JP2002178323A - Ceramic green sheet processing apparatus - Google Patents
Ceramic green sheet processing apparatusInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ発振手段か
ら出射されたレーザービームを2つ以上のビームに分割
し、これら分割ビームを利用してセラミックグリーンシ
ートに対し2以上の加工を同時に行うセラミックグリー
ンシートの加工装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic for splitting a laser beam emitted from a laser oscillating means into two or more beams and simultaneously processing two or more ceramic green sheets by using the split beams. The present invention relates to a green sheet processing device.
【0002】[0002]
【従来の技術】加工用のレーザビームを2つ以上に分割
する方式としては、プリズム分割方式とハーフミラー分
割方式が知られている。2. Related Background Art As a method of dividing a processing laser beam into two or more, a prism division method and a half mirror division method are known.
【0003】前者のプリズム分割方式は、入射ビームを
部分的に異なる方向に屈折させることでビーム分割を行
い、後者のハーフミラー分割方式は、入射ビームの一部
を透過し他部を反射させることでビーム分割を行う。In the former prism splitting method, beam splitting is performed by partially refracting an incident beam in a different direction. In the latter half mirror splitting method, a part of the incident beam is transmitted and the other part is reflected. Performs beam splitting.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】前者のプリズム分割方
式は、入射ビームをエリア別に分割するものであるた
め、分割ビームのエネルギー強度の比率が入射ビームの
エネルギー強度分布に依存してしまう。依って、エネル
ギー強度が等しい分割ビームを得ることは勿論、所定比
率のエネルギー強度を有する分割ビームを得ることは極
めて難しい。In the former prism splitting method, which splits an incident beam into areas, the ratio of the energy intensity of the split beam depends on the energy intensity distribution of the incident beam. Therefore, it is extremely difficult to obtain a split beam having a predetermined ratio of energy intensity, as well as to obtain a split beam having the same energy intensity.
【0005】後者のハーフミラー分割方式は、偏光を利
用して入射ビームを分割するものであるため、プリズム
分割方式のように入射ビームのエネルギー強度分布が問
題になることはない。しかし、分割ビームのエネルギー
強度の比率がハーフミラーが有する反射率及び透過率に
よって特定の比率に決定されてしまうと共に、反射率及
び透過率の公差の影響があるために設計通りのエネルギ
ー強度比率を有する分割ビームを得ることは難しい。In the latter half-mirror splitting method, since the incident beam is split using polarized light, the energy intensity distribution of the incident beam does not matter as in the prism splitting method. However, the ratio of the energy intensity of the split beam is determined to a specific ratio by the reflectance and the transmittance of the half mirror, and there is an influence of the tolerance of the reflectance and the transmittance. It is difficult to obtain a split beam.
【0006】セラミックグリーンシートのような特殊な
部材に対して2以上の加工を同時に行うには、エネルギ
ー強度が等しい分割ビームを得ることができることは勿
論のこと、所定比率のエネルギー強度を有する分割ビー
ムを任意に得ることができる工夫が必要となる。In order to simultaneously perform two or more processes on a special member such as a ceramic green sheet, it is possible to obtain a divided beam having the same energy intensity, as well as a divided beam having a predetermined ratio of energy intensity. Must be devised so that can be obtained arbitrarily.
【0007】本発明は前記事情に鑑みて創作されたもの
で、その目的とするところは、セラミックグリーンシー
トに対し2以上の加工を同時に行う場合に極めて有用な
セラミックグリーンシートの加工装置を提供することに
ある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a ceramic green sheet processing apparatus which is extremely useful when performing two or more processings on a ceramic green sheet simultaneously. It is in.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、レーザー発振手段と、レーザ発振手段か
ら出射されたレーザービームを2以上のビームに分割す
るビーム分割手段とを備え、ビーム分割手段で得られた
2以上の分割ビームを利用してセラミックグリーンシー
トに対し2以上の加工を同時に行うセラミックグリーン
シートの加工装置であって、前記レーザー発振手段は電
界の位置ベクトルの存在場所が面積をもつ偏光のレーザ
ービームを出射可能であり、前記ビーム分割手段は、ビ
ーム入射軸を中心として回転可能な1/2波長板と、1
/2波長板を透過したレーザービームを2つのビームに
分割する偏光ハーフミラーとを有する少なくとも1つの
ビーム分割部を備える、ことをその主たる特徴とする。To achieve the above object, the present invention comprises a laser oscillating means and a beam splitting means for splitting a laser beam emitted from the laser oscillating means into two or more beams. A ceramic green sheet processing apparatus for simultaneously performing two or more processes on a ceramic green sheet using two or more split beams obtained by a splitting unit, wherein the laser oscillation unit determines whether the position of an electric field position vector exists. A half-wave plate rotatable about a beam incident axis;
Its main feature is that it comprises at least one beam splitting section having a polarizing half mirror for splitting a laser beam transmitted through a half-wave plate into two beams.
【0009】この加工装置によれば、ビーム分割部に設
けられた1/2波長板をビーム入射軸を中心として回転
させて偏光ハーフミラーに入射されるビームの偏光方向
を操作することにより、偏光ハーフミラーにおける反射
率及び透過率を変化させて、分割ビームのエネルギー強
度を任意に調整することができる。また、分割対象とな
るレーザービームとして、電界の位置ベクトルの存在場
所が面積をもつ偏光のレーザビームを用いているので、
直線偏光や円偏光や楕円偏光のレーザービームを分割対
象とする場合に比べて、前記のエネルギー強度の調整を
微少単位で正確に実施することができる。According to this processing apparatus, the half-wave plate provided in the beam splitting unit is rotated about the beam incident axis to control the polarization direction of the beam incident on the polarization half mirror, thereby obtaining the polarization. The energy intensity of the split beam can be arbitrarily adjusted by changing the reflectance and the transmittance of the half mirror. In addition, as a laser beam to be divided, a polarized laser beam having an area where the position vector of the electric field exists has an area.
The adjustment of the energy intensity can be accurately performed in minute units as compared with a case where a linearly polarized light, a circularly polarized light, or an elliptically polarized laser beam is to be split.
【0010】本発明の前記目的とそれ以外の目的と、構
成特徴と、作用効果は、以下の説明と添付図面によって
明らかとなる。The above and other objects, constitutional features, and operational effects of the present invention will become apparent from the following description and the accompanying drawings.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態を示す
もので、図中の符号1はレーザー発振器、LBはレーザ
ービーム、Da〜Dcはビーム分割部、2a〜2cは1
/2波長板、3a〜3cは偏光ハーフミラー、4a〜4
cは全反射ミラー、5a〜5dは集光レンズ、6a〜6
dは光ファイバー、7a〜7dは対物レンズ、LBa〜
LBdは分割ビーム、8はバリアブル・アッテネータ、
9a〜9dはアパーチャ、10は回転ドラム、GSはセ
ラミックグリーンシート(以下単にグリーンシートと言
う)である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. In the drawing, reference numeral 1 denotes a laser oscillator, LB denotes a laser beam, Da to Dc denote a beam splitting unit, and 2a to 2c denote 1s.
/ 2 wavelength plate, 3a-3c are polarization half mirrors, 4a-4
c is a total reflection mirror, 5a to 5d are condenser lenses, 6a to 6
d is an optical fiber, 7a to 7d are objective lenses, LBa to
LBd is a split beam, 8 is a variable attenuator,
9a to 9d are apertures, 10 is a rotating drum, and GS is a ceramic green sheet (hereinafter simply referred to as a green sheet).
【0012】レーザー発振器1は、グリーンシートGS
に貫通孔形成等の加工を行うに十分な出力を有するレー
ザービームLBを出射し得る。このレーザー発振器1
は、好ましくはノーマルパルス発振で、且つ、1064
nmの基本波または高調波を出力可能なYAGレーザー
から成るが、CO2 レーザーやエキシマレーザー等の公
知のレーザー発振器を用いても構わない。このレーザー
発振器1のフロントミラーから出射されるレーザービー
ムLBは、直線偏光や円偏光や楕円偏光とは異なり、電
界の位置ベクトルの存在場所が面積をもつ偏光のレーザ
ビームである。この様なランダム偏光のレーザービーム
LBは共振器内に偏光操作を行う光学部材がない場合に
得ることができるが、励起されたレーザーロッドから発
されたレーザービームをレーザーロッドの周囲に配置さ
れたミラーにより反射させて励起量の増加を図るように
したり、また、レーザーロッドを多数の励起ランプによ
って励起させて励起量の増加を図ることにより積極的に
得ることができる。The laser oscillator 1 is a green sheet GS
A laser beam LB having an output sufficient for performing processing such as formation of a through hole can be emitted. This laser oscillator 1
Is preferably a normal pulse oscillation, and 1064
It is composed of a YAG laser capable of outputting a fundamental wave or a harmonic wave of nm, but a known laser oscillator such as a CO 2 laser or an excimer laser may be used. The laser beam LB emitted from the front mirror of the laser oscillator 1 is different from linearly polarized light, circularly polarized light, or elliptically polarized light, and is a polarized laser beam having an area where the position vector of the electric field exists. Such a randomly polarized laser beam LB can be obtained when there is no optical member for performing polarization operation in the resonator, but the laser beam emitted from the excited laser rod is arranged around the laser rod. It can be positively obtained by reflecting the light from a mirror to increase the amount of excitation, or by exciting the laser rod with a large number of excitation lamps to increase the amount of excitation.
【0013】3つのビーム分割部Da〜Dcは本装置に
おいてビーム分割手段を構成する。3つのビーム分割部
Da〜Dcのうち、第1のビーム分割部Daはレーザー
発振器1の後段に配置され、第2のビーム分割部Dbと
第3のビーム分割部Dcは第1のビーム分割部Daの後
段に配置されている。図から分かるように、第1のビー
ム分割部Daは第1の1/2波長板2aと第1の偏光ハ
ーフミラー3aと第1の全反射ミラー4aを備え、第2
のビーム分割部Dbは第2の1/2波長板2bと第2の
偏光ハーフミラー3bと第2の全反射ミラー4bを備
え、第3のビーム分割部Dcは第3の1/2波長板2c
と第3の偏光ハーフミラー3cと第3の全反射ミラー4
cを備えている。The three beam splitting units Da to Dc constitute beam splitting means in the present apparatus. Among the three beam splitters Da to Dc, the first beam splitter Da is disposed after the laser oscillator 1, and the second beam splitter Db and the third beam splitter Dc are the first beam splitter. It is arranged after Da. As can be seen from the figure, the first beam splitting unit Da includes a first half-wave plate 2a, a first polarization half mirror 3a and a first total reflection mirror 4a,
The beam splitting unit Db includes a second half-wave plate 2b, a second polarization half mirror 3b, and a second total reflection mirror 4b, and the third beam splitting unit Dc includes a third half-wave plate. 2c
And the third polarization half mirror 3c and the third total reflection mirror 4
c.
【0014】各々のビーム分割部Da〜Dcに設けられ
た1/2波長板2a〜2cは、その法線がビーム入射軸
と一致或いは平行となる向きで配置されており、手動操
作によってビーム入射軸を中心として回転できるように
構成されている。各々の1/2波長板2a〜2cは入射
ビームの位相を180度ずらす機能を有する他、ビーム
入射軸を中心として回転させることによって入射ビーム
の偏光方向を任意に操作できる機能を有する。The half-wave plates 2a to 2c provided in each of the beam splitters Da to Dc are arranged so that their normal lines coincide with or become parallel to the beam incident axis. It is configured to be able to rotate about an axis. Each of the half-wave plates 2a to 2c has a function of shifting the phase of the incident beam by 180 degrees, and a function of arbitrarily controlling the polarization direction of the incident beam by rotating the beam about the beam incident axis.
【0015】また、各々のビーム分割部Da〜Dcに設
けられた偏光ハーフミラー3a〜3cは、その法線がビ
ーム入射軸と45度の傾きを有するように配置されてい
る。各々の偏光ハーフミラー3a〜3cはS偏光やP偏
光等の特定の偏光方向を有しており、入射ビームの一部
を透過し他部を反射させる機能を有する。The polarization half mirrors 3a to 3c provided in each of the beam splitters Da to Dc are arranged such that the normal line has a 45-degree inclination with respect to the beam incident axis. Each of the polarization half mirrors 3a to 3c has a specific polarization direction such as S-polarized light or P-polarized light, and has a function of transmitting a part of the incident beam and reflecting the other part.
【0016】さらに、各々のビーム分割部Da〜Dcに
設けられた全反射ミラー4a〜4cは、その法線がビー
ム入射軸と45度の傾きを有するように配置されてい
る。各々の全反射ミラー4a〜4cは入射ビームの全部
を反射させる機能を有する。Further, the total reflection mirrors 4a to 4c provided in each of the beam splitting units Da to Dc are arranged such that the normal line has a 45-degree inclination with respect to the beam incident axis. Each of the total reflection mirrors 4a to 4c has a function of reflecting the entire incident beam.
【0017】4つの集光レンズ5a〜5dのうち、第1
の集光レンズ5aは第2のビーム分割部Dbの全反射ミ
ラー4bの後段に配置され、第2の集光レンズ5bは第
2のビーム分割部Dbの偏光ハーフミラー3bの後段に
配置され、第3の集光レンズ5cは第3のビーム分割部
Dcの偏光ハーフミラー3cの後段に配置され、第4の
集光レンズ5dは第3のビーム分割部Dcの全反射ミラ
ー4cの後段に配置されている。各々の集光レンズ5a
〜5dは前述のビーム分割手段によって得た4つの分割
ビームそれぞれを集光し、集光後の分割ビームをその後
段に配置されている4本の光ファイバー6a〜6dにそ
れぞれ入射する機能を有する。また、4つの集光レンズ
5a〜5dは、各々の中心とレーザー発振器1の出射端
(フロントミラー)との距離Lが一定になるように配置
されている。The first of the four condenser lenses 5a to 5d
Is disposed after the total reflection mirror 4b of the second beam splitting unit Db, and the second condensing lens 5b is disposed after the polarization half mirror 3b of the second beam splitting unit Db. The third condenser lens 5c is disposed downstream of the polarization half mirror 3c of the third beam splitter Dc, and the fourth condenser lens 5d is disposed downstream of the total reflection mirror 4c of the third beam splitter Dc. Have been. Each condenser lens 5a
5d has a function of condensing each of the four split beams obtained by the above-described beam splitting means and making the condensed split beams respectively enter the four optical fibers 6a to 6d arranged at the subsequent stage. Further, the four condenser lenses 5a to 5d are arranged such that the distance L between the center of each of the condenser lenses and the emission end (front mirror) of the laser oscillator 1 is constant.
【0018】4本の光ファイバー6a〜6dのうち、第
1の光ファイバー6aの基端は第1の集光レンズ5aの
後段に配置され、第2の光ファイバー6bの基端は第2
の集光レンズ5bの後段に配置され、第3の光ファイバ
ー6cの基端は第3の集光レンズ5cの後段に配置さ
れ、第4の光ファイバー6dの基端は第4の集光レンズ
5dの後段に配置されている。各々の光ファイバー6a
〜6dは数m前後の長さを有しており、入射された分割
ビームそれぞれを任意の位置に伝送する役目を果たす。
各々の光ファイバー6a〜6dは基本的には同じ長さを
有するが、多少長さに違いがでてもビーム伝送上で支障
を生じることはない。Of the four optical fibers 6a to 6d, the proximal end of the first optical fiber 6a is disposed downstream of the first condenser lens 5a, and the proximal end of the second optical fiber 6b is the second optical fiber 6b.
The third optical fiber 6c has a proximal end disposed downstream of the third condenser lens 5c, and a proximal end of the fourth optical fiber 6d disposed downstream of the fourth condenser lens 5d. It is arranged at the latter stage. Each optical fiber 6a
6d have a length of about several meters, and serve to transmit each of the incident split beams to an arbitrary position.
Although each of the optical fibers 6a to 6d has basically the same length, there is no problem in beam transmission even if the length is slightly different.
【0019】4つの対物レンズ7a〜7dは、回転ドラ
ム10の外側に、回転ドラム10の回転軸と平行となる
並びで、且つ、回転ドラム10の外周面との対向間隔が
等しくなるように配置されている。4つの対物レンズ7
a〜7dのうち、第1の対物レンズ7aの前段には第1
の光ファイバー6aの終端が配置され、第2の対物レン
ズ7bの前段には第2の光ファイバー6bの終端が配置
され、第3の対物レンズ7cの前段には第3の光ファイ
バー6cの終端が配置され、第4の対物レンズ7dの前
段には第4の光ファイバー6dの終端が配置されてい
る。各々の対物レンズ7a〜7dは4本の光ファイバー
6a〜6dから出射された分割ブームをそれぞれ集光
し、集光後の分割ビームをその後段に配置されているグ
リーンシートGSに照射する機能を有する。The four objective lenses 7a to 7d are arranged outside the rotary drum 10 so as to be arranged in parallel with the rotation axis of the rotary drum 10 and at equal intervals with the outer peripheral surface of the rotary drum 10. Have been. Four objective lenses 7
a to 7d, the first objective lens 7a
The end of the optical fiber 6a is arranged, the end of the second optical fiber 6b is arranged before the second objective lens 7b, and the end of the third optical fiber 6c is arranged before the third objective lens 7c. An end of the fourth optical fiber 6d is arranged in front of the fourth objective lens 7d. Each of the objective lenses 7a to 7d has a function of condensing the divided booms emitted from the four optical fibers 6a to 6d, respectively, and irradiating the condensed divided beam to a green sheet GS disposed at a subsequent stage. .
【0020】バリアブル・アッテネータ8はビームエネ
ルギーの調整手段として利用され、また、4つの集光レ
ンズ5a〜5dの前段に配置されたアパーチャー9a〜
9dは入射ビームの整形やエリア選択を行う手段として
利用されている。The variable attenuator 8 is used as a means for adjusting the beam energy, and the apertures 9a to 9a are arranged in front of the four condenser lenses 5a to 5d.
9d is used as a means for shaping an incident beam and selecting an area.
【0021】回転ドラム10は、ステンレス等の金属か
ら円筒形に形成されており、図示省略のスライド台に回
転可能に配置されている。この回転ドラム10は図示省
略の回転駆動源によって所定方向の回転を可能としてい
る。ちなみに、回転ドラムを支持するスライド台は、図
示省略の直線駆動源によって回転ドラム10の回転軸と
平行な方向への直線移動を可能としている。また、回転
ドラム10の外周面には多数の吸引孔が形成されてお
り、グリーンシートGSは吸引孔に作用する負圧によっ
て回転ドラム10の外周面に貼り付けられる。The rotary drum 10 is formed in a cylindrical shape from a metal such as stainless steel, and is rotatably disposed on a slide table (not shown). The rotary drum 10 can be rotated in a predetermined direction by a rotary drive source (not shown). Incidentally, the slide table supporting the rotary drum can be moved linearly in a direction parallel to the rotation axis of the rotary drum 10 by a linear drive source (not shown). Further, a large number of suction holes are formed on the outer peripheral surface of the rotating drum 10, and the green sheet GS is attached to the outer peripheral surface of the rotating drum 10 by negative pressure acting on the suction holes.
【0022】グリーンシートGSは、積層型電子部品、
例えば、積層チップインダクタ等を製造する際に用いら
れるものであり、所定の縦横寸法と厚み寸法を有してい
る。ちなみに、このグリーンシートGSは、部品対応の
セラミック粉とバインダと溶剤等を混合して調製したス
ラリーを帯状のベースフィルム上に所定厚で塗工して乾
燥させた後、この帯状物をフィルムごと所定の大きさで
打ち抜いて取り出すか、或いは、グリーンシートのみを
所定の大きさで打ち抜いて取り出すことにより得ること
ができる。グリーンシートGSの大きさにもよるが回転
ドラム10の外周面には1枚または複数枚のグリーンシ
ートGSが貼り付けられる。The green sheet GS is a laminated electronic component,
For example, it is used when manufacturing a multilayer chip inductor or the like, and has predetermined vertical and horizontal dimensions and thickness dimensions. Incidentally, this green sheet GS is prepared by applying a slurry prepared by mixing a ceramic powder for a part, a binder, a solvent, and the like to a band-shaped base film at a predetermined thickness and drying the band-like material. It can be obtained by punching out a predetermined size and removing it, or by punching out only a green sheet and removing it by a predetermined size. Depending on the size of the green sheet GS, one or more green sheets GS are attached to the outer peripheral surface of the rotating drum 10.
【0023】図1に示すように、レーザー発振器1から
出射されたレーザビームLBは、バリアブル・アッテネ
ータ8を介して第1のビーム分割部Daの第1の1/2
波長板2aに入射され、第1の1/2波長板2aによっ
て位相を変更されたビームは第1の偏光ハーフミラー3
aに入射する。第1の偏光ハーフミラー3aに入射した
ビームの一部は第1の偏光ハーフミラー3aを透過して
第2のビーム分割部Dbに導かれる。また、第1の偏光
ハーフミラー3aに入射したビームの他部は第1の偏光
ハーフミラー3aで反射され、さらに、第1の全反射ミ
ラー4aで反射されて第3のビーム分割部Dcに導かれ
る。As shown in FIG. 1, the laser beam LB emitted from the laser oscillator 1 is transmitted through a variable attenuator 8 to a first half of a first beam splitter Da.
The beam incident on the wave plate 2a and having its phase changed by the first half-wave plate 2a is
a. Part of the beam incident on the first polarization half mirror 3a is transmitted through the first polarization half mirror 3a and guided to the second beam splitting unit Db. The other part of the beam that has entered the first polarization half mirror 3a is reflected by the first polarization half mirror 3a, further reflected by the first total reflection mirror 4a, and guided to the third beam splitter Dc. I will
【0024】第1のビーム分割部Daから第2のビーム
分割部Dbに導かれたビームは第2の1/2波長板2b
に入射され、第2の1/2波長板2aによって位相を変
更されたビームは第2の偏光ハーフミラー3bに入射す
る。第2の偏光ハーフミラー3bに入射したビームの一
部は第2の偏光ハーフミラー3bで反射され、さらに、
第2の全反射ミラー4bで反射されてアパーチャー9a
を介して第1の集光レンズ5aに導かれる。また、第2
の偏光ハーフミラー3bに入射したビームの他部は第2
の偏光ハーフミラー3bを透過してアパーチャー9bを
介して第2の集光レンズ5bに導かれる。The beam guided from the first beam splitter Da to the second beam splitter Db is applied to the second half-wave plate 2b.
And the phase of which is changed by the second half-wave plate 2a is incident on the second polarization half mirror 3b. Part of the beam incident on the second polarization half mirror 3b is reflected by the second polarization half mirror 3b,
The aperture 9a is reflected by the second total reflection mirror 4b.
Through the first condenser lens 5a. Also, the second
The other part of the beam incident on the polarization half mirror 3b is the second
Through the polarization half mirror 3b, and is guided to the second condenser lens 5b via the aperture 9b.
【0025】一方、第1のビーム分割部Daから第3の
ビーム分割部Dcに導かれたビームは第3の1/2波長
板2cに入射され、第3の1/2波長板2cによって位
相を変更されたビームは第3の偏光ハーフミラー3cに
入射する。第3の偏光ハーフミラー3cに入射したビー
ムの一部は第3の偏光ハーフミラー3cを透過してアパ
ーチャー9cを介して第3の集光レンズ5cに導かれ
る。また、第3の偏光ハーフミラー3cに入射したビー
ムの他部は第3の偏光ハーフミラー3cで反射され、さ
らに、第3の全反射ミラー4cで反射されてアパーチャ
ー9dを介して第4の集光レンズ5dに導かれる。On the other hand, the beam guided from the first beam splitter Da to the third beam splitter Dc is incident on the third half-wave plate 2c, and the phase is shifted by the third half-wave plate 2c. Is changed into the third polarization half mirror 3c. Part of the beam incident on the third polarization half mirror 3c is transmitted through the third polarization half mirror 3c and guided to the third condenser lens 5c via the aperture 9c. The other part of the beam that has entered the third polarization half mirror 3c is reflected by the third polarization half mirror 3c, further reflected by the third total reflection mirror 4c, and transmitted through the aperture 9d to the fourth collector. The light is guided to the optical lens 5d.
【0026】以上により、レーザー発振器1から出射し
たレーザービームLBが4つのビームに分割される。第
1の集光レンズ5aに入射した分割ビームは第1の集光
レンズ5aで集光された後に第1の光ファイバー6aの
基端に入射し、第2の集光レンズ5bに入射した分割ビ
ームは第2の集光レンズ5bで集光された後に第2の光
ファイバー6bの基端に入射し、第3の集光レンズ5c
に入射した分割ビームは第3の集光レンズ5cで集光さ
れた後に第3の光ファイバー6cの基端に入射し、第4
の集光レンズ5dに入射した分割ビームは第4の集光レ
ンズ5dで集光された後に第4の光ファイバー6dの基
端に入射する。As described above, the laser beam LB emitted from the laser oscillator 1 is divided into four beams. The split beam incident on the first condenser lens 5a is condensed by the first condenser lens 5a, then enters the base end of the first optical fiber 6a, and is incident on the second condenser lens 5b. Is incident on the base end of the second optical fiber 6b after being condensed by the second condenser lens 5b, and is incident on the third condenser lens 5c.
Is split by the third condenser lens 5c and then enters the base end of the third optical fiber 6c.
The divided beam incident on the condensing lens 5d is condensed by the fourth condensing lens 5d and then incident on the base end of the fourth optical fiber 6d.
【0027】第1の光ファイバー6aの基端に入射した
分割ビームは第1の光ファイバー6aを通じ伝送されて
第1の対物レンズ7aに入射し、第2の光ファイバー6
bの基端に入射された分割ビームは第2の光ファイバー
6bを通じ伝送されて第2の対物レンズ7bに入射し、
第3の光ファイバー6cの基端に入射された分割ビーム
は第3の光ファイバー6cを通じ伝送されて第3の対物
レンズ7cに入射し、第4の光ファイバー6dの基端に
入射された分割ビームは第4の光ファイバー6dを通じ
伝送されて第4の対物レンズ7dに入射する。The split beam that has entered the base end of the first optical fiber 6a is transmitted through the first optical fiber 6a and is incident on the first objective lens 7a.
The split beam incident on the base end of b is transmitted through the second optical fiber 6b and is incident on the second objective lens 7b,
The split beam incident on the proximal end of the third optical fiber 6c is transmitted through the third optical fiber 6c and is incident on the third objective lens 7c, and the split beam incident on the proximal end of the fourth optical fiber 6d is The light is transmitted through the fourth optical fiber 6d and enters the fourth objective lens 7d.
【0028】第1の対物レンズ7aに入射した分割ビー
ムは第1の対物レンズ7aで集光された後にグリーンシ
ートGSに照射され、第2の対物レンズ7bに入射した
分割ビームは第2の対物レンズ7bで集光された後にグ
リーンシートGSに照射され、第3の対物レンズ7cに
入射した分割ビームは第3の対物レンズ7cで集光され
た後にグリーンシートGSに照射され、第4の対物レン
ズ7dに入射した分割ビームは第4の対物レンズ7dで
集光された後にグリーンシートGSに照射される。The split beam incident on the first objective lens 7a is condensed by the first objective lens 7a and then irradiated onto the green sheet GS. The split beam incident on the second objective lens 7b is output from the second objective lens 7b. After being condensed by the lens 7b, the green sheet GS is irradiated onto the green sheet GS, and the split beam incident on the third objective lens 7c is condensed by the third objective lens 7c, and then irradiated onto the green sheet GS, and the fourth object The split beam that has entered the lens 7d is condensed by the fourth objective lens 7d, and is then applied to the green sheet GS.
【0029】回転ドラム10の外周面のグリーンシート
GSにはこのようにして4つの分割ビームLBa〜LB
dが同時に照射され、これにより、グリーンシートGS
に対し4つの加工、例えば、貫通孔形成や凹部形成等の
加工が同時に実施される。The green sheet GS on the outer peripheral surface of the rotary drum 10 is thus divided into four divided beams LBa to LB.
d is irradiated simultaneously, and thereby the green sheet GS
For this purpose, four processes, for example, processes such as formation of a through hole and formation of a concave portion are simultaneously performed.
【0030】回転ドラム10を所定方向に一定速度で回
転させながら、グリーンシートGSに4つの分割ビーム
LBa〜LBdが断続的に照射すれば、グリーンシート
GSに貫通孔や凹部の列をドラム回転方向に沿って4本
形成することができ、回転ドラム10が一回転する直前
で回転ドラム10を回転軸と平行な方向に所定距離移動
させれば、4つの分割ビームLBa〜LBdによる加工
軌道を簡単に変更することができる。また、回転ドラム
10を所定方向に一定速度で回転させ、且つ、回転ドラ
ム10を回転軸と平行な方向に一定速度で直線移動させ
ながら、グリーンシートGSに4つの分割ビームLBa
〜LBdが断続的に照射すれば、グリーンシートGSに
貫通孔や凹部の列を螺旋状に4本形成することができ
る。When the green sheet GS is intermittently irradiated with the four divided beams LBa to LBd while rotating the rotating drum 10 at a constant speed in a predetermined direction, the green sheets GS are aligned with rows of through holes and concave portions in the drum rotating direction. And if the rotary drum 10 is moved a predetermined distance in a direction parallel to the rotation axis immediately before the rotary drum 10 makes one rotation, the processing trajectory by the four divided beams LBa to LBd can be easily formed. Can be changed to Further, while rotating the rotating drum 10 at a constant speed in a predetermined direction and linearly moving the rotating drum 10 at a constant speed in a direction parallel to the rotation axis, four divided beams LBa are applied to the green sheet GS.
If LBd is intermittently irradiated, four rows of through holes and concave portions can be spirally formed in the green sheet GS.
【0031】4つの分割ビームLBa〜LBdを利用し
てグリーンシートGSに対して4つの加工を同じく実施
するには、グリーンシートGSに照射される4つの分割
ビームLBa〜LBdのエネルギー強度の比率を1:
1:1:1とする必要がある。In order to perform the same four processes on the green sheet GS using the four divided beams LBa to LBd, the energy intensity ratio of the four divided beams LBa to LBd applied to the green sheet GS is determined. 1:
It must be 1: 1: 1.
【0032】4つの分割ビームLBa〜LBdのエネル
ギー強度の比率を1:1:1:1とする場合には、基本
的には第1の偏光ハーフミラー3aと第2の偏光ハーフ
ミラー3bと第3の偏光ハーフミラー3cとして反射
率:透過率=1:1のものを使用する。しかし、この反
射率及び透過率には公差が含まれているため、反射ビー
ムと透過ビームのエネルギー強度の比率は必ずしも1:
1にはならない。When the ratio of the energy intensities of the four split beams LBa to LBd is 1: 1: 1: 1, basically, the first polarization half mirror 3a, the second polarization half mirror 3b, and the As the third polarization half mirror 3c, one having a reflectance: transmittance = 1: 1 is used. However, since the reflectance and the transmittance include a tolerance, the ratio between the energy intensities of the reflected beam and the transmitted beam is not necessarily 1 :.
It does not become 1.
【0033】このような場合には、4つの対物レンズ7
a〜7dの後段にエネルギー強度を計測可能な適当なセ
ンサを配置した状態でレーザー発振器1からレーザービ
ームLBを出射させ、4つの分割ビームLBa〜LBd
の実際のエネルギー強度を計測しながら、第1の1/2
波長板2aと第2の1/2波長板2bと第3の1/2波
長板2cをビーム入射軸を中心として適宜回転させる操
作を行う。3つの偏光ハーフミラー3a〜3cはそれぞ
れ固有の反射率及び透過率を有するが、各偏光ハーフミ
ラー3a〜3cに入射されるビームの偏光方向を前段に
配置された各1/2波長板2a〜2cによって操作する
ことにより、各偏光ハーフミラー3a〜3cにおける反
射率及び透過率を変化させることができ、この変化に基
づいて各分割ビームLBa〜LBdのエネルギー強度の
微調整を行うことができる。勿論、各偏光ハーフミラー
3a〜3cを角度変更等が行えるように回転可能に構成
しておけば、これら偏光ハーフミラー3a〜3cの回転
操作によってもエネルギー強度の微調整を同様に行うこ
とができる。In such a case, the four objective lenses 7
A laser beam LB is emitted from the laser oscillator 1 in a state where an appropriate sensor capable of measuring the energy intensity is arranged at the subsequent stage of a to 7d, and four divided beams LBa to LBd
Measuring the actual energy intensity of the first half
An operation of appropriately rotating the wave plate 2a, the second half-wave plate 2b, and the third half-wave plate 2c about the beam incident axis is performed. Each of the three polarization half mirrors 3a to 3c has a unique reflectance and transmittance, but the polarization direction of the beam incident on each of the polarization half mirrors 3a to 3c is changed to a half-wave plate 2a to 3 By operating with 2c, the reflectance and transmittance of each of the polarization half mirrors 3a to 3c can be changed, and the energy intensity of each of the split beams LBa to LBd can be finely adjusted based on this change. Of course, if each of the polarization half mirrors 3a to 3c is configured to be rotatable so that the angle can be changed, fine adjustment of the energy intensity can be similarly performed by rotating the polarization half mirrors 3a to 3c. .
【0034】直線偏光のレーザービームLBを分割する
場合には、偏光面が特定の位相を有することから、各1
/2波長板2a〜2cにおける偏光方向の操作に偏りや
限界が生じてしまう。このため、各偏光ハーフミラー3
a〜3cにおける反射率及び透過率を微少単位で変化さ
せるためには、レーザービームLBとして電界の位置ベ
クトルの存在場所が面積をもつ偏光のレーザビームを用
いることが重要となる。When the linearly polarized laser beam LB is divided, the polarization plane has a specific phase.
The operation of the polarization direction in the half-wave plates 2a to 2c may be biased or limited. For this reason, each polarization half mirror 3
In order to change the reflectance and transmittance in a to 3c in minute units, it is important to use a polarized laser beam having an area where the position vector of the electric field exists as the laser beam LB.
【0035】ちなみに、各1/2波長板2a〜2cの回
転操作によって4つの分割ビームLBa〜LBdのエネ
ルギー強度を微調整するときには、まず、第1の分割ビ
ームLBaと第2の分割ビームLBbのエネルギー強度
の和と、第3の分割ビームLBcと第4の分割ビームL
Bdのエネルギー強度の和とを比較し、両者の間に差が
あるときには、第1の1/2波長板2aをビーム入射軸
を中心として適当に回転させて、第1の分割ビームLB
aと第2の分割ビームLBbのエネルギー強度の和と、
第3の分割ビームLBcと第4の分割ビームLBdのエ
ネルギー強度の和とを一致させる。次に、第1の分割ビ
ームLBaのエネルギー強度と第2の分割ビームLBb
のエネルギー強度とを比較し、両者の間に差があるとき
には、第2の1/2波長板2bをビーム入射軸を中心と
して適当に回転させて、第1の分割ビームLBaのエネ
ルギー強度と第2の分割ビームLBbのエネルギー強度
とを一致させる。また、第3の分割ビームLBcのエネ
ルギー強度と第4の分割ビームLBdのエネルギー強度
とを比較し、両者の間に差があるときには、第3の1/
2波長板2cをビーム入射軸を中心として適当に回転さ
せて、第3の分割ビームLBcのエネルギー強度と第4
の分割ビームLBdのエネルギー強度とを一致させる。When the energy intensity of the four divided beams LBa to LBd is finely adjusted by rotating each of the half-wave plates 2a to 2c, first, the first divided beam LBa and the second divided beam LBb are The sum of the energy intensities, the third split beam LBc and the fourth split beam L
Bd is compared with the sum of the energy intensities, and when there is a difference between the two, the first half-wave plate 2a is appropriately rotated about the beam incident axis to obtain the first split beam LB.
a and the sum of the energy intensities of the second split beam LBb;
The sum of the energy intensities of the third split beam LBc and the fourth split beam LBd is matched. Next, the energy intensity of the first split beam LBa and the second split beam LBb
And if there is a difference between the two, the second half-wave plate 2b is appropriately rotated about the beam incident axis, and the energy intensity of the first split beam LBa is compared with the energy intensity of the first split beam LBa. The energy intensity of the two split beams LBb is matched. The energy intensity of the third split beam LBc is compared with the energy intensity of the fourth split beam LBd.
By appropriately rotating the two-wavelength plate 2c about the beam incident axis, the energy intensity of the third split beam LBc and the fourth
And the energy intensity of the divided beam LBd.
【0036】このように前述の装置によれば、ビーム分
割手段を構成する3つのビーム分割部Da〜Dcのそれ
ぞれに設けられた1/2波長板2a〜2cをビーム入射
軸を中心として回転させて各偏光ハーフミラー3a〜3
cに入射されるビームの偏光方向を操作することによ
り、各偏光ハーフミラー3a〜3cにおける反射率及び
透過率を変化させて4つの分割ビームLBa〜LBdの
エネルギー強度の微調整を行って、各分割ビームLBa
〜LBdのエネルギー強度を一致させることができる。
各偏光ハーフミラー3a〜3cが角度変更等が行えるよ
うに回転可能に構成されている場合には、これら偏光ハ
ーフミラー3a〜3cの回転操作によってもエネルギー
強度の微調整を同様に行って各分割ビームLBa〜LB
dのエネルギー強度を一致させることができる。As described above, according to the above-described apparatus, the half-wave plates 2a to 2c provided in the three beam splitters Da to Dc constituting the beam splitter are rotated around the beam incident axis. Polarization half mirrors 3a-3
By manipulating the polarization direction of the beam incident on c, the reflectance and transmittance of each of the polarization half mirrors 3a to 3c are changed to finely adjust the energy intensity of the four split beams LBa to LBd. Split beam LBa
To LBd.
When each of the polarization half mirrors 3a to 3c is rotatable so that an angle change or the like can be performed, fine adjustment of the energy intensity is similarly performed by rotating the polarization half mirrors 3a to 3c, and each division is performed. Beam LBa-LB
d can have the same energy intensity.
【0037】また、分割対象となるレーザービームLB
として、電界の位置ベクトルの存在場所が面積をもつ偏
光のレーザビームを用いているので、直線偏光や円偏光
や楕円偏光のレーザービームLBを分割対象とする場合
に比べて、前記のエネルギー強度の調整を微少単位で正
確に実施することができる。The laser beam LB to be divided is
Since the position of the electric field position vector uses a polarized laser beam having an area, compared with the case where the linearly, circularly, or elliptically polarized laser beam LB is to be divided, the energy intensity The adjustment can be performed accurately in minute units.
【0038】さらに、各集光レンズ5a〜5dの中心と
レーザー発振器1の出射端(フロントミラー)との距離
Lを一定にしてあるので、各集光レンズ5a〜5dとグ
リーンシートGSとの距離を同じにすることが容易とな
り、各集光レンズ5a〜5d毎にグリーンシートGSと
の距離を調整するための機構が不要で、装置の簡略化が
図れる。この場合には、各集光レンズ5a〜5dの前段
に配置したアパーチャ9a〜9dによって、各集光レン
ズ5a〜5dに入射されるビーム径を均一化することが
好ましい。Further, since the distance L between the center of each of the condenser lenses 5a to 5d and the emission end (front mirror) of the laser oscillator 1 is fixed, the distance between each of the condenser lenses 5a to 5d and the green sheet GS is set. Can be easily made the same, and a mechanism for adjusting the distance from the green sheet GS for each of the condenser lenses 5a to 5d is not required, and the apparatus can be simplified. In this case, it is preferable that the diameter of the beam incident on each of the condenser lenses 5a to 5d is made uniform by the apertures 9a to 9d arranged in front of the condenser lenses 5a to 5d.
【0039】尚、前述の説明では、レーザー発振器1か
ら出射されたレーザービームLBを4つに分割するもの
を例示したが、ビーム分割部Da〜Dcの数を増減する
ことによりビーム分割数は適宜増減できる。In the above description, the laser beam LB emitted from the laser oscillator 1 is divided into four beams. However, by increasing or decreasing the number of the beam splitters Da to Dc, the number of beam splits can be appropriately adjusted. Can be increased or decreased.
【0040】また、各分割ビームLBa〜LBdのエネ
ルギー強度を一致させたものを例示したが、各ビーム分
割部Da〜Dcに設けられた偏光ハーフミラー3a〜3
cの偏光ハーフミラーの反射率及び透過率を変化させる
ことによって、分割ビームのエネルギー強度を任意に変
化させることが可能であり、前述の装置では4つの分割
ビームのエネルギー強度の比率を例えば1:1:1:2
や1:1:2:2や1:2:3:4等に変更することも
できる。Also, the beam splitters LBa to LBd having the same energy intensity have been exemplified. However, the polarization half mirrors 3a to 3c provided in the beam splitters Da to Dc are illustrated.
By changing the reflectivity and transmittance of the polarization half mirror c, the energy intensity of the divided beams can be arbitrarily changed. In the above-described apparatus, the ratio of the energy intensities of the four divided beams is, for example, 1: 1: 1: 2
Or 1: 1: 2: 2 or 1: 2: 3: 4.
【0041】さらに、4つの対物レンズ7a〜7dの前
段にマスクを設けてビームの照射形状を規定したり、4
つの対物レンズ7a〜7dの後段にマスクを設けてグリ
ーンシートGSに照射されるビームのエネルギーを規定
するようにしてもよい。Further, a mask is provided in front of the four objective lenses 7a to 7d to define the beam irradiation shape.
A mask may be provided downstream of the three objective lenses 7a to 7d to regulate the energy of the beam applied to the green sheet GS.
【0042】さらに、各対物レンズ7a〜7dを角度変
更等が行えるように回転可能に構成して照射位置の微調
整を行えるようにしたり、各対物レンズ7a〜7dを光
軸方向に直線移動可能に構成して照射形状の微調整を行
えるようにしてもよい。Further, each of the objective lenses 7a to 7d is configured to be rotatable so that the angle can be changed or the like so that fine adjustment of the irradiation position can be performed, or each of the objective lenses 7a to 7d can be linearly moved in the optical axis direction. And fine adjustment of the irradiation shape may be performed.
【0043】さらにまた、レーザー発振器1の出射端
(フロントミラー)から各集光レンズ5a〜5dに至る
光路長それぞれが等しくなるように1/2波長板2a〜
2c及び偏光ハーフミラー3a〜3cの配置位置を変更
すれば、各集光レンズ5a〜5dへの入射ビームの径を
等しくして分割ビーム各々を同条件で各光ファイバー6
a〜6dに入射できる。この場合、前記のアパーチャ9
a〜9dは必ずしも必要ではない。Further, the half-wavelength plates 2a to 2d are arranged so that the optical path lengths from the emission end (front mirror) of the laser oscillator 1 to each of the condenser lenses 5a to 5d are equal.
2c and the positions of the polarization half mirrors 3a to 3c are changed, the diameters of the incident beams to the respective condenser lenses 5a to 5d are made equal, and the divided beams are respectively transmitted to the respective optical fibers 6 under the same conditions.
a to 6d. In this case, the aperture 9
a to 9d are not necessarily required.
【0044】さらにまた、加工の際に加工塵やゴミ等が
グリーンシートGSや周囲機器に付着することを防止す
るために回転ドラム10の外側にエアーブロー等による
集塵機構を設けてもよい。Further, a dust collecting mechanism such as an air blow may be provided outside the rotary drum 10 in order to prevent processing dust, dust and the like from adhering to the green sheet GS and peripheral devices during processing.
【0045】さらにまた、回転ドラムの外周面に設けた
グリーンシートに向けて分割ビームを照射することで所
期の加工を行うものを示したが、XYテーブル等の平面
移動可能なテーブル上に設けたグリーンシートに向けて
分割ビームを照射する場合でも前記同様の作用効果を得
ることができる。In addition, while the intended processing is performed by irradiating the split beam toward the green sheet provided on the outer peripheral surface of the rotary drum, the green sheet is provided on a XY table or other movable table. The same operation and effect as described above can be obtained even when the split beam is irradiated to the green sheet.
【0046】以下に、前記装置に適用可能な他の実施形
態について説明する。Hereinafter, another embodiment applicable to the above-described apparatus will be described.
【0047】図2には、前記偏光ハーフミラー3a〜3
cにおいて反射ビームのエネルギー強度を変化させる方
法を示してある。図2に示した偏光ハーフミラーは、ミ
ラー基板MSのビーム入射側の面に、散乱光の発生を防
止するための薄膜CFを所定の厚みdで形成することに
よって構成されている。ちなみに、ミラー基板MSには
BK−7(ホウケイ酸クラウンガラス(屈折率=1.5
2))等の材料が使用され、また、薄膜CFにはMgF
2 (屈折率=1.38〜1.40)やCaF2(屈折率
=1.23〜1.46)やMgO(屈折率=1.74)
やZnS(屈折率=2.3)等の材料が使用される。FIG. 2 shows the polarization half mirrors 3a to 3a.
3C shows a method of changing the energy intensity of the reflected beam. The polarization half mirror shown in FIG. 2 is configured by forming a thin film CF having a predetermined thickness d for preventing generation of scattered light on a surface on the beam incident side of the mirror substrate MS. Incidentally, the mirror substrate MS has BK-7 (borosilicate crown glass (refractive index = 1.5).
2)) and the like, and the thin film CF is made of MgF
2 (refractive index = 1.38-1.40), CaF 2 (refractive index = 1.23-1.46), MgO (refractive index = 1.74)
And a material such as ZnS (refractive index = 2.3).
【0048】このような薄膜CFを有する偏光ハーフミ
ラーでは、ビームを入射角θで入射させた場合に、薄膜
CFの表面で反射する光線と、ミラー基板MSの表面で
反射する光線とは、太線で示すような光路差OPDを持
つ。この光路差OPDは、空気屈折率を1,薄膜CFの
屈折率をn1,薄膜CFの厚みをd,ミラー基板MSの
屈折率をn2とした場合において、OPD=2d(n1
2−sin2θ)1/2 の式で表すことができる。薄膜CF
の屈折率n1とミラー基板MSの屈折率n2とがn1≦
n2の関係にあるときは、前記光路差OPDがビーム波
長λの整数倍のときに反射光強度が最大となり、(整数
+1/2)倍のときに反射強度が最小となる。また、薄
膜CFの屈折率n1とミラー基板MSの屈折率n2とが
n1≧n2の関係にあるときは、前記光路差OPDがビ
ーム波長λの整数倍のときに反射光強度が最小となり、
(整数+1/2)倍のときに反射強度が最大となる。つ
まり、偏光ハーフミラーへのビーム入射角θを変化させ
て光路差OPDを増減することにより、反射ビームのエ
ネルギー強度を変化させることができる。In the polarization half mirror having such a thin film CF, when the beam is incident at an incident angle θ, the light reflected on the surface of the thin film CF and the light reflected on the surface of the mirror substrate MS are thick lines. Has an optical path difference OPD as shown in FIG. The optical path difference OPD is OPD = 2d (n1) when the air refractive index is 1, the refractive index of the thin film CF is n1, the thickness of the thin film CF is d, and the refractive index of the mirror substrate MS is n2.
2− sin 2 θ) 1/2 . Thin film CF
N1 and the refractive index n2 of the mirror substrate MS are n1 ≦
When the optical path difference OPD is n2, the reflected light intensity is maximum when the optical path difference OPD is an integral multiple of the beam wavelength λ, and the reflective intensity is minimum when the optical path difference OPD is (integer + 1/2). Further, when the refractive index n1 of the thin film CF and the refractive index n2 of the mirror substrate MS have a relationship of n1 ≧ n2, the reflected light intensity becomes minimum when the optical path difference OPD is an integral multiple of the beam wavelength λ,
The reflection intensity becomes maximum when the value is (integer +1/2) times. That is, the energy intensity of the reflected beam can be changed by increasing or decreasing the optical path difference OPD by changing the beam incident angle θ to the polarization half mirror.
【0049】各々の偏光ハーフミラー3a〜3cへのビ
ーム入射角θはその前段に配置されている1/2波長板
2a〜2cを傾けることにより変化させることが可能で
あるので、1/2波長板2a〜2cに手動操作によって
傾けられるように構成しておけば、1/2波長板2a〜
2cを傾ける操作を行うことにより、反射ビーム及び透
過ビームのエネルギー強度を任意に変化させることがで
きる。The beam incident angle θ to each of the polarization half mirrors 3a to 3c can be changed by tilting the half-wave plates 2a to 2c disposed at the front stage, so that the half-wavelength If the plates 2a to 2c are configured to be tilted by manual operation, the half-wave plates 2a to 2c
By performing the operation of tilting 2c, the energy intensity of the reflected beam and the transmitted beam can be arbitrarily changed.
【0050】図3には、対物レンズを回転ドラム10の
外周面との対向間隔が異なるように配置する場合の方法
を示してある。対物レンズ7a〜7dのレンズ径(レン
ズホルダーの外径も含む)LRが加工ピッチPPに近似
するか、或いは、LR≧PPとなると、対物レンズ7a
〜7dを回転ドラム10の外周面との対向間隔が等しく
なるように配置することが難しくなる。FIG. 3 shows a method of arranging the objective lens so that the distance between the objective lens and the outer peripheral surface of the rotary drum 10 is different. If the lens diameter LR (including the outer diameter of the lens holder) of the objective lenses 7a to 7d is close to the processing pitch PP, or if LR ≧ PP, the objective lens 7a
To 7d are difficult to arrange so that the opposing intervals with the outer peripheral surface of the rotating drum 10 are equal.
【0051】このような場合には、対物レンズ7a〜7
dを2通りの対向間隔WD1とWD2で交互に並ぶよう
に配置すると共に、大きな対向間隔WD2を有する対物
レンズ7bと7dの後段に屈折素子11を配置するとよ
い。ちなみに、屈折素子11には、透明で空気よりも高
い屈折率を有するもの、例えばガラス等が利用できる。
このようすれば、対物レンズ7a及び7cの対向間隔W
D1と、対物レンズ7b及び7dの対向間隔WD2が異
なる場合でも、分割ビームによる加工サイズを同じにす
ることができる。また、4つの対物レンズ7a〜7dを
狭ピッチで配置することが可能となるので、ビーム分割
数及び対物レンズの数を増加させる場合に極めて有効で
ある。In such a case, the objective lenses 7a to 7a
d may be arranged alternately at two opposing intervals WD1 and WD2, and the refracting element 11 may be disposed after the objective lenses 7b and 7d having a large opposing interval WD2. Incidentally, the refraction element 11 can be made of a transparent material having a higher refractive index than air, such as glass.
In this way, the facing distance W between the objective lenses 7a and 7c
Even when D1 and the facing distance WD2 between the objective lenses 7b and 7d are different, the processing size by the divided beam can be made the same. In addition, since it is possible to arrange the four objective lenses 7a to 7d at a narrow pitch, it is extremely effective when increasing the number of beam splits and the number of objective lenses.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
セラミックグリーンシートに対し2以上の加工を同時に
行う場合に極めて有用な加工装置を提供することができ
る。As described in detail above, according to the present invention,
An extremely useful processing apparatus can be provided when performing two or more processes on a ceramic green sheet at the same time.
【図1】本発明の一実施形態を示す装置の構成図FIG. 1 is a configuration diagram of an apparatus showing an embodiment of the present invention.
【図2】偏光ハーフミラーにおいて反射ビームのエネル
ギー強度を変化させる方法を示す図FIG. 2 is a diagram showing a method of changing the energy intensity of a reflected beam in a polarizing half mirror.
【図3】対物レンズを回転ドラムの外周面との対向間隔
が異なるように配置する場合の方法を示す図FIG. 3 is a diagram showing a method in a case where an objective lens is arranged so that a facing distance with an outer peripheral surface of a rotating drum is different.
1…レーザー発振器、LB…レーザービーム、Da〜D
c…ビーム分割部、2a〜2c…1/2波長板、3a〜
3c…偏光ハーフミラー、4a〜4c…全反射ミラー、
5a〜5d…集光レンズ、6a〜6d…光ファイバー、
7a〜7d…対物レンズ、LBa〜LBd…分割ビー
ム、8…バリアブル・アッテネータ、9a〜9d…アパ
ーチャ、10…回転ドラム、GS…セラミックグリーン
シート。1: laser oscillator, LB: laser beam, Da to D
c: beam splitting unit, 2a to 2c: 1/2 wavelength plate, 3a to
3c: polarization half mirror, 4a-4c: total reflection mirror,
5a to 5d: condenser lens, 6a to 6d: optical fiber,
7a to 7d: objective lens, LBa to LBd: split beam, 8: variable attenuator, 9a to 9d: aperture, 10: rotating drum, GS: ceramic green sheet.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 B28B 11/00 Z (72)発明者 高橋 宏 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 (72)発明者 山中 侃 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 (72)発明者 高桑 聡 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 (72)発明者 上野 光生 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 (72)発明者 菅原 昌和 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 Fターム(参考) 4E068 CB05 CB10 CD03 CD12 CE08 DA09 4G055 AA08 BA74 BA83 BB14 5F072 AB01 JJ20 SS06 SS10 YY06──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/00 B28B 11/00 Z (72) Inventor Hiroshi Takahashi 6-16-20 Ueno, Taito-ku, Tokyo Taiyo Denki Co., Ltd. (72) Inventor Kan Yamanaka 6-16-20 Ueno, Taito-ku, Tokyo Taiyo Denki Co., Ltd. (72) Satoshi Takakuwa 6-16-20 Ueno, Taito-ku, Tokyo Taiyo Invitation (72) Inventor Mitsuo Ueno 6-16-20 Ueno, Taito-ku, Tokyo Taiyo Denki Co., Ltd. (72) Inventor Masakazu Sugawara 6-16-20 Ueno, Taito-ku, Tokyo Taiyo Denki Stock In-house F term (reference) 4E068 CB05 CB10 CD03 CD12 CE08 DA09 4G055 AA08 BA74 BA83 BB14 5F072 AB01 JJ20 SS06 SS10 YY06
Claims (5)
ら出射されたレーザービームを2以上のビームに分割す
るビーム分割手段とを備え、ビーム分割手段で得られた
2以上の分割ビームを利用してセラミックグリーンシー
トに対し2以上の加工を同時に行うセラミックグリーン
シートの加工装置であって、 前記レーザー発振手段は電界の位置ベクトルの存在場所
が面積をもつ偏光のレーザービームを出射可能であり、 前記ビーム分割手段は、ビーム入射軸を中心として回転
可能な1/2波長板と、1/2波長板を透過したレーザ
ービームを2つのビームに分割する偏光ハーフミラーと
を有する少なくとも1つのビーム分割部を備える、 ことを特徴とするセラミックグリーンシートの加工装
置。1. A laser oscillating means comprising: a laser oscillating means; and a beam splitting means for splitting a laser beam emitted from the laser oscillating means into two or more beams, using two or more split beams obtained by the beam splitting means. An apparatus for processing a ceramic green sheet, wherein two or more processings are simultaneously performed on the ceramic green sheet, wherein the laser oscillation unit can emit a polarized laser beam having an area where the position vector of the electric field is present, The splitting means includes at least one beam splitting unit having a half-wave plate rotatable about a beam incident axis and a polarizing half mirror for splitting a laser beam transmitted through the half-wave plate into two beams. An apparatus for processing a ceramic green sheet.
中心として回転可能な1/2波長板と、1/2波長板を
透過したレーザービームを2つのビームに分割する偏光
ハーフミラーとを有する2以上のビーム分割部を連続し
て有し、このビーム分割手段は少なくとも3以上の分割
ビームを出力し得る、 ことを特徴とする請求項1に記載のセラミックグリーン
シートの加工装置。2. The beam splitting means includes a half-wave plate rotatable about a beam incident axis, and a polarizing half mirror for splitting a laser beam transmitted through the half-wave plate into two beams. The apparatus for processing a ceramic green sheet according to claim 1, wherein two or more beam splitting sections are continuously provided, and the beam splitting means can output at least three or more split beams.
ている、 ことを特徴とする請求項1または2に記載のセラミック
グリーンシートの加工装置。3. The ceramic green sheet processing apparatus according to claim 1, wherein the polarization half mirror is configured to be rotatable.
入射される集光レンズを分割ビームの数に対応して備
え、 各集光レンズはその中心とレーザー発振手段の出射端と
の距離が一定になるように配置されている、 ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のセ
ラミックグリーンシートの加工装置。4. A condensing lens, into which the split beam obtained by the beam splitting means is incident, corresponding to the number of split beams, wherein each condensing lens has a distance between the center thereof and the emission end of the laser oscillation means. The ceramic green sheet processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the processing apparatus is arranged so as to be constant.
を照射するための対物レンズを分割ビームの数に対応し
て備え、 集光レンズと対物レンズとの間それぞれには、集光レン
ズから出射された分割ビームを対物レンズに伝送する光
ファイバーが介装されている、 ことを特徴とする請求項4に記載のセラミックグリーン
シートの加工装置。5. An objective lens for irradiating a split beam to a ceramic green sheet is provided corresponding to the number of split beams, and a split beam emitted from the collective lens is provided between the collective lens and the objective lens. The apparatus for processing a ceramic green sheet according to claim 4, wherein an optical fiber for transmitting a beam to an objective lens is interposed.
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