JP2002177844A - Apparatus and method for applying coating solution, and apparatus and method for manufacturing plasma display member - Google Patents

Apparatus and method for applying coating solution, and apparatus and method for manufacturing plasma display member

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JP2002177844A
JP2002177844A JP2000376377A JP2000376377A JP2002177844A JP 2002177844 A JP2002177844 A JP 2002177844A JP 2000376377 A JP2000376377 A JP 2000376377A JP 2000376377 A JP2000376377 A JP 2000376377A JP 2002177844 A JP2002177844 A JP 2002177844A
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JP
Japan
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coating liquid
nozzle
coating
uneven
substrate
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Application number
JP2000376377A
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Japanese (ja)
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Yasuki Shimizu
泰樹 清水
Mamoru Kishida
守 岸田
Tatsuya Miyagawa
辰哉 宮川
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Original Assignee
Toray Industries Inc
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for applying a coating solution, capable of accurately and uniformly applying the coating solution to a base material in alignment with the stripe direction of the base material to enhance the productivity and quality of the base material, and an apparatus and method for manufacturing a plasma display panel member. SOLUTION: The apparatus for applying the coating solution is provided with a means for detecting the angle θ formed by the stripe direction of the base material and the arranging direction of coating solution discharge orifices 44 and a position control means for altering and controlling the position of the uneven base material on a table 6 or the position of a nozzle 20 so that the angle θsubstantially becomes a right angle. The coating method using the coating apparatus is disclosed. The apparatus and method for manufacturing the plasma display member using the coating apparatus and method are also disclosed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)、液晶カラーフィルター(LC
M)、光学フィルタ、プリント基板、半導体等の製造分
野に使用されるものであり、特に高粘度塗液を塗布する
PDP製造工程における、ガラス基板などの被塗布対象
物表面に非接触で塗液を吐出しながら薄膜パターンを形
成する塗液の塗布装置および塗布方法に関するものであ
る。
The present invention relates to a plasma display panel (PDP), a liquid crystal color filter (LC)
M), which is used in the field of manufacturing optical filters, printed circuit boards, semiconductors, etc., especially in the PDP manufacturing process for applying a high-viscosity coating solution, in a non-contact manner with the surface of an object to be coated such as a glass substrate TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating liquid coating apparatus and a coating method for forming a thin film pattern while discharging a liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ディスプレイはその方式において
次第に多様化してきている。現在注目されているものの
一つが、従来のブラウン管よりも大型で薄型軽量化が可
能なプラズマディスプレイである。これは、前面板と背
面板の間に形成された放電空間内で放電を生じさせ、こ
の放電によりキセノンガスから波長147nmを中心と
する紫外線が生じて、この紫外線が放電空間内の蛍光体
を励起することによって表示が可能となる。R(赤)、
緑(G)、青(B)に発光する蛍光体を塗り分けた放電
セルを駆動回路によって発光させることにより、フルカ
ラー表示に対応できる。
2. Description of the Related Art In recent years, displays have become increasingly diversified in their system. One of the things that are currently attracting attention is a plasma display that is larger, thinner and lighter than conventional cathode ray tubes. This causes a discharge in a discharge space formed between the front plate and the back plate, and this discharge generates ultraviolet rays having a wavelength of 147 nm as a center from the xenon gas, and the ultraviolet rays excite phosphors in the discharge space. This enables display. R (red),
Full-color display can be achieved by causing the driving circuit to emit light from discharge cells in which phosphors that emit green (G) and blue (B) light are separately applied.

【0003】また、最近活発に開発が進められているA
C型プラズマディスプレイは、表示電極/誘電体層/保
護層を形成した前面ガラス板と、アドレス電極/誘電体
層/隔壁層/蛍光体層を形成した背面ガラス板とを貼り
合わせ、ストライプ状の隔壁あるいはストライプ状の縦
リブとそれに直交する横リブとからなる格子状の隔壁で
仕切られた放電空間内にHe−Xe、または、Ne−X
eの混合ガスを封入した構造を有している。
[0003] In addition, recently developed A
A C-type plasma display is formed by laminating a front glass plate on which a display electrode / dielectric layer / protective layer is formed and a back glass plate on which an address electrode / dielectric layer / partition layer / phosphor layer are formed, and forming a stripe shape. He-Xe or Ne-X is formed in a discharge space partitioned by partition walls or grid-shaped partition walls composed of stripe-shaped vertical ribs and horizontal ribs perpendicular thereto.
e has a structure in which a mixed gas of e is sealed.

【0004】R、G、Bの各蛍光体層は、粉末状の蛍光
体粒子を主成分とする蛍光体ペーストが背面板に形成さ
れた各色毎に一方向に延びる隔壁により形成された凹凸
部、あるいは格子状に形成された凹凸部の凹部にストラ
イプ状に充填されている。
Each of the R, G, and B phosphor layers has an uneven portion formed by partition walls extending in one direction for each color formed on a back plate of a phosphor paste mainly composed of powdered phosphor particles. Alternatively, the concave portions of the concavo-convex portion formed in a lattice shape are filled in a stripe shape.

【0005】このような構造のものを高い生産性と高品
質で製造するには、蛍光体を一定のパターン状に、塗り
分ける技術が重要となる。
[0005] In order to manufacture such a structure with high productivity and high quality, it is important to apply phosphors in a predetermined pattern.

【0006】たとえば特開平10−27543号公報に
は、プラズマディスプレイパネルの隔壁間を対象に、一
個あるいは複数の吐出孔を有する塗布ノズルで塗布する
方法が開示されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-27543 discloses a method of applying a coating nozzle having one or a plurality of ejection holes to a space between partitions of a plasma display panel.

【0007】しかしこの方法では、塗布の際、ストライ
プの方向と吐出孔の配列方向とがなす角度θを実質的に
直角にすることができず、塗布された基板においてスト
ライプ状の隔壁に対し、塗布の開始、終了端の包絡線が
斜めに形成されることとなる。また、ストライプ状の凹
凸部あるいはストライプ状の縦リブとそれに直交する横
リブとからなる格子状の凹凸部が形成されている基材を
テーブル上で位置決めし、テーブルと直角な方向に移動
するノズルから塗液を吐出させて塗布する場合におい
て、基材の位置決め精度には限界があるため、塗布方向
と前記基材のストライプ方向が実質的に平行になるよう
位置決めし、テーブル上に固定することは難しい。さら
に、塗布方向とストライプ状の隔壁との方向が大きくず
れている場合には、塗布の際塗液が隔壁頂部に乗り上げ
たり、場合によっては他色を塗布すべき隣の溝へ塗液を
塗布してしまう可能性がある。
However, according to this method, the angle θ between the direction of the stripe and the arrangement direction of the ejection holes cannot be made substantially perpendicular at the time of coating. The envelopes at the start and end of the application are formed obliquely. Also, a nozzle that positions a base material on which a grid-shaped uneven portion formed of a strip-shaped uneven portion or a strip-shaped vertical rib and a transverse rib orthogonal thereto is formed on a table, and moves in a direction perpendicular to the table. In the case where the coating liquid is discharged and applied, since the positioning accuracy of the base material is limited, the application direction and the stripe direction of the base material are positioned so as to be substantially parallel, and fixed on a table. Is difficult. Furthermore, when the application direction and the direction of the stripe-shaped partition wall are largely displaced, the coating liquid may run on the top of the partition wall at the time of application, or may be applied to an adjacent groove where another color is to be applied. Could be done.

【0008】また、特開昭52−134368号公報、
特開昭54−13250号公報、特開昭54−1325
1号公報等には、ストライプ形ブラックマトリックス式
のカラー受像管のパネル内面の、凸状となっているブラ
ックマトリックス間の凹部に所定の蛍光体を塗布する方
法として、蛇行防止等の制御装置を有する改良されたノ
ズル装置を用いることが示されている。しかし、一本の
ノズルを用いているために、表面の複数の凹凸部に対し
て同時に塗布する方法には適用できず、一本のノズルに
よる塗布のために時間がかかるという問題がある。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-134368,
JP-A-54-13250, JP-A-54-1325
No. 1 Publication and the like discloses a control device for preventing meandering or the like as a method of applying a predetermined phosphor to a concave portion between convex black matrices on the inner surface of a panel of a striped black matrix type color picture tube. It has been shown to use an improved nozzle arrangement having However, since a single nozzle is used, the method cannot be applied to a method of simultaneously applying to a plurality of uneven portions on the surface, and there is a problem that it takes time to apply using a single nozzle.

【0009】すなわち、本発明においては、表面に一方
向に複数本のストライプ状の凹凸部あるいはストライプ
状の縦リブとそれに直交する横リブとからなる格子状の
凹凸部が形成されている凹凸基材の凹部に、複数の開口
部(吐出孔)をもつノズルで塗液をストライプ状に精度
良く塗布することを前提とするものである。
That is, according to the present invention, an uneven base having a plurality of stripe-shaped uneven portions or a lattice-shaped uneven portion formed by stripe-shaped vertical ribs and horizontal ribs orthogonal thereto is formed on the surface in one direction. This is based on the premise that a coating liquid is applied to a concave portion of a material with a nozzle having a plurality of openings (discharge holes) with high accuracy in a stripe shape.

【0010】特に、このような複数の吐出孔をもつノズ
ルで、凹凸基材の凹部に沿って、つまり、凹凸基材の凹
部の方向(ストライプの方向)や凹部との相対位置関係
を所定の位置関係に保ちつつ、塗液を精度良く塗布して
いく技術として、特開平11−239751には、スト
ライプの方向と塗布方向とのなす角度を検出し、補間塗
布する方法が開示されてる。しかしながらこの方法で
は、ノズル孔配列方向とストライプの方向とがなす角度
には言及しておらず、ノズル孔の加工精度及びノズル取
付け精度が悪くノズル孔配列方向とストライプの方向が
直角でなければ、1枚の基板に対してノズルを用いて複
数回塗布する場合においては、塗布開始及び終了位置に
おいて、ノズル移動ピッチ毎に塗布回数分の段差が生じ
てしまう。
In particular, with such a nozzle having a plurality of discharge holes, the direction of the concave portion (stripe direction) of the concave-convex substrate and the relative positional relationship with the concave portion are determined along the concave portion of the concave-convex substrate. As a technique for applying a coating liquid with high precision while maintaining the positional relationship, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-239751 discloses a method of detecting an angle between a stripe direction and an application direction and performing interpolation application. However, in this method, the angle between the nozzle hole arrangement direction and the stripe direction is not mentioned, and the processing accuracy of the nozzle holes and the nozzle attachment accuracy are poor, and the nozzle hole arrangement direction and the stripe direction are not perpendicular to each other. In the case where a single substrate is applied a plurality of times by using a nozzle, a step corresponding to the number of times of application occurs at each nozzle movement pitch at the application start and end positions.

【0011】また、特開平11−204032号公報に
は、基材上のストライプ状の凹部の間隔を検出し、一定
ピッチで孔が配列されたノズルを使用し、そのノズル自
体を所望する角度だけ回転させることで凹部とノズル孔
のピッチを一致させ塗布する方法が記載されているが、
この方法もストライプの方向とノズル孔配列方向とがな
す角度を検出し、両者を直角に位置変更制御するわけで
はなく、さらにはこの方法でも前記補間塗布の場合と同
様塗布開始及び終了位置では塗布回数分の段差が生じて
しまう。
Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-204032 discloses a technique in which the interval between stripe-shaped concave portions on a substrate is detected, a nozzle having holes arranged at a constant pitch is used, and the nozzle itself is set at a desired angle. Although the method of applying by matching the pitch of the concave portion and the nozzle hole by rotating is described,
This method also detects the angle formed by the direction of the stripe and the nozzle hole arrangement direction, and does not control the position change of both at a right angle. Further, in this method, coating is performed at the coating start and end positions as in the case of the interpolation coating. Steps corresponding to the number of times are generated.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、プラズマディスプレイの隔壁のように、表面に一方
向に複数本のストライプ状の凹凸部あるいは格子状の凹
凸部が形成されている凹凸基材の凹部に、複数の吐出孔
を有するノズルから所定の塗液を塗布するに際し、各吐
出孔から均一に塗液を吐出して、各凹部に確実に塗布す
ることにあり、特に凹部の延在方向に沿って容易に精度
良く、かつ、均一に塗布することができ、塗布開始位置
及び終了位置が隔壁端部と平行な一直線上に形成され、
所定の凹部からはみ出ることなく塗液を塗布し、それに
よって高生産性と高品質を実現できる、凹凸基材への塗
液の塗布装置及び方法並びにプラズマディスプレイの製
造装置及び製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an uneven base having a plurality of stripe-shaped uneven portions or lattice-shaped uneven portions formed in one direction on a surface thereof, such as a partition wall of a plasma display. When applying a predetermined coating liquid from a nozzle having a plurality of discharge holes to a concave portion of a material, the coating liquid is uniformly discharged from each discharge hole to surely apply the coating liquid to each concave portion. Easy and accurate along the existing direction, and can be applied uniformly, the application start position and the end position are formed on a straight line parallel to the end of the partition wall,
Provided are an apparatus and method for applying a coating liquid to an uneven substrate, and an apparatus and a method for manufacturing a plasma display, which can apply a coating liquid without protruding from a predetermined concave portion, thereby realizing high productivity and high quality. It is in.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、 (1)本発明の凹凸基材への塗液の塗布装置は、表面に
一方向に複数本のストライプ状の凹凸部あるいはストラ
イプ状の縦リブとそれに直交する横リブからなる格子状
の凹凸部が形成されている凹凸基材を固定するテーブル
と、該凹凸基材の凹凸部と対面して凹凸部と相関関係を
もつピッチで一直線上に配列された複数の塗液吐出孔を
有し、前記凹凸基材の凹凸部に対面して位置するノズル
装置と、該ノズル装置に塗液を供給する塗液供給手段
と、前記テーブルを移動させる第1の移動手段と、前記
ノズル装置と前記テーブルとを前記第1の移動手段によ
る移動方向と直角な方向に相対移動させる第2の移動手
段を備えた塗液の塗布装置において、前記ストライプの
方向と、前記塗液吐出孔の配列方向とがなす角度θを検
出する手段と、前記角度θが実質的に直角になるように
前記テーブル上の前記凹凸基材または前記ノズル装置の
位置を変更制御する位置制御手段とが設けられたことを
特徴とする塗液の塗布装置である。
Means for Solving the Problems To solve the above problems, (1) The apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises a plurality of stripe-shaped uneven portions or stripes on the surface in one direction. For fixing an uneven substrate on which a lattice-shaped uneven portion composed of a vertical rib and a horizontal rib orthogonal thereto is formed, and a pitch having a correlation with the uneven portion facing the uneven portion of the uneven substrate. A nozzle device having a plurality of coating liquid discharge holes arranged in a straight line, and located at a position facing the uneven portion of the uneven substrate, a coating liquid supply means for supplying a coating liquid to the nozzle device, A coating liquid coating apparatus comprising: a first moving unit that moves a table; and a second moving unit that relatively moves the nozzle device and the table in a direction perpendicular to a moving direction of the first moving unit. , The direction of the stripe and the coating Means for detecting an angle θ formed by the arrangement direction of the liquid ejection holes, and position control means for changing and controlling the position of the uneven substrate or the nozzle device on the table so that the angle θ is substantially a right angle. And a coating liquid coating device.

【0014】(2)また、前記位置制御手段が、前記ノ
ズル装置を回転させる回転機構を有することを特徴とす
る。
(2) The position control means has a rotation mechanism for rotating the nozzle device.

【0015】(3)また、前記位置制御手段が、前記複
数の塗液吐出孔の一つと前記ノズル装置の回転中心とを
一致させるための位置微調整機構を有することを特徴と
する。
(3) Further, the position control means has a position fine adjustment mechanism for making one of the plurality of coating liquid discharge holes coincide with the rotation center of the nozzle device.

【0016】(4)また、前記位置制御手段が、前記凹
凸基材を回転させる回転機構を有することを特徴とする
塗液の塗布装置である。
(4) The coating liquid application apparatus, wherein the position control means has a rotation mechanism for rotating the uneven substrate.

【0017】(5)また、前記角度θを検出する手段の
中に、基材に設けられたアライメントマークを認識する
ことが含まれることを特徴とする塗液の塗布装置であ
る。
(5) The coating liquid coating apparatus is characterized in that the means for detecting the angle θ includes recognizing an alignment mark provided on the base material.

【0018】(6)また本発明は、前記(1)〜(5)
のいずれかに記載の塗液塗布装置が用いられ、当該塗布
装置における前記塗液として、赤色、緑色、青色のいず
れかの色に発光する蛍光体粉末を含むペーストが用いら
れてなるプラズマディスプレイ部材の製造装置である。
(6) Further, the present invention provides the above (1) to (5)
A plasma display member using the coating liquid application device according to any one of the above, and using a paste containing a phosphor powder that emits any of red, green, and blue as the coating liquid in the application device. Manufacturing apparatus.

【0019】(7)また本発明は、表面に一方向に複数
本のストライプ状の凹凸部あるいはストライプ状の縦リ
ブとそれに直交する横リブとからなる格子状の凹凸部が
形成されている凹凸基材と、該凹凸基材の凹凸部と対面
して凹凸部と相関関係をもつピッチで一直線上に配列さ
れた複数の塗液吐出孔を有するノズル装置とを直角に相
対的に移動させ、かつ前記ノズル装置に塗液を供給して
塗液吐出孔より塗液を吐出し、前記凹凸基材の凹部に塗
液を塗布する塗液の塗布方法であって、前記ストライプ
の方向と、前記塗液吐出孔の配列方向とがなす角度θが
実質的に直角になるように前記凹凸基材または前記ノズ
ル装置の位置を変更制御し、かつ、塗布方向が前記スト
ライプの方向と平行になるよう基板およびノズル装置を
相対移動させながら塗布することを特徴とする塗液の塗
布方法である。
(7) According to the present invention, there is provided an uneven surface having a plurality of stripe-shaped uneven portions or a grid-shaped uneven portion formed by a stripe-shaped vertical rib and a horizontal rib orthogonal to the surface in one direction. Substrate, the nozzle device having a plurality of coating liquid ejection holes arranged in a straight line at a pitch having a correlation with the uneven portion facing the uneven portion of the uneven substrate, and relatively moved at a right angle, A method of applying a coating liquid, which supplies the coating liquid to the nozzle device and discharges the coating liquid from the coating liquid discharge holes, and applies the coating liquid to the concave portions of the uneven substrate, wherein the direction of the stripe, The position of the uneven substrate or the nozzle device is changed and controlled so that the angle θ between the arrangement direction of the coating liquid discharge holes and the arrangement direction of the coating liquid discharge holes are substantially perpendicular, and the coating direction is parallel to the direction of the stripe. While relatively moving the substrate and the nozzle device A coating liquid method of applying, characterized in that the coating.

【0020】(8)また、前記変更制御が、前記ノズル
装置を回転させることによりおこなわれることを特徴と
する塗液の塗布方法である。
(8) A method of applying a coating liquid, wherein the change control is performed by rotating the nozzle device.

【0021】(9)また、前記変更制御が、前記凹凸基
材を回転させることによりおこなわれることを特徴とす
る塗液の塗布方法である。
(9) A method of applying a coating liquid, wherein the change control is performed by rotating the uneven substrate.

【0022】(10)前記角度θを検出する際に、基材
に設けられたアライメントマークを認識することが含ま
れることを特徴とする塗液の塗布方法である。
(10) A method of applying a coating liquid, wherein detecting the angle θ includes recognizing an alignment mark provided on the base material.

【0023】(11)また本発明は、前記塗液の塗布方
法が用いられ、当該塗布方法における前記塗液として、
赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍光体粉末
を含むペーストが用いられてなるプラズマディスプレイ
部材の製造方法である。
(11) In the present invention, the method for applying the coating liquid is used, wherein the coating liquid in the coating method is
This is a method for manufacturing a plasma display member using a paste containing a phosphor powder that emits any one of red, green, and blue colors.

【0024】上記の装置および方法を用いることによ
り、ストライプの方向と複数の塗液吐出孔を有するノズ
ル装置の塗液吐出孔の配列方向とのなす角度θが検出さ
れ、前記角度θが実質的に直角になるように基材または
ノズル装置の位置を変更制御することで、吐出孔の配列
方向と凹凸基材のストライプの方向とがなす角度を直角
に保ちつつ、ストライプに沿ってノズルの開口部が相対
的に精度よく移動される。したがって塗布の途中も常に
所定の塗布精度、塗布状態に保たれ、凹凸基材の凹部の
みに高精度の塗布が可能となるため、塗布開始位置及び
終了位置が一直線上に形成され、凹部からのはみ出しも
なく所望の高品質の塗布基材を得ることができる。
By using the above-described apparatus and method, the angle θ between the direction of the stripe and the arrangement direction of the coating liquid discharge holes of the nozzle device having a plurality of coating liquid discharge holes is detected, and the angle θ is substantially determined. By controlling the position of the substrate or the nozzle device so as to be at right angles to the angle, the angle between the arrangement direction of the ejection holes and the direction of the stripe of the uneven substrate is kept at a right angle, and the nozzle opening along the stripe is maintained. The part is moved relatively accurately. Therefore, even during the application, the predetermined application accuracy and the application state are always maintained, and high-precision application can be performed only on the concave portions of the uneven substrate, so that the application start position and the end position are formed in a straight line, and the A desired high-quality coated substrate can be obtained without protruding.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】(本発明の塗液の塗布装置および
塗布方法)以下、本発明の望ましい実施の形態を、図面
を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Applying Apparatus and Application Method for Coating Liquid of the Present Invention) Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0026】まず、本発明の要部である角度θの検出構
成やノズル装置の位置を変更制御する位置制御手段の構
成を説明する前に、本発明に係る塗液の塗布装置の全体
構成、とくに凹凸基材(たとえば、プラズマディスプレ
イパネル部材用)への塗液の塗布装置の全体構成の例に
ついて説明する。
First, before describing the configuration for detecting the angle θ and the configuration of the position control means for changing and controlling the position of the nozzle device, which are the main components of the present invention, the overall configuration of the coating liquid coating apparatus according to the present invention will be described. In particular, an example of the entire configuration of an apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate (for example, for a plasma display panel member) will be described.

【0027】図1は、本発明の一実施態様に係る塗布装
置の全体斜視図、図2は図1のテーブル6とノズル20
周りの模式図、図3はノズル20の位置を変更制御する
位置制御手段の模式図である。
FIG. 1 is an overall perspective view of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a table 6 and a nozzle 20 of FIG.
FIG. 3 is a schematic diagram of the surroundings, and FIG. 3 is a schematic diagram of a position control unit that controls the change of the position of the nozzle 20.

【0028】まず、塗液の塗布装置の全体構成について
説明する。図1は、本発明に係るプラズマディスプレイ
パネルの製造に適用される塗布装置の一例を示してい
る。この装置は基台2を備えている。基台2上には、一
対のガイド溝レール8が設けられており、このガイド溝
レール8上にはテーブル6が配置されている。このテー
ブル6の上面には、表面に凹凸が一定ピッチで一方向に
ストライプ状に形成された基材4が、真空吸引によって
テーブル6の上面に固定可能となるように、複数の吸引
孔7が設けられている。また、基材4は図示しないリフ
トピンによってテーブル6上を昇降する。さらに、テー
ブル6はスライド脚9を介してガイド溝レール8上をX
軸方向に往復動自在となっている。
First, the overall configuration of the coating liquid coating apparatus will be described. FIG. 1 shows an example of a coating apparatus applied to manufacture of a plasma display panel according to the present invention. This device has a base 2. A pair of guide groove rails 8 is provided on the base 2, and a table 6 is arranged on the guide groove rails 8. A plurality of suction holes 7 are formed on the upper surface of the table 6 so that the substrate 4 having the surface formed with stripes in one direction at a constant pitch can be fixed to the upper surface of the table 6 by vacuum suction. Is provided. The base material 4 is moved up and down on the table 6 by lift pins (not shown). Further, the table 6 is moved X on the guide groove rail 8 through the slide legs 9.
It is reciprocable in the axial direction.

【0029】一対のガイド溝レール8間には、図2に示
す送りねじ機構を構成するフィードスクリュー10が、
テーブル6の下面に固定されたナット状のコネクタ11
を貫通して延びている。フィードスクリュー10の両端
部は軸受12に回転自在に支持され、さらに片方の一端
はACサーボモータ16が自在継手14を介して連結さ
れている。
Between the pair of guide groove rails 8, a feed screw 10 constituting a feed screw mechanism shown in FIG.
Nut-shaped connector 11 fixed to the lower surface of table 6
Extends through it. Both ends of the feed screw 10 are rotatably supported by bearings 12, and one end of the feed screw 10 is connected to an AC servomotor 16 via a universal joint 14.

【0030】図1に示すように、テーブル6の上方に
は、塗液を吐出するノズル20がノズル20の回転機構
を含む位置微調整機構21を介して昇降機構30、幅方
向移動機構36に連結している。昇降機構30は昇降可
能な昇降ブラケット28を備えており、昇降機構30の
ケーシング内部で一対のガイドロッドに昇降自在に取り
付けられている。また、このケーシング内には、ガイド
ロッド間に位置してボールねじからなるフィードスクリ
ュー(図示しない)もまた回転自在に配置されており、
ナット型のコネクタを介して昇降ブラケット28と連結
されている。さらにフィードスクリューの上端には、図
示しないACサーボモータが接続されており、このAC
サーボモータの回転によって昇降ブラケット28を任意
に昇降動作させることができるようになっている。
As shown in FIG. 1, above the table 6, a nozzle 20 for discharging the coating liquid is moved to a lifting mechanism 30 and a width direction moving mechanism 36 via a position fine adjustment mechanism 21 including a rotation mechanism of the nozzle 20. Connected. The elevating mechanism 30 includes an elevating bracket 28 that can be moved up and down, and is attached to a pair of guide rods inside the casing of the elevating mechanism 30 so as to be able to move up and down. In this casing, a feed screw (not shown) formed of a ball screw is also rotatably disposed between the guide rods.
It is connected to the lifting bracket 28 via a nut-type connector. An AC servo motor (not shown) is connected to the upper end of the feed screw.
The elevation bracket 28 can be arbitrarily moved up and down by rotation of the servomotor.

【0031】さらに、昇降機構30はY軸移動ブラケッ
ト32(アクチュエータ)を介して幅方向移動機構36
に接続されている。幅方向移動機構36はY軸移動ブラ
ケット32をノズル20の幅方向、すなわちY軸方向に
往復動自在に移動させるものである。動作のために必要
なガイドロッド、フィードスクリュー、ナット型コネク
ター、ACサーボモータ等は、ケーシング内に昇降機構
30と同じように配置されている。幅方向移動機構36
は支柱34により基台2上に固定されている。
Further, the elevating mechanism 30 is moved by a width-direction moving mechanism 36 via a Y-axis moving bracket 32 (actuator).
It is connected to the. The width-direction moving mechanism 36 moves the Y-axis moving bracket 32 so as to reciprocate in the width direction of the nozzle 20, that is, in the Y-axis direction. A guide rod, a feed screw, a nut-type connector, an AC servomotor, and the like necessary for the operation are arranged in the casing in the same manner as the lifting mechanism 30. Width direction moving mechanism 36
Are fixed on the base 2 by the columns 34.

【0032】これらの構成によって、ノズル20はZ軸
とY軸方向に自在に移動させることができる。
With these configurations, the nozzle 20 can be freely moved in the Z-axis and Y-axis directions.

【0033】ノズル20は、テーブル6の往復動方向と
直交する方向、つまりY軸方向に水平に延びているが、
図3に示すように、これを直接保持するノズル位置制御
機構内のホルダ22は位置変更制御手段25内で、基材
4との対向面内で回転自在に支持されており、垂直面内
で自在に図中の矢印方向に回転することができる。
The nozzle 20 extends horizontally in the direction orthogonal to the reciprocating direction of the table 6, that is, in the Y-axis direction.
As shown in FIG. 3, the holder 22 in the nozzle position control mechanism for directly holding the holder is rotatably supported in the position change control means 25 in the surface facing the base material 4 and in the vertical plane. It can be freely rotated in the direction of the arrow in the figure.

【0034】このホルダ22の上方には水平バー24が
あり、この水平バー24の両端部には、電磁作動型のリ
ニアアクチュエータ26が取り付けられている。このリ
ニアアクチュエータ26は水平バー24の下面から突出
する伸縮ロッド29を有し、これら伸縮ロッド29がホ
ルダ22の両端に接触することによってホルダ22の回
転角度を規制することができ、結果としてノズル20の
傾き度を任意に設定することができる。
Above the holder 22, there is a horizontal bar 24. At both ends of the horizontal bar 24, an electromagnetically actuated linear actuator 26 is mounted. The linear actuator 26 has telescopic rods 29 protruding from the lower surface of the horizontal bar 24, and the telescopic rods 29 contact both ends of the holder 22 to regulate the rotation angle of the holder 22. Can be set arbitrarily.

【0035】さらに図1を参照すると、基台2の上面に
は逆L字形のセンサ支柱38が固定されており、その先
端にはテーブル6上の基材4の凸部頂上の位置(高さ)
を測定する高さセンサ40が取り付けられている。ま
た、高さセンサ40の隣には、基材4の凹凸部の位置を
検知するカメラ72が支柱70に取り付けられている。
図2に示すように、カメラ72は画像処理装置74に電
気的に接続されており、凹凸部位置の変化を定量的に求
めることができる。
Still referring to FIG. 1, an inverted L-shaped sensor support 38 is fixed to the upper surface of the base 2, and the tip (the height) of the convex portion of the base material 4 on the table 6 is provided at the tip. )
Is mounted. Next to the height sensor 40, a camera 72 for detecting the position of the uneven portion of the base member 4 is attached to the column 70.
As shown in FIG. 2, the camera 72 is electrically connected to the image processing device 74, and can quantitatively determine a change in the position of the uneven portion.

【0036】さらに、テーブル6の一端には、センサブ
ラケット64を介して、ノズル20の吐出孔44のある
下端面(吐出孔面)のテーブル6に対する垂直方向の位
置を検知するセンサ66とノズル20の塗液吐出孔44
の位置を検知するカメラ82が取り付けられている。カ
メラ82も画像処理装置74に電気的に接続されてお
り、ノズル20の塗液吐出孔位置がX、Y方向に対して
定量的に求められる。
Further, at one end of the table 6, a sensor 66 for detecting the vertical position of the lower end surface (discharge hole surface) of the nozzle 20 having the discharge hole 44 with respect to the table 6 via the sensor bracket 64 and the nozzle 20. Coating liquid discharge hole 44
Is mounted. The camera 82 is also electrically connected to the image processing device 74, and the position of the coating liquid discharge hole of the nozzle 20 can be quantitatively determined in the X and Y directions.

【0037】カメラ72とカメラ82は一定の距離に固
定されているので、ノズル20の塗液吐出孔位置と所定
の凹部位置の相対距離を求めることができる。カメラ7
2、82が移動するように構成されている場合には、こ
れらが基準位置に対してどれだけ移動したかを測定する
手段、例えばリニアスケール、エンコーダ等が必要とな
り、それにより上記と同様にして塗液吐出孔位置と所定
の凹部位置の相対距離を求めることができる。
Since the camera 72 and the camera 82 are fixed at a fixed distance, the relative distance between the position of the coating liquid discharge hole of the nozzle 20 and the position of the predetermined concave portion can be obtained. Camera 7
In the case where 2, 82 are configured to move, means for measuring how much they have moved with respect to the reference position, for example, a linear scale, an encoder, and the like are required, and thereby, in the same manner as described above. The relative distance between the position of the coating liquid discharge hole and the position of the predetermined concave portion can be obtained.

【0038】ここで凹凸基材のストライプの方向とノズ
ル孔の配列方向とがなす角度θを検出する手段と、前記
角度θが実質的に直角になるようノズル20の位置を変
更する位置制御手段について、本発明の一実施態様を図
3および図4に示す。
Here, means for detecting the angle θ between the direction of the stripes of the uneven substrate and the direction of arrangement of the nozzle holes, and position control means for changing the position of the nozzle 20 so that the angle θ is substantially perpendicular. 3 and FIG. 4 show an embodiment of the present invention.

【0039】角度θは、基材4の置かれたテーブルの移
動方向(X方向)と基材ストライプの方向とがなす角度
θ1と、ノズルの移動する方向(Y方向)と塗液吐出孔
の配列方向とがなす角度θ2と、テーブル移動方向とノ
ズルの移動する方向とがなす角度90゜、上記3つの角
度の演算により求められる。
The angle θ is the angle θ 1 between the direction of movement of the table on which the substrate 4 is placed (X direction) and the direction of the substrate stripe, the direction of nozzle movement (Y direction), and the The angle θ2 between the arrangement direction, the angle 90 ° between the table moving direction and the direction in which the nozzle moves, and the above three angles are calculated.

【0040】基材4はその表面に、基材の4隅にプリン
トされたアライメントマーク100を有しており、基材
凹凸部のストライプの方向とアライメントマークの位置
関係は常に一定である。基材凹凸部のストライプの方向
は、基材長手方向にある2つのアライメントマークを結
んだ直線と垂直方向、あるいは基材短手方向にある2つ
のアライメントマークを結んだ直線と平行方向に形成さ
れている。したがって、基材上のアライメントマーク2
点それぞれの位置を検知することでストライプ方向を検
知することが可能となる。具体的には、テーブル6上で
位置決めを行い、吸引された状態の基材4を、基材4の
凹凸部の位置を検知するカメラ72の下に、基材の1点
目のアライメントマークが位置するようテーブル6を移
動させ、テーブル6の移動位置を検出するセンサ68か
らの信号と画像処理により、1点目のアライメントマー
クの位置座標を検知する。次に2点目のアライメントマ
ークがカメラ72の下へ位置するようテーブル6を移動
させ、同様に2点目のアライメントマークの位置座標を
検知する。アライメントマーク2点の位置座標から、テ
ーブル移動方向(X方向)と基材4のストライプの方向
がなす角度θ1が算出される。
The base material 4 has alignment marks 100 printed on the four corners of the base material on its surface, and the positional relationship between the direction of the stripes of the concave and convex portions of the base material and the alignment marks is always constant. The direction of the stripe of the substrate uneven portion is formed in a direction perpendicular to a straight line connecting two alignment marks in the longitudinal direction of the base material or in a direction parallel to a straight line connecting two alignment marks in the short direction of the base material. ing. Therefore, alignment mark 2 on the substrate
By detecting the position of each point, it is possible to detect the stripe direction. Specifically, the first alignment mark of the base material is positioned below the camera 72 that detects the position of the concave and convex portions of the base material 4 in the sucked state by performing positioning on the table 6. The table 6 is moved so as to be positioned, and the position coordinates of the first alignment mark are detected by a signal from the sensor 68 for detecting the moving position of the table 6 and image processing. Next, the table 6 is moved so that the second alignment mark is positioned below the camera 72, and the position coordinates of the second alignment mark are similarly detected. From the position coordinates of the two alignment marks, the angle θ1 between the table moving direction (X direction) and the direction of the stripe of the substrate 4 is calculated.

【0041】あるいは、テーブル6上に位置決めされた
基材4上のストライプ状凹部の端部を写し出し、画像処
理によって一番端の凹部の位置座標を検出し、その後テ
ーブル6をX方向に移動させ、先に位置座標を検出した
のと同一凹部反対側端部の位置座標を検出し、2つの座
標を演算することでストライプ方向とテーブル移動方向
とのなす角度θ1を求めても良い。
Alternatively, the end of the stripe-shaped concave portion on the base material 4 positioned on the table 6 is projected, the position coordinates of the endmost concave portion are detected by image processing, and then the table 6 is moved in the X direction. Alternatively, the position coordinate of the opposite end of the same recess as the position coordinate previously detected may be detected, and the two coordinates may be calculated to determine the angle θ1 between the stripe direction and the table movement direction.

【0042】次に、テーブル6の一端に設置されたカメ
ラ82の上へ、複数ある塗液吐出孔両端孔が位置するよ
うY軸を動作させる。まず、カメラ82の上へ塗液塗出
孔の右端孔が位置するようX、Y軸を動作させ、右端吐
出孔の位置座標を検出する。次に左端孔がカメラ82の
上へ位置するようX、Y軸を動作させ、左端孔の位置座
標を検出する。両端孔の位置座標から、塗液吐出孔の配
列方向とノズル移動方向(Y軸)とがなす角度θ2が検
出される。
Next, the Y-axis is operated so that a plurality of coating liquid discharge holes at both ends are positioned on the camera 82 installed at one end of the table 6. First, the X and Y axes are operated so that the right end of the coating liquid application hole is positioned above the camera 82, and the position coordinates of the right end discharge hole are detected. Next, the X and Y axes are operated so that the left end hole is positioned above the camera 82, and the position coordinates of the left end hole are detected. From the position coordinates of both end holes, an angle θ2 formed by the arrangement direction of the coating liquid ejection holes and the nozzle movement direction (Y axis) is detected.

【0043】上記で求めたθ1、θ2とノズル移動方向
とテーブル移動方向とがなす角度90°、3つの角度の
演算により(例えばθ=90°+θ1+θ2)、ストラ
イプの方向と吐出孔の配列方向とがなす角度θの検出が
可能となる。
By calculating three angles (eg, θ = 90 ° + θ1 + θ2) between θ1 and θ2, the nozzle moving direction, and the table moving direction obtained above (θ = 90 ° + θ1 + θ2), the direction of the stripe and the arrangement direction of the discharge holes are determined. Can be detected.

【0044】基材のストライプ方向と塗液吐出孔の配列
方向とがなす角度θが検出された後、角度θが実質的に
直角となるようノズル装置の位置を位置変更制御手段2
5により変更制御する。変更制御手段25は、回転機構
に用いられるアクチュエータ23(例えばダイレクトド
ライブモータ)を利用し、アクチュエータ23のエンコ
ーダから出力される信号に基づき、角度θが実質的に直
角になるまで前記アクチュエータを回転させる。
After the angle θ between the stripe direction of the base material and the arrangement direction of the coating liquid discharge holes is detected, the position of the nozzle device is changed to a position change control means 2 so that the angle θ becomes substantially a right angle.
5 to control the change. The change control unit 25 uses an actuator 23 (for example, a direct drive motor) used for a rotation mechanism and rotates the actuator until the angle θ becomes substantially a right angle based on a signal output from an encoder of the actuator 23. .

【0045】さらには回転機構の中心軸とノズル装置の
中心点を一致させておけば、ノズル装置中心位置と片側
のノズル端孔位置を検出することで角度θ2の検出が可
能となる。そのため、カメラ82をあらかじめ求められ
ている回転機構中心軸と一致する位置座標へ移動させ、
その後位置微調整機構21により回転中心とノズル装置
中心を容易に一致させることができる。位置微調整機構
21は、XY方向に動作可能な機構であれば、使用上問
題はない 上記により基材4のストライプ方向と塗液吐出孔の配列
方向とがなす角度θを検出可能であるが、事前に、例え
ばノズルを取り付けた直後に、塗液吐出孔の配列方向を
ノズル移動方向と平行となる位置まで回転させておき、
その位置を記憶させておく方法でもよい。つまり、テー
ブルに設置されたカメラ82により塗液吐出孔とノズル
移動方向とがなす角度θ2を検出した後、アクチュエー
タ23を制御してθ2=0°となるまで回転させてお
く。これにより、基材4のストライプ方向とテーブル移
動方向とがなす角度θ1のみを検出すれば良いこととな
る。
Furthermore, if the center axis of the rotation mechanism is made to coincide with the center point of the nozzle device, the angle θ2 can be detected by detecting the center position of the nozzle device and the position of the nozzle end hole on one side. Therefore, the camera 82 is moved to a position coordinate that coincides with the rotation mechanism center axis determined in advance,
Thereafter, the center of rotation and the center of the nozzle device can be easily matched by the position fine adjustment mechanism 21. There is no problem in use as long as the position fine adjustment mechanism 21 can operate in the X and Y directions. As described above, the angle θ between the stripe direction of the base material 4 and the arrangement direction of the coating liquid discharge holes can be detected. In advance, for example, immediately after the nozzle is attached, the arrangement direction of the coating liquid ejection holes is rotated to a position parallel to the nozzle moving direction,
A method of storing the position may be used. That is, after detecting the angle θ2 between the coating liquid ejection hole and the nozzle moving direction by the camera 82 installed on the table, the actuator 23 is controlled to rotate until the angle θ2 = 0 °. As a result, only the angle θ1 between the stripe direction of the substrate 4 and the table moving direction needs to be detected.

【0046】図2に示す全体コントローラ60には、モ
ータコントローラ62、高さセンサ40の電気入力等、
カメラ72の画像処理装置74からの情報等、すべての
制御情報が電気的に接続されており、全体のシーケンス
制御をつかさどれるようになっている。全体コントロー
ラ60は、コンピュータでも、シーケンサでも、制御機
能を持つものならばどのようなものでもよい。
The general controller 60 shown in FIG. 2 includes a motor controller 62, an electric input of the height sensor 40, and the like.
All control information such as information from the image processing device 74 of the camera 72 is electrically connected, and controls the entire sequence control. The general controller 60 may be a computer, a sequencer, or any controller having a control function.

【0047】またモータコントローラ62には、テーブ
ル6を駆動するACサーボモータ16や、昇降機構30
と幅方向移動機構36のそれぞれのアクチュエータ7
6,78(たとえば、ACサーボモータ)、ノズル装置
の位置を変更制御するアクチュエータ23、さらにはテ
ーブル6の移動位置を検出する位置センサ68からの信
号、ノズル20の作動位置を検出するY、Z軸の各々の
リニアセンサ(図示しない)、アクチュエータ23のエ
ンコーダ(図示しない)からの信号などが入力される。
なお、位置センサ68を使用する代わりに、ACサーボ
モータ16にエンコーダを組み込み、このエンコーダか
ら出力されるパルス信号に基づき、テーブル6の位置を
検出することも可能である。モータコントローラ62は
前記のように、全体コントローラ60の統括下で制御さ
れる。例えば、カメラ82の画像処理装置74からの情
報に基づいて、全体コントローラ60は所定の隔壁の凹
部にノズル20の塗液吐出孔を合わせるためのY方向位
置、凹部ストライプ方向のX方向に対する傾き角度θ1
から、塗布のために基材をX方向に移動させるときのノ
ズル20のY方向位置を演算し、その動作が実現できる
ようにモータコントローラ62に指令を送る、なお、前
述の塗液塗布装置の全体構成において、高さセンサー4
0としては、レーザ、超音波等を利用した非接触測定形
式のもの、ダイヤルゲージ、差動トランス等を利用した
接触測定形式のもの等、測定可能な原理のものならいか
なるものを用いてもよい。
The motor controller 62 includes the AC servomotor 16 for driving the table 6 and the lifting mechanism 30.
And each actuator 7 of the width direction moving mechanism 36
6, 78 (for example, an AC servomotor), an actuator 23 for changing and controlling the position of the nozzle device, a signal from a position sensor 68 for detecting the moving position of the table 6, and Y and Z for detecting the operating position of the nozzle 20. A signal from a linear sensor (not shown) of each axis, an encoder (not shown) of the actuator 23, and the like are input.
Instead of using the position sensor 68, an encoder may be incorporated in the AC servomotor 16 and the position of the table 6 may be detected based on a pulse signal output from the encoder. The motor controller 62 is controlled under the control of the general controller 60 as described above. For example, based on information from the image processing device 74 of the camera 82, the overall controller 60 determines the Y-direction position for aligning the coating liquid ejection hole of the nozzle 20 with the recess of the predetermined partition wall, and the inclination angle of the recess stripe direction with respect to the X direction. θ1
Calculates the position of the nozzle 20 in the Y direction when the base material is moved in the X direction for coating, and sends a command to the motor controller 62 so that the operation can be realized. In the overall configuration, the height sensor 4
As 0, any non-contact measurement type such as a non-contact measurement type using a laser, an ultrasonic wave, or the like, a contact measurement type using a dial gauge, a differential transformer, or the like may be used. .

【0048】また、塗布ノズルの吐出孔44が凹部と対
応する相対位置を検知する検知手段は、基材の凹部と吐
出孔を各々別個に検知するカメラを用いた画像処理装置
により構成してもよい。
Further, the detecting means for detecting the relative position of the discharge hole 44 of the application nozzle corresponding to the concave portion may be constituted by an image processing apparatus using a camera for separately detecting the concave portion and the discharge hole of the base material. Good.

【0049】次にこの塗布装置を使った塗布方法の基本
動作について説明する。特に、ノズルを回転させる塗布
方法の基本動作について説明する。
Next, the basic operation of the coating method using this coating apparatus will be described. In particular, the basic operation of the coating method for rotating the nozzle will be described.

【0050】まず準備動作として、テーブル6と、ノズ
ル20を移動させて、あらかじめわかっている回転機構
中心軸と、カメラ82の視野中心が一致するようカメラ
82の真上にノズル装置を移動させる。そして、カメラ
視野中心とノズル装置中心が一致するよう位置微調整機
構21により調整し、画像処理によりノズル装置中心位
置座標を求める。次に、テーブル6とノズル20をY軸
座標Yaの位置へ移動させて、ノズル20の吐出孔44
の一番端部にあるものをカメラ82の真上にくるように
する。そして、画像処理によって吐出孔44の一番端部
の位置座標を求める。求めた座標の演算により、塗液吐
出孔の配列方向とY軸移動方向とがなす角度θ2を求
め、全体コントローラ60に記憶させておく。この動作
はノズル20をホルダー22に取り付けたときに一度だ
け行えばよい。さらに、Y軸座標Yaと、上記で求めた
吐出孔44の一番端部の位置座標から、カメラ基準点か
らの位置変化量lcを求める。角度θ2の演算、位置変
化量lcの演算が完了すれば、テーブル6、ノズル20
は各々原点に復帰させる。
First, as a preparatory operation, the table 6 and the nozzle 20 are moved, and the nozzle device is moved right above the camera 82 so that the center axis of the rotating mechanism, which is known in advance, coincides with the center of the visual field of the camera 82. Then, the position is adjusted by the position fine adjustment mechanism 21 so that the center of the camera field of view coincides with the center of the nozzle device, and the coordinates of the center position of the nozzle device are obtained by image processing. Next, the table 6 and the nozzle 20 are moved to the position of the Y-axis coordinate Ya, and the ejection hole 44 of the nozzle 20 is moved.
Is positioned right above the camera 82. Then, the position coordinates of the end of the ejection hole 44 are obtained by image processing. The angle θ2 between the arrangement direction of the coating liquid ejection holes and the Y-axis movement direction is obtained by calculating the obtained coordinates, and is stored in the overall controller 60. This operation only needs to be performed once when the nozzle 20 is attached to the holder 22. Further, a position change amount lc from the camera reference point is obtained from the Y-axis coordinate Ya and the position coordinates of the end of the ejection hole 44 obtained above. When the calculation of the angle θ2 and the calculation of the position change amount lc are completed, the table 6, the nozzle 20
Respectively return to the origin.

【0051】次いで塗布装置における各作動部の原点復
帰が行われるとテーブル6、ノズル20は各々X軸、Y
軸、Z軸の準備位置へ移動する。この時、ノズル20内
は所定の塗液量が既に溜められており、塗液制御弁4
8、54、圧空制御弁99は閉状態としておく。そし
て、テーブル6の表面には図示しないリフトピンが上昇
し、図示しないローダから隔壁が一定ピッチのストライ
プ状に形成されている基材4がリフトピン上部に載置さ
れる。
Next, when the origins of the respective operating parts in the coating apparatus are returned, the table 6 and the nozzle 20 are moved to the X axis and the Y axis, respectively.
Move to the preparation position of the axis and Z axis. At this time, a predetermined amount of the coating liquid is already stored in the nozzle 20, and the coating liquid control valve 4
8, 54 and the compressed air control valve 99 are kept closed. Then, lift pins (not shown) rise on the surface of the table 6, and the base material 4, whose partitions are formed in a stripe pattern at a constant pitch, is placed on the lift pins from a loader (not shown).

【0052】次にリフトピンを下降させて基材4をテー
ブル6の上面に載置し、図示しないアライメント装置に
よってテーブル6上の位置決めが行われた後に基材2を
吸着する。
Next, the lift pins are lowered to place the substrate 4 on the upper surface of the table 6, and after the positioning on the table 6 is performed by an alignment device (not shown), the substrate 2 is sucked.

【0053】次にテーブル6がカメラ72と、高さセン
サー40の真下に基材4の隔壁(凸部頂上)がくるまで
移動し、停止する。カメラ72はテーブル6上に位置決
めされた基材4上の隔壁端部付近を写し出すようにあら
かじめ位置調整されており、画像処理によって一番端の
凹部の位置を検出し、カメラ基準点からの位置変化量l
aを求める。一方、カメラ72の基準点と、所定のY軸
座標位置Yaにある時のホルダ22に固定されたノズル
20の最端部に位置する吐出孔44間の長さlbは、事
前の調整時に測定し、情報として全体コントローラ60
に入力しているので、画像処理装置74からカメラ基準
点からの隔壁凹部の位置変化量laが電送されると、ノ
ズル20の最端部に位置する吐出孔44が隔壁端部の凹
部の真上となるY軸座標値Ycを計算し(例えば、Yc
=Ya+(lc+lb−la))、ノズル20をその位
置に移動させる。なお、カメラ72は、ノズル20やホ
ルダ22に取り付けても同じ機能を持たせることができ
る。
Next, the table 6 is moved until the partition (the top of the convex portion) of the base material 4 comes just below the camera 72 and the height sensor 40, and stops. The position of the camera 72 is adjusted in advance so as to project the vicinity of the end of the partition on the base material 4 positioned on the table 6, and the position of the endmost concave portion is detected by image processing, and the position from the camera reference point is detected. Change l
Find a. On the other hand, the length lb between the reference point of the camera 72 and the ejection hole 44 located at the end of the nozzle 20 fixed to the holder 22 when located at the predetermined Y-axis coordinate position Ya is measured at the time of advance adjustment. Then, as information, the whole controller 60
When the position change amount la of the partition wall concave portion from the camera reference point is transmitted from the image processing device 74, the discharge hole 44 located at the end of the nozzle 20 is positioned at the right end of the concave portion at the partition wall end portion. The upper Y-axis coordinate value Yc is calculated (for example, Yc
= Ya + (lc + lb-la)), the nozzle 20 is moved to that position. The camera 72 can have the same function even when attached to the nozzle 20 or the holder 22.

【0054】次に、基材4が、その塗布開始部がノズル
20の吐出孔44の真下にくるようにX方向に移動を始
めるが、カメラ72による凹部の位置の検出は継続す
る。通常は隔壁凹部は一直線であるから、隔壁凹部両端
の位置座標を検出すれば、テーブル移動方向とストライ
プ方向とがなす角度θ1を検出することができる。ある
いは基板にプリントされたアライメントマーク100を
カメラ72で検知し画像処理をおこなうことでも同様に
角度θ1を検出することができる。
Next, the substrate 4 starts to move in the X direction so that the application start portion is directly below the discharge hole 44 of the nozzle 20, but the detection of the position of the concave portion by the camera 72 is continued. Usually, since the partition wall concave portion is straight, if the position coordinates of both ends of the partition wall concave portion are detected, the angle θ1 formed between the table moving direction and the stripe direction can be detected. Alternatively, the angle θ1 can be similarly detected by detecting the alignment mark 100 printed on the substrate with the camera 72 and performing image processing.

【0055】検出した角度θ1、θ2及びノズル移動方
向とテーブル移動方向とがなす角度90°から、ストラ
イプ方向と塗液吐出孔の配列方向とがなす角度θを検出
し、θ=90°となるようアクチュエータ23を動作さ
せておく。
From the detected angles θ1 and θ2 and the angle 90 ° between the nozzle moving direction and the table moving direction, the angle θ between the stripe direction and the arrangement direction of the coating liquid discharge holes is detected, and θ = 90 °. The actuator 23 is operated in advance.

【0056】この間に高さセンサー40は基材4の隔壁
頂上部の垂直方向の位置を検知し、テーブル6上面との
位置の差から基材4の隔壁頂上部の高さを算出する。こ
の高さに、あらかじめ与えておいたノズル20吐出孔〜
基材4の隔壁頂上部間の間隙値を加算して、ノズル20
のZ軸リニアセンサー上での下降すべき値を演算し、そ
の位置にノズルを移動する。これによって、テーブル6
上での隔壁頂上部位置が基材ごとに変化しても、塗布に
重要なノズル20の塗液吐出孔〜基材上の隔壁頂上部間
の間隙を常に一定に保てるようになる。
During this time, the height sensor 40 detects the vertical position of the top of the partition wall of the base material 4 and calculates the height of the top of the partition wall of the base material 4 from the difference in position from the upper surface of the table 6. At this height, the nozzle 20 discharge hole given beforehand ~
By adding the gap value between the tops of the partition walls of the base material 4, the nozzle 20
Is calculated on the Z-axis linear sensor, and the nozzle is moved to that position. Thereby, the table 6
Even if the top position of the partition wall above changes for each substrate, the gap between the coating liquid discharge hole of the nozzle 20 important for coating and the top portion of the partition wall on the substrate can always be kept constant.

【0057】次にテーブル6をノズル20の方へ向けて
動作を開始させ、ノズル20の吐出孔44の真下に基材
4の塗布開始位置が到達する前に所定の塗布速度まで増
速させておく。テーブル6の動作開始位置と塗布開始位
置までの距離は塗布速度まで増速できるよう十分確保で
きていなければならない。
Next, the operation is started by directing the table 6 toward the nozzle 20, and the speed is increased to a predetermined coating speed before the coating start position of the base material 4 reaches just below the discharge hole 44 of the nozzle 20. deep. The distance between the operation start position of the table 6 and the application start position must be sufficiently ensured that the speed can be increased to the application speed.

【0058】さらに基材4の塗布開始位置がノズル20
の吐出孔44の真下に至るまでの所に、テーブル6の位
置を検知する位置センサー68を配置しておき、テーブ
ル6がこの位置に達したら、圧空制御弁99を開状態に
駆動させ、減圧弁84によってあらかじめ所定の圧力に
調整された圧空をノズル20へ供給する。ノズル20へ
供給された圧空は空間部43へ導入され、塗液溜まり部
77の液面に圧力を加え、塗液42が吐出孔44より吐
出される。塗液42の供給を開始する位置は位置センサ
ー68の設置場所を変えて調整することができる。この
位置センサー68の代わりに、モータあるいはフィード
スクリューにエンコーダを接続したり、テーブルにリニ
アセンサーを付けることで、エンコーダやリニアセンサ
ーの値を検知しても同様なことが可能となる。
Further, the application start position of the substrate 4 is
A position sensor 68 for detecting the position of the table 6 is disposed immediately below the discharge hole 44 of the above. When the table 6 reaches this position, the compressed air control valve 99 is driven to the open state to reduce the pressure. The compressed air previously adjusted to a predetermined pressure by the valve 84 is supplied to the nozzle 20. The pressurized air supplied to the nozzle 20 is introduced into the space 43 and applies pressure to the liquid surface of the coating liquid reservoir 77, so that the coating liquid 42 is discharged from the discharge holes 44. The position where the supply of the coating liquid 42 is started can be adjusted by changing the installation location of the position sensor 68. By connecting an encoder to a motor or a feed screw or attaching a linear sensor to the table instead of the position sensor 68, the same can be achieved even if the values of the encoder or the linear sensor are detected.

【0059】塗布は、基材4の塗布終了位置がノズル2
0の吐出孔44の真下付近にくるまで行われる。すなわ
ち、基材4はいつもテーブル6上の定められた位置に置
かれているから、基材4の塗布終了位置がノズル20の
吐出孔44の(a)たとえば真下にくる5mm前や、
(b)丁度真下になる位置に相当するテーブル6の位置
に、位置センサーやそのエンコーダ値をあらかじめ設定
しておき、テーブル6が(a)に対応する位置にきた
ら、全体コントローラ60から圧空制御弁99を閉状態
にする駆動指令を出し圧空の供給を停止して、(b)の
位置まで塗工し、次いでテーブル6が(b)に対応する
位置にきたら、ノズル20を上昇させて完全に塗液42
をたちきる。塗液42が比較的高粘度の液体である場合
には、単に圧空の供給を停止しただけでは、残圧による
ノズル20吐出孔からの塗液吐出までも瞬時に停止する
ことは難しい。そのために、圧空の供給を停止すると同
時にノズル20内の空間部43の圧力を大気圧にする
と、短時間で吐出孔44からの塗液の吐出停止が可能と
なるので、圧空制御弁99にこのような機能をもたせる
か、あるいは、圧空制御弁82〜ノズル20の間に大気
開放バルブを設けるのが望ましい。
In the application, the application end position of the substrate 4 is
The process is performed until the position immediately below the 0 discharge hole 44 is reached. In other words, since the base material 4 is always placed at a predetermined position on the table 6, the application end position of the base material 4 is 5 mm before (a), for example, immediately below the discharge hole 44 of the nozzle 20, or
(B) The position sensor and its encoder value are set in advance at the position of the table 6 corresponding to the position just below, and when the table 6 comes to the position corresponding to (a), the general controller 60 sends the compressed air control valve. A drive command to close 99 is issued, the supply of compressed air is stopped, coating is performed to the position of (b), and then, when the table 6 comes to the position corresponding to (b), the nozzle 20 is raised and completely removed. Coating liquid 42
Swiftly. When the coating liquid 42 is a liquid having a relatively high viscosity, it is difficult to stop the coating liquid discharge from the nozzle 20 discharge hole instantaneously by simply stopping the supply of the compressed air. Therefore, when the supply of the compressed air is stopped and the pressure of the space 43 in the nozzle 20 is set to the atmospheric pressure at the same time, the discharge of the coating liquid from the discharge hole 44 can be stopped in a short time. It is desirable to provide such a function, or to provide an air release valve between the compressed air control valve 82 and the nozzle 20.

【0060】さて、塗布終了位置を通過しても、テーブ
ル6は動作を続け、終点位置にきたら停止する。このと
き塗布すべき部分がまだ残っている場合には、ノズルを
次の塗布すべき開始位置へ塗布幅L(ノズルピッチ×孔
数)だけ移動させる必要があるが、塗布開始・終了端が
一直線上に形成されるように、2回目の塗布開始位置座
標は、1回目の塗布開始・終了位置座標より(X,Y)
=(Lsinθ2,Lcosθ2)だけずれた位置にな
るようノズル20及びテーブル6両者を移動させる(図
6)。以下テーブル6を反対方向に移動させることを除
いては同じ手順で塗布を行う。また、2回目以降は、隔
壁凹部のストライプ方向とテーブル移動方向とがなす角
度θ1は1回目と同じであるため、1回目に制御した位
置を維持した状態で2回目以降の塗布を行えばよい。1
回目と同一のテーブル6の移動方向で塗布を行なうのな
ら、1回目の塗布開始位置座標より(X,Y)=(Ls
inθ2,Lcosθ2)だけずれた座標を2回目の塗
布開始位置座標となるようにノズル20及びテーブル6
を移動させ、同様に塗布を行えばよい。
The table 6 continues to operate even after passing the coating end position, and stops when it reaches the end position. At this time, if there is still a portion to be applied, the nozzle needs to be moved by the application width L (nozzle pitch × the number of holes) to the next start position where application is to be performed. As formed on the line, the coordinates of the second application start position are (X, Y) from the coordinates of the first application start / end position.
Then, both the nozzle 20 and the table 6 are moved so as to be shifted by (Lsin θ2, Lcos θ2) (FIG. 6). Hereinafter, coating is performed in the same procedure except that the table 6 is moved in the opposite direction. Further, in the second and subsequent times, the angle θ1 formed by the stripe direction of the partition wall concave portion and the table moving direction is the same as that in the first time, so that the second and subsequent times may be performed while maintaining the position controlled for the first time. . 1
If the application is performed in the same moving direction of the table 6 as the first application, (X, Y) = (Ls) from the coordinates of the first application start position.
in θ2, Lcos θ2) so that the coordinates of the nozzle 20 and the table 6 are set to be the coordinates of the second application start position.
May be moved and coating may be performed in the same manner.

【0061】そして塗布工程が完了したら、基材4をア
ンローダで移載する場所までテーブル6を移動して停止
させ、基材4の吸着を解除するとともに大気開放した後
に、リフトピンを上昇させて基材4をテーブル6の面か
ら引き離し、持ち上げる。
When the coating process is completed, the table 6 is moved to a place where the substrate 4 is transferred by the unloader and stopped, and after releasing the suction of the substrate 4 and releasing the substrate 4 to the atmosphere, the lift pins are lifted to raise the base. The material 4 is separated from the surface of the table 6 and lifted.

【0062】このとき図示されないアンローダによって
基材4の下面が保持され、次の工程に基材4を搬送す
る。基材4をアンローダに受け渡したら、テーブル6は
リフトピンを下降させ原点位置に復帰する。
At this time, the lower surface of the substrate 4 is held by an unloader (not shown), and the substrate 4 is transported to the next step. When the substrate 4 is delivered to the unloader, the table 6 lowers the lift pins and returns to the original position.

【0063】また、前記実施態様では基材はX軸方向に
移動し、ノズルがY軸、Z軸方向に移動する場合での適
用例について記述したが、ノズル20と基材4が相対的
に3次元的に移動できる構造、形式のものであるのな
ら、テーブル、ノズルの移動形式はいかなる組み合わせ
のものでもよい。
Further, in the above embodiment, an application example in which the base material moves in the X-axis direction and the nozzle moves in the Y-axis and Z-axis directions has been described, but the nozzle 20 and the base material 4 are relatively moved. The table and the nozzle may be moved in any combination as long as the structure and the form can be moved three-dimensionally.

【0064】たとえば、前述の実施態様では、塗布はテ
ーブルの移動、凹凸のピッチ方向への移動は、ノズルの
移動によって行う例を示したが、塗布をノズルの移動、
凹凸のピッチ方向への移動をテーブルの移動で行っても
よい。
For example, in the above embodiment, the application is performed by moving the table, and the movement of the unevenness in the pitch direction is performed by moving the nozzle.
The movement of the unevenness in the pitch direction may be performed by moving the table.

【0065】また、ストライプ状の凹凸部が形成されて
いる凹凸基材に対する実施態様を示したが、ストライプ
状の縦リブとそれに直交する横リブとからなる格子状の
凹凸部が形成されている凹凸基材に対しても同様に本実
施態様を行うことが可能である。
Although the embodiment for the uneven base material on which the stripe-shaped uneven portions are formed has been described, the grid-shaped uneven portions formed by the stripe-shaped vertical ribs and the horizontal ribs orthogonal thereto are formed. This embodiment can be similarly applied to an uneven substrate.

【0066】また、一種類の塗液を塗布する場合につい
て詳しく言及したが、赤、青、緑等の3色の蛍光体を同
時に塗布する場合にも本発明は適用できる。
Further, the case where one kind of coating liquid is applied has been described in detail. However, the present invention can be applied to the case where phosphors of three colors such as red, blue and green are applied simultaneously.

【0067】さらに使用できる塗布条件としては、塗布
速度が0.1〜10m/分、より好ましくは、0.5〜
8m/分である。
As coating conditions which can be further used, the coating speed is preferably 0.1 to 10 m / min, more preferably 0.5 to 10 m / min.
8 m / min.

【0068】また本発明の塗液の塗布装置および塗布方
法は、プラズマディスプレイパネル用部材における蛍光
体塗布工程に好ましく適用することができる。
The apparatus and method for applying a coating liquid of the present invention can be preferably applied to a phosphor coating step in a member for a plasma display panel.

【0069】(本発明のプラズマディスプレイおよびそ
の部材の製造方法)本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用部材の製造方法をPDPの製造手順に従って説明す
る。
(Plasma Display of the Present Invention and Method of Manufacturing Members Thereof) A method of manufacturing a plasma display panel member of the present invention will be described in accordance with a PDP manufacturing procedure.

【0070】(背面板)本発明のプラズマディスプレイ
パネル用部材である背面板に用いる基板としては、一般
的なソーダライムガラスやソーダライムガラスをアニー
ル処理したガラス、または、高歪み点ガラス(例えば、
旭硝子社製“PD−200”)等を用いることができ
る。ガラス基板のサイズは、1〜5mmの厚みのガラス
を好ましく用いることができる。
(Back Plate) As the substrate used for the back plate which is the member for the plasma display panel of the present invention, general soda lime glass, glass obtained by annealing soda lime glass, or high strain point glass (for example,
"PD-200" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) or the like can be used. As the size of the glass substrate, glass having a thickness of 1 to 5 mm can be preferably used.

【0071】まずガラス基板上に、アドレス電極を形成
する。Au、Ni、Ag、Pd、Pt、Al、Crなど
の導電性の金属粉末および感光性有機成分を主成分とす
るペーストを用いることにより電極形成のための薄膜パ
ターンを形成することができる。
First, an address electrode is formed on a glass substrate. A thin film pattern for forming an electrode can be formed by using a conductive metal powder such as Au, Ni, Ag, Pd, Pt, Al, and Cr and a paste containing a photosensitive organic component as a main component.

【0072】次いで電極を被覆するように誘電体層を好
ましく形成する。
Next, a dielectric layer is preferably formed so as to cover the electrodes.

【0073】次いで誘電体層上、もしくは電極が形成さ
れた基板上に隔壁を形成する。隔壁の高さは、80μm
〜200μmが適している。80μm以上とすることで
蛍光体とスキャン電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電に
よる蛍光体の劣化を抑制できる。また、200μm以下
とすることで、スキャン電極での放電と蛍光体の距離が
離れすぎるのを防ぎ、十分な輝度を得ることができる。
隔壁のピッチ(P)は、100μm≦P≦500μmの
ものがよく用いられる。
Next, a partition is formed on the dielectric layer or on the substrate on which the electrodes are formed. The height of the partition is 80 μm
200200 μm is suitable. By setting the thickness to 80 μm or more, it is possible to prevent the phosphor and the scan electrode from coming too close to each other, and to suppress the deterioration of the phosphor due to discharge. Further, by setting the thickness to 200 μm or less, it is possible to prevent the distance between the discharge at the scan electrode and the phosphor from being too large, and to obtain a sufficient luminance.
The pitch (P) of the partition walls is often 100 μm ≦ P ≦ 500 μm.

【0074】隔壁は、無機微粒子と有機バインダーから
なるガラスペーストを隔壁の形状にパターン形成した後
に、400〜600℃に焼成して隔壁を形成する方法が
一般的である。ガラスペーストを用いて隔壁パターン加
工する方法としては、スクリーン印刷法、サンドブラス
ト法、感光性ペースト法、フォト埋め込み法、型転写法
等の方法によって形成可能であるが、各種の隔壁形成方
法の中で、高精細化・工程の簡便性の点で、感光性ペー
スト法が優れている。
The partition walls are generally formed by patterning a glass paste composed of inorganic fine particles and an organic binder into the shape of the partition walls, and then baking the glass paste at 400 to 600 ° C. to form the partition walls. As a method of patterning a partition using a glass paste, it can be formed by a method such as a screen printing method, a sand blast method, a photosensitive paste method, a photo embedding method, and a mold transfer method. The photosensitive paste method is excellent in terms of high definition and simple process.

【0075】隔壁を形成した後に、RGBの各色に発光
する蛍光体層を本発明の塗布装置および塗布方法の実施
態様に沿って形成する。蛍光体粉末、有機バインダーお
よび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔
壁間に塗布することにより、蛍光体層を形成することが
できる。ノズル塗布法による蛍光体ペーストの粘度とし
ては1〜100Pa・sのものがよい。
After the partition walls are formed, a phosphor layer emitting light of each color of RGB is formed according to the embodiment of the coating apparatus and the coating method of the present invention. By applying a phosphor paste containing a phosphor powder, an organic binder and an organic solvent as main components between predetermined partition walls, a phosphor layer can be formed. The viscosity of the phosphor paste by the nozzle coating method is preferably 1 to 100 Pa · s.

【0076】蛍光体層を形成した基板を必要に応じて、
400〜550℃で焼成し、本発明のプラズマディスプ
レイ用部材として背面板を作製することができる。
The substrate on which the phosphor layer has been formed may be used as required.
By baking at 400 to 550 ° C., a back plate can be produced as the member for a plasma display of the present invention.

【0077】(前面板)次いでプラズマディスプレイ用
の前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス
電極、誘電体、保護膜(MgO)を形成して作製するこ
とができる。背面基板上に形成されたRGB各色蛍光体
層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良
い。また、コントラストを向上するために、ブラックス
トライプを形成しても良い。
(Front Plate) Next, a front plate for a plasma display can be manufactured by forming a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, and a protective film (MgO) on a substrate in a predetermined pattern. A color filter layer may be formed in a portion corresponding to the RGB phosphor layers formed on the rear substrate. Further, a black stripe may be formed to improve the contrast.

【0078】(PDPの組立)かくして得られた背面板
と前面板とを封着し、両部材の基板間隔に形成された空
間内を排気し、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構
成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着して本発明
のプラズマディスプレイを作製できる。
(Assembly of PDP) The back plate and the front plate thus obtained are sealed, and the space formed between the substrates of both members is evacuated, and a discharge gas composed of helium, neon, xenon, or the like is discharged. After sealing, the plasma display of the present invention can be manufactured by mounting a drive circuit.

【0079】[0079]

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて具体的に説
明する。ただし、本発明はこれに限定されない。なお、
実施例中の濃度(%)は特に断らない限り重量%であ
る。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. In addition,
The concentration (%) in the examples is% by weight unless otherwise specified.

【0080】ガラス基板(旭硝子社製PD200)上
に、感光性銀ペーストを用いて、線幅60μm、ピッチ
220μmの1600本のアドレス電極を形成した。次
に、電極上にガラス粉末50重量%、酸化チタン15
%、エチルセルロース20%、溶媒15%からなるガラ
スペーストを塗布した後に、焼成して誘電体層を形成し
た。更に、誘電体層上に、隔壁間の中央に電極が配置さ
れる様に感光性ペースト法でピッチ220μm、高さ1
50μm、幅60μmの隔壁を961本形成した。以上
のようにアドレス電極、誘電体層、隔壁を形成した基板
を30枚作成した。
Using a photosensitive silver paste, 1600 address electrodes having a line width of 60 μm and a pitch of 220 μm were formed on a glass substrate (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). Next, 50% by weight of glass powder, titanium oxide 15
%, 20% of ethyl cellulose, and 15% of a solvent, and then fired to form a dielectric layer. Further, a pitch of 220 μm and a height of 1 μm are formed on the dielectric layer by a photosensitive paste method so that an electrode is arranged at the center between the partition walls.
961 partitions having a size of 50 μm and a width of 60 μm were formed. As described above, 30 substrates on which address electrodes, dielectric layers, and partition walls were formed were prepared.

【0081】蛍光体粉末39gおよびバインダーポリマ
ー(エチルセルロース)8g、溶媒(テルピネオール)
53gからなる蛍光体ペーストを作製した。蛍光体粉末
は、赤:(Y,Gd,Eu)BO3(累積平均粒子径
2.7μm、比表面積3.1m2/cm3)、緑:(Z
n,Mn)2SiO4(累積平均粒子径3.6μm、比
表面積2.5m2/cm3)、青:(Ba,Eu)Mg
Al10O17(累積平均粒子径3.7μm、比表面積
2.3m2/cm3)を用いた。有機成分の各成分を水
に60℃で加熱しながら溶解し、その後蛍光体粉末を添
加し、混練機で混練することによってペーストを作製し
た。粘度は35Pa・sだった。
39 g of phosphor powder, 8 g of binder polymer (ethyl cellulose), solvent (terpineol)
A phosphor paste composed of 53 g was prepared. The phosphor powder is red: (Y, Gd, Eu) BO3 (cumulative average particle size 2.7 μm, specific surface area 3.1 m2 / cm3), green: (Z
n, Mn) 2SiO4 (cumulative average particle size 3.6 μm, specific surface area 2.5 m2 / cm3), blue: (Ba, Eu) Mg
Al10O17 (cumulative average particle diameter 3.7 μm, specific surface area 2.3 m 2 / cm 3) was used. Each component of the organic component was dissolved in water while heating at 60 ° C., and then a phosphor powder was added and kneaded with a kneader to prepare a paste. The viscosity was 35 Pa · s.

【0082】以上のように調整したペーストを隔壁等を
形成したガラス基板30枚上にストライプ状に塗布し
た。
The paste prepared as described above was applied in stripes on 30 glass substrates on which partition walls and the like were formed.

【0083】本発明の塗液の塗布装置として全体図とし
ては図1、図2、塗布ノズル部分としては図3及び5に
示すような塗布装置を用い、隔壁間に蛍光体ペーストの
塗布を行った。まず、赤色蛍光体ペーストを所定の隔壁
間に塗布した。塗布ノズルをノズル位置調整機構へ設置
し、塗布ノズル先端面と隔壁の上端の距離は100μm
にセットした。そして、塗液吐出孔の配列方向と隔壁凹
部のストライプ方向とがなす角度を検出し、両者が直角
となるようノズル位置を変更制御した。そして、減圧弁
により空気圧力(吐出圧)を0.4MPaに調節し、塗
布ノズル孔と隔壁凹部との位置を維持しながら走行さ
せ、16個の吐出孔から蛍光体ペーストを吐出して隔壁
間に塗布した。この後、1回(16本)塗布が終了した
位置において隔壁方向と垂直方向にノズルを10.56
mm移動させた。その後、1回目と逆方向に塗布ノズル
を走行させ、その他制御は1回目と同様に隔壁間に2回
目の塗布を行った。これを20回繰り返して、赤色蛍光
体の所定位置に320本を塗布した。塗布終了後、塗布
面を上にして80℃で40分乾燥した。次に、赤色蛍光
体を塗布した隣の隔壁間に青色蛍光体ペーストを同様に
320本塗布して乾燥した。さらに、青色蛍光体を塗布
した隣の隔壁間に緑色蛍光体ペーストを同様に320本
塗布して乾燥した。以上の各色の蛍光体ペーストの塗布
および乾燥を30枚の基板について行った。そして、5
00℃で30分焼成し、本発明のプラズマディスプレイ
パネル用部材として背面板を30枚得た。
The coating liquid application apparatus of the present invention uses an application apparatus as shown in FIGS. 1 and 2 as an overall view, and an application nozzle section as shown in FIGS. 3 and 5, and applies a phosphor paste between partition walls. Was. First, a red phosphor paste was applied between predetermined partition walls. The coating nozzle is installed on the nozzle position adjustment mechanism, and the distance between the coating nozzle tip surface and the upper end of the partition is 100 μm
Set to Then, the angle between the arrangement direction of the coating liquid discharge holes and the stripe direction of the partition wall concave portions was detected, and the nozzle position was changed and controlled so that both were perpendicular. Then, the air pressure (discharge pressure) is adjusted to 0.4 MPa by a pressure reducing valve, and the traveling is performed while maintaining the positions of the application nozzle holes and the concave portions of the partition walls. Was applied. Thereafter, at the position where one application (16 coatings) is completed, the nozzle is set to 10.56 in the direction perpendicular to the partition wall direction.
mm. After that, the application nozzle was run in the direction opposite to the first application, and the other control was performed between the partition walls in the same manner as the first application. This was repeated 20 times, and 320 were applied to predetermined positions of the red phosphor. After completion of the coating, the coating was dried at 80 ° C. for 40 minutes with the coated surface facing upward. Next, 320 blue phosphor pastes were similarly applied between the adjacent partitions coated with the red phosphor and dried. Further, 320 green phosphor pastes were similarly applied between the adjacent partitions coated with the blue phosphor and dried. The application and drying of the phosphor paste of each color described above were performed on 30 substrates. And 5
It was baked at 00 ° C. for 30 minutes to obtain 30 back plates as members for a plasma display panel of the present invention.

【0084】蛍光体の塗布開始位置と終了位置について
観察したところ、30枚の背面板のいずれについても各
色の蛍光体層が、開始、終了位置ともに隔壁の端部と平
行な一直線上の位置に形成でき、従来見られたノズルピ
ッチ毎の段付きや凹部からの蛍光体はみ出しはなかっ
た。
Observation of the phosphor application start position and the end position showed that the phosphor layers of each color were located on a straight line parallel to the end of the partition wall at both the start and end positions for each of the 30 back plates. The phosphor could be formed, and the phosphor was not protruded from the step or the recess at each nozzle pitch, which was conventionally observed.

【0085】さらに、得られた背面板を前面板と合わせ
た後、封着、ガス封入して作製し、駆動回路を接続し
て、プラズマディスプレイパネルを30枚作製した。い
ずれのプラズマディスプレイパネルについても、塗布開
始、終了位置の段付きがなく、また蛍光体のはみ出しに
よる混色発光といったパネル発光欠点など品質の低下も
なく、良好な表示特性と安定性を有するプラズマディス
プレイパネルが得られた。
Further, after the obtained back plate was combined with the front plate, sealing and gas sealing were performed, and a driving circuit was connected to manufacture 30 plasma display panels. Regardless of the type of plasma display panel, there is no step in the coating start and end positions, and there is no deterioration in quality such as panel emission defects such as mixed color emission due to the protrusion of the phosphor, and the plasma display panel has good display characteristics and stability. was gotten.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の塗液の塗
布装置および塗布方法によれば、ノズル孔配列方向とス
トライプの方向とがなす角度を直角に変更制御すること
が可能となるため、塗布開始、終了位置を1枚の基板上
で一直線上に揃えることが容易となる。
As described above in detail, according to the coating liquid coating apparatus and the coating method of the present invention, it is possible to control the angle between the nozzle hole arrangement direction and the stripe direction to be changed to a right angle. Therefore, it becomes easy to align the coating start and end positions on a single substrate in a straight line.

【0087】また、ストライプの方向とX軸移動方向と
がなす角度を検出できるため、塗布のために基材をX方
向へ移動させる時のノズルのY方向への移動を演算し、
凹部から蛍光体がはみ出ることなく塗布することができ
る。
Further, since the angle between the direction of the stripe and the X-axis movement direction can be detected, the movement of the nozzle in the Y direction when the base material is moved in the X direction for coating is calculated.
The phosphor can be applied without protruding from the recess.

【0088】また上記装置を用いることにより塗布基材
の高生産性と高品質化が可能な塗布方法が得られる。
Further, by using the above-mentioned apparatus, a coating method capable of increasing the productivity and the quality of the coated substrate can be obtained.

【0089】また本発明のプラズマディスプレイパネル
用部材の製造方法およびプラズマディスプレイによれ
ば、前記塗液の塗布装置および塗布方法を使用するの
で、品質の高いプラズマディスプレイパネルを、長期に
渡って安定生産が可能となり、結果的に高い生産性、か
つ、安価に製造することが可能となる。
Further, according to the method for manufacturing a member for a plasma display panel and the plasma display of the present invention, since the coating apparatus and the coating method for the coating liquid are used, a high-quality plasma display panel can be stably produced for a long period of time. As a result, it is possible to produce at high productivity and at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施態様に係わる塗液の塗布装置の
全体斜視図である。
FIG. 1 is an overall perspective view of a coating liquid application device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の装置のテーブル6とノズル20周りの構
成を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration around a table 6 and a nozzle 20 of the apparatus shown in FIG.

【図3】図1に示したノズル20の位置を変更制御する
位置制御手段の模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram of a position control unit that controls change of the position of the nozzle 20 shown in FIG. 1;

【図4】図3を用いた位置変更する際の模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram when the position is changed using FIG. 3;

【図5】図1の装置におけるノズル20を下側からみた
拡大平面図である。
FIG. 5 is an enlarged plan view of the nozzle 20 in the apparatus of FIG. 1 as viewed from below.

【図6】ノズル20及びテーブル6を相対移動させる際
の模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram when the nozzle 20 and the table 6 are relatively moved.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2:基台 4:基材 6:テーブル 7:吸引孔 8:ガイド溝レール 9:スライド脚 10:フィードスクリュー 11:コネクタ 12:軸受 14:自在継手 16:ACサーボモータ 20:ノズル 21:位置微調整機構 22:ホルダ 23:アクチュエータ 24:水平バー 25:位置変更制御手段 26:リニアアクチュエータ 28:昇降ブラケット 29:伸縮ロッド 30:昇降機構 32:Y軸移動ブラケット 34:支柱 36:幅方向移動機構 38:センサ支柱 40:高さセンサー 42:塗液 43:空間部 44:吐出孔 46:塗液供給ホース 47:フィルタ 48:塗液制御弁 50:圧空源 54:圧空制御弁 56:塗液タンク 58:供給装置コントローラ 60:全体コントローラ 62:モータコントローラ 64:センサブラケット 66:センサー 68:位置センサ 70:支柱 72:カメラ 74:画像処理装置 76:アクチュエータ 77:塗液溜まり部 78:アクチュエータ 81:圧空供給ホース 82:カメラ 84:減圧弁 86:圧空源 98:回転中心軸 99:圧空制御弁 100:アライメントマーク 2: Base 4: Base 6: Table 7: Suction hole 8: Guide groove rail 9: Sliding leg 10: Feed screw 11: Connector 12: Bearing 14: Universal joint 16: AC servo motor 20: Nozzle 21: Fine position Adjusting mechanism 22: Holder 23: Actuator 24: Horizontal bar 25: Position change control means 26: Linear actuator 28: Elevating bracket 29: Telescopic rod 30: Elevating mechanism 32: Y-axis moving bracket 34: Strut 36: Width direction moving mechanism 38 : Sensor support 40: height sensor 42: coating liquid 43: space part 44: discharge hole 46: coating liquid supply hose 47: filter 48: coating liquid control valve 50: compressed air source 54: compressed air control valve 56: coating liquid tank 58 : Supply device controller 60: Overall controller 62: Motor controller 64: Sensor bracket 6: Sensor 68: Position Sensor 70: Support 72: Camera 74: Image Processing Device 76: Actuator 77: Coating Liquid Pool 78: Actuator 81: Compressed Air Supply Hose 82: Camera 84: Pressure Reducing Valve 86: Compressed Air Source 98: Rotation Center Axis 99: Compressed air control valve 100: Alignment mark

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 9/227 H01J 9/227 E 11/02 11/02 B Fターム(参考) 4D075 AC04 AC09 AC93 CB38 DA06 DB14 DC22 EA05 EC11 4F041 AA05 AA16 AB01 BA05 BA13 BA34 4F042 AA07 BA08 BA10 CB02 5C028 FF16 5C040 FA01 GG09 MA22 MA23 MA24──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 9/227 H01J 9/227 E 11/02 11/02 B F term (Reference) 4D075 AC04 AC09 AC93 CB38 DA06 DB14 DC22 EA05 EC11 4F041 AA05 AA16 AB01 BA05 BA13 BA34 4F042 AA07 BA08 BA10 CB02 5C028 FF16 5C040 FA01 GG09 MA22 MA23 MA24

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に一方向に複数本のストライプ状の凹
凸部あるいはストライプ状の縦リブとそれに直交する横
リブとからなる格子状の凹凸部が形成されている凹凸基
材を固定するテーブルと、該凹凸基材の凹凸部と対面し
て該凹凸部と相関関係をもつピッチで一直線上に配列さ
れた複数の塗液吐出孔を有する、前記凹凸基材の凹凸部
に対面して位置するノズル装置と、該ノズル装置に塗液
を供給する塗液供給手段と、前記テーブルを移動させる
第1の移動手段と、前記ノズル装置と前記テーブルとを
前記第1の移動手段による移動方向と直角な方向に相対
移動させる第2の移動手段を備えた塗液の塗布装置にお
いて、前記ストライプの方向と、前記塗液吐出孔の配列
方向とがなす角度θを検出する手段と、前記角度θが実
質的に直角になるように前記テーブル上の前記凹凸基材
または前記ノズル装置の位置を変更制御する位置制御手
段とが設けられたことを特徴とする塗液の塗布装置。
1. A table for fixing an uneven base material having a plurality of stripe-shaped uneven portions or a grid-shaped uneven portion composed of stripe-shaped vertical ribs and horizontal ribs perpendicular to the surface formed in one direction on the surface. And, having a plurality of coating liquid discharge holes arranged in a straight line at a pitch having a correlation with the uneven portion of the uneven substrate facing the uneven portion, the position facing the uneven portion of the uneven substrate A nozzle device, a coating liquid supply unit for supplying a coating liquid to the nozzle device, a first moving unit for moving the table, and a moving direction of the nozzle device and the table by the first moving unit. A coating liquid coating apparatus provided with a second moving unit that relatively moves in a direction perpendicular to the coating liquid, wherein a means for detecting an angle θ between the direction of the stripe and the arrangement direction of the coating liquid discharge holes; Will be at right angles And a position control means for changing and controlling the position of the uneven substrate or the nozzle device on the table.
【請求項2】前記位置制御手段が、前記ノズル装置を回
転させる回転機構を有することを特徴とする請求項1に
記載の塗液の塗布装置。
2. The coating liquid application apparatus according to claim 1, wherein said position control means has a rotation mechanism for rotating said nozzle device.
【請求項3】前記位置制御手段が、前記複数の塗液吐出
孔の一つと前記ノズル装置の回転中心とを一致させるた
めの位置微調整機構を有することを特徴とする請求項2
に記載の塗液の塗布装置。
3. The apparatus according to claim 2, wherein said position control means has a position fine adjustment mechanism for making one of said plurality of coating liquid discharge holes coincide with a rotation center of said nozzle device.
3. The coating liquid coating apparatus according to claim 1.
【請求項4】前記位置制御手段が、前記凹凸基材を回転
させる回転機構を有することを特徴とする請求項1に記
載の塗液の塗布装置。
4. The coating liquid application apparatus according to claim 1, wherein said position control means has a rotation mechanism for rotating said uneven base material.
【請求項5】前記角度θを検出する手段の中に、基材に
設けられたアライメントマークを認識することが含まれ
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の塗
液の塗布装置。
5. The coating liquid according to claim 1, wherein the means for detecting the angle θ includes recognizing an alignment mark provided on the base material. Coating device.
【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載の塗液の塗
布装置が用いられ、当該塗布装置における前記塗液とし
て、赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍光体
粉末を含むペーストが用いられてなることを特徴とする
プラズマディスプレイ部材の製造装置。
6. A phosphor powder which emits any one of red, green and blue colors as the coating liquid in the coating apparatus for coating liquid according to claim 1. An apparatus for manufacturing a plasma display member, comprising using a paste containing:
【請求項7】表面に一方向に複数本のストライプ状の凹
凸部あるいはストライプ状の縦リブとそれに直交する横
リブとからなる格子状の凹凸部が形成されている凹凸基
材と、該凹凸基材の凹凸部と対面して該凹凸部と相関関
係をもつピッチで一直線上に配列された複数の塗液吐出
孔を有するノズル装置とを直角に相対的に移動させ、か
つ前記ノズル装置に塗液を供給して塗液吐出孔より塗液
を吐出し、前記凹凸基材の凹部に塗液を塗布する塗液の
塗布方法であって、前記ストライプの方向と、前記塗液
吐出孔の配列方向とがなす角度θを検出し、該角度θが
実質的に直角になるように前記凹凸基材または前記ノズ
ル装置の位置を変更制御し、かつ、塗布方向が前記縦リ
ブの方向と平行になるように基板およびノズル装置を相
対移動させながら塗布することを特徴とする塗液の塗布
方法。
7. An uneven base material having a plurality of stripe-shaped uneven portions or a grid-shaped uneven portion formed by stripe-shaped vertical ribs and horizontal ribs orthogonal to the surface formed on the surface in one direction; A nozzle device having a plurality of coating liquid ejection holes arranged in a straight line at a pitch having a correlation with the uneven portion of the substrate facing the uneven portion of the base material, and relatively moved at a right angle, and the nozzle device A method for applying a coating liquid by supplying the coating liquid and discharging the coating liquid from the coating liquid discharge holes, and applying the coating liquid to the concave portions of the uneven substrate, wherein the direction of the stripe and the coating liquid discharge holes The angle θ between the arrangement direction is detected, and the position of the uneven substrate or the nozzle device is controlled to be changed so that the angle θ is substantially a right angle, and the application direction is parallel to the direction of the vertical rib. While moving the substrate and the nozzle device relative to A method for applying a coating liquid, which comprises applying a cloth.
【請求項8】前記変更制御が、前記ノズル装置を回転さ
せることによりおこなわれることを特徴とする請求項7
に記載の塗液の塗布方法。
8. The method according to claim 7, wherein the change control is performed by rotating the nozzle device.
The method for applying the coating liquid described in the above.
【請求項9】前記変更制御が、前記凹凸基材を回転させ
ることによりおこなわれることを特徴とする請求項7に
記載の塗液の塗布方法。
9. The method according to claim 7, wherein the change control is performed by rotating the uneven substrate.
【請求項10】前記角度θを検出する際に、基材に設け
られたアライメントマークを認識することが含まれるこ
とを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の塗液の
塗布方法。
10. The method according to claim 7, wherein detecting the angle θ includes recognizing an alignment mark provided on the substrate. .
【請求項11】請求項7〜10のいずれかに記載の塗液
の塗布方法が用いられ、当該塗布方法における前記塗液
として、赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍
光体粉末を含むペーストが用いられてなるプラズマディ
スプレイ部材の製造方法。
11. A phosphor powder which emits a red, green or blue color as the coating liquid in the coating method according to claim 7. A method for producing a plasma display member using a paste containing:
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004255359A (en) * 2003-02-28 2004-09-16 Hitachi Industries Co Ltd Coating applicator
CN110116077A (en) * 2018-02-07 2019-08-13 纽豹智能识别技术(无锡)有限公司 A kind of adjustable coating machine of multiple degrees of freedom
CN112604905A (en) * 2020-12-11 2021-04-06 常州信安网络科技有限公司 Full-automatic glue dispensing device
CN114950872A (en) * 2022-05-05 2022-08-30 中国科学院上海高等研究院 Coating system and method for conductive adhesive on inner wall of current collector hole

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