JP2002176044A - 縦型熱処理装置、および被処理体移載方法 - Google Patents

縦型熱処理装置、および被処理体移載方法

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JP2002176044A JP2000372098A JP2000372098A JP2002176044A JP 2002176044 A JP2002176044 A JP 2002176044A JP 2000372098 A JP2000372098 A JP 2000372098A JP 2000372098 A JP2000372098 A JP 2000372098A JP 2002176044 A JP2002176044 A JP 2002176044A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 保持具を所定の位置に載置できる保持具支持
機構を具備する熱処理装置を提供する。 【解決手段】 縦型熱処理装置の保持具載置部を、被処
理体を保持するための保持具を載置する保持具載置台5
0と、保持具の底板の形状に対応した複数の突起部68
a、68bと、その距離を変化させる距離可変機構とを
含む保持具位置調整機構と、から構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理体を熱処理
する縦型熱処理装置、および被処理体移載方法に関し、
特に被処理体を保持するための保持具の位置合わせが可
能な縦型熱処理装置、および被処理体移載方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体製造プロセスにおいて、半導体ウ
エハ(以下ウエハという)等の被処理体に対して熱処理
を行う装置の一つにバッチ処理を行う縦型熱処理装置が
ある。この装置は、保持具(ボート)に被処理体たる複
数のウエハを積層した状態で保持し、この保持具を縦型
の熱処理炉の中に搬入して熱処理、例えばCVD(Ch
emical Vapor Deposition)、
酸化処理等を行う。縦型熱処理装置には、保持具を載置
するための保持具載置部(保持具支持機構、ボートステ
ージ)が付随している。この保持具載置部上に載置した
保持具に被処理体が移載、保持される。しかる後に被処
理体を保持した保持具載置部が縦型熱処理装置の熱処理
室内に収容され、被処理体の熱処理が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】被処理体を熱処理する
ときには熱処理室内と被処理体との相対的な位置関係が
重要である。熱処理室内には温度分布、雰囲気ガスの濃
度分布等があることから、これらの分布の中心と被処理
体たるウエハの中心とを対応させるように被処理体を熱
処理室内に配置する必要がある。これらの中心が対応し
ない状態で熱処理を行うと、被処理体上に形成される膜
厚の不均一性を生じることになる。そして、熱処理室と
被処理体との相対的な位置関係を一定にするには、保持
具と被処理体との位置関係を一定に保つことが有効であ
る。ここで、保持具載置部(保持具支持機構、ボートス
テージ)上に保持具(ボート)を載置する際に位置ズレ
を生じる場合があり、この位置の誤差が被処理体を移載
する際の被処理体と保持具との位置関係の誤差をもたら
す可能性がある。上記に鑑み、本発明は被処理体を所定
の位置に載置できる保持具支持機構を具備する熱処理装
置を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】(1)上記目的を達成す
るために、本発明に係る熱処理装置は、熱処理する複数
の被処理体を積層した状態で保持するための保持具を載
置する保持具載置台と、前記保持具の底板の形状に対応
した複数の突起部と、該複数の突起部間の距離を変化さ
せる距離可変機構と、を含む保持具位置調整機構と、を
有する保持具支持機構を具備することを特徴とする。保
持具支持機構が保持具の位置を調整する保持具位置調整
機構を有することから、保持具を保持具載置台へ載置し
た後に保持具の位置合わせが容易に行える。その結果、
保持具への被処理体の移載が精度良く行える。なお、こ
の位置合わせは、保持具の底板の形状に対応した複数の
突起部間の距離を変えることで行える。ここで、前記保
持具支持機構が、前記保持具載置台を該保持具載置台の
保持具載置面に沿った面内で移動可能とするスライド機
構をさらに有しても良い。スライド機構によって保持具
載置台上の保持具を保持具載置台と共に移動することが
容易となり、保持具の位置合わせが容易となる。ここ
で、前記保持具支持機構が、前記保持具載置台を所定の
位置に復帰させる復帰機構であって、かつ該保持具載置
台を該保持具載置台の保持具載置面に沿った面内で異な
る方向に付勢する付勢手段を含む復帰機構をさらに有し
ても良い。保持具の載置前に保持具載置台の位置を復帰
することが可能となり、保持具の位置調整の際に保持具
載置台の移動可能範囲を確保することができる。
【0005】(2)本発明に係る被処理体載置方法は、
熱処理する複数の被処理体を積層した状態で保持するた
めの保持具を保持具設置台に載置する載置ステップと、
前記載置ステップで前記保持具載置台上に載置された前
記保持具を該保持具載置台と共に該保持具載置台の保持
具載置面に沿った面内で移動させ、該保持具を所定の位
置に位置合わせする位置調整ステップと、前記位置調整
ステップで位置合わせされた前記保持具に前記被処理体
を移載する移載ステップと、前記移載ステップで前記被
処理体が移載された前記保持具を前記保持具載置台から
取り外し、前記保持具載置台を所定の位置に復帰させる
復帰ステップとを具備することを特徴とする。被処理体
を移載する前に保持具の位置の調整が行われることか
ら、保持具へ被処理体を移載する際の位置精度が向上す
る。また、被処理体を移載した保持具の除去後に保持具
載置台の位置が復帰するので、保持具の位置の調整の精
度の確保が容易になる。
【0006】
【発明の実施の形態】〔第1実施形態〕 (熱処理装置全体の概略)以下、本発明の実施の形態を
図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明に係る縦
型熱処理装置の概略的斜視図である。図1に示すよう
に、縦型熱処理装置の外郭を形成する筐体10内がキャ
リア搬送領域SaとローディングエリアSbとに隔壁1
2により仕切られている。キャリア搬送領域Saでは、
被処理体(被処理基板ともいう)である半導体ウエハW
(以下、ウエハWという)を収容したキャリア14の搬
入搬出、保管等を行う。また、ローディングエリアSb
では、ウエハWのキャリア14内から保持具(ボートと
もいう)16への移替え(移載)、熱処理炉18への保
持具16の搬入搬出等を行う。ここで、キャリア搬送領
域Saは、図示しないフィルタを介して清浄な空気が供
給されていて大気雰囲気とされている。また、ローディ
ングエリアSbには、清浄な空気が供給される大気雰囲
気または不活性ガス例えば窒素ガスが供給されていて不
活性ガス雰囲気とされている。前記キャリア14は、い
わゆるクローズ型キャリアであり、複数枚のウエハWを
収容すると共にFIMS(Front−opening
InterfaceMechanical Stand
ard)ドア15で密閉されている。詳しくは、キャリ
ア14は所定口径例えば直径300mmの半導体ウエハ
を水平状態で上下方向に所定間隔で多段に複数枚例えば
13枚もしくは25枚程度収容可能で持ち運び可能なプ
ラスチック製の容器からなり、その前面部に開口形成さ
れたウエハ取出口にこれを気密に塞ぐためのFIMSド
ア15を着脱可能に備えている。
【0007】前記筐体10の前面部には、オペレータあ
るいは搬送ロボットによりキャリア14を搬入搬出する
ためのキャリア搬入出口20が設けられている。キャリ
ア搬入出口20には、キャリア搬送領域Saにキャリア
14を搬入あるいは搬出するためのロードポート22が
設けられ、このロードポート22上に設けられた搬送機
構24によりキャリア14がロードポート22上を移動
し、キャリア搬送領域Sa内に搬送される。また、キャ
リア搬送領域Sa内には、ロードポート22の上方およ
び隔壁12側の上方に、複数個のキャリア14を保管し
ておくための棚状の保管部26が設けられている。キャ
リア搬送領域Sa内の前記隔壁12側には、キャリア1
4を載置してウエハ移載を行うためのキャリア載置部
(FIMSポートともいう)27が設けられている。キ
ャリア搬送領域Saには、前記ロードポート22、保管
部26およびキャリア載置部27の間でキャリア14の
搬送を行うためのキャリア搬送機構28が設けられてい
る。このキャリア搬送機構28は、キャリア搬送領域S
aの一側部に設けられた昇降機構28aにより昇降移動
される昇降アーム28bと、この昇降アーム28bに設
けられたアーム28c、アーム28cに設けられキャリ
ア14の底部を支持して搬送する搬送アーム28dとか
ら構成されている。
【0008】前記隔壁12には、キャリア14のウエハ
取出口と対応した形状に形成された扉30が開閉可能に
設けられている。扉30にキャリア14を当接させた状
態で扉30を開くことにより、キャリア14内のウエハ
WをローディングエリアSb内に出し入れできる。一
方、ローディングエリアSbの奥部上方には、蓋体32
が昇降機構(ボートエレベータともいう)34により昇
降可能に設けられている。蓋体32には多数枚例えば1
00枚もしくは150枚程度のウエハWを上下方向に所
定間隔で多段に保持した例えば石英製の保持具16を載
置できる。蓋体32を昇降機構34により昇降すること
で、ウエハWを保持した保持具16を熱処理炉18の熱
処理室内への搬入搬出を行える。熱処理炉18の炉口近
傍には、蓋体32が降下し熱処理後の保持具16が搬出
された際に、炉口を遮蔽するためのシャッター36が水
平方向に開閉移動可能に設けられている。
【0009】ローディングエリアSbの一側部には、ウ
エハWの移替え等のために保持具16を載置しておくた
めの第1保持具載置部(保持具支持機構あるいはボート
ステージともいう)38が設けられている。また第1保
持具載置部38の後方には、被処理体たるウエハWを保
持した保持具16を載置するための第2保持具載置部
(待機(スタンバイ)ステージともいう)40が設けら
れている。ローディングエリアSb内の下方で、キャリ
ア載置部27と熱処理炉18との間には、第1保持具載
置部38、第2保持具載置部40、蓋体17との間にお
いて保持具16の搬送を行う保持具搬送機構42が設け
られている。保持具搬送機構42は、水平旋回および昇
降可能な第1アーム42aと、この第1アーム42aの
先端部に水平旋回可能に軸支され保持具16を垂直に支
持可能な平面略C字状の開口を有する支持アーム42b
とを備えている。保持具搬送機構42の上方には、キャ
リア載置部27上のキャリア14と第1保持具載置部3
8上の保持具16との間でウエハWの移替えを行う移載
機構44が設けられている。移載機構44は、昇降機構
44a、昇降機構44aに連結され水平回動可能な第1
アーム44b、第1アーム44bに連結され水平回動可
能な第2アーム44c、第2アーム44c上に設置され
進退可能な支持アーム44dから構成される。支持アー
ム44dは、複数枚例えば2枚もしくは5枚の薄板フォ
ーク状であり、ウエハWを載置して移動できる。
【0010】次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置
におけるウエハWの熱処理の手順について述べる。キャ
リア14をロードポート22上に載置すると、搬送機構
24によりキャリア搬入出口20を通ってキャリア搬送
領域Saに搬送される。そして、キャリア搬送領域Sa
内のロードポート22上のキャリア14はキャリア搬送
機構28により保管部26に搬送される。さらに、キャ
リア搬送機構28により、保管部26のキャリア14は
キャリア載置部27に搬送される。キャリア載置部27
上のキャリア14のFIMSドア15および隔壁12の
扉30が開放されると、移載機構44がキャリア14内
から半導体ウエハWを取出し、第1保持具載置部38上
で待機する空の保持具16に順次移載する。ウエハWを
保持する保持具16は保持具搬送機構42により、必要
に応じて第2保持具載置部40を経由した後、第1保持
具載置部38上から蓋体32上へ載置される。ウエハW
を保持した蓋体32上の保持具16は昇降機構34によ
り熱処理炉18の熱処理室内に収容され熱処理が行われ
る。なお、蓋体32が昇降する際にはシャッター36が
開閉される。熱処理が終了すると、昇降機構34により
蓋体17は降下され、保持具16が熱処理炉18の熱処
理室内からローディングエリアSbに搬出される。熱処
理炉18の熱処理室内から搬出された熱処理後のウエハ
Wを保持する保持具16は、蓋体32上から第1保持具
載置部38上に搬送される。ウエハWは、移載機構44
によって第1保持具載置部38上の保持具16からキャ
リア載置部27上のキャリア14に移載される。熱処理
済みのウエハWを収容したキャリア14は、キャリア搬
送機構28によりロードポート22上に載置され、搬送
機構24によりキャリア搬出入口20から搬出される。
【0011】(第1保持具載置部の詳細)次に第1保持
具載置部(ボートステージ)38を詳細に説明する。図
2は第1保持具載置部38を上面から見た状態を表す一
部断面部である。また、図3、図4は第1保持具載置部
38をそれぞれ図1のA−B、C−Dに沿って切断した
状態を表す一部断面図である。さらに、図5、図6はそ
れぞれ第1保持具載置部38をそれぞれ図1のE、Fの
方向から見た状態を表す側面図である。ここで、図3、
図4には保持具16の保持具底板160を2点鎖線で表
している。保持具底板160は、1箇所が直線上にカッ
トされた円形の外周162、および外周162と同一中
心の略円形の開口部(内周)164を有する平板リング
形状であり、開口部164にはその直径の両端近傍に一
対の切り欠き166a、166bが形成されている。切
り欠き166a、166bはそれぞれ開口部164の中
心に対称な略2等辺三角形状であり、その頂点は丸くな
っている。
【0012】第1保持具載置部38は、主として保持具
16を載置する保持具載置台50、熱処理装置に固定さ
れた基体56、保持具載置台50と基体56の間にある
球状のボール60を保持したボール保持器62から構成
される。そして、保持具載置台50上には保持具16の
位置調整を行うための一対の略円筒形状の突起部68
a、68bが配置されている。保持具載置台50は、円
盤形状の保持具載置台本体50a、保持具載置台本体5
0aと略同一中心で保持具載置台本体50aより少し径
が小さい外周を有する幅の狭い平板リング形状の上部レ
ール部50bから構成される。保持具載置台本体50a
には、保持具載置台本体50aと略同一中心の円形状の
開口部52と、突起部68a、68bと対応しかつ保持
具載置台本体50aの中心に対して対称に位置する1対
の円形の開口部54a、54bが形成されている。
【0013】基体56は、保持具載置台本体50aと略
対応した平板リング形状の基体上板56a、基体上板5
6a上にあって上部レール部50bとほぼ対応する平板
リング形状の下部レール部56b、基体上板56aの下
部に接続された略円筒状の連結部56c、連結部56c
に接続された平板リング形状の基体底板56dから構成
される。基体上板56aには、それぞれ保持具載置台5
0の開口部54a、54bと位置及び形状が対応する1
対の略円形状の開口部58a、58bが形成されてい
る。また、基体上板56aにはその外周の直径両端に一
対の略四角形状の開口部57a、57bが形成されてい
る。なお、ボール保持器62および下部レール部56b
は、この開口部57a、57bにおいても、欠けること
なく形成されている。
【0014】ボール保持器62は、上部レール部50b
および下部レール部56bとほぼ対応する平板リング形
状である。ボール保持器62の厚みは、ボール60の直
径よりも小さい。ボール保持器62にはボール60の直
径より若干大きな直径の円形開口部が形成され、この開
口部にボール60が保持されている。ボール保持器62
に保持されたボール60は上部レール部50bと下部レ
ール部56bとの間で回転する。このため、ボール60
によって上部レール部50bと下部レール部56b間で
の滑り運動時の摩擦が低減される。即ち、本発明におい
てボール60とこれを保持するボール保持器62との組
合せは、保持具載置台50と基体56との間での保持具
載置台50の主面(保持具載置台本体50aの上面ある
いは下面)に沿った運動を容易にするスライド機構とし
て機能する。なお、この運動には、保持具載置台50の
主面に垂直な軸を中心とした回転運動を含めることがで
きる。
【0015】突起部68a、68bのそれぞれは、基体
底板56d上に設置したエアシリンダー64a、64b
にそれぞれ連結されたシャフト66a、66bに接続さ
れている。シャフト66a、66bは、L字の形状であ
り、それぞれ基体56の開口部58a、58bおよび保
持具載置台50の開口部54a、54bを通過してい
る。エアシリンダー64a、64bのそれぞれには窒素
ガス等が供給され(ガスの配管は図示せず)、そのガス
圧でシャフト66aおよび66bを基体56の中心に向
かって押し出しあるいは引き戻すことができる。シャフ
ト66a、66bが押し出しあるいは引き戻されること
で、突起部68a、68bのそれぞれは基体56の中心
に向かいあるいは中心から遠ざかる方向に移動すること
になる。図2,図3において、実線はエアシリンダー6
4a、64bそれぞれの内部のガス圧を低下させ、シャ
フト66a、66bの双方を引き戻した状態を表してい
る。また、図3での2点鎖線によってエアシリンダー6
4a、64bそれぞれの内部のガス圧を上昇させ、シャ
フト66a、66bの双方を押し出した状態を表してい
る。エアシリンダー64a、64bの作動により、突起
部68a、68bの中心の間隔は最大値L2と最小値L
1の間で変化する。なお、このときエアシリンダー64
a、64bのストロークΔLは、突起部68a、68b
の間隔の最大値L2、最小値L1とL2=L1+2ΔL
の関係で結ばれる。
【0016】突起部68a、68bの間隔を増大するこ
とで突起部68a、68bのそれぞれが保持具底板16
0に設けられた切り欠き166a、166bに入り込み
(係合)、切り欠き166a、166bの頂点付近で停
止する。このとき保持具16が基体56上の所定の位
置、方向(基体56の中心に位置し、かつ切り欠き16
6a、166bが突起部68a、68bに対応する方
向)に配置されていれば保持具16と基体56の相対的
な位置、方向関係は保持される。一方、保持具16がこ
の所定の配置からずれているときには、突起部68a、
68bの移動に伴って保持具16は移動し、基体56に
対する位置、方向は変化する。即ち、保持具16は基体
56上を移動し、所定の位置に調整される。即ち、突起
部68a、68bは、保持具底板160に設けられた切
り欠きとの対応関係に基づき、保持具16の位置を調整
する保持具位置調整機構として機能する。保持具位置調
整のとき、ボール保持器62に保持されたボール60が
スライド機構として機能することから、保持具載置台5
0は保持具16と共に移動できる。この結果、エアシリ
ンダー64a、64bの力が大きくなくとも、保持具1
6の位置を容易に調整することができる。
【0017】保持具載置台50の下面には、基体56の
開口部57a、57bに対応して一対のエアシリンダー
保持具70a、70bがそれぞれネジ72a、72bに
よって取り付けられている。エアシリンダー保持具70
a、70bはそれぞれエアシリンダー74a、74bを
保持している。その結果、エアシリンダー74a、74
bはそれぞれ、基体56の開口部57a、57b内に、
下部レール部56bに対応して配置されている。エアシ
リンダー74a、74bのそれぞれから、シャフト76
a、76bが突き出し、またシャフト76a、76bの
先端には略円筒形状の移動片77a、78bが形成され
ている。移動片77a、78bはゴム等の弾性材料で形
成されている。シャフト76a、76bは基体56の主
面に垂直な方向を向き、移動片77a、78bは下部レ
ール部56bの下面とそれぞれ間隔da、dbで近接対
向している。エアシリンダー74a、74bのそれぞれ
には窒素ガス等が供給され(ガスの配管は図示せず)、
そのガス圧でシャフト76aおよび76bに接続された
移動片77a、78bを下部レール部56bに押し当て
あるいは引き戻すことができる(距離da、dbが変化
する)。移動片77a、78bを下部レール部56bに
押し当てることで保持具載置台50を基体56上で静止
させることができる。これは、移動片77a、78bが
接続されたエアシリンダー74a、74bは保持具載置
台50に固定され、一方下部レール部56bは基体56
の一部を構成することに基づく。以上のように、移動片
77a、78bを備えたエアシリンダー74a、74b
は、保持具載置台50を基体56に対して固定する載置
台固定機構として機能する。
【0018】基体56の側面には略等間隔に3つの板バ
ネ78a、78b、78cがネジ80a、80b、80
cによって取り付けられている。板バネ78は、略四角
形状の固定部782、固定部782に形成された2対の
弾性部784a、784b、弾性部786a、786b
から構成される。弾性部784a、784bは上部レー
ル部50bの側面に、弾性部786a、786bはボー
ル保持器62の側面に、それぞれの端部近傍が接触し、
基体56の中心方向に向かう付勢力を与えている。即
ち、弾性部784a、784bは、保持具載置台50に
基体56の中心方向に向かう付勢力を付与する付勢手段
として機能し、弾性部786a、786bは、スライド
機構(ボール60およびボール保持器62)に基体56
の中心方向に向かう付勢力を付与する付勢手段として機
能する。結局、3つの板バネ78a、78b、78c
は、それぞれスライド機構および保持具載置台50の双
方に3方向から基体56の中心方向に向かう付勢力を与
える付勢手段として機能する。即ち、3つの板バネ78
a、78b、78cは、保持具載置台50の位置を所定
の位置(基体56の中心)に復帰させようとする載置台
位置復帰機構、およびスライド機構を所定の位置(基体
56の中心)に復帰させるスライド機構復帰機構として
機能する。
【0019】保持具載置台50と基体56との間には、
一対のつるまきバネ82a、82bが介在している。つ
るまきバネ82a、82bは、保持具載置台本体50a
の外周に取り付けられた略L字型の第1バネ取付冶具8
4および第1バネ取付冶具84の先端を挟むように基体
上板56aに接続された一対の第2バネ取付冶具86
a、86bにその両端が接続されている。つるまきバネ
82a、82bは基体56の外周に沿って、保持具載置
台50と基体56の間を接続していることから、保持具
載置台50が基体56に対して回転されたときに、保持
具載置台50を基体56に対して逆に回転させようとす
る付勢力を付与する。即ち、つるまきバネ82a、82
bは保持具載置台50の基体56に対する相対的な角度
を回転前の角度に復帰させようとする載置台角度復帰機
構として機能する。その結果、載置台位置復帰機構と相
まって、例えば保持具載置台50の開口部54a、54
bとシャフト66a、66bとの相対的な位置関係、エ
アシリンダー74a、74bと基体56の開口部57
a、57bとの相対的な位置関係が常に適正な状態に保
たれることになる。
【0020】(第1保持具載置部の概念的説明)図7
は、以上の図2〜図6に表した第1保持具載置部(ボー
トステージ)38の構成を簡略にして概念的に表した概
念図である。ここで、図7A、図7Bはそれぞれ第1保
持具載置部38の上面図(図2に対応)および一部断面
図(図3〜図5に対応)である。ここで、図7Bの左半
分が主として図3に、図7Bの右半分が図4にほぼ対応
している。保持具載置台50と基体56の間がスライド
機構たるボール60により保持具載置台50の主面に沿
った移動および主面と垂直な軸に対する回転が可能とな
っている。保持具位置調整機構たる一対の突起部68
a、68bが、それぞれ保持具載置台50上の開口部上
に基体56の中心に対して対称に設置されている。突起
部68a、68bはそれぞれエアシリンダー64a、6
4bにより互いの距離を可変できる。突起部68a、6
8bが保持具底板160の開口部164に設けられた一
対の切り欠き166a、166bに入り込むことで保持
具16の位置が調整される。
【0021】エアシリンダー74の移動片77は保持具
載置台50を基体56に固定する載置台固定機構として
機能する。ここで、図4ではエアシリンダー74が保持
具載置台50に接続されているのに対して、図7ではエ
アシリンダー74は基体56側に固定されている。図4
と図7は前者がが省スペース、後者が理解の容易を重視
したことから相違するものであり。エアシリンダー74
が保持具載置台50、基体56のいずれに固定されてい
ても移動片77が保持具載置台50と基体56間の相対
的な移動を制止することに変わりはない。3つのバネ7
8a、78b、78cはそれぞれが、保持具載置台50
に基体56の中心方向に向かう3方向の付勢力を与える
付勢手段として機能する。これら3つの板バネ78a、
78b、78c全体として、保持具載置台の位置を復帰
させる載置台位置復帰機構として機能する。また一対の
バネ82a、82bは、保持具載置台の基体56に対す
る角度関係を復帰させる載置台角度復帰機構として機能
する。
【0022】(保持具への被処理体の移載手順)次にこ
の第1保持具載置部(ボートステージ)38上における
保持具16へのウエハWの移載手順の詳細を述べる。図
8から図16はこの手順における第1保持具載置部の状
態を表す模式図であり、図17は移載の手順を表すフロ
ー図である。 (1)保持具16が載置されていない保持具載置台50
(図8)に保持具16を載置する(ステップS10およ
び図9)。保持具載置台50上への保持具16の載置は
既述の保持具搬送機構42(図1参照)によって行われ
る。このとき載置した保持具16の中心C2が基体56
の中心(保持具の載置位置基準)C1からずれて、基体
56の中心C1と保持具16の中心C2とが一致しない
可能性がある。なお、保持具16の載置前は、保持具位
置調整機構(突起部68とエアシリンダー64)および
載置台固定機構(移動片77およびエアシリンダー7
4)は解除された状態であるとする。
【0023】(2)保持具位置調整機構(突起部68と
エアシリンダー64)により保持具の位置が調整される
(ステップ11および図10)。一対の突起部68がそ
れぞれ互いの距離が大きくなるように移動する。この移
動は一対の突起部68のそれぞれで時間を違えて行って
も差し支えないが、作業時間を考慮すると一対の突起部
68が同時に移動するのが好ましい。一対の突起部68
がそれぞれ保持具底板160の開口部164に形成され
た一対の切り欠き166a、166bの先端に入り込む
ことにより保持具16の位置が調整される(切り欠き1
66と突起部68との係合)。例えば、切り欠き166
a、166bの先端を保持具底板160の中心に対称と
し、かつ一対の突起部68を基体56の中心に対称な位
置にそれぞれ移動することで、保持具16の中心C1と
基体56の中心C2とを一致することができる。保持具
載置台50が基体56をスライドして保持具16と共に
移動できることから、保持具16の移動は強い力を要せ
ずかつ速やかに行える。
【0024】(3)載置台固定機構(移動片77および
エアシリンダー74)により、保持具載置台50を基体
56に固定する(ステップS12)。この固定は、保持
具載置台50または基体56のいずれかに固定されたエ
アシリンダー74によって、移動片77を保持具載置台
50または基体56のいずれかに押しつけることで行わ
れる。この固定ステップは、次のステップS13のウエ
ハWの移載の際における保持具載置台50の移動を確実
に防止するためにステップS13に先んじて行われる。
ここで、突起部68と切り欠き166とによって保持具
16の移動が防止できるのであれば、後のステップ14
の保持具位置の調整解除の直前までにこの固定を行えば
よい。保持具載置台50の固定をステップ14に先だっ
て行うのは、保持具位置の調整解除の際の保持具載置台
50の移動を防止するためである。
【0025】(4)保持具載置台50に載置された保持
具16へのウエハWの移載が行われる(ステップS13
および図11)。被処理体たるウエハWは保持具16の
支柱に設けられた溝にその端部が挿入されるように移
載、保持される。この移載は前述の移載機構44(図1
参照)によって行われる。この移載に先立ちステップS
11で保持具16の位置が調整されていることから、被
処理体たるウエハWを保持具16に位置精度よく移載す
ることが容易に行える(ウエハWと保持具16との相対
的な位置関係の制御)。保持具16に対するウエハWの
位置を精密に制御することで、ウエハW上における熱処
理の均一性を確保することが容易になる。これに反し、
保持具16の設置位置の精度が悪いと、ウエハW上にお
ける熱処理の均一性の確保が困難であるのみならず、ウ
エハWを保持具16の支柱の溝に挿入できないことも考
えられる。 (5)保持具位置調整機構が解除される(ステップS1
4)。即ち、エアシリンダー64の作用により一対の突
起部68が基体56の中心に向かって移動し、保持具底
板160の切り欠き166との係合が解除される。この
とき載置台固定機構(移動片77およびエアシリンダー
74)の働きで、保持具載置台50の移動が制止され
る。 (6)保持具載置台50から保持具16が除去される
(ステップS15および図12)。このときもステップ
S14と同様に、載置台固定機構(移動片77およびエ
アシリンダー74)の働きで、保持具載置台50の移動
が制止される。
【0026】(7)載置台固定機構(移動片77および
エアシリンダー74)を解除し、保持具載置台50を基
体56に対して相対的な移動を可能とする(ステップS
16)。即ち、エアシリンダー74の作用により移動片
77は保持具載置台50あるいは基体56と接触しない
状態となり、スライド機構(ボール60)の作用により
保持具載置台50の移動が容易に行えるようになる。そ
の後、載置台位置復帰機構(バネ78a、78b、78
c)、載置台角度復帰機構(バネ82a、82b)の作
用により保持具載置台50の中心は基体56の中心C1
と一致し、保持具載置以前(図1)の状態に復帰する
(ステップS17および図13)。保持具載置前におけ
る保持具載置台50の位置が常に同一の場所に復帰する
ことから、ステップS11において保持具16の位置の
調整に伴う保持具載置台50の移動量を確保できる。こ
れに対して、保持具載置台50の位置が復帰しないと、
保持具載置台50への保持具16の載置位置が前回と同
様の方向にズレたような場合に、保持具載置台50が充
分に移動できない可能性がある。以上のように本発明に
係る保持具載置部(ボートステージ)は、保持具の位置
を所定の位置に調整する保持具位置調整機構を有すこと
から、保持具への被処理体の移載、保持を精密に行え
る。
【0027】〔その他の実施形態〕上記実施形態は、拡
張、変更が可能であり、拡張、変更された実施形態も本
発明の技術的範囲に含まれる。 (1)上記実施形態では、第1保持具載置部(ボートス
テージ)は熱処理装置の一部となっているが、第1保持
具載置部を熱処理装置とは別体とすることができる。例
えば、熱処理装置外の保持具載置部で保持具への被処理
体の移載を行い、しかる後に被処理体の移載が完了した
保持具を熱処理装置に搬送して熱処理を行えばよい。 (2)スライド機構は、ボールとこのボールを保持する
保持器の組合せに限られない。例えば、潤滑剤等何らか
の意味で保持具載置台と基体間の摩擦を低減する手段で
あれば差し支えない。また、スライド機構は、保持具載
置台と基体のいずれかに固定されていても良い。 (3)保持具位置調整機構は、突起部と突起部に接続さ
れたエアシリンダの組合せには限られない。突起部を移
動する手段は、エアシリンダに限らず、例えば電動モー
タ等の電気的手段であっても差し支えない。突起部と対
応する切り欠きの配置箇所は保持具底板に設けた開口部
には限られず、例えば保持具底板の外周部に設けてもよ
い。このときには突起間の距離が小さくなることによっ
て、切り欠きと突起が係合することになる。突起部と保
持具載置台の切り欠きは、互いに係合可能な形状であれ
ば、それぞれ円筒形、略三角形には限られない。例え
ば、突起部の代わりに凹み部を設け、保持具には切り欠
きに代えて突起部を設けても互いを係合させて、保持具
の位置を調整することができる。また、突起部の個数は
2つには限られない。切り欠きおよびそれに対応する突
起部が3つ以上あってもよい。例えば、3つの突起部を
円周上に配置し、これらの突起部がその円周の中心に向
かいあるいは遠ざかる運動をすることで、突起部と切り
欠きとを係合させることができる。さらに、上記実施形
態では1対の突起部の双方が移動していたが、突起部の
一方を固定し他方の突起部のみを移動することでも保持
具位置の調整は行える。
【0028】(4)載置台位置復帰機構、あるいは載置
台角度復帰機構の構成要素は、板バネあるいはつるまき
バネには限られない。例えば、付勢手段として電動ある
いはエアーを用いても差し支えない。また、載置台位置
復帰機構を構成する付勢手段の個数は3つには限られな
い。例えば、4つ以上の付勢手段が、保持具載置台に対
して同一中心に向かう方向に付勢力を与えてもよい。同
様に載置台角度復帰機構は、2つの付勢手段に限られ
ず、例えば3つ以上の付勢手段によって構成されても差
し支えない。要するに載置台位置復帰機構、あるいは載
置台角度復帰機構は、保持具載置台載置台が所定の位
置、角度から外れるとその所定の位置や角度に復帰させ
る方法に力が作用するものであれば良く、例えば、磁気
的な力に基づくものであっても適用できる。
【0029】(5)載置台固定機構は、上記実施形態の
エアシリンダーと移動片の組合せに限られない。移動片
を移動する手段は、エアシリンダーに限らず、例えば電
動モータ等の電気的手段であっても差し支えない。エア
シリンダは、既述のように、保持具載置台、基体のいず
れに固定されていても良いし、あるいは全く異なる他の
熱処理装置の構成要素に結合されていても差し支えな
い。移動片の形状、材料も適宜に変更することができ
る。
【0030】
【発明の効果】本発明に係る保持具載置部上で保持具へ
移載された被処理体は、保持具に保持された状態で、熱
処理装置による熱処理の対象となる。このとき被処理体
が保持具に精度良く保持されていることから、保持具上
へ被処理体が精度良く移載され被処理体へのより均一な
熱処理が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る熱処理装置の全体構成を示す斜
視図である。
【図2】 図1に示す第1保持具載置部(ボートステー
ジ)を上面から見た状態を表す一部断面部である。
【図3】 第1保持具載置部を図1のA−Bに沿って切
断した状態を表す一部断面図である。
【図4】 第1保持具載置部を図1のC−Dに沿って切
断した状態を表す一部断面図である。
【図5】 第1保持具載置部を図1のEの方向から見た
状態を表す側面図である。
【図6】 第1保持具載置部を図1のFの方向から見た
状態を表す側面図である。
【図7】 第1保持具載置部の構成を概念的に表した概
念図である。
【図8】 保持具載置前の第1保持具載置部を表す模式
図である。
【図9】 保持具を載置した状態の第1保持具載置部を
表す模式図である。
【図10】 保持具の位置が調整された状態の第1保持
具載置部を表す模式図である。
【図11】 固定され、かつウエハが移載された保持具
を載置した状態の第1保持具載置部を表す模式図であ
る。
【図12】 保持具が除去された状態の第1保持具載置
部を表す模式図である。
【図13】 保持具載置台の位置が復帰した状態の第1
保持具載置部を表す模式図である。
【図14】 第1保持具載置部上での保持具への被処理
体の移載手順を表すフロー図である。
【符号の説明】 10 筐体 12 隔壁 14 キャリア 15 FIMSドア 16 保持具 160 保持具底板 162 外周 164 開口部 17 蓋体 18 熱処理炉 20 キャリア搬出入口 22 ロードポート 24 搬送機構 26 保管部 27 キャリア載置部 28 キャリア搬送機構 28a 昇降機構 28b 昇降アーム 28c アーム 28d 搬送アーム 30 扉 32 蓋体 34 昇降機構 36 シャッター 38 第1保持具載置部 40 第2保持具載置部 42 保持具搬送機構 42a アーム 42b 支持アーム 44 移載機構 44a 昇降機構 44b アーム 44c アーム 44d 支持アーム 50 保持具載置台 50a 保持具載置台本体 50b 上部レール部 52、54a、54b 開口部 56 基体 56a 基体上板 56b 下部レール部 56c 連結部 56d 基体底板 57a、57b、58a、58b 開口部 60 ボール 62 ボール保持器 64a、64b エアシリンダー 66a、66b シャフト 68a、68b 突起部 70a、70b エアシリンダー保持具 72a、72b ネジ 74a、74b エアシリンダー 76a シャフト 77a、77b 移動片 78a、78b、78c 板バネ 782 固定部 784a、782b、786a、786b 弾性部 80a ネジ 82a、82b 弦巻バネ 84、86a、86b バネ取付冶具 64a、64b エアシリンダー 68a、68b 突起部 78a、78b 移動片
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/68 H01L 21/68 A Fターム(参考) 4K029 AA24 JA06 KA02 4K030 CA04 CA12 GA02 GA13 5F031 CA02 DA08 DA17 EA14 FA01 FA03 FA07 GA02 GA30 GA42 GA43 GA47 GA49 HA67 KA11 KA12 KA20 LA01 LA15 MA28 NA02 NA04 5F045 AA03 AA06 BB03 DP19 DQ05 EM08

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱処理する複数の被処理体を積層した状
    態で保持するための保持具を載置する保持具載置台と、 前記保持具の底板の形状に対応した複数の突起部と、該
    複数の突起部間の距離を変化させる距離可変機構と、を
    含む保持具位置調整機構と、 を有する保持具支持機構を具備することを特徴とする縦
    型熱処理装置。
  2. 【請求項2】 前記保持具支持機構が、前記保持具載置
    台を該保持具載置台の保持具載置面に沿った面内で移動
    可能とするスライド機構をさらに有することを特徴とす
    る請求項1記載の縦型熱処理装置。
  3. 【請求項3】 前記保持具支持機構が、前記保持具載置
    台を所定の位置に復帰させる復帰機構であって、かつ該
    保持具載置台を該保持具載置台の保持具載置面に沿った
    面内で異なる方向に付勢する付勢手段を含む復帰機構を
    さらに有する、ことを特徴とする請求項1記載の縦型熱
    処理装置。
  4. 【請求項4】 熱処理する複数の被処理体を積層した状
    態で保持するための保持具を保持具設置台に載置する載
    置ステップと、 前記載置ステップで前記保持具載置台上に載置された前
    記保持具を該保持具載置台と共に該保持具載置台の保持
    具載置面に沿った面内で移動させ、該保持具を所定の位
    置に位置合わせする位置調整ステップと、 前記位置調整ステップで位置合わせされた前記保持具に
    前記被処理体を移載する移載ステップと、 前記移載ステップで前記被処理体が移載された前記保持
    具を前記保持具載置台から取り外し、前記保持具載置台
    を所定の位置に復帰させる復帰ステップとを具備するこ
    とを特徴とする被処理体移載方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009152244A (ja) * 2007-12-18 2009-07-09 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体
US7896648B2 (en) 2007-01-30 2011-03-01 Tokyo Electron Limited Vertical heat processing apparatus and heat processing method using the vertical heat processing apparatus
KR102614456B1 (ko) * 2023-05-22 2023-12-19 주식회사 에이치피에스피 고압 기판 처리 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06227626A (ja) * 1993-02-02 1994-08-16 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置のボート位置検出装置
JPH09289173A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Tokyo Electron Ltd 縦型熱処理装置
JPH11163095A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム、インターフェイス装置、および基板搬送方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06227626A (ja) * 1993-02-02 1994-08-16 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置のボート位置検出装置
JPH09289173A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Tokyo Electron Ltd 縦型熱処理装置
JPH11163095A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム、インターフェイス装置、および基板搬送方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7896648B2 (en) 2007-01-30 2011-03-01 Tokyo Electron Limited Vertical heat processing apparatus and heat processing method using the vertical heat processing apparatus
KR101109815B1 (ko) * 2007-01-30 2012-02-13 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 종형 열처리 장치 및 그 종형 열처리 장치를 이용한 열처리방법
JP2009152244A (ja) * 2007-12-18 2009-07-09 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体
JP4670863B2 (ja) * 2007-12-18 2011-04-13 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体
KR102614456B1 (ko) * 2023-05-22 2023-12-19 주식회사 에이치피에스피 고압 기판 처리 장치

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