JP2002182404A

JP2002182404A - 電子写真感光体用基体の洗浄方法

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Publication number: JP2002182404A
Application number: JP2000384451A
Authority: JP
Inventors: Yasuhide Takashita; 泰秀高下; Fumio Miyamoto; 文夫宮本; Tateshi Mayahara; 立志馬屋原; Sakae Suzuki; 栄鈴木
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-12-18
Filing date: 2000-12-18
Publication date: 2002-06-26
Anticipated expiration: 2020-12-18
Also published as: JP4043189B2

Abstract

(57)【要約】【課題】切削加工・塑性加工品のそれぞれの欠点を同
一ラインで一気に改良することで、欠陥の無い電子写真
感光体用アルミニウム円筒基体の製造方法を提供する。【解決手段】切削加工または塑性加工で得られた電子
写真感光体用基体を同一ラインで洗浄可能な基体洗浄方
法であって、洗浄液とともにブラシによって基体を洗浄
する接触洗浄工程と、該接触洗浄工程の後に、超音波振
動が付与された水系洗浄液中に基体を浸漬して該基体を
洗浄する超音波洗浄からなる洗浄工程と、該洗浄工程の
後に、水または純水を使用して基体に付着した水系洗剤
成分を除去するすすぎ工程と、該すすぎ工程の後に、温
純水中に基体を浸漬して加熱した後に該基体を温純水中
から引き上げて基体に付着した温純水を乾燥させる乾燥
工程を主要な構成とした。その他１３項ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体用
アルミニウム円筒基体表面に感光層を形成する前に、該
基体を洗浄する基体の洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、導電性の円筒基体の
外周面に感光性物質を含有する塗布液を塗布して、基体
外周面に感光層を形成することにより製造される。感光
層を形成する際、基体に油成分、異物等が付着している
と、該塗布液中に基体が浸漬されることにより、塗布液
が汚染され、塗布液が劣化して所定の性質を有する感光
層を形成することができなくなる。

【０００３】このため、感光性物質を含有する塗布液が
基体外周面に塗布される前に、その基体を洗浄する必要
がある。このような基体の洗浄方法としては、溶剤、準
水系洗浄剤、水系洗浄剤、純水を用いて洗浄する方法が
あるが、現在は、オゾン層破壊や地球温暖化、大気汚染
等の環境問題及び人体にも悪影響を及ぼすことから塩素
系溶剤の削減ないし全廃の方向に移行しており、水系洗
浄剤または純水を用いて基体を洗浄する方向に移行して
いる。

【０００４】電子写真感光体用アルミニウム円筒基体
（以下、基体）は、その表面を切削加工、しごき加工あ
るいは冷間引抜き加工などにより加工した物が使われて
いる。しかし、切削加工にて加工した基体の表面には周
方向の切削目に沿ってワイヤー状の微細なバリ等が発生
している。また、塑性加工にて加工した基体の表面には
ササクレやアルミカスの付着等により、長さ方向に沿っ
て微細な欠陥が存在している。

【０００５】このような起上がり状の凸状欠陥を除去す
る方法としては、弾性部材を該円筒基体の表面に押し付
けて除去する方法がある。しかし、この方法においても
すべてのバリを除去することはできない。

【０００６】基体に付着した油分の洗浄方法としては、
洗浄液中において超音波発振器にて超音波を照射させて
洗浄する方法が一般的である。しごき加工あるいは冷間
引抜き加工などにより得た基体表面には、加工時に使用
される高粘度油が付着している。この高粘度油は、超音
波を照射する方法では、完全に除去することができな
い。

【０００７】また、超音波発振器による超音波照射は前
記記載の切削加工のバリ、塑性加工のササクレ等を起上
がらせて、起上がり状の凸状欠陥としてしまう。超音波
発振器による超音波照射による上記記載の切削加工のバ
リ、塑性加工のササクレ等の起上がり状の凸状欠陥を防
止する方法として、超音波照射時間と超音波出力を調整
して起上がり状の凸状欠陥を防止する方法がる。しか
し、この方法においてもすべての起上がり状の凸状欠陥
を防止することはできない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】切削加工，塑性加工さ
れた基体を洗浄するにあたり、それぞれ上記のような問
題が未解決となっている。また、切削加工、塑性加工さ
れた基体の表面状態は異なり、それぞれの用途に合った
洗浄ラインが必要とされている。さらに、近年、プリン
ター、デジタル複写機などレーザー光のような単波長光
を像露光光とする電子写真装置に鏡面管を使用すると画
像にモアレが発生するため、基体の表面はある程度の粗
面が必要とされている。

【０００９】従来、切削バイトを工夫することにより、
切削時に所定の粗面を得る方法が知られているが、この
様に切削バイトを工夫して切削した場合には、円筒基体
の表面には周方向の切削目に沿ってワイヤー状の微細な
バリ等や該円筒基体を塑性加工にて加工した際に発生し
た表面のササクレやアルミカスの付着等により長さ方向
に沿って微細な欠陥が発生してしまい、該円筒基体に塗
工を行うと、電極集中が発生してしまう。また、塑性加
工された基体表面に付着した高粘度油を完全に除去しな
ければ、均一な感光層を形成することができない。

【００１０】本発明の目的は、上記の様な切削加工・塑
性加工品のそれぞれの欠点を同一ラインで一気に改良す
ることで、欠陥の無い電子写真感光体用アルミニウム円
筒基体の洗浄方法を提供することである。また、生産す
る基体が切り替わっても洗浄設備の切替が不要であるな
ど生産効率の良い電子写真感光体用アルミニウム円筒基
体の洗浄方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、下
記の手段により解決される。すなわち、本発明は、第一
に、切削加工または塑性加工で得られた電子写真感光体
用基体を同一ラインで洗浄可能な基体洗浄方法であっ
て、洗浄液とともにブラシによって基体を洗浄する接触
洗浄工程と、該接触洗浄工程の後に、超音波振動が付与
された水系洗浄液中に基体を浸漬して該基体を洗浄する
超音波洗浄からなる洗浄工程と、該洗浄工程の後に、水
または純水を使用して基体に付着した水系洗剤成分を除
去するすすぎ工程と、該すすぎ工程の後に、温純水中に
基体を浸漬して加熱した後に該基体を温純水中から引き
上げて基体に付着した温純水を乾燥させる乾燥工程から
なる電子写真感光体用基体の洗浄方法を主要な特徴とす
る。

【００１２】第二に、上記第一のブラシによる接触洗浄
工程において、ブラシをワークの内・外周面に接触させ
て回転させるに際し、回転方向は外面ブラシと基体は同
一方向に、内面ブラシは外面ブラシと基体と反対方向と
する電子写真感光体用基体の洗浄方法を特徴とする。

【００１３】第三に、上記第一または第二のブラシによ
る接触洗浄工程で、ブラシをワークの内・外周面に接触
させて回転させるに際し、周速を１０ｍ／分以上５０ｍ
／分以下とする電子写真感光体用基体の洗浄方法を特徴
とする。

【００１４】第四に、上記第一の超音波洗浄工程の超音
波周波数が１００ｋＨｚ以上とする電子写真感光体用基
体の洗浄方法を特徴とする。

【００１５】第五に、上記第四の洗浄工程の超音波照射
時間が３０秒以上１２０秒以内である電子写真感光体用
基体の洗浄方法を特徴とする。

【００１６】第六に、上記第一の洗浄工程のすすぎ工程
において、水または純水を基体にシャワーした後、水ま
たは純水中に基体を浸漬させ気泡を接触させる電子写真
感光体用基体の洗浄方法を特徴とする。

【００１７】第七に、上記第一または第六のすすぎ工程
のシャワーにおいて、基体の内外面ともにシャワーを噴
射する際の圧力を０．２ＭＰａ以上１．５ＭＰａ以下と
する電子写真感光体用基体の洗浄方法を特徴とする。

【００１８】第八に、上記第一、第六または第七のすす
ぎ工程のシャワーにおいて、基体１本当たりのシャワー
流量が１Ｌ以上３Ｌ以下とする電子写真感光体用基体の
洗浄方法を特徴とする。

【００１９】第九に、上記第六の洗浄工程の気泡を発生
させるすすぎ工程で、気泡源として圧縮空気、ブロワー
エアー，ポンプエアーを使用する電子写真感光体用基体
の洗浄方法を特徴とする。

【００２０】第十に、上記第六または第九のすすぎ工程
の気泡の大きさは、φ５ｍｍ以上φ１００ｍｍ以下の大
きさである電子写真感光体用基体の洗浄方法を特徴とす
る。

【００２１】第十一に、上記第一、第九または第十のす
すぎ工程のエアー流量が、６０ＮＬ／ｍｉｎ以上８０Ｎ
Ｌ／ｍｉｎ以下である電子写真感光体用基体の洗浄方法
を特徴とする。

【００２２】第十二に、上記第一の洗浄工程における乾
燥工程において、純水温度を７０℃以上９５℃以下とす
る電子写真感光体用基体の洗浄方法を特徴とする。

【００２３】第十三に、上記第一または第十二の乾燥工
程において、温純水の比抵抗が１ＭΩ・ｃｍより小さい
電子写真感光体用基体の洗浄方法を特徴とする。

【００２４】第十四に、上記第一、第十二または第十三
の乾燥工程において、温純水中からの基体の引き上げ速
度を２０ｍｍ／sec 以下とする電子写真感光体用基体の
洗浄方法を特徴とする。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明は、切削加工、しごき加工あるいは冷間引抜き加
工などにより得た電子写真感光体用基体を同一ラインで
感光層の塗膜欠陥を招くことなく洗浄できる電子写真感
光体用基体の洗浄方法である。以下に本発明の実施例に
ついて図面に基づき説明する。まず、ブラシによる接触
洗浄１１が実施される。この接触洗浄１１では、該基体
の内・外周面に円柱状ブラシを接触させる。使用するブ
ラシは、図２に示す様なブラシ形状を使用する。この時
のブラシのパイルはナイロン製であり、パイル径は、起
上がり状の凸状欠陥の除去のしやすさ、該円筒基体表面
への傷の付きにくさを考慮し、パイル径はφ０．２ｍｍ
を使用する。

【００２６】該ブラシを取り付ける洗浄装置は、該ブラ
シ及び該円筒基体を回転させる機構を持っている洗浄装
置を使用する。まず、該洗浄装置に設置された内面洗浄
用ブラシ（図２−ａ）に、保持具（図２−ｂ）により保
持された該円筒基体を降下させて挿入する。基体を保持
したまま、保治具を回転させることにより該円筒基体が
回転する。内面洗浄用ブラシはこれと反対に回転させ
る。これにより該円筒基体と内面用ブラシが接周する。
その状態で、回転させた外面用ブラシ（図２−ｃ）を該
円筒基体外面に接周させる。この際の該ブラシと該円筒
基体との回転方向を同一方向とすることにより、該円筒
基体と該ブラシとの接点部分は互いに反対方向の動きと
なり、凸状欠陥を除去する能力、及び該円筒基体表面に
付着した油汚れ、異物等を除去する能力が向上し、良好
である。これ以外の回転方向の組み合わせであると、洗
浄効率が低下する。

【００２７】また該円筒基体と該ブラシの回転速度は、
該円筒基体と該ブラシの接触面の周速にて規定する。該
円筒基体と該ブラシとの接触面の周速は、１０ｍ／分以
上５０ｍ／分以下が好ましい。１０ｍ／分以下である
と、起上がり状の凸状欠陥の除去がしにくくなる。ま
た、５０ｍ／分以上であると、電子写真感光体用アルミ
ニウム円筒基体の表面への傷が付きやすくなる。今回
は、４０ｍ／分で実験した。

【００２８】本実験では、上記記載の洗浄機にて洗浄を
行う際、該円筒基体と前記記載のブラシとの間に高粘度
油を洗浄する目的でケロシンを使用したが、特にこれに
限定することはない。上記の様にブラシを該円筒基体に
接周させることにより、該円筒基体表面の切削加工にて
周方向の切削目に沿ったワイヤー状の微細なバリや塑性
加工にて発生したササクレやアルミカスの付着等により
発生した長さ方向に沿った微細な欠陥などの起上がり状
の凸状欠陥、高粘度油を除去することができる。

【００２９】次の超音波洗浄工程１２では、基体を水系
洗浄液中に浸漬させ、超音波を照射する。この超音波洗
浄では、基体に残留したケロシンを完全に除去する。ま
ず、超音波発振器の周波数であるが、該円筒基体表面の
起上がり状の凸状欠陥を防止するためには、高周波の超
音波を使用する。具体的には、１００ＫＨｚ以上の周波
数の超音波発振器を使用する。１００ＫＨｚ未満である
と、該円筒基体表面の切削加工にて周方向の切削目に沿
ったワイヤー状の微細なバリや塑性加工にて発生したサ
サクレやアルミカスの付着等により発生した長さ方向に
沿った微細な欠陥などが、超音波によりたたかれ、起上
がり状の凸状欠陥となってしまう。超音波の照射方式は
特に限定されるものではない。今回の実験では、１３３
ＫＨｚの超音波を採用した。

【００３０】１００ＫＨｚ以上の超音波を用いて洗浄す
る場合、洗浄時間は３０秒以上１２０秒以内が必要とな
る。今回の実験では、６０秒を採用した。

【００３１】次のシャワー洗浄工程１３では、水を基体
の内周面および外周面に０．２ＭＰａ以上〜１．５ＭＰ
ａ以下の圧力で噴射する。０．２ＭＰａ以下では、すす
ぎ力が小さく，１．５ＭＰａ以上になるとすすぎ力が変
わらず水の無駄となり、排水処理量も増えるため、前記
範囲が好ましい。今回の実験では、１ＭＰａを採用し
た。

【００３２】この工程では、前工程で付着した水系洗浄
液の大半を洗い流す。次のバブリング洗浄工程１４だけ
でも水系洗浄液を完全に落とすことは可能であるが、こ
の水は活性炭等で処理しなければ排水できない。よって
処理水が増えるため、ランニングコストが高くなる。ゆ
えに、少流量の水で効率的にすすぎが実施できる水シャ
ワー洗浄を実施する。

【００３３】次のバブリング洗浄工程１４では、基体を
純水中に浸漬させ、ワークの下方からエアーを噴射させ
る。このエアーは、従来の工場圧縮空気やブロワーによ
る空気やダイヤフラムポンプによる空気が良い。テスト
の結果この気泡の大きさは、φ５ｍｍ以上φ１００ｍｍ
以下の範囲が好ましいことが判っている。今回の実験で
は、下記の条件で行った。・気泡の大きさ：φ３０ｍｍ・エアーの流量：７０ＮＬ／ｍｉｎこれにより、基体に付着した水系洗浄剤を完全に除去す
ることができた。

【００３４】次の温純水乾燥１５では、加熱した純水中
に基体を浸漬させ、ドラムが純水温度まで加熱された後
に、基体を一定速度で引き上げる。これにより、基体の
外周面に付着している純水が蒸発して、水切りされる。
この時の純水温度は７０℃以上９５℃以下が好ましい。
７０℃以下の場合、基体表面に乾燥シミができることが
確認されている。

【００３５】比抵抗が１ＭΩ・ｃｍより大きな温純水に
基体を浸漬させた場合、基体表面に水酸化被膜ができや
すくなる。これは、感光層を形成した際の電気的特性に
影響を与えてしまうため、好ましくない。また、温純水
中からの基体の引き上げ速度が２０ｍｍ／sec 以上であ
る場合、基体に付着する水が多く、乾燥しにくくなる。
今回の実験では、下記の条件で行った。・温純水温度：８０℃ ・温純水比抵抗：０．６ＭΩ・ｃｍ・基体引き上げ速度：１０ｍｍ／sec

【００３６】

【発明の効果】以上のように、請求項１の発明は、切削
加工または塑性加工で得られた電子写真感光体用基体を
同一ラインで洗浄可能な基体洗浄方法であって、ブラシ
による接触洗浄工程、超音波洗浄工程、水系洗剤成分を
除去するすすぎ工程、温純水乾燥工程からなることか
ら、得られた基体上に感光層を塗布することにより、均
一で欠陥の無い感光層を形成することができる。

【００３７】請求項２の発明は、上記洗浄方法におい
て、ブラシをワークの内・外周面に接触させて回転させ
るに際し、回転方向は外面ブラシと基体は同一方向に、
内面ブラシは外面ブラシと基体と反対方向とすることか
ら、該円筒基体と該ブラシとの接点部分は互いに反対方
向の動きとなり、凸状欠陥を除去する能力、該円筒基体
表面に付着した油汚れ、異物等を除去する能力が一段と
向上する。これ以外の回転方向の組み合わせであると洗
浄効率が低下する。

【００３８】請求項３の発明は、上記洗浄方法におい
て、ブラシをワークの内・外周面に接触させて回転させ
るに際し、周速を１０ｍ／分以上５０ｍ／分以下とする
ことから、起上がり状の凸状欠陥の除去がしやすく、か
つまた、円筒基体表面への傷が付きにくい。

【００３９】請求項４の発明は、上記洗浄方法におい
て、洗浄工程の超音波周波数が１００ｋＨｚ以上とする
ことから、周方向のワイヤー状の微細なバリや基体の長
さ方向の微細な欠陥などが超音波でたたかれ、起上がり
状の凸状欠陥となってしまうことが防げる。

【００４０】請求項５の発明は、上記洗浄方法におい
て、洗浄工程の超音波照射時間が３０秒以上１２０秒以
内あることから、１００ＫＨｚ以上の超音波により良好
な洗浄を行うことができる。

【００４１】請求項６の発明は、上記洗浄方法におい
て、水または純水を基体にシャワーした後、水または純
水中に基体を浸漬させ気泡を接触させることから、前工
程で付着した水系洗浄液を十分に落とすことができる。

【００４２】請求項７の発明は、上記すすぎ工程のシャ
ワーにおいて、基体の内外面にシャワーを噴射する際の
圧力を０．２ＭＰａ以上１．５ＭＰａ以下とすることか
ら、すすぎ力が小さくならず、かつまた、水を無駄にし
ない。

【００４３】請求項８の発明は、上記すすぎ工程のシャ
ワーにおける基体１本当たりのシャワー流量が１Ｌ以上
３Ｌ以下とすることから、適量、かつ、有効なすすぎが
できる。

【００４４】請求項９の発明は、上記気泡を発生させる
すすぎ工程で、気泡源として圧縮空気、ブロワーエア
ー、ポンプエアーを使用することから、ワークの下方か
らエアーを噴射させるのに非常に有効である。

【００４５】請求項１０の発明は、上記気泡の大きさ
は、φ５ｍｍ以上φ１００ｍｍ以下の大きさであること
から、基体に付着した水系洗浄剤の除去が優れている。

【００４６】請求項１１の発明は、上記すすぎ工程のエ
アー流量が６０ＮＬ／ｍｉｎ以上８０ＮＬ／ｍｉｎ以下
であることから、基体に付着した水系洗浄剤の除去が優
れている。

【００４７】請求項１２の発明は、上記乾燥工程におけ
る純水温度を７０℃以上９５℃以下とすることから、基
体表面に乾燥シミを作らず、基体の外周面に付着してい
る純水を良好に水切りすることができる。

【００４８】請求項１３の発明は、上記乾燥工程におけ
る温純水の比抵抗が１ＭΩ・ｃｍより小さいことから、
基体表面にできやすい水酸化被膜の生成を防止でき、感
光層電気的特性に悪影響を与えない。

【００４９】請求項１４の発明は、上記乾燥工程におけ
る温純水中からの基体の引き上げ速度を２０ｍｍ／ｓｅ
ｃ以下とすることから、基体に付着する水を多くせず、
乾燥しにくくさせない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄方法における洗浄槽の構成（工
程）を示す図。

【図２】ブラシの形状を示す図。

【図３】接触洗浄機による基体の洗浄状態を示す図。

【符号の説明】

１１ブラシによる接触洗浄工程１２超音波洗浄工程１３シャワー洗浄工程１４バブリング洗浄工程１５温純水乾燥工程ａ内面洗浄ブラシｂ保持具ｃ外面用ブラシｄ円筒基体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木栄東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内Ｆターム(参考） 2H068 AA52 AA54 CA32 EA05 3B116 AA18 BA02 BA15 BA16 BB21 BB82 BB83 CC03 3B201 AA18 BA02 BA15 BA16 BB21 BB82 BB83 BB93 CC11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】切削加工または塑性加工で得られた電子
写真感光体用基体を同一ラインで洗浄可能な基体洗浄方
法であって、洗浄液とともにブラシによって基体を洗浄
する接触洗浄工程と、該接触洗浄工程の後に、超音波振
動が付与された水系洗浄液中に基体を浸漬して該基体を
洗浄する超音波洗浄からなる洗浄工程と、該洗浄工程の
後に、水または純水を使用して基体に付着した水系洗剤
成分を除去するすすぎ工程と、該すすぎ工程の後に、温
純水中に基体を浸漬して加熱した後に該基体を温純水中
から引き上げて基体に付着した温純水を乾燥させる乾燥
工程からなることを特徴とする電子写真感光体用基体の
洗浄方法。
【請求項２】請求項１記載の電子写真感光体用基体の
洗浄方法において、ブラシをワークの内・外周面に接触
させて回転させるに際し、回転方向は外面ブラシと基体
は同一方向に、内面ブラシは外面ブラシと基体と反対方
向とすることを特徴とする電子写真感光体用基体の洗浄
方法。
【請求項３】請求項１または２記載の電子写真感光体
用基体の洗浄方法において、ブラシをワークの内・外周
面に接触させて回転させるに際し、周速を１０ｍ／分以
上５０ｍ／分以下とすることを特徴とする電子写真感光
体用基体の洗浄方法。
【請求項４】請求項１記載の電子写真感光体用基体の
洗浄方法において、超音波洗浄工程における超音波周波
数が１００ｋＨｚ以上とすることを特徴とする電子写真
感光体用基体の洗浄方法。
【請求項５】請求項４記載の電子写真感光体用基体の
洗浄方法において、超音波照射時間が３０秒以上１２０
秒以内であることを特徴とする電子写真感光体用基体の
洗浄方法。
【請求項６】請求項１記載の電子写真感光体用基体の
洗浄方法において、すすぎ工程で、水または純水を基体
にシャワーした後、水または純水中に基体を浸漬させ気
泡を接触させることを特徴とする電子写真感光体用基体
の洗浄方法。
【請求項７】請求項１または６記載の電子写真感光体
用基体の洗浄方法において、すすぎ工程で、基体の内外
面にシャワーを噴射する際の圧力を０．２ＭＰａ以上
１．５ＭＰａ以下とすることを特徴とする電子写真感光
体用基体の製造方法。
【請求項８】請求項１、６または７記載の電子写真感
光体用基体の洗浄方法において、すすぎ工程で、基体１
本当たりのシャワー流量が１Ｌ以上３Ｌ以下とすること
を特徴とする電子写真感光体用基体の洗浄方法。
【請求項９】請求項６記載の電子写真感光体用基体の
洗浄方法において、気泡源として圧縮空気、ブロワーエ
アー、またはポンプエアーを使用することを特徴とする
電子写真感光体用基体の洗浄方法。
【請求項１０】請求項６または９記載の電子写真感光
体用基体の洗浄方法において、気泡の大きさは、φ５ｍ
ｍ以上φ１００ｍｍ以下の大きさであることを特徴とす
る電子写真感光体用基体の洗浄方法。
【請求項１１】請求項６、９または１０記載の電子写
真感光体用基体の洗浄方法において、エアー流量が、６
０ＮＬ／ｍｉｎ以上８０ＮＬ／ｍｉｎ以下であることを
特徴とする電子写真感光体用基体の洗浄方法。
【請求項１２】請求項１記載の電子写真感光体用基体
の洗浄方法において、乾燥工程における純水温度を７０
℃以上９５℃以下とすることを特徴とする電子写真感光
体用基体の洗浄方法。
【請求項１３】請求項１または１２記載の電子写真感
光体用基体の洗浄方法において、乾燥工程における温純
水の比抵抗が１ＭΩ・ｃｍより小さいことを特徴とする
電子写真感光体基体の洗浄方法。
【請求項１４】請求項１、１２または１３記載の電子
写真感光体用基体の洗浄方法において、乾燥工程におけ
る温純水中からの基体の引き上げ速度を２０ｍｍ／ｓｅ
ｃ以下とすることを特徴とする電子写真感光体用基体の
洗浄方法。