JP2002148025A - 3次元形状測定装置 - Google Patents

3次元形状測定装置

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JP2002148025A
JP2002148025A JP2000342539A JP2000342539A JP2002148025A JP 2002148025 A JP2002148025 A JP 2002148025A JP 2000342539 A JP2000342539 A JP 2000342539A JP 2000342539 A JP2000342539 A JP 2000342539A JP 2002148025 A JP2002148025 A JP 2002148025A
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JP2000342539A
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Hiroyuki Suhara
浩之 須原
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型であって簡単な構成であり、信頼性の高
い高精度測定が可能である3次元形状測定装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明は、微小開口を有しこの微小開口
に光放射装置1光を照射することにより光プローブとな
る球面波を発生させて被測定物8に照射する微小開口形
成部材2と、被測定物8からの反射光のうち前記微小開
口に再入射する戻り光を受けてこの戻り光の基準点から
の距離に基づいて被測定物8の測定面の基準面に対する
傾斜角度を計測する傾斜角度計測装置PS1と、前記戻
り光および参照光を受けてこれらの戻り光および参照光
が形成する干渉縞の強度の変化を検出することにより被
測定物8と微小開口形成部材2との相対的な変位量を計
測する変位量計測装置PD1とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定物の3次元
形状を測定する3次元形状測定装置に関し、特にレンズ
の面形状を測定する3次元形状測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、複写機などの画像形成装置の
光書込光学装置に搭載されるfθレンズやカメラ用のレ
ンズの面形状及び面精度を高精度に計測する必要があ
り、複数の測定装置が知られている。近年において非球
面の加工技術の発達に伴い、ますます測定装置の精度が
高いものが要求さっれている。特に、fθレンズなどの
被測定物の測定装置においては、精度が高く、測定範囲
が広いことが要求され、かつ、傾斜角が大きい自由曲面
形状を測定することができるものが要求されている。こ
れらの要求に対応する3次元形状測定装置として、特開
平11−211427号公報に記載のものが提案されて
いる。この特開平11−211427号公報に記載の3
次元形状測定装置は、3軸の直進ステージと、2軸の回
転ステージおよび6軸の位置検出用のレーザー測長機を
有する構成となっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の3次元形状測定装置においては、非常に装置が大型
であって複雑であり、かつ、動作が不安定になりがちで
あるという問題がある。本発明の課題は、小型であって
簡単な構成であり、信頼性の高い高精度測定が可能であ
る3次元形状測定装置を提供することにある。本発明の
他の課題は、形状の測定値と真直度誤差を分離すること
ができる高精度な3次元形状計測装置を提供することに
ある。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項1に記載の発明は、光を放射する光放射手段
と、微小開口を有しこの微小開口に前記光放射手段から
の光を照射することにより光プローブとなる球面波を発
生させて被測定物に照射する微小開口形成部材と、前記
被測定物からの反射光のうち前記微小開口に再入射する
戻り光を受けてこの戻り光の基準点からの距離に基づい
て前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜角度を計
測する傾斜角度計測手段と、前記戻り光および参照光を
受けてこれらの戻り光および参照光が形成する干渉縞の
強度の変化を検出することにより前記被測定物を前記微
小開口形成部材に対し相対的に移動した時における前記
被測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位量を
計測する変位量計測手段とを有することを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、光を放射する光放射手段と、
複数の微小開口を有しこれらの微小開口に前記光放射手
段からの光を照射ことにより複数の光プローブとなる球
面波を発生させて被測定物に照射する微小開口形成部材
と、前記被測定物からの反射光のうち前記微小開口に再
入射する戻り光を受けてこの戻り光の基準点からの距離
に基づいて前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜
角度を計測する傾斜角度計測手段と、前記戻り光および
参照光を受けてこれらの戻り光および参照光が形成する
干渉縞の強度の変化を検出することにより前記被測定物
を前記微小開口形成部材に対し相対的に移動した時にお
ける前記被測定物と前記微小開口形成部材との相対的な
変位量を計測する変位量計測手段とを有することを特徴
とする。請求項3に記載の発明は、光を放射する光放射
手段と、複数の微小開口を有しこれらの微小開口に前記
光放射手段からの光を照射ことにより複数の光プローブ
となる球面波を発生させて被測定物に照射する微小開口
形成部材と、前記被測定物からの反射光のうち前記微小
開口に再入射する戻り光を受けてこの戻り光の基準点か
らの距離に基づいて前記被測定物の測定面の基準面に対
する傾斜角度を計測する傾斜角度計測手段と、前記戻り
光および参照光を受けてこれらの戻り光および参照光が
形成する干渉縞の強度の変化を検出することにより前記
被測定物を前記微小開口形成部材に対し相対的に移動し
た時における前記被測定物と前記微小開口形成部材との
相対的な変位量を計測する変位量計測手段と、前記傾斜
角度計測手段および変位量計測手段からの前記複数の光
プローブに基づいた前記傾斜角度の計測値および前記変
位量の計測値により形状の計測値と真直度誤差とを分離
する計測値演算手段とを有することを特徴とする。
【0005】請求項4に記載の発明は、請求項2または
3に記載の3次元形状測定装置において、前記光放射手
段は、異なる波長の光を放射する複数の光源を有し、こ
れらの光源から放射される異なる波長の光をそれぞれ前
記微小開口形成部材の前記複数の微小開口に照射するこ
とを特徴とする。請求項5に記載の発明は、請求項1乃
至4のいずれか1つに記載の3次元形状測定装置におい
て、前記微小開口形成部材の前記微小開口と前記被測定
物との間に配置され前記戻り光のみを選択的に通過させ
る戻り光通過手段を有することを特徴とする。請求項6
に記載の発明は、請求項5に記載の3次元形状測定装置
において、前記戻り光通過手段は、偏光素子で構成され
ていることを特徴とする。請求項7に記載の発明は、請
求項2乃至4のいずれか1つに記載の3次元形状測定装
置において、前記光放射手段と前記微小開口形成部材と
の間に配置され前記光放射手段からの光を2つの偏光光
束に分離する光束分離手段を有することを特徴とする。
請求項8に記載の発明は、異なる第1および第2の波長
の第1の光束および第2の光束を放射する2つの光源を
有する光放射手段と、この光放射手段からの前記第1の
光束および第2の光束を分離してそれぞれ第1の被測定
光と第1の参照光および第2の被測定光と第2の参照光
を生成する被測定参照光分離手段と、2つの微小開口を
有しこれらの微小開口に前記第1の被測定光および第2
の被測定光を照射ことにより第1および第2の光プロー
ブとなる第1および第2の球面波を発生させて被測定物
に照射する微小開口形成部材と、前記第1および第2の
光プローブを受けた前記被測定物からの第1および第2
の反射光のうち前記微小開口に再入射する第1および第
2の戻り光を受けてこれらの戻り光の基準点からの距離
に基づいて前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜
角度を計測する第1および第2の傾斜角度計測手段と、
前記第1の戻り光および前記第2の参照光を受けてこれ
らの第1の戻り光および第2の参照光が形成するヘテロ
ダイン干渉縞の強度の変化を検出することにより前記被
測定物を前記微小開口形成部材に対し相対的に移動した
時における前記被測定物と前記微小開口形成部材との相
対的な変位量を計測する第1の変位量計測手段と、前記
第2の戻り光および前記第1の参照光を受けてこれらの
第2の戻り光および第1の参照光が形成するヘテロダイ
ン干渉縞の強度の変化を検出することにより前記被測定
物を前記微小開口形成部材に対し相対的に移動した時に
おける前記被測定物と前記微小開口形成部材との相対的
な変位量を計測する第2の変位量計測手段とを有するこ
とを特徴とする。
【0006】請求項9に記載の発明は、異なる第1およ
び第2の波長の第1の光束および第2の光束を放射する
2つの光源を有する光放射手段と、この光放射手段から
の前記第1の光束および第2の光束を分離してそれぞれ
第1の被測定光と第1の参照光および第2の被測定光と
第2の参照光を生成する被測定参照光分離手段と、2つ
の微小開口を有しこれらの微小開口に前記第1の被測定
光および第2の被測定光を照射ことにより第1および第
2の光プローブとなる第1および第2の球面波を発生さ
せて被測定物に照射する微小開口形成部材と、前記第1
および第2の光プローブを受けた前記被測定物からの第
1および第2の反射光のうち前記微小開口に再入射する
第1および第2の戻り光を受けてこれらの戻り光の基準
点からの距離に基づいて前記被測定物の測定面の基準面
に対する傾斜角度を計測する第1および第2の傾斜角度
計測手段と、前記第1の戻り光および前記第2の参照光
を受けてこれらの第1の戻り光および第2の参照光が形
成するヘテロダイン干渉縞の強度の変化を検出すること
により前記被測定物を前記微小開口形成部材に対し相対
的に移動した時における前記被測定物と前記微小開口形
成部材との相対的な変位量を計測する第1の変位量計測
手段と、前記第2の戻り光および前記第1の参照光を受
けてこれらの第2の戻り光および第1の参照光が形成す
るヘテロダイン干渉縞の強度の変化を検出することによ
り前記被測定物を前記微小開口形成部材に対し相対的に
移動した時における前記被測定物と前記微小開口形成部
材との相対的な変位量を計測する第2の変位量計測手段
と、前記第1および第2の傾斜角度計測手段および前記
第1および第2の変位量計測手段からの前記第1および
第2の光プローブに基づいた前記傾斜角度の計測値およ
び前記変位量の計測値により形状の計測値と真直度誤差
とを分離する計測値演算手段とを有することを特徴とす
る。
【0007】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施
の形態としての3次元形状測定装置を示す概略正面図で
ある。図2は図1の3次元形状測定装置の1部を拡大し
て示す部分拡大図である。図1に示すように、本発明の
第1の実施の形態としての3次元形状測定装置は、光放
射装置(光放射手段)1と、微小開口形成部材2と、ビ
ームスプリッタBS1、BS2と、参照光反射鏡3と、
λ/4板4、5と、対物レンズ6と、傾斜角計測装置
(傾斜角計測手段)PS1と、変位量計測装置(変位量
計測手段)PD1および結像レンズ7とを有している。
光放射装置1は、光を放射するレーザ装置1aと、この
レーザ装置1aから放射される光束を拡大して平行な光
束とする光束エキスバンダ1bとで構成されている。微
小開口形成部材2は、微小開口PHを有している。ビー
ムスプリッタBS1は、光束エキスバンダ1bと微小開
口形成部材2との間に配置されている。ビームスプリッ
タBS2は、ビームスプリッタBS1と微小開口形成部
材2との間に配置されている。参照光反射鏡3は、ビー
ムスプリッタBS1の直上に配置されている。λ/4板
4は、ビームスプリッタBS1と参照光反射鏡3との間
に配置されている。λ/4板5は、ビームスプリッタB
S1とビームスプリッタBS2の間に配置されている。
対物レンズ6は、ビームスプリッタBS2と微小開口形
成部材2との間に配置されている。傾斜角計測装置PS
1は、ビームスプリッタBS2の直下に配置されてい
る。変位量計測装置PD1は、ビームスプリッタBS1
の直下に配置されている。結像レンズ7は、ビームスプ
リッタBS1と変位量計測装置PD1との間に配置され
ている。ビームスプリッタBS1は、光放射装置1から
の光束を分離して被測定光と参照光とにし、被測定光を
対物レンズ6の方向へ向け、かつ、参照光を参照光反射
鏡3の方向へ向ける。ビームスプリッタBS1からの参
照光はλ/4板4を通って参照光反射鏡3に入射され
る。参照光反射鏡3は、ビームスプリッタBS1からの
参照光を反射してλ/4板4およびビームスプリッタB
S1を介して対物レンズ7に入射させる。対物レンズ7
は、参照光反射鏡3からの参照光を結像して変位量計測
装置PD1に入射させる。
【0008】一方、ビームスプリッタBS1からの被測
定光は、λ/4板5およびビームスプリッタBS2を通
って対物レンズ6に入射する。対物レンズ6は、ビーム
スプリッタBS2からの被測定光を結像して微小開口形
成部材2の微小開口PHに照射する。微小開口形成部材
2は、微小開口PHに被測定光が照射されると回折光ま
たは直接光により光プローブとなる球面波を発生させて
被測定物8に照射する。光プローブである被測定光が曲
面を有する被測定物8に照射されると、被測定物8から
の反射光のうち波面の方向ベクトルと被測定面の法線ベ
クトルが一致した部分だけが、微小開口PHを再び通過
することができる。波面の方向ベクトルと被測定面の法
線ベクトルが一致しない面からの反射光は、微小開口P
Hを通過せず微小開口形成部材2の遮光部で遮光され
る。被測定光である戻り光は、対物レンズ6を通過した
後にビームスプリッタBS2により分離されて、一方の
戻り光は傾斜角度計測装置PS1へ向けられ、かつ、他
方の戻り光はビームスプリッタBS1へ向けられる。傾
斜角度計測装置PS1は、ビームスプリッタBS2から
の戻り光を受けてこの戻り光の基準点からの距離に基づ
いて被測定物の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測
する。ビームスプリッタBS2を通過した戻り光は、λ
/4板5を通過してビームスプリッタBS1に入射す
る。ビームスプリッタBS1は、ビームスプリッタBS
2からの戻り光を受けて分離して一方の戻り光を結像レ
ンズ7の方向へ向ける。結像レンズ7は、ビームスプリ
ッタBS1からの戻り光を結像して変位量計測装置PD
1に入射させる。したがって、変位量計測装置PD1
は、ビームスプリッタBS1からの戻り光と参照光反射
鏡3からの参照光とを受け、これらの戻り光および参照
光が形成する干渉縞の強度の変化を検出することにより
被測定物8を微小開口形成部材2に対し相対的に移動し
た時における被測定物8と微小開口形成部材2との相対
的な変位量を計測する。この場合に、戻り光と参照光の
強度比を約1:1としてコントラストが最良となるように
参照光反射鏡3の反射率を予め適切に設定しておくとよ
く、また、参照光反射鏡3とビームスプリッタBS1と
の間に可変の光量減衰板を配置して戻り光と参照光の強
度比を調整するようにしてもよい。
【0009】図3に示すように、光を偏光ビームスプリ
ッタBS3で分離して分離した光を偏光子9、10を通
して受光素子11、12に入射させる場合に、受光素子
12は、位相をπ/2づつシフトした光を受けることがで
きる。そこで、変位量を計測する場合に、参照光と被測
定光の偏光方向を直交状態とし、変位量計測装置PD1
において位相をπ/2づつシフトした2つ以上の干渉光を
取り込むことにより、さらにS/N比の高い測定をする
ことができる(図3参照)。このような構成を実現する
ためには、図1に示す3次元形状測定装置において、ビ
ームスプリッタBS1は偏光ビームスプリッタを用い、
かつ、偏光状態を変換するλ/4板4、5を配置すると良
い。被測定物8の移動量xと、被測定物8の傾斜角θと
変位量ΔLを計測することによって、被測定物8の面の
位置が一意的に決まる。x、θとΔLより被測定物8の曲
面座標を算出する方法を図2に基づいて説明する。ここ
でxyzの座標軸は図2のように定義する。計算を簡単に
するためにxz断面の形状を測定する場合で、光学系側が
相対的に移動するものとする。微小開口点O=O(x(t),z
0)、L=L(t)、θ=θ(t)とすれば、曲面上の点P=P(x,z)
は、P(x,z)=(x(t)-L(t)sin{θ(t)},z0-L(t)cos{θ(t)})
(ただし、L(t)=L(0)+∫ΔL(t)dt)とう式で表わすこと
ができる。3次元計測の場合にも同様で、2次元のエリ
アセンサで、戻り光の入射角の方向を2次元ベクトル的
に検出し、被測定物8を2軸方向に相対的に移動するこ
とにより、任意曲面の点P(x,y,z)の座標を算出すること
ができる。2軸の方向は、xy軸に平行でなくとも独立で
あればよい。
【0010】次に、本発明の第2の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図4は、本発明の第2の実施の形態
としての3次元形状測定装置の要部を示す図である。本
発明の第2の実施の形態としての3次元形状測定装置
は、図1に示す本発明の第1の実施の形態において、光
放射装置が異なる波長λ1および波長λ2の光束を放射
する2つの光源を有し、微小開口形成部材2が2つの微
小開口PH1、PH2を有し、微小開口PH1、PH2
が被測定物8の移動方向において距離dだけ離れてい
る。光放射装置1は波長λ1および波長λ2を有する光
束をそれぞれ微小開口形成部材2の微小開口PH1、P
H2に照射することにより2つの光プローブとなる球面
波を発生させて被測定物8に照射する。1つの球面波を
用いた3次元形状測定装置の場合には、被測定物8の移
動時にz軸方向の真直度誤差がそのまま変位量として光
信号に乗ってしまうため、形状の測定値と移動時に起こ
る真直度誤差との区別がつかない。このため、1つの球
面波を用いた3次元形状測定装置の場合には、要求精度
に比べて十分小さい真直度誤差の範囲で走査しなければ
ならない。しかしながら、2つの球面波を同時に被測定
物8に照射する3次元形状測定装置の場合には、真直度
誤差が同時刻に現れ、かつ、被測定物8の形状の測定値
は距離dに相当する時間分だけ遅れて現れるので、形状
の測定値と真直度誤差とを区別することができる。この
ため、2つの光プローブによる測定値を比較することに
よって、測定値から真直度誤差の成分を取り除くことが
できる(図5参照)。なお、図4に示す本発明の第2の
実施の形態において、微小開口PH1より照射した1つ
の光プローブが、微小開口PH2から戻るとゴーストと
なり、誤差を生じる可能性がある。微小開口PH1から
出射した光のみ微小開口PH1に戻り、かつ、微小開口
PH1から出射した光のみ微小開口PH1に戻る構成と
することが望ましい。このため、微小開口形成部材2の
微小開口PH1、PH2と被測定物8との間に戻り光の
みを選択的に通過させる戻り光選択フィルタ(戻り光通
過手段)13を配置すると良い。戻り光選択フィルタ1
3としては、波長の異なる複数の光源を用い、かつ、色
フィルタを用いる手段や、偏光成分が異なる光プローブ
を偏光フィルタで選択的に通過させる手段がある。
【0011】次に、本発明の第3の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図6は、本発明の第3の実施の形態
としての3次元形状測定装置を示す概略正面図である。
図7は図6の3次元形状測定装置の戻り光を説明するた
めの概略正面図である。本発明の第3の実施の形態にお
ては、本発明の第1および第2の実施の形態と同じ構成
要素には同じ参照符号が付されている。図6に示すよう
に、本発明の第3の実施の形態としての3次元形状測定
装置は、光放射装置1と、微小開口形成部材2と、ビー
ムスプリッタBS1、BS2と、参照光反射鏡14と、
ビームスプリッタPBS1、PBS2と、対物レンズ6
と、ウォラストンプリズム(光束分離手段)WPと、傾
斜角計測装置PS1、PS2と、変位量計測装置PD
1、PD2と、結像レンズ15、16および計測値演算
装置(計測値演算手段)17とを有している。傾斜角計
測装置PS1、PS2および変位量計測装置PD1、P
D2は、計測値演算装置17に接続されている。光放射
装置1は、直交偏光成分を有する光束を放射するレーザ
装置1aと、このレーザ装置1aから放射される光束を
拡大して平行な光束とする光束エキスバンダ1bとで構
成されている。微小開口形成部材2は、2つの微小開口
PH1、PH2を有している。ビームスプリッタBS1
は、光束エキスバンダ1bと微小開口形成部材2との間
に配置されている。ビームスプリッタBS2は、ビーム
スプリッタBS1と微小開口形成部材2との間に配置さ
れている。参照光反射鏡14は、ビームスプリッタBS
1の直下に配置されている。ビームスプリッタPBS1
は、参照光反射鏡14と結像レンズ16との間に配置さ
れている。ビームスプリッタPBS1の直下には、結像
レンズ15が配置されている。結像レンズ15による参
照光の結像位置には、変位量計測装置PD1が配置され
ている。また、結像レンズ16による参照光の結像位置
には、変位量計測装置PD2が配置されている。
【0012】ビームスプリッタBS1は、光放射装置1
からの放射される直交偏光成分を有する光束を2つに分
離して被測定光Tesと参照光Refにし、被測定光T
esをビームスプリッタBS2の方向へ向け、かつ、参
照光Refを参照光反射鏡14の方向へ向ける。参照光
反射鏡14は、ビームスプリッタBS1からの参照光R
efをビームスプリッタPBS1の方向へ向ける。ビー
ムスプリッタPBS1は、参照光反射鏡14からの参照
光Refを2つに分離して2つの参照光Refにし、一
方の参照光Refを結像レンズ15の方向へ向け、か
つ、他方の参照光Refを結像レンズ16の方向へ向け
る。結像レンズ15は、ビームスプリッタPBS1から
の参照光Refを結像して変位量計測装置PD1に入射
させる。また、結像レンズ16は、ビームスプリッタP
BS1からの参照光Refを結像して変位量計測装置P
D2に入射させる。ウォラストンプリズムWPは、ビー
ムスプリッタBS2と対物レンズ6との間に配置されて
いる。ビームスプリッタPBS2は、ビームスプリッタ
BS1の直上に配置されている。傾斜角計測装置PS1
は、ビームスプリッタPBS2の直上に配置されてい
る。また、傾斜角計測装置PS2は、ビームスプリッタ
PBS2の横に配置されている。ウォラストンプリズム
WPは、ビームスプリッタBS1からの被測定光Tes
をビームスプリッタBS2を介して受け、異なる角度を
もった2つの偏光された被測定光Tesに分離して対物
レンズ6に入射させる。対物レンズ6は、ウォラストン
プリズムWRからの2つの被測定光Tesを結像して微
小開口形成部材2の微小開口PH1、PH2に照射す
る。対物レンズ6は、2つの被測定光Tesを距離dだ
け離れたところに集光することができるので、これらの
集光位置に2つの微小開口PH1、PH2を配置するこ
とにより2つの光プローブである被測定光Tesを発生
することができる。微小開口PH1、PH2の対物レン
ズ側の近傍には、それぞれ偏光板POL1、POL2が
配置されている。偏光板POL1、POL2は、それぞ
れ入射される被測定光Tesの偏光成分と同じ方向のみ
を透過する。これにより、2つの光プローブである被測
定光Tesのクロストークが抑えられる。
【0013】図7において、微小開口PH1を通過した
光プローブである被測定光Tesに注目すると、被測定
物8の面から反射され、法線方向が入射方向と一致した
反射光のみが再び微小開口PH1を通過し戻り光となっ
て傾斜角計測定装置PS1および変位量計測装置PD1
に達する。傾斜角計測定装置PS1は、戻り光を受けて
この戻り光の基準点からの距離に基づいて被測定物8の
測定面の基準面に対する傾斜角度を計測する。変位量計
測装置PD1は、戻り光と参照光とを受け、これらの戻
り光および参照光が形成する干渉縞の強度の変化を検出
することにより被測定物8を微小開口形成部材2に対し
相対的に移動した時における被測定物と微小開口形成部
材2との相対的な変位量を計測する。微小開口PH2を
通過した光プローブである被測定光Tesに注目する
と、被測定物8の面から反射され、法線方向が入射方向
と一致した反射光のみが再び微小開口PH2を通過し戻
り光となって傾斜角計測定装置PS2および変位量計測
装置PD2に達する。傾斜角計測定装置PS2は、戻り
光を受けてこの戻り光の基準点からの距離に基づいて被
測定物8の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測す
る。変位量計測装置PD2は、戻り光と参照光とを受
け、これらの戻り光および参照光が形成する干渉縞の強
度の変化を検出することにより被測定物8を微小開口形
成部材2に対し相対的に移動した時における被測定物8
と微小開口形成部材2との相対的な変位量を計測する。
計測値演算装置17は、傾斜角度計測装置PS1、PS
2および変位量計測装置PD1、PD2からの2つの光
プローブに基づいた傾斜角度の計測値および変位量の計
測値により形状の計測値と真直度誤差とを分離して前記
傾斜角度の計測値および変位量の計測値から前記真直度
誤差の成分を取り除く。
【0014】次に、本発明の第4の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図8は、本発明の第4の実施の形態
としての3次元形状測定装置を示す概略正面図である。
図9は図7の3次元形状測定装置の戻り光を説明するた
めの概略正面図である。本発明の第4の実施の形態にお
ては、本発明の第1乃至3の実施の形態と同じ構成要素
には同じ参照符号が付されている。図8に示すように、
本発明の第4の実施の形態としての3次元形状測定装置
は、光放射装置1と、微小開口形成部材2と、ビームス
プリッタBS1、BS2と、参照光反射鏡3と、λ/4板
4と、ビームスプリッタPBS1、PBS2と、対物レ
ンズ6と、ウォラストンプリズムWPと、傾斜角計測装
置PS1、PS2と、変位量計測装置PD1、PD2
と、結像レンズ15、16および計測値演算装置17と
を有している。傾斜角計測装置PS1、PS2および変
位量計測装置PD1、PD2は、計測値演算装置17に
接続されている。光放射装置1は、2周波数f1、f2
の直交偏光の光束を放射するゼーマンレーザ装置1c
と、このゼーマンレーザ装置1cから放射される光束を
拡大して平行な光束とする光束エキスバンダ1bとで構
成されている。微小開口形成部材2は、2つの微小開口
PH1、PH2を有している。ビームスプリッタBS1
は、光束エキスバンダ1bと微小開口形成部材2との間
に配置されている。ビームスプリッタBS2は、ビーム
スプリッタBS1と微小開口形成部材2との間に配置さ
れている。参照光反射鏡3は、ビームスプリッタBS1
の直上に配置されている。λ/4板4は、ビームスプリッ
タBS1と参照光反射鏡3との間に配置されている。ビ
ームスプリッタPBS1は、ビームスプリッタBS1の
直下に配置されている。ビームスプリッタPBS1は、
ビームスプリッタBS2の直下に配置されている。ビー
ムスプリッタPBS1の直下には、結像レンズ15が配
置されている。また、ビームスプリッタPBS1の横に
は、結像レンズ16が配置されている。結像レンズ15
による参照光の結像位置には、変位量計測装置PD1が
配置されている。また、結像レンズ16による参照光の
結像位置には、変位量計測装置PD2が配置されてい
る。
【0015】ビームスプリッタBS1は、光放射装置1
から放射される2周波数f1、f2の直交偏光の光束を
2つに分離して被測定光と参照光にし、被測定光をビー
ムスプリッタBS2の方向へ向け、かつ、参照光を参照
光反射鏡3の方向へ向ける。ここで、便宜上、周波数f
1、f2の参照光をRef_f1、Ref_f2とし、ま
た、周波数f1、f2の被測定光をTes_f1、Te
s_f2とする。図中の丸と矢印は、偏光方向を表す。
ヘテロダイン干渉を起こすためには、Ref_f1とT
es_f2とが干渉し、Ref_f2とTes_f1とが
とが干渉するように光学系を構成すればよい。ビームス
プリッタBS1は、光放射装置1から放射される光束を
2つに分離して被測定光Tes_f1、Tes_f2と参
照光Ref_f1、Ref_f2にし、被測定光Tes_
f1、Tes_f2をビームスプリッタBS2の方向へ
向け、かつ、参照光Ref_f1、Ref_f2を参照光
反射鏡3の方向へ向ける。参照光反射鏡3は、ビームス
プリッタBS1からの参照光Ref_f1、Ref_f2
をλ/4板4を介して受けて反射してビームスプリッタ
BS1の方向へ向ける。参照光反射鏡3から反射された
参照光Ref_f1、Ref_f2は、λ/4板4および
ビームスプリッタBS1を通過してビームスプリッタP
BS1に入射する。ビームスプリッタPBS1は、参照
光反射鏡3からの参照光Ref_f1、Ref_f2を2
つに分離して2つの参照光Ref_f1、Ref_f2に
し、一方の参照光Ref_f1、Ref_f2を結像レン
ズ15の方向へ向け、かつ、他方の参照光Ref_f
1、Ref_f2を結像レンズ16の方向へ向ける。結
像レンズ15は、ビームスプリッタPBS1からの参照
光Ref_f1、Ref_f2を結像して変位量計測装置
PD1に入射させる。また、結像レンズ16は、ビーム
スプリッタPBS1からの参照光Ref_f1、Ref_
f2を結像して変位量計測装置PD2に入射させる。ウ
ォラストンプリズムWPは、ビームスプリッタBS2と
対物レンズ6との間に配置されている。ビームスプリッ
タPBS2は、ビームスプリッタBS1の直下に配置さ
れている。傾斜角計測装置PS1は、ビームスプリッタ
PBS2の直下に配置されている。また、傾斜角計測装
置PS2は、ビームスプリッタPBS2の横に配置され
ている。ウォラストンプリズムWPは、ビームスプリッ
タBS1からの被測定光Tes_f1、Tes_f2をを
ビームスプリッタBS2を介して受け、異なる周波数お
よび角度をもった2つの偏光された被測定光Tes_f
1と被測定光Tes_f2に分離して対物レンズ6に入
射させる。対物レンズ6は、ウォラストンプリズムWP
からの2つの被測定光Tes_f1、Tes_f2を結像
して微小開口形成部材2の微小開口PH1、PH2に照
射する。対物レンズ6は、2つの被測定光Tes_f
1、Tes_f2を距離dだけ離れたところに集光する
ことができるので、これらの集光位置に2つの微小開口
PH1、PH2を配置することにより2つの光プローブ
を発生することができる。微小開口PH1、PH2の対
物レンズ側の近傍には、それぞれ偏光板POL1、PO
L2が配置されている。偏光板POL1、POL2は、
それぞれ入射される被測定光Tes_f1、Tes_f2
の偏光成分と同じ方向および周波数のみを透過する。こ
れにより、2つの光プローブである被測定光Tes_f
1、Tes_f2のクロストークが抑えられる。
【0016】図9において、微小開口PH1を通過した
光プローブである被測定光Tes_f1に注目すると、
被測定物8の面からの反射光され、法線方向が入射方向
と一致した反射光のみが再び微小開口PH1を通過し戻
り光となって傾斜角計測定装置PS1および変位量計測
装置PD1に達する。傾斜角計測定装置PS1は、戻り
光である被測定光Tes_f1を受けてこの戻り光の基
準点からの距離に基づいて被測定物8の測定面の基準面
に対する傾斜角度を計測する。変位量計測装置は、戻り
光であると被測定光Tes_f1と参照光Ref_f1、
Ref_f2とを受け、戻り光である被測定光Tes_f
1と参照光Ref_f2とが形成するヘテロダイン干渉
縞の強度の変化を検出することにより被測定物8を微小
開口形成部材2に対し相対的に移動した時における被測
定物8と微小開口形成部材2との相対的な変位量を計測
する。微小開口PH2を通過した光プローブである被測
定光Tes_f2に注目すると、被測定物8の面からの
反射光され、法線方向が入射方向と一致した反射光のみ
が再び微小開口PH2を通過し戻り光となって傾斜角計
測定装置PS2および変位量計測装置PD2に達する。
傾斜角計測定装置PS2は、戻り光である被測定光Te
s_f2を受けてこの戻り光の基準点からの距離に基づ
いて被測定物8の測定面の基準面に対する傾斜角度を計
測する。変位量計測装置PD2は、戻り光である被測定
光Tes_f2と参照光Ref_f1、Ref_f2とを
受け、戻り光である被測定光Tes_f2と参照光Re
f_f1とが形成するヘテロダイン干渉縞の強度の変化
を検出することにより被測定物8を微小開口形成部材2
に対し相対的に移動した時における被測定物8と微小開
口形成部材2との相対的な変位量を計測する。計測値演
算装置17は、傾斜角度計測装置PS1、PS2および
変位量計測装置PD1、PD2からの2つの光プローブ
に基づいた傾斜角度の計測値および変位量の計測値によ
り形状の計測値と真直度誤差とを分離して前記傾斜角度
の計測値および変位量の計測値から前記真直度誤差の成
分を取り除く。
【0017】
【発明の効果】以上のように、請求項1に記載の発明に
よれば、2次元走査により3次元形状計測ができるの
で、小型であって簡単な構成であり、信頼性の高い高精
度測定が可能であり、高速な測定が可能となり、かつ、
任意の自由曲面形状に対して3次元形状計測が可能とな
る。請求項2に記載の発明によれば、請求項1の発明の
効果に加えて、複数の球面波を被測定物に照射すること
により、同時に複数の測定が可能となる。請求項3に記
載の発明によれば、請求項1の発明の効果に加えて、複
数の球面波を被測定物に照射することにより、同時に複
数の測定が可能となり、かつ、形状の測定値と真直度誤
差を分離することができるので、高精度な3次元形状計
測が可能となる。請求項4に記載の発明によれば、波長
の異なる光を放射する光源を用いることにより、2つの
光プローブを照射することができ、かつ、識別すること
が容易になる。請求項5に記載の発明によれば、微小開
口形成部材の微小開口と被測定物との間に配置され戻り
光のみを選択的に通過させる戻り光通過手段を有するか
ら、複数の光のクロストークの影響を抑えることができ
る。請求項6に記載の発明によれば、戻り光通過手段が
偏光素子で構成されているから、簡単な構成によい消光
比の高い信号が得ることができる。請求項7に記載の発
明によれば、光放射手段と微小開口形成部材との間に配
置され前記光放射手段からの光を2つの偏光光束に分離
する光束分離手段を有するから、光束分離手段をウオラ
ストンプリズムのような光学異方性材料で構成すること
により、偏光を所望の角度で分離することができるの
で、同一素子を通過しても2つの光プローブを生成する
ことができる。請求項8に記載の発明によれば、ヘテロ
ダイン干渉を用いて、変位量の計測することにより、外
乱の影響を受けにくく、空間分解能の高い測定をするこ
とが可能となる。請求項9に記載の発明によれば、請求
項8に記載の発明の効果に加えて、形状の測定値と真直
度誤差を分離することができるので、高精度な3次元形
状計測が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態としての3次元形状
測定装置を示す概略正面図である。
【図2】図1の3次元形状測定装置の1部を拡大して示
す部分拡大図である。
【図3】本発明の実施の形態における動作を説明するた
めの図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態としての3次元形状
測定装置の要部を示す図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態としての3次元形状
測定装置の動作を説明するための図である。
【図6】本発明の第3の実施の形態としての3次元形状
測定装置を示す概略正面図である。
【図7】図6の3次元形状測定装置の戻り光を説明する
ための概略正面図である。
【図8】本発明の第4の実施の形態としての3次元形状
測定装置を示す概略正面図である。
【図9】図8の3次元形状測定装置の戻り光を説明する
ための概略正面図である。
【符号の説明】
1 光放射装置(光放射手段)、2 微小開口形成部
材、PH、PH1、PH2 微小開口、BS1、BS2
ビームスプリッタ、3 参照光反射鏡、4、5λ/4
板、6 対物レンズ、PS1、PS2 傾斜角計測装置
(傾斜角計測手段)、PD1、PD2 変位量計測装置
(変位量計測手段)、7 結像レンズ、8 被測定物、
9、10 偏光子、11、12 受光素子、13 戻り
光選択フィルタ、14 参照光反射鏡、15,16 結
像レンズ、 17 計測値演算装置。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光を放射する光放射手段と、微小開口を
    有しこの微小開口に前記光放射手段からの光を照射する
    ことにより光プローブとなる球面波を発生させて被測定
    物に照射する微小開口形成部材と、前記被測定物からの
    反射光のうち前記微小開口に再入射する戻り光を受けて
    この戻り光の基準点からの距離に基づいて前記被測定物
    の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測する傾斜角度
    計測手段と、前記戻り光および参照光を受けてこれらの
    戻り光および参照光が形成する干渉縞の強度の変化を検
    出することにより前記被測定物を前記微小開口形成部材
    に対し相対的に移動した時における前記被測定物と前記
    微小開口形成部材との相対的な変位量を計測する変位量
    計測手段とを有することを特徴とする3次元形状測定装
    置。
  2. 【請求項2】 光を放射する光放射手段と、複数の微小
    開口を有しこれらの微小開口に前記光放射手段からの光
    を照射ことにより複数の光プローブとなる球面波を発生
    させて被測定物に照射する微小開口形成部材と、前記被
    測定物からの反射光のうち前記微小開口に再入射する戻
    り光を受けてこの戻り光の基準点からの距離に基づいて
    前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測
    する傾斜角度計測手段と、前記戻り光および参照光を受
    けてこれらの戻り光および参照光が形成する干渉縞の強
    度の変化を検出することにより前記被測定物を前記微小
    開口形成部材に対し相対的に移動した時における前記被
    測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位量を計
    測する変位量計測手段とを有することを特徴とする3次
    元形状測定装置。
  3. 【請求項3】 光を放射する光放射手段と、複数の微小
    開口を有しこれらの微小開口に前記光放射手段からの光
    を照射ことにより複数の光プローブとなる球面波を発生
    させて被測定物に照射する微小開口形成部材と、前記被
    測定物からの反射光のうち前記微小開口に再入射する戻
    り光を受けてこの戻り光の基準点からの距離に基づいて
    前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測
    する傾斜角度計測手段と、前記戻り光および参照光を受
    けてこれらの戻り光および参照光が形成する干渉縞の強
    度の変化を検出することにより前記被測定物を前記微小
    開口形成部材に対し相対的に移動した時における前記被
    測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位量を計
    測する変位量計測手段と、前記傾斜角度計測手段および
    変位量計測手段からの前記複数の光プローブに基づいた
    前記傾斜角度の計測値および前記変位量の計測値により
    形状の計測値と真直度誤差とを分離する計測値演算手段
    とを有することを特徴とする3次元形状測定装置。
  4. 【請求項4】 請求項2または3に記載の3次元形状測
    定装置において、前記光放射手段は、異なる波長の光を
    放射する複数の光源を有し、これらの光源から放射され
    る異なる波長の光をそれぞれ前記微小開口形成部材の前
    記複数の微小開口に照射することを特徴とする3次元形
    状測定装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれか1つに記載の
    3次元形状測定装置において、前記微小開口形成部材の
    前記微小開口と前記被測定物との間に配置され前記戻り
    光のみを選択的に通過させる戻り光通過手段を有するこ
    とを特徴とする3次元形状測定装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の3次元形状測定装置に
    おいて、前記戻り光通過手段は、偏光素子で構成されて
    いることを特徴とする3次元形状測定装置。
  7. 【請求項7】 請求項2乃至4のいずれか1つに記載の
    3次元形状測定装置において、前記光放射手段と前記微
    小開口形成部材との間に配置され前記光放射手段からの
    光を2つの偏光光束に分離する光束分離手段を有するこ
    とを特徴とする3次元形状測定装置。
  8. 【請求項8】 異なる第1および第2の波長の第1の光
    束および第2の光束を放射する2つの光源を有する光放
    射手段と、この光放射手段からの前記第1の光束および
    第2の光束を分離してそれぞれ第1の被測定光と第1の
    参照光および第2の被測定光と第2の参照光を生成する
    被測定参照光分離手段と、2つの微小開口を有しこれら
    の微小開口に前記第1の被測定光および第2の被測定光
    を照射ことにより第1および第2の光プローブとなる第
    1および第2の球面波を発生させて被測定物に照射する
    微小開口形成部材と、前記第1および第2の光プローブ
    を受けた前記被測定物からの第1および第2の反射光の
    うち前記微小開口に再入射する第1および第2の戻り光
    を受けてこれらの戻り光の基準点からの距離に基づいて
    前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測
    する第1および第2の傾斜角度計測手段と、前記第1の
    戻り光および前記第2の参照光を受けてこれらの第1の
    戻り光および第2の参照光が形成するヘテロダイン干渉
    縞の強度の変化を検出することにより前記被測定物を前
    記微小開口形成部材に対し相対的に移動した時における
    前記被測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位
    量を計測する第1の変位量計測手段と、前記第2の戻り
    光および前記第1の参照光を受けてこれらの第2の戻り
    光および第1の参照光が形成するヘテロダイン干渉縞の
    強度の変化を検出することにより前記被測定物を前記微
    小開口形成部材に対し相対的に移動した時における前記
    被測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位量を
    計測する第2の変位量計測手段とを有することを特徴と
    する3次元形状測定装置。
  9. 【請求項9】 異なる第1および第2の波長の第1の光
    束および第2の光束を放射する2つの光源を有する光放
    射手段と、この光放射手段からの前記第1の光束および
    第2の光束を分離してそれぞれ第1の被測定光と第1の
    参照光および第2の被測定光と第2の参照光を生成する
    被測定参照光分離手段と、2つの微小開口を有しこれら
    の微小開口に前記第1の被測定光および第2の被測定光
    を照射ことにより第1および第2の光プローブとなる第
    1および第2の球面波を発生させて被測定物に照射する
    微小開口形成部材と、前記第1および第2の光プローブ
    を受けた前記被測定物からの第1および第2の反射光の
    うち前記微小開口に再入射する第1および第2の戻り光
    を受けてこれらの戻り光の基準点からの距離に基づいて
    前記被測定物の測定面の基準面に対する傾斜角度を計測
    する第1および第2の傾斜角度計測手段と、前記第1の
    戻り光および前記第2の参照光を受けてこれらの第1の
    戻り光および第2の参照光が形成するヘテロダイン干渉
    縞の強度の変化を検出することにより前記被測定物を前
    記微小開口形成部材に対し相対的に移動した時における
    前記被測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位
    量を計測する第1の変位量計測手段と、前記第2の戻り
    光および前記第1の参照光を受けてこれらの第2の戻り
    光および第1の参照光が形成するヘテロダイン干渉縞の
    強度の変化を検出することにより前記被測定物を前記微
    小開口形成部材に対し相対的に移動した時における前記
    被測定物と前記微小開口形成部材との相対的な変位量を
    計測する第2の変位量計測手段と、前記第1および第2
    の傾斜角度計測手段および前記第1および第2の変位量
    計測手段からの前記第1および第2の光プローブに基づ
    いた前記傾斜角度の計測値および前記変位量の計測値に
    より形状の計測値と真直度誤差とを分離する計測値演算
    手段とを有することを特徴とする3次元形状測定装置。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1322308C (zh) * 2005-04-21 2007-06-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 微小转角干涉测量装置
JP2008216182A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Tokyo Electron Ltd 温度測定装置及び温度測定方法
JP2011095240A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Canon Inc 面形状計測装置
JP2011095241A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Canon Inc 面形状計測装置
JP2011095239A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Canon Inc 面形状計測装置
JP2012112705A (ja) * 2010-11-22 2012-06-14 Kosaka Laboratory Ltd 表面形状測定方法
JP2015194410A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 株式会社東京精密 3次元座標測定装置及び方法、並びに校正装置
CN110017792A (zh) * 2019-04-10 2019-07-16 中山大学 一种新型光学曲面二维测量方法及其测量系统

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1322308C (zh) * 2005-04-21 2007-06-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 微小转角干涉测量装置
JP2008216182A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Tokyo Electron Ltd 温度測定装置及び温度測定方法
JP2011095240A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Canon Inc 面形状計測装置
JP2011095241A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Canon Inc 面形状計測装置
JP2011095239A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Canon Inc 面形状計測装置
JP2012112705A (ja) * 2010-11-22 2012-06-14 Kosaka Laboratory Ltd 表面形状測定方法
JP2015194410A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 株式会社東京精密 3次元座標測定装置及び方法、並びに校正装置
CN110017792A (zh) * 2019-04-10 2019-07-16 中山大学 一种新型光学曲面二维测量方法及其测量系统

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