JP2002182586A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 36
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 15
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- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 239000000382 optic material Substances 0.000 claims 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000376292A JP2002182586A (ja) | 2000-12-11 | 2000-12-11 | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および投射型表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000376292A JP2002182586A (ja) | 2000-12-11 | 2000-12-11 | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および投射型表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002182586A JP2002182586A (ja) | 2002-06-26 |
| JP2002182586A5 true JP2002182586A5 (enExample) | 2005-03-17 |
Family
ID=18845169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000376292A Withdrawn JP2002182586A (ja) | 2000-12-11 | 2000-12-11 | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および投射型表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002182586A (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004069790A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Seiko Epson Corp | 凹部付き基板の製造方法、凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
| KR101406954B1 (ko) | 2007-12-11 | 2014-06-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 다중시역 표시장치 |
| JP6237070B2 (ja) | 2013-10-01 | 2017-11-29 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器 |
| JP2016109815A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 | マイクロレンズアレイ基板の製造方法 |
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2000
- 2000-12-11 JP JP2000376292A patent/JP2002182586A/ja not_active Withdrawn
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