd., PV
I-500 / SA-50) with an applicator to 50μ
m and dried with a hot air drier at 80 ° C. for 15 minutes to form an insulating resin layer 3. Next, a PET film having a thickness of 50 μm obtained by baking and coating silicone is adhered to the insulating resin layer 3 as a second protective film to form an alkali developing dry film for a multilayer printed wiring board as shown in FIG. Produced.

【0034】次に、銅張り積層板をエッチングして、図
2(a)に示すような基板5上に導体回路6を形成した
片面プリント配線板を準備した。次に、図1の工程によ
って得られた前記多層プリント配線板用アルカリ現像型
ドライフィルムの第2の保護フィルム4を剥ぎ取り、図
2(b)に示すように、上記導体回路6を形成した基板
5上に絶縁樹脂層3の面が密着するように熱圧着した。
次いで、レジストパターンを有するネガフィルムを第1
の保護フィルム1の表面に密着させ、紫外線露光装置
((株)オーク製作所、型式HMW−680GW)を用
いて、紫外線を照射した(露光量500mJ/c
2)。次いで、1%の炭酸ナトリウム水溶液で60秒
間、2.0kg/cm2のスプレー圧で現像し、未露光
部分を溶解除去し、図2(c)に示すようなフォトビア
ホール7を形成した。その後、150℃の熱風乾燥器で
60分加熱硬化を行ない、表面に上記第1の保護フィル
ム1の凹凸面2が転写された凹凸面を有する所定のパタ
ーンの硬化皮膜からなる絶縁樹脂層3を形成した。
Next, the copper-clad laminate was etched to prepare a single-sided printed wiring board having a conductor circuit 6 formed on a substrate 5 as shown in FIG. 2A. Next, the second protective film 4 of the alkali-developable dry film for a multilayer printed wiring board obtained by the process of FIG. 1 was peeled off, and as shown in FIG. 2B, the conductor circuit 6 was formed. Thermocompression bonding was performed so that the surface of the insulating resin layer 3 was in close contact with the substrate 5.
Next, a negative film having a resist pattern is
The protective film 1 was in close contact with the surface of the protective film 1 and was exposed to ultraviolet light (exposure amount 500 mJ / c) using an ultraviolet light exposure device (Oak Manufacturing Co., Ltd., model HMW-680GW).
m 2 ). Subsequently, development was performed with a 1% aqueous solution of sodium carbonate for 60 seconds at a spray pressure of 2.0 kg / cm 2 , and the unexposed portions were dissolved and removed, thereby forming photo via holes 7 as shown in FIG. 2C. Thereafter, heat curing is performed for 60 minutes in a hot-air dryer at 150 ° C., and the insulating resin layer 3 made of a cured film having a predetermined pattern having an uneven surface on which the uneven surface 2 of the first protective film 1 is transferred is formed. Formed.

【0035】次に、図2(d)に示すように、絶縁樹脂
層3の凹凸面上に化学めっき,電気めっきを施し、めっ
き層8を被覆した。このようにして作製した評価基板の
構造を図3に示す。図3において、中心線より左半分が
絶縁部、フォトビアホールを形成した右半分が導通部で
ある。次に、作製した評価基板10枚の電気絶縁性を評
価したところ、導通孔部は良好な導通性を示し、絶縁部
は平均絶縁抵抗値1.8×1012の良好な電気絶縁性を
示した。なお、測定方法は、図4に示すように、めっき
層8に接続端子20を載せ、導体回路6の部分を接続グ
リッパ21で挟持し、絶縁抵抗器で測定した。
Next, as shown in FIG. 2D, chemical plating and electroplating were performed on the uneven surface of the insulating resin layer 3 to cover the plating layer 8. FIG. 3 shows the structure of the evaluation substrate thus manufactured. In FIG. 3, the left half from the center line is an insulating portion, and the right half where a photo via hole is formed is a conducting portion. Next, when the electrical insulation of the 10 evaluation substrates thus manufactured was evaluated, the conduction hole portion showed good electrical conductivity, and the insulating portion showed good electrical insulation with an average insulation resistance of 1.8 × 10 12. Was. In addition, as shown in FIG. 4, the connection terminal 20 was mounted on the plating layer 8, the portion of the conductor circuit 6 was held by the connection gripper 21, and the measurement was performed with an insulation resistor.

【0036】比較例1図5に示すような酸による粗化処
理工程を含む方法により比較用の評価基板を作製した。
まず、前記実施例1と同様の片面プリント配線板を準備
した。次に、製造工程による差の影響のみが明確になる
ように、微粉末入り絶縁樹脂層9として実施例1で用い
た光硬化性及び熱硬化性樹脂組成物(太陽インキ製造
(株)製、PVI−500/SA−50)を前記片面プ
リント配線板に塗布し、熱風乾燥器にて80℃で15分
間乾燥した。次いで、条件を同一にするために、凹凸面
を形成していない第一の保護フィルムと同様のシリコー
ンを焼き付けコーティングした厚さが50μmのPET
フィルムを乾燥塗膜上に密着させ、さらにレジストパタ
ーンを有するネガフィルムを前記フィルムの表面に密着
させて、紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式H
MW−680GW)を用いて、紫外線を照射した(露光
量500mJ/cm2)。次いで、1%の炭酸ナトリウ
ム水溶液で60秒間、2.0kg/cm2のスプレー圧
で現像し、未露光部分を溶解除去し、図2(c)に示す
ようなフォトビアホール7を形成した。その後、150
℃の熱風乾燥器で60分加熱硬化を行なった。次いで、
過マンガン酸カリウム溶液を用いて常法による表面の粗
面化処理を行ない、図5(c)に示すような、微粉末入
り樹脂絶縁層9の表面に凹部10を形成した。
Comparative Example 1 A comparative evaluation substrate was prepared by a method including a roughening treatment step using an acid as shown in FIG.
First, a single-sided printed wiring board similar to that of Example 1 was prepared. Next, the photo-curable and thermo-curable resin composition (manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd., PVI-500 / SA-50) was applied to the single-sided printed wiring board, and dried at 80 ° C. for 15 minutes using a hot air drier. Then, in order to make the conditions the same, the same silicone as the first protective film having no uneven surface was baked and coated with a PET having a thickness of 50 μm.
The film was brought into close contact with the dried coating film, and further a negative film having a resist pattern was brought into close contact with the surface of the film, and an ultraviolet exposure apparatus (Oak Manufacturing Co., Ltd., Model H
MW-680 GW) (ultraviolet light irradiation: 500 mJ / cm 2 ). Subsequently, development was performed with a 1% aqueous solution of sodium carbonate for 60 seconds at a spray pressure of 2.0 kg / cm 2 , and the unexposed portions were dissolved and removed, thereby forming photo via holes 7 as shown in FIG. 2C. Then 150
The composition was heated and cured in a hot air drier at 60 ° C. for 60 minutes. Then
Using a potassium permanganate solution, a surface roughening treatment was performed by a conventional method to form a concave portion 10 on the surface of the fine powder-containing resin insulating layer 9 as shown in FIG.

【0037】次に、実施例1と同様に、図5(d)に示
すように凹部10を形成した微粉末入り絶縁樹脂層9の
表面に化学めっき、電気めっきを施し、めっき層8を被
覆した。このようにして作製した評価基板10枚の電気
絶縁性を、前記実施例1と同様の方法で評価したとこ
ろ、導通部は良好な導通性を示したものの、絶縁部につ
いては10枚中3枚が導通(ショート)し、残り7枚の
平均絶縁抵抗値も5.3×108と低い絶縁性を示し
た。
Next, as shown in FIG. 5D, the surface of the insulating resin layer 9 containing the fine powder in which the recess 10 is formed is subjected to chemical plating and electroplating to cover the plating layer 8 as shown in FIG. did. When the electrical insulation of the ten evaluation substrates thus manufactured was evaluated in the same manner as in Example 1, the conductive portions showed good electrical conductivity, but three out of the ten insulating substrates showed good electrical conductivity. Became conductive (short-circuited), and the average insulation resistance value of the remaining seven sheets also showed a low insulation property of 5.3 × 10 8 .

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の多層プリ
ント配線板用ドライフィルムは、予め第1の保護フィル
ムの一方の表面に、サンドブラスト法等によって、凹凸
部の中心線平均粗さ(Ra)が1μm≦Ra≦5μmで
あり、且つ表面の2.5mmの長さにおける粗さ曲線の
凹凸の平均高さ(Rc)のカウント値(n)が、1μm
≦Rc≦10μmにおいて200個以上、0.1μm≦
Rc≦1μmにおいて2000個以上の凹凸面を形成し
ておき、この第1の保護フィルムの凹凸面に光硬化性及
び/又は熱硬化性樹脂組成物を塗布・乾燥することによ
り絶縁樹脂層を形成し、その上に第2の保護フィルムを
貼り合わせたものであるため、樹脂絶縁層に予め極めて
簡単に凹凸面を付与しておくことができる。このような
多層プリント配線板用ドライフィルムを用いることによ
って、導体回路を形成した基板上に絶縁樹脂層を圧着し
た段階でその表面には既に凹凸面を有しているため、こ
の表面上に従来のように粗面化処理をしなくても密着性
良くめっき層を被覆して導体回路を形成でき、そのた
め、ピンホールの発生がなく、導体回路間のショートの
ない信頼性の高い、層間接着強度に優れた多層プリント
配線板を提供できる。また、粗面化処理を必要としない
ため、多層プリント配線板の製造工程が短縮され、且
つ、粗面化処理によって生じていた廃棄物の発生が無く
なるため環境への影響も低減される。
As described above, in the dry film for a multilayer printed wiring board of the present invention, the center line average roughness (Ra) of the uneven portion is formed on one surface of the first protective film in advance by sandblasting or the like. ) Is 1 μm ≦ Ra ≦ 5 μm, and the count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at the length of 2.5 mm on the surface is 1 μm
≦ Rc ≦ 200 μm or more at 10 μm, 0.1 μm ≦
When Rc ≦ 1 μm, 2,000 or more uneven surfaces are formed, and an insulating resin layer is formed by applying and drying a photocurable and / or thermosetting resin composition on the uneven surface of the first protective film. In addition, since the second protective film is bonded to the resin insulating layer, the uneven surface can be provided to the resin insulating layer very easily in advance. By using such a dry film for a multilayer printed wiring board, the surface already has an uneven surface when the insulating resin layer is pressed on the substrate on which the conductive circuit is formed. It is possible to form a conductor circuit by covering the plating layer with good adhesion without roughening treatment as described above, so that there is no occurrence of pinholes, there is no short circuit between conductor circuits, and reliable interlayer bonding A multilayer printed wiring board having excellent strength can be provided. Further, since the surface roughening treatment is not required, the manufacturing process of the multilayer printed wiring board is shortened, and the generation of waste generated by the surface roughening treatment is eliminated, thereby reducing the influence on the environment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層プリント配線板用ドライフィルム
の製造工程の一実施例を工程順に概略的に示した部分断
面図である。
FIG. 1 is a partial sectional view schematically showing one embodiment of a manufacturing process of a dry film for a multilayer printed wiring board according to the present invention in the order of processes.

【図2】本発明による多層プリント配線板の製造方法の
一実施例を工程順に概略的に示した部分断面図である。
FIG. 2 is a partial sectional view schematically showing one embodiment of a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention in the order of steps.

【図3】本発明の多層プリント配線板の製造方法及び従
来の多層プリント配線板の製造方法により作製した実施
例1及び比較例1の評価基板の概略構成を示し、(a)
は平面図、(b)は断面図である。
FIGS. 3A and 3B show schematic configurations of evaluation boards of Example 1 and Comparative Example 1 manufactured by a method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention and a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board, respectively.
Is a plan view, and (b) is a sectional view.

【図4】実施例1及び比較例1で作製した評価基板の絶
縁抵抗の測定方法を示す概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating a method for measuring the insulation resistance of an evaluation substrate manufactured in Example 1 and Comparative Example 1.

【図5】従来の多層プリント配線板の製造方法の一例を
工程順に概略的に示した部分断面図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board in the order of steps.

【図6】従来の多層プリント配線板の製造方法の他の例
を工程順に概略的に示した部分断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view schematically showing another example of a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board in the order of steps.

【符号の説明】 1 第1の保護フィルム 2 凹凸面 3 光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物による絶縁
樹脂層 4 第2の保護フィルム 5 基板 6 導体回路 7 フォトビアホール 8 めっき層 9 微粉末入り絶縁樹脂層 10 凹部 11 ピンホール 12 耐熱性エポキシ樹脂による絶縁樹脂層 13 エポキシ樹脂粉末
[Description of Signs] 1 First protective film 2 Uneven surface 3 Insulating resin layer made of photocurable and / or thermosetting resin composition 4 Second protective film 5 Substrate 6 Conductor circuit 7 Photovia hole 8 Plating layer 9 Fine Insulating resin layer containing powder 10 Depression 11 Pinhole 12 Insulating resin layer made of heat-resistant epoxy resin 13 Epoxy resin powder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E343 AA07 BB24 BB67 CC01 CC44 DD33 DD43 DD76 EE37 GG14 5E346 CC32 DD02 DD12 DD25 EE08 GG15 GG22 HH08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E343 AA07 BB24 BB67 CC01 CC44 DD33 DD43 DD76 EE37 GG14 5E346 CC32 DD02 DD12 DD25 EE08 GG15 GG22 HH08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の表面に、凹凸部の中心線平均粗さ
(Ra)が1μm≦Ra≦5μmであり、且つ表面の
2.5mmの長さにおける粗さ曲線の凹凸の平均高さ
(Rc)のカウント値(n)が、1μm≦Rc≦10μ
mにおいて200個以上、0.1μm≦Rc≦1μmに
おいて2000個以上の凹凸面が形成されている第1の
保護フィルムと、該第1の保護フィルムの凹凸面上に積
層された光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物の乾燥
物からなる絶縁樹脂層と、該絶縁樹脂層上に積層された
第2の保護フィルムとからなることを特徴とする多層プ
リント配線板用ドライフィルム。
1. A method according to claim 1, wherein the surface has a center line average roughness (Ra) of 1 μm ≦ Ra ≦ 5 μm, and an average height of roughness of a roughness curve at a length of 2.5 mm on the surface. The count value (n) of Rc) is 1 μm ≦ Rc ≦ 10 μ
a first protective film in which at least 200 irregularities are formed at m, and at least 2000 irregularities are formed at 0.1 μm ≦ Rc ≦ 1 μm; and photocurability laminated on the irregularities of the first protective film; A dry film for a multilayer printed wiring board, comprising: an insulating resin layer made of a dried thermosetting resin composition; and a second protective film laminated on the insulating resin layer.
【請求項2】 前記請求項1記載の多層プリント配線板
用ドライフィルムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶
縁樹脂層の面が密着するように、導体回路を形成した基
板上に熱圧着する工程と、レジストパターンを有するフ
ィルムを第1の保護フィルム面に密着させ露光した後、
第1の保護フィルムを剥ぎ取り、現像を行なってフォト
ビアホールを形成する工程と、絶縁樹脂層を加熱硬化す
る工程と、加熱硬化した絶縁樹脂層の表面にめっき層を
被覆した後、所定のパターンに従ってエッチングして導
体回路を形成する工程とを含むことを特徴とする多層プ
リント配線板の製造方法。
2. The second protective film of the dry film for a multilayer printed wiring board according to claim 1, which is peeled off and thermocompression-bonded onto a substrate on which a conductive circuit is formed so that the surface of the insulating resin layer is in close contact. After the step and the film having the resist pattern is brought into close contact with the first protective film surface and exposed,
Peeling off the first protective film, developing to form a photo via hole, heating and curing the insulating resin layer, and coating the surface of the heat-cured insulating resin layer with a plating layer to form a predetermined pattern. Forming a conductive circuit by etching according to the following.
【請求項3】 前記請求項1記載の多層プリント配線板
用ドライフィルムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶
縁樹脂層の面が密着するように、導体回路を形成した基
板上に熱圧着する工程と、冷却するか又は全面露光した
後、第1の保護フィルムを剥ぎ取り、絶縁樹脂層を加熱
するか又は全面露光して硬化する工程と、硬化した絶縁
樹脂層にレーザー光を選択的に照射してバイアホールを
形成する工程と、バイアホールを形成した絶縁樹脂層の
表面にめっき層を被覆した後、所定のパターンに従って
エッチングして導体回路を形成する工程とを含むことを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
3. A dry film for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the second protective film is peeled off and thermocompression-bonded onto a substrate on which a conductive circuit is formed so that the surface of the insulating resin layer is in close contact. A step of, after cooling or exposing the entire surface, peeling off the first protective film, heating the insulating resin layer or exposing the entire surface to cure, and selectively applying a laser beam to the cured insulating resin layer. Forming a via hole by irradiating, and covering the surface of the insulating resin layer having the via hole with a plating layer, and then etching according to a predetermined pattern to form a conductor circuit. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board.
【請求項4】 前記請求項1記載の多層プリント配線板
用ドライフィルムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶
縁樹脂層の面が密着するように、導体回路を形成した基
板上に熱圧着する工程と、絶縁樹脂層を加熱するか又は
全面露光して硬化する工程と、第1の保護フィルムを剥
ぎ取り、硬化した絶縁樹脂層にレーザー光を選択的に照
射してバイアホールを形成する工程と、バイアホールを
形成した絶縁樹脂層の表面にめっき層を被覆した後、所
定のパターンに従ってエッチングして導体回路を形成す
る工程とを含むことを特徴とする多層プリント配線板の
製造方法。
4. A dry film for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the second protective film is peeled off and thermocompression-bonded onto a substrate on which a conductive circuit is formed so that the surface of the insulating resin layer is in close contact with the second protective film. Heating the insulating resin layer or exposing the entire surface to cure, and removing the first protective film, and selectively irradiating the cured insulating resin layer with a laser beam to form a via hole. And a step of forming a conductor circuit by covering a surface of the insulating resin layer with the via hole with a plating layer, and then etching according to a predetermined pattern.
【請求項5】 前記請求項1記載の多層プリント配線板
用ドライフィルムの第2の保護フィルムを剥ぎ取り、絶
縁樹脂層の面が密着するように、導体回路を形成した基
板上に熱圧着する工程と、第1の保護フィルムを剥ぎ取
り、絶縁樹脂層を加熱硬化する工程と、加熱硬化した絶
縁樹脂層にレーザー光を選択的に照射してバイアホール
を形成する工程と、バイアホールを形成した絶縁樹脂層
の表面にめっき層を被覆した後、所定のパターンに従っ
てエッチングして導体回路を形成する工程とを含むこと
を特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
5. A dry film for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the second protective film is peeled off and thermocompression-bonded onto a substrate on which a conductive circuit is formed so that the surface of the insulating resin layer is in close contact. Removing the first protective film and heating and curing the insulating resin layer; selectively irradiating the heat-cured insulating resin layer with laser light to form a via hole; and forming the via hole. Forming a conductive circuit by coating the surface of the insulating resin layer with a plating layer, and then etching according to a predetermined pattern to form a conductive circuit.
【請求項6】 配線基板上に、絶縁樹脂層を介して導体
回路が形成された多層プリント配線板において、上記絶
縁樹脂層の少なくとも配線基板と反対側の面に、凹凸部
の中心線平均粗さ(Ra)が1μm≦Ra≦5μmであ
り、且つ表面の2.5mmの長さにおける粗さ曲線の凹
凸の平均高さ(Rc)のカウント値(n)が、1μm≦
Rc≦10μmにおいて200個以上、0.1μm≦R
c≦1μmにおいて2000個以上の凹凸面が形成さ
れ、該凹凸面上に導体回路が積層されていることを特徴
とする多層プリント配線板。
6. A multilayer printed wiring board in which a conductive circuit is formed on a wiring board via an insulating resin layer, wherein at least a surface of the insulating resin layer opposite to the wiring board has a center line average roughness of an uneven portion. The height (Ra) is 1 μm ≦ Ra ≦ 5 μm, and the count value (n) of the average height (Rc) of the unevenness of the roughness curve at the length of 2.5 mm on the surface is 1 μm ≦
200 or more at Rc ≦ 10 μm, 0.1 μm ≦ R
A multilayer printed wiring board, wherein at least 2000 irregularities are formed when c ≦ 1 μm, and a conductor circuit is laminated on the irregularities.
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