JP2002172650A - 反射防止部材の製造方法と反射防止部材用転写材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水分によって金属薄膜層が腐食したり透明窓
部分が白化したりすることがない反射防止部材の製造方
法と反射防止部材用転写材を提供する。 【解決手段】 基体シート１２上に紫外線硬化性樹脂か
らなる全面的な保護層６、金属薄膜層５を含む部分的な
図柄層３が少なくとも順に形成された転写材１１を、基
体シート１２がキャビティ面に接するように金型１０に
セットし、金型１０内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂
からなる透明基板１と転写材１１との一体化物を得、次
いで基体シート１２を剥離し、次いで保護層６上に酸素
遮蔽層１４を形成し、次いで紫外線照射を行って保護層
６を硬化させ、次いで酸素遮蔽層１４を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、携帯電話機、ビ
デオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディ
スプレイ部分のカバー部品などに用いることができる反
射防止部材の製造方法と反射防止部材用転写材に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】携帯電話機、ビデオカメラ、デジタルカ
メラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分
は、液晶パネルあるいは有機ＥＬパネルとの組み合わせ
などにより構成されている。ディスプレイ部分は、液晶
パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡大し
たり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的とし
て、成形した透明基板や縁取りなどの図柄が形成された
透明基板により構成されるカバー部品により覆われてい
る。

【０００３】カバー部品を製造する方法として、成形同
時転写法がある。成形同時転写法とは、基体シート上
に、保護層、図柄層、金属薄膜層、接着層などからなる
転写層を形成した転写材を金型内に挟み込み、金型内に
溶融樹脂を射出し、冷却して樹脂成形品を得るのと同時
に成形品表面に転写材を接着した後、基体シートを剥離
して、樹脂成形品表面に転写層を転移して装飾を行う方
法である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述のような
構成のカバー部品などの反射防止部材においては、金属
薄膜層が腐食するという問題があった。すなわち、カバ
ー部材の使用時に表側から空気中の水分が浸透すること
などにより金属薄膜層の腐食が生じると、その箇所の金
属光沢が失われ透明化してしまい、非常に見苦しいもの
になるという問題があった。

【０００５】また、透明窓部分に斑点状に白化する部分
が生じるという問題があった。すなわち、金属薄膜層を
部分的に形成する際に使用する溶剤可溶性樹脂層は、金
属薄膜層を全面的に形成した後に水洗工程によって除去
されるが、完全に除去されずにその残滓が存在した場
合、カバー部材の使用時に表側から空気中の水分が浸透
して膨張して微細な泡が生じたようになり、透明窓部分
において透過光が散乱して揮点のように見える白化した
部分が生じ、非常に見苦しいものになるという問題があ
った。

【０００６】したがって、この発明は、上記のような欠
点を解消し、水分によって金属薄膜層が腐食したり透明
窓部分が白化したりすることがない反射防止部材の製造
方法と反射防止部材用転写材を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明の反射防止部材
の製造方法と反射防止部材用転写材は、上記の目的を達
成するために、つぎのように構成した。

【０００８】すなわち、この発明の反射防止部材の製造
方法は、基体シート上に紫外線硬化性樹脂からなる全面
的な保護層、金属薄膜層を含む部分的な図柄層が少なく
とも順に形成された転写材を、基体シートがキャビティ
面に接するように金型にセットし、金型内に透明な溶融
樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との一体
化物を得、次いで基体シートを剥離し、次いで保護層上
に酸素遮蔽層を形成し、次いで紫外線照射を行って保護
層を硬化させ、次いで酸素遮蔽層を除去するように構成
した。

【０００９】また、基体シート上に全面的な酸素遮蔽
層、紫外線硬化性樹脂からなる全面的な保護層、金属薄
膜層を含む部分的な図柄層が少なくとも順に形成された
転写材を、基体シートがキャビティ面に接するように金
型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂
からなる透明基板と転写材との一体化物を得、次いで基
体シートを剥離し、次いで紫外線照射を行って保護層を
硬化させ、次いで酸素遮蔽層を除去するように構成し
た。

【００１０】上記の発明において、酸素遮蔽層がポリビ
ニルアルコールからなるように構成してもよい。

【００１１】また、上記の発明において、酸素遮蔽層を
除去した後に保護層上に低反射層を形成するように構成
してもよい。

【００１２】また、上記の発明において、低反射層を形
成した後に低反射層上に防汚層を形成するように構成し
てもよい。

【００１３】また、この発明の反射防止部材用転写材
は、基体シート上に全面的な酸素遮蔽層、紫外線硬化性
樹脂からなる全面的な保護層、金属薄膜層を含む部分的
な図柄層が少なくとも順に形成されるように構成した。

【００１４】

【発明の実施の形態】図面を参照しながらこの発明の実
施の形態について詳しく説明する。

【００１５】図１は、この発明の反射防止部材の製造方
法の一工程を示す断面図である。図２は、この発明の反
射防止部材の製造方法に用いる転写材の一実施例を示す
断面図である。図３〜４は、この発明の反射防止部材の
製造方法の一工程を示す断面図である。図５は、この発
明の反射防止部材の製造方法により得た反射防止部材の
一実施例を示す断面図である。図中、１は透明基板、２
は接着層、３は図柄層、４は印刷層、５は金属薄膜層、
６は保護層、７は低反射層、８は防汚層、９は反射防止
部材、１０は金型、１１は転写材、１２は基体シート、
１３は転写層、１４は酸素遮蔽層である。

【００１６】この発明の反射防止部材の製造方法は、基
体シート１２上に紫外線硬化性樹脂からなる全面的な保
護層６、金属薄膜層５を含む部分的な図柄層３が少なく
とも順に形成された転写材１１を、基体シート１２がキ
ャビティ面に接するように金型１０にセットし、金型１
０内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板
１と転写材１１との一体化物を得、次いで基体シート１
２を剥離し、次いで保護層６上に酸素遮蔽層１４を形成
し、次いで紫外線照射を行って保護層６を硬化させ、次
いで酸素遮蔽層１４を除去する方法である（図１〜５参
照）。

【００１７】転写材１１は、基体シート１２上に、全面
的な保護層６、金属薄膜層５を含む部分的な図柄層３な
どからなる転写層１３を設けたものである（図２参
照）。

【００１８】基体シート１２の材質としては、ポリプロ
ピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂などの樹脂シートなど、通常の転写材の基体
シートとして用いるものを使用することができる。

【００１９】基体シート１２からの転写層１３の剥離性
がよい場合には、基体シート１２上に転写層１３を直接
設ければよい。基体シート１２からの転写層１３の剥離
性を改善するためには、基体シート１２上に転写層１３
を設ける前に、離型層を全面的に形成してもよい。

【００２０】保護層６は、基体シート１２から転写層１
３を容易に剥離させるとともに、反射防止部材９の表面
強度を高めるための層である。保護層６の材質として
は、紫外線硬化性樹脂を用いる。保護層６の形成方法と
しては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコ
ート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印
刷法などの印刷法がある。

【００２１】図柄層３は、金属薄膜層５を含む部分的な
層である。また、印刷層４と併用されることもある。

【００２２】金属薄膜層５は、図柄層３として金属光沢
を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成す
る。表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、ニ
ッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウ
ム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合
金または化合物を使用する。金属薄膜層５を部分的に形
成するには、金属薄膜層５を必要としない部分に溶剤可
溶性樹脂層を形成した後、その上に全面的に金属薄膜を
形成し、溶剤洗浄を行って溶剤可溶性樹脂層と共に不要
な金属薄膜を除去する方法がある。この場合によく用い
る溶剤は、水または水溶液である。また、全面的に金属
薄膜を形成し、次に金属薄膜を残しておきたい部分にレ
ジスト層を形成し、酸またはアルカリでエッチングを行
い、レジスト層を除去する方法がある。また、金属薄膜
層５を設ける際に、他の層との密着性を向上させるため
に、前アンカー層や後アンカー層を設けてもよい。金属
薄膜層５は、反射防止部材９においては、通常、枠形状
に形成されたり、文字パターンとして形成されたりする
場合が多い。

【００２３】印刷層４の材質としては、ポリビニル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系
樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステ
ル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、
適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色
インキを用いるとよい。印刷層４の形成方法としては、
オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法
などの通常の印刷法などを用いるとよい。印刷層４は、
反射防止部材９においては、通常、中央の透明窓部分以
外の箇所となる透明基板１の周囲に枠形状に形成される
場合が多い。

【００２４】また、図柄層３と透明基板１との間の接着
性が乏しい場合には、透明基板１の上に上記の各層を接
着するために接着層２を形成するとよい。接着層２とし
ては、透明基板１の素材に適した感熱性あるいは感圧性
の樹脂を適宜使用する。たとえば、透明基板１の材質が
アクリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよ
い。また、透明基板１の材質がポリフェニレンオキシド
・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチ
レン共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場
合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すれば
よい。さらに、透明基板１の材質がポリプロピレン樹脂
の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン
−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデ
ン樹脂が使用可能である。接着層２の形成方法として
は、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート
法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法
などの印刷法がある。

【００２５】転写層１３の構成は、上記した態様に限定
されるものではなく、上記した層のほかに種々の機能を
有する層を形成することができる。

【００２６】次に、転写材１１を用い、成形同時転写法
を利用して被転写物である透明基板１の表面に装飾を行
う方法について説明する。

【００２７】まず、可動型と固定型とからなる成形用金
型１０内に転写材１１を送り込む（図１参照）。その
際、枚葉の転写材１１を１枚づつ送り込んでもよいし、
長尺の転写材１１の必要部分を間欠的に送り込んでもよ
い。長尺の転写材１１を使用する場合、位置決め機構を
有する送り装置を使用して、転写材１１の図柄層３と成
形用金型１０との見当が一致するようにするとよい。ま
た、転写材１１を間欠的に送り込む際に、転写材１１の
位置をセンサーで検出した後に転写材１１を可動型と固
定型とで固定するようにすれば、常に同じ位置で転写材
１１を固定することができ、図柄層３の位置ずれが生じ
ないので便利である。

【００２８】成形用金型１０を閉じた後、ゲートから溶
融樹脂を金型１０内に射出充満させ、被転写物を形成す
るのと同時にその面に転写材１１を接着させる。

【００２９】透明基板１に用いることができる樹脂とし
ては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、Ａ
ＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げる
ことができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリス
チレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセター
ル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリ
フェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポ
リエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂や、ポ
リスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、
ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、
ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエ
ステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエン
ジニアリング樹脂を使用することもできる。

【００３０】透明基板１の形状は、平板状のものであっ
ても、二次元あるいは三次元の曲面を有するものであっ
てもよい。

【００３１】被転写物である樹脂成形品を冷却した後、
成形用金型１０を開いて樹脂成形品を取り出す。最後
に、転写材１１の基体シート１２を剥離する（図３参
照）。このようにして、転写層１３のみを透明基板１の
表面に積層することができる。

【００３２】次いで、保護層６上に酸素遮蔽層１４を形
成する（図４参照）。本発明では、酸素遮蔽層１４を形
成することが重要である。すなわち、酸素遮蔽層１４を
設けることにより、紫外線硬化性樹脂からなる保護層６
に対して紫外線照射を行う際、酸素の存在により光架橋
反応が不十分となる酸素障害の発生を防止することがで
き、保護層６を確実に硬化させることができる。したが
って、保護層６を構成する紫外線硬化性樹脂は光架橋反
応が効率よく進行して緻密な構造となり、保護層６は外
部からの水分の進入に対するバリア層として有効に機能
するようになる。保護層６により覆われる金属薄膜層５
は、水分の浸透がなくなるため腐食することがなく、ま
た、透明窓部分においても水分の浸透がなくなるため白
化現象は生じなくなる。また、短時間の紫外線照射であ
っても保護層６の硬化が十分に促進されることから、紫
外線照射による発熱を抑えることができ、透明基板１の
反りの発生を防止することも可能となる。酸素遮蔽層１
４の材料としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）に
代表される水溶性樹脂であって、酸素の透過は遮蔽する
が紫外線の透過は遮蔽しないものを用いる。酸素遮蔽層
１４の形成方法としては、浸漬法などのコート法を用い
るとよい。

【００３３】また、酸素遮蔽層１４は、基体シート１２
上に全面的な酸素遮蔽層１４、紫外線硬化性樹脂からな
る全面的な保護層６、金属薄膜層５を含む部分的な図柄
層３が少なくとも順に形成された反射防止部材用転写材
を用いることにより形成することもできる。基体シート
１２上に酸素遮蔽層１４を形成するには、前記した酸素
遮蔽層１４の材料を用い、グラビアコート法、ロールコ
ート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷
法、スクリーン印刷法などの印刷法により形成するとよ
い。このような構成の反射防止部材用転写材を金型１０
にセットし、金型１０内に透明な溶融樹脂を射出して樹
脂からなる透明基板１と反射防止部材用転写材との一体
化物を得、次いで基体シート１２を剥離することによ
り、保護層６上に酸素遮蔽層１４を形成することができ
る（図４参照）。

【００３４】次いで、紫外線照射を行って保護層６を硬
化させる。一般的には、酸素遮蔽層１４の上から紫外線
照射を行う。紫外線照射量は、８００〜２０００ｍＪで
あるのが好ましい。紫外線の照射量を８００〜２０００
ｍＪとすることにより、保護層６が水分の透過を遮蔽す
る効果を高めることができる。８００ｍＪに満たない
と、保護層６の架橋が不十分となり必要とする硬度を得
ることができなくなる。また、２０００ｍＪを越える
と、保護層６の架橋が促進されて発生する内部歪みによ
り、保護層６が剥離するおそれが生じる。

【００３５】次いで、酸素遮蔽層１４を除去する。酸素
遮蔽層１４を除去するには、水洗により酸素遮蔽層１４
を溶解して除去するとよい。

【００３６】必要に応じて、低反射層７を保護層６の上
に全面的に形成する。低反射層７は、透明基板１の反射
を防止するための層である。また、低反射層７は保護層
６上だけでなく、透明基板１の裏面に形成してもよい。
透明基板１の両面に低反射層７を形成すると、反射防止
部材９の表面および裏面で反射防止作用が発揮されるこ
とになる。

【００３７】低反射層７に用いる低屈折材料としては、
フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属化合物を用
いることができる。また、シリカあるいはオルガノポリ
シロキサンの少なくとも１種を含む有機金属化合物を用
いることもできる。また、これらの有機金属化合物の多
孔体を用いることもできる。また、フッ素系合成樹脂な
どの有機化合物を用いることも可能である。

【００３８】低反射層７の構成としては、微細孔を有す
る酸化ケイ素あるいは酸化アルミウムを酸化ケイ素に分
散し単層として使用したり、フッ化マグネシウムを単層
として用いるほか、酸化チタン層／酸化ケイ素層の２層
構成の低反射層７として使用したり、酸化チタン層／酸
化ケイ素層／酸化チタン層／酸化ケイ素層のように４層
構成の低反射層７など多重干渉を利用した多層構成の低
反射層７としてもよい。

【００３９】低反射層７は、単層あるいは複数の層のい
ずれから構成される場合であっても、防汚層８に接する
層が金属化合物のうち特に金属酸化物から構成されるの
が好ましい。金属酸化物はシラン化合物からなる防汚層
８との接着性に優れるからである。

【００４０】低反射層７の製造方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが
ある。あるいは金属アルコラート、金属キレートなどの
有機金属化合物を浸積法あるいは印刷法、コーティング
法などにより透明基板１上に塗布し、その後、光照射あ
るいは乾燥により金属酸化物皮膜を形成して低反射層７
を得る方法もある。なお、低反射層７の形成工程の前処
理として行う洗浄作業は、酸素遮蔽層１４の除去工程で
行う洗浄作業で兼用させることも可能である。

【００４１】低反射層７の厚さは、０．０１〜２μｍの
範囲で適宜選択するとよい。これらの膜厚は、低屈折材
料の屈折率により、一般式ｎ×ｄ＝λ／４または一般式
ｎ×ｄ＝３λ／４（ただし、ｎは低屈折材料の屈折率、
ｄは低屈折材料の膜厚、λは低反射中心波長をそれぞれ
示す）を満たすように適宜選択するとよい。ただし、単
層にて使用する場合は、その屈折率は透明基板１の屈折
率より小さいものとする。

【００４２】また、必要に応じて低反射層７上に防汚層
８を形成してもよい。防汚層８は低反射層７が汚れるの
を防いで、低反射層７の機能が損なわれるのを防止する
ための層である。防汚層８としては、フッ素系シラン化
合物などのシラン化合物や、フラクタル構造を有する酸
化ケイ素などの金属酸化物などからなる撥水性および撥
油性に優れた皮膜を形成すればよい。

【００４３】以上のようにして、水分によって金属薄膜
層５が腐食したり透明窓部分が白化したりすることがな
い反射防止部材９を得ることができる（図５参照）。

【００４４】

【実施例】（実施例１） ポリエチレンテレフタレート
フィルムを基体シートとし、その片面にエポキシ系紫外
線硬化樹脂からなる保護層を全面的にグラビア印刷法に
より形成し、その上にアクリル系樹脂からなる印刷層を
携帯電話機のディスプレイ部分の枠形状にグラビア印刷
法で形成し、次いで印刷層の枠部分の内周を縁取る形状
にアルミニウムからなる金属薄膜層を真空蒸着法で形成
し、次いでアクリル系樹脂からなる接着層を全面的にグ
ラビア印刷法で形成して転写材を得た。

【００４５】また、携帯電話機のディスプレイ部分のカ
バー部品を成形する成形用金型を用意した。

【００４６】転写材の基体シート側が金型の凹部に接す
るように転写材を載置し、その後溶融したアクリル樹脂
を金型内に射出し、透明基板の成形と同時に透明基板と
転写材を一体化し、次いで金型内から成形品を取り出し
て基体シートを剥離し、透明基板の周囲に印刷層による
枠部分と、枠部分の内周を縁取る形状の金属薄膜層とか
らなる図柄層を有する成形品を得た。

【００４７】次いで、成形品の全面にＰＶＡからなる厚
さ１．５μｍの酸素遮蔽層を浸漬法により形成した。さ
らに８０℃、１０分間乾燥後、紫外線照射として、８０
ｗ／ｃｍ^２の高圧水銀灯１灯で２秒間紫外線照射を施し
て保護層を硬化させた。

【００４８】続いて、成形品の周囲形状と一致する穴部
を有する治具に成形品をはめ込んで、成形品の周囲のみ
を保持して固定し、透明基板の裏面全面に、真空蒸着装
置にて二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素、二酸化
チタン、二酸化珪素の順序で所定の厚みになるように電
子線蒸着を行って低反射層を形成した。続いて冶具を反
転させ、透明基板の表側全面に位置する保護層上に同様
にして複数の層からなる低反射層を形成した。

【００４９】引き続き、シラン化合物としてフッ素系シ
ランのパーフルオロヘキサン溶液を蒸着槽内の蒸発皿に
滴下し、所定の加熱条件にて蒸着して表側の低反射層上
に全面的に防汚層を形成した。

【００５０】このようにして得た携帯電話機のディスプ
レイ部分のカバー部品である反射防止部材を、温度６０
℃、相対湿度９０ＲＨ％の加湿雰囲気下に２４０時間放
置して加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分に水分
による腐食は観察されず、図柄の変化はまったく生じな
かった。また、透明窓部分にも白化現象は発生しなかっ
た。

【００５１】（実施例２） 実施例１と同様の基体シー
トを用い、その上に、ＰＶＡ水溶液を塗布して厚さ１．
５μｍの膜厚の酸素遮蔽層を形成した。さらに、実施例
１と同様にして、保護層、印刷層、金属薄膜層、接着層
を形成して反射防止部材用転写材を得た。その後、反射
防止部材用転写材を用いて実施例１と同様にして、反射
防止部材を得た。

【００５２】このようにして得た反射防止部材を、実施
例１と同様の加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分
に水分による腐食は観察されず、図柄の変化はまったく
生じなかった。また、透明窓部分にも白化現象は発生し
なかった。

【００５３】（比較例） 比較例として、酸素遮蔽層を
形成しなかったこと以外はすべて実施例１と同様にして
反射防止部材を得た。

【００５４】このようにして得た反射防止部材の実施例
１と同様の加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分の
一部に腐食が発生し、その部分が透明になって金属光沢
が失われた状態となった。さらに、透明窓部分には白化
現象が発生し、透過光により無数の揮点が観察される状
態となった。

【００５５】

【発明の効果】この発明は、以上のような構成を採るの
で、以下のような効果を奏する。

【００５６】この発明の反射防止部材の製造方法は、基
体シート上に紫外線硬化性樹脂からなる全面的な保護
層、金属薄膜層を含む部分的な図柄層が少なくとも順に
形成された転写材を、基体シートがキャビティ面に接す
るように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射
出して樹脂からなる透明基板と転写材との一体化物を
得、次いで基体シートを剥離し、次いで保護層上に酸素
遮蔽層を形成し、次いで紫外線照射を行って保護層を硬
化させ、次いで酸素遮蔽層を除去するか、あるいは、基
体シート上に全面的な酸素遮蔽層、紫外線硬化性樹脂か
らなる全面的な保護層、金属薄膜層を含む部分的な図柄
層が少なくとも順に形成された転写材を、基体シートが
キャビティ面に接するように金型にセットし、金型内に
透明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写
材との一体化物を得、次いで基体シートを剥離し、次い
で紫外線照射を行って保護層を硬化させ、次いで酸素遮
蔽層を除去するように構成したので、水分によって金属
薄膜層が腐食したり透明窓部分が白化したりすることが
ない反射防止部材を容易に得ることができる。

【００５７】また、この発明の反射防止部材用転写材
は、基体シート上に全面的な酸素遮蔽層、紫外線硬化性
樹脂からなる全面的な保護層、金属薄膜層を含む部分的
な図柄層が少なくとも順に形成するように構成したの
で、この反射防止部材用転写材を用いることにより、水
分によって金属薄膜層が腐食したり透明窓部分が白化し
たりすることがない反射防止部材を容易に得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の反射防止部材の製造方法の一工程を
示す断面図である。

【図２】この発明の反射防止部材の製造方法に用いる転
写材の一実施例を示す断面図である。

【図３】この発明の反射防止部材の製造方法の一工程を
示す断面図である。

【図４】この発明の反射防止部材の製造方法の一工程を
示す断面図である。

【図５】この発明の反射防止部材の製造方法により得た
反射防止部材の一実施例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 透明基板 ２ 接着層 ３ 図柄層 ４ 印刷層 ５ 金属薄膜層 ６ 保護層 ７ 低反射層 ８ 防汚層 ９ 反射防止部材 １０ 金型 １１ 転写材 １２ 基体シート １３ 転写層 １４ 酸素遮蔽層

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体シート上に紫外線硬化性樹脂からな
   る全面的な保護層、金属薄膜層を含む部分的な図柄層が
   少なくとも順に形成された転写材を、基体シートがキャ
   ビティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明
   な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写材と
   の一体化物を得、次いで基体シートを剥離し、次いで保
   護層上に酸素遮蔽層を形成し、次いで紫外線照射を行っ
   て保護層を硬化させ、次いで酸素遮蔽層を除去すること
   を特徴とする反射防止部材の製造方法。
2. 【請求項２】 基体シート上に全面的な酸素遮蔽層、紫
   外線硬化性樹脂からなる全面的な保護層、金属薄膜層を
   含む部分的な図柄層が少なくとも順に形成された転写材
   を、基体シートがキャビティ面に接するように金型にセ
   ットし、金型内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂からな
   る透明基板と転写材との一体化物を得、次いで基体シー
   トを剥離し、次いで紫外線照射を行って保護層を硬化さ
   せ、次いで酸素遮蔽層を除去することを特徴とする反射
   防止部材の製造方法。
3. 【請求項３】 酸素遮蔽層がポリビニルアルコールから
   なるものである請求項１〜２のいずれかに記載の反射防
   止部材の製造方法。
4. 【請求項４】 酸素遮蔽層を除去した後に保護層上に低
   反射層を形成する請求項１〜３のいずれかに記載の反射
   防止部材の製造方法。
5. 【請求項５】 低反射層を形成した後に低反射層上に防
   汚層を形成する請求項４記載の反射防止部材の製造方
   法。
6. 【請求項６】 基体シート上に全面的な酸素遮蔽層、紫
   外線硬化性樹脂からなる全面的な保護層、金属薄膜層を
   含む部分的な図柄層が少なくとも順に形成されたことを
   特徴とする反射防止部材用転写材。