JP2002134020A - Apparatus for introducing/exhausting plasma display panel gas and gas filling method using the same - Google Patents

Apparatus for introducing/exhausting plasma display panel gas and gas filling method using the same

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JP2002134020A
JP2002134020A JP2000322498A JP2000322498A JP2002134020A JP 2002134020 A JP2002134020 A JP 2002134020A JP 2000322498 A JP2000322498 A JP 2000322498A JP 2000322498 A JP2000322498 A JP 2000322498A JP 2002134020 A JP2002134020 A JP 2002134020A
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Japan
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panel
gas
exhaust
gas introduction
valve
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JP2000322498A
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Japanese (ja)
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Yasuo Konishi
庸雄 小西
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To boost cleaning efficiency of a plasma display panel(PDP) by reducing a cleaning gas conductance during gas cleaning of the inside of the display panel before discharge gas filling. SOLUTION: An apparatus for introducing and exhausting PDP gases comprises: a cleaning-gas-introducing device 20, which supplies cleaning gas to a sealed panel 9; an exhausting/discharge-gas-introducing device 30, which evacuates the sealed panel 9 to a specified vacuum level by an exhausting pump 34, to supply a discharge gas; an oven 40, which heats the sealed panel 9; a controller 50, which controls an exhausting valve 32 and gas introducing valves 21, 35 to open and close; and a panel destruction preventing mechanism 7, which is located in the oven 40 and presses the both surfaces of the sealed panel 9 from the outside, to keep deflections to the both surfaces of the panel less than the destruction limit of the panel. During the gas cleaning, the pressure in the panel is controlled between 101324.72 to 102337.97 Pa., for the cleaning gas conductance in the panel to be prevented from decreasing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマガスディス
プレイパネル(以下、PDPという)のガス導入・排気
装置とそれを用いたガス封入方法に関し、特にPDPに
放電ガスを封入する際のパネル内部の洗浄効率が向上で
きるガス導入・排気装置とそれを用いたガス封入方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas introduction / exhaust device for a plasma gas display panel (hereinafter referred to as "PDP") and a gas filling method using the same, and more particularly to cleaning inside of a panel when filling discharge gas into the PDP. The present invention relates to a gas introduction / exhaust device capable of improving efficiency and a gas filling method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10にAC3電極面放電型のPDPの
製造工程図を示す。前面基板(ガラス基板)には透明電
極(放電維持電極および走査電極)が形成され、その上
にバス電極が設けられる。これはさらに透明誘電体とM
gO保護膜で被覆される。一方、背面基板(ガラス基
板)にはアドレス電極、白色反射層、障壁が順次形成さ
れ、さらに蛍光体が塗布される。これらの基板をフリッ
トガラスで封着した後、パネル内を排気して放電ガスを
封入してPDPが製造される。
2. Description of the Related Art FIG. 10 shows a manufacturing process of an AC3 electrode surface discharge type PDP. Transparent electrodes (discharge sustaining electrodes and scanning electrodes) are formed on the front substrate (glass substrate), and bus electrodes are provided thereon. This is also due to the transparent dielectric and M
Covered with gO protective film. On the other hand, an address electrode, a white reflective layer, and a barrier are sequentially formed on a rear substrate (glass substrate), and a phosphor is applied. After sealing these substrates with frit glass, the inside of the panel is evacuated and a discharge gas is sealed to produce a PDP.

【0003】上記のPDPの製造工程の放電ガスを封入
する工程においては、パネルの特性を良好に保つために
パネル内に残存する炭酸ガス(CO2)や水(H2O)等
の不純物ガスや揮発性物質が除去される。
In the process of filling a discharge gas in the above-described PDP manufacturing process, impurity gas such as carbon dioxide (CO 2 ) and water (H 2 O) remaining in the panel in order to maintain good characteristics of the panel. And volatile substances are removed.

【0004】PDPの放電ガスを封入する技術として
は、特許第2984014号公報等に開示されている。
図11は、この技術による放電ガス封入工程図である。
まず、電極や、誘電体等を形成した前面基板および背面
基板をフリットガラスで封着してパネルを形成する。次
いで、パネル内を真空排気すると同時にフリットガラス
が融解しない温度(例えば360℃)までベーキングす
る(ステップS1〜ステップS2)。
A technique for filling a discharge gas of a PDP is disclosed in Japanese Patent No. 2984014 or the like.
FIG. 11 is a view showing a discharge gas sealing process according to this technique.
First, a front substrate and a rear substrate on which electrodes, a dielectric, and the like are formed are sealed with frit glass to form a panel. Next, the inside of the panel is evacuated and simultaneously baked to a temperature at which the frit glass does not melt (for example, 360 ° C.) (Steps S1 and S2).

【0005】次に、この温度に保持した状態で、パネル
内に窒素等の洗浄ガスを充填する(ステップS3)。所
定の時間経過後、再びパネル内を真空排気する(ステッ
プS4)。この洗浄ガス充填〜真空排気の工程を数回繰
返する。次にパネルを室温に冷却(ステップS5)した
後、パネル内にNeやXeの放電ガスを封入(ステップ
S6)し、洗浄ガス導入と真空排気に使用されたパネル
に接続されている排気管をチップオフ(ステップS7)
してPDPが製造される。
Next, while maintaining the temperature, the panel is filled with a cleaning gas such as nitrogen (step S3). After a lapse of a predetermined time, the inside of the panel is evacuated again (step S4). This process from the filling of the cleaning gas to the evacuation is repeated several times. Next, after cooling the panel to room temperature (step S5), a discharge gas of Ne or Xe is sealed in the panel (step S6), and the exhaust pipe connected to the panel used for introducing the cleaning gas and evacuating the panel is removed. Chip off (Step S7)
As a result, a PDP is manufactured.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記の従来の放電ガス
封入技術のパネル内の洗浄方法には次のような課題があ
った。 (1)前面基板と背面基板は隔壁により規定された概ね
200μm程度のギャップしかなく、さらにこの隔壁
は、各セルの放電を規定する役目も果たし、0.2〜
1.2mmピッチ程度で形成されている。そのためにパ
ネル内はコンダクタンスが大変悪く、不純物ガス排出の
ための排気パスの確保は極めて難しい状態にあり、ま
た、洗浄・排気に相当な時間を要する。更に隣接セルの
誤灯を防止するため、閉構造セルが提案されており、こ
の場合、さらにコンダクタンスは悪化し、パネル内洗浄
の処理時間は生産性を阻害する大きな要因となる。 (2)通常PDPの前面基板と背面基板は、ガラス基板
の反りやリブ頂部の平坦度の関係から密着はしていな
い。しかし排気ベーキングによるパネル内洗浄において
は、パネル内部を減圧(例えば66661〜7999
3.2Pa)するため、外部の大気圧により、前面基板
と背面基板は強く押し付けられることになり、さらにコ
ンダクタンスが悪化する。
The above-described conventional method for cleaning the inside of a panel using the discharge gas filling technique has the following problems. (1) The front substrate and the rear substrate only have a gap of about 200 μm defined by the partition, and the partition also serves to regulate the discharge of each cell.
It is formed at a pitch of about 1.2 mm. For this reason, the conductance inside the panel is very poor, and it is extremely difficult to secure an exhaust path for exhausting impurity gas, and a considerable amount of time is required for cleaning and exhausting. Further, in order to prevent erroneous lighting of the adjacent cells, a closed structure cell has been proposed. In this case, the conductance is further deteriorated, and the processing time for cleaning in the panel is a major factor inhibiting productivity. (2) Normally, the front substrate and the rear substrate of the PDP do not adhere to each other due to the warpage of the glass substrate and the flatness of the tops of the ribs. However, in cleaning the inside of the panel by exhaust baking, the inside of the panel is reduced in pressure (for example, 66661 to 7999).
(3.2 Pa), the front substrate and the rear substrate are strongly pressed by the external atmospheric pressure, and the conductance is further deteriorated.

【0007】従って、本発明の目的は、上記の従来技術
における問題点を解決したPDPのガス導入・排気装置
とそれを用いたガス封入方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a gas introduction / exhaust device for a PDP and a gas filling method using the same, which solve the above-mentioned problems in the prior art.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の構成のP
DPのガス導入・排気装置は、第1のガス導入弁を備
え、前記第1のガス導入弁を介して封着済パネルに洗浄
ガスを供給するための洗浄ガス導入装置と、排気弁,第
2のガス導入弁および排気ポンプとを備え、前記排気弁
を介して前記排気ポンプにより前記パネルを所定の真空
度に排気し、前記第2のガス導入弁および前記排気弁を
介して前記パネルに放電ガスを供給するための真空排気
・放電ガス導入装置と、前記パネルを所定の温度に加熱
するためのオーブンと、前記排気弁,第1ガス導入弁お
よび第2のガス導入弁の開閉を制御する制御装置と、前
記オーブン内に配置され、前記パネルの両面を外側より
押え、該パネル両面の外側へのたわみ量を該パネルの破
壊限界以内に保持するパネル破壊防止機構とを備えてい
ることを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, the P
The DP gas introduction / exhaust device includes a first gas introduction valve, and a cleaning gas introduction device for supplying a cleaning gas to the sealed panel via the first gas introduction valve; A gas introduction valve and an exhaust pump, the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump via the exhaust valve, and the panel is exhausted to the panel via the second gas introduction valve and the exhaust valve. A vacuum exhaust / discharge gas introducing device for supplying a discharge gas, an oven for heating the panel to a predetermined temperature, and controlling opening and closing of the exhaust valve, the first gas introduction valve and the second gas introduction valve. And a panel destruction prevention mechanism that is disposed in the oven, presses both sides of the panel from the outside, and holds the amount of outward deflection of both sides of the panel within the destruction limit of the panel. Characterized by

【0009】前記の本発明の第1の構成において、前記
パネル破壊防止機構として、ロッドまたはプレートを使
用することができる。また、前記パネル破壊防止機構に
は圧力検出機能を備えることができる。
In the first configuration of the present invention, a rod or a plate can be used as the panel destruction preventing mechanism. Further, the panel destruction prevention mechanism may have a pressure detection function.

【0010】上記の本発明の第1の構成において、前記
パネル破壊防止機構の代わりに前記パネル両面の変位量
を測定する変位計を前記オーブン内に設けることもでき
る。
In the first configuration of the present invention, a displacement meter for measuring a displacement amount on both surfaces of the panel may be provided in the oven instead of the panel destruction preventing mechanism.

【0011】上記の第1の構成のPDPのガス導入・排
気装置を用いたPDPの放電ガス封入方法は、前記オー
ブン内に封着済パネルを配置する工程と、前記排気ポン
プにより前記パネルを所定の真空度に排気する工程と、
前記パネル内を前記排気ポンプによって排気しながら前
記オーブンによって前記パネルを所定の温度で加熱する
工程と、前記パネル内を常温まで冷却した後、前記洗浄
ガス導入装置により前記パネル内に該パネル内を該パネ
ル外の圧力以上の圧力で洗浄ガスを所定の時間供給して
フローする工程と、前記パネル内を前記排気ポンプによ
り所定の真空度に排気する工程と、前記真空排気・放電
ガス導入装置により前記パネル内に放電ガスを所定の圧
力で充填した後、前記パネルに接続されているガス排気
・放電ガス導入用ガラス管および洗浄用ガス導入用ガラ
ス管をチップオフして前記パネル内に前記放電ガスを封
入する工程とを含んで構成される。上記の本発明のプラ
ズマディスプレイパネルの放電ガス封入方法において
は、前記排気ポンプにより前記パネルを所定の真空度に
排気した後、前記パネル内を前記排気ポンプによって排
気しながら前記オーブンによって前記パネルを所定の温
度で加熱し、前記パネルをこの所定の温度に保持して前
記洗浄ガスを所定の時間供給してフローしてもよい。
[0011] In the method of filling a discharge gas of a PDP using the gas introduction / exhaust device for a PDP having the above-mentioned first structure, a method of arranging a sealed panel in the oven, and a step of arranging the panel by the exhaust pump are performed. Evacuating to a vacuum degree of
Heating the panel at a predetermined temperature by the oven while exhausting the inside of the panel by the exhaust pump, and after cooling the inside of the panel to room temperature, the inside of the panel is put into the panel by the cleaning gas introduction device. A step of supplying and flowing a cleaning gas at a pressure equal to or higher than the pressure outside the panel for a predetermined time; a step of evacuating the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump; After filling the panel with the discharge gas at a predetermined pressure, the gas exhaust / discharge gas introduction glass tube and the cleaning gas introduction glass tube connected to the panel are chipped off to discharge the discharge gas into the panel. Sealing the gas. In the method for filling a discharge gas of a plasma display panel according to the present invention, the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump, and then the panel is evacuated by the oven while the inside of the panel is exhausted by the exhaust pump. , The panel may be maintained at the predetermined temperature, and the cleaning gas may be supplied for a predetermined time to flow.

【0012】本発明の第2の構成のPDPのガス導入・
排気装置は、第1のガス導入弁を備え、前記第1のガス
導入弁を介して封着済パネルに洗浄ガスを供給するため
の洗浄ガス導入装置と、排気弁,第2のガス導入弁およ
び排気ポンプとを備え、前記排気弁を介して前記排気ポ
ンプにより前記パネルを所定の真空度に排気し、前記第
2のガス導入弁および前記排気弁を介して前記パネルに
放電ガスを供給するための真空排気・放電ガス導入装置
と、前記パネルが設置され、前記パネルを所定の温度に
加熱し、かつ前記パネル外部を減圧する機能を有する加
熱機構付きチャンバーと、前記排気弁,第1ガス導入弁
および第2のガス導入弁の開閉を制御する制御装置と、
前記パネルの両面を押え、前記パネル両面の外側へのた
わみ量を該パネルの破壊限界以内に保持するパネル破壊
防止機構とを備えていることを特徴とする。
The gas introduction of the PDP of the second configuration of the present invention
The exhaust device includes a first gas introduction valve, a cleaning gas introduction device for supplying a cleaning gas to the sealed panel via the first gas introduction valve, an exhaust valve, and a second gas introduction valve. And an exhaust pump, wherein the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump via the exhaust valve, and a discharge gas is supplied to the panel via the second gas introduction valve and the exhaust valve. Vacuum gas discharge / discharge gas introducing device, a chamber provided with the panel, a heating mechanism having a function of heating the panel to a predetermined temperature and depressurizing the outside of the panel, the exhaust valve, the first gas A control device for controlling the opening and closing of the introduction valve and the second gas introduction valve;
A panel destruction prevention mechanism is provided which holds both sides of the panel and holds the amount of outward deflection of both sides of the panel within the destruction limit of the panel.

【0013】上記の本発明の第2の構成のPDPのガス
導入・排気装置を用いたPDPの放電ガス封入方法は、
前記チャンバー内に封着済パネルを配置する工程と、前
記排気ポンプにより前記パネルを所定の真空度に排気す
ると同時に前記チャンバー内を大気圧よりも減圧する工
程と、前記パネル内を前記排気ポンプによって排気しな
がら前記チャンバーによって前記パネルを所定の温度で
加熱する工程と、前記パネル内を前記温度に保持しなが
ら前記洗浄ガス導入装置により前記パネル内に所定の圧
力で洗浄ガスを充填する工程と、前記パネル内を前記排
気ポンプにより所定の真空度に排気する工程と、前記パ
ネル内を常温に冷却した後、前記真空排気・放電ガス導
入装置により前記パネル内に放電ガスを所定の圧力で充
填する工程と、前記パネルに接続されているガス排気、
放電用および洗浄ガス用を兼ねる排気管をチップオフし
て前記パネル内に前記放電ガスを封入する工程とを含ん
で構成される。
[0013] The method for charging a discharge gas of a PDP using the gas introduction / exhaust device for a PDP according to the second configuration of the present invention is as follows.
Arranging a sealed panel in the chamber, evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump, and simultaneously reducing the pressure in the chamber below atmospheric pressure, and evacuating the inside of the panel by the exhaust pump. Heating the panel at a predetermined temperature by the chamber while evacuating, and filling the panel with a cleaning gas at a predetermined pressure by the cleaning gas introduction device while maintaining the inside of the panel at the temperature, A step of exhausting the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump and, after cooling the inside of the panel to room temperature, filling the panel with a discharge gas at a predetermined pressure by the evacuation / discharge gas introducing device. Process and gas exhaust connected to said panel;
Chipping off an exhaust pipe serving both as a discharge gas and a cleaning gas and sealing the discharge gas in the panel.

【0014】本発明の第3の構成のPDPのガス導入・
排気装置は、第1のガス導入弁を備え、前記第1のガス
導入弁を介して封着済パネルに洗浄ガスを供給するため
の洗浄ガス導入装置と、排気弁,第2のガス導入弁およ
び排気ポンプとを備え、前記排気弁を介して前記排気ポ
ンプにより前記パネルを所定の真空度に排気し、前記第
2のガス導入弁および前記排気弁を介して前記パネルに
放電ガスを供給するための真空排気・放電ガス導入装置
と、前記パネルが設置され、前記パネルを所定の温度に
加熱するためのオーブンと、前記排気弁,第1ガス導入
弁および第2のガス導入弁の開閉を制御する制御装置
と、前記オーブン内に設置され、前記パネルの両面に固
定され、該パネルの両面ギャップを所定の値に保持する
基板ギャップ保持手段とを備えていることを特徴とす
る。
[0014] The gas introduction of the PDP of the third configuration of the present invention.
The exhaust device includes a first gas introduction valve, a cleaning gas introduction device for supplying a cleaning gas to the sealed panel via the first gas introduction valve, an exhaust valve, and a second gas introduction valve. And an exhaust pump, wherein the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump via the exhaust valve, and a discharge gas is supplied to the panel via the second gas introduction valve and the exhaust valve. And an oven for heating the panel to a predetermined temperature, and opening and closing the exhaust valve, the first gas introduction valve, and the second gas introduction valve. A control device for controlling the apparatus, and a substrate gap holding means installed in the oven and fixed to both sides of the panel and holding a gap on both sides of the panel at a predetermined value are provided.

【0015】上記の本発明の第3の構成のPDPのガス
導入・排気装置を用いたPDPの放電ガス封入方法は、
前記オーブン内に封着済パネルを配置する工程と、前記
パネルの両面を前記基板ギャップ保持手段により所定の
位置に保持し、前記排気ポンプにより前記パネルを所定
の真空度に排気する工程と、前記パネルの両面を前記基
板ギャップ保持手段により所定の位置に保持し、前記パ
ネル内を前記排気ポンプによって排気しながら前記オー
ブンによって前記パネルを所定の温度で加熱する工程
と、前記パネル内を前記温度に保持しながら前記洗浄ガ
ス導入装置により前記パネル内に所定の圧力で洗浄ガス
を充填する工程と、前記パネル内を前記排気ポンプによ
り所定の真空度に排気する工程と、前記パネル内を常温
に冷却した後、前記真空排気・放電ガス導入装置により
前記パネル内に放電ガスを所定の圧力で充填する工程
と、前記パネルに接続されているガス排気、放電用およ
び洗浄ガス用を兼ねる排気管をチップオフして前記パネ
ル内に前記放電ガスを封入する工程とを含んで構成され
る。
[0015] The method for filling a discharge gas of a PDP using the gas introduction / exhaust device for a PDP according to the third configuration of the present invention is as follows.
Arranging the sealed panel in the oven, holding both surfaces of the panel at a predetermined position by the substrate gap holding means, and evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump; Holding both surfaces of the panel at a predetermined position by the substrate gap holding means, heating the panel at a predetermined temperature by the oven while exhausting the inside of the panel by the exhaust pump, and setting the inside of the panel to the temperature. A step of filling the inside of the panel with a cleaning gas at a predetermined pressure by the cleaning gas introduction device while holding, a step of evacuating the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump, and cooling the inside of the panel to room temperature After that, filling the discharge gas into the panel at a predetermined pressure by the evacuation / discharge gas introducing device, and connecting to the panel And that the gas exhaust is, an exhaust pipe serving as a discharge and for cleaning gas is chipped off configured to include a step of sealing the discharge gas into the panel.

【0016】上記の第1の構成のPDPのガス導入・排
気装置では、パネル外部にパネル破壊防止機構を設けて
あるので安全性を保持し、封着済のパネル内部を外部圧
力よりも大きく保持して洗浄用ガスを導入できるため
に、パネル両面を外側に膨らませることで、パネル内の
ガスフローコンダクタンスを確保でき、パネル内の洗浄
性が向上できる。また、上記の第2の構成のPDPのガ
ス導入・排気装置では、加熱機構付きチャンバー内に封
着済パネルを配置して、パネル外部の圧力がパネル内部
の圧力よりも大きくならないようにできるために、パネ
ル両面が押し付けられることなく、パネル内の洗浄ガス
フローコンダクタンスと排気コンダクタンスの低下が防
止でき、パネル内の洗浄と排気時間の大幅な短縮ができ
る。
In the PDP gas introduction / exhaust device of the first configuration, since the panel destruction prevention mechanism is provided outside the panel, safety is maintained, and the inside of the sealed panel is maintained at a pressure higher than the external pressure. By inflating both sides of the panel outward, the gas flow conductance in the panel can be secured and the cleanability in the panel can be improved. Further, in the gas introduction / exhaust device of the PDP having the second configuration, the sealed panel can be arranged in the chamber with the heating mechanism so that the pressure outside the panel does not become higher than the pressure inside the panel. In addition, since both sides of the panel are not pressed, the cleaning gas flow conductance and the exhaust conductance in the panel can be prevented from lowering, and the time for cleaning and exhausting the inside of the panel can be greatly reduced.

【0017】上記の第3の構成のPDPのガス導入・排
気装置では、封着済パネルの両面が内側に変位するのを
防止するための基板ギャップ保持手段を備え、パネル内
部圧力が外部圧力よりも小さくなった場合でもパネル両
面が外部圧力で押し付けられることがなく、また、パネ
ルギャップを所定の値に保持することでパネル内洗浄ガ
スフローコンダクタンスと排気コンダクタンスが確保さ
れ、パネル内の洗浄と排気時間の大幅な短縮ができる。
The PDP gas introduction / exhaust device of the third configuration has a substrate gap holding means for preventing both sides of the sealed panel from being displaced inward, and the panel internal pressure is lower than the external pressure. Even when the size of the panel becomes smaller, the both sides of the panel are not pressed by the external pressure, and by maintaining the panel gap at a predetermined value, the cleaning gas flow conductance and the exhaust conductance in the panel are secured, and the cleaning and exhaust of the panel are performed. The time can be greatly reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0019】図1は本発明の第1の実施の形態のPDP
のガス導入・排気装置の概略構成図である。本PDPの
ガス導入・排気装置は、図1のように、ガス導入弁21
を備え、ガス導入弁21を介して洗浄ガスボンベ22よ
り封着済パネル9(PDP)に洗浄ガスを供給するため
の洗浄ガス導入装置20と、排気弁32とガス導入弁3
5と排気ポンプ34とを備え、排気弁32を介して排気
ポンプ34により封着済パネル9を排気し、ガス導入弁
35および排気弁32を介して放電ガスボンベ33より
封着パネル9に放電ガスを供給するための真空排気・放
電ガス導入装置と、封着済パネル9を所定の温度に加熱
するためのオーブン40と、上記各弁の開閉を制御する
制御装置50と、オーブン40内に設置され、封着済パ
ネル9の両面間のたわみ量を所定の値以下に制御するパ
ネル破壊防止機構7とを備えている。
FIG. 1 shows a PDP according to a first embodiment of the present invention.
1 is a schematic configuration diagram of a gas introduction / exhaust device of FIG. As shown in FIG. 1, the gas introduction / exhaust device of this PDP has a gas introduction valve 21.
A cleaning gas introducing device 20 for supplying a cleaning gas from a cleaning gas cylinder 22 to a sealed panel 9 (PDP) via a gas introducing valve 21; an exhaust valve 32 and a gas introducing valve 3;
5 and an exhaust pump 34, the sealed panel 9 is exhausted by the exhaust pump 34 via the exhaust valve 32, and the discharge gas is discharged from the discharge gas cylinder 33 to the sealing panel 9 via the gas introduction valve 35 and the exhaust valve 32. , An oven 40 for heating the sealed panel 9 to a predetermined temperature, a control device 50 for controlling the opening and closing of each of the valves, and an oven 40 And a panel destruction prevention mechanism 7 for controlling the amount of deflection between both sides of the sealed panel 9 to a predetermined value or less.

【0020】パネル破壊防止機構7としては、複数のロ
ッド、またはプレートを使用することができる。封着済
パネル9は、内部圧力が外部圧力よりも高くなると両面
(ガラス基板)が外側に膨張し、あるたわみ量ωを超え
ると破壊されるが、パネル破壊防止機構7はそのωより
も小さい位置に設置されて、パネル両面のたわみが破壊
限界を超えないように、パネル両面を機械的に押える作
用をする。なお、図1の符号4はパネルを封着している
フリットガラス、符号3はパネルの基板に設けられてい
る隔壁を示し、また、符号5および6は封着済パネルに
接続されているガス導入用ガラス管およびガス排気用ガ
ラス管をそれぞれ示す。
As the panel destruction prevention mechanism 7, a plurality of rods or plates can be used. When the internal pressure is higher than the external pressure, the both sides (glass substrate) of the sealed panel 9 expand outward, and the panel 9 is broken when it exceeds a certain amount of flexure ω. However, the panel destruction prevention mechanism 7 is smaller than ω. It is installed at the position and acts to mechanically press both sides of the panel so that the deflection of both sides of the panel does not exceed the breaking limit. In addition, reference numeral 4 in FIG. 1 denotes frit glass sealing the panel, reference numeral 3 denotes a partition provided on the panel substrate, and reference numerals 5 and 6 denote gas connected to the sealed panel. The glass tube for introduction and the glass tube for gas exhaust are shown, respectively.

【0021】本実施の形態のPDPのガス導入・排気装
置においては、さらに真空排気・ガ放電ガス導入装置に
ガス排気用ガラス管6に接続される逃げ弁31を備える
ことができる。この逃げ弁は制御装置50に接続され、
封着済パネル9内を洗浄ガスで洗浄する際に、該洗浄ガ
スを外部に逃がすことができる。逃げ弁31または/お
よびガス導入弁21には圧力計または/および流量計
(表示していない)を設け、封着済パネル9の内部圧力
または/および洗浄ガスの流量を測定することができ
る。
In the gas introduction / exhaust device of the PDP according to the present embodiment, a relief valve 31 connected to the gas exhaust glass tube 6 can be further provided in the vacuum exhaust / gas discharge gas introduction device. This relief valve is connected to the control device 50,
When the inside of the sealed panel 9 is cleaned with the cleaning gas, the cleaning gas can be released to the outside. A pressure gauge or / and a flow meter (not shown) is provided on the relief valve 31 and / or the gas introduction valve 21 so that the internal pressure of the sealed panel 9 and / or the flow rate of the cleaning gas can be measured.

【0022】また、図1のパネル破壊防止機構7に、圧
力検出機能(例えば圧力センサを設ける)を持たせ、封
着済パネル9の押圧力によりパネル内圧を測定し、制御
装置に測定値をフィードバックして洗浄ガスの導入量を
制御してもよく、パネル破壊防止機構とは別にパネルの
両面のたわみ量を検出する変位計をオーブン内に設置し
て、このたわみ量からパネル内部圧力を算出して制御装
置50にフィードバックして洗浄ガスの導入量を制御し
てもよい。
The panel destruction prevention mechanism 7 shown in FIG. 1 is provided with a pressure detection function (for example, provided with a pressure sensor), measures the internal pressure of the panel by the pressing force of the sealed panel 9, and sends the measured value to the control device. Feedback may be used to control the amount of cleaning gas introduced.In addition to the panel destruction prevention mechanism, a displacement gauge that detects the amount of deflection on both sides of the panel is installed in the oven, and the internal pressure of the panel is calculated from the amount of deflection. Then, the amount of cleaning gas introduced may be controlled by feeding back to the control device 50.

【0023】本発明のPDPのガス導入・排気装置で
は、洗浄ガスフロー時のパネル内の圧力をパネル外圧以
上の圧力に制御してパネルの両基板が外圧によって押し
付けられ洗浄ガスのパネル内のコンダクタンスが低下し
ないようにする。パネル内の圧力が外圧よりも大きくな
った場合は、パネル両面は外側に膨張するが、パネル破
壊防止機構7でパネル両面の変位量を検出し、その変位
がパネルの両面の基板(ガラス基板)の破壊限界を超え
ないように洗浄ガスの導入を制御することに大きな特徴
がある。
In the gas introduction / exhaust device of the PDP of the present invention, the pressure inside the panel during the flow of the cleaning gas is controlled to a pressure equal to or higher than the external pressure of the panel, and both substrates of the panel are pressed by the external pressure, and the conductance of the cleaning gas within the panel is increased. Is not reduced. When the pressure inside the panel becomes larger than the external pressure, both sides of the panel expand outward, but the displacement amount of both sides of the panel is detected by the panel destruction prevention mechanism 7, and the displacement is determined by the substrates (glass substrates) on both sides of the panel. There is a great feature in controlling the introduction of the cleaning gas so as not to exceed the destruction limit.

【0024】次に、上記の本発明の第1の実施の形態の
動作について説明する。封着済パネル9の前面基板2ま
たは背面基板1(ガラス基板)の4辺を保持し全体に等
荷重がかかった場合のパネル中心部の応力は下記の式
(1)であらわされる。
Next, the operation of the first embodiment of the present invention will be described. When the four sides of the front substrate 2 or the rear substrate 1 (glass substrate) of the sealed panel 9 are held and an equal load is applied to the whole, the stress at the center of the panel is expressed by the following equation (1).

【0025】[0025]

【数1】 (Equation 1)

【0026】ここで、σ:面内応力[Mpa]、q:面
内(パネル)許容圧力[Pa]、t:ガラス基板厚さ
[cm]、a:ガラス基板短辺長さ[cm]、β:応力
係数である。
Here, σ: in-plane stress [Mpa], q: in-plane (panel) allowable pressure [Pa], t: glass substrate thickness [cm], a: glass substrate short side length [cm], β: stress coefficient.

【0027】(1)式において、面内応力が許容値を超
えたときに、ガラス基板の破壊が発生する。このときの
ガラス基板面にかかる荷重を算出する。ガラス基板が破
棄するときの面内応力の許容値は、ガラス基板メーカー
の公表値より21MPaである。なおこの値は建材用の
ガラス基板の値を用いており、すでに傷等に対する安全
係数は考慮した値である。
In the equation (1), when the in-plane stress exceeds an allowable value, the glass substrate is broken. The load applied to the glass substrate surface at this time is calculated. The allowable value of the in-plane stress when the glass substrate is discarded is 21 MPa from the published value of the glass substrate manufacturer. Note that this value uses the value of a glass substrate for building materials, and is a value that already takes into account the safety factor against scratches and the like.

【0028】次にガラス基板サイズとして42型パネル
を例としてσ=21[MPa]、t=0.28[c
m]、a=55.7[cm]、b=96.0[cm]
(ガラス基板長辺長さ)、β=0.54(ガラス基板外
形の長辺長さ/短辺長さの比で決まる。)の値を代入し
て、σ=21Mpaのときのqを算出すると、ガラス基
板が破壊に至るときのガラス基板面内にかかる荷重が求
められる。
Next, as a glass substrate size, σ = 21 [MPa] and t = 0.28 [c] taking a 42-inch panel as an example.
m], a = 55.7 [cm], b = 96.0 [cm]
(The length of the long side of the glass substrate), β = 0.54 (determined by the ratio of the long side length / short side length of the glass substrate outer shape), and calculate q when σ = 21 Mpa. Then, the load applied to the glass substrate surface when the glass substrate is broken is required.

【0029】導き出された面内許容圧力(ガラス基板破
壊限界)でのガラス基板への荷重は、q=982.7
[Pa](約0.01気圧)となる。この場合のガラス
基板中心部のたわみ量(変位量ω)は、下記式(2)で
算出される。
The load on the glass substrate at the derived in-plane allowable pressure (glass substrate breaking limit) is q = 982.7.
[Pa] (about 0.01 atm). The deflection amount (displacement amount ω) of the central portion of the glass substrate in this case is calculated by the following equation (2).

【0030】[0030]

【数2】 (Equation 2)

【0031】たわみ係数(α)=0.101、ヤング率
(E)=76000[MPa]を代入して求めたガラス
基板中心部のたわみ量(変位量ω)は、5.7mmとな
る。たわみ係数(α)はガラス基板の長辺長さとガラス
基板の短辺長さの比(b/a)の比で決まり、ガラスメ
ーカーの公表値を使用した。ヤング率は高歪点ガラスの
値を用いたが、ソーダガラスの場合でも大きな差はな
い。結果として、42型パネルの場合、内圧が1.01
気圧以上で破壊限界となり、その時のガラス基板のたわ
み量は5.7mmにもなる。本発明では、このたわみ量
をパネル破壊防止機構7で所定量に規制し、パネルの内
部圧力が102337.97Paを超えないようにして
いる。
The deflection (displacement ω) at the center of the glass substrate obtained by substituting the deflection coefficient (α) = 0.101 and the Young's modulus (E) = 76000 [MPa] is 5.7 mm. The deflection coefficient (α) is determined by the ratio of the long side length of the glass substrate to the short side length ratio (b / a) of the glass substrate, and a published value of a glass manufacturer was used. As the Young's modulus, the value of high strain point glass was used, but there is no significant difference even in the case of soda glass. As a result, for a 42-inch panel, the internal pressure is 1.01
The breaking limit is reached when the pressure is higher than the atmospheric pressure, and the deflection amount of the glass substrate at that time becomes as large as 5.7 mm. In the present invention, the amount of flexure is regulated to a predetermined amount by the panel destruction prevention mechanism 7 so that the internal pressure of the panel does not exceed 102337.97 Pa.

【0032】次に、図1のPDPのガス導入・排気装置
を使用してパネルに放電ガスを封入する第1の方法につ
いて説明する。図2は、この放電ガス封入方法の第1の
方法を説明するための工程図、図3は図1の封着済パネ
ル9の拡大断面図、図4は図1の封着済パネル9の斜視
図である。
Next, a first method for filling a discharge gas into a panel using the gas introduction / exhaust device of the PDP shown in FIG. 1 will be described. FIG. 2 is a process chart for explaining a first method of the discharge gas sealing method, FIG. 3 is an enlarged sectional view of the sealed panel 9 of FIG. 1, and FIG. 4 is a view of the sealed panel 9 of FIG. It is a perspective view.

【0033】図3のように、封着済パネル9は背面基板
1(ガラス基板)と前面基板2(ガラス基板)がフリッ
トガラス4で封着された構造を有し、前面基板2の周辺
部にはパネル内部に洗浄ガスを導入するためのガス導入
用ガラス管5とパネル内部から洗浄用ガスおよびパネル
内部の不純ガスを洗浄用ガスと一緒にパネル外部に排気
するためのガス排気用ガラス管6が接続されている。ま
た、図4のように、ガス排気用ガラス管6は前面基板2
の1コーナ部に設けられ、ガス導入用ガラス管5は3コ
ーナ部に設けられている。
As shown in FIG. 3, the sealed panel 9 has a structure in which a back substrate 1 (glass substrate) and a front substrate 2 (glass substrate) are sealed with frit glass 4. A glass tube 5 for introducing a cleaning gas into the inside of the panel and a glass tube for gas exhaust for exhausting the cleaning gas and the impurity gas inside the panel from the inside of the panel to the outside of the panel together with the cleaning gas. 6 are connected. Further, as shown in FIG.
The gas introduction glass tube 5 is provided at three corners.

【0034】まず、図3に示すようなガス排気用ガラス
管6およびガス導入用ガラス管5を接続した封着済パネ
ル9をベーキングを行うためのオーブン40熱風炉の中
に配置し、真空排気・ガス導入装置(表示していない)
にこれらのガラス管を接続する。ガス排気用ガラス管6
よりパネル内を0.1333Pa以下に真空排気する
(図2、ステップS1)。
First, the sealed panel 9 to which the gas exhaust glass tube 6 and the gas introduction glass tube 5 are connected as shown in FIG. 3 is placed in an oven 40 for baking and is evacuated.・ Gas introduction device (not shown)
Connect these glass tubes to Glass tube for gas exhaust 6
Then, the inside of the panel is evacuated to 0.1333 Pa or less (FIG. 2, step S1).

【0035】同時に排気を継続したまま、パネルのベー
キングを実施する(図2、ステップS2)。この時のベ
ーキング温度は、前面基板2と背面基板1の封着してい
るフリットガラス4がリフローしない所定温度(例えば
300〜400℃)として設定される。この所定温度に
2時間ほど保持して、パネル内に吸着していた水分やそ
の他の揮発性不純物をガス化して排気される。
At the same time, the panel is baked while the evacuation is continued (FIG. 2, step S2). The baking temperature at this time is set as a predetermined temperature (for example, 300 to 400 ° C.) at which the frit glass 4 sealing the front substrate 2 and the rear substrate 1 does not reflow. While maintaining the predetermined temperature for about 2 hours, moisture and other volatile impurities adsorbed in the panel are gasified and exhausted.

【0036】その後、パネル温度を常温まで低下させ、
パネルの排気を停止した後、ガス導入用配管5を介し
て、酸素、ネオン、窒素等の混合ガスの洗浄ガスをパネ
ル内にフローさせ、この洗浄ガスでパネル内を洗浄する
(図2、ステップS3)。パネル内に残っていた不純物
のガスは洗浄ガスとともにパネル外に排出される。な
お、洗浄ガスは、3個所のガス導入用配管5よりガスを
導入し、残り一個所のガス排気用配管6を開放とする。
パネルの洗浄に使用された洗浄ガスはガス排気用配管6
に接続された逃げ弁31より外部に排出される。逃げ弁
31または/およびガス導入弁21に設けられている圧
力計(表示していな)と制御装置50により封着済パネ
ル9の内圧力が101324.72〜102337.9
7Paになるように制御される。
Thereafter, the panel temperature is lowered to room temperature,
After the evacuation of the panel is stopped, a cleaning gas of a mixed gas such as oxygen, neon, or nitrogen is caused to flow into the panel through the gas introduction pipe 5, and the inside of the panel is cleaned with the cleaning gas (FIG. 2, step). S3). The impurity gas remaining in the panel is discharged out of the panel together with the cleaning gas. The cleaning gas is introduced from three gas introduction pipes 5 and the remaining one gas exhaust pipe 6 is opened.
The cleaning gas used for cleaning the panel is a gas exhaust pipe 6
Is discharged to the outside through the relief valve 31 connected to the second valve. A pressure gauge (not shown) provided on the relief valve 31 and / or the gas introduction valve 21 and the control device 50 increase the internal pressure of the sealed panel 9 to 101324.72 to 10237.9.
It is controlled to be 7 Pa.

【0037】パネル内は101324.72Pa以上と
なるため、パネルを構成する前面基板2と背面基板1は
図5に示すようにたわみ量ωで外側に膨れることにな
り、そのため両基板間には所定のギャップが形成される
ことになる。このギャップ形成によりパネル内の洗浄ガ
スの流れは改善される。この時前面基板と背面基板の破
壊を防止するために、各々の基板が概ねω=3mm以上
の変形を起こさないようにパネル破壊防止機構7により
背面基板1及び前面基板2のたわみ量ωを機械的に制限
している。なお、パネル破壊防止機構7としては複数の
ロッド、またはプレートを使用することができる。図6
は、封止済パネルとパネル破壊防止機構7(複数のロッ
ドを使用)の配置状態を示す断面図である。
Since the inside of the panel is equal to or more than 10134.72 Pa, the front substrate 2 and the rear substrate 1 constituting the panel bulge outward with a flexure amount ω as shown in FIG. Will be formed. This gap formation improves the flow of the cleaning gas in the panel. At this time, in order to prevent destruction of the front substrate and the rear substrate, the amount of deflection ω of the rear substrate 1 and the front substrate 2 is mechanically controlled by the panel destruction prevention mechanism 7 so that each substrate does not substantially deform ω = 3 mm or more. Is restricted. Note that a plurality of rods or plates can be used as the panel destruction prevention mechanism 7. FIG.
FIG. 4 is a sectional view showing an arrangement state of a sealed panel and a panel destruction prevention mechanism 7 (using a plurality of rods).

【0038】こうした状態で洗浄ガスフローを概ね1時
間程度継続した後、パネル内を再度高真空(133.3
22×10-4〜133.322×10-7Pa程度)まで
排気する(図2、ステップS4)。
In this state, after the cleaning gas flow is continued for about one hour, the inside of the panel is again evacuated to a high vacuum (133.3).
Evacuation is performed to about 22 × 10 −4 to 133.322 × 10 −7 Pa (FIG. 2, step S4).

【0039】次に排気を停止した後、放電ガス(ネオン
(Ne)あるいはキセノン(Xe)、またはこれらの混
合ガスを使用)を所定の圧力になるようにガス排気用配
管6よりパネル内に導入した後、封着済パネル9から同
じガス排気用配管6を経由して排気ポンプ34に放電ガ
スを排気する。このガス導入と排気を数回繰り返した
後、放電ガスを所定の圧力となるように封入し(図2、
ステップS6)、ガス導入用配管5およびガス排気用配
管6をチップオフ(図2、ステップS7)することで、
ガス導入が終了する。
Next, after the exhaust is stopped, a discharge gas (neon (Ne), xenon (Xe), or a mixed gas thereof) is introduced into the panel through a gas exhaust pipe 6 so as to have a predetermined pressure. After that, the discharge gas is exhausted from the sealed panel 9 to the exhaust pump 34 via the same gas exhaust pipe 6. After repeating the gas introduction and exhaust several times, the discharge gas is sealed so as to have a predetermined pressure (FIG. 2,
In step S6), the gas introduction pipe 5 and the gas exhaust pipe 6 are chipped off (FIG. 2, step S7).
The gas introduction ends.

【0040】ガス排気用ガラス管は少なくとも2個所必
要であり、洗浄ガスの流れの均一化を考慮してその本数
と取付け位置が選定される。
At least two gas exhaust glass tubes are required, and the number and the mounting position are selected in consideration of the uniformity of the flow of the cleaning gas.

【0041】次に、図1のPDPのガス導入・排気装置
を使用してパネルに放電ガスを封入する第2の方法につ
いて説明する。図7は、この放電ガス封入方法の第2の
方法を説明するための工程図である。本方法では、図2
の第1の方法において、ベーキング工程(ステップS
2)後、ベーキング温度を保持したまま洗浄ガスフロー
工程(ステップS3)〜真空排気工程(ステップS4)
を行う場合であり、真空排気工程後にパネル冷却工程
(ステップS5)が追加される。この第2の方法では、
洗浄ガスフローが高温で行われるために、図2の第1の
方法よりもさらに高い洗浄効果が得られる。
Next, a second method for filling a discharge gas into a panel using the gas introduction / exhaust device of the PDP shown in FIG. 1 will be described. FIG. 7 is a process chart for explaining a second method of the discharge gas filling method. In this method, FIG.
In the first method, a baking step (step S
2) After that, while maintaining the baking temperature, the cleaning gas flow step (Step S3) to the evacuation step (Step S4)
Is performed, and a panel cooling step (step S5) is added after the evacuation step. In this second method,
Since the cleaning gas flow is performed at a high temperature, a higher cleaning effect can be obtained than in the first method of FIG.

【0042】上記の第1および第2の方法では真空排気
工程(ステップS1)、ベーキング工程(ステップS
2)の順に行われたが、この工程順序は逆でもよく、こ
れらの工程が数回繰り返されても問題はない。
In the first and second methods described above, the evacuation step (step S1), the baking step (step S1)
Although the steps were performed in the order of 2), the order of the steps may be reversed, and there is no problem even if these steps are repeated several times.

【0043】次に、本発明の第2の実施の形態のPDP
のガス導入・排気装置について図8を参照して説明す
る。
Next, the PDP according to the second embodiment of the present invention
The gas introduction / exhaust device will be described with reference to FIG.

【0044】図8は、本実施の形態のPDPのガス導入
・排気装置の概略構成図であり、図1の第1の実施の形
態において、オーブン40を加熱機構付き真空チャンバ
ー11内に置換え、このチャンバー内を101324.
72Paよりも小さくなるまで減圧して、封着済パネル
の外部の圧力によりパネル両面が押し付けられないよう
にした。チャンバー内の圧力は26664.4〜666
61Pa程度でよい。また、本実施の形態ではパネル配
管を排気管8の一本だけにし、装置構造を簡単にした。
図8の符号10はチャンバー内の真空度を保持するため
のチャンバーの排気管8の導出部をシールするための耐
熱シールである。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a gas introduction / exhaust device for a PDP according to this embodiment. In the first embodiment of FIG. 1, the oven 40 is replaced with a vacuum chamber 11 with a heating mechanism. 101324.
The pressure was reduced until the pressure became smaller than 72 Pa, so that both sides of the panel were not pressed by the pressure outside the sealed panel. The pressure in the chamber is 26664.4 to 666
It may be about 61 Pa. Further, in the present embodiment, only one exhaust pipe 8 is used for the panel pipe, and the structure of the apparatus is simplified.
Reference numeral 10 in FIG. 8 is a heat-resistant seal for sealing the outlet of the exhaust pipe 8 of the chamber for maintaining the degree of vacuum in the chamber.

【0045】この装置を使用した放電のガスの封入方法
を説明する。まず、封着済パネル9を、加熱機構付き真
空チャンバー11内に設置し、排気管8からパネル内の
排気を行ないながら、パネルをベーキング(温度300
〜400℃)する。この時パネルが設置されている真空
チャンバー内も排気を行ない減圧する。ここでパネル内
圧力とチャンバー内圧力は個別に制御され、パネルにと
って外部となるチャンバー内を減圧することで前面基板
2と背面基板1が大気圧で押付けられることを回避す
る。
A method for charging a discharge gas using this apparatus will be described. First, the sealed panel 9 is placed in the vacuum chamber 11 with a heating mechanism, and the panel is baked (with a temperature of 300) while exhausting the inside of the panel from the exhaust pipe 8.
400400 ° C.). At this time, the inside of the vacuum chamber in which the panel is installed is also evacuated to reduce the pressure. Here, the pressure in the panel and the pressure in the chamber are individually controlled, and the pressure inside the chamber external to the panel is reduced to avoid pressing the front substrate 2 and the rear substrate 1 at atmospheric pressure.

【0046】次にベーキング温度(300〜400℃)
に加熱機構付き真空チャンバー11内を保持して、洗浄
ガス導入装置20により排気管8(この排気管はガス導
入管としても兼用)を経由して洗浄ガスとして酸素、ネ
オン、窒素等の混合ガスの導入した後、今度はこの排気
管8から排出する。このガス導入と排出を約10分間隔
で10回程度繰り返す。この時パネルは圧力差によるガ
ラス変形による破壊を防ぐために、上記の第1の実施の
形態と同様に、パネル両面にあるギャップを保ってパネ
ル破壊防止機構7が設けられる。このギャップは、パネ
ルのガラス基板の弾性変形内で破壊しない変位量によっ
て設定される。パネル内の洗浄ガスの圧力は66661
〜102337.97Paに制御される。またパネル破
壊防止機構7の代わりにパネル両面の変位量を測定する
変位計をチャンバー内に設け、変位量から洗浄ガスの流
量・圧力を制御してもよい。
Next, the baking temperature (300 to 400 ° C.)
Is held in a vacuum chamber 11 having a heating mechanism, and a mixed gas of oxygen, neon, nitrogen, etc. is used as a cleaning gas by a cleaning gas introduction device 20 via an exhaust pipe 8 (this exhaust pipe is also used as a gas introduction pipe). Is introduced from the exhaust pipe 8. This gas introduction and discharge is repeated about 10 times at intervals of about 10 minutes. At this time, in order to prevent the panel from being broken due to the deformation of the glass due to the pressure difference, the panel breaking prevention mechanism 7 is provided while maintaining the gaps on both sides of the panel, as in the first embodiment. This gap is set by the amount of displacement that does not break within the elastic deformation of the glass substrate of the panel. The pressure of the cleaning gas in the panel is 66661
It is controlled to 102337.97 Pa. Instead of the panel destruction prevention mechanism 7, a displacement meter for measuring the displacement amount on both sides of the panel may be provided in the chamber, and the flow rate and pressure of the cleaning gas may be controlled based on the displacement amount.

【0047】最後にパネル温度を下げて、放電ガスの導
入を行ない、排気管8のチップオフが行われ、放電ガス
の導入が終了してPDPが完成する。
Finally, the temperature of the panel is lowered and the discharge gas is introduced, the exhaust pipe 8 is chipped off, and the introduction of the discharge gas is completed to complete the PDP.

【0048】なお、上記の第2の実施の形態のPDPの
ガス導入・排気装置においては、洗浄ガス導入および排
出をパネル温度を常温に冷却後行うこともできる。
In the PDP gas introduction / exhaust device of the second embodiment, the introduction and discharge of the cleaning gas may be performed after the panel temperature is cooled to room temperature.

【0049】次に、本発明の第3の実施の形態のPDP
のガス導入・排気装置について図9を参照して説明す
る。図9は本実施の形態のPDPのガス導入・排気装置
概略構成図である。本実施の形態では、図1の本発明の
第1の実施の形態のPDPのガス導入・排気装置におい
て、パネル破壊防止機構7をパネルの前面基板2および
背面基板1の表面を外側に機械的に引っぱる基板ギャッ
プ保持手段60に置換えた場合である。基板ギャップ保
持手段60としては先端に吸盤を備えた保持治具が使用
できる。基板ギャップ保持手段60を吸着させ、両基板
を外側に引っぱり、両基板間を所定のギャップに保持
し、真空排気〜ベーキング〜洗浄ガスフロー〜真空排気
〜パネル冷却〜放電ガス封入工程が行われる。この場合
のギャップは、各々前面基板と背面基板ガラスの弾性変
形内の変位量に抑えられ、概ね1〜2mmである。
Next, the PDP according to the third embodiment of the present invention
The gas introduction / exhaust device will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a gas introduction / exhaust device of the PDP of the present embodiment. In the present embodiment, in the gas introduction / exhaust device for a PDP according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1, the panel destruction prevention mechanism 7 is provided by mechanically moving the surfaces of the front substrate 2 and the rear substrate 1 of the panel outward. This is a case where the substrate gap holding means 60 is replaced. As the substrate gap holding means 60, a holding jig having a suction cup at the tip can be used. The substrate gap holding means 60 is sucked, the two substrates are pulled outward, and the gap between the two substrates is held at a predetermined gap, and the evacuation, baking, cleaning gas flow, evacuation, panel cooling, and discharge gas sealing steps are performed. In this case, the gap is suppressed to the amount of displacement within the elastic deformation of the front substrate glass and the rear substrate glass, and is approximately 1 to 2 mm.

【0050】この状態に保持された封着済パネ9ルにつ
いて排気ベーキングを行う。パネルは300〜400℃
程度に加熱され、高真空まで排気される。
The sealed panel 9 held in this state is subjected to exhaust baking. Panel is 300-400 ° C
It is heated to a degree and evacuated to a high vacuum.

【0051】次に上記の第2の実施の形態と同様に、洗
浄ガスとして酸素、ネオン、窒素等の混合ガスの導入
と、排出を約10分間隔で10回程度繰り返す。この時
洗浄ガスは常温でもよいが、加熱しておくことによっ
て、不純物ガスの排出効果を向上することができる。な
お、本実施の形態では、上記の第2の実施の形態と同様
に単排気管が使用され、この排気管を介してガス導入と
排気を行うことができる。本実施の形態では、基板ギャ
ップ保持手段60を備えることによって上記の第2の実
施の形態のような加熱機構付きチャンバー11(真空チ
ャンバー)は不要である。
Next, as in the second embodiment, the introduction and discharge of a mixed gas of oxygen, neon, nitrogen or the like as the cleaning gas are repeated about 10 times at intervals of about 10 minutes. At this time, the cleaning gas may be at room temperature, but by heating it, the effect of discharging the impurity gas can be improved. In this embodiment, a single exhaust pipe is used as in the second embodiment, and gas introduction and exhaust can be performed through this exhaust pipe. In the present embodiment, the provision of the substrate gap holding means 60 eliminates the need for the chamber 11 (vacuum chamber) with a heating mechanism as in the above-described second embodiment.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のPDPの
ガス導入・排気装置では、前面基板と背面基板をお互い
に押付けること無く、さらには積極的に離すことでパネ
ル内コンダクタンスを改善し、排気ベーキングや洗浄ガ
スフロー等によるパネル内の清浄化プロセスを効率化で
きる。本発明の各構成のPDPのガス導入・排気装置で
は、次の効果が得られる。 (1)第1の構成のPDPのガス導入・排気装置では、
パネル外部にパネル破壊防止機構を設けてあるので安全
性を保持し、封着済のパネル内部を外部圧力よりも大き
く保持して洗浄用ガスを導入できるために、パネル両面
が押し付けられることがないので、パネル内のガスフロ
ーコンダクタンスの低下が防止でき、パネル内の洗浄性
が向上できる。 (2)第2の構成のPDPのガス導入・排気装置では、
加熱機構付きチャンバー内に封着済パネルを配置して、
パネル外部の圧力がパネル内部の圧力よりも大きくなら
ないようにできるために、パネル両面が押し付けられる
ことなく、パネル内の洗浄ガスフローコンダクタンスと
排気コンダクタンスの低下が防止できる。その結果、パ
ネル内の洗浄と排気時間の大幅な短縮ができ、また、パ
ネル洗浄および排気が単排気管で可能となる。 (3)第3の構成のPDPのガス導入・排気装置では、
封着済パネルの両面が内側に変位するのを防止するため
の基板ギャップ保持手段を備え、パネル内部圧力が外部
圧力よりも小さくなった場合でもパネル両面が外部圧力
で押し付けられることがなく、また、パネルギャップを
所定の値に保持できる。その結果、パネル内の洗浄と排
気時間の大幅な短縮ができ、また、パネル洗浄および排
気が単排気管で可能となる。
As described above, in the PDP gas introduction / exhaust device of the present invention, the conductance in the panel can be improved by pressing the front substrate and the rear substrate apart from each other and by positively separating them. In addition, the efficiency of the process of cleaning the inside of the panel by exhaust baking, cleaning gas flow, or the like can be improved. The PDP gas introduction / exhaust device according to the present invention has the following advantages. (1) In the PDP gas introduction / exhaust device of the first configuration,
A panel destruction prevention mechanism is provided outside the panel to maintain safety, and the inside of the sealed panel can be maintained at a pressure higher than the external pressure to introduce a cleaning gas, so that both sides of the panel are not pressed. Therefore, a decrease in gas flow conductance in the panel can be prevented, and the cleanability in the panel can be improved. (2) In the PDP gas introduction / exhaust device of the second configuration,
Place the sealed panel in a chamber with a heating mechanism,
Since the pressure outside the panel can be prevented from being higher than the pressure inside the panel, both sides of the panel are not pressed, so that the cleaning gas flow conductance and the exhaust conductance inside the panel can be prevented from lowering. As a result, the time for cleaning and exhausting the inside of the panel can be significantly reduced, and the panel can be cleaned and exhausted with a single exhaust pipe. (3) In the PDP gas introduction / exhaust device of the third configuration,
Provided with a substrate gap holding means for preventing both sides of the sealed panel from being displaced inward, even when the panel internal pressure becomes smaller than the external pressure, the panel both sides are not pressed by the external pressure, and The panel gap can be maintained at a predetermined value. As a result, the time for cleaning and exhausting the inside of the panel can be significantly reduced, and the panel can be cleaned and exhausted with a single exhaust pipe.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態のPDPのガス導入
・排気装置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a PDP gas introduction / exhaust device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態のPDPのガス導入
・排気装置を使用して放電ガスを封入する第1の方法を
説明するための工程図である。
FIG. 2 is a process chart for explaining a first method of filling a discharge gas by using a PDP gas introduction / exhaust device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図1の封着済パネルの拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view of the sealed panel of FIG.

【図4】図1の封着済パネルの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of the sealed panel of FIG. 1;

【図5】本発明の第1の実施の形態の動作を説明するた
めの封着済パネルの拡大断面図である。
FIG. 5 is an enlarged sectional view of the sealed panel for explaining the operation of the first embodiment of the present invention.

【図6】封止済パネルとパネル破壊防止機構(複数のロ
ッド)の配置状態を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing an arrangement state of a sealed panel and a panel destruction prevention mechanism (a plurality of rods).

【図7】本発明の第1の実施の形態のPDPのガス導入
・排気装置を使用して放電ガスを封入する第2の方法を
説明するための工程図である。
FIG. 7 is a process chart for explaining a second method of filling a discharge gas using the gas introduction / exhaust device of the PDP according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施の形態のPDPのガス導入
・排気装置の概略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a PDP gas introduction / exhaust device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第3の実施の形態のPDPのガス導入
・排気装置の概略構成図である。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a PDP gas introduction / exhaust device according to a third embodiment of the present invention.

【図10】従来のAC3電極面放電型のPDPの製造例
を示す工程図である。
FIG. 10 is a process chart showing an example of manufacturing a conventional AC3 electrode surface discharge type PDP.

【図11】従来の放電ガス封入工程図である。FIG. 11 is a view showing a conventional discharge gas sealing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 背面基板 2 前面基板 3 隔壁 4 フリットガラス 5 ガス導入用ガラス管 6 ガス排気用ガラス管 7 パネル破壊防止機構 8 排気管 9 封着済パネル 10 耐熱シール 11 加熱機構付きチャンバー 20 洗浄ガス導入装置 21,35 ガス導入弁 22 洗浄ガスボンベ 30 真空排気・放電ガス導入装置 31 逃げ弁 32 排気弁 33 放電ガスボンベ 34 排気ポンプ 40 オーブン 50 制御装置 60 基板ギャップ保持手段 REFERENCE SIGNS LIST 1 back substrate 2 front substrate 3 partition wall 4 frit glass 5 glass tube for gas introduction 6 glass tube for gas exhaust 7 panel destruction prevention mechanism 8 exhaust tube 9 sealed panel 10 heat-resistant seal 11 chamber with heating mechanism 20 cleaning gas introduction device 21 , 35 gas introduction valve 22 cleaning gas cylinder 30 vacuum exhaust / discharge gas introduction device 31 relief valve 32 exhaust valve 33 discharge gas cylinder 34 exhaust pump 40 oven 50 control device 60 substrate gap holding means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 9/395 H01J 9/395 A 11/02 11/02 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 9/395 H01J 9/395 A 11/02 11/02 A

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1のガス導入弁を備え、前記第1のガ
ス導入弁を介して封着済パネルに洗浄ガスを供給するた
めの洗浄ガス導入装置と、排気弁,第2のガス導入弁お
よび排気ポンプとを備え、前記排気弁を介して前記排気
ポンプにより前記パネルを所定の真空度に排気し、前記
第2のガス導入弁および前記排気弁を介して前記パネル
に放電ガスを供給するための真空排気・放電ガス導入装
置と、前記パネルを所定の温度に加熱するためのオーブ
ンと、前記排気弁,第1ガス導入弁および第2のガス導
入弁の開閉を制御する制御装置と、前記オーブン内に配
置され、前記パネルの両面を外側より押え、該パネル両
面の外側へのたわみ量を該パネルの破壊限界以内に保持
するパネル破壊防止機構とを備えていることを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルのガス導入・排気装置。
A cleaning gas introduction device for supplying a cleaning gas to the sealed panel via the first gas introduction valve, an exhaust valve, and a second gas introduction. A valve and an exhaust pump, the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump via the exhaust valve, and a discharge gas is supplied to the panel via the second gas introduction valve and the exhaust valve. A vacuum exhaust / discharge gas introducing apparatus for heating the panel to a predetermined temperature, a control apparatus for controlling opening and closing of the exhaust valve, the first gas introducing valve and the second gas introducing valve. A panel destruction prevention mechanism that is disposed in the oven, presses both sides of the panel from the outside, and holds the amount of outward deflection of both sides of the panel within the breaking limit of the panel. Plasma display Ray panel gas introduction / exhaust device.
【請求項2】 前記パネル破壊防止機構として、ロッド
またはプレートを使用した請求項1記載のプラズマディ
スプレイパネルのガス導入・排気装置。
2. The gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 1, wherein a rod or a plate is used as the panel destruction prevention mechanism.
【請求項3】前記パネル破壊防止機構が圧力検出機能を
備えていることを特徴とする請求項1または2記載のプ
ラズマディスプレイパネルのガス導入・排気装置。
3. The gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 1, wherein said panel destruction prevention mechanism has a pressure detection function.
【請求項4】 請求項1記載のプラズマディスプレイパ
ネルのガス導入・排気装置の前記パネル破壊防止機構の
代わりに前記パネル両面の変位量を測定する変位計が前
記オーブン内に設けられていることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルのガス導入・排気装置。
4. The apparatus according to claim 1, wherein a displacement meter for measuring a displacement amount on both sides of the panel is provided in the oven instead of the panel destruction prevention mechanism of the gas introduction / exhaust device of the plasma display panel. Characteristic gas introduction / exhaust device for plasma display panels.
【請求項5】 請求項1記載のプラズマディスプレイパ
ネルのガス導入・排気装置を用いたプラズマディスプレ
イパネルの放電ガス封入方法において、前記オーブン内
に封着済パネルを配置する工程と、前記排気ポンプによ
り前記パネルを所定の真空度に排気する工程と、前記パ
ネル内を前記排気ポンプによって排気しながら前記オー
ブンによって前記パネルを所定の温度で加熱する工程
と、前記パネル内を常温まで冷却した後、前記洗浄ガス
導入装置により前記パネル内に該パネル内を該パネル外
の圧力以上の圧力で洗浄ガスを所定の時間供給してフロ
ーする工程と、前記パネル内を前記排気ポンプにより所
定の真空度に排気する工程と、前記真空排気・放電ガス
導入装置により前記パネル内に放電ガスを所定の圧力で
充填した後、前記パネルに接続されているガス排気・放
電ガス導入用ガラス管および洗浄用ガス導入用ガラス管
をチップオフして前記パネル内に前記放電ガスを封入す
る工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの放電ガス封入方法。
5. A method for filling a discharge gas in a plasma display panel using the gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 1, wherein a step of disposing a sealed panel in the oven is performed by the exhaust pump. Exhausting the panel to a predetermined degree of vacuum, heating the panel at a predetermined temperature by the oven while evacuating the inside of the panel by the exhaust pump, and cooling the inside of the panel to room temperature, A step of supplying a cleaning gas into the panel by a cleaning gas introducing device at a pressure equal to or higher than the pressure outside the panel for a predetermined time to flow, and evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump And discharging the discharge gas into the panel at a predetermined pressure by the evacuation / discharge gas introducing device. Chip-off the gas exhaust / discharge gas introduction glass tube and the cleaning gas introduction glass tube connected to the panel and enclosing the discharge gas in the panel. Discharge gas filling method.
【請求項6】 請求項1記載のプラズマディスプレイパ
ネルのガス導入・排気装置を用いたプラズマディスプレ
イパネルの放電ガス封入方法において、前記オーブン内
に封着済パネルを配置する工程と、前記排気ポンプによ
り前記パネルを所定の真空度に排気する工程と、前記パ
ネル内を前記排気ポンプによって排気しながら前記オー
ブンによって前記パネルを所定の温度で加熱する工程
と、前記パネル内を前記温度に保持しながら前記洗浄ガ
ス導入装置により前記パネル内に該パネル内を該パネル
外の圧力以上の圧力で洗浄ガスを所定の時間供給してフ
ローする工程と、前記パネル内を前記排気ポンプにより
所定の真空度に排気する工程と、前記パネル内を常温に
冷却した後、前記真空排気・放電ガス導入装置により前
記パネル内に放電ガスを所定の圧力で充填する工程と、
前記パネルに接続されているガス排気・放電ガス導入用
ガラス管および洗浄用ガス導入用ガラス管をチップオフ
して前記パネル内に前記放電ガスを封入する工程とを含
むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの放電
ガス封入方法。
6. A method for filling a discharge gas in a plasma display panel using the gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 1, wherein a step of disposing a sealed panel in the oven is performed by the exhaust pump. Evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum, heating the panel at a predetermined temperature by the oven while evacuating the inside of the panel by the exhaust pump, and maintaining the inside of the panel at the temperature. A step of supplying a cleaning gas into the panel by a cleaning gas introducing device at a pressure equal to or higher than the pressure outside the panel for a predetermined time to flow, and evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump And cooling the inside of the panel to room temperature, and then discharge gas into the panel by the vacuum exhaust / discharge gas introducing device. Filling with a predetermined pressure,
Chipping off the gas exhaust / discharge gas introduction glass tube and the cleaning gas introduction glass tube connected to the panel to enclose the discharge gas in the panel. Panel discharge gas filling method.
【請求項7】 前記洗浄ガスを前記パネル内にフローさ
せる工程において、前記パネル内の圧力と前記パネル外
の大気圧の差が0〜1013.25Paに制御されるこ
とを特徴とする請求項5または6記載のプラズマディス
プレイパネルの放電ガス封入方法。
7. The step of flowing the cleaning gas into the panel, wherein a difference between a pressure inside the panel and an atmospheric pressure outside the panel is controlled to 0 to 1013.25 Pa. 7. A method for filling a discharge gas in a plasma display panel according to item 6.
【請求項8】 前記封着済パネルを前記オーブン内に配
置する工程において、前記パネル破壊防止機構が前記封
着済パネル表面から5.7mm以内の位置に前記封着済
パネルと対向して配置されることを特徴とする請求項5
〜7のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの
放電ガス封入方法。
8. In the step of disposing the sealed panel in the oven, the panel destruction preventing mechanism is arranged opposite to the sealed panel at a position within 5.7 mm from the surface of the sealed panel. 6. The method according to claim 5, wherein
8. The method for charging a discharge gas in a plasma display panel according to any one of claims 7 to 7.
【請求項9】 第1のガス導入弁を備え、前記第1のガ
ス導入弁を介して封着済パネルに洗浄ガスを供給するた
めの洗浄ガス導入装置と、排気弁,第2のガス導入弁お
よび排気ポンプとを備え、前記排気弁を介して前記排気
ポンプにより前記パネルを所定の真空度に排気し、前記
第2のガス導入弁および前記排気弁を介して前記パネル
に放電ガスを供給するための真空排気・放電ガス導入装
置と、前記パネルが設置され、前記パネルを所定の温度
に加熱し、かつ前記パネル外部を減圧する機能を有する
加熱機構付きチャンバーと、前記排気弁,第1ガス導入
弁および第2のガス導入弁の開閉を制御する制御装置
と、前記パネルの両面を押え、前記パネル両面の外側へ
のたわみ量を該パネルの破壊限界以内に保持するパネル
破壊防止機構とを備えていることを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネルのガス導入・排気装置。
9. A cleaning gas introduction device comprising a first gas introduction valve for supplying a cleaning gas to a sealed panel via the first gas introduction valve, an exhaust valve, and a second gas introduction. A valve and an exhaust pump, the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump via the exhaust valve, and a discharge gas is supplied to the panel via the second gas introduction valve and the exhaust valve. A vacuum-evacuation / discharge gas introducing device, a chamber with a heating mechanism provided with the panel, and having a function of heating the panel to a predetermined temperature and depressurizing the outside of the panel; A control device for controlling the opening and closing of the gas introduction valve and the second gas introduction valve, and a panel destruction prevention mechanism for pressing both sides of the panel and maintaining the amount of outward deflection of both sides of the panel within the destruction limit of the panel. Equipped A gas introduction / exhaust device for a plasma display panel.
【請求項10】 前記パネル破壊防止機構として、ロッ
ドまたはプレートを使用した請求項9記載のプラズマデ
ィスプレイパネルのガス導入・排気装置。
10. The gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 9, wherein a rod or a plate is used as the panel destruction prevention mechanism.
【請求項11】 請求項9記載のプラズマディスプレイ
パネルのガス導入・排気装置の前記パネル破壊防止機構
の代わりに前記パネル両面の変位量を測定する変位計が
前記チャンバー内に設けられていることを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルのガス導入・排気装置。
11. A displacement meter for measuring a displacement amount on both sides of the panel in place of the panel destruction prevention mechanism of the gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 9. Characteristic gas introduction / exhaust device for plasma display panels.
【請求項12】 請求項9記載のプラズマディスプレイ
パネルのガス導入・排気装置を用いたプラズマディスプ
レイパネルの放電ガス封入方法において、前記チャンバ
ー内に封着済パネルを配置する工程と、前記排気ポンプ
により前記パネルを所定の真空度に排気すると同時に前
記チャンバー内を大気圧よりも減圧する工程と、前記パ
ネル内を前記排気ポンプによって排気しながら前記チャ
ンバーによって前記パネルを所定の温度で加熱する工程
と、前記パネル内を前記温度に保持しながら前記洗浄ガ
ス導入装置により前記パネル内に所定の圧力で洗浄ガス
を充填する工程と、前記パネル内を前記排気ポンプによ
り所定の真空度に排気する工程と、前記パネル内を常温
に冷却した後、前記真空排気・放電ガス導入装置により
前記パネル内に放電ガスを所定の圧力で充填する工程
と、前記パネルに接続されているガス排気、放電用およ
び洗浄ガス用を兼ねる排気管をチップオフして前記パネ
ル内に前記放電ガスを封入する工程とを含むことを特徴
とするプラズマディスプレイパネルの放電ガス封入方
法。
12. A method for filling a discharge gas in a plasma display panel using the gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 9, wherein: a step of arranging a sealed panel in the chamber; A step of evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum and simultaneously depressurizing the inside of the chamber from atmospheric pressure, and a step of heating the panel at a predetermined temperature by the chamber while evacuating the inside of the panel by the exhaust pump, A step of filling the panel with a cleaning gas at a predetermined pressure by the cleaning gas introduction device while maintaining the inside of the panel at the temperature, and a step of exhausting the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump, After the inside of the panel is cooled to room temperature, the inside of the panel is discharged by the vacuum exhaust / discharge gas introducing device. A step of filling a gas with a predetermined pressure, and a step of chipping off an exhaust pipe connected to the panel, which is also used for discharging gas, discharging and cleaning gas, and sealing the discharge gas in the panel. A method for filling a discharge gas in a plasma display panel, characterized by comprising:
【請求項13】 前記パネル内を前記温度に保持しなが
ら前記洗浄ガス導入装置により前記パネル内に所定の圧
力で洗浄ガスを充填する工程と、前記パネル内を前記排
気ポンプにより所定の真空度に排気する工程と繰り返し
て行われることを特徴とする請求項12記載のプラズマ
ディスプレイパネルの放電ガス封入方法。
13. A step of filling the inside of the panel with a cleaning gas at a predetermined pressure by the cleaning gas introduction device while maintaining the inside of the panel at the temperature, and setting the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump. 13. The method according to claim 12, wherein the discharging step is performed repeatedly.
【請求項14】 前記洗浄ガスの前記パネル内の充填圧
力が66661〜102337・97Paに制御される
ことを特徴とする請求項12または13記載のプラズマ
ディスプレイパネルの放電ガス封入方法。
14. The method according to claim 12, wherein a filling pressure of the cleaning gas in the panel is controlled to 66661 to 102337 · 97 Pa.
【請求項15】 前記封着済パネルを前記チャンバー内
に配置する工程において、前記パネル破壊防止機構が前
記封着済パネル表面から5.7mm以内の位置に前記封
着済パネルと対向して配置されることを特徴とする請求
項12〜14のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネルの放電ガス封入方法。
15. In the step of disposing the sealed panel in the chamber, the panel destruction prevention mechanism is arranged at a position within 5.7 mm from the surface of the sealed panel so as to face the sealed panel. The method according to any one of claims 12 to 14, wherein the discharge gas is filled in the plasma display panel.
【請求項16】 第1のガス導入弁を備え、前記第1の
ガス導入弁を介して封着済パネルに洗浄ガスを供給する
ための洗浄ガス導入装置と、排気弁,第2のガス導入弁
および排気ポンプとを備え、前記排気弁を介して前記排
気ポンプにより前記パネルを所定の真空度に排気し、前
記第2のガス導入弁および前記排気弁を介して前記パネ
ルに放電ガスを供給するための真空排気・放電ガス導入
装置と、前記パネルが設置され、前記パネルを所定の温
度に加熱するためのオーブンと、前記排気弁,第1ガス
導入弁および第2のガス導入弁の開閉を制御する制御装
置と、前記オーブン内に設置され、前記パネルの両面に
固定され、該パネルの両面ギャップを所定の値に保持す
る基板ギャップ保持手段とを備えていることを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルのガス導入・排気装置。
16. A cleaning gas introduction device comprising a first gas introduction valve for supplying a cleaning gas to a sealed panel via the first gas introduction valve, an exhaust valve, and a second gas introduction. A valve and an exhaust pump, the panel is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump via the exhaust valve, and a discharge gas is supplied to the panel via the second gas introduction valve and the exhaust valve. A vacuum exhaust / discharge gas introducing device, an oven for heating the panel to a predetermined temperature, and opening / closing of the exhaust valve, the first gas introducing valve, and the second gas introducing valve. And a substrate gap holding means installed in the oven, fixed to both sides of the panel, and holding a gap on both sides of the panel at a predetermined value. Ray panel gas introduction / exhaust device.
【請求項17】 請求項16記載のプラズマディスプレ
イパネルのガス導入・排気装置を用いたプラズマディス
プレイパネルの放電ガス封入方法において、前記オーブ
ン内に封着済パネルを配置する工程と、前記パネルの両
面を前記基板ギャップ保持手段により所定の位置に保持
し、前記排気ポンプにより前記パネルを所定の真空度に
排気する工程と、前記パネルの両面を前記基板ギャップ
保持手段により所定の位置に保持し、前記パネル内を前
記排気ポンプによって排気しながら前記オーブンによっ
て前記パネルを所定の温度で加熱する工程と、前記パネ
ル内を前記温度に保持しながら前記洗浄ガス導入装置に
より前記パネル内に所定の圧力で洗浄ガスを充填する工
程と、前記パネル内を前記排気ポンプにより所定の真空
度に排気する工程と、前記パネル内を常温に冷却した
後、前記真空排気・放電ガス導入装置により前記パネル
内に放電ガスを所定の圧力で充填する工程と、前記パネ
ルに接続されているガス排気、放電用および洗浄ガス用
を兼ねる排気管をチップオフして前記パネル内に前記放
電ガスを封入する工程とを含むことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの放電ガス封入方法。
17. A method for filling a discharge gas in a plasma display panel using a gas introduction / exhaust device for a plasma display panel according to claim 16, wherein: a step of disposing a sealed panel in the oven; Holding the substrate in a predetermined position by the substrate gap holding means, evacuating the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump, holding both sides of the panel in a predetermined position by the substrate gap holding means, Heating the panel at a predetermined temperature by the oven while evacuating the panel by the exhaust pump, and cleaning the panel at a predetermined pressure by the cleaning gas introducing device while maintaining the panel at the temperature; A step of filling a gas, and a step of exhausting the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump. Cooling the inside of the panel to room temperature, filling the inside of the panel with a discharge gas at a predetermined pressure by the vacuum exhaust / discharge gas introducing device, and gas exhaust, discharge and cleaning connected to the panel. A step of tipping off an exhaust pipe also serving as a gas and enclosing the discharge gas in the panel.
【請求項18】 前記パネル内を前記温度に保持しなが
ら前記洗浄ガス導入装置により前記パネル内に所定の圧
力で洗浄ガスを充填する工程と、前記パネル内を前記排
気ポンプにより所定の真空度に排気する工程とが繰返し
行われることを特徴とする請求項17記載のプラズマデ
ィスプレイパネルの放電ガス封入方法。
18. A step of filling the inside of the panel with a cleaning gas at a predetermined pressure by the cleaning gas introduction device while maintaining the inside of the panel at the temperature, and setting the inside of the panel to a predetermined degree of vacuum by the exhaust pump. 18. The method according to claim 17, wherein the step of evacuating is repeatedly performed.
【請求項19】 前記洗浄ガスの前記パネル内の充填圧
力が66661〜102337.97Paに制御される
ことを特徴とする請求項17または18記載のプラズマ
ディスプレイパネルの放電ガス封入方法。
19. The method according to claim 17, wherein a filling pressure of the cleaning gas in the panel is controlled to 66661 to 102337.97 Pa.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007026697A (en) * 2005-07-12 2007-02-01 Rohm Co Ltd Field emission type display device and method of manufacturing same

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