JP2002156506A - 導電性反射防止膜の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 反射光の低減とコントラストの向上が図れ、
優れた帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程
や排気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変
動し難く、また光透過率の高い陰極線管用ガラスパネル
上に被覆形成しても、映像が二重に見えることがなく、
さらに膜ムラや黒シミの発生を減少させることが可能な
導電性反射防止膜の製造方法を提供する。 【構成】 基体上に、Ｓｉを含む溶液を塗布し、２００
℃以上の温度で焼成することによって可視光の屈折率が
１．７以下の下地層を形成した後、前記下地層の上に、
金属微粒子と無機顔料微粒子を含み、屈折率が１．２〜
２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜１．０の着色層
を形成し、前記着色層の上に、可視光の屈折率が１．３
〜１．６の透明層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電性反射防止膜の製
造方法に関し、特に陰極線管用ガラスパネルに適した導
電性反射防止膜の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、陰極線管には、反射光の低減
やコントラストの向上が要求されており、最近では、帯
電防止や人体に影響を及ぼす電磁波を遮蔽することも求
められるようになってきている。

【０００３】そのため、陰極線管の表示面であるガラス
パネルのフェース部の外表面に導電性反射防止膜を形成
することによって、反射光を低減し、コントラストを向
上し、さらに帯電防止や電磁波遮蔽の機能を付与するこ
とが試みられている。

【０００４】例えば、特表平６−５１０３８２号には、
基体側から順に、ＮｂＮを含む層、ＴｉＯ₂を含む層、
ＳｉＯ₂を含む層からなる導電性反射防止膜が提案さ
れ、また特開平９−１５６９６４号には、基体側から順
に、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆから選ばれた金属の酸化物を主
成分とする層、Ｓｉ又はＳｉの窒化物を主成分とする
層、ＳｉＯ₂層からなる導電性反射防止膜が提案されて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで陰極線管用ガ
ラスパネルの光透過率は、陰極線管に映像を映し出した
際の輝度とコントラストに影響する。すなわち、陰極線
管用ガラスパネルの光透過率が高くなるほど、輝度は高
くなるが、コントラストが低下し、逆にガラスパネルの
光透過率が低くなるほど、コントラストは向上するが、
輝度が低下する。

【０００６】近年、フェース部の外表面が平坦な陰極線
管用ガラスパネルが普及しつつあるが、このようなフラ
ットガラスパネルは、所望の機械的強度を得る目的で、
フェース部の内表面の曲率半径が小さくなるように設計
されており、フェース部の中央領域の肉厚に比べて、周
辺領域の肉厚が非常に大きくなっている。

【０００７】従って、このようなフラットガラスパネル
を、光透過率の低いガラスから作製すると、フェース部
の中央部と周辺部の肉厚差による光の透過量の違いが大
きくなり、中央部と周辺部の映像に輝度差が生じること
になる。そのため、ガラスパネルを光透過率の高い（例
えば７０％以上）ガラスから作製することによって、そ
の中央領域と周辺領域の透過率差を低減し、さらにフェ
ース部の外表面に着色膜を被覆形成することによって光
透過率を下げ（例えば４０〜６０％）、コントラストを
向上することが試みられている。

【０００８】上記した特表平６−５１０３８２号や特開
平９−１５６９６４号に開示された導電性反射防止膜
は、導電層としてＮｂＮやＴｉＮ等の着色膜が使用さ
れ、このような着色膜を用いて、陰極線管のコントラス
トを向上させるために透過率が５０％程度の膜を成膜す
る場合、それぞれ２５ｎｍ、８ｎｍ程度の幾何学的厚み
が必要となるが、抵抗値は十分低くなる。さらにこのよ
うな着色膜に加えてＳｉＯ ₂を主成分とする層等を積層
し多層膜にすると、各層の干渉作用により表面反射率は
十分に低くなる。

【０００９】しかしながらＮｂＮ、ＴｉＮの着色膜は、
可視光の屈折率が、それぞれ１．３〜１．８、２．５〜
３．７であり、また可視光の吸収係数がそれぞれ１．４
〜２．４、２．１〜３．１であり、強い光吸収性を有し
ているため、これを使用した導電性反射防止膜は、裏面
反射率が高くなるという問題がある。

【００１０】このような裏面反射率の高い導電性反射防
止膜を、光透過率の高いガラスから作製されたフラット
ガラスパネルのフェース部外表面に被覆形成すると、陰
極線管内面の蛍光体の光が導電性反射防止膜の裏面で反
射され、再び陰極線管内面で反射されるので、陰極線管
の表面には蛍光体からの直接光による映像と、反射光に
よる位置がずれた映像とが同時に映し出され、映像が二
重に見えるという欠点を有している。

【００１１】また陰極線管を生産する場合、ガラスパネ
ル上に各種の機能膜を形成した後で、ファンネルとフリ
ットシールされ、さらに内部が排気されるが、このよう
なシール工程や排気工程では４００℃以上の熱処理が施
される。ところが上記した従来の導電性反射防止膜は、
この熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動しやすいた
め、所期の反射率や電磁波遮蔽能力が得られなくなる可
能性がある。

【００１２】また本出願人は、特願２０００−２８５８
３３号において、金、銀、白金族の元素から選ばれた金
属微粒子と無機顔料微粒子を含む着色層と、可視光の屈
折率が１．３〜１．６の透明層から構成される導電性反
射防止膜を提案しており、この膜は、反射低減、コント
ラスト向上、帯電防止性と電磁波遮蔽性について優れた
能力を有しているが、膜ムラや黒シミが発生することが
あった。

【００１３】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、反射光の低減とコントラストの向上が図れ、優れ
た帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程や排
気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動し
難く、また光透過率の高い陰極線管用ガラスパネル上に
被覆形成しても、映像が二重に見えることがなく、さら
に膜ムラや黒シミの発生を減少させることが可能な導電
性反射防止膜の製造方法を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の導電性反射防止
膜の製造方法は、基体上に、Ｓｉを含む溶液を塗布し、
２００℃以上の温度で焼成することによって可視光の屈
折率が１．７以下の下地層を形成した後、前記下地層の
上に、金属微粒子と無機顔料微粒子を含み、可視光の屈
折率が１．２〜２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜
１．０の着色層を形成し、前記着色層の上に、可視光の
屈折率が１．３〜１．６の透明層を形成することを特徴
とする。

【００１５】また本発明の導電性反射防止膜の製造方法
は、着色層が、金、銀、白金族の元素から選ばれる少な
くとも１種の金属微粒子と、コバルト含有無機顔料微粒
子を含むことを特徴とし、さらに基体が、フェース部の
外表面の平均曲率半径がフェース部中央を通る全放射方
向において１００００ｍｍ以上であり、肉厚を１０．１
６ｍｍに換算した場合の波長５５０ｎｍにおける光透過
率が７０％以上のガラスからなる陰極線管用ガラスパネ
ルであることを特徴とする。

【００１６】

【作用】本発明の製造方法によると、まず基体上に、Ｓ
ｉを含む溶液を塗布し、２００℃以上（具体的には、２
００〜５００℃）の温度で焼成することによって、可視
光の屈折率が１．７以下の下地層を形成した後で、その
上に着色層と透明層を形成するが、その理由は次のとお
りである。

【００１７】基体上に、金属微粒子と無機顔料微粒子を
含む溶液をスピンコート法等の液体を使用する方法で成
膜することによって着色層を形成すると、基体上に残存
する微小な異物や有機物等の付着物に起因して、着色層
中の金属微粒子や顔料微粒子が凝集し、膜ムラや黒色シ
ミ等の欠点を誘発することがある。ところが、基体上に
Ｓｉを含む溶液を塗布し、２００℃以上の温度で焼成す
ることによって、予め下地層を形成すると、この下地層
は、物理的に緩やかな凹凸面を有し、化学的にも比較的
活性な状態にあるため、この上にスピンコート法によっ
て上記の着色層を形成しても、金属微粒子や無機顔料微
粒子の物理的な移動が抑えられ、凝集が起こりにくくな
る。ただし、基体上にＳｉを含む溶液を塗布し、乾燥し
た後、その上に着色層をスピンコート法で成膜してから
一括して同時焼成すると、着色層中の金属微粒子や顔料
微粒子の凝集が発生する。

【００１８】本発明における下地層は、その上に形成さ
れる着色層と透明層の特性を低下させないように、可視
光の屈折率を１．７以下にしてある。またこの下地層
は、Ｓｉを含む溶液を塗布、焼成することによって形成
するが、透明性、膜強度、成膜コスト等を考慮すると、
ＳｉＯ₂や、Ｓｉと、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｒ、
Ｃｅ、Ｚｎ等の金属酸化物との混合物又は複合酸化物か
らなる層が適している。さらに均一な膜を得るために
は、（Ｒ₁）_nＭ（ＯＲ₂）_4-nの式で示される化合物を主
成分として含有する塗布液を使用することが望ましい。
尚、この式において、Ｒ₁：アルキル基、アルケニル
基、アリール基、Ｍ：Ｓｉ、Ｒ₂：アルキル基であり、
ｎ＝０又は１である。また必要に応じて、Ｔｉ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｚｎ等の金属を含有する酸化物の混
合物又は複合酸化物の微粒子、或いはこれらの金属をＭ
として用いた化合物を添加しても良い。

【００１９】この下地層の成膜法としては、スピンコー
ト法、スプレーコート法、浸漬法、刷毛塗り法等が採用
できるが、一定の厚みを有する膜を安価に成膜できると
いう理由から、スピンコート法が最も適している。

【００２０】また本発明の導電性反射防止膜を、フェー
ス部の外表面の平均曲率半径がフェース部中央を通る全
放射方向において１００００ｍｍ以上の陰極線管用フラ
ットガラスパネルに適用する場合、この下地層の膜厚が
大きすぎると、表面反射率や裏面反射率が高くなり、ま
た熱処理後に膜剥がれを起こす虞れがあるため、１〜２
００ｎｍの幾何学的厚みとすることが好ましい。

【００２１】本発明においては、下地層の上に、金属微
粒子と無機顔料微粒子を含む着色層を形成する。この着
色層は、屈折率が１．２〜２．５、可視光の吸収係数が
０．０５〜１．０の光吸収性の低い層であり、その上に
形成される透明層との干渉作用により陰極線管の表面反
射光を低減したり、裏面反射光を低減する作用を有して
いる。

【００２２】特に着色層として、金、銀、白金族の元素
から選ばれる少なくとも１種の金属微粒子と、コバルト
含有無機顔料を含む層を形成すると、優れた光学特性と
導電性が得られるため好ましい。因みに白金族元素と
は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔの６元素であ
り、コバルト含有無機顔料としては、例えばコバルトブ
ルー（Ｃｏ,Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ₂Ｏ₃、コバルトグリーンＣ
ｏＯ−ＺｎＯ、セルリアンブルー２（Ｃｏ,Ｍｇ）Ｏ・
ＳｎＯ₂等が適している。特にＲｕとコバルトブルーを
含む着色層が最も好適である。その理由は、Ｒｕは、可
視光領域における短波長側の光吸収が強く、長波長側の
光吸収が弱いという特徴を有し、逆にコバルトブルー
は、短波長側の光吸収が弱く、長波長側の光吸収が強い
という特徴を有しており、Ｒｕとコバルトブルーを含む
層は、光吸収のバランスが非常に良いからである。

【００２３】この着色層は、幾何学的厚みを７０〜２５
０ｎｍにすることが好ましい。すなわち、着色層の幾何
学的厚みが小さくなりすぎると、陰極線管の表面反射率
や裏面反射率を低減する効果が十分に発揮され難い。陰
極線管の場合、膜の裏面反射率がガラスの反射率（４．
５％）を越えると、映像が二重に見えやすくなるが、第
１の層の幾何学的厚みが７０ｎｍ未満では、裏面反射率
を４．５％以下に抑えることが非常に困難となる。この
着色層の成膜法としては、スピンコート法、スプレーコ
ート法、浸漬法、刷毛塗り法等の方法が適しており、こ
れらの方法で成膜するには、金属微粒子と無機顔料微粒
子を含む溶液を下地層上に塗布してから乾燥、焼成すれ
ば良いが、一定の厚みを有する膜を安価に作製できると
いう理由から、スピンコート法が最も適している。この
着色層の幾何学的厚みは、作業性やコストを考慮する
と、２５０ｎｍ以下が適当であり、好ましくは８０〜２
５０ｎｍ、より好ましくは８５〜２００ｎｍである。

【００２４】本発明においては、着色層の上に、可視光
の屈折率が１．３〜１．６の透明層を形成する。この透
明層は、その下の着色層との干渉効果により陰極線管の
表面反射率と裏面反射率を低減する作用を有している。
この透明層の幾何学的厚みとしては、６０〜１５０ｎｍ
が適しており、また使用する材料としては、二酸化珪素
（ＳｉＯ₂）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、フッ化マ
グネシウム（ＭｇＦ₂）、フッ化カルシウム（Ｃａ
Ｆ₂）、フッ化セリウム（ＣｅＦ₂）、フッ化アルミニウ
ム（ＡｌＦ₃）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）が適し
ている。特にＳｉＯ₂を主成分とする層は、可視光の屈
折率が１．４〜１．６の透明層であり、着色層との干渉
効果により陰極線管の表面反射光と裏面反射光を低減す
る作用に優れ、しかも低コストで、成膜の作業性にも優
れているため好適である。このＳiＯ₂を主成分とする層
を形成する場合、前記した（Ｒ₁）_nＭ（ＯＲ₂）_4-nで示
される化合物を主成分として含有する塗布液を使用する
と、実用上高い膜強度が得られるため好ましい。

【００２５】この透明層の成膜法としては、スピンコー
ト法、スプレーコート法、浸漬法、刷毛塗り法等の方法
が適しており、これらの方法で成膜するには、上記した
材料を含む液体を着色層上に塗布してから乾燥、焼成す
れば良いが、一定の厚みを有する膜を安価に作製できる
という理由からスピンコート法が最も適している。

【００２６】本発明における着色層と透明層の焼成は別
々に行っても良いし、一括して同時に行っても良い。ま
た焼成温度は、塗布液中の溶媒の除去や陰極線管用パネ
ルガラスへの形成を考慮すると、２００〜５００℃が好
適である。

【００２７】尚、上記した可視光の吸収係数とは、物体
を通過する前後の光強度の対数比を意味している。記号
を用いて説明すると、物体に吸収される吸収光の放射束
をａ、物体に入射する入射光の放射束をｉ、物体表面で
反射される反射光の放射束をｒ、物品を透過する透過光
の放射束をｔとするとき、ａ＝ｉ−ｒ−ｔという式が成
り立つ。Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｏｕｇｕｅｒの法則によ
り、入射光の放射束ｉに対する透過光の放射束ｔの比の
対数は、物体を透過する光の透過距離ｘに比例するの
で、Ｉｎ（ｔ／ｉ）＝−ｋｘの関係が成り立つ。このと
きの比例計数ｋを吸収係数という。基体上に薄膜を形成
した場合、薄膜の表面の反射と、基体と薄膜との界面で
の反射とが生じ、これら二つの反射光が干渉するため、
吸収係数ｋは薄膜の反射率にも影響する。この吸収係数
ｋが０．０５未満であると、薄膜の厚さｘが同じ場合、
入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが大きくな
り着色性が弱く、コントラストが悪くなる。一方、１．
０を越えると、入射光の放射束ｉに対して透過光の放射
束ｔが小さくなり着色性が強すぎて薄膜の裏面反射率が
大きくなり、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用
ガラスパネル上に薄膜を形成すると、陰極線管に映し出
された映像が二重に見えることになる。

【００２８】さらに幾何学的厚みとは、λ／４等の光学
的厚みとは区別されるものであり、波長に依存しない厚
みを意味するものである。

【００２９】また本発明においては、上記した３つの層
に加えて、必要に応じて膜の密着性を向上させたり、色
調を調整する目的で、付加的な薄膜層を適宜設けること
も可能である。

【００３０】

【実施例】以下、本発明を実施例と比較例に基づいて詳
細に説明する。

【００３１】（実施例）まずフェース部の外表面の平均
曲率半径の最小値（フェース部中央を通る全放射方向に
おいて）が５００００ｍｍで、肉厚を１０．１６ｍｍに
換算した場合の波長５５０ｎｍにおける光透過率が８０
％のガラスからなる陰極線管用ガラスパネル（２１イン
チサイズ）を準備し、その外表面を酸化セリウムで研磨
した後、洗浄し、乾燥させた。次いで、このガラスパネ
ルを予熱処理することによって表面を約４０℃に温めた
後、スピンコート装置にセットし、回転数４０〜１５０
ｒｐｍで回転させながら、ガラスパネルの上方に設置さ
れた第１の液ノズルからＳｉＯ₂を含む溶液を滴下し
た。この時、第１の液ノズルは、ガラスパネルの中心付
近から周辺に向かって５０〜５００ｍｍ／分の速度で移
動するようにした。このようにしてＳｉＯ₂を含む溶液
をガラスパネルのフェース部外表面に対して均一に塗布
し、乾燥させた後、ガラスパネルをスピンコート装置か
ら取り出し、電気炉に入れ、２００℃、２０分間の条件
で焼成することによって下地層（幾何学的厚み１５０ｎ
ｍ）を形成した。

【００３２】こうして下地層が形成されたガラスパネル
の外表面を再度酸化セリウムで研磨した後、洗浄し、乾
燥させ、上記と同様に予熱を施した。次いでガラスパネ
ルをスピンコート装置にセットした後、回転数４０〜１
５０ｒｐｍで回転させながら、ガラスパネルの上方に設
置され、第１の液ノズルに隣接する第２の液ノズルから
ルテニウム金属微粒子とコバルトブルー微粒子を含む溶
液を上記と同様の方法で滴下した。このようにしてルテ
ニウム金属微粒子とコバルトブルー微粒子を含む溶液を
ガラスパネルのフェース部外表面に対して均一に塗布
し、乾燥させた後、引き続きガラスパネルを回転数４０
〜１５０ｒｐｍで回転させながら、再度、第１の液ノズ
ルからＳｉＯ₂を含む溶液を上記と同様の方法でフェー
ス部外表面に滴下した。このようにして下地層上に、金
属微粒子と無機顔料微粒子を含む溶液と、ＳｉＯ₂を含
む溶液をガラスパネルのフェース部外表面に対して均一
に塗布、乾燥後、ガラスパネルをスピンコート装置から
取り出してから、電気炉に入れ、４５０℃、３０分間の
条件で焼成することによって着色層（幾何学的厚み１２
０ｎｍ）と透明層（幾何学的厚み６０ｎｍ）を形成し
た。

【００３３】（比較例１）ガラスパネルのフェース部外
表面に、ＳｉＯ₂を含む溶液をスピンコート法で塗布
し、乾燥させた後、引き続きルテニウム金属微粒子とコ
バルトブルー微粒子を含む溶液をスピンコート法で塗布
し、乾燥させてから、さらにＳｉＯ₂を含む溶液をスピ
ンコート法で塗布し、乾燥させた後、電気炉で一括して
同時焼成（４５０℃、３０分間）することによってガラ
スパネルのフェース部外表面に、下地層、着色層及び透
明層からなる３層膜を形成した。尚、ガラスパネルの形
状、研磨、洗浄、乾燥、予熱、スピンコートの各条件、
各層の幾何学的厚みは、全て実施例と同様とした。

【００３４】（比較例２）ガラスパネルのフェース部外
表面に、ルテニウム金属微粒子とコバルトブルー微粒子
を含む溶液をスピンコート法で塗布し、乾燥してから、
引き続きＳｉＯ₂を含む溶液を塗布、乾燥した後、電気
炉で一括して同時焼成（４５０℃、３０分間）すること
によってガラスパネルのフェース部外表面に、着色層と
透明層からなる２層膜を形成した。尚、ガラスパネルの
形状、研磨、洗浄、乾燥、予熱、スピンコートの各条
件、着色層と透明層の幾何学的厚みは、全て実施例の着
色層と透明層と同様とした。

【００３５】こうして得られた実施例と比較例１、２の
各ガラスパネルを箱型電気炉に入れ、４５０℃、６０分
間の条件で熱処理し、熱処理前後の波長５５０ｎｍにお
ける表面反射率と抵抗値、熱処理後の裏面反射率を測定
すると共に、膜ムラ発生率と黒シミ個数を調べ、その結
果を表１に示した。因みに、上記の各導電性反射防止膜
は、波長５５０ｎｍにおける総合透過率（膜とガラスの
透過率の積）が５０％となるように調整した。

【００３６】

【表１】

【００３７】表１から明らかなように、実施例の膜は、
熱処理前と熱処理後の表面反射率の変動が小さく、抵抗
値の変動も小さかった。また裏面反射率が、１．５％で
あり、ガラスの反射率である４．５％より低いため、陰
極線管の映像が二重に見えることがないと推測される。
さらに実施例の膜は、膜ムラが発生せず、黒シミも非常
に少なかった。

【００３８】それに対し、比較例１、２の膜は、表面反
射率、抵抗値、裏面反射率についてはいずれも良好な値
を示したが、実施例に比べて膜ムラの発生や黒シミ個数
が多かった。

【００３９】尚、表中の表面反射率は、瞬間マルチ反射
率測定器を用いて１５°正反射を測定したものである。
また抵抗値は、ガラスパネルのフェース部の短辺両側の
中央部に超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗
をテスターで測定したものである。さらに裏面反射率
は、株式会社日立製作所製自記分光光度計Ｕ−４０００
を用い、ガラスの反射率と吸収率を考慮して求めたもの
である。また膜ムラ発生率と黒シミ個数は、各試料を１
０個毎作製し、透過光検査により着色層に膜ムラが発生
した試料数と、黒シミの総個数を目視で確認して求め
た。

【００４０】

【発明の効果】以上のように本発明の方法によって製造
される導電性反射防止膜は、反射光の低減、コントラス
トの向上、帯電防止及び電磁波遮蔽について優れた能力
を有し、４００℃以上の熱処理を施す前後の反射率や抵
抗値の変動が小さく、また光透過率の高い陰極線管用ガ
ラスパネルのフェース部外表面に被覆形成しても、裏面
反射率が低いため、映像が二重に見えることがなく、し
かも膜ムラや黒シミの発生を抑えることができ、特にフ
ェース部外表面が平坦な陰極線管用フラットガラスパネ
ルに成膜される導電性反射防止膜として好適である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｂ 13/00 ５０３ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０１Ｊ 9/20 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA02 CC03 CC06 CC09 CC14 DD02 EE01 EE03 4F100 AA01C AA17C AA20B AB01C AB24C AB25C AG00A AT00A BA04 BA10A BA10D CA13C CA23C DE01C EH46B EJ48B GB41 HB00C JG01 JL10C JN01A JN01D JN06 JN18B JN18C JN18D JN30C YY00A YY00B YY00C YY00D 5C028 AA04 AA10 5G323 AA03

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体上に、Ｓｉを含む溶液を塗布し、２
   ００℃以上の温度で焼成することによって可視光の屈折
   率が１．７以下の下地層を形成した後、前記下地層の上
   に、金属微粒子と無機顔料微粒子を含み、屈折率が１．
   ２〜２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜１．０の着
   色層を形成し、前記着色層の上に、可視光の屈折率が
   １．３〜１．６の透明層を形成することを特徴とする導
   電性反射防止膜の製造方法。
2. 【請求項２】 着色層が、金、銀、白金族の元素から選
   ばれる少なくとも１種の金属微粒子と、コバルト含有無
   機顔料微粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の導
   電性反射防止膜の製造方法。
3. 【請求項３】 基体が、フェース部の外表面の平均曲率
   半径がフェース部中央を通る全放射方向において１００
   ００ｍｍ以上であり、肉厚を１０．１６ｍｍに換算した
   場合の波長５５０ｎｍにおける光透過率が７０％以上の
   ガラスからなる陰極線管用ガラスパネルであることを特
   徴とする請求項１記載の導電性反射防止膜の製造方法。