JPS62263428A - 位相変化測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は位相変化測定装置に関し、特に光ヘテロゲイン
技術を用いた光波干渉方式を利用し、被測定物の屈折率
分布等を検出するのに好適な位相変化測定装置に関する
。

〔従来技術〕

従来、被測定物の面精度、厚み、均質性等を検知する方
法として、マツハツエンダ−タイプ、フイソータイプ、
トワイマン・クリーンタイプ等の干渉計を用いた方法が
あった。この種の干渉計は全て被測定物を介して得られ
る位相差が生じた波面を検出して被測定物の物理情報を
知るものであり、単に干渉縞を観察又は光強度分布に変
換して処理したり、位相干渉計の如く干渉縞の各位置に
於る時間的な位相変化を検出したりして測定を行なう。

この種の干渉計を用いて例えば被測定物の屈折率分布を
測定する場合、一般に屈折率分布を存する試料に平面波
を透過させ、この平面波の位相変化を干渉縞の強度分布
に変換し測定する。試料の厚さをｄ１平面波の位相変化
をΔφ、屈折率差をΔｎとすると、屈折率差Δｎは以下
の式で求めることが出来る。

Δｎ＝Δφ／ｄ この方式で測定精度を決定づけるパラメータは、言うま
でもな（位相差Δφであり、干渉縞を観察したり、直接
光強度分布に変換して処理する方式では位相差Δφを高
精度に検出することは出来ない。又、位相干渉計はある
程度精度良くΔφを検出出来るが、ミラー等を高精度に
微小振動させる必要があり、装置構成が複雑で駆動部を
要するという欠点がある。

一方、光ヘテロダイン技術を用いた干渉方式は、ミラー
等を可動にする必要がなく、且つ非常に高精度で位相変
化を検出することが可能であり、優れた位相変化測定装
置を得ることが出来る。しかしながら、従来の光ヘテロ
ダイン技術を利用した装置は、検出する信号が異なる周
波数の２つの光波の重ね合せによるビート信号である為
、測定に際し被測定物の面精度等の大略の物理情報を予
め知ることが出来なかった。従って、被測定物を装置に
セットする場合など被検箇所を定めるのに手間がかかり
、被測定物の特性に応じて予め装置の調整をすることも
出来なかった。

〔発明の概要〕

本発明の目的は、上記従来の欠点に鑑み、光へテロダイ
ンを用いた干渉方式を利用し、高精度に位相変化を検出
出来ると共に被測定物の面精度等の大略の特性を容易に
知ることが可能な位相変化測定装置を提供することにあ
る。

上記目的を達成する為に、本発明に係る位相変化測定装
置は、周波数が異なる第１の光波と第２の光波を発生さ
せる手段と、前記第１の光波と第２の光波の一方を被測
定物に指向し透過或いは反射せしめた後、第１の光波と
第２の光波とを合波せしめる光学手段と、前記光学手段
で得られる光波を受光し、第１の光波と第２の光波との
差周波数のビート信号の位相変化をもとに被測定物を透
過或いは反射した光波の位相変化を検出する検出手段と
、所定周波数の第３の光波で被測定物を照射し、被測定
物により位相変化が生じた第３の光波から干渉縞を形成
する干渉縞形成手段と、前記干渉縞をモニターする観察
手段とを有することを特徴としている。

尚、本発明の更なる特徴は以下に示す実施例に記載され
ている。

〔実施例〕

第１図は本発明に係る位相変化測定装置の構成例を示す
図である。図中、１は被測定物で、内部に屈折率分布を
有する透明な試料、２はレーザ等の可干渉光源、３はλ
／２板で、可干渉光源２から出射する光束の偏光面を紙
面法線に対して４５°傾ける。

４は偏光ビームスプリッタ−（以下、ＰＢＳと記す。）
で、λ／２板３を通過した光束を偏光面のＰ方位とＳ方
位に分け、大略等強度の互いに偏光面が直交する２つの
光波を生成する。５及び６は夫々ＰＢＳ４で生成した２
つの光波を回折する音響光学変調素子（以下、Ａ１０素
子と記載する。）、７及び８はＡ１０素子で回折された
光波を反射し光路を変える平面反射鏡、９は２つの光波
を同一方向へ指向する為のＰＢＳ。

１０ｔ’！Ａ１０素子５．６で生じた回折光から所定次
数の光波のみを選択的に取り出すアパーチャー、１１は
ビーム径を拡大させる為のビームエキスパンダー光学系
、１２は光波を再度分離するＰ　Ｂ　Ｓ−１１３及び１
４はＰＢ３１２で分離された２つの光波を反射し光路を
変える平面反射鏡、１５は平面反射鏡１４で反射された
光波と平面反射鏡１３で反射され被測定物１を透過した
光波とを重ね合わせ合波するＰＢＳ、１６はＰＢＳ１５
を介して得られる光波を後述する検出器１９．２０に導
（結像光学系で、被測定物ｌを検出器１９．２０のセン
サ面上に結像する様に構成されている。１７は合波され
たＰ方位とＳ方位の光波を夫々円偏光に変換するλ／４
板、１８はλ／４板１５を通過し円偏光となった光波を
分割して検出器１９．２１に導＜　ＰＢＳＳ１９は微小
開口センサーから成る検出器、２０は２次元走査が可能
な検出器、５０は回転可能な可動ミラー、５１はＴＶカ
メラ、５２は偏光板、５３はλ／４板或はλ／２板を示
す。尚、偏光板５２とλ／４板（λ／２板）５３は一体
に支持され、不図示の機構により図中矢印の如（光路内
に出して入れ可能である。

第２図はＡ１０素子の原理説明図である。図中、２１は
テルライトガラスやＴｅＯ２，ＰｂＭｏＯ３等の結晶か
らなる基板、２２は基板２１に超音波を発生せしめる駆
動部、２３は基板上の超音波から成る進行波を示す。

基板２１にその端部から超音波を励起すると、超音波に
よる進行波が発生して波長に応じた屈折率の粗密が形成
される。この屈折率の粗密は進行型の所謂位相回折格子
としての機能を有する為、進行波に光束を入射させるに
際しレーザ光等の光波の周波数をドツプラーシフトさせ
る。このシフト量は超音波（進行波）の周波数に等しく
なり、超音波の進行方向側に回折される光波は、即ち図
示する＋１次の光波はプラス側に、進行方向と逆側に回
折される光波、即ち図示する・・・１次の光波はマイナ
ス側に周波数がシフトする。従って、第１図に於て、例
えばＡ／○素子５及び６を夫々８０ＭＨｚ、８１ＭＨｚ
の超音波で駆動したとすると、夫々のＡ１０素子５及び
６に入射する光波の±１次回折光は±８０　Ｍ　Ｈｚ　
。

±８１　Ｍ　Ｈｚの周波数シフトを受けることになる。

ここで、測定に使用する２つの光波として互いに＋１次
回折光を用いるとすれば、Ａ１０素子５及び６を介して
得られる測定用の第１の光波と第２の光波との周波数差
はＩ　Ｍ　Ｈｚとなる。

以下、第１図に戻って、本位相変化測定装置に関し詳述
する。

第１に、被測定物ｌの測定すべき位置を定める際は、偏
光板５２とλ／２板（λ／４板）５３、及び可動ミラー
５０を図の破線位置へ退避させてる。そして、レーザ等
の可干渉光源２のスイッチをＯＦＦ状態にし、ＴＶ左カ
メラ２で被測定物１をモニターしながら、結像光学系１
６に対し被測定物１とＴＶ左カメラ１の受光面、及び検
出器１９．２０のセンサ面とが共役になる様にピント合
わせを行なう。このピント合わせは、被測定物１或いは
結像光学系１６を光軸に沿って移動させて行なうのが好
ましい。ピント合わせの終了後偏光板５２とλ／２板（
λ／４板）５３を光路中に挿入し、可干渉光源２のスイ
ッチをＯＮとすることにより以下述べる干渉縞の観察が
実行される。尚、ここでは偏光板５３の偏光方位は紙面
に平行な方向（Ｐ方位）にしておく。

上述の状態で、可干渉光源２から出射した光束はλ／２
板３を介しＰＢ、Ｓ４によって２光束に分割される。Ｐ
ＢＳ４を反射した光束はＡ／○素子６により回折を受け
、ＰＢＳ４を透過した光束はＡ／’Ｏ素子５により回折
を受けて夫々平面反射鏡８及び７を介してＰＢＳ９へ指
向され、ＰＨ１０によって重ね合わされた後、アパーチ
ャー１０により特定次数の回折光のみが選択されて偏光
板５２に入射する。ここでＰＢＳ４を反射した光束はＳ
偏光の光波から成り、ＰＢＳ４を透過した光束はＰ偏光
の光波から成る為、偏光板５２によりＰＨ１０を反射し
た光波は遮断され、Ｐ偏光の光波のみが通過する。続い
てこのＰ偏光の光波はλ／２板（λ／４板）５３によっ
て円偏光の光波に変換され、ビームエキスパンダー光学
系１１で光束径を拡大された後、ＰＨ３１２，１５及び
平面反射鏡１３．１４から成るマツハツエンダ−タイプ
の干渉計部のＰＢＳ１２を介して入射する。この光波（
以下、第３の光波と記す。）はＰＨ３１２で再びＰ偏光
とＳ偏光の等強度の光波に分割され、平面反射鏡１３を
介して被測定物１を透過した光波と平面反射鏡１４で反
射された光波とがＰＢＳ１５により同一光路に指向され
、λ／４板１７で互いに逆回りの円偏光となって干渉可
能な様に重ね合わされると共に結像光学系１６によって
ＴＶ左カメラ１の受光面上に結像され干渉縞を形成する
。従って、ＴＶ左カメラ１を介して干渉縞パターンを観
察することにより、被測定物ｌの屈折率分布に対応した
透過波面の形状を認知出来る為、干渉縞パターンを観察
しながら被測定物１の所望の測定位置を設定することが
可能となる。尚、干渉縞形成に用いた第３の光波の周波
数はＡ１０素子６によりドツプラシフトを受けたもので
あり、後述する光へテロダインによる位相変化検出の際
の第１の光波に相当する光波である。

以上説明した様に、干渉縞をＴＶ左カメラ１でモニター
することで被測定物ｌの位置を所望の位置に定めた後、
偏光板５２及びλ／２板（λ／４板）５３を光路から退
避させ、且つ可動ミラー５０を光路中、即ち図中の実線
の位置まで移動（回転）させる。

この状態に於て、可干渉光源２から出射した光束はλ／
２板３を介してＰＢＳ４によって透過光、反射光に分割
される。ここで、前述の如く反射光はＳ方位の偏光面（
以下、Ｓ偏光と記す。）を有する光波であり、紙面に垂
直な方向に直線偏光している。この光波はＡ１０素子６
により回折を受ける。ここで、Ａ１０素子６に発生させ
る超音波の周波数を８１　Ｍ　Ｈｚとし、＋１次回折光
を測定に用いるとすれば、＋１次回折光である光波（以
下、第１の光波と記す。）は＋８１　Ｍ　Ｈｚの周波数
シフトを受けて、平面反射鏡８、ＰＢＳ９、アパーチャ
１０、ビームエキスパンダー光学系１１、ＰＢＳ１２、
平面反射鏡１４の順に光路を経てＰＢＳ１５に指向され
る。

一方、ＰＢＳ４を透過した透過光はＰ方位の偏光面（以
下、Ｐ偏光と記す。）を有する光波であり、紙面に平行
な方向に直線偏光しており、この光波はＡ１０素子５に
より回折を受ける。ここで、Ａ１０素子５に発生させる
超音波の周波数を８０　Ｍ　Ｈｚとし、＋１次回折光を
測定に用いるとすれば、＋１次回折光である光波（以下
、第２の光波と記す。）は＋　８０　Ｍ　Ｈｚの周波数
シフトを受けて、平面反射鏡７、ＰＢＳ９、アパーチャ
１０、ビームエキスパンダー光学系１１．　ＰＢ３１２
、平面反射鏡１３、被測定物１の順に光路を経てＰＢＳ
１５に指向される。従って、第２の光波の位相は被測定
物ｌの屈折率分布に応じた位相変化を受けており、この
第２の光波と第１の光波とはＰＢＳ１５により合波され
、結像光学系１６を介し、λ／４板１７を通過して互い
に逆回りの円偏光とすることによって干渉縞を形成する
。

今、被測定物ｌを通過した第２の光波とＩ　Ｍ　Ｈｚだ
け周波数が異なる平面波の第１の光波とを合波した際の
光強度分布ｉ（ｘ、ｙ、ｔ）は、被測定物ｌの位置ｘ、
ｙに於る第２の光波の位相変化をΔφ（ｘ、ｙ）とすれ
ば、 ｉ（ｘ、ｙ、ｔ）　＝ａ　（ｘ、ｙ）　＋ｂ　（ｘ、ｙ
）ｃｏｓ　（２ｙｒ　Ｘ１０’ｔ＋にΔφ（ｘ、ｙ）］
・・・・・・・・・（１） で表わすことが出来る。尚、ここでＫは波数でありに＝
２π／λ（λは波長）で示される。

従って、上記（１）に示す様に、第２の光波の位相変化
Δφ（ｘ、ｙ）はビート信号Ｉ　Ｍ　Ｈｚ即ち、２πＸ
ＩＯ’の位相変化として求まる。

前述の如くλ／４板１７により互いに逆回りの円偏光と
なった第１の光波と第２の光波とは、ＰＢ５１８によっ
て分割され、一方は位相固定の微小開口の検出器１９の
セシサ面へ、他方は２次元走査可能な検出器２０へ結像
され、夫々の検出器でＩ　Ｍ　Ｈｚのビート信号が検出
される。ここで、検出器１９に結像される光波は、被測
定物ｌの任意の位置（ｘｏ、Ｙｏ）を通過した第２の光
波と第１の光波とから成り、この２つの光波の干渉によ
るＩ　Ｍ　Ｈｚのビート信号が検出器１９で検出され測
定に於る参照信号となる。

第３図は検出器１９から出力される参照信号であるビー
ト信号Ｒと、検出器２０から出力される位相情報（Δφ
）を有するビート信号Ｓとを時間を軸上で示したもので
ある。検出器２０の光波の検出位置を１次元或いは２次
元走査することにより、第３図に示す如き信号を得て各
位置（ｘ、ｙ）に於る参照信号Ｒからの信号Ｓの位相差
Δφ（ｘ、ｙ）を電気的に検出することにより、第２の
光波の相対的な位相差Δφ（ｘ、ｙ）、即ち被測定物ｌ
の屈折率分布を測定出来る。

第４図はビート信号Ｒ，Ｓから屈折率分布を得るまでの
概略ブロック図を示しており、３０は位相検出器、３１
はマイクロプロセッサ、３２はＣＲＴ、プリンタ等の出
力装置を示す。検出器１９及び２０から得られたビート
信号Ｒ及びＳは位相検出器３０で処理され、位相差Δφ
（ｘ、ｙ）が算出されるが、この際、マイクロプロセッ
サ３１によって検出器２０の走査位置（ｘ、ｙ）を指定
し、順次その走査位置（ｘ、ｙ）に於るビート信号Ｒ，
Ｓを位相検出器３０に取り込み処理する。尚、ビート信
号Ｒは実質的に一定である。位相検出器３０で検出され
た位相差Δφ（ｘ、ｙ）の信号はＡ／Ｄ変換されてマイ
クロプロセッサ３１に入力される。マイクロプロセッサ
３１では所定の換算手順に従って位相差Δφ（Ｘ、ｙ）
から屈折率分布ｎ（ｘ、ｙ）を求め、出力装置３２へｎ
（ｘ、ｙ）に関する信号を出力する。そして、出力装置
３２は被測定物の屈折率分布に関する情報を数値或いは
画像の形式で表示する。

第５図（Ａ）〜（Ｄ）はマイクロプロセッサ内で行なわ
れる屈折率分布への換算手順を示す図面の簡単な説明を
行なう為に１次元（Ｘ）データを処理する場合を示しで
あるが、原理的には２次元（ｘ、ｙ）データを処理する
場合でも処理方法に変わりはない。第５図（Ａ）は位相
差Δφの直接データを示し、このデータは第２の光波の
波面の位相が±π／２の範囲内で折り返された形で測定
される。次に、この折り返されたデータから干渉縞の次
数の回復を行ない、第５図（Ｂ）に示す如きデータを得
る。更に、第５図（Ｂ）のデータには干渉計のティルト
と被測定物の厚さの不均一性等のノイズデータが含まれ
ている為、この種のノイズデータをコンピュータ上で補
正し、第５図（Ｃ）に示す如き位相差Δφの分布を得る
。最後に、被測定物の既知の厚さｄと、Δｎ＝Δφ／ｄ
なる関係を用いて、第５図（Ｄ）に示す相対的な屈折率
分布Δｎを得る。

本実施例に於る微小開口の検出器１９としては、ＡＰＤ
　（アバランシェ・フォト・ダイオード）、ピンホール
とＰＩＮフォトダイオードやフォトマル等を組み合わせ
たセンサを用いることが出来る。又、走査可能な検出器
２０としては、微小開口を走査するイメージディテクタ
ー、コンピュータによって位置制御可能なステーシュ・
に設置したＡＰＤ又はピンホールとＰＩＮフォトダイオ
ードやフォトマル等のセンサとの組み合わせを用いるこ
とが出来る。

更に、本実施例では異なる周波数の光波を得るのにＡ１
０素子を用いているが、この他ブラッグセル等の素子を
用いても光波にドツプラシフトを与えることが出来る。

又、可干渉光源としてゼーマンレーザを用いれ°ば、同
一光源から異周波数の光束を出射せしめることが出来、
構成が簡便となる。

又、本実施例でλ／２板３を用いるのは、ＰＨ１０で光
束を等強度に分割して干渉縞の明暗比を向上させる為で
あり、λ／２板３の代わりに可干渉光源２を光軸回りに
回転させ、可干渉光源から出射する光束の偏光方向がＰ
Ｈ１０の直交偏波面に対して４５°になるよう配置して
も良い。又、検出器１９及び２０に合波した光波を指向
するＰＢＳ１８はハーフミラ−で置き換えることも出来
る。

第６図は第１図で示した実施例の変形例を示す図である
。ここでは、Ａ１０素子５，６を有する系、換言すれば
異周波数の光波の発生部の拡大図を示しており、図中、
第１図と同部材には同符番が符してあり、５４は遮光板
を示す。

第１図の実施例では、Ａ１０素子５．６により異なるド
ツプラーシフトを受けた２つの光波、第１の光波と第２
の光波とから一方の光波のみを取り出し、第３の光波と
する為に偏光板とλ／２板又はλ／４板を用いている。

しかしながら本実施例では偏光板の代わりに遮光板５４
を一方の光波の光路中、ここではＳ偏光した第１の光波
の光路（平面反射鏡８とＰＢＳ９との間）に出し入れ可
能な様に配置し、干渉槁観察時は光路中に挿入して第１
の光波を遮蔽し、ＰＢＳ９を通過したＰ偏光した第２の
光波をアパーチャ１０を介しλ／２板（λ／４板）５３
により円偏光として第３の光波を得ている。

第７図は本発明に係る位相変化測定装置の他の構成例を
示す図である。図中、第１図と同部材には同符番を符し
てあり、１００及び１０１はピンホールを示す。

本実施例に係る装置は被測定物１が可干渉光源２から出
射される光束の光束径程度の大きさを持つ場合に好適な
構成を備えている。即ち、第１図の装置がビームエキス
パンダー系を有していたのに対し、本実施例ではビーム
エキスパンダー系は不要であり、Ａ１０素子５及び６を
直接マツハツエンダ−タイプの干渉計部に配している。

従って、装置構成が簡便となり、光学素子の数も減少す
る為組立てに際し調整に係る時間も短縮される。

第８図は本発明に係る位相変化測定装置の更なる構成例
を示す図である。図中、第７図と同部材には同符番が符
してあり、１１０及び１１１はビームエキスパンダー光
学系を示す。

本実施例に係る装置は第７図に示す装置と基本構成は同
一で、且つ、第１図の装置同様にある程度の大きさを有
する被測定物ｌの測定を可能にするものである。即ち、
本実施例ではビームエキスパンダー光学系１１０，１１
１を干渉計部の２つの光波の光路中に配し、夫々の光波
の光束径を拡大している。従って、小型且つ汎用性の高
い測定装置を提供出来る。尚、第１図及び第７図に示す
如きビームエキスパンダー光学系１１，１１０，１１１
は収差が測定誤差範囲内に納まる程小さい必要があるこ
とは言うまでもない。

尚、第７図及び第８図に示す各実施例に於て、被測定物
ｌの測定位置を予め定める際は以下の様にして行なう。

即ち、Ａ１０素子５及び６の駆動部２２（第２図参照）
と所定の制御装置（コントローラー）とを結び、入力装
置を介して制御装置に対してＡ１０素子５及び６のＯＮ
、ＯＦＦの指令を与える様に装置を構成してお（。干渉
縞をＴＶカメラ５１でモニターする際は、制御装置にＯ
ＦＦ信号を入力し、これによってＡ１０素子５及び６の
駆動部２２を停止させ素子の回折機能を止めることによ
り、可干渉光源２から出射する光束自体が直接的に干渉
縞形成用の第３の光波となって働くことになる。

尚、干渉縞のモニタ一方法及び光ヘテロゲインによる位
相変化測定の手順は第１図の実施例と同様である為、こ
こでは説明を省略する。

以上説明した各実施例では、ＰＢＳ１２．１５及び平面
反射鏡１３．１４で光路を定められた干渉計部は所謂マ
ツハツエンダ−タイプの干渉計で構成されており、第２
の光波が被測定物を一度しか通過しない為に本位相変化
測定装置に用いる干渉計としては最も好ましい。しかし
ながら、光学調整は若干面倒であるが、例えばフィゾー
タイプやトワイマングリーンタイプの干渉計を適用する
ことも可能である。この種の干渉計で被測定物の屈折率
分布を測定する際は、反射鏡を介して光波が被測定物を
往復する（２度通過する）為、光波が被測定物の同一位
置を通過する様に補償してやる必要がある。

従って、測定精度を向上させる為には、一般に被測定物
の後方に配置される反射鏡と被測定物とを近接されるか
、好ましくは密着させて測定するのが良い。

本発明によれば、検出器の感度や精度によっては位相変
化の検出精度を数十分のλの値まで得ることが期待出来
、例えば、被測定物の厚さを０．１ｍｍ、Δｎ二０．１
程度の場合には１０−６程度の繰り返し精度で屈折率分
布を求めることが可能である。更に前述の様にマイクロ
プロセッサ等の処理装置を用い、検出器の走査と位相検
出とをプログラム化することにより自動的に屈折率分布
を測定出来、且つ高速測定も可能である。

〔発明の効果〕

以上、本発明に係る位相変化測定装置は、光へテロダイ
ン方式を用いて高精度に位相変化を検出出来るだけでな
く、被測定物の特性を干渉縞をモニターして観察するこ
とが可能な為に、測定に際し被測定物の測定位置を容易
且つ速やかに行なうことが出来る測定装置である。又、
とりわけ被測定物の屈折率分布を測定するのに好適であ
り、所望の被測定箇所を高速、高精度に測定出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る位相変化測定装置の構成例を示す
図。 第２図は音響光学（Ａ１０）素子の機能説明図。 第、３図は参照ビート信号Ｒと位相情報を有するビート
信号Ｓとを示す図。 第４図は屈折率分布測定の際の概略ブロック図。 第５図（Ａ）〜（Ｄ）はマイクロプロセッサ内に於る位
相差データ・から屈折率分布を得るまでの換算手順を示
す図。 第６図は第１図に示す実施例の変形例を示す図。 第７図及び第８図は本発明に係る位相変化測定装置の他
の構成例を示す図。 ｌ　・・・・・・・・・・・・被測定物、２　・・・・
・・・・・・・・可干渉光源、３・・・・・・・・・・
・・　λ／２板、４．９，１２，１５．１８　　・・・
・・・・・・偏光ビームスプリッタ−（ＰＢＳ）、 ５．６・・・・・・・・・・・・　音響光学（Ａ１０）
素子、７．８，１３．１４　　・・・・・・・・・・・
・平面反射鏡、１０．１００，１０１　　・・・・・・
・・・・・・　アパーチャ、１１．１１０，１１１　　
・・・・・・・・・・・・　ビームエキスパンダー光学
系、 １６　　・・・・・・・・・・・・結像光学系１７　・
・・・・・・・・・・・　λ／４板１９　　・・・・・
・・・・・・・　微小開口センサを有する検出器、２０
　　・・・・・・・・・・・・　２次元走査可能な検出
器、２１　・・・・・・・・・・・・基板、２２　　・
・・・・・・・・・・・駆動部、２３　・・・・・・・
・・・・・進行波、３０　・・・・・・・・・・・・位
相検出器、３１　・・・・・・・・・・・・　マイクロ
プロセッサ、３２　・・・・・・・・・・・・　出力装
置、５０　・・・・・・・・・・・・可動ミラー、５１
　　・・・・・・・・・・・・　ＴＶ左カメラ５２　・
・・・・・・・・・・・偏光板、５３　・・・・・・・
・・・・・　λ／２板或いはλ／４板、５４　・・・・
・・・・・・・・遮光子弟２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）周波数が異なる第１の光波と第２の光波を発生さ
   せる手段と、前記第１の光波と第２の光波の一方を被測
   定物に指向し透過或いは反射せしめた後、第１の光波と
   第２の光波とを合波せしめる光学手段と、前記光学手段
   で得られる光波を受光し、第１の光波と第２の光波との
   差周波数のビート信号の位相変化をもとに被測定物を透
   過或いは反射した光波の位相変化を検出する検出手段と
   、所定周波数の第３の光波で被測定物を照射し、被測定
   物により位相変化が生じた第３の光波から干渉縞を形成
   する干渉縞形成手段と、前記干渉縞をモニターする観察
   手段とを有する位相変化測定装置。