JP2002174605A - 下面照射型蛍光x線分析装置 - Google Patents
下面照射型蛍光x線分析装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料の分析面の高さを一定にし、分析精度を
向上することができる下面照射型蛍光X線分析装置を提
供する。 【解決手段】 位置決め用昇降機構14によりターレッ
ト5に保持された試料ホルダ3を昇降させることによっ
て、試料ホルダ3の被支持面4をホルダ支持部30の支
持面39に接触させて、ホルダ支持部30の支持面39
で試料ホルダ3の被支持面4を支持することにより、試
料ホルダ3をターレット5による保持からチャンバ2の
壁に固定されたホルダ支持部30による支持に切り替え
て、ターレット5の高さにかかわらずに、試料Sの分析
面S1の高さを確実に一定に位置決めできるので、分析
精度を向上することができる。
向上することができる下面照射型蛍光X線分析装置を提
供する。 【解決手段】 位置決め用昇降機構14によりターレッ
ト5に保持された試料ホルダ3を昇降させることによっ
て、試料ホルダ3の被支持面4をホルダ支持部30の支
持面39に接触させて、ホルダ支持部30の支持面39
で試料ホルダ3の被支持面4を支持することにより、試
料ホルダ3をターレット5による保持からチャンバ2の
壁に固定されたホルダ支持部30による支持に切り替え
て、ターレット5の高さにかかわらずに、試料Sの分析
面S1の高さを確実に一定に位置決めできるので、分析
精度を向上することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料の下面の分析
面にX線を照射して試料の分析を行う下面照射型蛍光X
線分析装置に関するものである。
面にX線を照射して試料の分析を行う下面照射型蛍光X
線分析装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、下面照射型蛍光X線分析装置
は、チャンバ内に、試料を装着した試料ホルダを複数個
保持して分析位置と待機位置に回転させるターレットを
有し、分析位置で試料の下面の分析面にX線を照射し
て、試料から発生する蛍光X線を測定して、試料の分析
を行う。
は、チャンバ内に、試料を装着した試料ホルダを複数個
保持して分析位置と待機位置に回転させるターレットを
有し、分析位置で試料の下面の分析面にX線を照射し
て、試料から発生する蛍光X線を測定して、試料の分析
を行う。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の下面照
射型蛍光X線分析装置では、ターレットに保持された状
態で試料ホルダ内の試料を分析していることから、ター
レット円板の歪、加工誤差および関連部品誤差などのタ
ーレットに起因する誤差の影響を受けて、ターレットの
各試料ホルダの保持位置での高さにばらつきが生じ、各
試料の分析面の高さが変動して、分析誤差を許容範囲内
に収めることが困難な場合があった。
射型蛍光X線分析装置では、ターレットに保持された状
態で試料ホルダ内の試料を分析していることから、ター
レット円板の歪、加工誤差および関連部品誤差などのタ
ーレットに起因する誤差の影響を受けて、ターレットの
各試料ホルダの保持位置での高さにばらつきが生じ、各
試料の分析面の高さが変動して、分析誤差を許容範囲内
に収めることが困難な場合があった。
【0004】本発明は、前記の問題点を解決して、試料
の分析面の高さを一定にし、分析精度を向上することが
できる下面照射型蛍光X線分析装置を提供することを目
的としている。
の分析面の高さを一定にし、分析精度を向上することが
できる下面照射型蛍光X線分析装置を提供することを目
的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1に係る下面照射型蛍光X線分析装置は、チ
ャンバ内に、試料を装着した試料ホルダを保持し、分析
位置と待機位置に回転させるターレットを有し、分析位
置で試料の下面の分析面にX線を照射して試料の分析を
行うものであって、前記チャンバ壁に固定されて、前記
分析位置で試料ホルダにおける前記分析面と一定の高さ
関係にある被支持面に接触し、被支持面を一定の高さに
支持する支持面をもつホルダ支持部と、前記ターレット
に保持された試料ホルダを昇降させる位置決め用昇降機
構とを備え、前記位置決め用昇降機構の昇降によって、
前記試料ホルダの被支持面を前記ホルダ支持部の支持面
に接触させて、ホルダ支持部の支持面で試料ホルダの被
支持面を支持することにより、試料の分析面の高さを一
定に位置決めするものである。
に、請求項1に係る下面照射型蛍光X線分析装置は、チ
ャンバ内に、試料を装着した試料ホルダを保持し、分析
位置と待機位置に回転させるターレットを有し、分析位
置で試料の下面の分析面にX線を照射して試料の分析を
行うものであって、前記チャンバ壁に固定されて、前記
分析位置で試料ホルダにおける前記分析面と一定の高さ
関係にある被支持面に接触し、被支持面を一定の高さに
支持する支持面をもつホルダ支持部と、前記ターレット
に保持された試料ホルダを昇降させる位置決め用昇降機
構とを備え、前記位置決め用昇降機構の昇降によって、
前記試料ホルダの被支持面を前記ホルダ支持部の支持面
に接触させて、ホルダ支持部の支持面で試料ホルダの被
支持面を支持することにより、試料の分析面の高さを一
定に位置決めするものである。
【0006】本発明によれば、位置決め用昇降機構によ
りターレットに保持された試料ホルダを昇降させること
によって、試料ホルダの被支持面をホルダ支持部の支持
面に接触させて、ホルダ支持部の支持面で試料ホルダの
被支持面を支持することにより、試料ホルダをターレッ
トによる保持からチャンバ壁に固定されたホルダ支持部
による支持に切り替えて、ターレットの高さにかかわら
ずに、試料の分析面の高さを確実に一定に位置決めでき
るので、従来のように試料の分析面の高さのばらつきが
生じないから、分析精度を向上することができる。
りターレットに保持された試料ホルダを昇降させること
によって、試料ホルダの被支持面をホルダ支持部の支持
面に接触させて、ホルダ支持部の支持面で試料ホルダの
被支持面を支持することにより、試料ホルダをターレッ
トによる保持からチャンバ壁に固定されたホルダ支持部
による支持に切り替えて、ターレットの高さにかかわら
ずに、試料の分析面の高さを確実に一定に位置決めでき
るので、従来のように試料の分析面の高さのばらつきが
生じないから、分析精度を向上することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る
下面照射型蛍光X線分析装置を示す概略縦断面図であ
る。この蛍光X線分析装置は、チャンバ2内に、試料S
を装着した試料ホルダ3を保持し、分析位置(図1の左
側)と待機位置にR方向に回転させるターレット5を有
し、分析位置で試料Sの下面の分析面S1にX線を照射
して試料Sの分析を行うものである。
基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る
下面照射型蛍光X線分析装置を示す概略縦断面図であ
る。この蛍光X線分析装置は、チャンバ2内に、試料S
を装着した試料ホルダ3を保持し、分析位置(図1の左
側)と待機位置にR方向に回転させるターレット5を有
し、分析位置で試料Sの下面の分析面S1にX線を照射
して試料Sの分析を行うものである。
【0008】この蛍光X線分析装置は、チャンバ2内部
が試料室6となっており、チャンバ2の上方に予備排気
室7が設けられている。予備排気室7の周壁はチャンバ
2の上壁に固定または一体形成されている。チャンバ2
および予備排気室7内は、図示しない真空ポンプによっ
て真空に引かれる。試料ホルダ3の交換は、予備排気室
7を介して行われ、予備排気室7の上部にはスライド式
の蓋8が設けられて、試料ホルダ交換の際に、図示しな
い駆動機構によって開閉される。チャンバ2の下壁に
は、X線を発生するX線源11が取り付けられており、
チャンバ2の下方に、第1ソーラスリット51、分光結
晶52、第2ソーラスリット53、および検出器54が
配置されている。前記分光結晶52と第2ソーラスリッ
ト53および検出器54は図示しないゴニオメータによ
って一定の角度関係を保って移動する。この実施形態で
は、試料分析中の真空度を安定に保ち、試料交換を効率
的に行うために予備排気室7を備えているが、予備排気
室7を省略してもよい。
が試料室6となっており、チャンバ2の上方に予備排気
室7が設けられている。予備排気室7の周壁はチャンバ
2の上壁に固定または一体形成されている。チャンバ2
および予備排気室7内は、図示しない真空ポンプによっ
て真空に引かれる。試料ホルダ3の交換は、予備排気室
7を介して行われ、予備排気室7の上部にはスライド式
の蓋8が設けられて、試料ホルダ交換の際に、図示しな
い駆動機構によって開閉される。チャンバ2の下壁に
は、X線を発生するX線源11が取り付けられており、
チャンバ2の下方に、第1ソーラスリット51、分光結
晶52、第2ソーラスリット53、および検出器54が
配置されている。前記分光結晶52と第2ソーラスリッ
ト53および検出器54は図示しないゴニオメータによ
って一定の角度関係を保って移動する。この実施形態で
は、試料分析中の真空度を安定に保ち、試料交換を効率
的に行うために予備排気室7を備えているが、予備排気
室7を省略してもよい。
【0009】ターレット5は、後述するチャンバ2上方
(図1の右上方)に配置された位置決め用昇降機構14
に保持されたターレット支持軸5aに回転自在に支持さ
れており、チャンバ2上方(図1の左上方)に配置され
たターレット回転機構16によりR方向に回転する。こ
の回転機構16は、ターレット回転用モータ17、歯車
伝達機構18、およびターレット支持軸5a回り(R方
向)に回転する回転体19を備えている。回転体19は
チャンバ2上部に取り付けられた支持体21により、回
転可能に支持されている。回転体19とターレット支持
軸5a間にはシール部材22が、回転体19と支持体2
1間にはシール部材23と複数のベアリング26が設け
られている。回転体19にはアーム部材24を介してガ
イド部材25が連結されており、このガイド部材25は
ターレット5の貫通孔5bを貫通しており、ターレット
5をY方向に上下移動自在に保持するとともに、ターレ
ット5に対して周方向に相対移動不能に係合している。
したがって、ターレット回転用モータ17の駆動によっ
て、歯車伝達機構18を介して回転体19およびガイド
部材25がターレット支持軸5a回りに回転し、ターレ
ット5がR方向に回転する。
(図1の右上方)に配置された位置決め用昇降機構14
に保持されたターレット支持軸5aに回転自在に支持さ
れており、チャンバ2上方(図1の左上方)に配置され
たターレット回転機構16によりR方向に回転する。こ
の回転機構16は、ターレット回転用モータ17、歯車
伝達機構18、およびターレット支持軸5a回り(R方
向)に回転する回転体19を備えている。回転体19は
チャンバ2上部に取り付けられた支持体21により、回
転可能に支持されている。回転体19とターレット支持
軸5a間にはシール部材22が、回転体19と支持体2
1間にはシール部材23と複数のベアリング26が設け
られている。回転体19にはアーム部材24を介してガ
イド部材25が連結されており、このガイド部材25は
ターレット5の貫通孔5bを貫通しており、ターレット
5をY方向に上下移動自在に保持するとともに、ターレ
ット5に対して周方向に相対移動不能に係合している。
したがって、ターレット回転用モータ17の駆動によっ
て、歯車伝達機構18を介して回転体19およびガイド
部材25がターレット支持軸5a回りに回転し、ターレ
ット5がR方向に回転する。
【0010】前記位置決め用昇降機構14は、例えば、
位置決め用モータ31の回転軸に固定された回転板32
と、この回転板32に偏心して固定された円柱状のカム
フォロワ33と、ターレット支持軸5aに取り付けられ
た上下用ヨーク34とからなるカム機構を有しており、
上下用ヨーク34に図1の紙面と直交する方向に延び、
カムフォロワ33と上下方向に相対移動不能に係合して
カムフォロワ33を前記直交する方向に摺動させるカム
溝34aが形成され、位置決め用モータ31の駆動によ
り、ターレット支持軸5aを上下に往復運動させる。こ
の実施形態では、位置決め用昇降機構14の昇降にカム
機構を用いているが、ラック・ピニオン機構などを用い
てもよい。
位置決め用モータ31の回転軸に固定された回転板32
と、この回転板32に偏心して固定された円柱状のカム
フォロワ33と、ターレット支持軸5aに取り付けられ
た上下用ヨーク34とからなるカム機構を有しており、
上下用ヨーク34に図1の紙面と直交する方向に延び、
カムフォロワ33と上下方向に相対移動不能に係合して
カムフォロワ33を前記直交する方向に摺動させるカム
溝34aが形成され、位置決め用モータ31の駆動によ
り、ターレット支持軸5aを上下に往復運動させる。こ
の実施形態では、位置決め用昇降機構14の昇降にカム
機構を用いているが、ラック・ピニオン機構などを用い
てもよい。
【0011】したがって、本装置は、ターレット回転機
構16によりターレット5をR方向に回転させた後、位
置決め用昇降機構14により、ターレット支持軸5aを
Y方向に上下動させて、各試料ホルダ3をホルダ支持部
30に支持させることにより、一定の高さに位置決めで
きる。
構16によりターレット5をR方向に回転させた後、位
置決め用昇降機構14により、ターレット支持軸5aを
Y方向に上下動させて、各試料ホルダ3をホルダ支持部
30に支持させることにより、一定の高さに位置決めで
きる。
【0012】図2に示すように、前記試料ホルダ3は、
その底壁3aにマスク40が取り付けられ、このマスク
40の上面で試料Sが保持されている。この底壁3aの
底面がホルダ支持部30に支持される被支持面4となっ
ており、この被支持面4は試料Sの分析面S1と同一高
さになっているので、他の試料ホルダを使用しても、試
料の分析面S1を再現良く一定の高さに位置決めでき
る。ターレット5に設けた挿入孔13にはホルダ受け1
5が挿入されて、孔周縁部に係止されており、このホル
ダ受け15に試料ホルダ3が着脱自在に保持されてい
る。
その底壁3aにマスク40が取り付けられ、このマスク
40の上面で試料Sが保持されている。この底壁3aの
底面がホルダ支持部30に支持される被支持面4となっ
ており、この被支持面4は試料Sの分析面S1と同一高
さになっているので、他の試料ホルダを使用しても、試
料の分析面S1を再現良く一定の高さに位置決めでき
る。ターレット5に設けた挿入孔13にはホルダ受け1
5が挿入されて、孔周縁部に係止されており、このホル
ダ受け15に試料ホルダ3が着脱自在に保持されてい
る。
【0013】この試料ホルダ3を保持するホルダ支持部
30は、試料ホルダ3を回転させるスピン機構が組み込
まれており、取付フランジ35、スピン用ベアリング3
6、スピン用歯車伝達機構38、およびこのスピン用歯
車伝達機構38と結合し、試料ホルダ3を直接支持する
支持部本体37を備えている。ホルダ支持部30は、そ
の取付フランジ35がチャンバ2の壁に図示しない支持
ブラケットを介して固定されており、前記分析位置にお
いて試料ホルダ3の被支持面4に接触し、被支持面4を
所定の高さに支持する支持部本体37下部の支持面39
を持っている。ホルダ支持部30は、図示しないスピン
用モータの駆動により、スピン用歯車伝達機構38、支
持部本体37を回転させて、支持部本体37に支持され
た試料ホルダ3を回転させる。
30は、試料ホルダ3を回転させるスピン機構が組み込
まれており、取付フランジ35、スピン用ベアリング3
6、スピン用歯車伝達機構38、およびこのスピン用歯
車伝達機構38と結合し、試料ホルダ3を直接支持する
支持部本体37を備えている。ホルダ支持部30は、そ
の取付フランジ35がチャンバ2の壁に図示しない支持
ブラケットを介して固定されており、前記分析位置にお
いて試料ホルダ3の被支持面4に接触し、被支持面4を
所定の高さに支持する支持部本体37下部の支持面39
を持っている。ホルダ支持部30は、図示しないスピン
用モータの駆動により、スピン用歯車伝達機構38、支
持部本体37を回転させて、支持部本体37に支持され
た試料ホルダ3を回転させる。
【0014】また、図1の待機位置P2(図1の右側)
において、試料ホルダ3はチャンバ下方(図1の右下
方)に設けられた交換機構28により交換される。前記
交換機構28は、外軸41を昇降させる第1の交換用昇
降機構42および内軸43を昇降させる第2の交換用昇
降機構44を備えている。各交換用昇降機構42、44
は、交換用モータ45、46により駆動され、前記位置
決め用昇降機構14と同様のカム機構により、それぞれ
外軸41と内軸43を昇降させる。第1の交換用昇降機
構42の外軸41に、支持ブラケット47を介して第2
の交換用昇降機構44が固定されており、外軸41の昇
降とともに、第2の交換用昇降機構44自体も昇降す
る。
において、試料ホルダ3はチャンバ下方(図1の右下
方)に設けられた交換機構28により交換される。前記
交換機構28は、外軸41を昇降させる第1の交換用昇
降機構42および内軸43を昇降させる第2の交換用昇
降機構44を備えている。各交換用昇降機構42、44
は、交換用モータ45、46により駆動され、前記位置
決め用昇降機構14と同様のカム機構により、それぞれ
外軸41と内軸43を昇降させる。第1の交換用昇降機
構42の外軸41に、支持ブラケット47を介して第2
の交換用昇降機構44が固定されており、外軸41の昇
降とともに、第2の交換用昇降機構44自体も昇降す
る。
【0015】試料ホルダ3を載置する台48は、例え
ば、互いに異なる径の2段の台からなっており、下段の
大径台48aは第1の交換用昇降機構42の外軸41の
上端に固定され、試料ホルダ3を直接載置する上段の小
径台48bは第2の交換用昇降機構44の内軸43の上
端に固定されている。小径台48bはターレット5の挿
入孔13よりも小径で、予備排気室7内を昇降可能な外
径を持ち、大径台48aはホルダ受け15の下面を支持
し、かつターレット5の挿入孔13よりも小さい外径を
持っている。つまり、大径台48aはターレット5を貫
通してチャンバ2内を昇降する。
ば、互いに異なる径の2段の台からなっており、下段の
大径台48aは第1の交換用昇降機構42の外軸41の
上端に固定され、試料ホルダ3を直接載置する上段の小
径台48bは第2の交換用昇降機構44の内軸43の上
端に固定されている。小径台48bはターレット5の挿
入孔13よりも小径で、予備排気室7内を昇降可能な外
径を持ち、大径台48aはホルダ受け15の下面を支持
し、かつターレット5の挿入孔13よりも小さい外径を
持っている。つまり、大径台48aはターレット5を貫
通してチャンバ2内を昇降する。
【0016】チャンバ2内では、第1の交換用昇降機構
42により外軸41を昇降させることにより、大径台4
8aと小径台48bを重合した状態で昇降させる。試料
ホルダ3を交換する際には、第1の交換用昇降機構42
を上昇させて交換待機位置P5に設定し、ホルダ受け1
5の上面を予備排気室7のシール面27に押し付けて、
予備排気室7とチャンバ2内をシールする。つぎに、予
備排気室7が大気になった後に、第2の交換用昇降機構
44により内軸43を単独で上昇させ、小径台48bの
みを上昇させて予備排気室7の上方へ試料ホルダ3を突
出させる。予備排気室7の上方において、試料ホルダ3
は図示しない例えば自動試料交換機により交換される。
この実施形態では、第2の交換用昇降機構44を備えて
いるが、図示しない自動試料交換機の形態によっては、
第2の交換用昇降機構44を省略してもよい。
42により外軸41を昇降させることにより、大径台4
8aと小径台48bを重合した状態で昇降させる。試料
ホルダ3を交換する際には、第1の交換用昇降機構42
を上昇させて交換待機位置P5に設定し、ホルダ受け1
5の上面を予備排気室7のシール面27に押し付けて、
予備排気室7とチャンバ2内をシールする。つぎに、予
備排気室7が大気になった後に、第2の交換用昇降機構
44により内軸43を単独で上昇させ、小径台48bの
みを上昇させて予備排気室7の上方へ試料ホルダ3を突
出させる。予備排気室7の上方において、試料ホルダ3
は図示しない例えば自動試料交換機により交換される。
この実施形態では、第2の交換用昇降機構44を備えて
いるが、図示しない自動試料交換機の形態によっては、
第2の交換用昇降機構44を省略してもよい。
【0017】つぎに、前記構成の蛍光X線分析装置の動
作について説明する。図1において、分析位置における
試料ホルダ3の位置をP1とし、待機位置における試料
ホルダ3の位置をP2として、実線で示している。ター
レット5が回転する分析上方位置における試料ホルダ3
の位置をP3とし、待機上方位置における試料ホルダ3
の位置をP4とし、予備排気室7内における試料ホルダ
3の交換待機位置をP5として、それぞれ二点鎖線で示
している。
作について説明する。図1において、分析位置における
試料ホルダ3の位置をP1とし、待機位置における試料
ホルダ3の位置をP2として、実線で示している。ター
レット5が回転する分析上方位置における試料ホルダ3
の位置をP3とし、待機上方位置における試料ホルダ3
の位置をP4とし、予備排気室7内における試料ホルダ
3の交換待機位置をP5として、それぞれ二点鎖線で示
している。
【0018】(1)試料測定 まず、ターレット5が上昇した位置において、ターレッ
ト回転機構16により、ターレット5を回転させ、分析
対象の試料ホルダ3を分析上方位置P3で停止させる。
そして、位置決め用昇降機構14により、ターレット5
を下降させ、図2の試料Sの分析面S1と同一高さにあ
る被支持面4をホルダ支持部30の支持部本体37の支
持面39にのせて接触させる。こうして、試料Sの分析
面S1が分析位置P1に位置決めされる。ここで、取付
フランジ35がチャンバ2の壁に固定されているから、
支持面39の上下位置がずれることはない。この支持面
39で、試料ホルダ3の被支持面4(分析面S1)を支
持するので、試料ホルダ3をターレット5による保持か
らチャンバ壁側のホルダ支持部30による支持に切り替
えることができ、ターレット5の高さにかかわらずに、
試料Sの分析面S1の高さを確実に一定に位置決めでき
る。
ト回転機構16により、ターレット5を回転させ、分析
対象の試料ホルダ3を分析上方位置P3で停止させる。
そして、位置決め用昇降機構14により、ターレット5
を下降させ、図2の試料Sの分析面S1と同一高さにあ
る被支持面4をホルダ支持部30の支持部本体37の支
持面39にのせて接触させる。こうして、試料Sの分析
面S1が分析位置P1に位置決めされる。ここで、取付
フランジ35がチャンバ2の壁に固定されているから、
支持面39の上下位置がずれることはない。この支持面
39で、試料ホルダ3の被支持面4(分析面S1)を支
持するので、試料ホルダ3をターレット5による保持か
らチャンバ壁側のホルダ支持部30による支持に切り替
えることができ、ターレット5の高さにかかわらずに、
試料Sの分析面S1の高さを確実に一定に位置決めでき
る。
【0019】この状態で、X線源11から1次X線(放
射線)B1を出射して、フィルタFを介して試料Sの下
面の分析面S1に一次X線B1を照射する。前記試料S
の分析面S1に照射された1次X線B1は、試料Sの原
子を励起して、その元素固有の蛍光X線B2を発生させ
る。試料Sからの蛍光X線B2は、ダイヤフラムDを介
して第1ソーラスリット51を通過し、分光結晶52に
入射角θで入射し、ブラッグの式を満足する所定の波長
の蛍光X線B2のみが、入射角θと同一の回折角θで回
折される。回折された蛍光X線B2は、第2ソーラスリ
ット53を通過した後、検出器54に入射して検出され
る。この検出値に基づいて試料Sの元素分析がなされ
る。
射線)B1を出射して、フィルタFを介して試料Sの下
面の分析面S1に一次X線B1を照射する。前記試料S
の分析面S1に照射された1次X線B1は、試料Sの原
子を励起して、その元素固有の蛍光X線B2を発生させ
る。試料Sからの蛍光X線B2は、ダイヤフラムDを介
して第1ソーラスリット51を通過し、分光結晶52に
入射角θで入射し、ブラッグの式を満足する所定の波長
の蛍光X線B2のみが、入射角θと同一の回折角θで回
折される。回折された蛍光X線B2は、第2ソーラスリ
ット53を通過した後、検出器54に入射して検出され
る。この検出値に基づいて試料Sの元素分析がなされ
る。
【0020】(2)試料交換 試料Sの分析後、位置決め用昇降機構14により、ター
レット5を上昇させて、当該試料ホルダ3を分析上方位
置P3で停止させる。そして、この位置において、ター
レット回転機構16により、ターレット5を回転させ、
分析が終了した試料ホルダ3を待機上方位置P4で停止
させ、位置決め用昇降機構14により、ターレット5を
下降させて、待機位置P2にする。この間、待機位置P
2にあった別の新しい試料ホルダ3が待機位置P2、待
機上方位置P4、分析上方位置P3、分析位置P1と搬
送されて、分析位置P1で分析される。つぎに、前記分
析が終了した試料ホルダ3は外部に排出され、新しい試
料ホルダ3が搬入される。
レット5を上昇させて、当該試料ホルダ3を分析上方位
置P3で停止させる。そして、この位置において、ター
レット回転機構16により、ターレット5を回転させ、
分析が終了した試料ホルダ3を待機上方位置P4で停止
させ、位置決め用昇降機構14により、ターレット5を
下降させて、待機位置P2にする。この間、待機位置P
2にあった別の新しい試料ホルダ3が待機位置P2、待
機上方位置P4、分析上方位置P3、分析位置P1と搬
送されて、分析位置P1で分析される。つぎに、前記分
析が終了した試料ホルダ3は外部に排出され、新しい試
料ホルダ3が搬入される。
【0021】すなわち、待機位置P2にある分析が終了
した試料ホルダ3を第1の交換用昇降機構42の外軸4
1により上昇させて、ホルダ受け15の上面を予備排気
室7のシール面27に押し付けた交換待機位置P5に設
定し、予備排気室7とチャンバ2内をシールする。予備
排気室7が大気になった後に蓋8を開けて、第2の交換
用昇降機構44により内軸43を単独で上昇させて、試
料ホルダ3を予備排気室7の上方へ突出させる。予備排
気室7の上方において、試料ホルダ3は例えば自動試料
交換機により新しい試料ホルダ3と交換される。
した試料ホルダ3を第1の交換用昇降機構42の外軸4
1により上昇させて、ホルダ受け15の上面を予備排気
室7のシール面27に押し付けた交換待機位置P5に設
定し、予備排気室7とチャンバ2内をシールする。予備
排気室7が大気になった後に蓋8を開けて、第2の交換
用昇降機構44により内軸43を単独で上昇させて、試
料ホルダ3を予備排気室7の上方へ突出させる。予備排
気室7の上方において、試料ホルダ3は例えば自動試料
交換機により新しい試料ホルダ3と交換される。
【0022】その後、交換された新しい試料ホルダ3
を、第2の交換用昇降機構44の内軸43の下降により
待機交換位置P5の位置まで下降させて、蓋8を閉め
て、予備排気室7内を真空引きする。そして、第1の交
換用昇降機構42により外軸41を下降させて、待機位
置P2の位置とする。こうして、試料交換が終了する。
つぎに、位置決め用昇降機構14により、ターレット5
を待機上方位置P4の位置まで上昇させる。ターレット
回転機構16により、ターレット5を回転させ、新しい
試料ホルダ3を分析上方位置P3で停止させて、(1)
のスタート時に戻る。以下、(1)、(2)の動作を繰
り返す。
を、第2の交換用昇降機構44の内軸43の下降により
待機交換位置P5の位置まで下降させて、蓋8を閉め
て、予備排気室7内を真空引きする。そして、第1の交
換用昇降機構42により外軸41を下降させて、待機位
置P2の位置とする。こうして、試料交換が終了する。
つぎに、位置決め用昇降機構14により、ターレット5
を待機上方位置P4の位置まで上昇させる。ターレット
回転機構16により、ターレット5を回転させ、新しい
試料ホルダ3を分析上方位置P3で停止させて、(1)
のスタート時に戻る。以下、(1)、(2)の動作を繰
り返す。
【0023】なお、この実施形態では、本発明を波長分
散形蛍光X線分析装置に適用しているが、エネルギー分
散形蛍光X線分析装置に適用してもよい。
散形蛍光X線分析装置に適用しているが、エネルギー分
散形蛍光X線分析装置に適用してもよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
チャンバ壁に固定されたホルダ支持部の支持面で試料ホ
ルダの被支持面を支持することにより、ターレットの高
さにかかわらずに、試料の分析面の高さを確実に一定に
位置決めできるので、分析精度を向上することができ
る。
チャンバ壁に固定されたホルダ支持部の支持面で試料ホ
ルダの被支持面を支持することにより、ターレットの高
さにかかわらずに、試料の分析面の高さを確実に一定に
位置決めできるので、分析精度を向上することができ
る。
【図1】本発明の一実施形態に係る下面照射型蛍光X線
分析装置を示す概略縦断面図である。
分析装置を示す概略縦断面図である。
【図2】図1の分析位置における試料ホルダの部分拡大
図である。
図である。
2…チャンバ、3…試料ホルダ、4…被支持面、5…タ
ーレット、5a…ターレット支持軸、14…位置決め用
昇降機構、30…ホルダ支持部、39…支持面、S…試
料、S1…分析面。
ーレット、5a…ターレット支持軸、14…位置決め用
昇降機構、30…ホルダ支持部、39…支持面、S…試
料、S1…分析面。
Claims (1)
- 【請求項1】 チャンバ内に、試料を装着した試料ホル
ダを保持し、分析位置と待機位置に回転させるターレッ
トを有し、分析位置で試料の下面の分析面にX線を照射
して試料の分析を行う下面照射型蛍光X線分析装置であ
って、 前記チャンバ壁に固定されて、前記分析位置で試料ホル
ダにおける前記分析面と一定の高さ関係にある被支持面
に接触し、被支持面を一定の高さに支持する支持面をも
つホルダ支持部と、 前記ターレットに保持された試料ホルダを昇降させる位
置決め用昇降機構とを備え、 前記位置決め用昇降機構の昇降によって、前記試料ホル
ダの被支持面を前記ホルダ支持部の支持面に接触させ
て、ホルダ支持部の支持面で試料ホルダの被支持面を支
持することにより、試料の分析面の高さを一定に位置決
めする下面照射型蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000372267A JP2002174605A (ja) | 2000-12-07 | 2000-12-07 | 下面照射型蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000372267A JP2002174605A (ja) | 2000-12-07 | 2000-12-07 | 下面照射型蛍光x線分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002174605A true JP2002174605A (ja) | 2002-06-21 |
Family
ID=18841840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000372267A Pending JP2002174605A (ja) | 2000-12-07 | 2000-12-07 | 下面照射型蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002174605A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005207908A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
-
2000
- 2000-12-07 JP JP2000372267A patent/JP2002174605A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005207908A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040406 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040810 |