JP2002140988A - プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネルInfo
- Publication number
- JP2002140988A JP2002140988A JP2000331981A JP2000331981A JP2002140988A JP 2002140988 A JP2002140988 A JP 2002140988A JP 2000331981 A JP2000331981 A JP 2000331981A JP 2000331981 A JP2000331981 A JP 2000331981A JP 2002140988 A JP2002140988 A JP 2002140988A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- display panel
- plasma display
- gas
- discharge
- pdp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＰＤＰの製造工程が複雑で製造設備のコスト
が高い。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネル内の放電空
間を真空排気することなく、放電ガスを流しながらエー
ジングをおこなった後に、放電ガス通気口を塞ぐ封止を
行う。
が高い。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネル内の放電空
間を真空排気することなく、放電ガスを流しながらエー
ジングをおこなった後に、放電ガス通気口を塞ぐ封止を
行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法に関する。
レイパネルの製造方法に関する。
【０００２】プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ
と称する）は、ブラウン管にかわる表示デバイスとして
注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプ
レイの用途で有望視されている。
と称する）は、ブラウン管にかわる表示デバイスとして
注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプ
レイの用途で有望視されている。
【０００３】
【従来の技術】一般的なＡＣ型ＰＤＰの構造を図３に示
す。互いに相対して対をなす表示電極１０１、表示スキ
ャン電極１０２群がガラス基板１０３上に形成される。
これらの電極は透明電極と、透明電極の電気抵抗による
電圧低下を防ぐためのバス電極からなる。これらの表示
電極１０１、表示スキャン電極１０２群は誘電体層１０
４で被覆され、さらにＭｇＯ保護膜１０５で被覆され
る。これに対し、一方のガラス基板１０６にはストライ
ブ状のアドレス電極１０７が形成される。アドレス電極
１０７は誘電体層１０８に被覆されさらに、アドレス電
極１０７に隣接するようにリブ１０９が形成される。リ
ブ１０９はアドレス放電時の隣接セルへの影響を断ち、
光のクロストークを防ぐ働きがある。次にそれぞれのリ
ブに赤、青、緑の蛍光体１１０がアドレス電極１０７を
被覆するように塗り分けられる。ガラス基板１０３とガ
ラス基板１０６はギャップを保ちながら組み合わされ、
封止ガラスにより周囲を密閉する。その後、ガラス基板
に設けられた放電ガス通気口を通して、加熱しながらパ
ネル内の真空排気をおこなう（排気ベーキング工程）。
排気ベーキング工程は、ＰＤＰ内部の密閉された放電空
間中のリブ、蛍光体、ＭｇＯ保護膜等の表面に吸着して
いる水分、炭化水素、酸素等を加熱により脱離させ真空
排気することによりＰＤＰ外部に除去する目的で行われ
る。あらかじめパネルの温度を３００℃程度に上昇させ
た上で真空排気装置を用いてＰＤＰ放電空間を真空にす
る。ＰＤＰ内部の放電空間が十分な真空度となった後に
Ｎｅ等の不活性ガスを主体とする放電ガスを封入し（ガ
ス封入工程）、放電ガス通気口を塞いだ（封止工程）構
造となっている。前記工程で作製されたパネルでは、前
述の排気ベーキングを十分に行ったとしても点灯の初期
段階においてＰＤＰ内部空間の構造物より不純物ガスが
多く発生する。これは、放電により放電に曝された空間
で放電ガスによるスパッタリング等が発生するためと考
えられる。この不純物ガスの放出はＰＤＰ放電空間内の
放電ガスの純度を劣化させ、ＰＤＰの放電特性劣化の要
因となるとともに動作を不安定とする原因となるため、
所定の時間だけＰＤＰの点灯を行うエージングを実施す
る（エージング工程）。エージングによって放出された
不純物ガスはＰＤＰ放電空間内に設置されたゲッターに
よって吸収され、ＰＤＰ放電空間内は浄化された状態と
なる。このＰＤＰの製造工程のフローを簡単に示すと図
４のようになる。
す。互いに相対して対をなす表示電極１０１、表示スキ
ャン電極１０２群がガラス基板１０３上に形成される。
これらの電極は透明電極と、透明電極の電気抵抗による
電圧低下を防ぐためのバス電極からなる。これらの表示
電極１０１、表示スキャン電極１０２群は誘電体層１０
４で被覆され、さらにＭｇＯ保護膜１０５で被覆され
る。これに対し、一方のガラス基板１０６にはストライ
ブ状のアドレス電極１０７が形成される。アドレス電極
１０７は誘電体層１０８に被覆されさらに、アドレス電
極１０７に隣接するようにリブ１０９が形成される。リ
ブ１０９はアドレス放電時の隣接セルへの影響を断ち、
光のクロストークを防ぐ働きがある。次にそれぞれのリ
ブに赤、青、緑の蛍光体１１０がアドレス電極１０７を
被覆するように塗り分けられる。ガラス基板１０３とガ
ラス基板１０６はギャップを保ちながら組み合わされ、
封止ガラスにより周囲を密閉する。その後、ガラス基板
に設けられた放電ガス通気口を通して、加熱しながらパ
ネル内の真空排気をおこなう（排気ベーキング工程）。
排気ベーキング工程は、ＰＤＰ内部の密閉された放電空
間中のリブ、蛍光体、ＭｇＯ保護膜等の表面に吸着して
いる水分、炭化水素、酸素等を加熱により脱離させ真空
排気することによりＰＤＰ外部に除去する目的で行われ
る。あらかじめパネルの温度を３００℃程度に上昇させ
た上で真空排気装置を用いてＰＤＰ放電空間を真空にす
る。ＰＤＰ内部の放電空間が十分な真空度となった後に
Ｎｅ等の不活性ガスを主体とする放電ガスを封入し（ガ
ス封入工程）、放電ガス通気口を塞いだ（封止工程）構
造となっている。前記工程で作製されたパネルでは、前
述の排気ベーキングを十分に行ったとしても点灯の初期
段階においてＰＤＰ内部空間の構造物より不純物ガスが
多く発生する。これは、放電により放電に曝された空間
で放電ガスによるスパッタリング等が発生するためと考
えられる。この不純物ガスの放出はＰＤＰ放電空間内の
放電ガスの純度を劣化させ、ＰＤＰの放電特性劣化の要
因となるとともに動作を不安定とする原因となるため、
所定の時間だけＰＤＰの点灯を行うエージングを実施す
る（エージング工程）。エージングによって放出された
不純物ガスはＰＤＰ放電空間内に設置されたゲッターに
よって吸収され、ＰＤＰ放電空間内は浄化された状態と
なる。このＰＤＰの製造工程のフローを簡単に示すと図
４のようになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法でＰＤＰを作製した場合、製造工程が複雑で製
造設備のコストが高いという問題を抱えていた。従来方
法によると、排気ベーキング工程において一旦十分にＰ
ＤＰ放電空間内の不純物を除去した上で純度の高い放電
ガスを封入し、ＰＤＰを封止した後にエージングを行っ
てさらにＰＤＰ放電空間内の不純物を除去しているため
製造工程が複雑となっている。また、特に排気ベーキン
グ工程では製造タクトを短くするために真空排気速度の
向上、真空排気容量の増大等が考えられるが、これらを
実現する真空排気設備を導入することにより製造設備の
コストが高くなっている。
製造方法でＰＤＰを作製した場合、製造工程が複雑で製
造設備のコストが高いという問題を抱えていた。従来方
法によると、排気ベーキング工程において一旦十分にＰ
ＤＰ放電空間内の不純物を除去した上で純度の高い放電
ガスを封入し、ＰＤＰを封止した後にエージングを行っ
てさらにＰＤＰ放電空間内の不純物を除去しているため
製造工程が複雑となっている。また、特に排気ベーキン
グ工程では製造タクトを短くするために真空排気速度の
向上、真空排気容量の増大等が考えられるが、これらを
実現する真空排気設備を導入することにより製造設備の
コストが高くなっている。
【０００５】本発明は上述の問題に鑑み、ＰＤＰの製造
工程を簡略化し、製造設備のコストを下げる手法を提供
することを目的としている。
工程を簡略化し、製造設備のコストを下げる手法を提供
することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、対向する一対の基板により構成され、一定の間隔を
有しながら一対の基板の外周を密封することにより内部
に放電空間を有し、プラズマディスプレイパネル内の放
電空間にガスを導入、排出する放電ガス通気口を少なく
とも二つ以上有するプラズマディスプレイパネルの製造
方法であって、プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、プラズマディスプレイパネル内の放電空間を
真空排気することなく、プラズマディスプレイパネル内
の放電空間に放電ガスを流しながら、プラズマディスプ
レイパネルの電極間に電圧を印加しプラズマディスプレ
イパネルを放電させた後に、プラズマディスプレイパネ
ル内の放電空間に放電ガスを封入し、放電ガス通気口を
塞ぐ封止を行う手段を用いる。
に、対向する一対の基板により構成され、一定の間隔を
有しながら一対の基板の外周を密封することにより内部
に放電空間を有し、プラズマディスプレイパネル内の放
電空間にガスを導入、排出する放電ガス通気口を少なく
とも二つ以上有するプラズマディスプレイパネルの製造
方法であって、プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、プラズマディスプレイパネル内の放電空間を
真空排気することなく、プラズマディスプレイパネル内
の放電空間に放電ガスを流しながら、プラズマディスプ
レイパネルの電極間に電圧を印加しプラズマディスプレ
イパネルを放電させた後に、プラズマディスプレイパネ
ル内の放電空間に放電ガスを封入し、放電ガス通気口を
塞ぐ封止を行う手段を用いる。
【０００７】また、前記プラズマディスプレイパネルの
放電の際に流している放電ガスが加熱されている手段を
用いる。
放電の際に流している放電ガスが加熱されている手段を
用いる。
【０００８】また、前記プラズマディスプレイパネルの
放電の後にプラズマディスプレイパネル内の放電空間を
大気に曝すことなく放電ガス通気口を塞ぐ封止を行う手
段を用いる。
放電の後にプラズマディスプレイパネル内の放電空間を
大気に曝すことなく放電ガス通気口を塞ぐ封止を行う手
段を用いる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係るＰＤＰの製造
装置の構成を模式的に表す図である。ＰＤＰ１には図３
に示す一般的な構造のものを用いており、それぞれ必要
な構成要素が形成されたガラス基板１０３とガラス基板
１０６を一定のギャップを保ちながら組み合わせ、封止
ガラスにより周囲を封着した後に、ガラス基板１０６側
に設けたガス導入口２、ガス排出口３およびガス導入口
２と接続されたガス導入管４、ガス排出口３と接続され
たガス排出管５をとおして本製造装置とつなぎあわされ
ている。ガス導入管４、ガス排出管５には円筒状のガラ
ス管を用い、ガス導入口２とガス導入管４およびガス排
出口３とガス排出管５は低融点ガラスを用いて接続さ
れ、ＰＤＰ１の内部空間はガス導入管４とガス排出管５
の端部以外で密閉されている。ガス導入管４と製造装置
側の配管６とは接続冶具７を用いて接続され、ガス排出
管５と配管８とは接続冶具９を用いて接続されている。
接続冶具７には図示しないがガス導入管４と配管６を密
閉することができるようにＯリングが埋設されている。
同様に接続冶具９には図示しないがガス排出管５と配管
８を密閉することができるようにＯリングが埋設されて
いる。配管６はエージングガスを導入するためのエージ
ングガス導入系１０にバルブ１１を介して接続され、放
電ガスを導入するための放電ガス導入系１２にバルブ１
３を介して接続されている。エージングガス導入系１０
とバルブ１１の間にはエージングガスを加熱するための
エージングガス加熱機構１７が設けられている。同様に
配管８はエージングガスを排出するためのエージングガ
ス排出系１４にバルブ１５を介して接続されている。エ
ージングガス排出系にはＰＤＰ１の内部空間１８の圧力
を調整するために図示しないがポンプが埋設されてい
る。本実施形態ではポンプにロータリーポンプを用いた
がＰＤＰ１の内部空間１８の圧力を調整できればこれに
限られるものではない。また、ＰＤＰ１の内部空間１８
の圧力をエージング時およびガス封入時の圧力に調整す
るのが目的のため、調整範囲は１００〜７６０Ｔｏｒｒ
（１３．３〜１０１．０８ｋＰａ）程度であり、排気ベ
ーキング工程に用いる真空排気装置ほど能力を必要とせ
ず、安価な装置構成となっている。また、ＰＤＰ１のガ
ラス基板１０３側の電極に駆動回路１６が接続されてお
り、電極に電圧を印加することによりＰＤＰ１を放電さ
せることができる。以上、本発明を適用するＰＤＰ製造
装置構成の一例を示した。
装置の構成を模式的に表す図である。ＰＤＰ１には図３
に示す一般的な構造のものを用いており、それぞれ必要
な構成要素が形成されたガラス基板１０３とガラス基板
１０６を一定のギャップを保ちながら組み合わせ、封止
ガラスにより周囲を封着した後に、ガラス基板１０６側
に設けたガス導入口２、ガス排出口３およびガス導入口
２と接続されたガス導入管４、ガス排出口３と接続され
たガス排出管５をとおして本製造装置とつなぎあわされ
ている。ガス導入管４、ガス排出管５には円筒状のガラ
ス管を用い、ガス導入口２とガス導入管４およびガス排
出口３とガス排出管５は低融点ガラスを用いて接続さ
れ、ＰＤＰ１の内部空間はガス導入管４とガス排出管５
の端部以外で密閉されている。ガス導入管４と製造装置
側の配管６とは接続冶具７を用いて接続され、ガス排出
管５と配管８とは接続冶具９を用いて接続されている。
接続冶具７には図示しないがガス導入管４と配管６を密
閉することができるようにＯリングが埋設されている。
同様に接続冶具９には図示しないがガス排出管５と配管
８を密閉することができるようにＯリングが埋設されて
いる。配管６はエージングガスを導入するためのエージ
ングガス導入系１０にバルブ１１を介して接続され、放
電ガスを導入するための放電ガス導入系１２にバルブ１
３を介して接続されている。エージングガス導入系１０
とバルブ１１の間にはエージングガスを加熱するための
エージングガス加熱機構１７が設けられている。同様に
配管８はエージングガスを排出するためのエージングガ
ス排出系１４にバルブ１５を介して接続されている。エ
ージングガス排出系にはＰＤＰ１の内部空間１８の圧力
を調整するために図示しないがポンプが埋設されてい
る。本実施形態ではポンプにロータリーポンプを用いた
がＰＤＰ１の内部空間１８の圧力を調整できればこれに
限られるものではない。また、ＰＤＰ１の内部空間１８
の圧力をエージング時およびガス封入時の圧力に調整す
るのが目的のため、調整範囲は１００〜７６０Ｔｏｒｒ
（１３．３〜１０１．０８ｋＰａ）程度であり、排気ベ
ーキング工程に用いる真空排気装置ほど能力を必要とせ
ず、安価な装置構成となっている。また、ＰＤＰ１のガ
ラス基板１０３側の電極に駆動回路１６が接続されてお
り、電極に電圧を印加することによりＰＤＰ１を放電さ
せることができる。以上、本発明を適用するＰＤＰ製造
装置構成の一例を示した。
【００１０】次に本装置接続後の本発明に係る実施形態
を示す。本装置接続時はバルブ１１、バルブ１３、バル
ブ１５はすべて閉じられている。ＰＤＰ１を本装置に接
続後、ＰＤＰ１の内部空間１８を真空排気させることな
くバルブ１１およびバルブ１５を開放し、ＰＤＰ１の内
部空間１８にエージングガスを導入する。エージングガ
スにはＮｅガスを用い、エージングガス加熱機構１７を
用いて３００℃程度に加熱して導入した。エージングガ
スはＰＤＰ１の内部空間１８の不純物を洗浄する効果の
大きいものが望ましく、Ｎｅに限られるものではない。
また、エージングガスは連続して流されることとなる
が、エージングガス排出系１４に排出されたエージング
ガスを気体純化装置を通すなどして純化することにより
再利用することができる。気体純化装置には例えば高温
チタンにより不純物を吸着させるようなものがある。導
入されたエージングガスは内部空間１８を経由してエー
ジングガス排出系１４へ排出される。このように、エー
ジングガスをＰＤＰ１の内部空間１８に流した状態での
エージングガスの流量を、図示しないエージングガス導
入系１０に取り付けられたマスフローコントローラと図
示しないエージングガス排出系１４に取り付けられたマ
スフローコントローラを用いて１０ｃｃｍ〜５００ｃｃ
ｍ程度に設定し、ＰＤＰ１の内部空間１８の圧力をバル
ブ１１とバルブ１５の開度を調整することにより１００
〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３〜１０１．０８ｋＰａ）程
度に設定した。この状態で、駆動回路１６よりＰＤＰ１
の電極に電圧を印加することによりＰＤＰ１の内部空間
１８を放電させるエージングをおこなう。この際、ＰＤ
Ｐ１の温度が低いと、ＰＤＰ１の内部空間１８の構造物
の不純物が十分に脱離しないことが予想されるが、流し
ているエージングガスの熱とエージングさせたことによ
る放電の熱によりＰＤＰ１は加熱され、内部空間１８の
構造物からの熱による不純物の脱離が促進される。ま
た、ＰＤＰ１を放電させていることにより、スパッタリ
ングによる不純物ガスの放出も行われている。これによ
りＰＤＰ１の内部空間１８の構造物より不純物ガスが発
生するが、発生した不純物ガスは流れているエージング
ガスと共にエージングガス排出系１４へ排出されること
となる。十分に内部空間１８の構造物の不純物を脱離さ
せ、内部空間１８から排出させた後に、駆動回路１６か
らＰＤＰ１の電極に電圧を印加するエージングを終了す
る。この時、エージングガスの熱とエージングさせたこ
とによる放電の熱によりＰＤＰ１は加熱状態にあるた
め、エージングガス加熱機構１７を止め、常温のエージ
ングガスを流す。ＰＤＰ１が十分に冷却された後に、バ
ルブ１１を閉じ、続いてバルブ１３を開放することによ
りＰＤＰ１の内部空間１８に放電ガスを導入する。放電
ガスにはＮｅ−Ｘｅの混合気体を用いているがこれに限
られるものではない。また、本実施形態ではエージング
ガスと放電ガスが異なっているが同じガスを用いても問
題はない。ＰＤＰ１の内部空間１８内のガスが十分に放
電ガスに入れ替わった後に、バルブ１５およびバルブ１
３を閉じる。この際、ＰＤＰ１の内部空間１８内の圧力
を適正に調整させている。調整方法としてはまずバルブ
１５を閉じた状態で放電ガス導入系よりガスを封入し、
ガス封入圧力より高圧になる様にした上でバルブ１３を
閉じる。次に、バルブ１５を開放することにより、エー
ジングガス排出系に埋設された図示しないポンプを用い
て、ＰＤＰ１の内部空間１８を減圧し、ＰＤＰ１の内部
空間１８が放電ガス封入圧力になったところでバルブ１
５を閉じることによって調整した。この放電ガス封入圧
力は１００〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３〜１０１．０８
ｋＰａ）程度に設定した。そして、ガス導入管４および
ガス排出管５をバーナーを用いて封止する(封止工程)こ
とによりＰＤＰを作製した。本手法を用いて作製したＰ
ＤＰでは、ＰＤＰの点灯の初期段階に発生するＰＤＰの
放電特性の劣化が発生しなかったため、従来方法におけ
る封止工程後のエージングは不要となった。これは、封
止前にエージングを行い、ＰＤＰ内部空間の構造物より
放出される不純物ガスを除去した後に封止を行っている
ためと考えられる。このＰＤＰの製造工程のフローを簡
単に示すと図２のようになる。従来の排気ベーキング工
程に相当する熱による脱離で発生する不純物ガスの除去
と、従来のエージング工程に相当する放電によるスパッ
タリングによる不純物ガスの除去を同時に行っているた
めに、ＰＤＰの製造工程が簡略化されたこととなる。ま
た、従来排気ベーキング工程で必要であった真空排気設
備が不要となるために、製造設備のコストを下げること
ができた。また、本手法により作製したＰＤＰにおいて
特性を評価したところ従来方法と同等の放電特性、寿命
特性を得ることができた。
を示す。本装置接続時はバルブ１１、バルブ１３、バル
ブ１５はすべて閉じられている。ＰＤＰ１を本装置に接
続後、ＰＤＰ１の内部空間１８を真空排気させることな
くバルブ１１およびバルブ１５を開放し、ＰＤＰ１の内
部空間１８にエージングガスを導入する。エージングガ
スにはＮｅガスを用い、エージングガス加熱機構１７を
用いて３００℃程度に加熱して導入した。エージングガ
スはＰＤＰ１の内部空間１８の不純物を洗浄する効果の
大きいものが望ましく、Ｎｅに限られるものではない。
また、エージングガスは連続して流されることとなる
が、エージングガス排出系１４に排出されたエージング
ガスを気体純化装置を通すなどして純化することにより
再利用することができる。気体純化装置には例えば高温
チタンにより不純物を吸着させるようなものがある。導
入されたエージングガスは内部空間１８を経由してエー
ジングガス排出系１４へ排出される。このように、エー
ジングガスをＰＤＰ１の内部空間１８に流した状態での
エージングガスの流量を、図示しないエージングガス導
入系１０に取り付けられたマスフローコントローラと図
示しないエージングガス排出系１４に取り付けられたマ
スフローコントローラを用いて１０ｃｃｍ〜５００ｃｃ
ｍ程度に設定し、ＰＤＰ１の内部空間１８の圧力をバル
ブ１１とバルブ１５の開度を調整することにより１００
〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３〜１０１．０８ｋＰａ）程
度に設定した。この状態で、駆動回路１６よりＰＤＰ１
の電極に電圧を印加することによりＰＤＰ１の内部空間
１８を放電させるエージングをおこなう。この際、ＰＤ
Ｐ１の温度が低いと、ＰＤＰ１の内部空間１８の構造物
の不純物が十分に脱離しないことが予想されるが、流し
ているエージングガスの熱とエージングさせたことによ
る放電の熱によりＰＤＰ１は加熱され、内部空間１８の
構造物からの熱による不純物の脱離が促進される。ま
た、ＰＤＰ１を放電させていることにより、スパッタリ
ングによる不純物ガスの放出も行われている。これによ
りＰＤＰ１の内部空間１８の構造物より不純物ガスが発
生するが、発生した不純物ガスは流れているエージング
ガスと共にエージングガス排出系１４へ排出されること
となる。十分に内部空間１８の構造物の不純物を脱離さ
せ、内部空間１８から排出させた後に、駆動回路１６か
らＰＤＰ１の電極に電圧を印加するエージングを終了す
る。この時、エージングガスの熱とエージングさせたこ
とによる放電の熱によりＰＤＰ１は加熱状態にあるた
め、エージングガス加熱機構１７を止め、常温のエージ
ングガスを流す。ＰＤＰ１が十分に冷却された後に、バ
ルブ１１を閉じ、続いてバルブ１３を開放することによ
りＰＤＰ１の内部空間１８に放電ガスを導入する。放電
ガスにはＮｅ−Ｘｅの混合気体を用いているがこれに限
られるものではない。また、本実施形態ではエージング
ガスと放電ガスが異なっているが同じガスを用いても問
題はない。ＰＤＰ１の内部空間１８内のガスが十分に放
電ガスに入れ替わった後に、バルブ１５およびバルブ１
３を閉じる。この際、ＰＤＰ１の内部空間１８内の圧力
を適正に調整させている。調整方法としてはまずバルブ
１５を閉じた状態で放電ガス導入系よりガスを封入し、
ガス封入圧力より高圧になる様にした上でバルブ１３を
閉じる。次に、バルブ１５を開放することにより、エー
ジングガス排出系に埋設された図示しないポンプを用い
て、ＰＤＰ１の内部空間１８を減圧し、ＰＤＰ１の内部
空間１８が放電ガス封入圧力になったところでバルブ１
５を閉じることによって調整した。この放電ガス封入圧
力は１００〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３〜１０１．０８
ｋＰａ）程度に設定した。そして、ガス導入管４および
ガス排出管５をバーナーを用いて封止する(封止工程)こ
とによりＰＤＰを作製した。本手法を用いて作製したＰ
ＤＰでは、ＰＤＰの点灯の初期段階に発生するＰＤＰの
放電特性の劣化が発生しなかったため、従来方法におけ
る封止工程後のエージングは不要となった。これは、封
止前にエージングを行い、ＰＤＰ内部空間の構造物より
放出される不純物ガスを除去した後に封止を行っている
ためと考えられる。このＰＤＰの製造工程のフローを簡
単に示すと図２のようになる。従来の排気ベーキング工
程に相当する熱による脱離で発生する不純物ガスの除去
と、従来のエージング工程に相当する放電によるスパッ
タリングによる不純物ガスの除去を同時に行っているた
めに、ＰＤＰの製造工程が簡略化されたこととなる。ま
た、従来排気ベーキング工程で必要であった真空排気設
備が不要となるために、製造設備のコストを下げること
ができた。また、本手法により作製したＰＤＰにおいて
特性を評価したところ従来方法と同等の放電特性、寿命
特性を得ることができた。
【００１１】このように、本実施形態によれば、従来の
排気ベーキング工程に相当する熱による脱離で発生する
不純物ガスの除去と、従来のエージング工程に相当する
放電によるスパッタリングによる不純物ガスの除去を同
時に行うことにより、ＰＤＰの製造工程を簡略化し、従
来排気ベーキング工程で必要であった真空排気設備が不
要となることにより、製造設備のコストを下げる手法を
提供することができる。
排気ベーキング工程に相当する熱による脱離で発生する
不純物ガスの除去と、従来のエージング工程に相当する
放電によるスパッタリングによる不純物ガスの除去を同
時に行うことにより、ＰＤＰの製造工程を簡略化し、従
来排気ベーキング工程で必要であった真空排気設備が不
要となることにより、製造設備のコストを下げる手法を
提供することができる。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、ＰＤＰの製造工程を簡
略化し、製造設備のコストを下げる手法を提供すること
ができる。
略化し、製造設備のコストを下げる手法を提供すること
ができる。
【図１】本発明に係るＰＤＰ用製造装置構成模式図
【図２】本発明に係るＰＤＰ製造工程フローチャート
【図３】ＰＤＰパネルを示す斜視図
【図４】従来のＰＤＰ製造工程フローチャート
１ プラズマディスプレイパネル ２ ガス導入口 ３ ガス排出口 ４ ガス導入管 ５ ガス排出管 ６ 配管 ７ 接続冶具 ８ 配管 ９ 接続冶具 １０ エージングガス導入系 １１ バルブ １２ 放電ガス導入系 １３ バルブ １４ エージングガス排出系 １５ バルブ １６ 駆動回路 １７ エージングガス加熱機構 １８ 内部空間 １０１ 表示電極 １０２ 表示スキャン電極 １０３ ガラス基板 １０４ 誘電体層 １０５ ＭｇＯ保護膜 １０６ ガラス基板 １０７ アドレス電極 １０８ 誘電体層 １０９ リブ １１０ 蛍光体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安井 秀明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C012 AA09 VV02 5C040 FA01 GB03 GB14 HA04 JA24 MA20 MA26 5C058 AA11
Claims (5)
- 【請求項１】 対向する一対の基板により構成され、一
定の間隔を有しながら一対の基板の外周を密封すること
により内部に放電空間を有し、プラズマディスプレイパ
ネル内の放電空間にガスを導入、排出する放電ガス通気
口を少なくとも二つ以上有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネルの製造工程において、プラ
ズマディスプレイパネル内の放電空間を真空排気するこ
となくプラズマディスプレイパネル内の放電空間に放電
ガスを封入し、放電ガス通気口を塞ぐ封止を行うことを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項２】 対向する一対の基板により構成され、一
定の間隔を有しながら一対の基板の外周を密封すること
により内部に放電空間を有し、プラズマディスプレイパ
ネル内の放電空間にガスを導入、排出する放電ガス通気
口を少なくとも二つ以上有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネルの製造工程において、プラ
ズマディスプレイパネル内の放電空間に放電ガスを流し
ながら、プラズマディスプレイパネルの電極間に電圧を
印加しプラズマディスプレイパネルを放電させることを
特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。 - 【請求項３】 対向する一対の基板により構成され、一
定の間隔を有しながら一対の基板の外周を密封すること
により内部に放電空間を有し、プラズマディスプレイパ
ネル内の放電空間にガスを導入、排出する放電ガス通気
口を少なくとも二つ以上有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネル内の放電空間に放電ガスを
流しながらプラズマディスプレイパネルの電極間に電圧
を印加し、プラズマディスプレイパネルを放電させるエ
ージング工程において、プラズマディスプレイパネルに
流す放電ガスが加熱されていることを特徴とする請求項
１または２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。 - 【請求項４】 対向する一対の基板により構成され、一
定の間隔を有しながら一対の基板の外周を密封すること
により内部に放電空間を有し、プラズマディスプレイパ
ネル内の放電空間にガスを導入、排出する放電ガス通気
口を少なくとも二つ以上有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネル内の放電空間に放電ガスを
流しながらプラズマディスプレイパネルの電極間に電圧
を印加し、プラズマディスプレイパネルを放電させるエ
ージング工程後に、プラズマディスプレイパネル内の放
電空間を大気に曝すことなく放電ガス通気口を塞ぐ封止
を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１から４のいずれかの製造方法を
用いて製造されたプラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000331981A JP2002140988A (ja) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000331981A JP2002140988A (ja) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002140988A true JP2002140988A (ja) | 2002-05-17 |
Family
ID=18808248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000331981A Pending JP2002140988A (ja) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002140988A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007080608A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| KR100728803B1 (ko) | 2005-10-19 | 2007-06-19 | 한국기계연구원 | 배기 및 에이징 단일 공정 시스템 그리고 이를 사용한플라스마 표시 패널의 제조 방법 |
-
2000
- 2000-10-31 JP JP2000331981A patent/JP2002140988A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007080608A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| KR100728803B1 (ko) | 2005-10-19 | 2007-06-19 | 한국기계연구원 | 배기 및 에이징 단일 공정 시스템 그리고 이를 사용한플라스마 표시 패널의 제조 방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3465634B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2002245941A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| KR100746440B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
| CN101681759B (zh) | 等离子体显示面板的制造方法和制造装置 | |
| US6189579B1 (en) | Gas filling method and device, and method for filling discharge gas into plasma display panel | |
| JP2002140988A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル | |
| JP3841172B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2002134019A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル | |
| JP2001043802A (ja) | ガス放電パネルの製造方法 | |
| JP2002134026A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造装置および製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル | |
| JP3165453B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| CA2488707A1 (en) | Method for producing a gas discharge device | |
| JP2002358903A (ja) | ガス放電パネル及びその製造装置並びに製造方法 | |
| JP4929080B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルおよびその製造装置 | |
| KR100323510B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 프론트/리어 패널 결합방법 | |
| WO2000072351A1 (en) | Method of producing gas discharge panel | |
| KR100745169B1 (ko) | 방전을 이용한 디스플레이 패널의 가스 배기/주입방법 | |
| JP2004063186A (ja) | ガス放電パネルの製造方法 | |
| JP2002134021A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル | |
| KR100732240B1 (ko) | 방전을 이용한 디스플레이 패널의 구조 | |
| JP2003151436A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2002140984A (ja) | 表示パネルおよびその製造方法 | |
| JP2005011557A (ja) | フラットパネルディスプレイ装置の製造方法および装置 | |
| JP2002075217A (ja) | プラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイならびにその製造方法 | |
| JP2005005260A (ja) | プラズマディスプレイパネル |