JP2002166127A - Ｎｆ３ガスの除害方法 - Google Patents
Ｎｆ３ガスの除害方法Info
- Publication number
- JP2002166127A JP2002166127A JP2000368826A JP2000368826A JP2002166127A JP 2002166127 A JP2002166127 A JP 2002166127A JP 2000368826 A JP2000368826 A JP 2000368826A JP 2000368826 A JP2000368826 A JP 2000368826A JP 2002166127 A JP2002166127 A JP 2002166127A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- spray
- scrubber
- wet
- spray type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＮＦ3ガスを容易にかつ効率よく、また安価
に除害する方法を提供する。 【解決手段】 ＮＦ3ガスの除害において、ＮＦ3ガスを
含むガスを加熱した固体金属と接触反応させ、該反応生
成物をスプレー式スクラバーで除害するに際し、スプレ
ー式スクラバーのガス入口側に、ガスフィルターを設置
し、かつスプレー式スクラバーの内部にメッシュプレー
トを設置し、スプレー式スクラバーのガス入口に濡れ壁
を使用する。さらに濡れ壁用のスプレーノズルに不活性
ガスを吹き付ける構造とする。
に除害する方法を提供する。 【解決手段】 ＮＦ3ガスの除害において、ＮＦ3ガスを
含むガスを加熱した固体金属と接触反応させ、該反応生
成物をスプレー式スクラバーで除害するに際し、スプレ
ー式スクラバーのガス入口側に、ガスフィルターを設置
し、かつスプレー式スクラバーの内部にメッシュプレー
トを設置し、スプレー式スクラバーのガス入口に濡れ壁
を使用する。さらに濡れ壁用のスプレーノズルに不活性
ガスを吹き付ける構造とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＮＦ3ガスを効率
良く除害することを目的とするＮＦ3ガスの除害方法に
関するものである。
良く除害することを目的とするＮＦ3ガスの除害方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする問題点】Ｎ
Ｆ3ガスは、半導体製造時のクリーニングガスとして使
用され年々需要が増加しているが、その反面、地球温暖
化係数（ＧＷＰ）が高く、近年国際的に大きな問題とな
っている。また毒性（許容濃度：１０ｐｐｍ−ＴＬＶ
ＴＷＡ）があるため排気する場合は除害する必要があ
る。
Ｆ3ガスは、半導体製造時のクリーニングガスとして使
用され年々需要が増加しているが、その反面、地球温暖
化係数（ＧＷＰ）が高く、近年国際的に大きな問題とな
っている。また毒性（許容濃度：１０ｐｐｍ−ＴＬＶ
ＴＷＡ）があるため排気する場合は除害する必要があ
る。
【０００３】本出願人は、ＮＦ3の処理方法として、Ｓ
ｉを始めとする各種金属、およびこれらの非酸化物系化
合物とＮＦ3を２００℃〜８００℃で反応させ、得られ
るフッ化物ガスを捕集する方法を提案した（特公昭６３
−４８５７０号公報）。
ｉを始めとする各種金属、およびこれらの非酸化物系化
合物とＮＦ3を２００℃〜８００℃で反応させ、得られ
るフッ化物ガスを捕集する方法を提案した（特公昭６３
−４８５７０号公報）。
【０００４】この反応で得られたフッ化物ガスの捕集
は、固体のアルカリ薬剤もしくは湿式スクラバーによる
方法がある。
は、固体のアルカリ薬剤もしくは湿式スクラバーによる
方法がある。
【０００５】しかし、ＮＦ3ガスの除害で、加熱した金
属との反応により生成した成分を固体のアルカリ薬剤で
除害する方法の場合、装置は小型で済み設置スペースを
小さくできるというメリットはあるが、ランニングコス
トが比較的高くなるというデメリットがある。このこと
から加熱した金属との反応により生成した成分をランニ
ングコストの安い湿式で除害することが好ましいが、上
記のＮＦ3ガスの除害で、加熱した金属との反応により
生成した成分を湿式で除害する場合は、以下のことによ
り問題を生ずる。
属との反応により生成した成分を固体のアルカリ薬剤で
除害する方法の場合、装置は小型で済み設置スペースを
小さくできるというメリットはあるが、ランニングコス
トが比較的高くなるというデメリットがある。このこと
から加熱した金属との反応により生成した成分をランニ
ングコストの安い湿式で除害することが好ましいが、上
記のＮＦ3ガスの除害で、加熱した金属との反応により
生成した成分を湿式で除害する場合は、以下のことによ
り問題を生ずる。
【０００６】例えば、ＮＦ3を代表的なものとしてＳｉ
と反応させた場合、（１）式に示した反応によりＳｉＦ
4が得られる。 4/3ＮＦ3 ＋ Ｓｉ → 2/3Ｎ2 ＋ ＳｉＦ4 ・・・（１） このＳｉＦ4を湿式スクラバーで除害した場合、（２）
式に示した反応によりＳｉＯ2が発生する。 3ＳｉＦ4 ＋ 2Ｈ2Ｏ → 2Ｈ2ＳｉＦ6 ＋ ＳｉＯ2 ・・・（２） このＳｉＯ2が小さい粒子状となったものは、湿式スク
ラバー内を通過し、これに当該（２）式の反応により同
時に生成したＨ2ＳｉＦ6が付着同伴し、処理済み後のガ
スに酸性成分として現れる。このことが、除害効率の低
下の原因となる。
と反応させた場合、（１）式に示した反応によりＳｉＦ
4が得られる。 4/3ＮＦ3 ＋ Ｓｉ → 2/3Ｎ2 ＋ ＳｉＦ4 ・・・（１） このＳｉＦ4を湿式スクラバーで除害した場合、（２）
式に示した反応によりＳｉＯ2が発生する。 3ＳｉＦ4 ＋ 2Ｈ2Ｏ → 2Ｈ2ＳｉＦ6 ＋ ＳｉＯ2 ・・・（２） このＳｉＯ2が小さい粒子状となったものは、湿式スク
ラバー内を通過し、これに当該（２）式の反応により同
時に生成したＨ2ＳｉＦ6が付着同伴し、処理済み後のガ
スに酸性成分として現れる。このことが、除害効率の低
下の原因となる。
【０００７】また、ＳｉＯ2は、ＮＦ3の処理量の増加に
伴い当然増加し、固体として析出するため湿式スクラバ
ー内でスケールとなりガスの流れを閉塞させ、それ以降
の処理が出来なくなる。
伴い当然増加し、固体として析出するため湿式スクラバ
ー内でスケールとなりガスの流れを閉塞させ、それ以降
の処理が出来なくなる。
【０００８】
【問題点を解決するための具体的手段】本発明者らは、
上記の問題点に鑑み鋭意検討の結果、ＮＦ3ガスを含む
ガスを加熱した固体金属と接触反応させ、反応生成物を
除害するに際し、ガスフィルター、濡れ壁、メッシュプ
レートを設置したスプレー式スクラバーで除害できるこ
とを見出し、本発明に到達した。
上記の問題点に鑑み鋭意検討の結果、ＮＦ3ガスを含む
ガスを加熱した固体金属と接触反応させ、反応生成物を
除害するに際し、ガスフィルター、濡れ壁、メッシュプ
レートを設置したスプレー式スクラバーで除害できるこ
とを見出し、本発明に到達した。
【０００９】すなわち本発明は、ＮＦ3ガスの除害にお
いて、ＮＦ3ガスを含むガスを加熱した固体金属と接触
反応させ、該反応生成物をスプレー式スクラバーで除害
するに際し、スプレー式スクラバーのガス入口側に、ガ
スフィルターを設置し、かつスプレー式スクラバーの内
部にメッシュプレートを設置し、スプレー式スクラバー
のガス入口に濡れ壁を使用することを特徴とするＮＦ3
ガスの除害方法で、さらに濡れ壁用のスプレーノズルに
不活性ガスを吹き付ける構造としたＮＦ3ガスの除害方
法を提供するものである。
いて、ＮＦ3ガスを含むガスを加熱した固体金属と接触
反応させ、該反応生成物をスプレー式スクラバーで除害
するに際し、スプレー式スクラバーのガス入口側に、ガ
スフィルターを設置し、かつスプレー式スクラバーの内
部にメッシュプレートを設置し、スプレー式スクラバー
のガス入口に濡れ壁を使用することを特徴とするＮＦ3
ガスの除害方法で、さらに濡れ壁用のスプレーノズルに
不活性ガスを吹き付ける構造としたＮＦ3ガスの除害方
法を提供するものである。
【００１０】本発明において、固体金属とは、具体的に
は、Ｓｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、Ｇｅ等である。また、不活性
ガスとしては、Ｎ2、Ｈｅ、Ａｒ等が挙げられる。
は、Ｓｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、Ｇｅ等である。また、不活性
ガスとしては、Ｎ2、Ｈｅ、Ａｒ等が挙げられる。
【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。例えば、
固体金属にＳｉを用いた場合、まずＳｉＯ2の煙霧状の
微粒子の発生原因は、固体金属充填塔で煙霧状の微粒子
の核となる物質（Ｓｉ中の不純物であるＦｅあるいは反
応器の材質であるＮｉが主成分である超微粒子）が発生
し、それに湿式スクラバー内で生成したＳｉＯ2が付着
して煙霧状の微粒子となることを確認した。超微粒子
は、水と反応しスケールを生成するようなガス（固体金
属がＳｉの場合生成ガスはＳｉＦ4）を湿式スクラバー
で除害する際、煙霧状の微粒子発生の原因（核）となる
ため、その核となる物質を取り除くことが必要となる。
そこで煙霧状の微粒子の核となる物質を捕集するための
手段としてガスフィルターをスプレー式スクラバー入口
に設置した。ここで用いられるガスフィルターは、定格
ろ過精度０．１〜０．４５μｍのものが最適である。そ
れより定格ろ過精度の大きいものを設置した場合は、あ
る程度時間が経つにつれしだいに煙霧状の微粒子が発生
する。また、定格ろ過精度の小さいものを選定すると圧
力損失が大きくなり最大ガス処理流量が少ないところに
制限される。
固体金属にＳｉを用いた場合、まずＳｉＯ2の煙霧状の
微粒子の発生原因は、固体金属充填塔で煙霧状の微粒子
の核となる物質（Ｓｉ中の不純物であるＦｅあるいは反
応器の材質であるＮｉが主成分である超微粒子）が発生
し、それに湿式スクラバー内で生成したＳｉＯ2が付着
して煙霧状の微粒子となることを確認した。超微粒子
は、水と反応しスケールを生成するようなガス（固体金
属がＳｉの場合生成ガスはＳｉＦ4）を湿式スクラバー
で除害する際、煙霧状の微粒子発生の原因（核）となる
ため、その核となる物質を取り除くことが必要となる。
そこで煙霧状の微粒子の核となる物質を捕集するための
手段としてガスフィルターをスプレー式スクラバー入口
に設置した。ここで用いられるガスフィルターは、定格
ろ過精度０．１〜０．４５μｍのものが最適である。そ
れより定格ろ過精度の大きいものを設置した場合は、あ
る程度時間が経つにつれしだいに煙霧状の微粒子が発生
する。また、定格ろ過精度の小さいものを選定すると圧
力損失が大きくなり最大ガス処理流量が少ないところに
制限される。
【００１２】次に湿式スクラバーへのスケール付着量を
低減させるためにスプレー式スクラバーの入口の内壁に
スプレーノズルで循環水を流し、常に内壁が濡れている
状態としたいわゆる濡れ壁を使用した。また濡れ壁を作
成するスプレーノズルへのスケール付着を抑制するため
に不活性ガスを吹き付ける構造とした。
低減させるためにスプレー式スクラバーの入口の内壁に
スプレーノズルで循環水を流し、常に内壁が濡れている
状態としたいわゆる濡れ壁を使用した。また濡れ壁を作
成するスプレーノズルへのスケール付着を抑制するため
に不活性ガスを吹き付ける構造とした。
【００１３】さらにスプレー式スクラバー内部は、充填
材へのスケール付着を防止するため、充填材を取り除
き、メッシュプレートを設置した。この事により除害効
率が良くなり、さらにスケールの付着を防止できた。こ
こで用いられるメッシュプレートは、目開きが、３〜１
５ｍｍの範囲が好ましい。目開きが、３ｍｍ以下になる
と、水が溜まってスケールが付着し易くなり、また目開
きが、大きくなるとあまり効果がない。
材へのスケール付着を防止するため、充填材を取り除
き、メッシュプレートを設置した。この事により除害効
率が良くなり、さらにスケールの付着を防止できた。こ
こで用いられるメッシュプレートは、目開きが、３〜１
５ｍｍの範囲が好ましい。目開きが、３ｍｍ以下になる
と、水が溜まってスケールが付着し易くなり、また目開
きが、大きくなるとあまり効果がない。
【００１４】
【実施例】以下、実施例により具体的に説明する。
【００１５】実施例１ 図１は、ＮＦ3ガスの除害のための実施フローの概略図
を示したものである。除害対象となるＮＦ3ガス１を窒
素によりＮＦ3濃度２％に希釈し、このガスをＳｉを充
填した固体金属充填塔２に、１２５Ｌ／ｍｉｎで導入
し、Ｓｉと接触させた。Ｓｉを充填した固体金属充填塔
２は、加熱ヒーター３により加熱し、固体金属充填塔２
の内部のＳｉを加熱する。ヒーター３の設定温度は７０
０℃とした。
を示したものである。除害対象となるＮＦ3ガス１を窒
素によりＮＦ3濃度２％に希釈し、このガスをＳｉを充
填した固体金属充填塔２に、１２５Ｌ／ｍｉｎで導入
し、Ｓｉと接触させた。Ｓｉを充填した固体金属充填塔
２は、加熱ヒーター３により加熱し、固体金属充填塔２
の内部のＳｉを加熱する。ヒーター３の設定温度は７０
０℃とした。
【００１６】固体金属充填塔２の出口のスプレー式スク
ラバーのガス入口側には、ガスフィルター４を設置し、
ここに出口ガスを導入し、Ｓｉとの反応により生成した
超微粒子を捕集した。ガスフィルターは、定格ろ過精度
０．２μｍのものを使用した。
ラバーのガス入口側には、ガスフィルター４を設置し、
ここに出口ガスを導入し、Ｓｉとの反応により生成した
超微粒子を捕集した。ガスフィルターは、定格ろ過精度
０．２μｍのものを使用した。
【００１７】次にガスフィルター４を通過したガスを濡
れ壁７へと導入する。濡れ壁７に導入するための配管
は、スプレーノズル６の下流側に設置した。上流側に設
置した場合、たちまちスプレーノズル６がスケールによ
り閉塞することがあるためである。またスプレーノズル
６のスケール付着防止として、不活性ガス５として、Ｎ
2をスプレーノズル６に常時吹き付けた。
れ壁７へと導入する。濡れ壁７に導入するための配管
は、スプレーノズル６の下流側に設置した。上流側に設
置した場合、たちまちスプレーノズル６がスケールによ
り閉塞することがあるためである。またスプレーノズル
６のスケール付着防止として、不活性ガス５として、Ｎ
2をスプレーノズル６に常時吹き付けた。
【００１８】濡れ壁７を通過したガスは、さらにメッシ
ュプレート８（目開き５ｍｍ）を設置したスプレー式ス
クラバー９へと導入した。スプレー式スクラバー９は、
径２００ｍｍ×高さ６００ｍｍの円筒とし、メッシュプ
レート８を含め水と接する箇所は全て樹脂を使用した。
スプレーノズルは１個につき約１０Ｌ／ｍｉｎ流れるも
のを選定し３段設置した。このスプレー式スクラバー９
の出口ガスを分析した結果、除害対象ガス成分（Ｎ
Ｆ3）またはＦを含む酸性ガス（ＳｉＦ4，Ｆ2，ＨＦ）
が許容濃度以下（ＮＦ3＜１０ｐｐｍ、ＳｉＦ4＜０．７
５ｐｐｍ、Ｆ2＜１ｐｐｍ、ＨＦ＜３ｐｐｍ）であるこ
とを確認した。ガス分析は、ＨＦ用検知管（ガステック
製Ｎｏ．１７）およびＦＴ−ＩＲで実施した。またこの
方法で３６０分を越える除害試験をしたが、スケールに
よる閉塞は発生しなかった。これらの条件、結果を表１
に示した。
ュプレート８（目開き５ｍｍ）を設置したスプレー式ス
クラバー９へと導入した。スプレー式スクラバー９は、
径２００ｍｍ×高さ６００ｍｍの円筒とし、メッシュプ
レート８を含め水と接する箇所は全て樹脂を使用した。
スプレーノズルは１個につき約１０Ｌ／ｍｉｎ流れるも
のを選定し３段設置した。このスプレー式スクラバー９
の出口ガスを分析した結果、除害対象ガス成分（Ｎ
Ｆ3）またはＦを含む酸性ガス（ＳｉＦ4，Ｆ2，ＨＦ）
が許容濃度以下（ＮＦ3＜１０ｐｐｍ、ＳｉＦ4＜０．７
５ｐｐｍ、Ｆ2＜１ｐｐｍ、ＨＦ＜３ｐｐｍ）であるこ
とを確認した。ガス分析は、ＨＦ用検知管（ガステック
製Ｎｏ．１７）およびＦＴ−ＩＲで実施した。またこの
方法で３６０分を越える除害試験をしたが、スケールに
よる閉塞は発生しなかった。これらの条件、結果を表１
に示した。
【００１９】なお、給水は、循環槽１０に導入し、スプ
レー式スクラバー９の排水も同じく循環槽１０へと導入
される。循環槽１０の水は、循環ポンプ１１で濡れ壁７
およびスプレー式スクラバー９のスプレーノズルに供給
する（供給量は濡れ壁に約５Ｌ／ｍｉｎ、スプレー式ス
クラバーに約３０Ｌ／ｍｉｎである）。循環槽１０をオ
ーバーフローした水は排水としてピットに廃棄する。
レー式スクラバー９の排水も同じく循環槽１０へと導入
される。循環槽１０の水は、循環ポンプ１１で濡れ壁７
およびスプレー式スクラバー９のスプレーノズルに供給
する（供給量は濡れ壁に約５Ｌ／ｍｉｎ、スプレー式ス
クラバーに約３０Ｌ／ｍｉｎである）。循環槽１０をオ
ーバーフローした水は排水としてピットに廃棄する。
【００２０】比較例１ スプレー式スクラバーの内部にメッシュプレートを設置
せず、充填材（日鉄化工機（株）製（商品名：テラレッ
ト）、材質：ポリプロピレン）を各スプレーの下に１０
０ｍｍずつ充填し、実施例１と同一の条件で除害テスト
を行った。その結果、約６０分後、充填材の最下部がス
ケール付着により閉塞した。これらの条件、結果を表１
に示した。
せず、充填材（日鉄化工機（株）製（商品名：テラレッ
ト）、材質：ポリプロピレン）を各スプレーの下に１０
０ｍｍずつ充填し、実施例１と同一の条件で除害テスト
を行った。その結果、約６０分後、充填材の最下部がス
ケール付着により閉塞した。これらの条件、結果を表１
に示した。
【００２１】比較例２ スプレー式スクラバー入口に濡れ壁を使用せず、ガスフ
ィルター出口ガスを直接スプレー式スクラバーに導入
し、実施例１と同一の条件で除害テストを行った。その
結果、約１８０分後、スプレー式スクラバー入口がスケ
ール付着により閉塞した。これらの条件、結果を表１に
示した。
ィルター出口ガスを直接スプレー式スクラバーに導入
し、実施例１と同一の条件で除害テストを行った。その
結果、約１８０分後、スプレー式スクラバー入口がスケ
ール付着により閉塞した。これらの条件、結果を表１に
示した。
【００２２】比較例３ スプレー式スクラバー入口にガスフィルターを使用せ
ず、直接濡れ壁を含むスプレー式スクラバーに導入し、
実施例１と同一の条件で除害テストを行った。その結
果、煙霧状の微粒子が発生した。煙霧状の微粒子はスプ
レー式スクラバーを素通りし、ファンスクラバーの入口
配管に溜まり、やがて（９０分後）閉塞した。さらに煙
霧状の微粒子はファンスクラバーで除去しきれずファン
スクラバー出口配管にも付着した。またファンスクラバ
ー出口ガスをＨＦ用検知管で分析した。その結果ＨＦ検
出上限２０ｐｐｍをオーバーしていた。これらの条件、
結果を表１に示した。
ず、直接濡れ壁を含むスプレー式スクラバーに導入し、
実施例１と同一の条件で除害テストを行った。その結
果、煙霧状の微粒子が発生した。煙霧状の微粒子はスプ
レー式スクラバーを素通りし、ファンスクラバーの入口
配管に溜まり、やがて（９０分後）閉塞した。さらに煙
霧状の微粒子はファンスクラバーで除去しきれずファン
スクラバー出口配管にも付着した。またファンスクラバ
ー出口ガスをＨＦ用検知管で分析した。その結果ＨＦ検
出上限２０ｐｐｍをオーバーしていた。これらの条件、
結果を表１に示した。
【００２３】比較例４ 濡れ壁作成用のスプレーノズル部に不活性ガスを吹き付
けずに実施例１と同一の条件で除害テストを行った。そ
の結果、３６０分以上、スケール付着による閉塞は発生
しなかった。しかし、スプレーノズルにスケールが付着
した。これらの条件、結果を表１に示した。
けずに実施例１と同一の条件で除害テストを行った。そ
の結果、３６０分以上、スケール付着による閉塞は発生
しなかった。しかし、スプレーノズルにスケールが付着
した。これらの条件、結果を表１に示した。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の方法によ
り、容易にかつ効率よく、また安価にＮＦ3ガスを除害
することができる。
り、容易にかつ効率よく、また安価にＮＦ3ガスを除害
することができる。
【図１】ＮＦ3ガスの除害のための実施フローの概略図
である。
である。
１・・・ＮＦ3ガス（除害対象ガス） ２・・・固体金属充填塔 ３・・・ヒーター ４・・・ガスフィルター ５・・・不活性ガス ６・・・スプレーノズル ７・・・濡れ壁 ８・・・メッシュプレート ９・・・スプレー式スクラバー １０・・・循環槽 １１・・・循環ポンプ
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/54 (72)発明者 田井中 正弘 山口県宇部市大字沖宇部5272番地 セント ラルエンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA22 AA40 BA02 BA12 BA14 BA16 BA20 CA01 CA02 CA04 CA13 CA20 DA21 DA35 DA70 EA01 EA02 4D020 AA10 BA03 BA06 BA16 BA23 BB01 BB10 BC01 BC10 CA01 CA05 CB08 CB18 CB25 CB28 CC01 CC05 CC13 CC18 CC20 CD01 CD02
Claims (2)
- 【請求項１】 ＮＦ3ガスの除害において、ＮＦ3ガスを
含むガスを加熱した固体金属と接触反応させ、反応生成
物をスプレー式スクラバーで除害するに際し、スプレー
式スクラバーのガス入口側に、ガスフィルターを設置
し、かつスプレー式スクラバーの内部にメッシュプレー
トを設置し、スプレー式スクラバーのガス入口に濡れ壁
を使用することを特徴とするＮＦ3ガスの除害方法。 - 【請求項２】 濡れ壁用のスプレーノズルに不活性ガス
を吹き付ける構造とすることを特徴とする請求項１記載
のＮＦ3ガスの除害方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000368826A JP2002166127A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | Ｎｆ３ガスの除害方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000368826A JP2002166127A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | Ｎｆ３ガスの除害方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002166127A true JP2002166127A (ja) | 2002-06-11 |
Family
ID=18838972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000368826A Pending JP2002166127A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | Ｎｆ３ガスの除害方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002166127A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006150281A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Kanken Techno Co Ltd | 半導体製造装置の排ガス除害装置 |
| JP2008086913A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Central Glass Co Ltd | フッ素含有ガス中のフッ素の除去方法 |
| JP2014200735A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-27 | 小池酸素工業株式会社 | 水スクラバ及び排ガスの処理装置 |
-
2000
- 2000-12-04 JP JP2000368826A patent/JP2002166127A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006150281A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Kanken Techno Co Ltd | 半導体製造装置の排ガス除害装置 |
| JP2008086913A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Central Glass Co Ltd | フッ素含有ガス中のフッ素の除去方法 |
| JP2014200735A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-27 | 小池酸素工業株式会社 | 水スクラバ及び排ガスの処理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1637211A1 (en) | Exhaust gas decomposition processor and method for processing exhaust gas | |
| JP2000514351A (ja) | 全部または一部が不活性化した煙道ガス脱窒用触媒を洗浄およびまたは再生する方法 | |
| EP1103297B1 (en) | Method and apparatus for treating perfluorocompound gas | |
| CN209475895U (zh) | 一种化工原料尾气回收装置 | |
| WO2001083069A2 (en) | Treatment system for removing hazardous substances from a semiconductor process waste gas stream | |
| US20140322089A1 (en) | Systems for recovering nitric acid from pickling solutions | |
| JP2002166127A (ja) | Ｎｆ３ガスの除害方法 | |
| JPH0788325A (ja) | 排ガスの処理方法及びその装置 | |
| JP3129945B2 (ja) | 半導体製造排ガスの処理方法 | |
| EP2784185A1 (en) | Process for recovering acids from a spent acid solution containing metal salts | |
| JP4629967B2 (ja) | Ｎ２ｏ含有排ガスの処理方法およびその装置 | |
| KR100477962B1 (ko) | 사용된산세액을재생하는동안에생기는매우미세한산화물입자들을제거하는방법 | |
| JPH0677669B2 (ja) | 排ガス処理方法とその装置 | |
| JP3377183B2 (ja) | Ｎｆ３の処理方法 | |
| US8597433B2 (en) | Apparatus and process for separation of liquid from a gas | |
| JP3000439B2 (ja) | リン又はヒ素を含む排ガスの除害剤及び検知剤並びに除害方法 | |
| KR0169094B1 (ko) | 오염된 공기의 정화장치 | |
| JP2000197807A (ja) | 排気ガス処理装置 | |
| KR102598003B1 (ko) | 금속 산 처리시 발생 되는 유독 가스 제거장치 및 그 장치를 이용한 유독 가스 제거 방법 | |
| JP3973574B2 (ja) | ヒューム状有害成分を含む排ガスの処理方法及び装置 | |
| JPH11347366A (ja) | 排ガス処理方法 | |
| JPS6042695A (ja) | 放射性ガスの処理法 | |
| JPH0710335B2 (ja) | Ｎｆ３ 排ガス処理方法および装置 | |
| KR20110061201A (ko) | 화학가스 필터링 시스템의 제어 방법 | |
| JP2008006352A (ja) | フッ素化合物含有ガスの処理方法及び処理装置 |