JP2002160262A

JP2002160262A - 反射防止部材の製造方法

Info

Publication number: JP2002160262A
Application number: JP2000360396A
Authority: JP
Inventors: Ryomei Men; 了明面
Original assignee: Nissha Printing Co Ltd
Current assignee: Nissha Printing Co Ltd
Priority date: 2000-11-28
Filing date: 2000-11-28
Publication date: 2002-06-04

Abstract

(57)【要約】【課題】水分によって金属薄膜層が腐食したり、透明
窓部分が白化したりすることがない反射防止部材の製造
方法を提供する。【解決手段】基体シート１２上に紫外線硬化性樹脂か
らなる全面的な保護層６と、金属薄膜層５を含む部分的
な図柄層３とが少なくとも順に形成された転写材１１
を、基体シート１２がキャビティ面に接するように金型
１０にセットし、金型１０内に透明な溶融樹脂を射出し
て樹脂からなる透明基板１と転写材１１との一体化物を
得、次いで基体シート１２を剥離すると共に基体シート
１２の剥離後１０分以内に保護層６に対して紫外線照射
を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、携帯電話機、ビ
デオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディ
スプレイ部分のカバー部品などに用いることができる反
射防止部材の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】携帯電話機、ビデオカメラ、デジタルカ
メラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分
は、液晶パネルあるいは有機ＥＬパネルとの組み合わせ
などにより構成されている。ディスプレイ部分は、液晶
パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡大し
たり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的とし
て、成形した透明基板や縁取りなどの図柄が形成された
透明基板により構成されるカバー部品により覆われてい
る。

【０００３】カバー部品を製造する方法として、成形同
時転写法がある。成形同時転写法とは、基体シート上
に、保護層、金属薄膜層、接着層などからなる転写層を
形成した転写材を金型内に挟み込み、金型内に溶融樹脂
を射出し、冷却して樹脂成形品を得るのと同時に成形品
表面に転写材を接着した後、基体シートを剥離して、樹
脂成形品表面に転写層を転移して装飾を行う方法であ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述のような
構成のカバー部品などの反射防止部材においては、金属
薄膜層が腐食するという問題があった。すなわち、カバ
ー部材の使用時に表側から空気中の水分が浸透すること
などにより金属薄膜層の腐食が生じると、その箇所の金
属光沢が失われて透明化してしまい、非常に見苦しいも
のになるという問題があった。

【０００５】また、透明窓部分に斑点状に白化する部分
が生じるという問題があった。すなわち、金属薄膜層を
部分的に形成する際に使用する溶剤可溶性塗料層は、金
属薄膜層を全面的に形成した後に水洗工程によって除去
されるが、完全に除去されずにその残滓が存在した場
合、カバー部材の使用時に表側から空気中の水分が浸透
して膨張し、泡が生じたようになってしまい、透明窓部
分において非常に見苦しいものになるという問題があっ
た。

【０００６】したがって、この発明は、上記のような欠
点を解消し、水分によって金属薄膜層が腐食したり、透
明窓部分が白化したりすることがない反射防止部材の製
造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明の反射防止部材
の製造方法は、上記の目的を達成するために、つぎのよ
うに構成した。

【０００８】すなわち、この発明の反射防止部材の製造
方法は、基体シート上に紫外線硬化性樹脂からなる全面
的な保護層と、金属薄膜層を含む部分的な図柄層とが少
なくとも順に形成された転写材を、基体シートがキャビ
ティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明な
溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との
一体化物を得、次いで基体シートを剥離すると共に基体
シートの剥離後１０分以内に保護層に対して紫外線照射
を行うように構成した。

【０００９】また、基体シート上に紫外線硬化性樹脂か
らなる全面的な保護層と、金属薄膜層を含む部分的な図
柄層とが少なくとも順に形成された転写材を、基体シー
トがキャビティ面に接するように金型にセットし、金型
内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と
転写材との一体化物を得、次いで基体シートを剥離する
と共に相対湿度６０ＲＨ％以下に維持した雰囲気下にお
いて基体シートの剥離後６０分以内に保護層に対して紫
外線照射を行うように構成した。

【００１０】上記の発明において、紫外線照射量が８０
０〜２０００ｍＪであるように構成してもよい。

【００１１】また、上記の発明において、紫外線照射を
行った後に保護層上に低反射層を形成するように構成し
てもよい。

【００１２】また、上記の発明において、低反射層を形
成した後に低反射層上に防汚層を形成するように構成し
てもよい。

【００１３】

【発明の実施の形態】図面を参照しながらこの発明の実
施の形態について詳しく説明する。

【００１４】図１は、この発明の反射防止部材の一実施
例を示す断面図である。図２は、この発明の反射防止部
材の製造方法に用いる転写材の一実施例を示す断面図で
ある。図３〜４は、この発明の反射防止部材の製造方法
の一工程を示す断面図である。図中、１は透明基板、２
は接着層、３は図柄層、４は印刷層、５は金属薄膜層、
６は保護層、７は低反射層、８は防汚層、９は反射防止
部材、１０は金型、１１は転写材、１２は基体シート、
１３は転写層である。

【００１５】この発明の反射防止部材９の製造方法は、
基体シート１２上に紫外線硬化性樹脂からなる全面的な
保護層６と、金属薄膜層５を含む部分的な図柄層３とが
少なくとも順に形成された転写材１１を、基体シート１
２がキャビティ面に接するように金型１０にセットし、
金型１０内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透
明基板１と転写材１１との一体化物を得、次いで基体シ
ート１２を剥離すると共に基体シート１２の剥離後１０
分以内に保護層６に対して紫外線照射を行う方法である
（図１〜４参照）。

【００１６】転写材１１は、基体シート１２上に、全面
的な保護層６、金属薄膜層５を含む部分的な図柄層３な
どからなる転写層１３を設けたものである（図２参
照）。

【００１７】基体シート１２の材質としては、ポリプロ
ピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂などの樹脂シートなど、通常の転写材の基体
シートとして用いるものを使用することができる。

【００１８】基体シート１２からの転写層１３の剥離性
がよい場合には、基体シート１２上に転写層１３を直接
設ければよい。基体シート１２からの転写層１３の剥離
性を改善するためには、基体シート１２上に転写層１３
を設ける前に、離型層を全面的に形成してもよい。

【００１９】保護層６は、基体シート１２から転写層１
３を容易に剥離させるとともに、反射防止部材９の表面
強度を高めるための層である。保護層６の材質として
は、紫外線硬化性樹脂を用いる。保護層６の形成方法と
しては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコ
ート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印
刷法などの印刷法がある。

【００２０】図柄層３は、金属薄膜層５を含む層であ
る。金属薄膜層５は、図柄層３として金属光沢を表現す
るためのものであり、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法、鍍金法などで形成する。表現
したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、ニッケル、
金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウム、銀、チ
タニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合金または化
合物を使用する。金属薄膜層５を部分的に形成するに
は、金属薄膜層５を必要としない部分に溶剤可溶性塗料
層を形成した後、その上に全面的に金属薄膜を形成し、
溶剤洗浄を行って溶剤可溶性塗料層と共に不要な金属薄
膜を除去する方法がある。この場合によく用いる溶剤
は、水または水溶液である。また、全面的に金属薄膜を
形成し、次に金属薄膜を残しておきたい部分にレジスト
層を形成し、酸またはアルカリでエッチングを行い、レ
ジスト層を除去する方法がある。また、金属薄膜層５を
設ける際に、他の層との密着性を向上させるために、前
アンカー層や後アンカー層を設けてもよい。金属薄膜層
５は、反射防止部材９においては、通常、枠形状に形成
されたり、文字パターンとして形成されたりする場合が
多い。

【００２１】図柄層３は、金属薄膜層５と印刷層４とか
らなる層であってもよい。印刷層４の材質としては、ポ
リビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニル
アセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セル
ロースエステル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバイ
ンダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として
含有する着色インキを用いるとよい。印刷層４の形成方
法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スク
リーン印刷法などの通常の印刷法などを用いるとよい。
印刷層４は、反射防止部材９においては、通常、中央の
透明窓部分以外の箇所となる透明基板１の周囲に枠形状
に形成される場合が多い。

【００２２】また、透明基板１の上に上記の各層を接着
するために接着層２を形成するとよい。接着層２として
は、透明基板１の素材に適した感熱性あるいは感圧性の
樹脂を適宜使用する。たとえば、透明基板１の材質がア
クリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。
また、透明基板１の材質がポリフェニレンオキシド・ポ
リスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン
共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合
は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリ
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよ
い。さらに、透明基板１の材質がポリプロピレン樹脂の
場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−
酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン
樹脂が使用可能である。接着層２の形成方法としては、
グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法な
どのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など
の印刷法がある。

【００２３】転写層１３の構成は、上記した態様に限定
されるものではなく、上記した層のほかに種々の機能を
有する層を形成することができる。

【００２４】次に、転写材１１を用い、成形同時転写法
を利用して被転写物である透明基板１の表面に装飾を行
う方法について説明する。

【００２５】まず、可動型と固定型とからなる成形用金
型１０内に転写材１１を送り込む（図３参照）。その
際、枚葉の転写材１１を１枚づつ送り込んでもよいし、
長尺の転写材１１の必要部分を間欠的に送り込んでもよ
い。長尺の転写材１１を使用する場合、位置決め機構を
有する送り装置を使用して、転写材１１の図柄層３と成
形用金型１０との見当が一致するようにするとよい。ま
た、転写材１１を間欠的に送り込む際に、転写材１１の
位置をセンサーで検出した後に転写材１１を可動型と固
定型とで固定するようにすれば、常に同じ位置で転写材
１１を固定することができ、図柄層３の位置ずれが生じ
ないので便利である。

【００２６】成形用金型１０を閉じた後、ゲートから溶
融樹脂を金型１０内に射出充満させ、被転写物を形成す
るのと同時にその面に転写材１１を接着させる。

【００２７】透明基板１に用いることができる樹脂とし
ては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、Ａ
ＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げる
ことができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリス
チレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセター
ル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリ
フェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポ
リエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂や、ポ
リスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、
ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、
ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエ
ステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエン
ジニアリング樹脂を使用することもできる。

【００２８】透明基板１の形状は、平板状のものであっ
ても、二次元あるいは三次元の曲面を有するものであっ
てもよい。

【００２９】被転写物である透明基板１を冷却した後、
成形用金型１０を開いて透明基板１と転写材１１との一
体化物を取り出す。

【００３０】次いで、基体シート１２を剥離すると共に
基体シート１２の剥離後１０分以内に保護層６に対して
紫外線照射を行う（図４参照）。転写材１１の基体シー
ト１２を剥離することにより、転写層１３のみを透明基
板１上に転移することができる。また、紫外線照射を行
うことにより保護層６を硬化させることができる。本発
明では、紫外線照射を行う時期が重要である。すなわ
ち、基体シート１２の剥離後、そのままの状態で大気中
に長時間にわたって放置した場合、成形品表面における
水分吸着が著しく、金属薄膜層５へ大きな影響を及ぼす
ことになる。したがって、基体シート１２の剥離後、で
きるだけ速やかに紫外線照射を行うこと、すなわち、基
体シート１２の剥離後１０分以内に紫外線照射を行うこ
とが必要である。このように、基体シート１２の剥離
後、速やかに紫外線照射を行うことによって成形品に水
分が吸着する以前に保護層６を架橋させることになるの
で、保護層６が水分の透過を遮蔽する効果を発揮し、金
属薄膜層５への影響を最小限に抑えることができる。ま
た、相対湿度６０ＲＨ％以下に維持した低湿度雰囲気下
において、紫外線照射を行うと、成形品に水分が吸着す
るのをより防止することができるため、紫外線照射を基
体シート１２の剥離後６０分以内に行うことにより、同
様の効果を得ることができる。

【００３１】紫外線照射量は、８００〜２０００ｍＪで
あるのが好ましい。紫外線の照射量を８００〜２０００
ｍＪとすることにより、保護層６が水分の透過を遮蔽す
る効果を高めることができ、確実に金属薄膜層５の腐食
を防止することができる。８００ｍＪに満たないと、保
護層６の架橋が不十分となり必要とする硬度を得ること
ができなくなる。また、２０００ｍＪを越えると、保護
層６の架橋が促進されて発生する内部歪みにより、保護
層６が剥離するおそれが生じる。

【００３２】必要に応じて、低反射層７を保護層６の上
に全面的に形成する。低反射層７は、透明基板１の反射
を防止するための層である。また、低反射層７は保護層
６上だけでなく、透明基板１の裏面に形成してもよい。
透明基板１の両面に低反射層７を形成すると、反射防止
部材９の表面および裏面で反射防止作用が発揮されるこ
とになる。

【００３３】低反射層７に用いる低屈折材料としては、
フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属化合物を用
いることができる。また、シリカあるいはオルガノポリ
シロキサンの少なくとも１種を含む有機金属化合物を用
いることもできる。また、これらの有機金属化合物の多
孔体を用いることもできる。また、フッ素系合成樹脂な
どの有機化合物を用いることも可能である。

【００３４】低反射層７の構成としては、微細孔を有す
る酸化ケイ素あるいは酸化アルミウムを酸化ケイ素に分
散し単層として使用したり、フッ化マグネシウムを単層
として用いるほか、酸化チタン層／酸化ケイ素層の２層
構成の低反射層７として使用したり、酸化チタン層／酸
化ケイ素層／酸化チタン層／酸化ケイ素層のように４層
構成の低反射層７など多重干渉を利用した多層構成の低
反射層７としてもよい。

【００３５】低反射層７は、単層あるいは複数の層のい
ずれから構成される場合であっても、防汚層８に接する
層が金属化合物のうち特に金属酸化物から構成されるの
が好ましい。金属酸化物はシラン化合物からなる防汚層
８との接着性に優れるからである。

【００３６】低反射層７の製造方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが
ある。あるいは金属アルコラート、金属キレートなどの
有機金属化合物を浸積法あるいは印刷法、コーティング
法などにより透明基板１上に塗布し、その後、光照射あ
るいは乾燥により金属酸化物皮膜を形成して低反射層７
を得る方法もある。

【００３７】低反射層７の厚さは、０．０１〜２μｍの
範囲で適宜選択するとよい。これらの膜厚は、低屈折材
料の屈折率により、一般式ｎ×ｄ＝λ／４または一般式
ｎ×ｄ＝３λ／４（ただし、ｎは低屈折材料の屈折率、
ｄは低屈折材料の膜厚、λは低反射中心波長をそれぞれ
示す）を満たすように適宜選択するとよい。ただし、単
層にて使用する場合は、その屈折率は透明基板１の屈折
率より小さいものとする。

【００３８】また、必要に応じて低反射層７上に防汚層
８を形成してもよい。防汚層８は低反射層７が汚れるの
を防いで、低反射層７の機能が損なわれるのを防止する
ための層である。防汚層８としては、フッ素系シラン化
合物などのシラン化合物や、フラクタル構造を有する酸
化ケイ素などの金属酸化物などからなる撥水性および撥
油性に優れた皮膜を形成すればよい。

【００３９】以上のようにして、水分によって金属薄膜
層５が腐食したり透明窓部分が白化したりすることがな
い反射防止部材９を得ることができる（図１参照）。

【００４０】

【実施例】（実施例１）ポリエチレンテレフタレート
フィルムを基体シートとし、その片面にエポキシ系紫外
線硬化樹脂からなる保護層を全面的にグラビア印刷法に
より形成し、その上にアクリル系樹脂からなる印刷層を
携帯電話機のディスプレイ部分の枠形状にグラビア印刷
法で形成し、次いで印刷層の枠部分の内周を縁取る形状
にアルミニウムからなる金属薄膜層を真空蒸着法で形成
し、次いでアクリル系樹脂からなる接着層を全面的にグ
ラビア印刷法で形成して転写材を得た。

【００４１】また、携帯電話機のディスプレイ部分のカ
バー部品を成形する成形用金型を用意した。

【００４２】転写材の基体シート側が金型の凹部に接す
るように転写材を載置し、その後溶融したアクリル樹脂
を金型内に射出し、透明基板の成形と同時に透明基板と
転写材を一体化し、次いで金型内から成形品を取り出し
て基体シートを剥離し、透明基板の周囲に印刷層による
枠部分と、枠部分の内周を縁取る形状の金属薄膜層とか
らなる図柄層を有する成形品を得た。

【００４３】次いで、基体シートを剥離して５分後に紫
外線照射を行って保護層を硬化させた。紫外線照射は、
８０ｗ／ｃｍ^２の高圧水銀灯１灯で照射エネルギーが１
５００ｍＪとなるようにした。また、基体シートの剥離
後、紫外線照射を行うまでの雰囲気は、温度２５±３
℃、相対湿度７０ＲＨ％であった。

【００４４】続いて、成形品の周囲形状と一致する穴部
を有する治具に成形品をはめ込んで、成形品の周囲のみ
を保持して固定し、透明基板の裏面全面に、真空蒸着装
置にて二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素、二酸化
チタン、二酸化珪素の順序で所定の厚みになるように電
子線蒸着を行って低反射層を形成した。続いて冶具を反
転させ、透明基板の表側全面に位置する保護層上に同様
にして複数の層からなる低反射層を形成した。

【００４５】引き続き、シラン化合物としてフッ素系シ
ランのパーフルオロヘキサン溶液を蒸着槽内の蒸発皿に
滴下し、所定の加熱条件にて蒸着して表側の低反射層上
に全面的に防汚層を形成した。

【００４６】このようにして得た携帯電話機のディスプ
レイ部分のカバー部品である反射防止部材を、温度６０
℃、相対湿度９０ＲＨ％の加湿雰囲気下に２４０時間放
置して加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分に水分
による腐食は観察されず、図柄の変化はまったく生じな
かった。

【００４７】（比較例１）比較例として、紫外線照射
を、基体シートを剥離して１２０分放置した後に行った
こと以外はすべて実施例１と同様にして反射防止部材を
得た。

【００４８】このようにして得た反射防止部材の実施例
１と同様の加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分の
一部に腐食が発生し、その部分が透明になって金属光沢
が失われた状態となった。

【００４９】（実施例２）実施例１と同様の転写材と
金型を用い、実施例１と同様にして透明基板の成形と同
時に透明基板と転写材を一体化し、次いで金型内から成
形品を取り出して基体シートを剥離して成形品を得た。

【００５０】基体シートの剥離後、次いで、基体シート
を剥離して３０分後に紫外線照射を行って保護層を硬化
させた。紫外線照射は、８０ｗ／ｃｍ^２の高圧水銀灯１
灯で照射エネルギーが１５００ｍＪとなるようにした。
また、基体シートの剥離後、紫外線照射を行うまでの雰
囲気は、温度２５±３℃、相対湿度５５ＲＨ％であっ
た。

【００５１】続いて、成形品の周囲形状と一致する穴部
を有する治具に成形品をはめ込んで、成形品の周囲のみ
を保持して固定し、透明基板の裏面全面に、真空蒸着装
置にて二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素、二酸化
チタン、二酸化珪素の順序で所定の厚みになるように電
子線蒸着を行って低反射層を形成した。続いて冶具を反
転させ、透明基板の表側全面に位置する保護層上に同様
にして複数の層からなる低反射層を形成した。

【００５２】引き続き、シラン化合物としてフッ素系シ
ランのパーフルオロヘキサン溶液を蒸着槽内の蒸発皿に
滴下し、所定の加熱条件にて蒸着して表側の低反射層上
に全面的に防汚層を形成した。

【００５３】このようにして得た携帯電話機のディスプ
レイ部分のカバー部品である反射防止部材を、温度６０
℃、相対湿度９０ＲＨ％の加湿雰囲気下に２４０時間放
置して加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分に水分
による腐食は観察されず、図柄の変化はまったく生じな
かった。

【００５４】（比較例２）比較例として、紫外線照射
を、基体シートを剥離した後、相対湿度７５ＲＨ％の雰
囲気下に３０分放置した後に行ったこと以外はすべて実
施例２と同様にして反射防止部材を得た。

【００５５】このようにして得た反射防止部材の実施例
１と同様の加湿試験を行ったところ、金属薄膜層部分の
一部に腐食が発生し、その部分が透明になって金属光沢
が失われた状態となった。

【００５６】

【発明の効果】この発明は、以上のような構成を採るの
で、以下のような効果を奏する。

【００５７】すなわち、この発明の反射防止部材の製造
方法は、基体シート上に紫外線硬化性樹脂からなる全面
的な保護層と、金属薄膜層を含む部分的な図柄層とが少
なくとも順に形成された転写材を、基体シートがキャビ
ティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明な
溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との
一体化物を得、次いで基体シートを剥離すると共に基体
シートの剥離後１０分以内に保護層に対して紫外線照射
を行うか、あるいは、基体シートを剥離すると共に相対
湿度６０ＲＨ％以下に維持した雰囲気下において基体シ
ートの剥離後６０分以内に保護層に対して紫外線照射を
行うように構成したので、水分によって金属薄膜層が腐
食したり、透明窓部分が白化したりすることがない反射
防止部材を容易に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の反射防止部材の一実施例を示す断面
図である。

【図２】この発明の反射防止部材の製造方法に用いる転
写材の一実施例を示す断面図である。

【図３】この発明の反射防止部材の製造方法の一工程を
示す断面図である。

【図４】この発明の反射防止部材の製造方法の一工程を
示す断面図である。

【符号の説明】

１透明基板２接着層３図柄層４印刷層５金属薄膜層６保護層７低反射層８防汚層９反射防止部材１０金型１１転写材１２基体シート１３転写層

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２９Ｌ 9:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基体シート上に紫外線硬化性樹脂からな
る全面的な保護層と、金属薄膜層を含む部分的な図柄層
とが少なくとも順に形成された転写材を、基体シートが
キャビティ面に接するように金型にセットし、金型内に
透明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写
材との一体化物を得、次いで基体シートを剥離すると共
に基体シートの剥離後１０分以内に保護層に対して紫外
線照射を行うことを特徴とする反射防止部材の製造方
法。
【請求項２】基体シート上に紫外線硬化性樹脂からな
る全面的な保護層と、金属薄膜層を含む部分的な図柄層
とが少なくとも順に形成された転写材を、基体シートが
キャビティ面に接するように金型にセットし、金型内に
透明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写
材との一体化物を得、次いで基体シートを剥離すると共
に相対湿度６０ＲＨ％以下に維持した雰囲気下において
基体シートの剥離後６０分以内に保護層に対して紫外線
照射を行うことを特徴とする反射防止部材の製造方法。
【請求項３】紫外線照射量が８００〜２０００ｍＪで
ある請求項１〜２のいずれかに記載の反射防止部材の製
造方法。
【請求項４】紫外線照射を行った後に保護層上に低反
射層を形成する請求項１〜３のいずれかに記載の反射防
止部材の製造方法。
【請求項５】低反射層を形成した後に低反射層上に防
汚層を形成する請求項４記載の反射防止部材の製造方
法。